KR101793841B1 - Apparatus for exposure having plural prism - Google Patents

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조명우
김기범
하석재
조용규
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인하대학교 산학협력단
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Abstract

The present invention relates to a light exposure apparatus having a plurality of prisms which are arranged on an X axis, a Y axis perpendicular to the X axis, and a Z axis perpendicular to the X axis and the Y axis and generates a light exposure image on a light exposure target. The light exposure apparatus having a plurality of prisms comprises: a digital micro-mirror device (DMD) which is aligned in at least one column and row, receives electrical signals to correspond to a designed light exposure image, is turned on or off subsequently, and has a plurality of micro-mirrors; a first beam splitter which receives the light exposure image from the DMD and performs spectroscopy of the light exposure image in the direction of -Z axis and the Y axis; a prism unit comprising a first prism, which reflects, in the direction of the -Z axis and the Y axis, the light exposure image for which the first beam splitter has performed spectroscopy in the direction of the Y axis and the -Z axis, respectively, and moves the light exposure image for which the first beam splitter has performed spectroscopy in the direction of the Y axis by D1, and a second prism which moves the light exposure image for which the first beam splitter has performed spectroscopy in the direction of the -Z axis by D2 which is a distance different from D1; and the plurality of prisms comprising second beams splitter which receives the light exposure images in the directions of the -Z axis and the Y axis from the prism unit and emits the light exposure images on the light exposure target in the direction of the -Z. Provided is the light exposure apparatus having a plurality of prisms which have an increased shape precision of the light exposure image.

Description

복수의 프리즘을 구비하는 노광장치{APPARATUS FOR EXPOSURE HAVING PLURAL PRISM}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an exposure apparatus having a plurality of prisms (APPARATUS FOR EXPOSURE HAVING PLURAL PRISM)

본 발명은 노광장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 DMD(Digital Micro-mirror Device)를 이용하여 노광대상물 상에 기본노광이미지와 중첩된 노광이미지를 형성하는 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exposure apparatus, and more particularly, to an exposure apparatus having a plurality of prisms for forming an exposure image superimposed on a basic exposure image on an object to be exposed using a DMD (Digital Micro-mirror Device) .

일반적으로 노광장치란, 감광 재료가 도포된 기판 등의 피 노광체 표면에 빔을 조사하여, 피 노광체의 표면에 패턴을 형성하는 장치로서, LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), PCB(Printed Circuit Board), OLED(Organic Light Emitting Diode) 등의 제조분야에서 사용되고 있다.Generally, an exposure apparatus refers to an apparatus for forming a pattern on the surface of a photoconductor by irradiating a beam onto a surface of the photoconductor coated with a photoconductive material, such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP) , PCB (Printed Circuit Board), and OLED (Organic Light Emitting Diode).

최근에는, 마스크를 이용한 노광 장치의 단점인 마스크 비용 및 기판 대형화에 따른 기판의 처짐 등의 문제 등을 해결하기 위해, 디지털 마이크로미러 장치(DMD;Digital Micro-mirror Device)와 같은 공간 광변조기(Spatial Light Modulator)를 이용한 마스크리스(Maskless) 노광 장치가 개발되어 사용되고 있다.2. Description of the Related Art Recently, a spatial light modulator (DMD) such as a digital micro-mirror device (DMD) has been developed to solve problems such as a mask cost, which is a disadvantage of an exposure apparatus using a mask, A maskless exposure apparatus using a light modulator has been developed and used.

위와 같은 디지털 마이크로미러 장치는 반사형 소자 수십만 개를 하나의 칩에 집적한 장치를 이용해 빛을 선택적으로 반사함으로써 고휘도, 고해상도의 노광 이 가능하다. 즉 디지털 마이크로미러가 구비된 마스크리스 노광 장치는, 디지털 마이크로미러에 빔을 조사하여, 소정의 패턴에 대응하도록 마이크로미러(Micro-mirror)를 조절하여, 빛을 선택적으로 반사함으로써 노광이미지를 형성할 수 있다.The above-mentioned digital micromirror device selectively reflects light by using a device integrating hundreds of thousands of reflection type devices on one chip, thereby enabling high luminance and high resolution exposure. That is, a maskless exposure apparatus equipped with a digital micromirror is configured to irradiate a beam onto a digital micromirror, adjust a micro-mirror to correspond to a predetermined pattern, selectively reflect light to form an exposure image .

상기와 같은 디지털 마이크로미러 장치에 관련된 기술로서 대한민국 공개특허 제1997-0015039호가 개시되어 있다.Korean Patent Laid-Open No. 1997-0015039 is disclosed as a technique related to the digital micromirror device.

하지만 종래의 디지털 마이크로미러 장치는 복수개의 마이크로미러가 열과 행으로 배열되어 있어, 마이크로미러를 통해 주사되는 노광이미지가 노광대상물 상에 형성될 때, 마이크로미러 사이의 간격으로 인하여 줄무늬 형상의 공백이 형성된다.However, in the conventional digital micromirror device, a plurality of micromirrors are arranged in rows and columns, and when an exposure image scanned through a micromirror is formed on an object to be exposed, a space of a stripe shape is formed due to the interval between the micromirrors do.

이러한 경우 상기와 같은 공백에 의하여 노광 대상물 상에 의도하지 않은 패턴이 형성되어 라인 거칠기(Line edge roughness) 및 노광이미지의 형상 정밀도가 저하되는 문제점이 발생한다.In this case, an unintended pattern is formed on the object to be exposed due to the above-described blank space, thereby causing problems such as line edge roughness and shape accuracy of the exposed image.

본 발명은 상술한 종래의 노광장치의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 마이크로미러 사이의 간격으로 인해 나타나는 공백을 보완하기 위하여 노광이미지를 중첩시킴으로써 노광이미지의 형상 정밀도를 향상시킨 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치를 제공하기 위한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the problems of the conventional exposure apparatus described above, and it is an object of the present invention to provide an exposure apparatus including a plurality of prisms having an improved accuracy of an exposure image by superimposing exposure images in order to compensate for a gap, Device.

본 발명은, X축과, 상기 X축에 대하여 직각이 되는 Y축과, 상기 X축 및 Y축에 대하여 직각이 되는 Z축 상에 배치되어 노광대상물에 노광이미지를 생성하기 위한 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치에 있어서, 적어도 하나 이상의 열과 행으로 정렬되어 설계된 노광이미지에 대응하도록 전자 신호를 송신받아 온오프(On-off)하고, 복수의 마이크로 미러(Micro mirror)를 구비하는 DMD(Digital Micro-mirror Device); 상기 DMD로부터 상기 노광이미지를 전달받아 상기 노광이미지를 -Z축방향 및 Y축방향으로 분광하는 제 1빔스플리터(Beam splitter); 상기 제 1빔스플리터에서 -Z축방향 및 Y축방향으로 분광된 노광이미지를 각각 Y축방향 및 -Z축방향으로 반사시키고, 상기 제 1빔스플리터에서 -Z축방향으로 분광된 노광이미지를 X축방향으로 D1 만큼 이동시키는 제 1프리즘과, 상기 제 1빔스플리터에서 Y축방향으로 분광된 노광이미지를 상기 D1과 상이한 거리인 D2만큼 X축방향으로 이동시키는 제 2프리즘을 포함하는 프리즘부; 및 상기 프리즘부로부터 -Z축방향 및 Y축방향의 노광이미지를 전달받아, 노광대상물 상에 상기 노광이미지를 -Z축방향으로 조사하는 제 2빔스플리터를 포함하는 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치를 제공한다. The present invention provides an exposure apparatus comprising a plurality of prisms arranged on an X axis, a Y axis perpendicular to the X axis, and a Z axis perpendicular to the X axis and the Y axis, (DMD) having a plurality of micro mirrors, which are turned on and off to receive an electronic signal corresponding to an exposure image designed in alignment with at least one or more rows and columns, -mirror Device); A first beam splitter for receiving the exposed image from the DMD and for spectroscopically dividing the exposed image in the -Z and Y-axis directions; Axis direction and a -Z-axis direction in the first beam splitter, respectively, and exposing an image obtained by spectrometry in the -Z-axis direction in the first beam splitter to X And a second prism for moving the exposed image in the Y-axis direction by the first beam splitter in the X-axis direction by a distance D2 different from the distance D1 from the first prism; And a second beam splitter which receives an exposure image in the -Z-axis direction and the Y-axis direction from the prism section and irradiates the exposure image in the -Z-axis direction on the exposure object, Lt; / RTI >

여기서 상기 프리즘부는, 상기 제 1빔스플리터에서 -Z축방향으로 분광된 노광이미지(I)를 전달받아 X축방향으로 D1만큼 이동시킨 후 -Z축방향으로 반사시키는 제 1프리즘과, 상기 제 1프리즘에서 -Z방향으로 노광이미지를 전달받아 Y축방향으로 반사시키는 제 1 반사미러와, 상기 제 1빔스플리터에서 Y축방향으로 분광된 노광이미지를 전달받아 -Z축방향으로 반사시키는 제 2반사미러와, 상기 제 1반사미러로부터 -Z방향으로 노광이미지를 전달받아, 상기 D1과 상이한 거리인 D2만큼 X축방향으로 이동시킨 후 -Z축방향으로 반사시키는 제 2프리즘을 포함 할 수 있다.Here, the prism unit may include: a first prism that receives the exposed image (I) that has been spectroscopically measured in the -Z-axis direction in the first beam splitter, reflects the exposed image in the -Z-axis direction after moving it in the X-axis direction by D1, A first reflection mirror that receives an exposure image in a Z direction from the prism and reflects the exposure image in a Y axis direction, a second reflection mirror that receives an exposure image that has been spectroscopically measured in the Y axis direction in the first beam splitter, And a second prism that receives the exposure image from the first reflection mirror in the -Z direction, moves the image in the X-axis direction by a distance D2 different from the distance D1, and reflects the image in the -Z-axis direction.

또한 상기 제 1프리즘과 상기 제 2프리즘은, 장사방형(Rhomboid) 형상인 것이 바람직하다.It is preferable that the first prism and the second prism have a rhomboid shape.

또한 상기 제 1프리즘에서 상기 노광이미지가 통과하는 경로 길이는 D1이고, 상기 제 2프리즘의 상기 노광이미지가 통과하는 경로 길이는 상기 D2와 상이한 길이인 D2인 것이 바람직하다.Also, it is preferable that a path length through which the exposed image passes through the first prism is D1, and a path length through which the exposed image of the second prism passes is D2 which is a length different from D2.

또한 상기 마이크로 미러(Micro mirror)의 크기와, 상기 복수의 마이크로 미러(Micro mirror)의 간격의 합이 Dg이고, 상기 D1과 상기 D2의 차이는 Dg/2인 것이 바람직하다. It is preferable that the sum of the size of the micro mirror and the spacing of the plurality of micro mirrors is Dg, and the difference between D1 and D2 is Dg / 2.

그리고 상기 제 1반사미러는, Z축방향으로 이동가능하도록 구비될 수 있으며, 상기 마이크로 미러(Micro mirror)의 크기와, 상기 복수의 마이크로 미러(Micro mirror)의 간격의 합이 Dg이고, 상기 제 1반사미러의 -Z축방향의 이동량은 Dg/2인 것이 바람직하다.The first reflection mirror may be movable in the Z axis direction. The sum of the size of the micro mirror and the spacing of the plurality of micro mirrors is Dg, It is preferable that the movement amount of the one reflection mirror in the -Z axis direction is Dg / 2.

이와 같은 본 발명에 따르면, 정사방형 형상의 제 1프리즘과 제 2프리즘을 이용하여 노광이미지를 각각 상이한 거리의 X축으로 이동시키고, 제 2 반사미러가 Z축방향으로 이동가능도록 구비되어, 중첩 노광이미지를 X축방향 및 Y축방향으로 이동시킴으로써 노광대상물 상에 형성되는 노광이미지를 중첩시킬 수 있다. According to the present invention as described above, the exposure images are moved in different X-axes by using the first prism and the second prism, and the second reflection mirror is provided so as to be movable in the Z-axis direction, The exposure image formed on the exposure subject can be superimposed by moving the exposure image in the X-axis direction and the Y-axis direction.

따라서 기본 노광이미지의 공백 공간에 중첩되는 노광이미지가 형성됨에 따라 마이크로미러의 사이 간격으로 발생하는 공백이 보완되어 노광이미지의 형상정밀도 및 해상도가 향상된 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치를 제공할 수 있다.Accordingly, it is possible to provide an exposure apparatus having a plurality of prisms with improved accuracy in the shape and resolution of an exposed image by complementing a gap generated in an interval between micromirrors as an exposed image superimposed on a blank space of a basic exposure image is formed .

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치를 개략적으로 도시한 사시도,
도 2는 도 1에 도시한 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치를 개략적으로 도시한 정면도 및 측면도,
도 3은 도 1에 도시한 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치를 통해 나타나는 노광대상물 상의 기본 노광이미지를 도시한 개략도,
도 4는 도 1에 도시한 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치를 통해 나타난 노광대상물 상의 기본노광이미지 및 중첩노광이미지를 도시한 개략도이다.1 is a perspective view schematically showing an exposure apparatus having a plurality of prisms according to an embodiment of the present invention,
Fig. 2 is a front view and a side view schematically showing an exposure apparatus having a plurality of prisms shown in Fig. 1,
FIG. 3 is a schematic view showing a basic exposure image on an object exposed through an exposure apparatus having a plurality of prisms shown in FIG. 1;
FIG. 4 is a schematic view showing a basic exposure image and an overlay exposure image on an object exposed through an exposure apparatus having a plurality of prisms shown in FIG. 1;

이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여, 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary terms, and the inventor should appropriately interpret the concepts of the terms appropriately The present invention should be construed in accordance with the meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치(10)는 X축과, 상기 X축에 대하여 직각이 되는 Y축과, 상기 X축 및 Y축에 대하여 직각이 되는 Z축 상에 배치되어 노광대상물(O) 상에 노광이미지(I)를 생성하기 위한 것이다. 여기서 상기 노광이미지(I)는, 설계된 노광이미지(I)에 대응하여 형성되는 기본 노광이미지(B)와 상기 기본 노광이미지(B)에 중첩되도록 추가적으로 형성되는 중첩 노광이미지(S)로 이루어진다. 상기 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치(10)는 DMD(100), 제 1빔스플리터(200), 프리즘부(300), 제 2빔스플리터(400)를 포함한다. 1 to 4, an exposure apparatus 10 having a plurality of prisms according to an embodiment of the present invention includes an X-axis, a Y-axis perpendicular to the X-axis, Axis to be orthogonal to the axis to generate an exposure image I on the object to be exposed. The exposure image I comprises a basic exposure image B formed corresponding to the designed exposure image I and an overlapping exposure image S additionally formed so as to overlap the basic exposure image B. The exposure apparatus 10 including the plurality of prisms includes a DMD 100, a first beam splitter 200, a prism unit 300, and a second beam splitter 400.

상기 DMD(Digital Micro-mirror Device, 100)는, 적어도 하나 이상의 열과 행으로 정렬되는 복수의 마이크로미러(Micro mirror)(101)를 구비한다. 즉 상기 복수개의 마이크로미러(101)는, 설계된 노광이미지(I)에 대응하도록 개별적으로 전자 신호를 송신받아 온오프(On-off) 작동하며, 송신받은 전자신호를 통하여 설계된 노광이미지(I)에 따라 빛을 반사할 수 있다. The DMD (Digital Micro-mirror Device) 100 includes a plurality of micro mirrors 101 aligned in at least one or more rows and columns. That is, the plurality of micromirrors 101 are turned on (off) by receiving an electronic signal individually corresponding to the designed exposure image I, and the micromirrors 101 are operated on the designed exposure image I The light can then be reflected.

상기 제 1빔스플리터(Beam splitter, 200)는, 상기 DMD(100)로부터 상기 노광이미지(I)를 전달받아 상기 노광이미지(I)를 -Z축방향 및 Y축방향으로 분광한다. 즉 상기 제 1 빔스플리터(200)는 상기 DMD(100)의 마이크로미러(101)로부터 반사되는 노광이미지(I)를 전달받아, 일부는 -Z축방향으로 투과시키고, 일부는 Y축방향으로 반사되도록 분광한다. The first beam splitter 200 receives the exposure image I from the DMD 100 and splits the exposure image I in the -Z-axis direction and the Y-axis direction. That is, the first beam splitter 200 receives the exposure image I reflected from the micromirror 101 of the DMD 100, transmits a part thereof in the -Z-axis direction, and reflects part of it in the Y-axis direction .

상기 프리즘부(300)는 상기 제 1빔스플리터(200)에서 분광된 노광이미지(I)를 각각 반사시킨다. 즉 상기 프리즘부(300)는 상기 제 1빔스플리터(200)에서 -Z축방향으로 분광된 노광이미지(I)를 Y축방향으로 반사시키며, 상기 제 1빔스플리터(200)에서 Y축방향으로 분광된 노광이미지(I)를 -Z축방향으로 반사시킨다. 상기 프리즘부(300)는 제 1프리즘(310), 제 2프리즘(320), 제 1반사미러(330), 제 2반사미러(340)를 포함할 수 있다. The prism unit 300 reflects the spectralized exposure image I from the first beam splitter 200, respectively. That is, the prism unit 300 reflects the exposed image I, which has been spectroscopically measured in the -Z-axis direction, in the Y-axis direction in the first beam splitter 200, And reflects the spectroscopically exposed image I in the -Z-axis direction. The prism unit 300 may include a first prism 310, a second prism 320, a first reflective mirror 330, and a second reflective mirror 340.

상기 제 1프리즘(310)은, 상기 제 1빔스플리터(200)에서 -Z축방향으로 분광된 노광이미지(I)를 전달받아, X축방향으로 D1 만큼 이동시킨다. 또한 상기 제 1프리즘(310)은 상기 제 1빔스플리터(200)에서 -Z축방향으로 분광된 노광이미지(I)를 전달받아 X축방향으로 D1만큼 이동시킨 후 -Z축방향으로 반사시킨다. 이때 상기 제 1프리즘(310)은 장사방형(Rhomboid) 형상인 것이 바람직하다. 따라서, 상기 제 1프리즘(310)의 장사방형 형상에 의하여 상기 제 1프리즘(310)을 통과하는 상기 노광이미지(I)가 X축방향으로 D1만큼 이동 될 수 있다. 즉 상기 제 1프리즘(310)에서 상기 노광이미지(I)가 통과하는 경로 길이가 D1인 것이 바람직하다. 부연하면, 상기 노광이미지(I)가 상기 장사방형 형상의 제 1프리즘(310)의 일측에서 -Z축방향으로 입사되어, 상기 제 1프리즘(310)의 타측으로 -Z축방향으로 반사되어 이동될 때, 상기 제 1프리즘(310)의 일측에서 타측의 거리가 D1인 것이 바람직하다. The first prism 310 receives the spectralized exposure image I in the -Z-axis direction in the first beam splitter 200 and moves it in the X-axis direction by D1. The first prism 310 receives the spectroscopically exposed image I in the -Z-axis direction in the first beam splitter 200, moves it in the X-axis direction by D1, and reflects it in the -Z-axis direction. At this time, the first prism 310 preferably has a rhomboid shape. Accordingly, the exposed image I passing through the first prism 310 may be shifted by D1 in the X-axis direction due to the long prism shape of the first prism 310. That is, the path length through which the exposed image I passes in the first prism 310 is preferably D1. The exposure image I is incident on the one side of the first prism 310 having the rectangular prism shape in the -Z axis direction and is reflected toward the other side of the first prism 310 in the -Z axis direction, The distance from one side of the first prism 310 to the other side is preferably D1.

상기 제 1 반사미러(330)는, 상기 제 1프리즘(310)에서 -Z방향으로 반사되는 노광이미지(I)를 전달받아 Y축방향으로 반사시킨다. 즉 상기 제 1반사미러(330)는 상기 제 1프리즘(310)으로부터 상기 노광이미지(I)를 전달받아, Y축방향으로 반사시킴으로써 후술(後述) 할 제 2빔스플리터(400)로 노광이미지(I)를 전달 할 수 있다. 상기 제 1반사미러(330)는, Z축방향으로 이동가능하도록 구비되는 것이 바람직하다. 상기 제 1반사미러(330)가 Z축방향으로 이동가능하도록 구비됨에 따라, 상기 제 1반사미러(330)를 Z축방향으로 이동시킴으로써, 상기 제 2빔스플리터(400)에 의하여 노광대상물(O)상에 조사될 중첩 노광이미(S)를 -Y축방향으로 이동시킨다. 즉 기존에 상기 제 1반사미러(330)를 이동시키지 않은 상태에서 기본 노광이미지(B)를 형성시킨 후, 상기 제 1반사미러(330)를 Z축방향으로 이동시켜 상기 기본 노광이미지(B)가 형성된 상기 노광대상물(O) 상에 -Y축방향으로 이동된 중첩 노광이미지(S)를 형성시킬 수 있다. 즉 상기 제 1반사미러(330)에 의하여 -Y축방향으로 이동된 중첩 노광이미지(S)는 상기 기본 노광이미지(B)와 중첩되어 마이크로미러(101) 사이의 간격으로 나타나는 공백 공간에 형성될 수 있다. 이를 통해 상기 노광이미지(I)의 형상정밀도를 향상시킬 수 있으며, 최종 제품의 불량률을 줄일 수 있다. The first reflection mirror 330 receives the exposure image I reflected in the -Z direction in the first prism 310 and reflects the received exposure image I in the Y axis direction. That is, the first reflection mirror 330 receives the exposure image I from the first prism 310 and reflects the image I in the Y axis direction to form an exposure image (FIG. 4B) by a second beam splitter 400 to be described later I). The first reflection mirror 330 is preferably movable in the Z-axis direction. The first reflecting mirror 330 is movable in the Z axis direction so that the first reflecting mirror 330 is moved in the Z axis direction so that the second beam splitter 400 moves the exposed object O ) In the Y-axis direction. That is, after forming the basic exposure image B in a state where the first reflection mirror 330 is not moved, the first reflection mirror 330 is moved in the Z-axis direction, Axis direction can be formed on the object to be exposed (O) on which the overlay exposure image (S) is formed. That is, the superposed exposure image S moved in the -Y axis direction by the first reflection mirror 330 is formed in a blank space overlapping the basic exposure image B and appearing as an interval between the micromirrors 101 . Accordingly, the shape accuracy of the exposed image I can be improved, and the defect rate of the final product can be reduced.

도 4를 참조하면 상기 마이크로 미러(Micro mirror)(101)의 크기와, 상기 복수의 마이크로 미러(Micro mirror)(101)의 간격의 합이 Dg이라고 할 때, 상기 제 1반사미러(330)의 -Y축방향의 이동량(Dm)은 Dg/2인 것이 바람직하다. 하지만 이에 한정하는 것은 아니며, 상기 제 1반사미러(330)의 -Z축방향의 이동량(Dm)을 선택적으로 조정함으로써 상기 노광이미지(I)의 중첩도를 조정할 수도 있을 것이다.Referring to FIG. 4, when the sum of the size of the micro mirror 101 and the spacing of the plurality of micro mirrors 101 is Dg, The movement amount Dm in the Y-axis direction is preferably Dg / 2. However, the present invention is not limited thereto, and the overlap degree of the exposure image I may be adjusted by selectively adjusting the movement amount Dm of the first reflection mirror 330 in the -Z-axis direction.

상기 제 2 반사미러(340)는 상기 제 1빔스플리터(200)에서 Y축방향으로 분광된 노광이미지(I)를 전달받아 -Z축방향으로 반사시킨다. The second reflection mirror 340 receives the exposure image I, which has been spectroscopically measured in the Y-axis direction by the first beam splitter 200, and reflects it in the -Z-axis direction.

상기 제 2프리즘(320)은, 상기 제 1반사미러(230)로부터 -Z방향으로 반사되는 노광이미지(I)를 전달받아, 상기 D1과 상이한 거리인 D2만큼 X축방향으로 이동시킨다. 또한 상기 제 2프리즘(320)은 상기 제 1반사미러(230)로부터 -Z방향으로 노광이미지(I)를 전달받아, 상기 D1과 상이한 거리인 D2만큼 X축 방향으로 이동시킨 후 -Z축방향으로 반사시킨다. 이때 상기 제 2프리즘(320)은 장사방형(Rhomboid) 형상인 것이 바람직하다. 따라서, 상기 제 2프리즘(320)의 장사방형 형상에 의하여 상기 제 2프리즘(320)을 통과하는 노광이미지(I)가 X축방향으로 D2만큼 이동 될 수 있다. 즉 상기 제 2프리즘(320)에서 상기 노광이미지(I)가 통과하는 경로 길이가 D1인 것이 바람직하다. 부연하면, 상기 노광이미지(I)가 상기 장사방형 형상의 제 2프리즘(320)의 일측에서 -Z축방향으로 입사되어, 상기 제 2프리즘(320)의 타측으로 -Z축방향으로 반사되어 이동될 때, 상기 제 2프리즘(320)의 일측에서 타측의 거리가 D2인 것이 바람직하다. The second prism 320 receives the exposure image I reflected in the -Z direction from the first reflecting mirror 230 and moves it in the X axis direction by a distance D2 different from the distance D1. The second prism 320 receives the exposure image I in the -Z direction from the first reflecting mirror 230, moves it in the X axis direction by a distance D2 different from the distance D1, . At this time, the second prism 320 preferably has a rhomboid shape. Accordingly, the exposed image I passing through the second prism 320 can be moved by D2 in the X-axis direction due to the rectangular prism shape of the second prism 320. [ That is, the path length through which the exposed image I passes in the second prism 320 is preferably D1. In other words, the exposed image I is incident on the -Z-axis direction from one side of the second prism 320 having the rectangular prism shape, and is reflected in the -Z-axis direction toward the other side of the second prism 320 The distance from one side of the second prism 320 to the other side is preferably D2.

상기 D2는, 상기 D1의 길이와 상이한 길이로, 상기 D1과 상기 D2의 차이만큼 중첩 노광이미지(S)가 X축방향으로 이동될 수 있다. 상기 제 1프리즘(310) 및 상기 제 2프리즘(320)이 상기 D1과 상기 D2의 차이만큼 노광이미지를 X축방향으로 이동시킴으로써 상기 제 2빔스플리터(400)에 의하여 노광대상물(O)상에 조사될 중첩 노광이미지(S)를 X축방향으로 이동시킨다. 즉 기존에 노광대상물(O) 상에 기본 노광이미지(B)를 형성시킨 후, 상기 제 1프리즘(310) 및 상기 제 2프리즘(320)을 통해상기 노광대상물(O) 상에 X축방향으로 이동된 중첩 노광이미지(S)를 형성시킬 수 있다. 즉 상기 제 1프리즘(310) 및 상기 제 2프리즘(320)에 의하여 X축방향으로 이동된 중첩 노광이미지(S)는 상기 기본 노광이미지(B)와 중첩되어 마이크로미러(101) 사이의 간격으로 나타나는 공백 공간에 형성될 수 있다. 이를 통해 상기 노광이미지(I)의 형상정밀도를 향상시킬 수 있으며, 최종 제품의 불량률을 줄일 수 있다. The D2 is a length different from the length of D1, and the overlapping exposure image S can be shifted in the X-axis direction by the difference between D1 and D2. The first prism 310 and the second prism 320 move the exposure image in the X axis direction by the difference between D1 and D2 so that the second beam splitter 400 And moves the overlapping exposure image S to be irradiated in the X-axis direction. That is, after a basic exposure image B is formed on the object to be exposed O, the light is focused on the object to be exposed O in the X-axis direction through the first prism 310 and the second prism 320 Thereby forming a shifted superposed exposure image S. That is, the superposed exposure image S moved in the X-axis direction by the first prism 310 and the second prism 320 is superimposed on the basic exposure image B, May be formed in the appearing blank space. Accordingly, the shape accuracy of the exposed image I can be improved, and the defect rate of the final product can be reduced.

상기 마이크로미러(Micro mirror)(101)의 크기와, 상기 복수의 마이크로 미러(Micro mirror)의 간격의 합이 Dg이라고 할 때, 상기 D1과 상기 D2의 차이는 Dg/2인 것이 바람직하다. 따라서, 중첩 노광이미지(S)를 상기 제 1프리즘(310) 및 상기 제 2프리즘(320)을 통하여 Dg/2만큼 X축방향으로 이동시키고, 상기 제 1반사미러(330)를 통하여 상기 중첩 노광이미지(S)를 Dg/2만큼 Z축방향으로 이동시킴으로써, 상기 마이크로미러(101) 사이의 공백 공간에 노광이미지(I)를 형성시킬 수 있다. 여기서 상기 제 1프리즘(310) 및 상기 제 2프리즘(320)을 통해 중첩 노광이미지(S)를 X축방향으로 이동시키고, 제 1반사미러(330)를 Z축방향으로 이동시키는 것은 예시적인 것으로서, 상기 제 1프리즘(310) 및 상기 제 2프리즘(320)을 통해 중첩 노광이미지(S)를 -X축방향으로 이동시키고, 제 1반사미러(330)를 -Z축방향으로 이동시킴으로써, 상기 중첩 노광이미지(S)를 -X축방향 및 Y축방향으로 이동되도록 적용시킬 수도 있을 것이다. If the sum of the size of the micro mirror 101 and the spacing of the plurality of micro mirrors is Dg, the difference between D1 and D2 is preferably Dg / 2. Accordingly, the overlapping exposure image S is moved in the X-axis direction by Dg / 2 through the first prism 310 and the second prism 320, and the overlapping exposure By moving the image S in the Z-axis direction by Dg / 2, an exposed image I can be formed in the blank space between the micromirrors 101. The overlapping exposure image S is moved in the X axis direction through the first prism 310 and the second prism 320 and the first reflection mirror 330 is moved in the Z axis direction , The overlapping exposure image S is moved in the -X axis direction through the first prism 310 and the second prism 320 and the first reflection mirror 330 is moved in the -Z axis direction, The overlapping exposure image S may be applied to move in the -X-axis direction and the Y-axis direction.

상기 제 2빔스플리터(400)는, 상기 프리즘부(300)로부터 Y축방향 및 -Z축방향으로 반사되는 노광이미지(I)를 각각 전달받아, 노광대상물(O) 상에 상기 노광이미지(I)를 -Z축방향으로 조사한다. 즉 상기 제 2빔스플리터(400)는 제 1반사미러(330)로부터 Y축방향으로 반사되는 노광이미지와, 상기 제 2프리즘(320)으로부터 -Z축방향으로 반사되는 노광이미지(I)를 각각 전달받아, 하나의 노광이미지로 노광대상물(O)상에 조사함으로써, 상기 노광대상물(O) 상에 노광이미지(I)를 형성시킬 수 있다.The second beam splitter 400 receives the exposure image I reflected from the prism unit 300 in the Y-axis direction and the -Z-axis direction, respectively, and forms the exposure image I ) In the -Z-axis direction. That is, the second beam splitter 400 has an exposure image reflected in the Y axis direction from the first reflection mirror 330 and an exposure image I reflected in the -Z axis direction from the second prism 320 (I) on the object to be exposed (O) by irradiating the object (O) with a single exposure image.

이와 같은 본 발명에 따르면, 정사방형 형상의 제 1프리즘과 제 2프리즘을 이용하여 노광이미지를 각각 상이한 거리의 X축으로 이동시키고, 제 2 반사미러가 Z축방향으로 이동가능도록 구비되어, 중첩 노광이미지를 X축방향 및 Y축방향으로 이동시킴으로써 노광대상물 상에 형성되는 노광이미지를 중첩시킬 수 있다. According to the present invention as described above, the exposure images are moved in different X-axes by using the first prism and the second prism, and the second reflection mirror is provided so as to be movable in the Z-axis direction, The exposure image formed on the exposure subject can be superimposed by moving the exposure image in the X-axis direction and the Y-axis direction.

따라서 기본 노광이미지의 공백 공간에 중첩되는 노광이미지가 형성됨에 따라 마이크로미러의 사이 간격으로 발생하는 공백이 보완되어 노광이미지의 형상정밀도 및 해상도가 향상된 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치를 제공할 수 있다.Accordingly, it is possible to provide an exposure apparatus having a plurality of prisms with improved accuracy in the shape and resolution of an exposed image by complementing a gap generated in an interval between micromirrors as an exposed image superimposed on a blank space of a basic exposure image is formed .

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. Therefore, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

10 : 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치
100 : DMD 101 : 마이크로미러
200 : 제 1빔스플리터 300 : 프리즘부
310 : 제 1프리즘 320 : 제 2프리즘
330 : 제 1반사미러 340 : 제 2반사미러
400 : 제 2빔스플리터 O : 노광대상물
I : 노광이미지 B : 기본 노광이미지
S : 중첩 노광이미지 10: Exposure device having a plurality of prisms
100: DMD 101: Micro mirror
200: first beam splitter 300: prism portion
310: first prism 320: second prism
330: first reflection mirror 340: second reflection mirror
400: second beam splitter O: object to be exposed
I: Exposure image B: Basic exposure image
S: Overexposed exposure image

Claims (7)

X축과, 상기 X축에 대하여 직각이 되는 Y축과, 상기 X축 및 Y축에 대하여 직각이 되는 Z축 상에 배치되어 노광대상물에 노광이미지를 생성하기 위한 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치에 있어서,
적어도 하나 이상의 열과 행으로 정렬되어 설계된 노광이미지에 대응하도록 전자 신호를 송신받아 온오프(On-off)하고, 복수의 마이크로 미러(Micro mirror)를 구비하는 DMD(Digital Micro-mirror Device);
상기 DMD로부터 상기 노광이미지를 전달받아 상기 노광이미지를 -Z축방향 및 Y축방향으로 분광하는 제 1빔스플리터(Beam splitter);
상기 제 1빔스플리터에서 -Z축방향 및 Y축방향으로 분광된 노광이미지를 각각 Y축방향 및 -Z축방향으로 반사시키고,
상기 제 1빔스플리터에서 -Z축방향으로 분광된 노광이미지를 X축방향으로 D1 만큼 이동시키는 제 1프리즘과, 상기 제 1빔스플리터에서 Y축방향으로 분광된 노광이미지를 상기 D1과 상이한 거리인 D2만큼 X축방향으로 이동시키는 제 2프리즘을 포함하는 프리즘부; 및
상기 프리즘부로부터 -Z축방향 및 Y축방향의 노광이미지를 전달받아, 노광대상물 상에 상기 노광이미지를 -Z축방향으로 조사하는 제 2빔스플리터를 포함하고,
상기 프리즘부는,
장사방형(Rhomboid) 형상이며, 상기 제 1빔스플리터에서 -Z축방향으로 분광된 노광이미지(I)를 전달받아 X축방향으로 D1만큼 이동시킨 후 -Z축방향으로 반사시키는 제 1프리즘과,
상기 제 1프리즘에서 -Z방향으로 노광이미지를 전달받아 Y축방향으로 반사시키는 제 1 반사미러와,
상기 제 1빔스플리터에서 Y축방향으로 분광된 노광이미지를 전달받아 -Z축방향으로 반사시키는 제 2반사미러와,
장사방형(Rhomboid) 형상이며, 상기 제 1반사미러로부터 -Z방향으로 노광이미지를 전달받아, 상기 D1과 상이한 거리인 D2만큼 X축방향으로 이동시킨 후 -Z축방향으로 반사시키는 제 2프리즘을 포함하고,
상기 제 1프리즘에서 상기 노광이미지가 통과하는 경로 길이는 D1이고, 상기 제 2프리즘의 상기 노광이미지가 통과하는 경로 길이는 상기 D2와 상이한 길이인 D2이며,
상기 마이크로 미러(Micro mirror)의 크기와, 상기 복수의 마이크로 미러(Micro mirror)의 간격의 합이 Dg이고, 상기 D1과 상기 D2의 차이는 Dg/2인 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치. An exposure apparatus having an X-axis, a Y-axis perpendicular to the X-axis, and a plurality of prisms disposed on a Z-axis perpendicular to the X-axis and the Y-axis to generate an exposure image on an object to be exposed, In this case,
A DMD (Digital Micro-mirror Device) having an on-off transmission of an electronic signal corresponding to an exposed image designed in alignment with at least one column and a row and having a plurality of micro mirrors;
A first beam splitter for receiving the exposure image from the DMD and for spectroscopically analyzing the exposed image in the -Z and Y-axis directions;
Axis direction and the -Z-axis direction in the first beam splitter, respectively, in the Y-axis direction and the -Z-axis direction, respectively,
A first prism for shifting an exposure image that has been spectroscopically measured in the -Z-axis direction in the X-axis direction by the first beam splitter; and a second prism for moving an exposure image, which has been spectroscopically measured in the Y- A prism portion including a second prism that moves the first prism in the X-axis direction by D2; And
And a second beam splitter which receives an exposure image in the -Z-axis direction and the Y-axis direction from the prism section and irradiates the exposure image in the -Z-axis direction on the object to be exposed,
The prism portion,
A first prism for receiving the exposed image (I) that has been spectroscopically measured in the -Z-axis direction in the first beam splitter and moving it in the X-axis direction by D1 and then reflecting it in the -Z-axis direction,
A first reflecting mirror which receives an exposure image in the -Z direction from the first prism and reflects the exposed image in the Y axis direction,
A second reflection mirror for receiving the image of the exposure beam that has been spectroscopically measured in the Y-axis direction in the first beam splitter and reflecting it in the -Z-axis direction,
A second prism that receives an exposure image in the -Z direction from the first reflection mirror and moves in the X-axis direction by a distance D2 different from the distance D1, and reflects the image in the -Z-axis direction; Including,
Wherein a path length through which the exposed image passes in the first prism is D1 and a path length through which the exposed image of the second prism passes is D2 which is a length different from D2,
Wherein a sum of a size of the micro mirror and an interval of the plurality of micro mirrors is Dg and a difference between D1 and D2 is Dg / 2. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 제 1반사미러는,
Z축방향으로 이동가능하도록 구비되는 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치.The method according to claim 1,
Wherein the first reflection mirror comprises:
And a plurality of prisms provided movably in the Z-axis direction. 청구항 6에 있어서,
상기 마이크로 미러(Micro mirror)의 크기와, 상기 복수의 마이크로 미러(Micro mirror)의 간격의 합이 Dg이고,
상기 제 1반사미러의 -Z축방향의 이동량은 Dg/2인 복수의 프리즘을 구비하는 노광장치.The method of claim 6,
Wherein the sum of the size of the micro mirror and the spacing of the plurality of micro mirrors is Dg,
Wherein a moving amount of the first reflecting mirror in the -Z-axis direction is Dg / 2.
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