KR101796997B1 - 포화 흡수체의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 손상 임계값이 높고 상호작용 길이를 용이하게 조절할 수 있는 포화 흡수체의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, (a) 클래딩과 코어를 포함하는 광 섬유의 미리 지정된 영역을 상기 클래딩의 적어도 일부가 남도록 에칭하는 단계; 및 (b) 상기 광 섬유의 상기 미리 지정된 영역 중 적어도 일부에 포화 흡수 특성을 가지는 물질을 도포하는 단계를 포함하고, 상기 (a) 단계는, (a-1) 에칭 용액이 충전되는 홈(groove)을 구비하며 표면 장력에 의해서 상기 홈에서 상기 에칭 용액이 흘러내리지 않도록 구성된 에칭 도구의 상기 홈에 상기 광 섬유의 상기 미리 지정된 영역을 배치하는 단계; 및 (a-2) 미리 지정된 시간 동안 에칭하는 단계를 포함하는 것인 포화 흡수체의 제조 방법이 제공된다.

Description

포화 흡수체의 제조 방법{METHOD OF MANUFACTURING SATURABLE ABSORBER}
본 발명은 포화 흡수체의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 손상 임계값(damage threshold)이 높고 상호작용 길이(interaction length)를 용이하게 조절할 수 있는 포화 흡수체의 제조 방법에 관한 것이다.
포화 흡수 특성을 가지는 물질은 빛의 세기가 증가하면 빛의 흡수가 감소하는 특성을 가진다. 포화 흡수 특성을 가지는 물질에 적은 세기의 빛이 입사되면, 빛의 흡수가 일어나면서 원자들이 더 높은 상태(state)로 여기되고, 광자(photon)는 높은 손실을 가지고 진행한다. 그러나 충분히 강한 세기의 빛이 입사되면, 빛의 흡수가 일어나다가 포화 흡수가 발생하고, 파울리 차단(Pauli blocking)에 의해 더 이상 원자들은 여기되지 않는다. 따라서 광자는 적은 손실을 가지고 진행할 수 있다. 포화 흡수 특성을 가지는 물질은 예컨대 그래핀, 탄소 나노 튜브, 위상학적 절연체, 전이금속 칼코겐화합물(transition metal dichalcogenides) 및 골드 나노 물질이다.
포화 흡수 특성을 가지는 물질을 이용한 포화 흡수체는 레이저 공진기와 같은 광학 장치에 사용될 수 있다.
예컨대 한국과학기술원에 의해서 2012년 10월 18일자로 출원되고 2014년 5월7일자로 등록된, "비선형 편광 회전과 포화흡수체의 결합 모드잠금에 의해 생성되는 고출력 광 섬유 펨토초 레이저 공진기"라는 명칭의 한국등록특허 제10-1394720호는 레이저 공진기에서 사용되는 포화 흡수체를 개시하고 있다.
한국등록특허 제10-1394720호에 개시된 포화 흡수체는 광 섬유의 사이에, 보다 구체적으로는 광 접속기 사이에 투과형 포화 흡수 믈질을 삽입한 형태이다.
한국등록특허 제10-1394720호에 개시된 포화 흡수체는 쉽게 제작할 수 있다는 장점을 가지지만, 손상 임계값이 낮고 상호작용 길이가 짧다는 단점을 가진다.
1. 한국등록특허 제10-1394720호.
본 발명의 목적은 손상 임계값이 높고 상호작용 길이를 용이하게 조절할 수 있는 포화 흡수체의 제조 방법을 제공하는 데 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 (a) 클래딩과 코어를 포함하는 광 섬유의 미리 지정된 영역을 상기 클래딩의 적어도 일부가 남도록 에칭하는 단계; 및 (b) 상기 광 섬유의 상기 미리 지정된 영역 중 적어도 일부에 포화 흡수 특성을 가지는 물질을 도포하는 단계를 포함하고, 상기 (a) 단계는, (a-1) 에칭 용액이 충전되는 홈(groove)을 구비하며 표면 장력에 의해서 상기 홈에서 상기 에칭 용액이 흘러내리지 않도록 구성된 에칭 도구의 상기 홈에 상기 광 섬유의 상기 미리 지정된 영역을 배치하는 단계; 및 (a-2) 미리 지정된 시간 동안 에칭하는 단계를 포함하는 것인 포화 흡수체의 제조 방법을 제공한다.
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본 발명에 따른 포화 흡수체의 제조 방법에 있어서, (c) 상기 (a) 단계 이후에, 상기 광 섬유를 기판 상에 배치하는 단계를 더 포함할 수 있다.
삭제
또한 본 발명에 따른 포화 흡수체의 제조 방법에 있어서, 상기 에칭 용액은 불화 암모니아 계열 및 불산 계열의 용액 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
또한 본 발명에 따른 포화 흡수체의 제조 방법에 있어서, 상기 (a) 단계는, (a-3) 상기 코어가 노출되지 않도록 상기 미리 지정된 영역을 에칭하는 단계를 포함할 수 있다.
또한 본 발명에 따른 포화 흡수체의 제조 방법에 있어서, 상기 포화 흡수 특성을 가지는 물질은 그래핀, 탄소 나노 튜브, 위상학적 절연체, 전이금속 칼코겐화합물 및 골드 나노 물질을 포함하는 그룹으로부터 선택될 수 있다.
또한 본 발명에 따른 포화 흡수체의 제조 방법에 있어서, 상기 코어는 비대칭 형상일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 포화 흡수체의 제조 방법에 있어서, 상기 코어는 적어도 하나의 장축 및 상기 장축보다 작고 상기 장축에 횡방향으로 연장하는 단축을 구비할 수 있다.
본 발명에 따르면 손상 임계값이 높고 상호작용 길이를 용이하게 조절할 수 있는 포화 흡수체의 제조 방법을 제공할 수 있다. 또한 에칭 영역의 클래딩에 배치된 포화 흡수 특성을 가지는 물질과의 소산장 상호 작용(evanescent field interaction)이 강하게 발생하므로, 본 발명에 따라 제조된 포화 흡수체는 고성능을 가지는 포화 흡수체로 사용될 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 포화 흡수체의 예시적인 구성을 나타내는 도면.
도 2는 본 발명에 따른 포화 흡수체의 단면을 나타내는 도면.
도 3a 내지 도 3d는 본 발명에 따른 포화 흡수체에서 광 섬유의 단면을 나타내는 도면.
도 4는 본 발명에 따른 포화 흡수체의 제조 방법의 예시적인 흐름도.
도 5는 본 발명에 따른 포화 흡수체의 제조 방법에서 사용되는 에칭 도구의 예시적인 구성을 나타내는 도면.
이하, 본 발명에 따른 포화 흡수체 및 포화 흡수체의 제조 방법의 실시예를 첨부한 도면을 참조로 보다 구체적으로 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 포화 흡수체의 예시적인 구성을 나타내는 도면이고, 도 2는 본 발명에 따른 포화 흡수체의 단면을 나타내는 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면 본 발명에 따른 포화 흡수체는 광 섬유(100) 및 포화 흡수 특성을 가지는 물질(200)을 포함한다. 또한 본 발명에 따른 포화 흡수체는 기판(300)을 더 포함할 수 있다.
광 섬유(100)는 코어(110)와 클래딩(130)을 포함한다. 코어(110)는 굴절율이 큰 물질로 구성되며, 클래딩(130)은 코어(110)에 비해 굴절율이 작은 물질로 구성된다. 또한 클래딩(130)은 코어(110)를 감싸고 있다.
한편 도 1 및 도 2를 참조하면 광 섬유(100)는 클래딩(130)의 적어도 일부가 에칭된 에칭 영역(150)을 구비한다.
에칭 영역(150)은 본 발명에 따른 포화 흡수체의 용도에 따라서 소정의 길이를 가지도록 설정될 수 있다.
에칭 영역(150)에서는 클래딩(130)의 적어도 일부가 에칭된다. 도 2 및 도 3을 참조하면, 에칭 영역(150)에서 코어(110)는 노출되지 않는다.
도 2를 참조하면, 광 섬유(100)에서, 특히 포화 흡수 특성을 가지는 물질(200)이 배치된 에칭 영역(150)에서 소산장 상호 작용이 발생하는 상태를 확인할 수 있다.
즉 위치 P1, P2 및 P3의 3개의 위치를 비교하면, P2는 에칭 영역(150) 내에 있고, P1 및 P3은 에칭 영역(150) 이외의 부분에 있다.
위치 P1에서는 광 섬유(100)의 코어(110)에서는 가이드된 모드(guided mode)로 광이 진행한다. 클래딩(130)의 적어도 일부가 제거된 위치인 위치 P2에서는 확대된 모드(broadend mode)로 광이 진행한다. 따라서 위치 P2에서는 확대된 모드의 소산장과 클래딩(130) 주위의 포화 흡수 특성을 가지는 물질(200) 사이의 상호 작용이 강하게 발생한다. 도 2에서는 가이드된 모드와 확대된 모드가 위치 P1, P2 및 P3에 대응하여 점선으로 표시된다.
또한 기존의 광 섬유의 사이에 투과형 포화 흡수 믈질을 삽입한 형태의 포화 흡수체는 전술하듯이 상호작용 길이가 짧다는 단점을 가진다.
그러나 본 발명에 따른 포화 흡수체는 에칭 영역(150)의 길이를 설정하는 것에 의해서 상호작용 길이를 용이하게 조절할 수 있다.
즉 포화 흡수체의 용도에 따라서 에칭 영역(150)의 길이를 변경하는 것에 의해서 상호작용 길이를 용이하게 조절할 수 있다.
또한 광 섬유(100)의 클래딩(130)의 일부가 에칭되더라도 광 섬유(100)의 손상 임계값이 큰 폭으로 하락하지는 않기 때문에, 기존의 포화 흡수체가 가지는 손상 임계값이 낮은 단점을 개선할 수 있다.
도 3a 내지 도 3d는 본 발명에 따른 포화 흡수체에서 광 섬유의 단면을 나타내는 도면이다.
도 3a 및 도 3b는 원 형상의 코어를 구비하는 광 섬유의 단면을 나타내며, 도 3a는 에칭 영역(150) 이외의 부분에서의 단면을 나타내고 도 3b는 에칭 영역(150)에서의 단면을 나타낸다.
도 3a 및 도 3b를 참조하면, 코어(110)는 그 단면이 원 형상이다. 또한 에칭 영역(150)에서는 도 3a의 클래딩(130)이 식각되어 더 얇은 두께를 가지는 클래딩(130e)이 코어(110)를 감싸고 있다.
도 3c 및 도 3d는 비대칭 코어를 구비하는 광 섬유의 단면을 나타내며, 도 3c는 에칭 영역(150) 이외의 부분에서의 단면을 나타내고 도 3d는 에칭 영역(150)에서의 단면을 나타낸다.
도 3c 및 도 3d를 참조하면, 코어(110')는 그 단면이 타원과 유사한 형상이다. 즉 코어(110')는 하나의 장축 및 장축보다 작고 장축에 횡방향으로 연장하는 단축을 구비한다. 장축은 하나 이상이어도 무방하다.
또한 에칭 영역(150)에서는 도 3a의 클래딩(130')이 식각되어 더 얇은 두께를 가지는 클래딩(130e')이 코어(110')를 감싸고 있다.
도 3c 및 도 3d에서 비대칭 코어의 예로서 그 단면이 타원과 유사한 형상인 코어(110')가 도시되었지만, 비대칭 코어로서 예컨대 규칙 또는 불규칙 형상의 조합된 형상을 이용할 수도 있다. 또한 도 3c 및 도 3d에서, 코어(110')의 중심은 클래딩(130' 또는 130e')의 중심과 일치하도록 도시되나, 코어(110')의 중심과 클래딩(130' 또는 130e')의 중심이 서로 달라도 된다.
포화 흡수 특성을 가지는 물질(200)은 광 섬유(100)의 에칭 영역(150)의 적어도 일부에 배치된다.
포화 흡수 특성을 가지는 물질(200)은 예컨대 그래핀, 탄소 나노 튜브, 위상학적 절연체, 전이금속 칼코겐화합물 및 골드 나노 물질을 포함하는 그룹으로부터 선택되는 물질일 수 있다.
한편 다시 도 1을 참조하면, 또한 본 발명에 따른 포화 흡수체는 기판(300)을 더 포함할 수 있다.
기판(300)은 그 위에 광 섬유(100)를 배치하기 위한 구성이다. 특히 에칭 영역(150)은 기판(300) 상에 배치된다. 기판(300)의 재질로서는 플라스틱, 반도체 물질 등이 사용될 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 포화 흡수체는 기존의 광 섬유 페룰 사이에 투과형 포화 흡수 믈질을 삽입한 형태의 포화 흡수체의 단점인 손상 임계값이 낮고 상호작용 길이가 짧다는 단점을 개선할 수 있다. 또한 에칭 영역의 클래딩에 배치된 포화 흡수 특성을 가지는 물질과의 소산장 상호 작용이 강하게 발생하므로, 고성능을 가지는 포화 흡수체로 사용될 수 있다.
또한 본 발명은 포화 흡수체의 제조 방법을 제공한다.
도 4는 본 발명에 따른 포화 흡수체의 제조 방법의 예시적인 흐름도다.
본 발명에 따른 포화 흡수체의 제조 방법은 전술한 도 1 내지 도 3의 포화 흡수체에 대한 도면을 참조로 하여 구체적으로 설명한다.
도 4를 참조하면, 우선 클래딩(130)과 코어(100)를 포함하는 광 섬유(100)의 미리 지정된 영역, 즉 에칭 영역(150)을 클래딩(130)의 적어도 일부가 남도록 에칭한다(S110).
단계 S110은 에칭 도구를 이용하여 수행된다.
도 5는 본 발명에 따른 포화 흡수체의 제조 방법에서 사용되는 에칭 도구의 예시적인 구성을 나타내는 도면이다.
도 5를 참조하면, 에칭 도구(400)는 양 끝이 개방된 홈(450)을 구비한다. 홈(450)에는 에칭 용액이 충전될 수 있다. 홈(450)의 양 끝은 개방되지만, 표면 장력에 의해서 홈(450)에서 에칭 용액이 흘러내리지 않도록 구성된다.
에칭 용액은 불화 암모니아 계열 및 불산 계열의 용액 중 적어도 하나를 이용할 수 있다. 예컨대 불화 암모니아 및 비이온 계면활성제(nonionic sufactant)를 합성한 용액을 사용할 수 있다. 예컨대 GE-203이라는 명칭으로 판매되는 물질을 에칭 용액으로서 사용할 수 있다. GE-203은 불산보다는 에칭 속도가 느리지만 더 정밀하게 에칭이 가능한 특징을 가지며, 또한 복잡한 처리 시설 없이 에칭이 가능하다는 장점도 가진다.
홈(450)의 폭은 예시적으로 0.5cm, 깊이는 예시적으로 0.5cm이며, 길이는 예시적으로 0.5cm, 1cm, 2cm. 3cm, 4cm, 5cm, 6cm일 수 있다. 홈(450)의 길이는 특히 에칭 영역(150)의 길이와도 관련되므로, 필요로 하는 에칭 영역(150)의 길이에 따라서 홈(450)의 길이도 설정될 수 있다.
예컨대 전술한 상호작용 길이를 조절하기 위해서 원하는 길이를 가지는 홈(450)을 구비한 에칭 도구(400)를 사용할 수 있다.
단계 S110을 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
우선 에칭 도구(400)의 홈(450)에 광 섬유의 미리 지정된 영역(에칭 영역, 150)을 배치한다.
다음으로, 미리 지정된 시간 동안 광 섬유의 미리 지정된 영역(에칭 영역, 150)을 에칭한다. 보다 구체적으로 코어(110)가 노출되지 않도록 미리 지정된 영역(에칭 영역, 150)을 에칭한다.
코어(100)는 전술하듯이 비대칭 형상을 포함할 수도 있으며, 적어도 하나의 장축 및 상기 장축보다 작고 상기 장축에 횡방향으로 연장하는 단축을 구비할 수 있다. 물론 코어(100)는 대칭 코어일 수도 있다.
이와 같이 광 섬유(100)의 미리 지정된 영역(에칭 영역, 150)을 코어(150)가 노출되지 않도록 에칭할 수 있다.
다음으로, 광 섬유(100)를 기판(300) 상에 배치한다.
즉 단계 S110이 수행된 광 섬유(100)를 기판(300) 상에 배치한다.
다음으로, 광 섬유(100)의 미리 지정된 영역, 즉 에칭 영역(150) 중 적어도 일부에 포화 흡수 특성을 가지는 물질(200)을 도포한다.
포화 흡수 특성을 가지는 물질(200)은 그래핀, 탄소 나노 튜브, 위상학적 절연체, 전이금속 칼코겐화합물 및 골드 나노 물질을 포함하는 그룹으로부터 선택되는 것을 이용할 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 포화 흡수체의 제조 방법은 기존의 광 섬유 페룰 사이에 투과형 포화 흡수 믈질을 삽입한 형태의 포화 흡수체의 단점인 손상 임계값이 낮고 상호작용 길이가 짧다는 단점을 개선할 수 있다. 또한 에칭 영역의 클래딩에 배치된 포화 흡수 특성을 가지는 물질과의 소산장 상호 작용이 강하게 발생하므로, 본 발명에 따라 제조된 포화 흡수체는 고성능을 가지는 포화 흡수체로 사용될 수 있다.
비록 본 발명의 구성이 구체적으로 설명되었지만 이는 단지 본 발명을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가지는 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변형이 가능할 것이다.
따라서 본 명세서에 개시된 실시예들은 본 발명을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 사상과 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 범위는 아래의 청구범위에 의해 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
본 발명에 따르면 손상 임계값이 높고 상호작용 길이를 용이하게 조절할 수 있는 포화 흡수체의 제조 방법을 제공할 수 있다. 또한 에칭 영역의 클래딩에 배치된 포화 흡수 특성을 가지는 물질과의 소산장 상호 작용이 강하게 발생하므로, 본 발명에 따라 제조된 포화 흡수체는 고성능을 가지는 포화 흡수체로 사용될 수 있다.
100: 광 섬유 110, 110': 코어
130, 130', 130e, 130e': 클래딩 150: 에칭 영역
200: 포화 흡수 특성을 가지는 물질 300: 기판
400: 에칭 도구 450: 홈

Claims (14)

  1. (a) 클래딩과 코어를 포함하는 광 섬유의 미리 지정된 영역을 상기 클래딩의 적어도 일부가 남도록 에칭하는 단계; 및
    (b) 상기 광 섬유의 상기 미리 지정된 영역 중 적어도 일부에 포화 흡수 특성을 가지는 물질을 도포하는 단계
    를 포함하고,
    상기 (a) 단계는,
    (a-1) 에칭 용액이 충전되는 홈(groove)을 구비하며 표면 장력에 의해서 상기 홈에서 상기 에칭 용액이 흘러내리지 않도록 구성된 에칭 도구의 상기 홈에 상기 광 섬유의 상기 미리 지정된 영역을 배치하는 단계; 및
    (a-2) 미리 지정된 시간 동안 에칭하는 단계
    를 포함하는 것인 포화 흡수체의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    (c) 상기 (a) 단계 이후에, 상기 광 섬유를 기판 상에 배치하는 단계
    를 더 포함하는 포화 흡수체의 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 에칭 용액은 불화 암모니아 계열 및 불산 계열의 용액 중 적어도 하나를 포함하는 것인 포화 흡수체의 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 (a) 단계는,
    (a-3) 상기 코어가 노출되지 않도록 상기 미리 지정된 영역을 에칭하는 단계를 포함하는 것인 포화 흡수체의 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 포화 흡수 특성을 가지는 물질은 그래핀, 탄소 나노 튜브, 위상학적 절연체, 전이금속 칼코겐화합물 및 골드 나노 물질을 포함하는 그룹으로부터 선택되는 것인 포화 흡수체의 제조 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 코어는 비대칭 형상인 것인 포화 흡수체의 제조 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 코어는 적어도 하나의 장축 및 상기 장축보다 작고 상기 장축에 횡방향으로 연장하는 단축을 구비하는 것인 포화 흡수체의 제조 방법.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020172486A1 (en) * 2001-03-16 2002-11-21 Martin Fermann Single-polarization high power fiber lasers and amplifiers
US20110222562A1 (en) * 2009-07-24 2011-09-15 Advalue Photonics, Inc. Mode-Locked Two-Micron Fiber Lasers
KR101415376B1 (ko) 2013-03-18 2014-07-04 조선대학교산학협력단 에칭된 광섬유 브래그 격자 및 아조벤젠 폴리머 기반의 자외선 센서

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020172486A1 (en) * 2001-03-16 2002-11-21 Martin Fermann Single-polarization high power fiber lasers and amplifiers
US20110222562A1 (en) * 2009-07-24 2011-09-15 Advalue Photonics, Inc. Mode-Locked Two-Micron Fiber Lasers
KR101415376B1 (ko) 2013-03-18 2014-07-04 조선대학교산학협력단 에칭된 광섬유 브래그 격자 및 아조벤젠 폴리머 기반의 자외선 센서

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109616861A (zh) * 2019-02-18 2019-04-12 哈尔滨工程大学 一种多波长光纤激光器及金纳米粒子锁模器件的制备方法

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