KR101801331B1 - Electrodeposition coating method - Google Patents

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길용주
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Abstract

The present invention relates to an electrodeposition coating method, more specifically, which comprises the following steps of: preparing a coated base material; electrodeposition coating a surface of the coated base material; and hardening the electrodeposition coated base material. According to the present invention, regardless of a material of a base material, electrodeposition coating is possible, and the whole process is suitable for an automated line to shorten processes. Moreover, a loss of paint is minimized, and further, a paint film thickness is uniform. An adhering force of a paint film can be improved.

Description

전착 도장 방법{Electrodeposition coating method}Electrodeposition coating method [0002]

본 발명은 전착 도장 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 도금된 모재 상에 전착 도장을 수행함로써, 모재의 소재와 관계없이 전착 도장이 가능하면서도, 밀착성, 마모 신뢰성, 연필경도 등이 개선되도록 하는 것이다.The present invention relates to an electrodeposition coating method, and more particularly, to an electrodeposition coating method capable of performing electrodeposition coating irrespective of a material of a base material by performing electrodeposition coating on a plated base metal, and improving adhesiveness, abrasion reliability, pencil hardness, .

일반적으로 도장은 기본적인 장식성, 내식성 등의 기능 외에도 경도, 내마모성, 윤활성, 내구성 등의 기계적인 특성, 전도성, 접촉특성, 자기특성, 고주파특성, 저항특성, 전자파 차폐성 등의 전기적 특성, 광반사성, 선택흡수성 등의 광학특성, 납땜성, 결합성, 접착성 등과 같은 물리적 특성 등을 제공하기 때문에 자동차 부품, 전자부품, 반도체 부품 및 각종 기계류 부품 등에 폭넓게 사용하고 있다.In general, the coating is not limited to basic decorative properties and corrosion resistance, but also mechanical properties such as hardness, abrasion resistance, lubricity and durability, electrical characteristics such as conductivity, contact property, magnetic property, high frequency property, resistance property, electromagnetic shielding property, And is widely used for automobile parts, electronic parts, semiconductor parts, and various mechanical parts because it provides optical properties such as heat resistance and water absorption, and physical properties such as solderability, bonding property and adhesiveness.

이러한 도장 방법으로 종래 증착, 스프레이 도장 및 전착 도장 방법이 행해지고 있다.Conventional deposition, spray painting, and electrodeposition coating methods have been performed by such a coating method.

먼저, 상기 증착, 즉 건식 도금 방법은 피도물에 금속을 진공으로 점착시키고, 그 위에 컬러가 있는 도료를 스프레이 하는 방법으로, 증착 금속이 매우 얇고, 도장층은 두꺼우나, 증착과 도장층의 두께가 모두 불균일하고, 크기 및 모양에 제한이 있어 양산성이 좋지 못하며, 초기 설비 투자비용이 높고, 불량률이 높다는 단점이 있다.First, the deposition, that is, the dry plating method, is a method in which a metal is vacuum-adhered to a substrate and a colored coating is sprayed thereon. The deposited metal is very thin, the coating layer is thick, All have a disadvantage in that they are not uniform, are limited in size and shape, are not mass-producible, have high initial facility investment costs, and have a high defect rate.

그리고 상기 스프레이 도장 방법은 피도물에 컬러가 있는 도료를 그대로 스프레이 하는 방법으로, 이 역시 두께가 불균일하고, 불량이 많다는 단점이 있다. In addition, the spray coating method is a method of directly spraying a coating material having color on a substrate, which is also uneven in thickness and has a disadvantage of many defects.

상기 전착 도장 방법은 전착용 수용성 도료 용액 중에 피도물을 양극 또는 음극으로 하여 피도물과 그 대극 사이에 직류 전류를 통하여 피도물 표면에 전기적으로 도막을 석출시키는 도장방법으로, 자동화로 대량생산이 가능하며, 두께 관리 및 색상 구현에 용이한 측면이 있으나, 도전성 피도물이어야 하며, 진동 마모 측면에서 신뢰성이 떨어지는 문제가 있다. 즉, 소재 위에 곧바로 전착 도장을 할 경우 밀착력이 현저히 떨어진다는 단점이 있다.The electrodeposition coating method is a coating method for electrically depositing a coating film on the surface of a substrate through a direct current between the substrate and the counter electrode by using a coating material as an anode or a cathode in a water-soluble coating solution for electrodeposition. There is an easy aspect in the management and color implementation, but it must be a conductive substrate and has a problem in that reliability is inferior in terms of vibration wear. That is, when the electrodeposition coating is directly applied on the material, the adhesion is remarkably deteriorated.

상기 밀착성 및 내식성의 부여를 위하여, 전착 도장의 전처리로서 피도물의 금속표면에 방식성이 있는 인산염 피막을 생성시켜 도장에 우수한 내식성과 밀착성을 부여하는 방법을 사용하고 있다.As a pretreatment of the electrodeposition coating, a method of imparting corrosion resistance and adhesion to the coating by forming a corrosion-resistant phosphate coating on the metal surface of the substrate is used for imparting the adhesion and the corrosion resistance.

그러나 상기 인산염 피막을 형성할 경우 그 공정이 복잡해지고, 피막 형성을 위한 별도의 전처리가 요구되는 등의 단점이 있었다.However, when the phosphate coating is formed, the process is complicated and a separate pretreatment is required for forming a film.

KR 10-1296868 B1KR 10-1296868 B1 KR 10-1219712 B1KR 10-1219712 B1

따라서, 본 발명의 목적은 상기한 전착 도장의 단점을 해소하기 위한 것으로, 피도물의 표면에 금속을 도금하고, 이에 다시 전착 도장함으로써, 피도물과의 밀착력을 높이도록 하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the disadvantages of the electrodeposition coating described above, in which metal is plated on a surface of a substrate, and electrodeposition is performed thereon, thereby enhancing adhesion with the substrate.

또한, 피도물의 표면에 금속을 도금하고, 저온 열경화형 전착 도료 또는 UV 경화형 전착 도료를 이용함으로써, 모재의 소재와 관계없이 전착 도장이 가능하며, 인산염 피막의 형성 공정을 거치지 않더라도 우수한 밀착력을 갖도록 하는 것이다. In addition, electrodeposition coating can be performed irrespective of the material of the base material by plating a metal on the surface of the substrate and using a low-temperature thermosetting electrodeposition coating or a UV-curing electrodeposition coating, so that excellent adhesion can be obtained even without forming a phosphate coating will be.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 전착 도장 방법은, 도금된 모재를 준비하는 단계와, 상기 도금된 모재의 표면에 전착 도장을 하는 단계와, 상기 전착 도장된 도금 모재를 경화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an electrodeposition coating method comprising the steps of preparing a coated base metal, electrodepositing a surface of the coated base metal, and curing the electrodeposited coated base metal .

상기 도금된 모재는, 구리, 니켈 및 크롬 도금된 모재로서, 상기 도금된 모재를 준비하는 단계 후, 상기 도금된 모재로부터 크롬을 박리하는 단계와, 상기 크롬 박리된 도금 모재를 수세하여 1차 산 침지하는 단계와, 상기 1차 산 침지된 도금 모재를 수세하여 2차 산 침지하는 단계와, 상기 2차 산 침지된 도금 모재를 수세하는 단계를 더 포함하고, 상기 전착 도장하는 단계는, 상기 수세된 도금 모재를 UV 경화형 전착 도료로 전착 도장하며, 상기 전착 도장된 도금 모재를 경화하는 단계는, 상기 전착 도장된 모재를 수세하여 발수처리하고, 상기 발수처리된 모재를 열풍 건조 후 UV 경화하는 것을 특징으로 한다.The method of claim 1, wherein the plated base metal is a copper, nickel, and chromium-plated base metal. The method comprises: peeling chromium from the plated base metal after preparing the plated base metal; The method of claim 1, further comprising the steps of: immersing the first acid soaked plating base material in a second acid-soaked water; and washing the second acid-soaked plating base material, The step of curing the plated base material by electrodeposition may include washing the base material subjected to electrodeposition coating with water and performing a water repellent treatment and then subjecting the base material subjected to water repellency treatment to hot air drying and UV curing .

상기 도금된 모재는, 구리, 니켈 및 크롬 도금된 모재로서, 상기 도금된 모재를 준비하는 단계 후, 상기 도금된 모재를 알칼리 탈지하여 유분 및 이물질을 제거하는 단계와, 상기 알칼리 탈지된 도금 모재를 수세하여 1차 산 침지하는 단계와, 상기 1차 산 침지된 도금 모재를 수세하여 2차 산 침지하는 단계와, 상기 2차 산 침지된 도금 모재를 수세하는 단계를 더 포함하고, 상기 전착 도장하는 단계는, 상기 수세된 도금 모재를 양이온 저온 열경화형 전착 도료로 전착 도장하며, 상기 전착 도장된 도금 모재를 경화하는 단계는, 상기 전착 도장된 모재를 수세하여 발수처리하고, 상기 발수처리된 모재를 열풍 경화하는 것을 특징으로 한다.Wherein the plated base metal is copper, nickel, and chrome-plated base metal. The method includes: alkali-degreasing the plated base metal to remove oil and foreign matter after preparing the plated base metal; A step of washing with water, a step of washing with water, a step of washing with water, a step of washing with water, a step of washing with water and washing with water, Wherein the step of curing the plated base material by electrodeposition coating the base material subjected to electrodeposition coating with water is subjected to water repellency treatment and the water repellent base material is subjected to water repellent treatment, And is characterized by hot air curing.

상기 양이온 저온 열경화형 전착 도료는, 100~125℃의 온도에서 경화 가능한 것으로, 상기 열풍 경화는 100∼125℃의 온도의 열풍으로 40~60분간 경화하는 것을 특징으로 한다.The cationic low-temperature thermosetting electrodeposition coating material is curable at a temperature of 100 to 125 ° C, and the hot-air curing is cured by hot air at a temperature of 100 to 125 ° C for 40 to 60 minutes.

상기 도금된 모재는, 구리 및 니켈 도금된 모재로서, 상기 도금된 모재를 준비하는 단계 후, 상기 도금된 모재를 알칼리 탈지하여 니켈 부동태 피막을 제거하는 단계와, 상기 알칼리 탈지된 도금 모재를 수세 후 산 침지하는 단계와, 상기 산 침지된 도금 모재를 수세하는 단계를 더 포함하고, 상기 전착 도장하는 단계는, 상기 수세된 도금 모재를 UV 경화형 전착 도료 또는 양이온 저온 열경화형 전착 도료로 전착 도장하는 것을 특징으로 한다.Wherein the plated base metal is a copper and nickel-plated base metal, the step of alkali-degreasing the nickel base metal to remove the nickel passivation film after the step of preparing the plated base metal, The method according to any one of claims 1 to 3, further comprising a step of acid dipping and a step of washing the acid-soaked plating base material, wherein the electrodeposition coating step comprises electrodepositing the washed base metal material with a UV curable electrodeposition coating or a cationic low temperature thermal curable electrodeposition coating .

상기 모재는 플라스틱 소재인 것을 특징으로 한다.The base material is a plastic material.

상기 모재는 ABS, PC 및 이들의 혼합재 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.The base material is characterized by being one of ABS, PC, and a mixed material thereof.

상기 도금된 모재의 도금층의 두께는 10~100㎛이고, 상기 전착 도장된 도장층의 두께는 15~40㎛인 것을 특징으로 한다.The thickness of the plated layer of the plated base material is 10 to 100 占 퐉, and the thickness of the electrodeposition coated paint layer is 15 to 40 占 퐉.

본 발명에 따르면, 모재의 소재와 무관하게 전착 도장이 가능하며, 전체 공정이 자동화 라인에 적합하여 공정이 단축되고, 도료의 손실이 최소화되는 것은 물론, 도막 두께가 균일하며, 도막의 밀착력이 개선되는 등의 장점이 있다.According to the present invention, electrodeposition coating is possible regardless of the material of the base material, and the entire process is suitable for an automated line, thereby shortening the process, minimizing the loss of the paint, ensuring that the film thickness is uniform, And the like.

도 1은 본 발명에 따른 전착 도장의 공정도.
도 2는 본 발명에 따른 구리, 니켈 및 크롬 도금된 모재를 UV 경화형 전착 도료로 전착 도장하는 방법을 나타낸 공정도.
도 3은 본 발명에 따른 구리, 니켈 및 크롬 도금된 모재를 저온 열경화형 전착 도료로 전착 도장하는 방법을 나타낸 공정도.
도 4는 본 발명에 따른 구리 및 니켈로 도금된 모재를 UV 경화형 전착 도료로 전착 도장하는 방법을 나타낸 공정도.
도 5는 본 발명에 따른 구리 및 니켈로 도금된 모재를 저온 열경화형 전착 도료로 전착 도장하는 방법을 나타낸 공정도.
도 6은 본 발명의 실시예 1에 따라 도장된 제품을 나타낸 사진.
1 is a process diagram of an electrodeposition coating according to the present invention.
2 is a process diagram showing a method for electrodepositing a copper, nickel, and chromium-plated base material according to the present invention with a UV curable electrodeposition paint.
3 is a process diagram showing a method for electrodepositing a copper, nickel, and chromium-plated base material according to the present invention by using a low temperature thermal curing type electrodeposition coating.
4 is a process diagram showing a method of electrodepositing a base material plated with copper and nickel according to the present invention using a UV curable electrodeposition paint.
5 is a process diagram showing a method of electrodepositing a base material plated with copper and nickel according to the present invention with a low temperature thermal curing type electrodeposition coating.
6 is a photograph showing a painted product according to Embodiment 1 of the present invention.

이하, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 가장 큰 특징은 모재를 도금하고, 이에 다시 전착 도장을 실시함으로써, 모재의 종류와 관계없이 전착 도장이 가능하며, 도금된 모재를 통해 전착 도장의 두께를 균일화할 수 있고, 전착 도장층의 두께를 두껍게 할 수 있다는 장점이 있다. The most remarkable feature of the present invention is that the electrodeposition coating can be performed irrespective of the type of the base material by plating the base material and performing the electrodeposition coating thereon and the thickness of the electrodeposition coating can be made uniform through the plated base material, It is possible to increase the thickness of the film.

또한, 별도의 인산염 피막을 형성하지 않더라도 도금된 모재를 통해 충분한 도장의 밀착성이 확보될 수 있게 하는 것이다. Further, even if a separate phosphate coating is not formed, sufficient adhesion of paint can be ensured through the plated base metal.

이러한 본 발명의 전착 도금 방법은, 도 1과 같이, 도금된 모재를 준비하는 단계와, 상기 도금된 모재의 표면에 전착 도장을 하는 단계와, 상기 전착 도장된 도금 모재를 경화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The electrodeposition plating method of the present invention comprises the steps of preparing a plated base metal as shown in Fig. 1, electrodepositing a surface of the plated base metal, and curing the electrodeposited coated base metal .

본 발명에서 상기 모재는 플라스틱 소재, 더욱 바람직하게는 ABS, PC 및 이들의 혼합 소재 중 어느 하나일 수 있고, 상기 도금은 구리 및 니켈 도금 또는 구리, 니켈 및 크롬 도금일 수 있다. In the present invention, the base material may be any one of a plastic material, more preferably ABS, PC, and a mixture thereof, and the plating may be copper and nickel plating or copper, nickel and chromium plating.

그리고 상기 도금된 모재의 도금층의 두께는 10~100㎛이고, 상기 전착 도장된 도장층의 두께는 15~40㎛임이 바람직하다.The thickness of the plated layer of the plated base material is preferably 10 to 100 탆, and the thickness of the electrodeposition coated coating layer is preferably 15 to 40 탆.

본 발명은 더욱 상세하게 도금 소재 및 전착 도료의 종류에 따라 구분될 수 있는데, 구리, 니켈 및 크롬 도금된 모재를 UV 경화형 전착 도료로 전착 도장하는 방법, 구리, 니켈 및 크롬 도금된 모재를 저온 열경화형 전착 도료로 전착 도장하는 방법, 구리 및 니켈로 도금된 모재를 UV 경화형 전착 도료로 전착 도장하는 방법, 구리 및 니켈로 도금된 모재를 저온 열경화형 전착 도료로 전착 도장하는 방법으로 구분될 수 있다.The present invention can be classified in more detail according to the kinds of the plating material and the electrodeposition coating material. The present invention can be applied to electrodeposition coatings of copper, nickel and chromium-plated base materials with a UV curable electrodeposition coating, a method of coating copper, nickel and chromium- A method of electrodeposition with a curing type electrodeposition coating, a method of electrodepositing a base material plated with copper or nickel with a UV curing type electrodeposition coating, a method of electrodepositing a base material plated with copper or nickel with a low temperature thermal curing type electrodeposition coating .

먼저, 도 2를 참조하여 구리, 니켈 및 크롬 도금된 모재를 UV 경화형 전착 도료로 전착 도장하는 방법에 대하여 상세히 설명한다. First, referring to FIG. 2, a method of electrodepositing a copper, nickel, and chromium-plated base material using a UV curable electrodeposition coating will be described in detail.

본 발명에 따른 방법은, 구리, 니켈 및 크롬 도금된 모재를 준비하는 단계와, 상기 도금된 모재로부터 크롬을 박리하는 단계와, 상기 크롬 박리된 도금 모재를 수세하여 1차 산 침지하는 단계와, 상기 1차 산 침지된 도금 모재를 수세하여 2차 산 침지하는 단계와, 상기 2차 산 침지된 도금 모재를 수세하는 단계와, 상기 수세된 도금 모재를 UV 경화형 전착 도료로 전착 도장하는 단계와, 상기 전착 도장된 모재를 수세하여 발수처리하고, 상기 발수처리된 모재를 열풍 건조 후 UV 경화하는 단계를 포함한다.The method according to the present invention comprises the steps of preparing copper, nickel and chromium-plated preform, peeling chromium from the plated preform, washing the chromium-plated preform with water and primary acid dipping, A step of subjecting the base material to dipping in a primary acid-soaked plating bath followed by secondary acid soaking, washing the base material with the secondary acid soaked, electrodepositing the washed base material with a UV curable electrodeposition coating agent, And water-repellent and water-repellent to the electroformed base material, and drying the hot-air-dried base material after UV-curing the water-repellent base material.

구리, 니켈 및 크롬 도금된 Copper, nickel and chrome plated 모재를Base material 준비하는 단계. Step to prepare.

먼저, 구리, 니켈 및 크롬 도금된 모재를 준비한다. First, prepare copper, nickel, and chromium-plated base metal.

여기서, 상기 모재의 도금 방법은 제한하지 않는데, 종래 공지된 다양한 방법을 통해 이루어질 수 있다. 즉, 예시적으로 탈지, 에칭, 제1활성화, 제2활성화, 화학니켈 피막 형성 및 도금의 공정을 통해 도금 모재를 준비하는 것이다.Here, the plating method of the base material is not limited, and may be accomplished through a variety of conventionally known methods. That is, the plating base material is prepared through a process of degreasing, etching, first activation, second activation, chemical nickel film formation and plating, for example.

본 발명은 모재를 상기한 공정을 통해 직접 도금할 수도 있고, 시판되는 도금된 모재를 적용할 수도 있는 것으로, 그 실시를 제한하지 않는다.In the present invention, the base material may be directly plated through the above-described process, or a commercially available plated base material may be applied, and its implementation is not limited.

다만, 본 발명에서 특징적으로 상기 모재는 플라스틱 소재, 특히 ABS, PC 및 이들의 혼합재일 수 있고, 구리, 니켈 및 크롬의 소재로 도금된 것일 수 있다. 또한, 상기 모재는 스테인리스 강(SUS) 소재일 수 있다.However, in the present invention, the base material may be a plastic material, especially ABS, PC, or a mixture thereof, and plated with copper, nickel and chromium. The base material may be a stainless steel (SUS) material.

즉, 본 발명은 도금에 의해 전착 도장이 가능하게 되므로, 모재가 도전체가 아니더라도 전착 도장을 실시할 수 있다는 장점이 있으므로, 종래 도전체가 아니거나, 밀착력이 좋지 못해 전착 도장에 어려움이 있었던, 플라스틱 또는 SUS의 소재를 모재로 적용하는 것이다. 또한, 이러한 도금에 의해 전착 도장의 밀착력, 균일성 등이 충분히 확보될 수 있으므로, 종래 전착 도장의 전처리 공정으로 실시되던 인산염 피막의 형성을 생략할 수 있다는 장점 역시 있다. That is, since the electrodeposition coating can be performed by plating, the present invention is advantageous in that electrodeposition coating can be performed even if the base material is not a conductor. Therefore, SUS material as base metal. In addition, since the adhesion and uniformity of the electrodeposition coating can be sufficiently secured by such plating, there is also an advantage that the formation of the phosphate film, which is conventionally performed in the electrodeposition coating pretreatment step, can be omitted.

다만, 본 발명에서는 상기 도금층의 두께를 10~100㎛ 정도로 함이 바람직한바, 충분한 도금층으로 인해 내식성을 개선하고, 전착 도장층과의 밀착성을 확보하기 위함이다. 즉, 상기 도금층의 두께가 10㎛ 미만이면 전착층과의 밀착성, 내식성 등의 개선이 어렵기 때문이다.However, in the present invention, the thickness of the plating layer is preferably about 10 to 100 mu m so as to improve the corrosion resistance due to a sufficient plating layer and ensure adhesion with the electrodeposition coating layer. That is, when the thickness of the plating layer is less than 10 mu m, it is difficult to improve the adhesion with the electrodeposition layer and the corrosion resistance.

아울러, 플라스틱 또는 SUS 소재의 모재 뿐 아니라, 온도에 민감한 알루미늄 다이캐스팅, 아연 다이캐스팅의 소재 역시 모재로의 적용이 가능한 것은 당연하다.In addition, it is a matter of course that the material of aluminum die casting and zinc die casting which is sensitive to temperature as well as base material of plastic or SUS material is also applicable to base material.

상기 도금된 The plated 모재로부터From the base material 크롬을 박리하는 단계. Step of peeling chromium.

다음으로, 상기 준비된 도금 모재를 알칼리 전해 박리하여 크롬을 박리함으로써, 전착 도장층의 밀착성을 높인다.Next, the prepared plating base material is subjected to alkali electrolytic peeling and chromium peeling to improve the adhesion of the electrodeposition coating layer.

여기서, 상기 알칼리 전해 박리의 방법은, 50~150g/ℓ의 수산화칼륨 또는 수산화나트륨, 40~70℃의 온도의 조건에서 2~3분간 침지하면서 4~6V의 전압을 1~5분간 통전하여 전해 박리하는 것이다. Here, the alkali electrolytic peeling method is a method of electrolytically peeling a copper foil by immersing in 50 to 150 g / l of potassium hydroxide or sodium hydroxide at a temperature of 40 to 70 캜 for 2 to 3 minutes while applying a voltage of 4 to 6 V for 1 to 5 minutes Peel off.

본 발명에서 상기 알칼리 전해 박리가 상기한 조건을 벗어나는 경우, 공정효율이 저하되거나, 충분한 박리가 이루어지지 않아 도장의 밀착성이 저하되는 문제가 발생한다. In the present invention, when the above-mentioned alkali electrolytic peeling is out of the above-mentioned condition, the process efficiency is lowered or sufficient peeling is not performed, and the adhesion of the coating is lowered.

상기 크롬 The chromium 박리된Peeled 도금  Plated 모재를Base material 수세하여Washed 1차 산  Primary mountain 침지하는Soaked 단계. step.

다음으로, 크롬 박리된 도금 모재를 수세하여, 표면에 남아 있는 알칼리 성분을 제거한다.Next, the chrome plated base metal is washed with water to remove the alkali component remaining on the surface.

상기 수세는 3단 수세로 진행하는바, 정제수를 이용하여 욕조 침지 또는 스프레이 등의 방법으로 자동 수세하는 정도면 족하며, 이러한 수세의 방법은 종래 공지된 다양한 방법 및 조건을 적용할 수 있다.The washing with water is carried out in three stages of water washing. The water washing can be performed by automatic washing with a method such as bath immersion or spraying using purified water, and various known methods and conditions can be applied to such water washing method.

그리고 상기 수세한 도금 모재를 1차 산 침지함으로써, 도금 모재 표면의 알칼리 부동태 피막을 제거한다. 이러한 산 침지는 상기 알칼리의 처리로 인해 발생한 알칼리 부동태 피막을 제거함으로써, 안정적인 표면 상태를 유지하여 전착 도장의 밀착성을 높이고 균일한 도장을 형성하기 위한 과정이다. Then, the above-mentioned washed base metal is immersed in primary acid to remove the alkali passive film on the surface of the base metal. Such acid dipping is a process for removing an alkali passivation film caused by the alkali treatment to maintain a stable surface state, thereby enhancing the adhesion of the electrodeposition coating and forming a uniform coating.

상기 1차 산 침지의 조건은 25~100g/ℓ의 황산, 20~32℃의 온도 조건에서 상기 수세된 도금 모재를 침지시키고, 2~5V의 전압을 1~5분간 인가하는 것으로, 상기한 조건을 벗어나면 과다한 산 침지로 인해 도금 모재의 표면이 손상되거나, 부동태 피막이 충분히 제거되지 못해 도장이 불균일할 수 있으므로, 상기한 조건으로 산 침지함이 바람직하다.The primary acid dipping is performed by immersing the above-mentioned washed plating base material at a temperature of 25 to 100 g / l of sulfuric acid and a temperature of 20 to 32 ° C and applying a voltage of 2 to 5 V for 1 to 5 minutes. The surface of the base material may be damaged due to excessive acid dipping, or the passivation film may not be sufficiently removed, resulting in non-uniform coating. Therefore, it is preferable to immerse the substrate in the above-described conditions.

상기 1차 산 The primary acid 침지된Immersed 도금  Plated 모재를Base material 수세하여Washed 2차 산  Secondary mountain 침지하는Soaked 단계. step.

다음으로, 상기 1차 산 침지된 도금 모재를 수세하여, 상기 1차 산 침지된 도금 모재 표면의 잔여 산 용액을 제거한다. 이 단계에서는 3단 수세를 통해 산 용액을 충분히 제거하며, 정제수를 이용하여 욕조 침지 또는 스프레이 등의 방법으로 자동 수세하는 정도면 족하다. Next, the primary acid-soaked plating base material is washed with water to remove the residual acid solution on the surface of the primary acid-soaked plating base material. In this step, the acid solution is sufficiently removed through the three-stage water washing, and it is sufficient that the water is automatically rinsed by using the purified water in a bath soaking or spraying method.

그리고 상기 수세된 도금 모재를 2차 산 침지하여 상기 도금 모재 표면의 잔여 피막을 제거한다. Then, the washed plating base material is dipped in a secondary acid to remove the remaining coating film on the surface of the plating base material.

이러한 2차 산 침지의 조건은 30~100ml/ℓ의 염산, 20~32℃의 온도 조건에서 상기 수세된 도금 모재를 침지시키고, 2~5V의 전압을 1~5분간 인가하는 것이다.The secondary acid dipping is performed by immersing the above-mentioned washed plating base material at a temperature of 30 to 100 ml / l of hydrochloric acid and a temperature of 20 to 32 ° C, and applying a voltage of 2 to 5 V for 1 to 5 minutes.

상기 2차 산 The secondary acid 침지된Immersed 도금  Plated 모재를Base material 수세하는Washed 단계. step.

다음으로, 상기 2차 산 침지된 도금 모재를 수세한다.Next, the secondary acid soaked plating base material is washed with water.

상기 수세는 앞서 설명한 바와 같이, 3단 수세로 진행하는바, 정제수를 이용하여 욕조 침지 또는 스프레이 등의 방법으로 자동 수세하는 정도면 족하다.As described above, the washing with water is carried out in three stages of water washing, and it is sufficient that the water is automatically washed using a method such as bath immersion or spraying using purified water.

상기 remind 수세된Washed 도금  Plated 모재를Base material UV 경화형 전착 도료로 전착 도장하는 단계. Electrodeposition coating with UV curable electrodeposition coating.

다음으로, 상기 수세된 도금 모재를 UV 경화형 전착 도료로 전착 도장한다. Next, the washed plating base material is electrodeposited with a UV curable electrodeposition coating.

상기한 전착 도장은 공지된 방법에 따르는 것으로, 상기 수세된 도금 모재를 음극으로 하고, 탱크를 양극으로 하여 탱크 내 전착 도료 중에 전류를 통하여 음극인 도금 모재의 표면에 도막을 만드는 방법이다. The above-mentioned electrodeposition coating is a method in which a coating film is formed on the surface of a plating base material, which is an anode, by passing the current through the electrodeposition paint in the tank using the washed base metal as a cathode and the tank as an anode.

상기 전착 도장은 3.5~4.5의 pH, 24~26℃의 온도 조건에서 30~70V의 전압을 60~120초간 인가하여 실시함이 바람직하며, 이때 사용되는 UV 경화형 전착 도료의 양은 160~180g/ℓ면 족하고, 그 종류는 양이온 에폭시, 양이온 아크릴 중 선택 사용하여 실시할 수 있으며, 그 색상 역시 염료를 다양하게 선택할 수 있음은 당연하다. The electrodeposition coating is preferably performed by applying a voltage of 30 to 70 V for 60 to 120 seconds at a pH of 3.5 to 4.5 and a temperature of 24 to 26 ° C. The amount of the UV curable electrodeposition coating used is 160 to 180 g / And the type thereof can be selected from among cationic epoxy and cationic acrylic, and it is natural that a variety of dyes can be selected in the color thereof.

여기서, 상기 전착 도장의 조건이 벗어날 경우, 도금 모재와의 밀착성이 떨어지거나, 도장층의 두께가 충분히 확보되지 못할 수 있으므로, 상기한 조건에서 전착 도장을 실시한다.Here, when the condition of the electrodeposition coating is out of order, the adhesion to the plating base material may be inferior or the thickness of the coating layer may not be secured sufficiently. Therefore, electrodeposition coating is performed under the above conditions.

이때, 형성되는 도장층의 두께는 15~40㎛ 정도일 수 있는바, 도금층으로 인해 도장층의 두께를 두껍게 형성할 수 있다는 장점이 있다. At this time, the thickness of the formed coating layer may be about 15 to 40 占 퐉, and the thickness of the coating layer may be increased due to the plating layer.

상기 전착 도장의 구체적인 원리, 즉 전기영동 반응, 전기분해 반응, 전기삼투 반응 등은 이 기술이 속하는 분야에서 충분히 공지된 정도이므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다. The detailed principles of the electrodeposition coating, that is, the electrophoresis reaction, the electrolytic reaction, the electroosmotic reaction, and the like, are well known in the field to which this technique belongs, and therefore, detailed description thereof will be omitted.

상기 전착 The electrodeposition 도장된Painted 모재를Base material 수세하여Washed 발수처리하고Water repellent treatment , 상기 , remind 발수처리된Water-repellent 모재를Base material 열풍 건조 후 UV 경화하는 단계. UV curing after hot air drying.

다음으로, 상기 전착 도장된 모재를 수세하여 발수처리한다.Next, the electroformed coated base material is washed with water and subjected to water-repellent treatment.

이때, 상기 수세의 상세조건은 제한하지 않는바, 공지된 조건이면 족하다. 다만, UF 필터를 이용하는 UF 1수세, UF 2수세, UF 3수세 및 순수세의 공정으로 진행함으로써, 상기 전착 도장된 도금 모재로 부터 잔류약품을 충분히 제거하고, UF 필터를 통해 고형분을 회수하여 재사용하는 것이 바람직하다.At this time, the detailed conditions of the flushing are not limited, and the known conditions are sufficient. However, by proceeding to the UF 1 washing, UF 2 washing, UF 3 washing and pure washing using the UF filter, the remaining drug is sufficiently removed from the electroplated coating base material, the solid component is recovered through the UF filter, .

그리고 상기 수세된 전착 도금 모재를 발수 처리하여 물 흐름성을 개선한다. 상기 발수처리는 상기 전착 도금 모재를 발수제에 침전시키는 공정으로, 공지된 발수제에 상온에서 10~60초간 침전시키는 것이다.The water-repellent electrodeposited plating base material is subjected to water repellency treatment to improve water flowability. The water-repellent treatment is a step of precipitating the electrodeposited plating base material into a water-repellent agent, which is carried out at a room temperature for 10 to 60 seconds to a known water-repellent agent.

다음으로, 상기 발수 처리된 전착 도금 모재를 열풍 건조한다. 상기 열풍 건조는 70~80℃의 온도에서 10~20분간 실시함으로써, 상기 전착 도금 모재의 표면 수분을 제거한다.Next, the water-repellent electroplated plating base material is hot-air dried. The hot air drying is performed at a temperature of 70 to 80 ° C for 10 to 20 minutes to remove moisture on the surface of the electroplated plating base material.

그리고 최종적으로, UV 조사에너지를 이용하여 상기 열풍 건조된 전착 도금 모재를 UV 경화한다. 상기 UV 경화는 수은램프 250~450nm의 파장 또는 방출에너지40~120Watts/cm의 파장을 2~4JN/㎠ 갖는 조사에너지를 2~3분간 가하여 경화시키는 것으로, 이러한 조사에너지량이 전착 도장의 물성 변화가 초래되지 않으면서 과경화되지 않는 조건이다.Finally, the hot-air dried electrodeposited plating base material is UV-cured using UV irradiation energy. The UV curing is performed by irradiating a mercury lamp with a wavelength of 250 to 450 nm or an irradiation energy having a wavelength of 40 to 120 Watts / cm with an irradiation energy of 2 to 4 JN / cm 2 for 2 to 3 minutes. It is a condition that is not overcured without being caused.

한편, 별도로 설명하지는 않았지만, 수세 및 약품 처리(산 및 알칼리 처리)단계에서 용제 회수조를 마련하고, UF 필터를 이용하여 용제를 회수할 수 있음은 당연한 것으로, UF 필터를 통한 용제의 회수방법은 종래 공지된 사항이므로 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Although it is not described separately, it is a matter of course that a solvent recovery tank is provided at the water washing and chemical treatment (acid and alkali treatment) stages, and the solvent can be recovered by using the UF filter. And therefore, a detailed description thereof will be omitted.

상기와 같은 방법으로 되는 전착 도장 방법은, 모재의 종류와 관계없이 도장이 가능하면서도, 도장층의 두께 균일성이 우수하고, 밀착성이 우수하다는 장점이 있다. 아울러, 전체 공정을 자동화처리할 수 있으므로, 양산성이 우수하고, 생산성이 낮다는 특성이 있다.The electrodeposition coating method according to the above-described method is advantageous in that the coating can be applied irrespective of the type of the base material, the thickness uniformity of the coating layer is excellent, and the adhesion is excellent. In addition, since the whole process can be automated, there is a characteristic that the mass productivity is excellent and the productivity is low.

이하, 도 3을 참조하여, 구리, 니켈 및 크롬 도금된 모재를 양이온 저온 경화 도료로 전착 도장하는 방법에 대하여 상세히 설명한다. 다만, 설명의 편의성을 위하여 앞서 도 2를 참조하여 설명한 방법, 즉 UV 경화형 전착 도료를 이용한 방법과 중복되는 내용의 설명은 생략한다. Hereinafter, with reference to FIG. 3, a method of electrodepositing a copper, nickel, and chromium-plated base material with a cationic low-temperature curing paint will be described in detail. For the sake of convenience of explanation, the description of the method described above with reference to FIG. 2, which is the same as the method using the UV curable electrodeposition coating, will be omitted.

본 발명에 따른 방법은, 구리, 니켈 및 크롬 도금된 모재를 준비하는 단계와, 상기 도금된 모재를 알칼리 탈지하여 유분 및 이물질을 제거하는 단계와, 상기 알칼리 탈지된 도금 모재를 수세하여 1차 산 침지하는 단계와, 상기 1차 산 침지된 도금 모재를 수세하여 2차 산 침지하는 단계와, 상기 2차 산 침지된 도금 모재를 수세하는 단계와, 상기 수세된 도금 모재를 양이온 저온 열경화형 전착 도료로 전착 도장하는 단계와, 상기 전착 도장된 도금 모재를 수세하여 발수처리하고, 상기 발수처리된 모재를 열풍 경화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The method according to the present invention comprises the steps of: preparing a copper, nickel and chromium-plated base material; alkaline degreasing the plated base material to remove oil and foreign matter; washing the alkaline degreased base material with water to remove primary acid A method of manufacturing a plating bath, comprising the steps of: immersing a base material submerged in a primary acid-soaked plating bath in a secondary acid soaking step; And a step of water-repellent and water-repellent treatment of the electroplated and plated matrix material, and hot-air curing the water-repellent base material.

구리, 니켈 및 크롬 도금된 Copper, nickel and chrome plated 모재를Base material 준비하는 단계. Step to prepare.

먼저, 구리, 니켈 및 크롬 도금된 모재를 준비한다.First, prepare copper, nickel, and chromium-plated base metal.

이 단계는 앞선 UV 경화형 전착 도료를 이용한 방법과 동일하므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다. 상기 도금된 모재의 도금층의 두께, 모재의 소재 역시 UV 경화형 전착 도료를 이용한 방법과 동일하다.This step is the same as the above-described method using the UV curable electrodeposition paint, so that a detailed description thereof will be omitted. The thickness of the plated layer of the plated base material and the base material are also the same as the method using the UV curable electrodeposition coating.

상기 도금된 The plated 모재를Base material 알칼리 탈지하여  Alkaline degreasing 유분Oil 및 이물질을 제거하는 단계. And removing foreign matter.

다음으로, 상기 도금된 모재를 알칼리 탈지함으로써, 도금된 모재 표면의 유분 및 이물질을 제거하여 전착 도장층의 밀착성을 높인다. 즉, 앞선 UV 경화형 전착 도료를 이용할 경우 크롬을 박리하야 했으나, 양이온 저온 열경화형 전착 도료를 이용할 경우 크롬의 박리 없이, 표면의 유분 및 이물질을 제거하는 것만으로 전착 도장층의 형성이 가능하다는 특징이 있다.Next, the plated base metal is degreased with alkali to remove oil and foreign substances on the surface of the plated base metal to improve the adhesion of the electrodeposition coating layer. In other words, chromium had to be peeled off when the preceding UV-curable electrodeposition coating was used. However, when a cationic low-temperature thermosetting electrodeposition coating is used, an electrodeposition coating layer can be formed only by removing oil and foreign substances from the surface without removing the chromium have.

상기 알칼리 탈지는 50~150g/ℓ의 수산화칼륨 또는 수산화나트륨, 40~70℃의 온도의 조건에서 2~3분간 침지하여 탈지하는 정도면 족하다.The alkali degreasing may be carried out by immersing in the range of 50 to 150 g / l of potassium hydroxide or sodium hydroxide at a temperature of 40 to 70 캜 for 2 to 3 minutes to degrease.

상기 알칼리 탈지된 도금 The alkali degreased plating 모재를Base material 수세하여Washed 1차 산  Primary mountain 침지하는Soaked 단계. step.

다음으로, 상기 알칼리 탈지된 도금 모재를 수세하여 1차 산 침지함으로써, 알칼리 부동태 피막을 제거한다. 이 단계는 앞선 UV 경화형 전착 도료를 이용한 방법과 동일하다. Next, the alkali-degreased plated base material is washed with water and immersed in primary acid to remove the alkali passive film. This step is the same as the method using the preceding UV curable electrodeposition coating.

상기 1차 산 The primary acid 침지된Immersed 도금  Plated 모재를Base material 수세하여Washed 2차 산  Secondary mountain 침지하는Soaked 단계. step.

그리고 상기 1차 산 침지된 도금 모재를 수세하여 2차 산 침지함으로써, 도금 모재 표면의 피막을 제거한다. 이 단계 역시 UV 경화형 전착 도료를 이용한 방법과 동일하다. Then, the primary acid-soaked plating base material is washed with water and then subjected to secondary acid soaking to remove the coating film on the surface of the base material. This step is also the same as the method using a UV curable electrodeposition coating.

상기 2차 산 The secondary acid 침지된Immersed 도금  Plated 모재를Base material 수세하는Washed 단계. step.

그리고 상기 2차 산 침지된 도금 모재를 수세한다. 이 단계 역시 앞선 UV 경화형 전착 도료를 이용한 방법과 동일하다. Then, the secondary acid soaked plating base material is washed with water. This step is also the same as the method using the above UV curable electrodeposition coating.

상기 remind 수세된Washed 도금  Plated 모재를Base material 양이온 저온 열경화형 전착 도료로 전착 도장하는 단계. Electrodeposition coating with cationic low temperature thermosetting electrodeposition coating.

다음으로, 상기 수세된 도금 모재를 양이온 저온 열경화형 전착 도료로 전착 도장한다. Next, the washed plated base material is electrodeposited with a cationic low-temperature thermal curable electrodeposition coating.

상기 전착 도장은, 4~5의 pH, 24~30℃의 온도 조건에서 30~50V의 전압을 60~120초간 인가하여 전착 도장을 실시함이 바람직하며, 이때 사용되는 전착 도료의 양은 170~200㎖/ℓ이면 족하다. 이때, 상기 양이온 저온 열경화형 전착 도료는 바람직하게 100~125℃, 더욱 바람직하게 105℃ 정도의 온도에서 경화가 가능한, 저온 열경화형 전착 도료이다. 이러한 저온 열경화형 전착 도료로는 아크릴계 전착 도료를 이용할 수 있는바, 공지된 저온 열경화형 전착 도료 중 경화 온도를 고려하여 선택, 사용한다.The electrodeposition coating is preferably performed by applying a voltage of 30 to 50 V for 60 to 120 seconds at a pH of 4 to 5 and a temperature of 24 to 30 캜 for electrodeposition coating, Ml / l. The cationic low-temperature thermosetting electrodeposition coating composition is preferably a low-temperature thermosetting electrodeposition coating composition which can be cured at a temperature of 100 to 125 ° C, more preferably about 105 ° C. As such a low temperature thermosetting electrodeposition coating material, an acrylic electrodeposition coating material can be used, and it is selected and used in consideration of a curing temperature in a known low temperature thermosetting electrodeposition coating material.

이때, 형성되는 도장층의 두께는 15~40㎛ 정도일 수 있는바, 도금층으로 인해 도장층의 두께를 두껍게 형성할 수 있다는 장점이 있다. At this time, the thickness of the formed coating layer may be about 15 to 40 占 퐉, and the thickness of the coating layer may be increased due to the plating layer.

상기 전착 The electrodeposition 도장된Painted 도금  Plated 모재를Base material 수세하여Washed 발수처리하고Water repellent treatment , 상기 , remind 발수처리된Water-repellent 모재를Base material 열풍 경화하는 단계. Hot air curing step.

다음으로, 상기 전착 도장된 도금 모재를 수세하여 발수처리하고, 이를 열풍 경화한다. 이때, 상기 수세 및 발수처리는 앞선 UV 경화형 전착 도료와 동일하며, 열풍 경화는 100~125℃의 범위, 더욱 바람직하게는 105℃ 정도에서 40~60분간 열풍 경화하는 것이다.Next, the electroplated and plated base metal is washed with water, subjected to a water-repellent treatment, and hot-air cured. The water and water repellent treatment is the same as the above-mentioned UV curable electrodeposition coating, and the hot air curing is performed by hot air curing at a temperature of 100 to 125 ° C, more preferably about 105 ° C for 40 to 60 minutes.

또한, 이 방법 역시 상기 각 수세 단계 및 약품 처리(산 및 알칼리 처리) 단계에서 별도의 용제 회수조를 마련하고, UF 필터를 이용하여 용제를 회수할 수 있음은 당연하다.Also, it is natural that this method can also provide a separate solvent recovery tank in each of the water washing step and the chemical treatment (acid and alkali treatment), and recover the solvent using the UF filter.

상기와 같은 방법으로 되는 전착 도장 방법은, 모재의 종류와 관계없이 도장이 가능하면서도, 도장층의 두께 균일성이 우수하고, 밀착성이 우수하다는 장점이 있다. 아울러, 전체 공정을 자동화처리할 수 있으므로, 양산성이 우수하고, 생산성이 낮다는 특성이 있다.The electrodeposition coating method according to the above-described method is advantageous in that the coating can be applied irrespective of the type of the base material, the thickness uniformity of the coating layer is excellent, and the adhesion is excellent. In addition, since the whole process can be automated, there is a characteristic that the mass productivity is excellent and the productivity is low.

한편, 본 발명은 앞서 크롬 도금을 실시한 것을 예로 하여 설명하였지만, 크롬 도금 없이, 구리 및 니켈 도금된 모재에 적용할 수도 있는 것으로, 그 방법은 도 4에서와 같이, 구리 및 니켈 도금된 모재를 준비하는 단계와, 상기 도금된 모재를 알칼리 탈지하여 니켈 부동태 피막을 제거하는 단계와, 상기 알칼리 탈지된 도금 모재를 수세 후 산 침지하는 단계와, 상기 산 침지된 도금 모재를 수세하는 단계와, 상기 수세된 도금 모재를 UV 경화형 전착 도료 또는 양이온 저온 열경화형 전착 도료를 이용하여 전착 도장하는 단계를 포함한다.In the meantime, although the present invention has been described by taking chromium plating as an example, the present invention can also be applied to copper and nickel-plated base materials without chromium plating. In this method, copper and nickel- A step of alkali degreasing the nickel plated base material to remove the nickel passive film; a step of acid dipping the alkaline degreased plated base material after water rinsing; a step of washing the base material immersed in acid; And electrodepositing the coated base material using a UV curable electrodeposition coating or a cationic low temperature thermal curable electrodeposition coating.

즉, 구리 및 니켈 도금된 모재를 준비하고, 이를 알칼리 탈지하여 니켈의 부동태 피막을 제거한다. 이때, 상기 알칼리 탈지의 방법은, 50~150g/ℓ의 수산화칼륨 또는 수산화나트륨, 40~70℃의 온도의 조건에서 2~3분간 침지하는 정도면 족하다.That is, copper and nickel-plated base materials are prepared and alkali-degreased to remove the passive film of nickel. At this time, the alkali degreasing method may suffice to immerse in 50 to 150 g / l of potassium hydroxide or sodium hydroxide at a temperature of 40 to 70 캜 for 2 to 3 minutes.

그리고 이를 수세하여 산 침지한다. 이때, 수세 및 산 침지방법은, 앞선 UV 경화형 전착 도료를 이용한 방법의 수세 및 1차 산 침지 단계와 동일하다.Then, it is washed with water and immersed in acid. At this time, the washing with water and the acid immersion method are the same as the washing and the primary acid immersion in the method using the above-mentioned UV curing type electrodeposition coating.

다음으로, 산 침지된 도금 모재를 수세하고, 이를 전착 도장하는 것이다. 이 단계는 앞선 UV 경화형 전착 도료를 이용하여 전착 도장하는 방법 및 양이온 저온 열경화형 전착 도료를 이용하여 전착 도장하는 방법과 동일한바, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Next, the acid-dipped plating base material is washed with water and electrodeposited. This step is the same as the electrodeposition coating method using the UV curable electrodeposition coating and the electrodeposition coating method using the cationic low temperature thermal curable electrodeposition coating, and a detailed description thereof will be omitted.

본 발명은 도 2 내지 도 4와 같이, 구리, 니켈 및 크롬 도금된 모재와 구리 및 니켈 도금된 모재에 대하여 전착 도장을 실시하는 방법을 설명하였으나, 이 외 다양한 금속으로 도금된 모재에도 상기 도 4와 같은 방법을 이용하여 전착 도장할 수 있음은 당연하다. 2 to 4, a method of performing electrodeposition coating on a copper, nickel, chromium-plated base material and a copper and nickel-plated base material has been described. However, in the case of the base material plated with various metals, It is natural that the electrodeposition coating can be carried out by using the same method as the above.

그리고 상기와 같은 방법으로 제조된 제품은 컬러범위가 널고, 피복성이 우수하여, 자동차 내장 부품은 물론, 스포츠용품, 슬롯머신 부품, 화장품 케이스 등은 물론, 일반 산업용 제품으로의 활용이 가능하다는 장점이 있다. The product manufactured by the above method has a wide color range and is excellent in covering property and can be used as general industrial products as well as sporting goods, slot machine parts, and cosmetic case as well as automobile interior parts .

이하, 실시예를 통해 본 발명의 전착 도장 방법을 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, the electrodeposition coating method of the present invention will be described in more detail with reference to examples.

(실시예 1)(Example 1)

ABS 소재의 모재를 20㎛의 두께로 구리, 니켈, 크롬 도금하였다. 상기 도금 방법은 통상의 방법에 따랐다. 그리고 상기 도금된 ABS 소재의 모재로부터 크롬을 박리하였다. 상기 크롬의 박리는 알칼리 전해 박리의 방법을 이용하였는바, 도금 모재를 55℃의 KOH 50g/ℓ, 4V의 전압의 욕조에 1분간 침지하였다. 다음으로, 상기 크롬 박리된 도금 모재를 정제수로 3차례 수세하였다. 그리고 상기 수세된 모재를 30℃의 황산 75g/ℓ, 4V 전압의 욕조에 1분간 침지하였다. 그리고 이를 정제수를 이용하여 3차례 수세한 후, 상기 수세된 도금 모재를 30℃의 염산 50ml/ℓ, 4V 전압의 욕조에 1분간 침지하고, 정제수로 3차례 수세하였다.The base material of the ABS material was plated with copper, nickel and chromium to a thickness of 20 탆. The above plating method was performed according to a conventional method. Then, chrome was peeled from the base material of the plated ABS material. The chrome was peeled by alkali electrolytic peeling, and the plated base material was immersed in a bath at a voltage of 4 V for 1 minute at a temperature of 55 ° C of 50 g / liter of KOH. Next, the chromium-removed plated parent material was washed three times with purified water. The washed base material was immersed in a bath of 75 g / L sulfuric acid at 30 DEG C and a voltage of 4 V for 1 minute. The washed plated base material was immersed in a bath of 50 ml / l of hydrochloric acid at 30 ° C and a voltage of 4 V for 1 minute, and then rinsed three times with purified water.

다음으로, 상기 수세된 모재에 전착 도장을 실시하였다. 상기 전착 도장은 수세된 모재를 음극으로 하고, 탱크를 양극으로 하여, UV 경화형 양이온 아크릴(사용량: 170g/ℓ, 노루페인트)을 전착 도료로 욕조 내에 투입하여 25℃, pH 4.1의 조건에서 45V의 전압을 100초간 인가하였다. 상기 전착 도장층의 두께는 20㎛ 였다.Next, electrodeposition coating was performed on the washed base material. The electrodeposition coating was carried out under the conditions of 25 DEG C and pH 4.1 at 45 DEG C under the conditions of 25 DEG C and pH 4.1 using a washed base material as a negative electrode and a tank as an anode and UV curing type cationic acrylate (amount: 170 g / The voltage was applied for 100 seconds. The thickness of the electrodeposition coating layer was 20 탆.

다음으로, 이를 3차례에 걸쳐 UF 수세하고, 정제수로 최종 순수세한 후, 28℃의 발수제에 30초간 침전시키고, 75℃에서 10분간 열풍 건조하고, 300nm의 파장을 갖는 4JN/㎠의 에너지로 2분간 경화시켰다. Next, this was washed with UF three times, purified water was finally poured into pure water, then precipitated in a water repellent at 28 DEG C for 30 seconds, hot-air dried at 75 DEG C for 10 minutes, and irradiated with energy of 4JN / And cured for 2 minutes.

(실시예 2)(Example 2)

ABS 소재의 모재를 20㎛의 두께로 구리, 니켈, 크롬 도금하였다. 상기 도금 방법은 통상의 방법에 따랐다. 그리고 상기 도금된 ABS 소재의 모재를 알칼리 탈지하였다. 상기 알칼리 탈지는 55℃의 KOH 50g/ℓ에서 2분간 침지하여 처리하였다. 그리고 상기 수세된 모재를 30℃의 황산 75g/ℓ, 4V 전압의 욕조에 1분간 침지하였다. 그리고 이를 정제수를 이용하여 3차례 수세한 후, 상기 수세된 도금 모재를 30℃의 염산 50ml/ℓ, 4V 전압의 욕조에 1분간 침지하고, 정제수로 3차례 수세하였다.The base material of the ABS material was plated with copper, nickel and chromium to a thickness of 20 탆. The above plating method was performed according to a conventional method. The base material of the plated ABS material was subjected to alkali degreasing. The alkaline degreasing was performed by immersing in KOH at 55 캜 for 2 minutes at 50 g / l. The washed base material was immersed in a bath of 75 g / L sulfuric acid at 30 DEG C and a voltage of 4 V for 1 minute. The washed plated base material was immersed in a bath of 50 ml / l of hydrochloric acid at 30 ° C and a voltage of 4 V for 1 minute, and then rinsed three times with purified water.

다음으로, 상기 수세된 모재에 전착 도장을 실시하였다. 상기 전착 도장은 수세된 모재를 음극으로 하고, 탱크를 양극으로 하여, 양이온 저온 열경화형 아크릴(사용량: 180㎖/ℓ, 대성케미칼)을 전착 도료로 욕조 내에 투입하여 25℃, pH 3.7의 조건에서 35V의 전압을 100초간 인가하였다. 상기 전착 도장층의 두께는 20㎛ 였다.Next, electrodeposition coating was performed on the washed base material. The electrodeposition coating was carried out under the conditions of 25 占 폚 and pH 3.7 at a temperature of 25 占 폚, using a washed base material as a negative electrode and a tank as an anode, and using a cationic low-temperature thermosetting type acrylic (amount: 180 ml / liter, Daesung Chemical) A voltage of 35 V was applied for 100 seconds. The thickness of the electrodeposition coating layer was 20 탆.

다음으로, 이를 3차례에 걸쳐 UF 수세하고, 정제수로 최종 순수세한 후, 28℃의 발수제에 30초간 침전시킨 후, 105℃에서 60분간 열풍 경화시켰다. Next, this was washed with UF three times, purified water was finally poured into pure water, and then precipitated in a water repellent at 28 DEG C for 30 seconds, followed by hot air curing at 105 DEG C for 60 minutes.

그리고 이렇게 도장된 최종 제품의 외관을 관찰하고, 그 특성을 하기 표 1과 같은 평가방법으로 평가하였다.The appearance of the finished product thus coated was observed, and the properties thereof were evaluated by the evaluation method shown in Table 1 below.

실시예 1 및 2의 평가 방법 및 결과Evaluation methods and results of Examples 1 and 2 항목Item 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 평가방법Assessment Methods 연필경도(1)Pencil hardness (1) 2H2H 3H3H (1kg하중)상처가 인정되는 경도(1 kg load) Hardness at which scratches are recognized 연필경도(2)Pencil hardness (2) 4H4H 5H5H (1kg하중)도막이 파괴되는 경도(1 kg load) Hardness at which the coating film is broken UV 저항UV resistance 720hr720 hr 720hr720 hr ISO 11507 WeatheringISO 11507 Weathering 수밀시험Watertightness test 이상없음clear 이상없음clear 10days 40℃10days 40 ℃ 경화저항Hardening resistance 이상없음clear 이상없음clear 600 acetone rubs600 acetone rubs 내식성(CASS)Corrosion resistance (CASS) 이상없음clear 이상없음clear 120hr 10/10120hrs 10/10 염수분무(NSS)Salt spray (NSS) 이상없음clear 이상없음clear 500hr500 hr

상기 표 1에서 확인할 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 전착 도장방법은 우수한 도막 성능을 가짐을 확인할 수 있었다. As can be seen from Table 1, the electrodeposition coating method according to the present invention has excellent coating performance.

또한, 첨부된 도 5는 본 발명의 실시예 1에 따른 제품 사진으로, 관찰 결과 외관이 미려하고, 표면 불량이 없는 것을 확인할 수 있었다. Fig. 5 is a photograph of a product according to Example 1 of the present invention. As a result, it was confirmed that the appearance of the product was good and there was no surface defect.

본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구의 범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구의 범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.It will be understood by those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the appended claims rather than the foregoing detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and the equivalents thereof are included in the scope of the present invention Should be interpreted.

Claims (8)

삭제delete 도금된 모재를 준비하는 단계와,
상기 도금된 모재의 표면에 전착 도장을 하는 단계와,
상기 전착 도장된 도금 모재를 경화하는 단계를 포함하고,
상기 도금된 모재는, 구리, 니켈 및 크롬 도금된 모재로서,
상기 도금된 모재를 준비하는 단계 후,
상기 도금된 모재로부터 크롬을 박리하는 단계와,
상기 크롬 박리된 도금 모재를 수세하여 1차 산 침지하는 단계와,
상기 1차 산 침지된 도금 모재를 수세하여 2차 산 침지하는 단계와,
상기 2차 산 침지된 도금 모재를 수세하는 단계를 더 포함하고,
상기 전착 도장하는 단계는,
상기 수세된 도금 모재를 UV 경화형 전착 도료로 전착 도장하며,
상기 전착 도장된 도금 모재를 경화하는 단계는,
상기 전착 도장된 모재를 수세하여 발수처리하고, 상기 발수처리된 모재를 열풍 건조 후 UV 경화하는 것을 특징으로 하는 전착 도장 방법.
Preparing a plated preform,
Electrodepositing a surface of the plated base metal;
And curing the electroplated and painted plated base material,
The plated base metal is a copper, nickel and chromium-plated base metal,
After the step of preparing the plated preform,
Peeling the chrome from the plated base metal;
Subjecting the chrome-plated preform to washing with water and primary dipping;
A step of washing the pre-soaked plating base material with water and then dipping the pre-
Further comprising washing the secondary acid soaked plating base material with water,
Wherein the electrodeposition coating step comprises:
The washed base material is electrodeposited with a UV curable electrodeposition coating,
Wherein the step of curing the electrodeposited coated base metal comprises:
Wherein the electrodeposition coated base material is washed with water to perform water repellency treatment, and the water repellent base material is subjected to hot air drying and UV curing.
도금된 모재를 준비하는 단계와,
상기 도금된 모재의 표면에 전착 도장을 하는 단계와,
상기 전착 도장된 도금 모재를 경화하는 단계를 포함하고,
상기 도금된 모재는, 구리, 니켈 및 크롬 도금된 모재로서,
상기 도금된 모재를 준비하는 단계 후,
상기 도금된 모재를 알칼리 탈지하여 유분 및 이물질을 제거하는 단계와,
상기 알칼리 탈지된 도금 모재를 수세하여 1차 산 침지하는 단계와,
상기 1차 산 침지된 도금 모재를 수세하여 2차 산 침지하는 단계와,
상기 2차 산 침지된 도금 모재를 수세하는 단계를 더 포함하고,
상기 전착 도장하는 단계는,
상기 수세된 도금 모재를 양이온 저온 열경화형 전착 도료로 전착 도장하며,
상기 전착 도장된 도금 모재를 경화하는 단계는,
상기 전착 도장된 모재를 수세하여 발수처리하고, 상기 발수처리된 모재를 열풍 경화하는 것을 특징으로 하는 전착 도장 방법.
Preparing a plated preform,
Electrodepositing a surface of the plated base metal;
And curing the electroplated and painted plated base material,
The plated base metal is a copper, nickel and chromium-plated base metal,
After the step of preparing the plated preform,
Alkali-degreasing the plated base material to remove oil and foreign matter,
Subjecting the alkali-degreased plated base material to washing with water and primary acid soaking,
A step of washing the pre-soaked plating base material with water and then dipping the pre-
Further comprising washing the secondary acid soaked plating base material with water,
Wherein the electrodeposition coating step comprises:
The above-mentioned washed base material is electrodeposited with a cationic low-temperature thermal curable electrodeposition coating,
Wherein the step of curing the electrodeposited coated base metal comprises:
Wherein the electrodeposition coated base material is washed with water to perform a water repellent treatment, and the water repellent base material is hot-air cured.
제 3항에 있어서,
상기 양이온 저온 열경화형 전착 도료는, 100~125℃의 온도에서 경화 가능한 것으로,
상기 열풍 경화는 100∼125℃의 온도의 열풍으로 40~60분간 경화하는 것을 특징으로 하는 전착 도장 방법.
The method of claim 3,
The cationic low temperature thermosetting electrodeposition coating composition is curable at a temperature of 100 to 125 캜,
Wherein the hot air curing is performed by hot air at a temperature of 100 to 125 占 폚 for 40 to 60 minutes.
도금된 모재를 준비하는 단계와,
상기 도금된 모재의 표면에 전착 도장을 하는 단계와,
상기 전착 도장된 도금 모재를 경화하는 단계를 포함하고,
상기 도금된 모재는, 구리 및 니켈 도금된 모재로서,
상기 도금된 모재를 준비하는 단계 후,
상기 도금된 모재를 알칼리 탈지하여 니켈 부동태 피막을 제거하는 단계와,
상기 알칼리 탈지된 도금 모재를 수세 후 산 침지하는 단계와,
상기 산 침지된 도금 모재를 수세하는 단계를 더 포함하고,
상기 전착 도장하는 단계는,
상기 수세된 도금 모재를 UV 경화형 전착 도료 또는 양이온 저온 열경화형 전착 도료로 전착 도장하는 것을 특징으로 하는 전착 도장 방법.
Preparing a plated preform,
Electrodepositing a surface of the plated base metal;
And curing the electroplated and painted plated base material,
The plated base metal is a copper and nickel plated base metal,
After the step of preparing the plated preform,
Removing the nickel passivation film by alkali degreasing the plated base metal;
Acid-dipping the alkali-degreased plated base material after washing with water,
Further comprising washing the acid-soaked plating base material,
Wherein the electrodeposition coating step comprises:
Wherein the washed base material is electrodeposited with a UV curable electrodeposition coating or a cationic low temperature thermal curable electrodeposition coating.
제 2항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 모재는 플라스틱 소재인 것을 특징으로 하는 전착 도장 방법.
6. The method according to any one of claims 2 to 5,
Wherein the base material is a plastic material.
제 6항에 있어서,
상기 모재는 ABS, PC 및 이들의 혼합재 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 전착 도장 방법.
The method according to claim 6,
Wherein the base material is one of ABS, PC, and a mixed material thereof.
제 6항에 있어서,
상기 도금된 모재의 도금층의 두께는 10~100㎛이고,
상기 전착 도장된 도장층의 두께는 15~40㎛인 것을 특징으로 하는 전착 도장 방법.
The method according to claim 6,
The thickness of the plating layer of the plated base metal is 10 to 100 탆,
Wherein the electrodeposited coating layer has a thickness of 15 to 40 占 퐉.
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JP2010047803A (en) * 2008-08-21 2010-03-04 Shimizu:Kk Composition for pretreatment of electrodeposition coating, and electrodeposition coating method

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