KR101794366B1 - Method for producing a phosphorus-containing epoxy resin, epoxy resin composition, and cured product thereof - Google Patents

Method for producing a phosphorus-containing epoxy resin, epoxy resin composition, and cured product thereof Download PDF

Info

Publication number
KR101794366B1
KR101794366B1 KR1020127019877A KR20127019877A KR101794366B1 KR 101794366 B1 KR101794366 B1 KR 101794366B1 KR 1020127019877 A KR1020127019877 A KR 1020127019877A KR 20127019877 A KR20127019877 A KR 20127019877A KR 101794366 B1 KR101794366 B1 KR 101794366B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
epoxy resin
phosphorus
formula
represented
general formula
Prior art date
Application number
KR1020127019877A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20120140648A (en
Inventor
마사오 군지
히로시 사토
아츠코 가이토
Original Assignee
신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 filed Critical 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤
Publication of KR20120140648A publication Critical patent/KR20120140648A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101794366B1 publication Critical patent/KR101794366B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/14Polycondensates modified by chemical after-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/14Polycondensates modified by chemical after-treatment
    • C08G59/1433Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds
    • C08G59/1488Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds containing phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/22Di-epoxy compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/49Phosphorus-containing compounds
    • C08K5/51Phosphorus bound to oxygen
    • C08K5/52Phosphorus bound to oxygen only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2666/00Composition of polymers characterized by a further compound in the blend, being organic macromolecular compounds, natural resins, waxes or and bituminous materials, non-macromolecular organic substances, inorganic substances or characterized by their function in the composition
    • C08L2666/66Substances characterised by their function in the composition
    • C08L2666/84Flame-proofing or flame-retarding additives

Abstract

저점도성이 우수하고, 또한 난연성을 갖는 경화물을 부여하는 인 함유 에폭시 수지의 제조방법, 그 제조방법으로 얻어진 인 함유 에폭시 수지를 함유한 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물을 제공하는 것에 있고, 그 제조방법은, 화학식 1로 나타내어지는 에폭시 수지(a1) 또는 화학식 3으로 나타내어지는 에폭시 수지(a2) 또는 화학식 4로 나타내어지는 에폭시 수지(a3) 중 하나 이상으로 되는 에폭시 수지(A) 및 화학식 5로 나타내어지는 유기 인 화합물(b1) 및/또는 화학식 6으로 나타내어지는 유기 인 화합물(b2)로 구성된 유기 인 화합물(B)을 반응시켜서, 에폭시 당량이 200~600 g/eq이고, 인 함유율이 1~6 중량%인 인 함유 에폭시 수지를 제조하는 방법에 있어서, 에폭시 수지(A)의 수산기 농도가 200 meq/100 g 이하, 전체 염소량이 0.4 중량% 이하, α디올 함유량이 10 meq/100 g 이하이며, 또한 유기 인 화합물(B)의 유기 인 화합물(b1)/유기 인 화합물(b2)의 중량비 범위가 50/50~100/0인 것을 특징으로 하는 인 함유 에폭시 수지의 제조방법이다.A method for producing a phosphorus-containing epoxy resin which gives a cured product excellent in low viscosity and flame retardancy, an epoxy resin composition containing a phosphorus-containing epoxy resin obtained by the method, and a cured product thereof. (A) which is at least one of an epoxy resin (a1) represented by the general formula (1) or an epoxy resin (a2) represented by the general formula (3) or an epoxy resin (a3) represented by the general formula (4) (B) composed of an organophosphorous compound (b1) represented by the general formula (6) and / or an organophosphorus compound (B) composed of the organophosphorous compound (b2) represented by the general formula (6) to give an epoxy equivalent of 200 to 600 g / Wherein the epoxy resin (A) has a hydroxyl group concentration of 200 meq / 100 g or less, a total chlorine content of 0.4 weight% or less, an alpha -diol content of 10 meq / 100 g or less, and the weight ratio of the organic phosphorus compound (b1) / the organic phosphorus compound (b2) in the organophosphorus compound (B) is 50/50 to 100/0.

Description

인 함유 에폭시 수지의 제조방법, 에폭시 수지 조성물 및 그의 경화물{Method for producing a phosphorus-containing epoxy resin, epoxy resin composition, and cured product thereof}A method for producing a phosphorus-containing epoxy resin, an epoxy resin composition and a cured product thereof,

본 발명은 저점도성이 우수한 동시에, 난연성을 가진 우수한 경화물을 부여하는 반도체 소자로 대표되는 전기·전자부품 등의 봉지, 코팅재료, 적층재료, 복합재료 등의 경화물로서 유용한 신규 에폭시 수지, 또한 그것을 사용한 에폭시 수지 조성물 및 그의 경화물에 관한 것으로, 프린트 배선판, 반도체 봉지 등의 전기 전자 분야의 절연재료 등에 매우 적합하게 사용된다. The present invention relates to a novel epoxy resin useful as a curing agent for encapsulating and coating materials for electric and electronic parts, a coating material, a laminated material, a composite material and the like, which is excellent in low viscosity and is excellent in flame retardancy, The present invention relates to an epoxy resin composition using the same and a cured product thereof, and is suitably used for printed wiring boards and insulating materials for electrical and electronic fields such as semiconductor encapsulation.

에폭시 수지는 공업적으로 폭넓은 용도로 사용되고 있는데, 그 요구성능은 최근 들어 점점 고도화되고 있다. 예를 들면, 에폭시 수지를 주제로 하는 수지 조성물의 대표적 분야에 반도체 봉지재료가 있는데, 최근 들어, 반도체 소자의 집적도 향상에 수반하여, 팩키지 사이즈가 대면적화, 박형화로 향하는 동시에, 실장(mounting)방식도 표면 실장화로의 이행이 진전되고 있어, 보다 땜납 내열성이 우수한 재료의 개발이 요망되고 있다. BACKGROUND ART Epoxy resins have been widely used for industrial purposes, and their required performance has been increasingly advanced in recent years. For example, there is a semiconductor encapsulating material in a representative field of a resin composition subject to an epoxy resin. In recent years, along with the improvement of the degree of integration of semiconductor elements, the package size has become larger and thinner, The transition to surface mounting has progressed, and development of a material having superior solder heat resistance has been desired.

또한 최근 들어서는, 고집적화, 고밀도 실장화의 기술동향에 의해, 종래의 금형을 이용한 트랜스퍼 성형에 의한 팩키지 대신에, 하이브리드 IC, 칩 온 보드, 테이프 캐리어 팩키지, 플라스틱 핀 그리드 어레이, 플라스틱 볼 그리드 어레이 등의 금형을 사용하지 않고 액상 재료를 사용하여 봉지하고, 실장하는 방식이 늘고 있다. 그러나, 일반적으로 액상 재료는 트랜스퍼 성형에 사용하는 고형 재료에 비해 신뢰성이 낮은 결점이 있다. 이는, 액상 재료에 점도 상의 한계가 있어, 사용하는 수지, 경화제, 충전제 등에 제약이 있기 때문이다. 또한, 최근 들어서의 할로겐 프리 난연화를 받아, 할로겐계 난연제를 사용하고 있을 때에는 필요로 되지 않았던 이들 용도에서도 난연화의 요구가 높아지고 있다. In recent years, the technology trends of high integration and high density packaging have led to the development of hybrid ICs, chip on boards, tape carrier packages, plastic pin grid arrays, plastic ball grid arrays, and the like, instead of the package by transfer molding using conventional molds A method of encapsulating and mounting a liquid material without using a mold is increasing. However, in general, a liquid material has a drawback that its reliability is lower than that of a solid material used for transfer molding. This is because the viscosity of the liquid material is limited and there is a restriction on the resin, the curing agent, the filler, and the like to be used. Further, in recent years, since the halogen-free flame retardant has been subjected to softening, there has been an increasing demand for flame retardancy in these applications that were not required when the halogen-based flame retardant was used.

또한, 복합재 분야에서도 할로겐 프리화의 요구가 높아지고 있으나, 난연성을 확보하면서 저점도화가 필수이기 때문에, 만족할 수 있는 것은 얻어지고 있지 않다. Further, in the field of composites, there is an increasing demand for halogen-free, but low viscosity is essential while ensuring flame retardancy, and therefore satisfactory results have not been obtained.

이들의 문제점을 극복하기 위해, 주제가 되는 에폭시 수지 및 경화제에는, 저점도화, 저흡습화, 고내열화와 함께 난연화가 요망되고 있다. 저점도 에폭시 수지로서는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지 등이 일반적으로 널리 알려져 있으나, 저점도성의 측면에서 충분하지 않고, 난연성을 가지고 있지 않다. 저점도성이 우수한 에폭시 수지로서, 특허문헌 1에는, 옥시메틸렌 사슬을 갖는 에폭시 수지가 개시되어 있는데, 내열성, 내습성에 개량의 여지가 있고, 난연성에 관해서는 전혀 고려되어 있지 않다. 특허문헌 2에는, 비시클로헥실 고리를 갖는 에폭시 수지가 개시되어 있는데, 난연성에 관해서는 전혀 고려되어 있지 않다. 특허문헌 3에서는, 난연성을 갖는 인 함유 에폭시 수지가 개시되어 있는데, 방향족 골격을 갖는 2관능 에폭시 수지와 인 함유 페놀 수지로부터 얻어지는 인 함유 에폭시 수지이며 저점도화라는 점에서는 문제가 있었다. 특허문헌 4에서는, 인 함유 에폭시 수지 조성물로 난연성에 대해서 언급하고 있고, 지방족 에폭시 수지도 인 함유 에폭시 수지의 원료로서 사용 가능한 것이 기재되어 있는데, 지방족 에폭시 수지를 사용하는 효과에 대한 기재는 없고, 더 나아가서는, 인 함유 에폭시 수지로서의 특징에 대한 기재도 없어, 점도에 관해서는 전혀 고려되어 있지 않다. 특허문헌 5에서는 인 함유 모노에폭시 수지를 함유한 조성물이 개시되어 있는데, 지방족계의 희석제의 병용이 필수로 단독으로의 사용은 불가능하였다. In order to overcome these problems, epoxy resin and curing agent, which are the main themes, are required to have low viscosity, low moisture absorption, high internal resistance and flame retardancy. As low-viscosity epoxy resins, bisphenol A type epoxy resins and bisphenol F type epoxy resins and the like are generally known, but they are not sufficient in terms of low viscosity and have no flame retardancy. As an epoxy resin excellent in low viscosity, Patent Document 1 discloses an epoxy resin having an oxymethylene chain. However, there is room for improvement in heat resistance and moisture resistance, and no consideration is given to flame retardancy. Patent Document 2 discloses an epoxy resin having a bicyclohexyl ring, but no consideration is given to flame retardancy. Patent Document 3 discloses a phosphorus-containing epoxy resin having flame retardancy, which is problematic in that it is a phosphorus-containing epoxy resin obtained from a bifunctional epoxy resin having an aromatic skeleton and a phosphorus-containing phenol resin, and has a low viscosity. Patent Document 4 mentions flame retardancy with a phosphorus-containing epoxy resin composition, and describes that an aliphatic epoxy resin can also be used as a raw material for a phosphorus-containing epoxy resin. However, there is no description about the effect of using an aliphatic epoxy resin, Further, there is no description about the characteristics as the phosphorus-containing epoxy resin, and no consideration is given to the viscosity. Patent Document 5 discloses a composition containing a phosphorus-containing monoepoxy resin, but the use of an aliphatic diluent in combination is essential and can not be used alone.

일본국 특허공개 평4-359009호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-359009 일본국 특허공개 제2006-188606호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-188606 일본국 특허공개 제2001-288247호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-288247 일본국 특허공개 제2002-249540호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-249540 일본국 특허공개 제2001-106766호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-106766 일본국 특허공개 소61-268691호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-268691

이와 같이 난연성이 있는 액상 에폭시 수지를 얻는 것은 어려웠다. 따라서, 본 발명의 목적은 저점도성이 우수하고, 또한 난연성을 갖는 경화물을 부여하는 인 함유 에폭시 수지의 제조방법, 그의 제조방법으로 얻어진 인 함유 에폭시 수지를 함유한 에폭시 수지 조성물 및 그의 경화물을 제공하는 것에 있다.Thus, it was difficult to obtain a flame retardant liquid epoxy resin. Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a phosphorus-containing epoxy resin which gives a cured product excellent in low viscosity and flame retardancy, an epoxy resin composition containing a phosphorus-containing epoxy resin obtained by the method, .

본 발명자는 상기 과제를 해결하기 위해 예의 연구를 거듭한 결과, 경화물 물성이 현저히 손상되지 않고, 유효한 난연성을 갖는 인 함유 에폭시 수지를 제조하기 위해 필요한 저점도 에폭시 수지의 필수 조건을 발견하고, 본원 발명의 인 함유 에폭시 수지의 제조방법을 완성한 것으로, 상기 과제를 해결하기 위한 수단은 그 특허청구의 범위에 기재된 하기와 같은 것이다.DISCLOSURE OF THE INVENTION As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a necessary condition for a low-viscosity epoxy resin required for producing a phosphorus-containing epoxy resin which does not significantly impair the physical properties of a cured product, The present invention has been completed on a method for producing a phosphorus-containing epoxy resin, and means for solving the above problems are as described in the claims.

(1) 화학식 1로 나타내어지는 에폭시 수지(a1) 또는 화학식 3으로 나타내어지는 에폭시 수지(a2) 또는 화학식 4로 나타내어지는 에폭시 수지(a3) 중 하나 이상으로 되는 에폭시 수지(A)와 화학식 5로 나타내어지는 유기 인화합물(b1)과 화학식 6으로 나타내어지는 유기 인화합물(b2)로 구성된 유기 인화합물(B)을 반응시켜서, 에폭시 당량이 200~600 g/eq이고, 인 함유율이 1~6 중량%인 인 함유 에폭시 수지를 제조하는 방법에 있어서, 에폭시 수지(A)의 수산기 농도가 200 meq/100 g 이하이고, 전체 염소량이 0.4 중량% 이하이며, α디올 함유량이 10 meq/100 g 이하이고, 또한 유기 인화합물(B)의 유기 인화합물(b1)/유기 인화합물(b2)의 중량비 범위가 50/50~100/0인 것을 특징으로 하는 인 함유 에폭시 수지의 제조방법.(1) an epoxy resin (A) comprising at least one of an epoxy resin (a1) represented by the general formula (1) or an epoxy resin (a2) represented by the general formula (3) (B) having an epoxy equivalent of 200 to 600 g / eq and a phosphorus content of 1 to 6% by weight by reacting an organophosphorus compound (b1) represented by the formula (6) Wherein the epoxy resin (A) has a hydroxyl group concentration of 200 meq / 100 g or less, a total chlorine content of 0.4 weight% or less, an alpha -diol content of 10 meq / 100 g or less, Wherein the weight ratio of the organic phosphorus compound (b1) to the organic phosphorus compound (b2) in the organophosphorus compound (B) is 50/50 to 100/0.

Figure 112012060141481-pct00001
Figure 112012060141481-pct00001

화학식 중, R1은 하나 이상의 방향족 고리를 갖는, 산소원자, 질소원자, 황원자를 포함해도 되는, 탄소수 6~31의 탄화수소기이고, G는 화학식 2 또는 수소 중 어느 하나를 나타낸다.In the formula, R 1 is a hydrocarbon group having 6 to 31 carbon atoms, which may contain an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, having at least one aromatic ring, and G represents any one of the formula (2) or hydrogen.

Figure 112012060141481-pct00002
Figure 112012060141481-pct00002

Figure 112012060141481-pct00003
Figure 112012060141481-pct00003

화학식 중, R2는 단환이어도 되고 복소환이어도 되는 하나 이상의 시클로헥산 고리를 갖는, 산소원자, 질소원자, 황원자를 포함해도 되는, 탄소수 6~17의 지방족 탄화수소기이고, G는 화학식 2 또는 수소 중 어느 하나를 나타낸다.In the formula, R 2 is an aliphatic hydrocarbon group having 6 to 17 carbon atoms, which may be an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, having at least one cyclohexane ring which may be monocyclic or heterocyclic, G is a group represented by the formula Represents either one.

Figure 112012060141481-pct00004
Figure 112012060141481-pct00004

화학식 중, R3는 각각 단독으로 산소원자, 질소원자, 황원자를 포함해도 되는, 탄소수 1~4의 지방족 탄화수소기이고, R4는 -R3-OG, 또는, -R3-H, 또는 수소 중 어느 하나를 나타내며, G는 화학식 2 또는 수소 중 어느 하나를 나타내고, k는 0 또는 1의 정수를 나타낸다.R 3 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms which may contain an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and R 4 represents -R 3 -OG, -R 3 -H, or hydrogen , G represents any one of the formula (2) or hydrogen, and k represents an integer of 0 or 1.

Figure 112012060141481-pct00005
Figure 112012060141481-pct00005

화학식 중, R5, R6는 수소 또는 탄화수소기를 나타내고, 각각은 상이해도 되고 동일해도 되며, 직쇄상, 분지쇄상, 환상이어도 된다. 또한, R5와 R6가 결합하여 환상 구조로 되어도 된다. n은 0 또는 1의 정수를 나타낸다. Ar은 벤젠, 비페닐, 나프탈렌, 안트라센, 페난트렌 및 이들의 탄화수소 치환체 중 어느 하나를 나타낸다.In the formula, R 5 and R 6 represent hydrogen or a hydrocarbon group, and each may be the same or different, and may be linear, branched or cyclic. R 5 and R 6 may combine to form a cyclic structure. n represents an integer of 0 or 1; Ar represents any one of benzene, biphenyl, naphthalene, anthracene, phenanthrene, and hydrocarbon substituents thereof.

Figure 112012060141481-pct00006
Figure 112012060141481-pct00006

화학식 중, R7, R8은 수소 또는 탄화수소기를 나타내고, 각각은 상이해도 되고 동일해도 되며, 직쇄상, 분지쇄상, 환상이어도 된다. 또한, R7과 R8이 결합하여 환상 구조로 되어도 된다. m은 0 또는 1의 정수를 나타낸다.In the formula, R 7 and R 8 represent hydrogen or a hydrocarbon group, and each may be the same or different, and may be linear, branched or cyclic. R 7 and R 8 may combine to form a cyclic structure. and m represents an integer of 0 or 1.

(2) (1)에 기재된 인 함유 에폭시 수지의 제조방법으로 얻어진 인 함유 에폭시 수지와 경화제를 필수성분으로서 함유하는 것을 특징으로 한 에폭시 수지 조성물. (2) An epoxy resin composition comprising a phosphorus-containing epoxy resin obtained by the process for producing a phosphorus-containing epoxy resin according to (1) and a curing agent as essential components.

(3) (2)에 기재된 에폭시 수지 조성물을 경화하여 얻어지는 경화물. (3) A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to (2).

본 발명의 에폭시 수지(A)는 화학식 1로 나타내어지는 에폭시 수지(a1) 또는 화학식 3으로 나타내어지는 에폭시 수지(a2) 또는 화학식 4로 나타내어지는 에폭시 수지(a3)인 것이 필수이다. 이들 이외의 에폭시 수지를 사용해도 본 발명에서 목적으로 하는 저점도이면서 난연성이 있는 인 함유 에폭시 수지는 얻어지지 않는다.The epoxy resin (A) of the present invention is essentially an epoxy resin (a1) represented by the general formula (1) or an epoxy resin (a2) represented by the general formula (3) or an epoxy resin (a3) represented by the general formula (4). Even if an epoxy resin other than these is used, a phosphorus-containing epoxy resin having a low viscosity and a flame retardancy which is the object of the present invention can not be obtained.

일반적으로, 에폭시 수지류와 페놀 수지류를 반응시켜서 새로운 에폭시 수지를 합성하는 경우, 얻어진 에폭시 수지 중에 원료가 되는 에폭시 수지가 잔존하는 것은 피할 수 없다. 이 때문에, 얻어지는 인 함유 에폭시 수지의 경우는 원료가 되는 에폭시 수지(A)의 영향도 고려할 필요가 있다. Generally, when a new epoxy resin is synthesized by reacting an epoxy resin stream with a phenol resin stream, it is unavoidable that an epoxy resin as a raw material remains in the obtained epoxy resin. Therefore, in the case of the phosphorus-containing epoxy resin to be obtained, the influence of the epoxy resin (A) to be a raw material also needs to be considered.

알코올성 수산기 유래의 글리시딜에테르화는 반응성이 떨어지는 것으로부터 미반응의 잔존 수산기량이 많은 경향으로 된다. 원료 에폭시 수지(A) 중의 잔존 수산기는 인화합물과의 반응에 관여하지 않고 그대로 잔존하여, 인 함유 에폭시 수지의 말단기 순도를 저하시키기 때문에, 원료 에폭시 수지(A) 중의 잔존 수산기의 증가는 그대로 인 함유 에폭시 수지 조성물의 흡습성을 증대시켜, 산 무수물 경화제나 마이크로캡슐형 잠재 경화제에 대해 저장 안정성 저하의 원인이 된다. 또한, 경화물의 강도나 내열성의 저하 등의 경화물 물성의 악화의 요인이 되기 때문에, 원료 에폭시 수지(A)의 잔존 수산기의 고순도화가 필요해진다. 그 때문에, 에폭시 수지(A)의 잔존 수산기농도는 200 meq/100 g 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 100 meq/100 g 이하이며, 더욱 바람직하게는 50 meq/100 g 이하이다.Glycidyl etherification derived from an alcoholic hydroxyl group tends to have a large amount of unreacted residual hydroxyl groups because of low reactivity. The residual hydroxyl groups in the raw material epoxy resin (A) remain unremoved without participating in the reaction with the phosphorus compound, thereby lowering the terminal purity of the phosphorus containing epoxy resin. Therefore, the increase in the residual hydroxyl groups in the raw epoxy resin (A) Containing epoxy resin composition increases the hygroscopicity of the epoxy resin composition and causes a decrease in the storage stability of the acid anhydride curing agent or the microcapsule type latent curing agent. In addition, since the strength and the heat resistance of the cured product are deteriorated and the physical properties of the cured product are deteriorated, high purity of the residual hydroxyl groups of the raw material epoxy resin (A) becomes necessary. Therefore, the residual hydroxyl group concentration of the epoxy resin (A) is preferably 200 meq / 100 g or less, more preferably 100 meq / 100 g or less, and further preferably 50 meq / 100 g or less.

또한, 잔존 수산기농도를 저감하기 위해, 촉매 첨가 등으로 반응성을 올리면 평행하게 부반응이 증가하여 함유하는 전체 염소량의 고농도화가 일어난다. 원료 에폭시 수지(A) 중의 전체 염소량은 그대로 인 함유 에폭시 수지에 잔존하기 때문에 경화물의 전기적 신뢰성을 현저히 저하시키기 때문에, 전체 염소량에 대해서도 고순도화가 필요해진다. 원료 에폭시 수지(A)의 전체 염소량은 0.4 중량% 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.2 중량% 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.1 중량% 이하이다. 알코올성 수산기 유래의 글리시딜에테르화의 경우는, 전체 염소량이 1 중량% 이상인 경우가 대부분이기 때문에, 고도의 정제반응이나 증류조작 또는 추출조작에 의해 전체 염소량을 줄일 필요가 있다. 그들 방법은 특별히 규정되는 것이 아니라, 현재 고안되어 있는 다양한 방법을 사용할 수 있다. In addition, in order to reduce the residual hydroxyl group concentration, if the reactivity is increased by adding a catalyst or the like, the side reaction is increased in parallel and high concentration of the total chlorine contained is caused. Since the total amount of chlorine in the raw material epoxy resin (A) remains in the phosphorus-containing epoxy resin, the electrical reliability of the cured product is remarkably lowered, so that the purity of the total chlorine is also required to be high. The total chlorine content of the raw material epoxy resin (A) is preferably 0.4% by weight or less, more preferably 0.2% by weight or less, and still more preferably 0.1% by weight or less. In the case of glycidyl etherification derived from an alcoholic hydroxyl group, most of the total chlorine content is 1% by weight or more. Therefore, it is necessary to reduce the total chlorine amount by a high purification reaction, distillation operation or extraction operation. These methods are not specifically defined, but various methods currently in use can be used.

또한, 원료 에폭시 수지(A) 중의 α디올 함유량도 잔존 수산기농도와 마찬가지로 인화합물과의 반응에 관여하지 않고 그대로 잔존하여, 인 함유 에폭시 수지의 말단기 순도를 저하시키기 때문에, 원료 에폭시 수지(A) 중의 α디올 함유량의 증가는 그대로 인 함유 에폭시 수지 조성물의 흡습성을 증대시켜, 산 무수물 경화제나 마이크로캡슐형 잠재 경화제에 대해 저장 안정성 저하의 원인이 된다. 또한, 경화물의 강도나 내열성의 저하 등의 경화물 물성의 악화의 요인이 되기 때문에, 원료 에폭시 수지(A)의 α디올 함유량의 저하가 필요해진다. 그 때문에, 에폭시 수지(A)의 α디올 함유량은 10 meq/100 g 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 meq/100 g 이하이며, 더욱 바람직하게는 3 meq/100 g 이하이다.Further, the? -Diol content in the raw epoxy resin (A) remains unchanged as it is in the reaction with the phosphorus compound in the same manner as the residual hydroxyl concentration, thereby lowering the terminal purity of the phosphorus containing epoxy resin. The increase in the content of the? -Diol in the epoxy resin composition increases the hygroscopicity of the phosphorus-containing epoxy resin composition and causes a decrease in the storage stability of the acid anhydride curing agent or the microcapsule type latent curing agent. Further, since the strength of the cured product and deterioration of the properties of the cured product such as deterioration of the heat resistance are deteriorated, the content of the? -Diol in the raw material epoxy resin (A) is required to be lowered. Therefore, the alpha -diol content of the epoxy resin (A) is preferably 10 meq / 100 g or less, more preferably 5 meq / 100 g or less, and further preferably 3 meq / 100 g or less.

또한, 화학식 4로 나타내어지는 에폭시 수지(a3)의 경우는, 잔존 수산기농도나 α디올 함유량이 높으면, 전술한 이유 외에, 3관능 이상의 에폭시 수지가 아닌 시클로헥산 고리를 갖지 않는 2관능 에폭시 수지가 많아지기 때문에, 난연성의 저하가 일어나 바람직하지 않다. In the case of the epoxy resin (a3) represented by the general formula (4), if the residual hydroxyl group concentration or the? -Diol content is high, there are many bifunctional epoxy resins which do not have a cyclohexane ring The flame retardancy deteriorates, which is undesirable.

유기 인화합물과 반응시키는 화학식 1로 표시되는 에폭시 수지(a1)는, 방향족 고리를 하나 이상 함유하고, 또한 -O-CH2-R1-CH2-O- 구조는 필수이다. 방향족 고리는 인 함유 에폭시 수지의 난연성의 향상에 도움이 되고, -O-CH2-R1-CH2-O- 구조는 인 함유 에폭시 수지의 저점도화에 유효하다. -O-CH2-R1-CH2-O- 구조를 갖지 않는 방향족계 에폭시 수지를 원료로 한 경우, 저점도화가 충분하지 않기 때문에, 에폭시 수지 조성물의 저점도화를 위해, 지방족계 에폭시 수지 등의 반응성 희석제를 다용할 필요가 있어, 난연성을 확보할 수 없다. 또한, 난연성을 확보하려고 지방족계 에폭시 수지의 사용량을 줄이면, 에폭시 수지 조성물의 점도가 현저히 올라가기 때문에, 저점도화에 불리하여, 목적으로 하는 저점도 인 함유 에폭시 수지 조성물이 얻어지지 않는다. 즉, 이 2관능 에폭시 수지(a1)는, 골격 내에 방향족 고리를 하나 이상 함유하고 있는 탄소수 8~33의 2관능의 1급 알코올의 글리시딜에테르화물이다.The epoxy resin (a1) represented by the general formula (1) to be reacted with the organic phosphorus compound contains at least one aromatic ring, and the -O-CH 2 -R 1 -CH 2 -O- structure is essential. The aromatic ring helps improve the flame retardancy of the phosphorus-containing epoxy resin, and the -O-CH 2 -R 1 -CH 2 -O- structure is effective for lowering the viscosity of the phosphorus-containing epoxy resin. When an aromatic epoxy resin having no -O-CH 2 -R 1 -CH 2 -O- structure is used as a starting material, low viscosity is not sufficient. Therefore, in order to lower the viscosity of the epoxy resin composition, an aliphatic epoxy resin It is necessary to use a reactive diluting agent of a large amount, and flame retardancy can not be ensured. In addition, when the amount of the aliphatic epoxy resin used is reduced to secure the flame retardancy, the viscosity of the epoxy resin composition remarkably increases, so that it is disadvantageous to low viscosity and the intended epoxy resin composition having a low viscosity is not obtained. That is, the bifunctional epoxy resin (a1) is a glycidyl etherified product of bifunctional primary alcohols having 8 to 33 carbon atoms and containing at least one aromatic ring in the skeleton.

 화학식 1로 표시되는 2관능 에폭시 수지(a1)의 화학식 중의 R1의 구체적인 예를 화학식 7군에 나타내었다. 또한, R1은 화학식 7군의 이성체여도 되고, 치환기를 가져도 된다. 또한, R1은 이들이 단일이어도 되고, 2종류 이상이어도 된다. A specific example of R 1 in the formula of the bifunctional epoxy resin (a1) represented by the general formula (1) is shown in the general formula (7). R 1 may be an isomer of the group of the formula (7) or may have a substituent. R 1 may be a single R 1 or two or more R 1 s .

Figure 112012060141481-pct00007
Figure 112012060141481-pct00007

Figure 112012060141481-pct00008
Figure 112012060141481-pct00008

Figure 112012060141481-pct00009
Figure 112012060141481-pct00009

Figure 112012060141481-pct00010
Figure 112012060141481-pct00010

Figure 112012060141481-pct00011
Figure 112012060141481-pct00011

Figure 112012060141481-pct00012
Figure 112012060141481-pct00012

Figure 112012060141481-pct00013
Figure 112012060141481-pct00013

Figure 112012060141481-pct00014
Figure 112012060141481-pct00014

Figure 112012060141481-pct00015
Figure 112012060141481-pct00015

Figure 112012060141481-pct00016
Figure 112012060141481-pct00016

Figure 112012060141481-pct00017
Figure 112012060141481-pct00017

화학식 중 j는 각각 독립적으로, 0 또는 1의 정수를 나타낸다.Each j in the formulas independently represents an integer of 0 or 1.

Figure 112012060141481-pct00018
Figure 112012060141481-pct00018

화학식 중 j는 각각 독립적으로, 0 또는 1의 정수를 나타낸다.Each j in the formulas independently represents an integer of 0 or 1.

Figure 112012060141481-pct00019
Figure 112012060141481-pct00019

Figure 112012060141481-pct00020
Figure 112012060141481-pct00020

Figure 112012060141481-pct00021
Figure 112012060141481-pct00021

Figure 112012060141481-pct00022
Figure 112012060141481-pct00022

화학식 1로 표시되는 2관능 에폭시 수지(a1) 중에서는, 화학식 8로 나타내어지는 파라크실렌글리콜의 글리시딜에테르화물이나 화학식 9로 나타내어지는 옥시메틸렌비페닐의 글리시딜에테르화물이 바람직하다.Among the bifunctional epoxy resin (a1) represented by the general formula (1), the glycidyl etherified product of the para-xylene glycol represented by the general formula (8) and the glycidyl ether compound of the oxymethylene biphenyl represented by the general formula (9) are preferable.

Figure 112012060141481-pct00023
Figure 112012060141481-pct00023

Figure 112012060141481-pct00024
Figure 112012060141481-pct00024

 유기 인화합물과 반응시키는 화학식 3으로 표시되는 2관능 에폭시 수지(a2)는, 시클로헥산 고리를 하나 이상 함유하는 것이 필수이다. 시클로헥산 고리는 인 함유 에폭시 수지의 난연성의 향상에 도움이 되고, 시클로헥산 고리를 갖지 않는 지방족계 에폭시 수지의 경우는 난연성을 확보할 수 없다. 즉, 이 2관능 에폭시 수지(a2)는, 골격 내에 시클로헥산 고리를 하나 이상 함유하고 있는 탄소수 6~17의 2관능의 지방족계 1급 알코올의 글리시딜에테르화물이다.The bifunctional epoxy resin (a2) represented by the general formula (3) to be reacted with the organic phosphorus compound is required to contain at least one cyclohexane ring. The cyclohexane ring helps improve the flame retardancy of the phosphorus-containing epoxy resin, and in the case of the aliphatic epoxy resin having no cyclohexane ring, the flame retardancy can not be secured. That is, the bifunctional epoxy resin (a2) is a glycidyl etherified product of a bifunctional aliphatic primary alcohol having 6 to 17 carbon atoms and containing at least one cyclohexane ring in its skeleton.

화학식 3으로 표시되는 2관능 에폭시 수지(a2)의 화학식 중의 R2의 구체적인 예를 화학식 10군에 나타내었다. 또한, R2는 화학식 10군의 이성체여도 되고, 치환기를 가져도 된다. 또한, R2는 이들이 단일이어도 되고, 2종류 이상이어도 된다. A specific example of R 2 in the formula of the bifunctional epoxy resin (a2) represented by the general formula (3) is shown in the general formula (10). R 2 may be an isomer of the group of the formula (10) or may have a substituent. R 2 may be a single R 2 or two or more R 2 s .

Figure 112012060141481-pct00025
Figure 112012060141481-pct00025

Figure 112012060141481-pct00026
Figure 112012060141481-pct00026

Figure 112012060141481-pct00027
Figure 112012060141481-pct00027

Figure 112012060141481-pct00028
Figure 112012060141481-pct00028

Figure 112012060141481-pct00029
Figure 112012060141481-pct00029

Figure 112012060141481-pct00030
Figure 112012060141481-pct00030

Figure 112012060141481-pct00031
Figure 112012060141481-pct00031

Figure 112012060141481-pct00032
Figure 112012060141481-pct00032

Figure 112012060141481-pct00033
Figure 112012060141481-pct00033

Figure 112012060141481-pct00034
Figure 112012060141481-pct00034

Figure 112012060141481-pct00035
Figure 112012060141481-pct00035

Figure 112012060141481-pct00036
Figure 112012060141481-pct00036

화학식 3으로 표시되는 2관능 에폭시 수지(a2) 중에서는, 화학식 11로 나타내어지는 시클로헥산디메탄올의 글리시딜에테르화물이나 화학식 12로 나타내어지는 수소화 비스페놀 A의 글리시딜에테르화물이 바람직하다. Among the bifunctional epoxy resin (a2) represented by the general formula (3), the glycidyl etherified product of cyclohexanedimethanol represented by the general formula (11) and the glycidyl etherified product of the hydrogenated bisphenol A represented by the general formula (12) are preferable.

Figure 112012060141481-pct00037
Figure 112012060141481-pct00037

Figure 112012060141481-pct00038
Figure 112012060141481-pct00038

유기 인화합물과 반응시키는 화학식 4로 표시되는 다관능 에폭시 수지(a3)는, 탄소수 1~4의 지방쇄를 가진 3관능 에폭시 수지 또는 4관능 에폭시 수지이다. 시클로헥산 고리를 함유하지 않는 지방족 에폭시 수지의 경우는, 화학식 4로 표시되는 다관능 에폭시 수지 이외의 지방족계 에폭시 수지의 경우는 난연성을 확보할 수 없다.The polyfunctional epoxy resin (a3) represented by the formula (4) to be reacted with the organic phosphorus compound is a trifunctional epoxy resin or a tetrafunctional epoxy resin having a fat chain of 1 to 4 carbon atoms. In the case of an aliphatic epoxy resin not containing a cyclohexane ring, the flame retardancy can not be secured in the case of an aliphatic epoxy resin other than the polyfunctional epoxy resin represented by the general formula (4).

화학식 4로 표시되는 다관능 에폭시 수지(a3) 중에서는, 화학식 13으로 나타내어지는 트리메틸올프로판의 글리시딜에테르화물이 바람직하다.Among the polyfunctional epoxy resins (a3) represented by the general formula (4), glycidyl ether compounds of trimethylolpropane represented by the general formula (13) are preferable.

Figure 112012060141481-pct00039
Figure 112012060141481-pct00039

또한, 에폭시 수지(A)와 반응시키는 유기 인화합물(B)은, 화학식 5로 나타내어지는 유기 인화합물(b1)과 화학식 6으로 나타내어지는 유기 인화합물(b2)이다.The organic phosphorus compound (B) to be reacted with the epoxy resin (A) is an organic phosphorus compound (b1) represented by the formula (5) and an organic phosphorus compound (b2) represented by the formula (6).

화학식 5로 나타내어지는 유기 인화합물(b1)은 활성수소를 2개 갖는 유기 인화합물로, 화학식 중의 R5, R6는 수소 또는 탄화수소기를 나타내고, 각각은 상이해도 되고 동일해도 되며, 직쇄상, 분지쇄상, 환상이어도 되고, 또한, R5와 R6가 결합하여 환상 구조로 되어도 되는 것이다. R5, R6의 구체적인 예로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1-메틸부틸기, 1-메틸헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 도데실기, 운데실기, 벤질기, 페닐기, 톨루일기, 크실릴기 등을 들 수 있다. 또한, R5와 R6가 결합하여 환상 구조를 형성하고 있는 것의 예로서는, 예를 들면, 테트라메틸렌, 시클로펜틸렌, 시클로헥실렌, 시클로부틸렌, 시클로옥틸렌, 시클로데실렌, 노르보르닐렌기, 비페닐렌기 등을 들 수 있다. Ar은 아릴렌기이고, 구체적인 예로서는, 페닐렌기, 톨루일렌기, 크실릴렌기, 나프틸렌기, 비페닐렌기 등을 들 수 있다. 또한, n의 수는 0 또는 1이다.The organic phosphorus compound (b1) represented by the general formula (5) is an organic phosphorus compound having two active hydrogens, wherein R 5 and R 6 in the formula represent hydrogen or a hydrocarbon group, and each may be the same or different, R 5 and R 6 may combine with each other to form a cyclic structure. Specific examples of R 5 and R 6 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert- an octyl group, a nonyl group, a dodecyl group, an undecyl group, a benzyl group, a phenyl group, a toluyl group, a xylyl group and the like can be given. Examples of R 5 and R 6 which combine to form a cyclic structure include, for example, tetramethylene, cyclopentylene, cyclohexylene, cyclobutylene, cyclooctylene, cyclodecylene, norbornylene , Biphenylene group and the like. Ar is an arylene group, and specific examples thereof include a phenylene group, a toluylene group, a xylylene group, a naphthylene group and a biphenylene group. In addition, the number of n is 0 or 1.

이들의 유기 인화합물(b1)은 화학식 6의 유기 인화합물(b2)과 단환 또는 다환 퀴논화합물의 반응에 의해 용이하게 얻어진다(특허문헌 6). 본 발명에 사용되는 바람직한 유기 인화합물로서는, 화학식 14로 표시되는 유기 인화합물인 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스포페난트렌-10-옥사이드(이하, DOPO로 약기한다)와 1,4-벤조퀴논의 부가 반응물인 화학식 15로 나타내어지는 인 함유 화합물(이하, DOPO-HQ로 약기한다) 또는, DOPO와 1,4-나프토퀴논의 부가 반응물인 화학식 16으로 나타내어지는 유기 인화합물(이하, DOPO-NQ로 약기한다)을 들 수 있다.These organophosphorus compounds (b1) can be easily obtained by reacting the organophosphorus compound (b2) of the formula (6) with a monocyclic or polycyclic quinone compound (Patent Document 6). Preferred examples of the organic phosphorus compound used in the present invention include 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphophenanthrene-10-oxide (hereinafter abbreviated as DOPO) (Hereinafter abbreviated as DOPO-HQ) represented by the general formula (15), which is an addition product of 1,4-benzoquinone, or an organic phosphorus compound represented by the general formula (16) which is an addition product of DOPO and 1,4- (Hereinafter abbreviated as DOPO-NQ).

Figure 112012060141481-pct00040
Figure 112012060141481-pct00040

Figure 112012060141481-pct00041
Figure 112012060141481-pct00041

Figure 112012060141481-pct00042
Figure 112012060141481-pct00042

DOPO는, 상품명「HCA」(산코 가부시키가이샤 제조)로서 입수할 수 있고, DOPO-HQ는, 상품명「HCA-HQ」(산코 가부시키가이샤 제조)로서 입수할 수 있다. DOPO can be obtained as a trade name "HCA" (manufactured by Sankyo), and DOPO-HQ can be obtained as "HCA-HQ" (manufactured by Sanko K.K.).

화학식 6으로 표시되는 유기 인화합물(b2)은 활성수소를 1개 갖는 유기 인화합물로, 화학식 중의 R7, R8은 수소 또는 탄화수소기를 나타내고, 각각은 상이해도 되고 동일해도 되며, 직쇄상, 분지쇄상, 환상이어도 되고, 또한, R7과 R8이 결합하여 환상 구조로 되어도 되는 것이다. R7, R8의 구체적인 예로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1-메틸부틸기, 1-메틸헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 도데실기, 운데실기, 벤질기, 페닐기, 톨루일기, 크실릴기 등을 들 수 있다. 또한, R7과 R8이 결합하여 환상 구조를 형성하고 있는 것의 예로서는, 예를 들면, 테트라메틸렌, 시클로펜틸렌, 시클로헥실렌, 시클로헵틸렌, 시클로옥틸렌, 시클로데실렌, 노르보르닐렌기, 비페닐렌기 등을 들 수 있다. 또한, m의 수는 0 또는 1이다. 이들 중에서는, 화학식 14로 표시되는 DOPO가 바람직하다.Organophosphorus compounds (b2) represented by the formula (6) is an active hydrogen in the organic phosphorus compound 1 having, R 7, R 8 in the formula represents hydrogen or a hydrocarbon group, each of which will be the same or different, a straight chain, branched Chain or cyclic structure, or R 7 and R 8 may combine to form a cyclic structure. Specific examples of R 7 and R 8 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, an octyl group, a nonyl group, a dodecyl group, an undecyl group, a benzyl group, a phenyl group, a toluyl group, a xylyl group and the like can be given. Examples of R 7 and R 8 bonded to form a cyclic structure include, for example, tetramethylene, cyclopentylene, cyclohexylene, cycloheptylene, cyclooctylene, cyclodecylene, norbornylene , Biphenylene group and the like. Also, the number of m is 0 or 1. Of these, DOPO represented by the general formula (14) is preferable.

본 발명의 인 함유 에폭시 수지를 얻기 위해 사용하는 유기 인화합물 중에 있어서, 화학식 5로 나타내어지는 유기 인화합물(b1)과 화학식 6으로 나타내어지는 유기 인화합물(b2)의 (b1)/(b2)의 중량비는, 50/50~100/0이고, 바람직하게는 65/35~100/0이며, 보다 바람직하게는 80/20~100/0이고, 더욱 바람직하게는 90/10~100/0이다. (b1)/(b2)의 중량비=0/100~50/50 미만이면 인 함유율의 조정이 용이하기 때문에 난연성의 향상이나 점도 저하에 효과가 있으나, 화학식 6으로 나타내어지는 1관능의 유기 인화합물(b2)과 에폭시기의 반응이 많이 일어나, 1관능 이하 에폭시 수지가 많이 생성되어 전체 에폭시기 수가 저하되기 때문에, 반응성이 크게 저하된다. 또한, 얻어지는 경화물의 접착성의 저하나 내열성의 저하나 내습성의 저하가 일어나, 전기 절연 신뢰성이 현저히 저하된다. (b1)/(b2)의 중량비=50/50~100/0의 범위라면, 충분한 반응성을 확보할 수 있기 때문에 경화물의 물성 저하는 없다. 화학식 5로 나타내어지는 유기 인화합물(b1)을 다용하면 분자량이 증가하여 접착성을 대폭 향상할 수 있고, 화학식 6으로 나타내어지는 유기 인화합물(b2)을 다용하면 인 함유율의 조정이 용이해지기 때문에, 목적으로 하는 특성에 따라 사용량을 조정할 필요가 있다. (b1)/(b2)의 중량비=50/50~100/0의 범위 내에서, 보다 난연성을 요구하는 경우는 유기 인화합물(b2)의 사용비율을 늘리고, 보다 접착성을 필요로 하는 경우는 유기 인화합물(b1)의 사용비율을 늘리면 된다. (B1) / (b2) of the organic phosphorus compound (b1) represented by the general formula (5) and the organic phosphorus compound (b2) represented by the general formula (6) among the organic phosphorus compounds used for obtaining the phosphorus- The weight ratio is 50/50 to 100/0, preferably 65/35 to 100/0, more preferably 80/20 to 100/0, further preferably 90/10 to 100/0. (b1) / (b2) is less than 0/100 to 50/50, the phosphorus content can be easily adjusted. Therefore, it is effective in improving the flame retardancy and lowering the viscosity. However, the monofunctional organic phosphorus compound b2) and the epoxy group are frequently reacted with each other, and a large amount of epoxy resin having less than one functional group is generated to lower the total epoxy number, so that the reactivity is significantly lowered. In addition, the adhesiveness of the resulting cured product is reduced, the heat resistance is lowered and the moisture resistance is lowered, and the electrical insulation reliability is remarkably lowered. If the weight ratio of (b1) / (b2) is in the range of 50/50 to 100/0, sufficient reactivity can be ensured and the physical properties of the cured product are not deteriorated. When the organic phosphorus compound (b1) represented by the general formula (5) is used in a large amount, the molecular weight can be increased and the adhesiveness can be greatly improved. The use of the organic phosphorus compound (b2) , It is necessary to adjust the usage amount according to the intended characteristics. When the flame retardancy is required within the range of the weight ratio of (b1) / (b2) = 50/50 to 100/0, the use ratio of the organic phosphorus compound (b2) is increased, The use ratio of the organic phosphorus compound (b1) may be increased.

유기 인화합물은, 사전에 합성해 둔 화학식 5로 나타내어지는 유기 인화합물(b1)과 화학식 6으로 나타내어지는 유기 인화합물(b2)을 혼합해서 사용해도 되고, 에폭시 수지(A)와의 반응 전에 화학식 6으로 나타내어지는 유기 인화합물(b2)과 퀴논류를 반응시켜서도 된다. 그 경우, 퀴논류는 화학식 6으로 나타내어지는 유기 인화합물(b2) 1몰에 대해, 1몰 미만에서 반응하는 것이 바람직하다. 화학식 6으로 나타내어지는 화합물(b2) 1몰에 대해, 퀴논류를 1몰 이상 사용하면, 얻어지는 인 함유 에폭시 수지 중에, 원료의 퀴논류가 잔존하여, 경화물의 내습성이 악화되기 때문에 바람직하지 않다. The organophosphorus compound may be used by mixing a previously synthesized organophosphorus compound (b1) represented by the general formula (5) and the organophosphorus compound (b2) represented by the general formula (6) May be reacted with an organic phosphorus compound (b2) represented by the general formula In this case, the quinone is preferably reacted at less than 1 mole with respect to 1 mole of the organic phosphorus compound (b2) represented by the formula (6). When 1 mole or more of quinones is used relative to 1 mole of the compound (b2) represented by the general formula (6), the quinones of the raw material remain in the resulting phosphorus-containing epoxy resin, and the moisture resistance of the cured product deteriorates.

본 발명에 사용하는 에폭시 수지류(A)와 유기 인화합물(B)의 반응은 공지의 방법으로 행하는 것이 가능하다. 반응온도로서 100℃~200℃, 보다 바람직하게는 120℃~180℃에서 교반하 행할 수 있다. 반응시간은 에폭시 당량의 측정을 행하여 결정할 수 있다. 측정에는 JIS K-7236의 방법에 의해 측정 가능하다. 에폭시 수지(A)와 유기 인화합물의 반응에 의해 에폭시 당량은 커져 가서, 이론 에폭시 당량과의 비교에 의해 반응 종점을 결정할 수 있다. The reaction of the epoxy resin (A) and the organic phosphorus compound (B) used in the present invention can be carried out by a known method. The reaction may be carried out at a temperature of 100 to 200 ° C, more preferably 120 to 180 ° C. The reaction time can be determined by measuring the epoxy equivalent. The measurement can be performed by the method of JIS K-7236. The epoxy equivalent is increased by the reaction between the epoxy resin (A) and the organic phosphorus compound, and the reaction end point can be determined by comparison with the theoretical epoxy equivalent.

또한, 반응의 속도가 느린 경우, 필요에 따라 촉매를 사용하여 생산성의 개선을 도모할 수 있다. 구체적으로는 벤질디메틸아민 등의 제3급 아민류, 테트라메틸암모늄 클로라이드 등의 제4급 암모늄염류, 트리페닐포스핀, 트리스(2,6-디메톡시페닐)포스핀 등의 포스핀류, 에틸트리페닐포스포늄 브로마이드 등의 포스포늄염류, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸 등의 이미다졸류 등 각종 촉매가 사용 가능하다. 이들 촉매는 단독으로 사용해도 되고 2종류 이상을 병용해도 된다. In addition, when the reaction rate is low, productivity can be improved by using a catalyst as needed. Specific examples thereof include tertiary amines such as benzyldimethylamine, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, phosphines such as triphenylphosphine and tris (2,6-dimethoxyphenyl) phosphine, Phosphonium salts such as phosphonium bromide, and imidazoles such as 2-methylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole. These catalysts may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 제조방법으로 얻어진 인 함유 에폭시 수지의 에폭시 당량은 200 g/eq~600 g/eq가 바람직하다. 에폭시 당량이 200 g/eq 미만인 경우는 접착성이 떨어지고, 600 g/eq를 초과하면 점도가 증대되어, 얻어지는 경화물의 내열성이 크게 손상된다. 이 때문에 에폭시 당량은 200 g/eq~600 g/eq가 바람직하고, 보다 바람직하게는 230 g/eq~550 g/eq이며, 더욱 바람직하게는 250 g/eq~500 g/eq이다.The epoxy equivalent of the phosphorus-containing epoxy resin obtained by the production method of the present invention is preferably 200 g / eq to 600 g / eq. When the epoxy equivalent is less than 200 g / eq, the adhesiveness is poor. When the epoxy equivalent is more than 600 g / eq, the viscosity is increased, and the heat resistance of the resulting cured product is greatly impaired. Therefore, the epoxy equivalent is preferably 200 g / eq to 600 g / eq, more preferably 230 g / eq to 550 g / eq, and still more preferably 250 g / eq to 500 g / eq.

본 발명의 제조방법으로 얻어진 인 함유 에폭시 수지의 인 함유율은, 1 중량%~6 중량%가 바람직하다. 난연성의 관점에서는 인 함유율이 높은 쪽이 바람직하나, 인 함유율이 높아짐에 따라 인 함유 에폭시 수지의 점도의 증대나 에폭시 당량의 증가가 일어나, 얻어지는 경화물의 내열성이 크게 손상된다. 이 때문에 인 함유율은 1 중량%~6 중량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.5 중량%~4 중량%이며, 더욱 바람직하게는 2 중량%~3 중량%이다. The phosphorus content of the phosphorus-containing epoxy resin obtained by the production method of the present invention is preferably 1 wt% to 6 wt%. From the viewpoint of flame retardancy, it is preferable that the phosphorus content is high, but as the phosphorus content increases, the viscosity of the phosphorus-containing epoxy resin increases and the epoxy equivalent increases, and the heat resistance of the resulting cured product is greatly impaired. Therefore, the phosphorus content is preferably 1 wt% to 6 wt%, more preferably 1.5 wt% to 4 wt%, and still more preferably 2 wt% to 3 wt%.

본 발명의 제조방법으로 얻어진 인 함유 에폭시 수지의 전체 염소량은 얻어지는 경화물의 전기적 신뢰성의 저하와 상관이 있어, 증가하면 경화물의 전기적 신뢰성은 저하되고, 적으면 전기적 신뢰성은 향상된다. 허용할 수 있는 경화물의 전기적 신뢰성으로부터 생각할 때, 전체 염소량은 0.2 중량% 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 일반적인 봉지재용 에폭시 수지와 동일하게 0.09 중량% 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.05 중량% 이하이다.The total chlorine content of the phosphorus-containing epoxy resin obtained by the production method of the present invention is correlated with the lowering of the electrical reliability of the resulting cured product, and the electrical reliability of the cured product is lowered when the amount is increased. Considering the electrical reliability of the allowable hardened product, the total chlorine content is preferably 0.2% by weight or less, more preferably 0.09% by weight or less, still more preferably 0.05% by weight or less, as in general epoxy resin for encapsulating material .

본 발명의 제조방법으로 얻어진 인 함유 에폭시 수지의 100℃에 있어서의 용융점도는 바람직하게는 1,000 mPa·s 이하, 보다 바람직하게는 600 mPa·s 이하, 더욱 바람직하게는 300 mPa·s 이하이다. 100℃에 있어서의 용융점도가 1,000 mPa·s를 초과하면 비교적 점도가 낮은 경화제를 사용해도 에폭시 수지 조성물의 점도가 올라가, 실제 작업이 곤란해져, 정상적인 성형물을 얻는 것이 어렵다. The melting point of the phosphorus-containing epoxy resin obtained by the production method of the present invention at 100 캜 is preferably 1,000 mPa s or less, more preferably 600 mPa s or less, and furthermore preferably 300 mPa s or less. If the melt viscosity at 100 ° C is more than 1,000 mPa · s, the viscosity of the epoxy resin composition increases even when a curing agent having a relatively low viscosity is used, which makes it difficult to perform actual work, and it is difficult to obtain a normal molded article.

본 발명 조성물에는 특성을 손상시키지 않는 범위에서 본 발명의 제조방법으로 얻어진 인 함유 에폭시 수지 이외의 에폭시 수지를 배합해도 된다.An epoxy resin other than the phosphorus-containing epoxy resin obtained by the production method of the present invention may be added to the composition of the present invention to such an extent that the properties are not impaired.

본 발명의 에폭시 수지 조성물 중의 전체 에폭시 수지 성분에 대한 인 함유율을 특별히 규정할 필요는 없지만, 난연성의 관점에서는 인 함유율이 높은 쪽이 바람직하고, 저점도화의 관점에서 인 함유율이 낮은 쪽이 바람직하다. 따라서 양쪽을 만족시키기 위해서는, 바람직하게는 0.5 중량%~5 중량%이고, 보다 바람직하게는 1 중량%~4 중량%이며, 더욱 바람직하게는 2 중량%~3 중량%이다.The phosphorus content of the entire epoxy resin component in the epoxy resin composition of the present invention does not need to be specially specified. However, from the viewpoint of flame retardancy, the phosphorus content is preferably high and the phosphorus content is preferably low from the viewpoint of low viscosity. Therefore, it is preferably 0.5% by weight to 5% by weight, more preferably 1% by weight to 4% by weight, and still more preferably 2% by weight to 3% by weight in order to satisfy both requirements.

본 발명의 경화제로서는, 페놀노볼락 수지를 대표로 하는 각종 다가 페놀 수지류나 산 무수물류, 디시안디아민이나 디에틸디아미노디페닐메탄을 대표로 하는 아민류, 히드라지드류, 산성 폴리에스테르류 등의 통상 사용되는 에폭시 수지용 경화제를 사용할 수 있고, 이들의 경화제는 1종류만 사용해도 되고 2종류 이상 사용해도 된다. Examples of the curing agent of the present invention include various polyhydric phenol resins and acid anhydrides typified by phenol novolac resins, amines such as dicyandiamine and diethyldiaminodiphenylmethane, hydrazides, acidic polyesters, etc. May be used. These curing agents may be used either singly or in combinations of two or more.

또한, 본 발명의 에폭시 수지 조성물은 필요에 따라 경화 촉진제를 사용할 수 있다. 경화 촉진제로서는, 포스핀류, 4급 포스포늄염류, 3급 아민류, 4급 암모늄염류, 이미다졸화합물류, 삼불화 붕소 착체류, 3-(3,4-디클로로디페닐)-1,1-디메틸우레아, 3-(4-클로로페닐)-1,1-디메틸우레아, 3-페닐-1,1-디메틸우레아 등을 들 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니다. In the epoxy resin composition of the present invention, a curing accelerator may be used if necessary. Examples of the curing accelerator include phosphines, quaternary phosphonium salts, tertiary amines, quaternary ammonium salts, imidazole compounds, boron trifluoride complexes, 3- (3,4-dichlorodiphenyl) Urea, 3- (4-chlorophenyl) -1,1-dimethylurea, 3-phenyl-1,1-dimethylurea and the like, but are not limited thereto.

이들 경화 촉진제는 병용하는 에폭시 수지, 사용하는 에폭시 수지경화제의 종류, 성형방법, 경화온도, 요구 특성에 따라 다르나, 에폭시 수지 100부에 대해 0.01~20 중량부의 범위가 바람직하고, 더 나아가서는 0.1~10 중량부가 바람직하다.These curing accelerators are preferably in the range of 0.01 to 20 parts by weight, more preferably 0.1 to 20 parts by weight, based on 100 parts of the epoxy resin, depending on the kind of the epoxy resin to be used, the kind of the epoxy resin curing agent used, the molding method, the curing temperature, 10 parts by weight is preferable.

본 발명의 에폭시 수지 조성물은, 필요에 따라 무기 충전제, 유기 충전제를 배합할 수 있다. 충전제의 예로서는, 용융실리카, 결정실리카, 알루미나, 질화규소, 수산화알루미늄, 탈크, 마이카, 탄산칼슘, 규산칼슘, 수산화칼슘, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 황산바륨, 질화붕소, 탄소, 탄소섬유, 유리섬유, 알루미나섬유, 실리카 알루미나섬유, 탄화규소섬유, 폴리에스테르섬유, 셀룰로오스섬유, 아라미드섬유 등을 들 수 있다. 이들 충전제는 에폭시 수지 조성물 중의 1~95 중량%가 바람직하다.The epoxy resin composition of the present invention may optionally contain an inorganic filler and / or an organic filler. Examples of the filler include inorganic fillers such as fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, aluminum hydroxide, talc, mica, calcium carbonate, calcium silicate, calcium hydroxide, magnesium carbonate, barium carbonate, barium sulfate, boron nitride, Fiber, silica alumina fiber, silicon carbide fiber, polyester fiber, cellulose fiber, and aramid fiber. These fillers are preferably 1 to 95% by weight in the epoxy resin composition.

본 발명의 에폭시 수지 조성물은, 추가로 필요에 따라 실란커플링제, 산화방지제, 이형제, 소포제, 유화제, 요변성 부여제, 평활제, 난연제, 안료 등의 각종 첨가제를 배합할 수 있다. 이들 첨가제는 에폭시 수지 조성물 전량 중의 0.01~20 중량%의 범위가 바람직하다.The epoxy resin composition of the present invention may further contain various additives such as a silane coupling agent, an antioxidant, a releasing agent, a defoaming agent, an emulsifier, a thixotropic agent, a smoothing agent, a flame retardant and a pigment. These additives are preferably in the range of 0.01 to 20% by weight in the total amount of the epoxy resin composition.

본 발명의 에폭시 수지 조성물은, 공지의 에폭시 수지 조성물과 동일한 방법에 의해 성형, 경화하여 경화물로 할 수 있다. 성형방법, 경화방법은 공지의 에폭시 수지 조성물과 동일한 방법을 취할 수 있고, 본 발명의 에폭시 수지 조성물 고유의 방법은 불필요하다. The epoxy resin composition of the present invention can be formed into a cured product by molding and curing in the same manner as the known epoxy resin composition. The molding method and the curing method can be carried out in the same manner as the known epoxy resin composition, and a method inherent to the epoxy resin composition of the present invention is unnecessary.

본 발명의 에폭시 수지 경화물은 도막, 접착층, 성형물, 적층물, 필름 등의 형태를 취할 수 있다.The epoxy resin cured product of the present invention may take the form of a coating film, an adhesive layer, a molded product, a laminate, a film and the like.

본 발명의 에폭시 수지 조성물을 사용하여 얻어진 성형물의 평가를 행한 결과, 종래의 저점도 수지 조성물에 비해, 난연성을 가지며 또한 비교적 저수흡수율인 경화물을 얻는 것이 가능하다. 그 에폭시 수지 조성물 및 그의 경화물은, 전자회로 기판에 사용되는 동장(銅張) 적층판의 제조용 수지 조성물이나 전자부품에 사용되는 봉지재, 성형재, 주형재, 접착제, 필름재, 전기 절연 도료용 재료 등으로서 유용한 것을 알 수 있었다. As a result of evaluating a molded article obtained using the epoxy resin composition of the present invention, it is possible to obtain a cured product having flame retardancy and a relatively low water absorption rate as compared with the conventional low viscosity resin composition. The epoxy resin composition and the cured product thereof are used for a resin composition for producing a copper-clad laminate used for an electronic circuit board or a sealing material, a molding material, a mold material, an adhesive, a film material, Materials and the like.

실시예Example

이하, 합성예, 실시예 및 비교예를 토대로, 본 발명을 구체적으로 설명하나, 본 발명의 기술적 범위는 실시예에만 제한되는 것은 아니다. 또한, 실시예와 비교예에 있어서의 각 성분의 배합 부수는, 특별히 언급하지 않는 한 중량부를 나타내는 것이다.Hereinafter, the present invention will be specifically described based on Synthesis Examples, Examples and Comparative Examples, but the technical scope of the present invention is not limited to Examples. Incidentally, the mixing ratio of each component in the examples and comparative examples indicates parts by weight unless otherwise specified.

또한, 본 발명에서는 이하의 분석방법을 사용하였다. In the present invention, the following analysis method was used.

에폭시 당량:JIS K-7236에 기재된 방법. 즉, 시료를 클로로포름 10 mL에 용해하여, 무수초산 20 mL, 20%의 브롬화 테트라에틸암모늄 초산용액 10 mL를 각각 첨가하고, 전위차 적정장치를 사용하여 0.1 mol/L 과염소산 초산 표준액으로 적정을 행하여, 각 시약의 농도와 첨가량 및 적정량으로부터, 에폭시 수지에 포함되는 에폭시 당량을 측정하였다.Epoxy equivalent: the method described in JIS K-7236. Specifically, 20 mL of anhydrous acetic acid and 10 mL of a 20% aqueous solution of tetraethylammonium bromide acetic acid were added to each sample, and the solution was titrated with a 0.1 mol / L perchloric acid acetic acid standard solution using a potentiometric titration apparatus, The epoxy equivalents contained in the epoxy resin were measured from the concentrations, addition amounts and appropriate amounts of each reagent.

전체 염소량:JIS K-7243-3에 기재된 방법. 즉, 시료를 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르 25 mL에 용해하여, 1 mol/L 수산화칼륨의 1,2-프로판디올용액 25 mL를 첨가하고, 핫플레이트 상에서 10분간 가열 환류하에서 반응시킨다. 실온까지 냉각 후, 50 mL의 무수초산을 첨가하고, 전위차 적정장치를 사용하여 0.01 mol/L 질산은용액으로 적정을 행하여, 각 시약의 농도와 첨가량 및 적정량으로부터, 에폭시 수지에 포함되는 전체 염소량을 측정하였다.Total chlorine amount: The method described in JIS K-7243-3. That is, the sample is dissolved in 25 mL of diethylene glycol monobutyl ether, 25 mL of a 1,2-propanediol solution of 1 mol / L potassium hydroxide is added, and the mixture is reacted on a hot plate under heating and refluxing for 10 minutes. After cooling to room temperature, 50 mL of anhydrous acetic acid was added, and the solution was titrated with a 0.01 mol / L silver nitrate solution using a potentiometric titrator. The total amount of chlorine contained in the epoxy resin was measured from the concentration of each reagent, Respectively.

점도:JIS K-7233에 기재된 방법. 즉, 500 mL의 원통 캔에 수지 400 g을 칭량하여 덜어, 25±0.2℃의 항온수조에서 5시간 방치하고 항온으로 하여, 회전 점도계의 로터를 수지에 침지하여 측정하였다.Viscosity: The method described in JIS K-7233. That is, 400 g of a resin was weighed out in a 500-mL cylindrical can, and the rotor was allowed to stand in a constant temperature water bath at 25 ± 0.2 ° C for 5 hours and immersed in the resin.

연화점:JIS K-7234에 기재된 방법. 즉, 환구법으로, 규정의 고리에 시료를 충전하고, 글리세린욕 중에 수평하게 지지하여, 시료 중앙에 규정의 구(球)를 두고, 5℃/min로 승온하여 측정하였다. Softening point: the method described in JIS K-7234. In other words, the sample was filled in a prescribed ring by a ring method, supported horizontally in a glycerin bath, and heated at a rate of 5 ° C / min with a specified sphere placed at the center of the sample.

수산기농도:에폭시 수지에 포함되는 수산기량에 대해, 당량 이상의 페닐이소시아네이트와, 촉매로서 디부틸주석말레이트를 첨가하고, 수산기와 이소시아네이트를 충분히 반응시킨 후, 사용한 페닐이소시아네이트의 당량에 대해 그 이상의 디부틸아민을 첨가하여 잉여의 페닐이소시아네이트를 소비시키고, 마지막으로 과염소산으로 적정을 행하여, 각 시약의 농도와 첨가량 및 적정량으로부터, 에폭시 수지에 포함되는 수산기농도를 측정하였다.Concentration of hydroxyl group: To the amount of hydroxyl groups contained in the epoxy resin, an equivalent amount of phenyl isocyanate and a dibutyl tin maleate as a catalyst were added to sufficiently react the hydroxyl group and the isocyanate, and then dibutyl Amine was added to consume excess phenyl isocyanate, and finally titration was carried out with perchloric acid. The concentration of hydroxyl groups contained in the epoxy resin was measured from the concentrations, addition amounts and appropriate amounts of the respective reagents.

인 함유율:시료에 황산, 염산, 과염소산을 첨가하여, 가열하고 습식 회화하여, 모든 인원자를 오르토인산으로 하였다. 황산 산성용액 중에서 메타바나딘산염 및 몰리브덴산염을 반응시켜, 생성된 인 바나드 몰리브덴산 착체의 420 nm에 있어서의 흡광도를 측정하여, 사전에 작성한 검량선에 의해 구한 인원자 함유량을 중량%로 나타내, 에폭시 수지에 포함되는 인 함유율을 측정하였다. Phosphorus content: Sulfuric acid, hydrochloric acid and perchloric acid were added to the sample, and the mixture was heated and wet-mixed to make orthophosphoric acid. Metabanadate and molybdate were reacted in an acidic sulfuric acid solution to measure the absorbance at 420 nm of the resulting phosphorus molybdate complex and the content of phosphorus atoms determined by a previously prepared calibration curve in weight% And the content of phosphorus contained in the epoxy resin was measured.

α디올 함유량:JIS K-7146에 기재된 방법. ? -diol content: the method described in JIS K-7146.

즉, 시료에 클로로포름을 첨가하고 용해한 후, 오르토과요오드산용액을 첨가하여 2시간 반응시킨다. 그 후 요오드화칼륨용액을 첨가하여 발생한 요오드를 티오황산나트륨으로 적정을 행하여, 각 시약의 농도와 첨가량 및 적정량으로부터, 에폭시 수지에 포함되는 α디올 함유량을 측정하였다.That is, chloroform is added to the sample and dissolved. Then, ortho-iodic acid solution is added and reacted for 2 hours. Thereafter, potassium iodide solution was added, and iodine generated was titrated with sodium thiosulfate. The amount of alpha -diol contained in the epoxy resin was measured from the concentration of each reagent, the amount of addition, and the appropriate amount.

용융점도:콘플레이트형 점도계(도아 고교 가부시키가이샤 제조, MODEL CV-1S)를 사용하고, 로터는 5 포아즈 콘(Φ:24 ㎜, θ:0.5°)을 사용하여, 100℃의 측정온도에서 측정하였다. Melt viscosity: Using a cone plate type viscometer (MODEL CV-1S, manufactured by Toa Corporation), the rotor was measured at a measurement temperature of 100 占 폚 using 5 poise cone (?: 24 mm,?: Respectively.

난연성:UL(Underwriters Laboratories Inc.) 규격, UL94 수직시험법에 준하여 측정을 행하고, 동 규격의 판정기준인, V-0, V-1, V-2, NG(난연성 없음)의 4 수준으로 판정하였다(뒤가 될수록 난연성이 나쁘다).Flammability: The measurement was carried out in accordance with UL (Underwriters Laboratories Inc.) standard and UL94 vertical test method, and it was judged to be four levels of V-0, V-1, V-2 and NG (no flammability) (The flame retardancy is worse as it goes back).

접착성:JIS C-6481 5.7에 준한 방법. 즉, 프리프레그 1매와 나머지 3매 사이에서 직각방향으로 50 ㎜/min의 속도로 박리를 행하여 측정하였다.Adhesion: The method according to JIS C-6481 5.7. That is, peeling was performed at a rate of 50 mm / min in a perpendicular direction between one prepreg and the other three sheets, and the measurement was carried out.

흡습률:JIS C-6481 5.13에 준한 방법. 즉, 50 ㎜×50 ㎜로 컷트한 시험편을 사용하여, 50℃의 오븐 중에서 24시간 건조한 후의 건조중량을 측정하고, 계속해서 85℃/85%RH로 조정한 처리조 내에 72시간 보관한 후의 중량을 측정하여, 건조중량으로부터의 증가분을 토대로 흡습률을 측정하였다.Moisture absorptivity: The method according to JIS C-6481 5.13. That is, after drying for 24 hours in an oven at 50 占 폚 using a test piece cut into 50 mm 占 50 mm, the dry weight was measured, and then the weight after 72 hours of storage in a treatment tank adjusted to 85 占 폚 / 85% RH And the moisture absorption rate was measured based on the increment from the dry weight.

내열성:IPC-TM-650, 2.4.24.1에 준한 방법. 즉, TMA장치에 의한 박리시간의 측정으로, TMA장치에서 260℃의 일정 온도로 유지하고, 시험편이 사방으로 튀어 변위가 생길 때까지의 시간이 10분 이상이었던 경우를 ○로 하고, 10분 미만이었던 경우를 ×로 하였다. 또한, TMA장치는 에스아이아이·나노테크놀로지 가부시키가이샤 제조 TMA/SS120U를 사용하였다. Heat resistance: Method according to IPC-TM-650, 2.4.24.1. That is, when the peeling time by the TMA apparatus was measured, the sample was held at a constant temperature of 260 占 폚 in the TMA apparatus, and when the time elapsed until the displacement of the test piece occurred in all directions was 10 minutes or longer, Was evaluated as " x ". The TMA apparatus used was TMA / SS120U manufactured by SII Co., Ltd., Nanotechnology.

염소이온:경화물을 분쇄하고, 2 ㎜ 패스, 1 ㎜ 온의 입경으로 맞춘 시료를, 150℃, 20시간의 프레셔 쿠커 테스트를 행한 후, 이온크로마토그래피로 추출수의 염소이온을 측정하여, 경화물 중의 농도로 환산해서 구하였다. Chloride ion: The cured product was pulverized and subjected to a pressure cooker test at 150 캜 for 20 hours at a sample having a particle size of 2 mm pass and 1 mm temperature. Chloride ion of extracted water was measured by ion chromatography, And converted into the concentration in the cargo.

실시예 1.Example 1.

교반장치, 온도계, 질소가스 도입장치, 및 냉각관을 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에, 화학식 1의 2관능 방향족계 에폭시 수지(a1)로서, 에포토토 TX-0929(도토 가세이 가부시키가이샤 제조, 파라크실릴렌글리콜디글리시딜에테르 수지, 에폭시 당량:144 g/eq, 전체 염소:0.11 중량%, 점도:50 mPa·s, 수산기농도:39 meq/100 g, α디올 함유량:2.3 meq/100 g) 547.4 g, 유기 인화합물로서 DOPO-HQ(산코 가부시키가이샤 제조, 상품명:HCA-HQ, 수산기 당량:162 g/eq, 인 함유율:9.5 중량%) 252.6 g을 첨가하고, 맨틀 히터(mantle heater)로 130℃까지 교반하면서 가열하여, 130℃에 도달한 시점에서 촉매로서 트리페닐포스핀(홋코 가가쿠 가부시키가이샤 제조, 제품명:TPP) 0.25 g을 첨가하고, 반응온도를 160℃~165℃로 유지하면서 4시간 반응하여, 인 함유 에폭시 수지(E-1) 795 g을 얻었다. 얻어진 인 함유 에폭시 수지(E-1)의 성상을 표 1에 나타낸다.In a four-glass separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen gas introducing device, and a cooling tube, Epototo TX-0929 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was used as the bifunctional aromatic epoxy resin Epoxy equivalent: 144 g / eq, total chlorine: 0.11 wt%, viscosity: 50 mPa 揃 s, hydroxyl group concentration: 39 meq / 100 g, α-diol content: 2.3 and 252.6 g of DOPO-HQ (trade name: HCA-HQ, hydroxyl group equivalent: 162 g / eq, phosphorus content: 9.5 wt%) was added as an organophosphorous compound to the mantle After heating to 130 ° C with a mantle heater, the mixture was heated to 130 ° C, and 0.25 g of triphenylphosphine (product name: TPP, manufactured by Hokko Chemical Co., Ltd.) was added as a catalyst and the reaction temperature was adjusted to 160 And the reaction was carried out for 4 hours while maintaining the temperature at < RTI ID = 0.0 > 165 C < / RTI > to obtain 795 g of the phosphorus-containing epoxy resin (E-1) . Table 1 shows properties of the obtained phosphorus-containing epoxy resin (E-1).

실시예 2.Example 2.

교반장치, 온도계, 질소가스 도입장치, 및 냉각관을 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에, 화학식 1의 2관능 방향족계 에폭시 수지(a1)로서, 에포토토 TX-0929(전술) 602.5 g, 유기 인화합물로서 DOPO-NQ(9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥시드의 1,4-나프토퀴논 부가물, 수산기 당량:187 g/eq, 인 함유량:8.1 중량%) 197.5 g을 첨가하고, 맨틀 히터로 130℃까지 교반하면서 가열하여, 130℃에 도달한 시점에서 촉매로서 2에틸4메틸이미다졸(시코쿠 가세이 가부시키가이샤 제조, 제품명:2E4MZ) 0.05 g을 첨가하고, 반응온도를 160℃~165℃로 유지하면서 4시간 반응하여, 인 함유 에폭시 수지(E-2) 795 g을 얻었다. 얻어진 인 함유 에폭시 수지(E-2)의 성상을 표 1에 나타낸다.In a four-glass separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen gas introducing device and a cooling tube, 602.5 g of Eptotor TX-0929 (described above) as the bifunctional aromatic epoxy resin (a1) As the organic phosphorus compound, DOPO-NQ (1,4-naphthoquinone adduct of 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, hydroxyl equivalent of 187 g / 197.5 g) was added and heated to 130 캜 with stirring in a mantle heater. When the temperature reached 130 캜, 2 ethyl 4 methylimidazole (product name: 2E4MZ (trade name, manufactured by Shikoku Kasei Kabushiki Kaisha) ) Was added and reacted for 4 hours while maintaining the reaction temperature at 160 ° C to 165 ° C to obtain 795 g of phosphorus-containing epoxy resin (E-2). Table 1 shows properties of the obtained phosphorus-containing epoxy resin (E-2).

실시예 3.Example 3.

교반장치, 온도계, 질소가스 도입장치, 및 냉각관을 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에, 화학식 1의 2관능 방향족계 에폭시 수지(a1)로서, 에포토토 TX-0934(도토 가세이 가부시키가이샤 제조, 옥시메틸렌비페닐디글리시딜에테르 수지, 에폭시 당량:184 g/eq, 전체 염소:0.11 중량%, 점도:200 mPa·s, 수산기농도:63 meq/100 g, α디올 함유량:2.5 meq/100 g) 608.7 g, 유기 인화합물로서 DOPO-NQ(전술) 116.3 g과 DOPO(산코 가부시키가이샤 제조, 상품명:HCA, 인 함유율:14.2 중량%) 75.0 g을 첨가하고, 맨틀 히터로 130℃까지 교반하면서 가열하여, 130℃에 도달한 시점에서 촉매로서 트리페닐포스핀(전술) 0.19 g을 첨가하고, 반응온도를 160℃~165℃로 유지하면서 4시간 반응하여, 인 함유 에폭시 수지(E-3) 795 g을 얻었다. 얻어진 인 함유 에폭시 수지(E-3)의 성상을 표 1에 나타낸다.To a four-necked glass separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen gas introducing device, and a condenser tube was charged 80 parts by mass of Epototo TX-0934 (trade name: Epoxy equivalent: 184 g / eq, total chlorine: 0.11 wt%, viscosity: 200 mPa 揃 s, hydroxyl group concentration: 63 meq / 100 g, α-diol content: 2.5 meq / 100 g) and 116.3 g of DOPO-NQ (tactic) as an organic phosphorus compound and 75.0 g of DOPO (trade name: HCA, phosphorus content: 14.2% by weight) , 0.19 g of triphenylphosphine (as a catalyst) was added as a catalyst at the time when the temperature reached 130 占 폚, and the reaction was carried out for 4 hours while maintaining the reaction temperature at 160 占 폚 to 165 占 폚 to obtain a phosphorus-containing epoxy resin (E -3). Table 1 shows properties of the obtained phosphorus-containing epoxy resin (E-3).

실시예 4.Example 4.

교반장치, 온도계, 냉각관, 질소가스 도입장치를 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에, 유기 인화합물로서 DOPO(전술) 182.0 g과 톨루엔 420 g을 첨가하고, 질소 분위기하에서 교반하면서 가열하여 완전히 용해하였다. 그 후, 퀴논류로서 1,4-나프토퀴논(가와사키 가세이 가부시키가이샤 제조, 3% 함수품) 56.7 g을 반응열에 의한 승온에 주의하면서 분할 투입하였다. 이때의 1,4-나프토퀴논과 DOPO의 몰비는 1,4-나프토퀴논/DOPO=0.41이었다. 가열반응 후, 화학식 1의 2관능 방향족계 에폭시 수지(a1)로서, 에포토토 TX-0917(도토 가세이 가부시키가이샤 제조, 화학식 1의 R1이 화학식(7-12)의 화합물, 에폭시 당량:173 g/eq, 전체 염소:0.10 중량%, 점도:46 mPa·s, 수산기농도:72 meq/100 g, α디올 함유량:2.8 meq/100 g) 563.0 g을 첨가하여, 질소가스를 도입하면서 교반을 행하고, 130℃까지 가열을 행하여 톨루엔을 계외로 제거하였다. 그 후 촉매로서 트리페닐포스핀(전술)을 0.24 g 첨가하고, 반응온도를 160℃~165℃로 유지하면서 4시간 반응하여, 인 함유 에폭시 수지(E-4) 790 g을 얻었다. 얻어진 인 함유 에폭시 수지(E-4)의 성상을 표 1에 나타낸다.182.0 g of DOPO (as described above) as an organic phosphorus compound and 420 g of toluene were added to four separable glass separable flasks equipped with a stirrer, a thermometer, a cooling tube and a nitrogen gas introducing device and heated under stirring in nitrogen atmosphere to completely dissolve Respectively. Thereafter, 56.7 g of 1,4-naphthoquinone (3% functional product, manufactured by Kawasaki Kasei K.K.) as a quinone was added in portions while paying attention to the temperature rise by the reaction heat. The molar ratio of 1,4-naphthoquinone to DOPO was 1,4-naphthoquinone / DOPO = 0.41. After the heating reaction, Epototo TX-0917 (manufactured by Tokto Chemical Co., Ltd., R 1 of formula ( 1 ) is a compound of formula (7-12), epoxy equivalent: 563.0 g) was added to the solution while introducing nitrogen gas, and the solution was agitated while introducing nitrogen gas, and the solution was stirred And heating was performed to 130 DEG C to remove toluene from the system. Thereafter, 0.24 g of triphenylphosphine (the foregoing) was added as a catalyst, and the reaction was carried out for 4 hours while maintaining the reaction temperature at 160 ° C to 165 ° C to obtain 790 g of phosphorus-containing epoxy resin (E-4). Table 1 shows properties of the obtained phosphorus-containing epoxy resin (E-4).

실시예 5.Example 5.

교반장치, 온도계, 질소가스 도입장치, 및 냉각관을 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에, 화학식 3의 2관능 지방족계 에폭시 수지(a2)로서, 에포토토 ZX-1658(도토 가세이 가부시키가이샤 제조, 시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르 수지, 에폭시 당량:140 g/eq, 전체 염소:0.075 중량%, 점도:45 mPa·s, 수산기농도:19 meq/100 g, α디올 함유량:2.8 meq/100 g) 547.4 g, 유기 인화합물로서 DOPO-HQ(전술) 252.6 g을 첨가하고, 맨틀 히터로 130℃까지 교반하면서 가열하여, 130℃에 도달한 시점에서 1시간 온도를 유지한 후, 촉매로서 트리페닐포스핀(전술) 0.25 g을 첨가하고, 반응온도를 160℃~165℃로 유지하면서 4시간 반응하여, 인 함유 에폭시 수지(E-5) 795 g을 얻었다. 얻어진 인 함유 에폭시 수지(E-5)의 성상을 표 1에 나타낸다.165 g (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was added as a bifunctional aliphatic epoxy resin (a2) of formula (3) to four separable glass flasks equipped with a stirrer, a thermometer, A cyclohexanedimethanol diglycidyl ether resin, an epoxy equivalent of 140 g / eq, a total chlorine of 0.075 wt%, a viscosity of 45 mPa s, a hydroxyl group concentration of 19 meq / 100 g, an alpha -diol content of 2.8 meq / 100 g) and 252.6 g of DOPO-HQ (described above) as an organophosphorus compound were added and heated with stirring to 130 DEG C with a mantle heater. After the temperature was maintained at 130 DEG C for 1 hour, , 0.25 g of triphenylphosphine (tactical) was added, and the reaction was carried out for 4 hours while maintaining the reaction temperature at 160 ° C to 165 ° C to obtain 795 g of phosphorus-containing epoxy resin (E-5). Table 1 shows properties of the obtained phosphorus-containing epoxy resin (E-5).

실시예 6.Example 6.

교반장치, 온도계, 질소가스 도입장치, 및 냉각관을 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에, 화학식 3의 2관능 지방족계 에폭시 수지(a2)로서, HBPADGE(마루젠 세키유 가가쿠 가부시키가이샤 제조, 수소화비스페놀 A형 디글리시딜에테르 수지, 에폭시 당량:210 g/eq, 전체 염소:0.14 중량%, 점도:780 mPa·s, 수산기농도:66 meq/100 g, α디올 함유량:4.6 meq/100 g) 632.0 g, 유기 인화합물로서 DOPO-HQ(전술) 168.0 g을 첨가하고, 맨틀 히터로 130℃까지 교반하면서 가열하여, 130℃에 도달한 시점에서 1시간 온도를 유지한 후, 촉매로서 트리페닐포스핀(전술) 0.17 g을 첨가하고, 반응온도를 160℃~165℃로 유지하면서 4시간 반응하여, 인 함유 에폭시 수지(E-6) 795 g을 얻었다. 얻어진 인 함유 에폭시 수지(E-6)의 성상을 표 1에 나타낸다.In a four-glass separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen gas introducing device and a condenser tube, HBPADGE (manufactured by Maruzen Sekiyu Kagaku Kogyo Co., Ltd.) was used as the bifunctional aliphatic epoxy resin (a2) , Hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether resin, epoxy equivalent: 210 g / eq, total chlorine: 0.14 wt%, viscosity: 780 mPa 揃 s, hydroxyl group concentration: 66 meq / 100 g, 100 g) and 168.0 g of DOPO-HQ (described above) as an organophosphorus compound were added and heated with stirring to 130 캜 with a mantle heater. After the temperature was maintained at 130 캜 for one hour, 0.17 g of triphenylphosphine (tactic) was added and reacted for 4 hours while maintaining the reaction temperature at 160 to 165 ° C to obtain 795 g of phosphorus-containing epoxy resin (E-6). Table 1 shows properties of the obtained phosphorus-containing epoxy resin (E-6).

실시예 7.Example 7.

교반장치, 온도계, 질소가스 도입장치, 및 냉각관을 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에, 화학식 4의 다관능 지방족계 에폭시 수지(a3)로서, 에포토토 ZX-1542(도토 가세이 가부시키가이샤 제조, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르 수지, 에폭시 당량:118 g/eq, 전체 염소:0.072 중량%, 점도:80 mPa·s, 수산기농도:195 meq/100 g, α디올 함유량:1.4 meq/100 g) 570.0 g, 유기 인화합물로서 DOPO(전술) 50.0 g과 DOPO-HQ(전술) 180.0 g을 첨가하고, 맨틀 히터로 130℃까지 교반하면서 가열하여, 130℃에 도달한 시점에서 촉매로서 트리페닐포스핀(전술) 0.23 g을 첨가하고, 반응온도를 160℃~165℃로 유지하면서 4시간 반응하여, 인 함유 에폭시 수지(E-7) 795 g을 얻었다. 얻어진 인 함유 에폭시 수지(E-7)의 성상을 표 1에 나타낸다.A four-necked glass separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen gas introducing device, and a cooling tube was charged with 80 parts by weight of Epototo ZX-1542 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) as the polyfunctional aliphatic epoxy resin (a3) Trimethylolpropane polyglycidyl ether resin, epoxy equivalent: 118 g / eq, total chlorine: 0.072 weight%, viscosity: 80 mPa.s, hydroxyl group concentration: 195 meq / 100 g, , 50.0 g of DOPO (as described above) and 180.0 g of DOPO-HQ (tactic) as an organophosphorous compound were added and heated with stirring to 130 캜 with a mantle heater. After reaching 130 캜, And 0.23 g of phenylphosphine (described above) were added and reacted for 4 hours while maintaining the reaction temperature at 160 캜 to 165 캜 to obtain 795 g of phosphorus-containing epoxy resin (E-7). Table 1 shows properties of the obtained phosphorus-containing epoxy resin (E-7).

Figure 112012060141481-pct00043
Figure 112012060141481-pct00043

비교예 1.Comparative Example 1

교반장치, 온도계, 질소가스 도입장치, 및 냉각관을 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에, 에폭시 수지로서 에포토토 PG-207GS(도토 가세이 가부시키가이샤 제조, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르 수지, 에폭시 당량:319 g/eq, 전체 염소:0.10 중량%, 점도:45 mPa·s, 수산기농도:88 meq/100 g, α디올 함유량:2.0 meq/100 g) 632.0 g, 유기 인화합물로서 DOPO-HQ(전술) 168.0 g을 첨가하고, 맨틀 히터로 130℃까지 교반하면서 가열하여, 130℃에 도달한 시점에서 촉매로서 트리페닐포스핀(전술) 0.17 g을 첨가하고, 반응온도를 160℃~165℃로 유지하면서 4시간 반응하여, 인 함유 에폭시 수지(E-8) 795 g을 얻었다. 얻어진 인 함유 에폭시 수지(E-8)의 성상을 표 2에 나타낸다.A four-glass separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen gas introducing device and a cooling tube was charged with Epototo PG-207GS (polypropylene glycol diglycidyl ether resin, manufactured by Tokto Kasei Kabushiki Kaisha, , Epoxy equivalent: 319 g / eq, total chlorine: 0.10 wt%, viscosity: 45 mPa 揃 s, hydroxyl group concentration: 88 meq / 100 g, α-diol content: 2.0 meq / 100 g) -HQ (tactical) was added, and the mixture was heated with stirring to 130 캜 with a mantle heater. After reaching 130 캜, 0.17 g of triphenylphosphine (the foregoing) was added as a catalyst, The reaction was conducted for 4 hours while maintaining the temperature at 165 캜 to obtain 795 g of phosphorus-containing epoxy resin (E-8). Table 2 shows properties of the obtained phosphorus-containing epoxy resin (E-8).

비교예 2.Comparative Example 2

교반장치, 온도계, 질소가스 도입장치, 및 냉각관을 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에, 에폭시 수지로서 에포토토 TX-0917(전술) 757.9 g, 유기 인화합물로서 DOPO-HQ(전술) 42.1 g을 첨가하고, 맨틀 히터로 130℃까지 교반하면서 가열하여, 130℃에 도달한 시점에서 촉매로서 트리페닐포스핀(전술) 0.05 g을 첨가하고, 반응온도를 160℃~165℃로 유지하면서 4시간 반응하여, 인 함유 에폭시 수지(E-9) 795 g을 얻었다. 얻어진 인 함유 에폭시 수지(E-9)의 성상을 표 2에 나타낸다.757.9 g of Eptotor TX-0917 (described above) as an epoxy resin, and DOPO-HQ (described above) 42.1 (as a organophosphorous compound) were added to four separable glass separable flasks equipped with a stirrer, a thermometer, g, and heated with stirring to 130 캜 with a mantle heater. When the temperature reached 130 캜, 0.05 g of triphenylphosphine (tactic) was added as a catalyst, and while maintaining the reaction temperature at 160 캜 to 165 캜, 4 The reaction was conducted for a period of time to obtain 795 g of a phosphorus-containing epoxy resin (E-9). Table 2 shows properties of the obtained phosphorus-containing epoxy resin (E-9).

비교예 3.Comparative Example 3

교반장치, 온도계, 질소가스 도입장치, 및 냉각관을 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에, 에폭시 수지로서 에포토토 TX-0917(전술) 480.0 g, 유기 인화합물로서 DOPO(전술) 220.0 g과 DOPO-HQ(전술) 100.0 g을 첨가하고, 맨틀 히터로 130℃까지 교반하면서 가열하여, 130℃에 도달한 시점에서 촉매로서 트리페닐포스핀(전술) 0.32 g을 첨가하고, 반응온도를 160℃~165℃로 유지하면서 4시간 반응하여, 인 함유 에폭시 수지(E-10) 795 g을 얻었다. 얻어진 인 함유 에폭시 수지(E-10)의 성상을 표 2에 나타낸다.480.0 g of Eptotor TX-0917 (as described above) as an epoxy resin, 220.0 g of DOPO (as a tackifying agent) as an organic phosphorus compound, and 200.0 g of an organic phosphorus compound were added to four glass spherical separable flasks equipped with a stirrer, a thermometer, 100.0 g of DOPO-HQ (tactical) was added and heated with stirring to 130 캜 with a mantle heater. When the temperature reached 130 캜, 0.32 g of triphenylphosphine (the foregoing) was added as a catalyst, And reacted for 4 hours while maintaining the temperature at -165 占 폚 to obtain 795 g of a phosphorus-containing epoxy resin (E-10). Table 2 shows properties of the obtained phosphorus-containing epoxy resin (E-10).

비교예 4.Comparative Example 4

교반장치, 온도계, 질소가스 도입장치, 및 냉각관을 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에, 에폭시 수지로서 에포토토 TX-0934(전술) 505.0 g, 유기 인화합물로서 DOPO-HQ(전술) 295.0 g을 첨가하고, 맨틀 히터로 130℃까지 교반하면서 가열하여, 130℃에 도달한 시점에서 촉매로서 트리페닐포스핀(전술) 0.30 g을 첨가하고, 반응온도를 160℃~165℃로 유지하면서 4시간 반응하여, 인 함유 에폭시 수지(E-11) 795 g을 얻었다. 얻어진 인 함유 에폭시 수지(E-11)의 성상을 표 2에 나타낸다.505.0 g of Eptoto TX-0934 (described above) as an epoxy resin, and DOPO-HQ (a tactic) of 295.0 g as an organic phosphorus compound were placed in four glass separable flasks equipped with a stirrer, a thermometer, g, and the mixture was heated with stirring to 130 캜 with a mantle heater. When the temperature reached 130 캜, 0.30 g of triphenylphosphine (the foregoing) was added as a catalyst, and while maintaining the reaction temperature at 160 캜 to 165 캜, And reacted for a time to obtain 795 g of a phosphorus-containing epoxy resin (E-11). Table 2 shows properties of the obtained phosphorus-containing epoxy resin (E-11).

비교예 5.Comparative Example 5

교반장치, 온도계, 냉각관, 질소가스 도입장치를 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에, 유기 인화합물로서 DOPO(전술) 137.6 g과 톨루엔 330 g을 첨가하고, 질소 분위기하에서 교반하면서 가열하여 완전히 용해하였다. 그 후, 퀴논류로서 1,4-나프토퀴논(전술) 31.3 g을 반응열에 의한 승온에 주의하면서 분할 투입하였다. 이때의 1,4-나프토퀴논과 DOPO의 몰비는 1,4-나프토퀴논/DOPO=0.13이었다. 가열반응 후, 에폭시 수지로서, 에포토토 ZX-1659(도토 가세이 가부시키가이샤 제조, 수소화비스페놀 A형 디글리시딜에테르 수지, 에폭시 당량:215 g/eq, 전체 염소:0.45 중량%, 점도:1,500 mPa·s, 수산기농도:230 meq/100 g, α디올 함유량:11 meq/100 g) 632.0 g을 첨가하고, 질소가스를 도입하면서 교반을 행하고, 130℃까지 가열을 행하여 톨루엔을 계외로 제거하였다. 그 후 촉매로서 트리페닐포스핀(전술)을 0.17 g 첨가하고, 반응온도를 160℃~165℃로 유지하면서 4시간 반응하여, 인 함유 에폭시 수지(E-13) 790 g을 얻었다. 얻어진 인 함유 에폭시 수지(E-12)의 성상을 표 2에 나타낸다.137.6 g of DOPO (as described above) as an organic phosphorus compound and 330 g of toluene were added to four spherical glass separable flasks equipped with a stirrer, a thermometer, a cooling tube, and a nitrogen gas introducing device and heated under stirring in nitrogen atmosphere to completely dissolve Respectively. Thereafter, 31.3 g of 1,4-naphthoquinone (described above) as a quinone was added in portions while paying attention to the temperature rise by the reaction heat. At this time, the molar ratio of 1,4-naphthoquinone to DOPO was 1,4-naphthoquinone / DOPO = 0.13. After the heating reaction, Epototo ZX-1659 (hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether resin, epoxy equivalent: 215 g / eq, total chlorine: 0.45% by weight, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, 632.0 g) was added to the flask, and nitrogen gas was introduced into the flask. While the flask was heated to 130 ° C, the toluene was removed to the outside of the system Respectively. Thereafter, 0.17 g of triphenylphosphine (described above) was added as a catalyst, and the reaction was carried out for 4 hours while maintaining the reaction temperature at 160 ° C to 165 ° C to obtain 790 g of phosphorus-containing epoxy resin (E-13). Table 2 shows properties of the obtained phosphorus-containing epoxy resin (E-12).

비교예 6.Comparative Example 6

교반장치, 온도계, 질소가스 도입장치, 및 냉각관을 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에, 에폭시 수지로서 에포토토 ZX-1542(도토 가세이 가부시키가이샤 제조, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르 수지, 에폭시 당량:122 g/eq, 전체 염소:0.065 중량%, 점도:80 mPa·s, 수산기농도:262 meq/100 g, α디올 함유량:1.5 meq/100 g) 570.0 g, 유기 인화합물로서 DOPO(전술) 50.0 g과 DOPO-HQ(전술) 180.0 g을 첨가하고, 맨틀 히터로 130℃까지 교반하면서 가열하여, 130℃에 도달한 시점에서 촉매로서 트리페닐포스핀(전술) 0.23 g을 첨가하고, 반응온도를 160℃~165℃로 유지하면서 4시간 반응하여, 인 함유 에폭시 수지(E-13) 795 g을 얻었다. 얻어진 인 함유 에폭시 수지(E-13)의 성상을 표 2에 나타낸다.A four-glass separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen gas introducing device, and a cooling tube was charged with 1600 g of Epototo ZX-1542 (manufactured by Dotor Kasei K.K., trimethylolpropane polyglycidyl ether resin , Epoxy equivalent: 122 g / eq, total chlorine: 0.065 wt%, viscosity: 80 mPa 揃 s, hydroxyl group concentration: 262 meq / 100 g, α-diol content: 1.5 meq / 100 g) (Tactical) and 180.0 g of DOPO-HQ (tactical) were added and heated with stirring to 130 캜 with a mantle heater. Upon reaching 130 캜, 0.23 g of triphenylphosphine , And reacted for 4 hours while maintaining the reaction temperature at 160 ° C to 165 ° C to obtain 795 g of phosphorus-containing epoxy resin (E-13). Table 2 shows properties of the obtained phosphorus-containing epoxy resin (E-13).

비교예 7.Comparative Example 7

교반장치, 온도계, 질소가스 도입장치, 및 냉각관을 구비한 4구의 유리제 세퍼러블 플라스크에, 에폭시 수지로서, 에포토토 YDF-170(도토 가세이 가부시키가이샤 제조, 비스페놀 F 디글리시딜에테르 수지, 에폭시 당량:168 g/eq, 전체 염소:0.15 중량%, 점도:3,000 mPa·s) 547.4 g, 유기 인화합물로서 DOPO-HQ(전술) 252.6 g을 첨가하고, 맨틀 히터로 130℃까지 교반하면서 가열하여, 130℃에 도달한 시점에서 촉매로서 트리페닐포스핀(전술) 0.25 g을 첨가하고, 반응온도를 160℃~165℃로 유지하면서 4시간 반응하여, 인 함유 에폭시 수지(E-14) 795 g을 얻었다. 얻어진 인 함유 에폭시 수지(E-14)의 성상을 표 2에 나타낸다.A four-glass separable flask equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen gas introducing device, and a cooling tube was charged with 80 parts by weight of Epototo YDF-170 (bisphenol F diglycidyl ether resin, manufactured by Dotagosei Co., , 547.4 g of epoxy equivalent weight: 168 g / eq, total chlorine: 0.15 wt%, viscosity: 3,000 mPa.s), and 252.6 g of DOPO-HQ (the foregoing) as an organic phosphorus compound were added and stirred with a mantle heater (E-14) was obtained by reacting with 0.25 g of triphenylphosphine (described above) as a catalyst at the time of reaching 130 캜 and maintaining the reaction temperature at 160 캜 to 165 캜 for 4 hours, 795 g was obtained. Table 2 shows properties of the obtained phosphorus-containing epoxy resin (E-14).

Figure 112012060141481-pct00044
Figure 112012060141481-pct00044

실시예 8~10, 비교예 8~11Examples 8 to 10 and Comparative Examples 8 to 11

표 3에 나타내는 배합처방에 따라 인 함유 에폭시 수지, 경화제, 경화 촉진제 등을 배합하였다. 인 함유 에폭시 수지를 메틸에틸케톤으로 용해시키고, 사전에 메틸셀로솔브, 디메틸포름아미드에 용해시켜 둔 경화제로서 디시안디아미드(DICY, 활성수소 당량:21.0 g/eq)와 경화 촉진제로서 2에틸4메틸이미다졸(전술)을 첨가하여, 불휘발분이 50 중량%가 되도록 수지 조성물 바니시를 조제하였다. 그 후, 얻어진 수지 바니시를 사용하여, 기재인 유리섬유(닛토 보세키 가부시키가이샤 제조, WEA 116E 106S 136, 두께 100 ㎛)에 함침시키고, 함침시킨 유리섬유를 150℃의 열풍 순환식 오븐에서 8분간 건조를 행하여, 프리프레그를 얻었다. 이어서, 얻어진 프리프레그 4매를 포개어, 130℃×15분 및 170℃×2.0 MPa×70분간의 조건으로 가열과 가압을 행하여 0.5 ㎜ 두께의 적층판을 얻었다. 얻어진 각각의 적층판에 대해서, 난연성, 접착성, 흡습률의 각 물성을 시험하였다. 그 결과를 표 4에 나타낸다.Phosphorus-containing epoxy resin, curing agent, curing accelerator and the like were compounded according to the formulation shown in Table 3. The phosphorus-containing epoxy resin was dissolved in methyl ethyl ketone. Dicyandiamide (DICY, active hydrogen equivalent: 21.0 g / eq) was used as a curing agent previously dissolved in methyl cellosolve and dimethylformamide and 2 ethyl 4 Methylimidazole (described above) was added to prepare a resin composition varnish so that the non-volatile content was 50% by weight. Thereafter, the obtained resin varnish was used to impregnate the glass fiber (WEA 116E 106S 136, thickness: 100 占 퐉, manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd.) as a base material, and the impregnated glass fiber was heated in a hot air circulating oven at 150 占 폚 Minute drying to obtain a prepreg. Subsequently, the obtained four prepregs were superimposed and heated and pressed under conditions of 130 占 폚 for 15 minutes and 170 占 폚 for 2.0 MPa 占 70 minutes to obtain a 0.5 mm thick laminated plate. Each of the obtained laminated plates was tested for various physical properties such as flame retardancy, adhesiveness, and moisture absorption rate. The results are shown in Table 4.

Figure 112012060141481-pct00045
Figure 112012060141481-pct00045

Figure 112012060141481-pct00046
Figure 112012060141481-pct00046

비교예 8은 지방족계 인 함유 에폭시 수지를 사용하고 있기 때문에, 접착성은 좋으나 난연성이 나쁘고 내흡습성도 나쁘다. 비교예 9는 화학식 1의 인 함유 에폭시 수지인데, 인 함유율이 0.5 중량%로 낮기 때문에 난연성이 나쁘고, 에폭시 당량도 196 g/eq로 작기 때문에 접착성도 나쁘다. 비교예 10은 화학식 1의 인 함유 에폭시 수지인데, 에폭시 당량이 705 g/eq로 크기 때문에 내열성이 나쁘고, 원료의 인화합물(b1)/인화합물(b2)의 중량비가 31/69로 50/50보다 낮기 때문에 접착성이 나쁘고, 내흡습성도 나쁘다. 비교예 11은 화학식 1의 인 함유 에폭시 수지인데, 에폭시 당량이 880 g/eq로 크고, 용융점도도 1,300 mPa·s로 크기 때문에, 접착성은 좋으나, 내열성은 나쁘다. 그것에 대해 실시예는 모두, 충분한 난연성을 확보하면서, 접착성은 좋고, 내흡습성이나 내열성도 좋다. In Comparative Example 8, since an aliphatic phosphorus-containing epoxy resin is used, the adhesive property is good but the flame retardancy is poor and the moisture absorption resistance is poor. Comparative Example 9 is a phosphorus-containing epoxy resin of the formula (1). Since the phosphorus content is as low as 0.5% by weight, the flame retardancy is poor and the epoxy equivalent is also small at 196 g / eq. Comparative Example 10 is a phosphorus-containing epoxy resin represented by the following formula (1), and its epoxy equivalent weight is 705 g / eq, which means that the heat resistance is poor and the weight ratio of phosphorus compound (b1) / phosphorus compound The adhesiveness is poor and the moisture absorption resistance is poor. Comparative Example 11 is a phosphorus-containing epoxy resin of Formula 1, which has a large epoxy equivalent weight of 880 g / eq and a high melt viscosity of 1,300 mPa · s, so that the adhesive property is good but the heat resistance is poor. On the other hand, all of the examples are good in adhesiveness while ensuring sufficient flame retardancy, and have good moisture absorption resistance and heat resistance.

실시예 11~14, 비교예 12~14Examples 11 to 14 and Comparative Examples 12 to 14

표 5에 나타내는 배합처방에 따라 인 함유 에폭시 수지, 경화제, 경화 촉진제 등을 배합하였다. 경화제로서, 디에틸디아미노디페닐메탄(닛폰 가야쿠 가부시키가이샤 제조, 상품명:가야하드 AA, 활성수소 당량:63 g/eq, 점도:2,500 mPa·s)을 사용하여, 50℃로 가열하면서, 교반하고 균일화하여 에폭시 수지 조성물을 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 조성물을 탈포하여 금형에 주형하고, 150℃×120분의 온도 조건으로 경화시켜서 2 ㎜ 두께의 경화물 시험편을 얻었다. 얻어진 경화물 시험편에 대해서, 염소이온, 난연성, 흡습률의 각 물성을 시험하였다. 그 결과를 표 6에 나타낸다. 또한, 비교예 12에서는, 에폭시 수지로서, 에포토토 ZX-1059(도토 가세이 가부시키가이샤 제조, 비스페놀 F 디글리시딜에테르 수지와 비스페놀 A 디글리시딜에테르 수지의 혼합물, 에폭시 당량:165 g/eq, 전체 염소:0.08 중량%, 점도:2,300 mPa·s)를 사용하고, 첨가형 난연제로서, 1,3-페닐렌비스-디-2,6-크실레닐포스페이트(다이하치 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조, 상품명:PX-200, 인 함유량:9.0 중량%)를, 에폭시 수지 조성물 중의 인 함유율이 2.0 중량%가 되도록 첨가하였다.A phosphorus-containing epoxy resin, a curing agent, a curing accelerator and the like were compounded according to the formulation shown in Table 5. As the curing agent, diethyldiaminodiphenylmethane (trade name: Kaya Hard AA, active hydrogen equivalent: 63 g / eq, viscosity: 2,500 mPa.s) (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) , And the mixture was stirred and homogenized to obtain an epoxy resin composition. The resulting epoxy resin composition was defoamed, molded into a mold, and cured at a temperature of 150 DEG C for 120 minutes to obtain a 2-mm-thick cured product specimen. The obtained cured product test piece was tested for various physical properties such as chloride ion, flame retardance and moisture absorption rate. The results are shown in Table 6. In Comparative Example 12, a mixture of Epototo ZX-1059 (a mixture of bisphenol F diglycidyl ether resin and bisphenol A diglycidyl ether resin, manufactured by Tokto Kasei Co., Ltd., epoxy equivalent: 165 g / eq, total chlorine: 0.08% by weight, viscosity: 2,300 mPa.s) was used as the additive type flame retardant, and 1,3-phenylenebis-di-2,6-xylenyl phosphate (Daihachi Kagaku Kogyo Co., Trade name: PX-200, phosphorus content: 9.0% by weight) was added so that the phosphorus content in the epoxy resin composition became 2.0% by weight.

Figure 112012060141481-pct00047
Figure 112012060141481-pct00047

Figure 112012060141481-pct00048
Figure 112012060141481-pct00048

비교예 12는 화학식 3의 인 함유 에폭시 수지인데, 원료 에폭시 수지의 전체 염소가 0.45 중량%로 많기 때문에, 경화물의 염소이온이 실시예보다 5~10배 정도 많다. 이는 신뢰성이 나빠지는 것을 나타내고 있다. 또한, 수산기농도가 230 meq/100 g으로 많고, α디올 함유량도 11 meq/100 g으로 많기 때문에, 내흡습성도 나쁘다. 또한, 원료의 인화합물(b1)/인화합물(b2)의 중량비가 43/57로 50/50보다 낮기 때문에, 경화물의 경화상태가 나빠지고 난연성도 약간 나쁘다. 비교예 13은 화학식 4의 인 함유 에폭시 수지인데, 원료 에폭시 수지의 수산기 농도가 262 meq/100 g으로 많기 때문에 내흡습성이 나쁘고, 원료의 인화합물(b1)/인화합물(b2)의 중량비가 39/61로 50/50보다 낮기 때문에, 경화물의 경화상태가 나빠지고 난연성도 약간 나쁘다. 비교예 14는 일반적으로 사용되고 있는 저염소 액상 수지에 난연제를 배합한 에폭시 수지 조성물인데, 인 함유율을 실시예와 합치더라도 난연성은 나쁘고, 내흡습성도 나쁘다. 그것에 대해 실시예는 모두, 충분한 난연성을 확보하면서, 염소이온은 낮고 내흡습성도 좋다. 이는 신뢰성이 좋은 것을 나타내고 있다. Comparative Example 12 is the phosphorus-containing epoxy resin of Chemical Formula 3, and since the total chlorine content of the raw material epoxy resin is as large as 0.45% by weight, the chloride ion of the cured product is 5 to 10 times as many as that in the Examples. This indicates that reliability is deteriorating. Further, since the hydroxyl group concentration is as high as 230 meq / 100 g and the? -Diol content is as high as 11 meq / 100 g, the hygroscopicity is also poor. Further, since the weight ratio of the phosphorus compound (b1) / phosphorus compound (b2) as a raw material is lower than 50/50 by weight as 43/57, the cured state of the cured product deteriorates and the flame retardancy is also slightly worse. Comparative Example 13 is a phosphorus-containing epoxy resin of Chemical Formula 4, in which the moisture absorption of the starting epoxy resin is as high as 262 meq / 100 g and the moisture absorption is poor and the weight ratio of the phosphorus compound (b1) / phosphorus compound (b2) / 61, which is lower than 50/50, the cured state of the cured product deteriorates and the flame retardancy is also slightly worse. Comparative Example 14 is an epoxy resin composition in which a flame retardant is blended with a commonly used low chlorine liquid resin. Even when the content of phosphorus is combined with that in Examples, flame retardancy is poor and moisture absorption resistance is poor. On the other hand, all of the examples are low in chlorine ion and good in hygroscopicity while ensuring sufficient flame retardancy. This indicates that the reliability is good.

실시예 15~17, 비교예 15~17Examples 15 to 17 and Comparative Examples 15 to 17

표 7에 나타내는 배합처방에 따라 인 함유 에폭시 수지, 경화제, 경화 촉진제 등을 배합하였다. 경화제로서, 트리페닐메탄형 페놀 수지(군에이 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조, 상품명:TMP-100, 수산기 당량:97.5 g/eq, 연화점:107℃)를 사용하고, 120℃로 가열하면서, 교반하고 균일화하여 에폭시 수지 조성물을 얻었다. 얻어진 에폭시 수지 조성물을 탈포하여 금형에 주형하고, 150℃×120분+180℃×60분의 온도 조건으로 경화시켜서 2 ㎜ 두께의 경화물 시험편을 얻었다. 얻어진 경화물 시험편에 대해서, 성형성, 난연성, 흡습률의 각 물성을 시험하였다. 그 결과를 표 8에 나타낸다. 또한, 실시예 14에서는 인 함유 에폭시 수지 이외의 에폭시 수지로서, 에포토토 ZX-1059(전술)를 병용하고, 비교예 16에서는 인 함유 에폭시 수지 이외의 에폭시 수지로서, 에포토토 ZX-1542(도토 가세이 가부시키가이샤 제조, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르 수지, 에폭시 당량:122 g/eq, 전체 염소:0.065 중량%, 점도:80 mPa·s)를 병용하였다.A phosphorus-containing epoxy resin, a curing agent, a curing accelerator and the like were compounded according to the formulation shown in Table 7. As a curing agent, a triphenylmethane type phenol resin (trade name: TMP-100, a hydroxyl group equivalent: 97.5 g / eq, softening point: 107 ° C, manufactured by Gunega Kagaku Kogyo Co., Ltd.) And homogenized to obtain an epoxy resin composition. The resulting epoxy resin composition was defoamed, molded into a mold, and cured at a temperature of 150 DEG C x 120 minutes + 180 DEG C x 60 minutes to obtain a 2 mm thick cured test piece. The obtained cured product test piece was tested for various properties such as moldability, flame retardance and moisture absorption rate. The results are shown in Table 8. In Example 14, Epototo ZX-1059 (described above) was used in combination as an epoxy resin other than the phosphorus-containing epoxy resin, and Epototo ZX-1542 Trimethylolpropane polyglycidyl ether resin, epoxy equivalent: 122 g / eq, total chlorine: 0.065 wt%, viscosity: 80 mPa s) manufactured by TOTO KASEI KOGYO CO., LTD.

Figure 112012060141481-pct00049
Figure 112012060141481-pct00049

Figure 112012060141481-pct00050
Figure 112012060141481-pct00050

비교예 15는 지방족계 인 함유 에폭시 수지를 사용하고 있기 때문에, 난연성이 나쁘고 내흡습성도 나쁘다. 비교예 16은 특허문헌 4에서 개시된 제법으로 얻어진 인 함유 에폭시 수지인데, 화학식 1의 인 함유 에폭시 수지는 아니기 때문에, 에폭시 수지 조성물의 점도가 지나치게 높아서, 금형 성형이 곤란하여, 시험에 필요한 시험편을 제작할 수 없었다. 비교예 17은 특허문헌 4에서 개시된 제법으로 얻어진 인 함유 에폭시 수지에, 희석제를 병용하여 점도를 낮춘 에폭시 수지 조성물로, 성형성은 개량되나, 난연성이 악화되고, 내습성도 악화된다. 그것에 대해서 실시예는 모두, 충분한 난연성을 확보하면서, 성형성도 좋고 내흡습성도 좋다. In Comparative Example 15, since an epoxy resin containing an aliphatic phosphorus is used, the flame retardancy is poor and the moisture absorption resistance is poor. Comparative Example 16 is a phosphorus-containing epoxy resin obtained by the production method disclosed in Patent Document 4. Since the phosphorus-containing epoxy resin of Chemical Formula 1 is not used, the viscosity of the epoxy resin composition is too high and mold formation is difficult, I could not. In Comparative Example 17, an epoxy resin composition obtained by using a diluent in combination with a phosphorus-containing epoxy resin obtained by the production method disclosed in Patent Document 4 was lowered in viscosity, but the moldability was improved, but the flame retardancy was deteriorated and the moisture resistance was also deteriorated. On the other hand, all of the examples are good in moldability and hygroscopicity while ensuring sufficient flame retardancy.

본 발명의 에폭시 수지 조성물은 저점도 조성물이면서 그의 경화물은 난연성, 내습성이 우수하기 때문에, 주형재, 적층재, 봉지재, 복합재 등에 이용할 수 있다.
Since the epoxy resin composition of the present invention is a low viscosity composition and its cured product is excellent in flame retardancy and moisture resistance, it can be used as a mold material, a laminate material, a sealing material, a composite material and the like.

Claims (6)

화학식 1로 나타내어지는 에폭시 수지(a1) 또는 화학식 3으로 나타내어지는 에폭시 수지(a2) 또는 화학식 4로 나타내어지는 에폭시 수지(a3) 중 하나 이상으로 되는 에폭시 수지(A) 및 화학식 5로 나타내어지는 유기 인화합물(b1) 및 화학식 6으로 나타내어지는 유기 인화합물(b2)로부터 선택되는 하나 이상으로 구성된 유기 인화합물(B)을 반응시켜서, 에폭시 당량이 200~600 g/eq이고, 인 함유율이 1~6 중량%인 인 함유 에폭시 수지를 제조하는 방법에 있어서, 에폭시 수지(A)의 수산기 농도가 200 meq/100 g 이하, 전체 염소량이 0.4 중량% 이하, α디올 함유량이 10 meq/100 g 이하이며, 또한 유기 인화합물(B)의 유기 인화합물(b1)/유기 인화합물(b2)의 중량비 범위가 50/50~100/0인 것을 특징으로 하는 인 함유 에폭시 수지의 제조방법.
[화학식 1]
Figure 112017023505209-pct00051

화학식 중, R1은 하나 이상의 방향족 고리를 갖는, 산소원자, 질소원자, 황원자를 포함해도 되는, 탄소수 6~31의 탄화수소기이고, G는 화학식 2 또는 수소 중 어느 하나를 나타내는데, 하나 이상은 화학식 2이다.
[화학식 2]
Figure 112017023505209-pct00052

[화학식 3]
Figure 112017023505209-pct00053

화학식 중, R2는 단환이어도 되고 복소환이어도 되는 하나 이상의 시클로헥산 고리를 갖는, 산소원자, 질소원자, 황원자를 포함해도 되는, 탄소수 6~17의 지방족 탄화수소기이고, G는 화학식 2 또는 수소 중 어느 하나를 나타내는데, 하나 이상은 화학식 2이다.
[화학식 4]
Figure 112017023505209-pct00054

화학식 중, R3는 각각 단독으로 산소원자, 질소원자, 황원자를 포함해도 되는, 탄소수 1~4의 지방족 탄화수소기이고, R4는 -R3-OG, 또는, -R3-H, 또는 수소 중 어느 하나를 나타내고, G는 화학식 2 또는 수소 중 어느 하나를 나타내는데, 하나 이상은 화학식 2이고, k는 0 또는 1의 정수를 나타낸다.
[화학식 5]
Figure 112017023505209-pct00055

화학식 중, R5, R6는 수소 또는 탄화수소기를 나타내고, 각각은 상이해도 되고 동일해도 되며, 직쇄상, 분지쇄상, 환상이어도 된다. 또한, R5와 R6가 결합하여 환상 구조로 되어도 된다. n은 0 또는 1의 정수를 나타낸다. Ar은 벤젠, 비페닐, 나프탈렌, 안트라센, 페난트렌 및 이들의 탄화수소 치환체 중 어느 하나를 나타낸다.
[화학식 6]
Figure 112017023505209-pct00056

화학식 중, R7, R8은 수소 또는 탄화수소기를 나타내고, 각각은 상이해도 되고 동일해도 되며, 직쇄상, 분지쇄상, 환상이어도 된다. 또한, R7과 R8이 결합하여 환상 구조로 되어도 된다. m은 0 또는 1의 정수를 나타낸다.
An epoxy resin (A) comprising at least one of an epoxy resin (a1) represented by the general formula (1) or the epoxy resin (a2) represented by the general formula (3) or the epoxy resin (a3) represented by the general formula (4) (B) composed of at least one compound selected from the group consisting of the compound (b1) and the organic phosphorus compound (b2) represented by the general formula (6) to give an epoxy equivalent of 200 to 600 g / eq and a phosphorus content of 1 to 6 Wherein the epoxy resin (A) has a hydroxyl group concentration of 200 meq / 100 g or less, a total chlorine content of 0.4 weight% or less, an alpha -diol content of 10 meq / 100 g or less, Wherein the weight ratio of the organic phosphorus compound (b1) to the organic phosphorus compound (b2) in the organophosphorus compound (B) is 50/50 to 100/0.
[Chemical Formula 1]
Figure 112017023505209-pct00051

Wherein R 1 is a hydrocarbon group having 6 to 31 carbon atoms, which may contain an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, which has at least one aromatic ring, and G represents any one of the formula 2 or hydrogen, 2.
(2)
Figure 112017023505209-pct00052

(3)
Figure 112017023505209-pct00053

In the formula, R 2 is an aliphatic hydrocarbon group having 6 to 17 carbon atoms, which may be an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, having at least one cyclohexane ring which may be monocyclic or heterocyclic, G is a group represented by the formula One or more of which is represented by the formula (2).
[Chemical Formula 4]
Figure 112017023505209-pct00054

R 3 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms which may contain an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and R 4 represents -R 3 -OG, -R 3 -H, or hydrogen , G represents any one of the formula (2) or hydrogen, at least one of them is represented by the formula (2), and k represents an integer of 0 or 1.
[Chemical Formula 5]
Figure 112017023505209-pct00055

In the formula, R 5 and R 6 represent hydrogen or a hydrocarbon group, and each may be the same or different, and may be linear, branched or cyclic. R 5 and R 6 may combine to form a cyclic structure. n represents an integer of 0 or 1; Ar represents any one of benzene, biphenyl, naphthalene, anthracene, phenanthrene, and hydrocarbon substituents thereof.
[Chemical Formula 6]
Figure 112017023505209-pct00056

In the formula, R 7 and R 8 represent hydrogen or a hydrocarbon group, and each may be the same or different, and may be linear, branched or cyclic. R 7 and R 8 may combine to form a cyclic structure. and m represents an integer of 0 or 1.
제1항에 있어서,
제1항에 기재된 에폭시 수지(A)가, 화학식 8 또는 화학식 9 또는 화학식 11 또는 화학식 12 또는 화학식 13으로 나타내어지는 에폭시 수지 중 하나 이상인 것을 특징으로 하는 인 함유 에폭시 수지의 제조방법.
[화학식 8]
Figure 112015127475118-pct00065

[화학식 9]
Figure 112015127475118-pct00066

[화학식 11]
Figure 112015127475118-pct00067

[화학식 12]
Figure 112015127475118-pct00068

[화학식 13]
Figure 112015127475118-pct00069
The method according to claim 1,
A process for producing a phosphorus-containing epoxy resin characterized in that the epoxy resin (A) according to claim 1 is at least one of an epoxy resin represented by the following general formula (8), (9) or (11)
[Chemical Formula 8]
Figure 112015127475118-pct00065

[Chemical Formula 9]
Figure 112015127475118-pct00066

(11)
Figure 112015127475118-pct00067

[Chemical Formula 12]
Figure 112015127475118-pct00068

[Chemical Formula 13]
Figure 112015127475118-pct00069
제1항에 있어서,
제1항에 기재된 유기 인화합물(b1)이, 화학식 15 또는 화학식 16으로 나타내어지는 유기 인화합물 중 하나 이상인 것을 특징으로 하는 인 함유 에폭시 수지의 제조방법.
[화학식 15]
Figure 112017023505209-pct00070

[화학식 16]
Figure 112017023505209-pct00071
The method according to claim 1,
A process for producing a phosphorus-containing epoxy resin characterized in that the organic phosphorus compound (b1) according to claim 1 is at least one organic phosphorus compound represented by the formula (15) or (16).
[Chemical Formula 15]
Figure 112017023505209-pct00070

[Chemical Formula 16]
Figure 112017023505209-pct00071
제1항에 있어서,
제1항에 기재된 유기 인화합물(b2)이, 화학식 14로 나타내어지는 유기 인화합물인 것을 특징으로 하는 인 함유 에폭시 수지의 제조방법.
[화학식 14]
Figure 112017023505209-pct00064
The method according to claim 1,
A process for producing a phosphorus-containing epoxy resin characterized in that the organic phosphorus compound (b2) according to claim 1 is an organic phosphorus compound represented by the general formula (14).
[Chemical Formula 14]
Figure 112017023505209-pct00064
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 인 함유 에폭시 수지의 제조방법으로 얻어진 인 함유 에폭시 수지와 경화제를 필수성분으로서 함유하는 것을 특징으로 한 에폭시 수지 조성물. An epoxy resin composition comprising a phosphorus-containing epoxy resin obtained by the process for producing a phosphorus-containing epoxy resin according to any one of claims 1 to 4 and a curing agent as essential components. 제5항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 경화하여 얻어지는 경화물. A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 5.
KR1020127019877A 2010-02-08 2011-02-02 Method for producing a phosphorus-containing epoxy resin, epoxy resin composition, and cured product thereof KR101794366B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2010-025187 2010-02-08
JP2010025187A JP5544184B2 (en) 2010-02-08 2010-02-08 Method for producing phosphorus-containing epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
PCT/JP2011/052680 WO2011096588A1 (en) 2010-02-08 2011-02-02 Method for producing a phosphorus-containing epoxy resin, epoxy resin composition, and cured product thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120140648A KR20120140648A (en) 2012-12-31
KR101794366B1 true KR101794366B1 (en) 2017-11-06

Family

ID=44355579

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020127019877A KR101794366B1 (en) 2010-02-08 2011-02-02 Method for producing a phosphorus-containing epoxy resin, epoxy resin composition, and cured product thereof

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5544184B2 (en)
KR (1) KR101794366B1 (en)
CN (1) CN102741314B (en)
TW (1) TWI553031B (en)
WO (1) WO2011096588A1 (en)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5917098B2 (en) * 2011-11-11 2016-05-11 新日鉄住金化学株式会社 Method for producing phosphorus-containing phenolic resin
JP5917227B2 (en) * 2012-03-28 2016-05-11 新日鉄住金化学株式会社 Method for producing phosphorus-containing epoxy resin
CN104379626B (en) * 2012-06-15 2019-03-22 日铁化学材料株式会社 Phosphorous epoxy resin and using the epoxy resin as the composition of essential component, solidfied material
KR101954484B1 (en) * 2012-08-28 2019-03-05 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 Method for producing cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin, resin composition containing cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin, and cured product of same
TWI487781B (en) * 2013-02-08 2015-06-11 Hong Tai Electric Ind Co Ltd Phosphorus and nitrogen hybrid halogen-free flame-resistance epoxy, prepreg, copper clad laminate and pcb thereof
CN103333464B (en) * 2013-06-28 2015-12-23 青岛富斯林化工科技有限公司 A kind of phosphor-containing halogen-free fire retarded epoxy resin composition and application
CN103612437A (en) * 2013-11-28 2014-03-05 铜陵浩荣电子科技有限公司 Novel halogen-free composite type base plate and manufacture method thereof
JP6770793B2 (en) * 2015-08-19 2020-10-21 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 Flame-retardant epoxy resin composition and its cured product
JP7140115B2 (en) * 2017-06-07 2022-09-21 Dic株式会社 EPOXY RESIN, PRODUCTION METHOD, EPOXY RESIN COMPOSITION AND ITS CURED MATERIAL

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000309624A (en) * 1999-02-23 2000-11-07 Dainippon Ink & Chem Inc Flame-retardant epoxy resin composition and its production
JP2001072742A (en) 1999-09-03 2001-03-21 Toshiba Chem Corp Flame-retardant epoxy resin composition, prepreg, and laminate
JP2003027029A (en) 2001-07-16 2003-01-29 Kyocera Chemical Corp Flame-retardant adhesive composition and flexible printed wiring board-related product

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4753475B2 (en) * 2001-01-30 2011-08-24 株式会社Adeka Epoxy resin composition
DE102005015605B4 (en) * 2005-04-05 2008-04-17 Schill + Seilacher "Struktol" Aktiengesellschaft Organophosphorus-containing prepolymers and uses therefor
JP5632163B2 (en) * 2007-11-09 2014-11-26 新日鉄住金化学株式会社 Phosphorus-containing epoxy resin and phosphorus-containing epoxy resin composition, production method thereof, curable resin composition and cured product using the resin, and resin composition
JP5153320B2 (en) * 2007-12-28 2013-02-27 新日鉄住金化学株式会社 Novel phosphorus-containing flame-retardant resin, epoxy resin composition containing the same, and cured product thereof
JP5587542B2 (en) * 2008-02-01 2014-09-10 新日鉄住金化学株式会社 Phosphorus-containing epoxy resin and phosphorus-containing epoxy resin composition, production method thereof, curable resin composition and cured product using the resin, and resin composition
TW201122014A (en) * 2009-12-25 2011-07-01 Nippon Steel Chemical Co Epoxy resin, epoxy resin composition and cured article thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000309624A (en) * 1999-02-23 2000-11-07 Dainippon Ink & Chem Inc Flame-retardant epoxy resin composition and its production
JP2001072742A (en) 1999-09-03 2001-03-21 Toshiba Chem Corp Flame-retardant epoxy resin composition, prepreg, and laminate
JP2003027029A (en) 2001-07-16 2003-01-29 Kyocera Chemical Corp Flame-retardant adhesive composition and flexible printed wiring board-related product

Also Published As

Publication number Publication date
TWI553031B (en) 2016-10-11
JP5544184B2 (en) 2014-07-09
CN102741314B (en) 2014-12-31
CN102741314A (en) 2012-10-17
JP2011162621A (en) 2011-08-25
TW201132668A (en) 2011-10-01
WO2011096588A1 (en) 2011-08-11
KR20120140648A (en) 2012-12-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101794366B1 (en) Method for producing a phosphorus-containing epoxy resin, epoxy resin composition, and cured product thereof
JP3642403B2 (en) Flame retardant epoxy resin composition and method for producing flame retardant epoxy resin
EP2578613B1 (en) Epoxy resin composition and pre-preg, support-provided resin film, metallic foil clad laminate plate and multilayer printed circuit board utilizing said composition
JP5793086B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP5783413B2 (en) Epoxy resin having new phosphorus atom, epoxy resin composition and cured product thereof
TWI618744B (en) Epoxy resin mixture, epoxy resin composition, hardened material, and semiconductor device
JP5334373B2 (en) Novel phosphorus-containing epoxy resin, epoxy resin composition containing epoxy resin as an essential component, and cured product thereof
JP5441477B2 (en) Flame retardant phosphorus-containing epoxy resin composition and cured product thereof
JP5399733B2 (en) Flame retardant phosphorus-containing epoxy resin composition and cured product thereof
JP2007246874A (en) Fire-retardant thermosetting epoxy resin composition
KR101571084B1 (en) Novel flame-retardant epoxy resin epoxy resin composition essentially containing the epoxy resin and cured product thereof
JP2001214037A (en) Epoxy resin composition
KR101184292B1 (en) Novel epoxy compounds and their flame-retarding epoxy resin compositions
JP5653374B2 (en) Phosphorus-containing epoxy resin, epoxy resin composition containing the resin, curable epoxy resin composition containing the resin, and cured product obtained therefrom
US6576690B1 (en) Phosphorous-containing flame retarding epoxy resin and an epoxy resin composition containing the same
JP5214658B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product
KR100687519B1 (en) Resin composition for electric and electronic appliances
TWI487725B (en) Flame retardant phosphor-containing epoxy resin composition and cured article thereof
WO2014034675A1 (en) Method for producing cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin, resin composition containing cyanuric acid-modified phosphorus-containing epoxy resin, and cured product of same
JPH05230340A (en) Epoxy novolak stabilized with organophosphorus compound

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right