KR101789238B1 - 디스플레이 장치 및 이의 제조 방법 - Google Patents

디스플레이 장치 및 이의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 일 실시예는 기판상에 적어도 표시 영역을 갖는 중앙 영역 및 상기 중앙 영역의 주변에 배치된 주변 영역을 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것으로서, 상기 표시 영역상에 형성되고 적어도 상기 주변 영역의 일 영역에까지 연장되도록 형성된 표시 영역 무기막, 상기 표시 영역 무기막의 상부에 형성된 봉지 무기막을 포함하고, 상기 봉지 무기막은 메인 영역 및 상기 메인 영역에 연결된 섀도우 영역을 포함하고, 상기 섀도우 영역은 상기 메인 영역보다 상기 기판의 가장자리에 근접하도록 형성되고 경사진 측면을 갖는 디스플레이 장치를 개시한다.

Description

디스플레이 장치 및 이의 제조 방법 {Display apparatus and method of manufacturing the same}
본 발명의 실시예들은 디스플레이 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
근래에 디스플레이 장치는 그 용도가 다양해지고 있다. 또한, 디스플레이 장치의 두께가 얇아지고 무게가 가벼워 그 사용의 범위가 광범위해지고 있는 추세이다.
특히, 디스플레이 장치는 휴대가 가능한 박형의 평판 형태의 디스플레이 장치로 대체되는 추세이다.
한편, 디스플레이 장치는 사용자 측으로 하나 이상의 가시 광선을 구현할 수 있도록 기판상에 표시 영역을 구비하고, 표시 영역에는 광을 구현하는 표시 소자가 형성될 수 있다.
이러한 표시 소자를 외부의 이물등으로부터 보호하도록 봉지막 또는 봉지 부재가 표시 소자상에 형성된다.
그러나, 봉지 부재의 내구성이 약화되어 원하는 대로 표시 소자를 보호하지 못하여 디스플레이 장치의 내구성 및 화질 특성 향상에 한계가 있다.
특히, 봉지 부재가 표시 소자를 안정적으로 덮지 못하고 박리되거나 손상되어 봉지 부재의 봉지 특성이 감소하고, 결과적으로 디스플레이 장치의 내구성 및 화질 특성에 영향을 준다.
본 발명의 실시예들은 디스플레이 장치 및 이의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시예는 기판상에 구획된 적어도 표시 영역을 갖는 중앙 영역 및 상기 중앙 영역의 주변에 배치된 주변 영역을 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것으로서, 상기 표시 영역상에 형성되고 적어도 상기 주변 영역의 일 영역에까지 연장되도록 형성된 표시 영역 무기막 및 상기 표시 영역을 덮도록 상기 표시 영역 무기막의 상부에 형성되고 상기 표시 영역 무기막의 가장자리와 나란하거나 상기 표시 영역 무기막의 가장자리를 지나치도록 형성된 가장자리를 갖는 봉지 무기막을 포함하는 디스플레이 장치를 개시한다.
*본 실시예에 있어서 상기 봉지 무기막의 가장자리는 상기 기판의 가장자리와 이격되도록 상기 봉지 무기막은 상기 기판보다 작은 크기를 가질 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표시 영역 무기막의 가장자리는 상기 기판의 가장자리와 이격되도록 상기 표시 영역 무기막은 상기 기판보다 작은 크기를 가질 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 봉지 무기막의 적어도 일 가장자리는 상기 표시 영역의 무기막의 일 가장자리를 지나쳐서 상기 기판상에 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 봉지 무기막은 메인 영역 및 상기 메인 영역에 연결된 섀도우 영역을 포함하고, 상기 섀도우 영역은 상기 메인 영역보다 상기 기판의 가장자리에 근접하도록 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 메인 영역은 상기 표시 영역 무기막의 가장자리를 벗어나도록 형성되고, 상기 섀도우 영역은 상기 기판상에 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 메인 영역의 가장자리는 상기 표시 영역 무기막의 가장자리를 벗어나지 않도록 형성되고, 상기 섀도우 영역은 상기 표시 영역 무기막의 측면과 접할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 섀도우 영역은 경사진 측면을 구비할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표시 영역 무기막과 이격되도록 형성된 이격 부재를 더 포함하고, 상기 봉지 무기막의 섀도우 영역은 상기 이격 부재보다 상기 기판의 가장자리에 더 가깝지 않도록 상기 이격 부재를 넘어서지 않을 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 섀도우 영역은 상기 이격 부재의 측면과 접할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 섀도우 영역은 상기 이격 부재의 측면과 이격될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 이격 부재는 상기 표시 영역 무기막과 동일한 재질로 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 기판과 상기 표시 영역 무기막의 사이에 배치된 배리어층을 더 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 봉지 무기막의 적어도 일 가장자리는 상기 배리어층의 일 가장자리를 벗어나도록 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 배리어층의 적어도 일 가장자리는 상기 봉지 무기막의 일 가장자리를 벗어나도록 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표시 영역 무기막과 이격되도록 형성된 이격 부재를 더 포함하고, 상기 봉지 무기막의 섀도우 영역은 상기 이격 부재보다 상기 기판의 가장자리에 더 가깝지 않도록 상기 이격 부재를 넘어서지 않고, 상기 이격 부재는 상기 배리어층의 상부에 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표시 영역 무기막과 이격되도록 형성된 이격 부재를 더 포함하고, 상기 봉지 무기막의 섀도우 영역은 상기 이격 부재보다 상기 기판의 가장자리에 더 가깝지 않도록 상기 이격 부재를 넘어서지 않고, 상기 이격 부재는 상기 배리어층과 동일한 재질로 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표시 영역을 덮도록 상기 표시 영역 무기막과 상기 봉지 무기막 사이에 배치되는 봉지 유기막을 더 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 봉지 유기막은 상기 표시 영역 무기막보다 작게 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 봉지 유기막은 상기 봉지 무기막보다 작게 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 봉지 유기막보다 상기 기판의 가장자리에 더 가깝게 배치되도록 형성된 차단 부재를 더 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 차단 부재는 복수 개로 구비될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 복수 개의 차단 부재는 서로 높이가 다를 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 봉지 무기막은 복수 개의 무기막이 적층된 형태로 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표시 영역을 덮도록 배치된 봉지 유기막을 더 포함하고, 상기 봉지 유기막은 상기 봉지 무기막의 복수 개의 무기막들 사이에 배치되고 상기 복수 개의 무기막들보다 작게 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 봉지 유기막은 복수 개의 유기막을 구비하고, 상기 복수 개의 유기막 중 적어도 하나의 유기막은 상기 봉지 무기막의 일 무기막과 상기 표시 영역 무기막의 사이에 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표시 영역 무기막과 상기 봉지 무기막의 사이에 배치된 기능층을 더 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 기능층은 적어도 가시 광선에 대한 굴절율을 제어할 수 있는 층을 구비할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 기능층과 상기 봉지 무기막의 사이에 배치된 제1 보호층을 더 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 봉지 무기막의 상부에 형성되고 상기 봉지 무기막보다 크게 형성되는 제2 보호층을 더 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 기판은 유기물을 함유할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표시 영역에는, 하나 이상의 표시 소자 및 상기 표시 소자와 전기적으로 연결되고, 활성층, 게이트 전극, 소스 전극 및드레인 전극을 구비하는 박막 트랜지스터가 형성되고, 상기 표시 영역 무기막은 상기 활성층, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극의 적어도 어느 하나와 접하는 층일 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표시 영역 무기막은, 상기 활성층과 게이트 전극을 절연하는 게이트 절연막과, 소스 전극 및 드레인 전극과 게이트 전극을 절연하는 층간 절연막 중 적어도 어느 하나일 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 표시 소자는 제1 전극, 제2 전극 및 상기 제1 전극과 제2 전극의 사이에 배치되고 유기 발광층을 구비하는 중간층을 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면 기판상에 적어도 표시 영역을 갖는 중앙 영역 및 상기 중앙 영역의 주변에 배치된 주변 영역을 포함하는 디스플레이 장치 제조 방법에 관한 것으로서, 상기 표시 영역상에 적어도 상기 주변 영역의 일 영역에까지 연장되도록 표시 영역 무기막을 형성하는 단계 및 상기 표시 영역을 덮고 상기 표시 영역 무기막의 상부에 위치되고 상기 표시 영역 무기막의 가장자리와 나란하거나 상기 표시 영역 무기막의 가장자리를 지나치는 가장자리를 갖는 봉지 무기막을 형성하는 단계를 포함하는 디스플레이 장치 제조 방법을 개시한다.
본 실시예에 있어서 상기 봉지 무기막을 형성하는 단계는 증착 방법을 이용하여 진행할 수 있다.
본 실시예에 있어서 상기 봉지 무기막을 형성하는 단계는 마스크를 이용하여 상기 봉지 무기막이 상기 기판의 가장자리 중 적어도 일 가장자리와 이격되는 패턴 형태로 형성할 수 있다.
전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.
본 발명의 실시예들의 디스플레이 장치 및 그 제조 방법은 내구성이 향상된디스플레이 장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 절단한 단면도이다.
도 3 내지 도 11은 도 2의 변형예를 도시한 도면이다.
도 12는 본 발명의 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 13은 도 12의 Ⅲ-Ⅲ선을 따라 절단한 단면도이다.
도 14 내지 도 23은 도 13의 변형예를 도시한 도면이다.
도 24는 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 25는 도 24의 Ⅳ-Ⅳ선을 따라 절단한 단면도이다.
도 26 내지 도 28은 도 25의 변형예를 도시한 도면이다.
도 29는 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 30은 도 29의 ⅤA-ⅤA, ⅤB-ⅤB선을 따라 절단한 단면도이다.
도 31은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 32는 도 31의 ⅥA-ⅥA, ⅥB-ⅥB선을 따라 절단한 단면도이다.
도 33은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 34는 도 33의 ⅩA-ⅩA, ⅩB-ⅩB선을 따라 절단한 단면도이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다.
이하의 실시예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
이하의 실시예에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.
이하의 실시예에서, 막, 영역, 구성 요소 등의 부분이 다른 부분 위에 또는 상에 있다고 할 때, 다른 부분의 바로 위에 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 있는 경우도 포함한다.
도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
이하의 실시예에서, x축, y축 및 z축은 직교 좌표계 상의 세 축으로 한정되지 않고, 이를 포함하는 넓은 의미로 해석될 수 있다. 예를 들어, x축, y축 및 z축은 서로 직교할 수도 있지만, 서로 직교하지 않는 서로 다른 방향을 지칭할 수도 있다.
어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 평면도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ선을 따라 절단한 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 관한 디스플레이 장치(1000)는 기판(101)을 포함한다. 기판(101)상에는 표시 영역(DA)을 갖는 중앙 영역(CA) 및 중앙 영역(CA)의 주변에 배치된 주변 영역(PA)이 정의된다.
기판(101)상에는 표시 영역 무기막(110) 및 봉지 무기막(120)이 형성된다.
각 부재에 대하여 구체적으로 설명하기로 한다.
기판(101)은 다양한 소재를 포함할 수 있다. 구체적으로 기판(101)은 유리, 금속 또는 유기물 기타 재질로 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 기판(101)은 플렉서블 소재의 기판(101)을 포함한다. 여기서, 플렉서블 소재의 기판(101)이란 가요성을 갖는 기판으로 잘 휘어지고 구부러지며 접거나 돌돌 말 수 있는 기판을 지칭한다. 이러한 플렉서블 소재의 기판(101)은 초박형 유리, 금속 또는 플라스틱으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 플라스틱을 사용하는 경우 기판(101)은 폴리이미드(PI)로 이루어질 수 있으나 이는 예시적인 것이며 다양한 소재를 적용할 수 있다.
디스플레이 장치(1000)는 다양한 방법으로 형성될 수 있는데, 마더 기판 상에 복수 개의 디스플레이 장치(1000)가 포함되도록 공정을 진행한 후에 절단 공정을 통하여 최종적으로 복수 개의 디스플레이 장치(1000)가 형성될 수 있고, 선택적 실시예로서 하나의 마더 기판에 1개의 디스플레이 장치(1000)가 형성될 수 있다.
기판(101)은 주변 영역(PA) 및 중앙 영역(CA)으로 구획된다. 구체적으로 주변 영역(PA)은 기판(101)의 가장자리와 인접한 영역이고, 중앙 영역(CA)은 주변 영역(PA)의 안쪽의 영역이다.
중앙 영역(CA)은 적어도 표시 영역(DA)을 포함한다.
표시 영역(DA)에는 화상이 표시되도록 하나 이상의 표시 소자(미도시), 예를들면 유기 발광 소자(OLED)가 구비될 수 있다. 또한, 표시 영역(DA)에는 복수개의 화소들이 배치될 수 있다.
표시 영역(DA)의 주변에는 비표시 영역(미도시)이 형성될 수 있다. 구체적으로 표시 영역(DA)을 둘러싸도록 비표시 영역이 형성될 수 있다. 선택적 실시예로서 비표시 영역은 표시 영역(DA)의 복수 개의 측면에 인접하도록 형성될 수 있다. 또한 다른 선택적 실시예로서 비표시 영역은 표시 영역(DA)의 일측면에 인접하도록 형성될 수 있다.
또한, 다른 선택적 실시예로서 중앙 영역(CA)에는 표시 영역(DA)만이 구비될 수 있다. 즉, 비표시 영역은 주변 영역(PA)에만 형성될 수도 있다.
비표시 영역에는 패드 영역이 형성될 수 있고, 패드 영역에는 드라이버(driver)나 복수개의 패드부(미도시)들이 배치된다.
표시 영역 무기막(110)은 기판(101)상에 형성된다. 표시 영역 무기막(110)은 적어도 표시 영역(DA)상에 형성된다. 예를들면 표시 영역 무기막(110)은 표시 영역(DA)에 구비되는 표시 소자(미도시)의 하부에 형성되거나 표시 소자(미도시)와 인접하도록 형성되거나 표시 소자(미도시)에 구비된 복수의 부재들 중 어느 하나와 인접하도록 형성될 수 있다.
표시 영역 무기막(110)은 표시 영역(DA)에 형성되고 주변 영역(PA)의 일 영역에까지 연장되도록 형성된다.
선택적 실시예로서 표시 영역 무기막(110)의 가장자리 중 적어도 하나의 가장자리는 기판(101)의 가장자리와 이격될 수 있다. 즉, 표시 영역 무기막(110)의 가장자리와 기판(101)의 가장자리의 사이에 대응되는 영역에서 기판(101)의 상면의 일 영역이 표시 영역 무기막(110)으로 덮이지 않고 노출될 수 있다.
표시 영역 무기막(110)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 표시 영역 무기막(110)은 산화물, 질화물 또는 질산화물을 포함할 수 있다. 더 구체적인 예로서, 표시 영역 무기막(110)은 실리콘나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥사이드(SiO2) 또는 실리콘 옥시나이트라이드 (SiOxNy)를 함유할 수 있다.
주변 영역(PA)은 기판(101)의 가장자리에 인접하도록 배치될 수 있고, 선택적 실시예로서 주변 영역(PA)은 기판(101)의 가장자리 전체에 인접하도록 배치될 수도 있다.
봉지 무기막(120)은 기판(101)상의 표시 영역(DA)을 덮도록 형성되고, 표시 영역 무기막(110)상에 형성된다. 예를들면, 봉지 무기막(120)은 표시 영역(DA)에 구비되는 표시 소자(미도시)를 덮도록 형성된다. 봉지 무기막(120)은 표시 영역(DA)을 덮어, 예를들면 표시 소자(미도시)를 덮어서 표시 영역(DA)으로 수분 또는 산소등과 같은 이물이 침투하는 것을 차단 또는 감소할 수 있다.
봉지 무기막(120)은 표시 영역 무기막(110)상부에 형성된다. 또한, 봉지 무기막(120)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(110)의 가장자리를 벗어난다. 즉, 봉지 무기막(120)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(110)의 일 가장자리를 지나쳐서 기판(101)의 상면과 접할 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 무기막(120)의 모든 가장자리는 표시 영역 무기막(110)의 가장자리를 벗어나서 기판(101)의 상면과 접할 수 있다.
봉지 무기막(120)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 무기막(120)은 산화물, 질화물 또는 질산화물을 포함할 수 있다. 더 구체적인 예로서, 봉지 무기막(120)은 실리콘나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥사이드(SiO2) 또는 실리콘 옥시나이트라이드 (SiOxNy)를 함유할 수 있다.
도 3은 도 2의 변형예를 도시한 도면이다. 도 3에는 봉지 무기막(120)이 메인 영역(120a) 및 섀도우 영역(120b)을 포함하도록 도시되어 있다. 즉, 봉지 무기막(120)을 형성 시, 예를들면 마스크(미도시)를 이용한 증착 방법으로 봉지 무기막(120)을 형성 시 마스크(미도시)와 기판(101)의 이격된 공간을 통하여 섀도우 영역(120b)이 형성될 수 있다. 섀도우 영역(120b)은 경사진 측면을 가지고, 경사진 측면은 경우에 따라서 곡면을 포함할 수도 있다.
상기 증착 방법은 다양한 종류를 이용할 수 있고, 예를들면 화학 기상 증착법(chemical vapor deposition)을 이용할 수 있다.
상기의 마스크를 이용하여 봉지 무기막(120)을 형성 시 기판(101)의 가장자리와 이격된 패턴을 갖도록 형성할 수 있다.
봉지 무기막(120)의 메인 영역(120a)은 표시 영역 무기막(110)의 상부에 형성되고 또한, 봉지 무기막(120)의 메인 영역(120a)은 표시 영역 무기막(110)의 가장자리를 벗어나서 기판(101)의 상면과 접할 수 있다. 즉 봉지 무기막(120)의 메인 영역(120a)은 도 1 및 도 2의 봉지 무기막(120)에 대응되는 구성 요소이다.
봉지 무기막(120)의 섀도우 영역(120b)은 메인 영역(120a)의 가장자리에 연결되는데, 섀도우 영역(120b)은 표시 영역 무기막(110)의 가장자리와 이격되도록 형성되고 기판(101)의 상면에 배치될 수 있다.
*도 1 내지 도 3에 도시된 실시예의 봉지 무기막(120)의 적어도 일 가장자리는, 또한 선택적 실시예로서 모든 가장자리는 표시 영역 무기막(110)의 가장자리를 지나쳐서 기판(101)의 상면에 형성된다.
즉, 봉지 무기막(120)의 가장자리 영역이 기판(101)의 상면과 접할 수 있게 되고, 이를 통하여 봉지 무기막(120)의 가장자리가 표시 영역 무기막(110)으로부터 박리되는 것을 감소 또는 방지하고, 이를 통하여 봉지 무기막(120)의 봉지 특성이 향상될 수 있다.
또한, 선택적 실시예로서 기판(101)이 유기물, 예를들면 플라스틱으로 형성될 경우 봉지 무기막(120)과 봉지 무기막(120)과 기판(101)의 상면이 접하게 되고, 이를 통하여 디스플레이 장치(1000)의 제조 과정 중 또는 사용 중에 봉지 무기막(120)이 기판(101)으로부터 박리되는 것을 효과적으로 감소할 수 있다. 예를들면 디스플레이 장치(1000)의 제조 과정 중 고온 또는 고습의 공정을 수행하는데, 봉지 무기막(120)이 수축 및 팽창하여 스트레스(stress)가 발생할 수 있다. 이 때 유기물을 포함하는 기판(101)은 봉지 무기막(120)의 스트레스를 완화할 수 있다.
이를 통하여 벤딩 또는 폴딩 등 사용자의 편의성을 증대하는 유연성이 있는 디스플레이 장치(1000)를 용이하게 구현할 수 있다.
또한, 기판(101)의 적어도 일 가장자리와 봉지 무기막(120)의 가장자리가 이격되고, 이를 통하여 기판(101)의 가장자리와 인접한 영역, 즉 적어도 주변 영역(PA)에는 기판(101)의 상면이 덮이지 않고 노출된 영역이 형성된다. 이러한 기판(101)상의 노출된 영역은 디스플레이 장치(1000)의 제조 과정 중 분리를 위한 절단 공정 시 크랙 전파를 원천적으로 차단할 수 있게 한다. 또한 디스플레이 장치(1000)의 유연성을 향상하여 사용자의 편의성을 증대할 수 있다.
도 4 내지 도 11은 도 2의 변형예를 도시한 도면이다.
도 4를 참조하면 기판(101)상에 배리어층(102)이 형성된다. 배리어층(102)은 기판(101)과 표시 영역 무기막(110)의 사이에 배치된다. 배리어층(102)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있고, 예를들면 산화물, 질화물 또는 질산화물을 포함할 수 있다. 더 구체적인 예로서, 배리어층(102)은 실리콘나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥사이드(SiO2) 또는 실리콘 옥시나이트라이드 (SiOxNy)를 함유할 수 있다.
봉지 무기막(120)은 표시 영역 무기막(110)상부에 형성된다. 또한, 봉지 무기막(120)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(110) 및 배리어층(102)의 가장자리를 벗어난다. 즉, 봉지 무기막(120)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(110)의 일 가장자리 및 배리어층(102)의 가장자리를 지나쳐서 기판(101)의 상면과 접할 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 무기막(120)의 모든 가장자리는 표시 영역 무기막(110)의 가장자리 및 배리어층(102)의 가장자리를 벗어나서 기판(101)의 상면과 접할 수 있다.
선택적 실시예로서 표시 영역 무기막(110)의 측면과 배리어층(102)의 측면이 나란하게 형성될 수 있다.
배리어층(102)은 기판(101)을 통하여 침투하는 수분 또는 산소와 같은 이물을 차단할 수 있다.
도 5를 참조하면 봉지 유기막(140)이 표시 영역 무기막(110)상에 형성된다. 봉지 유기막(140)은 표시 영역 무기막(110)과 봉지 무기막(120)의 사이에 배치된다.
봉지 유기막(140)의 가장자리는 표시 영역 무기막(110)의 가장자리를 벗어나지 않는다. 봉지 유기막(140)은 표시 영역 무기막(110)보다 작게 형성될 수 있다. 이를 통하여 봉지 유기막(140)은 기판(101)의 상면과 이격될 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 유기막(140)은 표시 영역 무기막(110)과 봉지 무기막(120)보다 작게 형성될 수 있다.
봉지 유기막(140)은 적어도 기판(101)상의 표시 영역(DA)을 덮도록 형성될 수 있고, 예를들면 표시 영역(DA)에 구비된 표시 소자(미도시)를 덮도록 형성될 수 있다.
봉지 유기막(140)은 표시 영역(DA)으로 수분 또는 산소등과 같은 이물이 침투하는 것을 차단 또는 감소할 수 있다. 특히, 봉지 유기막(140)은 봉지 무기막(120)과 함께 사용되어 봉지 특성을 향상할 수 있다. 또한 봉지 유기막(140)은 평탄면을 용이하게 형성할 수 있다.
봉지 유기막(140)은 다양한 유기물을 이용하여 형성할 수 있고, 예를들면 수지를 포함할 수 있다. 선택적 실시예로서 봉지 유기막(140)은 에폭시 계열 수지, 아크릴 계열 수지 또는 폴리 이미드 계열 수지를 포함할 수 있다.
도 6을 참조하면, 도 5에 도시된 구조에 차단 부재(150)가 더 추가된다. 구체적으로 차단 부재(150)는 표시 영역 무기막(110)상에 형성되고, 적어도 봉지 유기막(140)보다 기판(101)의 일 가장자리에 더 가깝게 배치된다. 이를 통하여 봉지 유기막(140)의 형성 시 봉지 유기막(140)의 재료 또는 봉지 유기막(140)이 기판(101)의 가장자리 방향으로 넘치는 것을 감소 또는 차단할 수 있다.
차단 부재(150)는 표시 영역 무기막(110)과 봉지 무기막(120)의 사이에 배치될 수 있다.
차단 부재(150)는 도 6에 도시된 것과 같이 1개만 형성될 수 있고, 도 7에 도시한 대로 복수 개 형성될 수도 있다.
도 7을 참조하면 차단 부재(150)가 제1 차단 부재(151) 및 제2 차단 부재(152)를 구비하고, 제2 차단 부재(152)가 제1 차단 부재(151)보다 높이가 더 크게 형성될 수 있다. 즉, 제2 차단 부재(152) 및 제1 차단 부재(151) 중 기판(101)의 가장자리에 더 가까운 제2 차단 부재(152)를 제1 차단 부재(151)보다 더 높게 형성할 수 있고, 이를 통하여 봉지 유기막(140)의 형성 시 봉지 유기막(140)의 재료 또는 봉지 유기막(140)이 비정상적으로 흘러 넘치는 것을 제1 차단 부재(151)가 1차적으로 차단하고, 1차적으로 제2 차단 부재(152)가 효과적으로 차단할 수 있다.
도시하지 않았으나 차단 부재(150)는 3개 이상의 차단 부재(미도시)를 구비할 수도 있고, 그 높이도 다양하게 결정할 수 있다.
도 8을 참조하면 봉지 무기막(120)은 복수개의 무기막, 즉 제1 무기막(121) 및 제2 무기막(122)를 포함한다. 제1 무기막(121)은 표시 영역 무기막(110)상에 형성되고, 제2 무기막(122)은 제1 무기막(121)상에 형성된다.
제1 무기막(121) 및 제2 무기막(122)은 기판(101)상의 표시 영역(DA)을 덮도록 형성되고, 표시 영역 무기막(110)상에 형성된다. 예를들면, 제1 무기막(121) 및 제2 무기막(122)은 표시 영역(DA)에 구비되는 표시 소자(미도시)를 덮도록 형성된다. 제1 무기막(121) 및 제2 무기막(122)은 표시 영역(DA)을 덮어, 예를들면 표시 소자(미도시)를 덮어서 표시 영역(DA)으로 수분 또는 산소등과 같은 이물이 침투하는 것을 차단 또는 감소할 수 있다.
제1 무기막(121) 및 제2 무기막(122)은 표시 영역 무기막(110)상부에 형성된다. 또한, 제1 무기막(121) 및 제2 무기막(122)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(110)의 가장자리를 벗어난다. 즉, 제1 무기막(121) 및 제2 무기막(122)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(110)의 일 가장자리를 지나쳐서 기판(101)의 상면과 접할 수 있다.
선택적 실시예로서 제1 무기막(121) 및 제2 무기막(122)의 모든 가장자리는 표시 영역 무기막(110)의 가장자리를 벗어나서 기판(101)의 상면과 접할 수 있다.
선택적 실시예로서 제1 무기막(121) 및 제2 무기막(122)의 측면은 나란하게 형성될 수 있다.
제1 무기막(121) 및 제2 무기막(122)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있고, 전술한 실시예에서 언급한 봉지 무기막(120)을 형성하는 재료들 중 적어도 어느 하나를 이용하여 형성할 수 있다. 제1 무기막(121) 및 제2 무기막(122)은 동일한 재료 또는 서로 상이한 재료를 이용하여 형성할 수 있다.
도 8에 도시하지 않았으나, 봉지 무기막(120)이 3개 이상의 무기막을 포함할 수도 있다.
도 9를 참조하면 도 8과 같이 봉지 무기막(120)이 복수개의 무기막, 즉 제1 무기막(121) 및 제2 무기막(122)를 포함하고, 제1 무기막(121)과 제2 무기막(122)의 사이에 봉지 유기막(140)이 배치되고, 봉지 유기막(140)의 흘러 넘치는 것을 차단하는 차단 부재(150)가 표시 영역 무기막(110)의 상부에 형성된다.
제1 무기막(121)과 제2 무기막(122)의 사이에 봉지 유기막(140)이 배치된 구조를 통하여 봉지 특성을 향상할 수 있다.
도 10을 참조하면 봉지 무기막(120)이 복수개의 무기막, 즉 제1 무기막(121) 및 제2 무기막(122)를 포함하고, 봉지 유기막(140)은 복수개의 유기막, 즉 제1 유기막(141) 및 제2 유기막(142)을 포함한다.
표시 영역 무기막(110)과 제1 무기막(121)의 사이에 제1 유기막(141)이 배치되고, 제1 무기막(121) 및 제2 무기막(122)의 사이에 제2 유기막(142)이 배치된다.
봉지 유기막(140)의 제1 유기막(141) 및 제2 유기막(142)은 봉지 무기막(120)보다 작게 형성될 수 있다. 즉 제1 유기막(141) 및 제2 유기막(142)의 가장자리는 제1 무기막(121) 및 제2 무기막(122)의 가장자리보다 기판(101)의 가장자리보부터 멀리 떨어지도록 배치될 수 있다.
선택적 실시예로서 제2 유기막(142)은 제1 유기막(141)보다 크게 형성될 수 있다. 즉 제2 유기막(142)의 가장자리가 기판(101)의 가장자리에 더 가깝게 형성될 수 있다.
차단 부재(150)가 표시 영역 무기막(110)의 상부에 형성되고 제1 차단 부재(151) 및 제2 차단 부재(152)를 구비한다. 제1 차단 부재(151) 및 제2 차단 부재(152)를 통하여 제1 유기막(141) 및 제2 유기막(142)이 흘러 넘치는 것을 차단할 수 있다. 특히, 제1 차단 부재(151)보다 제2 차단 부재(152)의 높이를 제1 유기막(141) 및 제2 유기막(142)이 제1 차단 부재(151)에 의하여 1차로 차단되고, 제2 차단 부재(152)에 의하여 차단될 수 있고, 기판(101)의 가장자리에 인접한 제2 차단 부재(152)의 높이가 제1 차단 부재(151)의 높이보다 크므로 제1 유기막(141) 및 제2 유기막(142)이 기판(101)의 가장자리 방향으로 흘러 넘치는 것을 차단할 수 있다.
도 11을 참조하면 도 10과 비교할 때, 기능층(160), 제1 보호층(170) 및 제2 보호층(180)을 포함한다. 설명의 편의를 위하여 도 10과 상이한 점을 중심으로 설명한다.
또한 차단 부재(150)의 제2 차단 부재(152)가 제1층(152a) 및 제2 층(152b)을 구비한다. 이는 하나의 예로서, 다른 선택적 실시예로서 제2 차단 부재(152)가 도 10에 도시한 것과 같이 하나의 층일 수도 있다.
기능층(160)은 캐핑층(161) 및 커버층(162)을 포함할 수 있다. 캐핑층(161)은 표시 영역(DA)에 형성되는 표시 소자(미도시)의 최상부층을 보호할 수 있고, 표시 소자(미도시)에서 구현된 가시 광선의 굴절율을 제어할 수 있도록 형성되어 광효율을 향상할 수 있다. 또한, 커버층(162)은 캐핑층(161)상에 형성되고 캐핑층(161) 및 표시 소자(미도시)를 보호하고, 표시 소자(미도시)에서 구현된 가시 광선의 굴절율을 제어할 수 있도록 형성되어 광효율을 향상할 수 있다. 커버층(162)은 예를들면 LiF를 함유할 수 있다.
제1 보호층(170)은 기능층(160)상에 형성되고, 제1 유기막(141)의 하부에 형성된다. 제1 보호층(170)은 무기물, 예를들면 산화물 또는 질화물을 구비할 수 있다. 선택적 실시예로서 제1 보호층(170)은 알루미늄 산화물을 포함할 수 있고, 예를들면 Al2O3를 함유할 수 있다.
선택적 실시예로서 제1 보호층(170)은 기능층(160)보다 크게 형성되고 제1 유기막(141)보다 작게 형성될 수 있다. 또 다른 선택적 실시예로서 제1 보호층(170)이 제1 유기막(141) 및 제2 유기막(142)보다 크게 형성될 수 있다
제2 보호층(180)은 제2 무기막(122)상에 형성되고 무기물, 예를들면 산화물 또는 질화물을 구비할 수 있다. 선택적 실시예로서 제2 보호층(180)은 알루미늄 산화물을 포함할 수 있고, 예를들면 Al2O3를 함유할 수 있다.
선택적 실시예로서 제2 보호층(180)은 봉지 무기막(120)보다 크게 형성될 수 있고, 봉지 무기막(120)을 덮도록 형성되어 제2 보호층(180)의 가장자리가 기판(101)의 상면과 접할 수 있다. 이 때 제2 보호층(180)의 가장자리가 기판(101)의 가장자리로부터 이격되어 기판(101)의 상면의 일 영역이 제2 보호층(180)으로 덮이지 않고 노출될 수 있다.
제2 보호층(180)을 통하여 봉지 무기막(120)의 박리 발생 문제를 효과적으로 감소 또는 차단할 수 있다.
도 4 내지 도 11에 도시하지 않았으나, 도 3에 도시된 것과 같이 봉지 무기막(120)이 메인 영역(120a) 및 섀도우 영역(120b)을 포함하는 구조를 도 4 내지 도 11에 적용할 수도 있다.
도 12는 본 발명의 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 평면도이고, 도 13은 도 12의 Ⅲ-Ⅲ선을 따라 절단한 단면도이다.
도 12 및 도 13을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 관한 디스플레이 장치(2000)는 기판(201)을 포함한다. 기판(201)상에는 표시 영역(DA)을 갖는 중앙 영역(CA) 및 중앙 영역(CA)의 주변에 배치된 주변 영역(PA)이 정의된다.
기판(201)상에는 표시 영역 무기막(210) 및 봉지 무기막(220)이 형성된다.
각 부재에 대하여 구체적으로 설명하기로 한다.
기판(201)은 다양한 소재를 포함할 수 있다. 구체적으로 기판(201)은 유리, 금속 또는 유기물 기타 재질로 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 기판(201)은 플렉서블 소재의 기판(201)을 포함한다. 여기서, 플렉서블 소재의 기판(201)이란 가요성을 갖는 기판으로 잘 휘어지고 구부러지며 접거나 돌돌 말 수 있는 기판을 지칭한다. 이러한 플렉서블 소재의 기판(201)은 초박형 유리, 금속 또는 플라스틱으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 플라스틱을 사용하는 경우 기판(201)은 폴리이미드(PI)로 이루어질 수 있으나 이는 예시적인 것이며 다양한 소재를 적용할 수 있다.
디스플레이 장치(2000)는 다양한 방법으로 형성될 수 있는데, 마더 기판 상에 복수 개의 디스플레이 장치(2000)가 포함되도록 공정을 진행한 후에 절단 공정을 통하여 최종적으로 복수 개의 디스플레이 장치(2000)가 형성될 수 있고, 선택적 실시예로서 하나의 마더 기판에 1개의 디스플레이 장치(2000)가 형성될 수 있다.
기판(201)은 주변 영역(PA) 및 중앙 영역(CA)으로 구획된다. 구체적으로 주변 영역(PA)은 기판(201)의 가장자리와 인접한 영역이고, 중앙 영역(CA)은 주변 영역(PA)의 안쪽의 영역이다.
중앙 영역(CA)은 적어도 표시 영역(DA)을 포함한다.
표시 영역(DA)에는 화상이 표시되도록 하나 이상의 표시 소자(미도시), 예를들면 유기 발광 소자(OLED)가 구비될 수 있다. 또한, 표시 영역(DA)에는 복수개의 화소들이 배치될 수 있다.
표시 영역(DA)의 주변에는 비표시 영역(미도시)이 형성될 수 있다. 구체적으로 표시 영역(DA)을 둘러싸도록 비표시 영역이 형성될 수 있다. 선택적 실시예로서 비표시 영역은 표시 영역(DA)의 복수 개의 측면에 인접하도록 형성될 수 있다. 또한 다른 선택적 실시예로서 비표시 영역은 표시 영역(DA)의 일측면에 인접하도록 형성될 수 있다.
또한, 다른 선택적 실시예로서 중앙 영역(CA)에는 표시 영역(DA)만이 구비될 수 있다. 즉, 비표시 영역은 주변 영역(PA)에만 형성될 수도 있다.
비표시 영역에는 패드 영역이 형성될 수 있고, 패드 영역에는 드라이버(driver)나 복수개의 패드부(미도시)들이 배치된다.
표시 영역 무기막(210)은 기판(201)상에 형성된다. 표시 영역 무기막(210)은 적어도 표시 영역(DA)상에 형성된다. 예를들면 표시 영역 무기막(210)은 표시 영역(DA)에 구비되는 표시 소자(미도시)의 하부에 형성되거나 표시 소자(미도시)와 인접하도록 형성되거나 표시 소자(미도시)에 구비된 복수의 부재들 중 어느 하나와 인접하도록 형성될 수 있다.
표시 영역 무기막(210)은 표시 영역(DA)에 형성되고 주변 영역(PA)의 일 영역에까지 연장되도록 형성된다.
선택적 실시예로서 표시 영역 무기막(210)의 가장자리 중 적어도 하나의 가장자리는 기판(201)의 가장자리와 이격될 수 있다. 즉, 표시 영역 무기막(210)의 가장자리와 기판(201)의 가장자리의 사이에 대응되는 영역에서 기판(201)의 상면의 일 영역이 표시 영역 무기막(210)으로 덮이지 않고 노출될 수 있다.
표시 영역 무기막(210)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 표시 영역 무기막(210)은 산화물, 질화물 또는 질산화물을 포함할 수 있다. 더 구체적인 예로서, 표시 영역 무기막(210)은 실리콘나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥사이드(SiO2) 또는 실리콘 옥시나이트라이드 (SiOxNy)를 함유할 수 있다.
주변 영역(PA)은 기판(201)의 가장자리에 인접하도록 배치될 수 있고, 선택적 실시예로서 주변 영역(PA)은 기판(201)의 가장자리 전체에 인접하도록 배치될 수도 있다.
봉지 무기막(220)은 기판(201)상의 표시 영역(DA)을 덮도록 형성되고, 표시 영역 무기막(210)상에 형성된다. 예를들면, 봉지 무기막(220)은 표시 영역(DA)에 구비되는 표시 소자(미도시)를 덮도록 형성된다. 봉지 무기막(220)은 표시 영역(DA)을 덮어, 예를들면 표시 소자(미도시)를 덮어서 표시 영역(DA)으로 수분 또는 산소등과 같은 이물이 침투하는 것을 차단 또는 감소할 수 있다.
봉지 무기막(220)은 표시 영역 무기막(210)상부에 형성된다. 또한, 봉지 무기막(220)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(210)의 가장자리와 나란하게 형성된다. 즉, 봉지 무기막(220)의 적어도 일 측면은 표시 영역 무기막(210)의 일 측면과 나란하게 형성될 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 무기막(220)의 모든 가장자리는 표시 영역 무기막(210)의 가장자리와 나란하게 형성될 수 있다.
봉지 무기막(220)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 무기막(220)은 산화물, 질화물 또는 질산화물을 포함할 수 있다. 더 구체적인 예로서, 봉지 무기막(220)은 실리콘나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥사이드(SiO2) 또는 실리콘 옥시나이트라이드 (SiOxNy)를 함유할 수 있다.
도 14는 도 13의 변형예를 도시한 도면이다. 도 14에는 봉지 무기막(220)이 메인 영역(220a) 및 섀도우 영역(220b)을 포함하도록 도시되어 있다. 즉, 봉지 무기막(220)을 형성 시, 예를들면 마스크(미도시)를 이용한 증착 방법으로 봉지 무기막(220)을 형성 시 마스크(미도시)와 기판(201)의 이격된 공간을 통하여 섀도우 영역(220b)이 형성될 수 있다. 섀도우 영역(220b)은 경사진 측면을 가지고, 경사진 측면은 경우에 따라서 곡면을 포함할 수도 있다. 섀도우 영역(220b)은 표시 영역 무기막(210)의 측면과 접하고 기판(201)의 상면과 접하도록 형성된다.
봉지 무기막(220)의 메인 영역(220a)은 표시 영역 무기막(210)의 상부에 형성되고 또한, 봉지 무기막(220)의 메인 영역(220a)은 표시 영역 무기막(210)의 가장자리를 벗어나지 않고 일치한다. 즉 봉지 무기막(220)의 메인 영역(220a)은 도 12 및 도 13의 봉지 무기막(220)에 대응되는 구성 요소이다.
봉지 무기막(220)의 섀도우 영역(220b)은 메인 영역(220a)의 가장자리에 연결되는데, 섀도우 영역(220b)은 기판(201)의 가장자리와 이격된다.
도 12 내지 도 14에 도시된 실시예의 봉지 무기막(220)의 적어도 일 가장자리는, 또한 선택적 실시예로서 모든 가장자리는 표시 영역 무기막(210)의 가장자리와 나란하게 형성된다.
이를 통하여 봉지 무기막(220)의 가장자리가 표시 영역 무기막(210)으로부터 박리되어 봉지 무기막(220)의 봉지 특성이 약화 및 제거되는 것을 차단 또는 감소할 수 있다. 특히 도 14에 도시한 것과 같이 섀도우 영역(220b)이 형성되더라고 섀도우 영역(220b)이 표시 영역 무기막(210)의 상면이 아닌, 표시 영역 무기막(210)의 측면 및 기판(201)의 상면에 형성되므로 섀도우 영역(220b)이 표시 영역 무기막(210)으로부터 박리되는 것을 감소 또는 차단할 수 있다.
또한, 선택적 실시예로서 기판(201)이 유기물, 예를들면 플라스틱으로 형성될 경우 봉지 무기막(220)과 봉지 무기막(220)의 섀도우 영역(220b)이 기판(201)의 상면이 접하게 되고, 이를 통하여 디스플레이 장치(2000)의 제조 과정 중 또는 사용 중에 봉지 무기막(220)이 기판(201)으로부터 박리되는 것을 효과적으로 감소할 수 있다. 예를들면 디스플레이 장치(2000)의 제조 과정 중 고온 또는 고습의 공정을 수행하는데, 봉지 무기막(220)이 수축 및 팽창하여 스트레스(stress)가 발생할 수 있다. 이 때 유기물을 포함하는 기판(201)은 봉지 무기막(220)의 스트레스를 완화할 수 있다.
이를 통하여 벤딩 또는 폴딩 등 사용자의 편의성을 증대하는 유연성이 있는 디스플레이 장치(2000)를 용이하게 구현할 수 있다.
또한, 기판(201)의 적어도 일 가장자리와 봉지 무기막(220)의 가장자리가 이격되고, 이를 통하여 기판(201)의 가장자리와 인접한 영역, 즉 적어도 주변 영역(PA)에는 기판(201)의 상면이 덮이지 않고 노출된 영역이 형성된다. 이러한 기판(201)상의 노출된 영역은 디스플레이 장치(2000)의 제조 과정 중 분리를 위한 절단 공정 시 크랙 전파를 원천적으로 차단할 수 있게 한다. 또한 디스플레이 장치(2000)의 유연성을 향상하여 사용자의 편의성을 증대할 수 있다.
도 15는 도 13의 변형예를 도시한 도면이다.
도 15를 참조하면 기판(201)상에 배리어층(202)이 형성된다. 배리어층(202)은 기판(201)과 표시 영역 무기막(210)의 사이에 배치된다. 배리어층(202)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있고, 예를들면 산화물, 질화물 또는 질산화물을 포함할 수 있다. 더 구체적인 예로서, 배리어층(202)은 실리콘나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥사이드(SiO2) 또는 실리콘 옥시나이트라이드 (SiOxNy)를 함유할 수 있다.
배리어층(202)은 표시 영역 무기막(210)보다 크게 형성될 수 있다. 배리어층(202)은 기판(201)의 가장자리와 이격되도록 형성, 즉 기판(201)보다 작게 형성될 수 있다.
봉지 무기막(220)은 표시 영역 무기막(210)상부에 형성된다. 배리어층(202)은 봉지 무기막(220)보다 크게 형성될 수 있다.
선택적 실시예로서 도 16에 도시한 것과 같이 봉지 무기막(220)이 메인 영역(220a) 및 섀도우 영역(220b)을 포함할 수 있다. 봉지 무기막(220)의 메인 영역(220a)은 표시 영역 무기막(210)의 상부에 형성되고 또한, 봉지 무기막(220)의 메인 영역(220a)은 표시 영역 무기막(210)의 가장자리를 벗어나지 않고 일치한다.
봉지 무기막(220)의 섀도우 영역(220b)은 메인 영역(220a)의 가장자리에 연결되는데, 섀도우 영역(220b)은 표시 영역 무기막(210)의 측면 및 배리어층(202)의 상면과 접할 수 있다.
배리어층(202)은 기판(201)을 통하여 침투하는 수분 또는 산소와 같은 이물을 차단할 수 있다.
도 17 내지 도 23은 도 13의 다른 변형예들을 도시한 도면이다.
도 5를 참조하면 봉지 유기막(240)이 표시 영역 무기막(210)상에 형성된다. 봉지 유기막(240)은 표시 영역 무기막(210)과 봉지 무기막(220)의 사이에 배치된다.
봉지 유기막(240)의 가장자리는 표시 영역 무기막(210)의 가장자리를 벗어나지 않는다. 봉지 유기막(240)은 표시 영역 무기막(210)과 작게 형성될 수 있다. 이를 통하여 봉지 유기막(240)은 기판(201)의 상면과 이격될 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 유기막(240)은 표시 영역 무기막(210)과 봉지 무기막(220)보다 작게 형성될 수 있다.
봉지 유기막(240)은 적어도 기판(201)상의 표시 영역(DA)을 덮도록 형성될 수 있고, 예를들면 표시 영역(DA)에 구비된 표시 소자(미도시)를 덮도록 형성될 수 있다.
봉지 유기막(240)은 표시 영역(DA)으로 수분 또는 산소등과 같은 이물이 침투하는 것을 차단 또는 감소할 수 있다. 특히, 봉지 유기막(240)은 봉지 무기막(220)과 함께 사용되어 봉지 특성을 향상할 수 있다. 또한 봉지 유기막(240)은 평탄면을 용이하게 형성할 수 있다.
봉지 유기막(240)은 다양한 유기물을 이용하여 형성할 수 있고, 예를들면 수지를 포함할 수 있다. 선택적 실시예로서 봉지 유기막(240)은 에폭시 계열 수지, 아크릴 계열 수지 또는 폴리 이미드 계열 수지를 포함할 수 있다.
도 18을 참조하면, 도 17에 도시된 구조에 차단 부재(250)가 더 추가된다. 구체적으로 차단 부재(250)는 표시 영역 무기막(210)상에 형성되고, 적어도 봉지 유기막(240)보다 기판(201)의 일 가장자리에 더 가깝게 배치된다. 이를 통하여 봉지 유기막(240)의 형성 시 봉지 유기막(240)의 재료 또는 봉지 유기막(240)이 기판(201)의 가장자리 방향으로 넘치는 것을 감소 또는 차단할 수 있다.
차단 부재(250)는 표시 영역 무기막(210)과 봉지 무기막(220)의 사이에 배치될 수 있다.
차단 부재(250)는 도 18에 도시된 것과 같이 1개만 형성될 수 있고, 도 19에 도시한 대로 복수 개 형성될 수도 있다.
도 19를 참조하면 차단 부재(250)가 제1 차단 부재(251) 및 제2 차단 부재(252)를 구비하고, 제2 차단 부재(252)가 제1 차단 부재(251)보다 높이가 더 크게 형성될 수 있다. 즉, 제2 차단 부재(252) 및 제1 차단 부재(251) 중 기판(201)의 가장자리에 더 가까운 제2 차단 부재(252)를 제1 차단 부재(251)보다 더 높게 형성할 수 있고, 이를 통하여 봉지 유기막(240)의 형성 시 봉지 유기막(240)의 재료 또는 봉지 유기막(240)이 비정상적으로 흘러 넘치는 것을 제1 차단 부재(251)가 1차적으로 차단하고, 1차적으로 제2 차단 부재(252)가 효과적으로 차단할 수 있다.
도시하지 않았으나 차단 부재(250)는 3개 이상의 차단 부재(미도시)를 구비할 수도 있고, 그 높이도 다양하게 결정할 수 있다.
도 20을 참조하면 봉지 무기막(220)은 복수개의 무기막, 즉 제1 무기막(221) 및 제2 무기막(222)를 포함한다. 제1 무기막(221)은 표시 영역 무기막(210)상에 형성되고, 제2 무기막(222)은 제1 무기막(221)상에 형성된다.
제1 무기막(221) 및 제2 무기막(222)은 기판(201)상의 표시 영역(DA)을 덮도록 형성되고, 표시 영역 무기막(210)상에 형성된다. 예를들면, 제1 무기막(221) 및 제2 무기막(222)은 표시 영역(DA)에 구비되는 표시 소자(미도시)를 덮도록 형성된다. 제1 무기막(221) 및 제2 무기막(222)은 표시 영역(DA)을 덮어, 예를들면 표시 소자(미도시)를 덮어서 표시 영역(DA)으로 수분 또는 산소등과 같은 이물이 침투하는 것을 차단 또는 감소할 수 있다.
제1 무기막(221) 및 제2 무기막(222)은 표시 영역 무기막(210)상부에 형성된다. 또한, 제1 무기막(221) 및 제2 무기막(222)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(210)의 가장자리와 나란하게 형성된다.
선택적 실시예로서 제1 무기막(221) 및 제2 무기막(222)의 측면은 나란하게 형성될 수 있다.
선택적 실시예로서 제1 무기막(221) 및 제2 무기막(222)의 가장자리가 표시 영역 무기막(210)의 가장자리와 나란할 수 있다.
제1 무기막(221) 및 제2 무기막(222)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있고, 전술한 실시예에서 언급한 봉지 무기막(220)을 형성하는 재료들 중 적어도 어느 하나를 이용하여 형성할 수 있다. 제1 무기막(221) 및 제2 무기막(222)은 동일한 재료 또는 서로 상이한 재료를 이용하여 형성할 수 있다.
도 20에 도시하지 않았으나, 봉지 무기막(220)이 3개 이상의 무기막을 포함할 수도 있다.
도 21을 참조하면 도 20과 같이 봉지 무기막(220)이 복수개의 무기막, 즉 제1 무기막(221) 및 제2 무기막(222)를 포함하고, 제1 무기막(221)과 제2 무기막(222) 의 사이에 봉지 유기막(240)이 배치되고, 봉지 유기막(240)의 흘러 넘치는 것을 차단하는 차단 부재(250)가 표시 영역 무기막(210)의 상부에 형성된다.
제1 무기막(221)과 제2 무기막(222)의 사이에 봉지 유기막(240)이 배치된 구조를 통하여 봉지 특성을 향상할 수 있다.
도 22를 참조하면 봉지 무기막(220)이 복수개의 무기막, 즉 제1 무기막(221) 및 제2 무기막(222)를 포함하고, 봉지 유기막(240)은 복수개의 유기막, 즉 제1 유기막(241) 및 제2 유기막(242)을 포함한다.
표시 영역 무기막(210)과 제1 무기막(221)의 사이에 제1 유기막(241)이 배치되고, 제1 무기막(221) 및 제2 무기막(222)의 사이에 제2 유기막(242)이 배치된다.
선택적 실시예로서 제2 유기막(242)은 제1 유기막(241)보다 크게 형성될 수 있다.
차단 부재(250)가 표시 영역 무기막(210)의 상부에 형성되고 제1 차단 부재(251) 및 제2 차단 부재(252)를 구비한다. 제1 차단 부재(251) 및 제2 차단 부재(252)를 통하여 제1 유기막(241) 및 제2 유기막(242)이 흘러 넘치는 것을 차단할 수 있다.
도 23을 참조하면 도 22와 비교할 때, 기능층(260), 제1 보호층(270) 및 제2 보호층(280)을 포함한다. 설명의 편의를 위하여 도 22와 상이한 점을 중심으로 설명한다.
또한 차단 부재(250)의 제2 차단 부재(252)가 제1층(252a) 및 제2 층(252b)을 구비한다. 이는 하나의 예로서, 다른 선택적 실시예로서 제2 차단 부재(252)가 도 하나의 층일 수도 있다.
기능층(260)은 캐핑층(261) 및 커버층(262)을 포함할 수 있다. 캐핑층(261)은 표시 영역(DA)에 형성되는 표시 소자(미도시)의 최상부층을 보호할 수 있고, 표시 소자(미도시)에서 구현된 가시 광선의 굴절율을 제어할 수 있도록 형성되어 광효율을 향상할 수 있다. 또한, 커버층(262)은 캐핑층(261)상에 형성되고 캐핑층(261) 및 표시 소자(미도시)를 보호하고, 표시 소자(미도시)에서 구현된 가시 광선의 굴절율을 제어할 수 있도록 형성되어 광효율을 향상할 수 있다. 커버층(262)은 예를들면 LiF를 함유할 수 있다.
제1 보호층(270)은 기능층(260)상에 형성되고, 제1 유기막(241)의 하부에 형성된다. 제1 보호층(270)은 무기물, 예를들면 산화물 또는 질화물을 구비할 수 있다. 선택적 실시예로서 제1 보호층(270)은 알루미늄 산화물을 포함할 수 있고, 예를들면 Al2O3를 함유할 수 있다.
선택적 실시예로서 제1 보호층(270)은 기능층(260)보다 크게 형성되고 제1 유기막(241)보다 작게 형성될 수 있다. 또 다른 선택적 실시예로서 제1 보호층(270)이 제1 유기막(241) 및 제2 유기막(242)보다 크게 형성될 수 있다
제2 보호층(280)은 제2 무기막(222)상에 형성되고 무기물, 예를들면 산화물 또는 질화물을 구비할 수 있다. 선택적 실시예로서 제2 보호층(280)은 알루미늄 산화물을 포함할 수 있고, 예를들면 Al2O3를 함유할 수 있다.
선택적 실시예로서 제2 보호층(280)은 봉지 무기막(220)보다 크게 형성될 수 있고, 봉지 무기막(220)을 덮도록 형성되어 제2 보호층(270)의 가장자리가 기판(201)의 상면과 접할 수 있다. 이 때 제2 보호층(270)의 가장자리가 기판(201)의 가장자리로부터 이격되어 기판(201)의 상면의 일 영역이 제2 보호층(280)으로 덮이지 않고 노출될 수 있다.
제2 보호층(280)을 통하여 봉지 무기막(220)의 박리 발생 문제를 효과적으로 감소 또는 차단할 수 있다.
도 17 내지 도 23에 도시하지 않았으나, 도 14 또는 도 16에 도시된 것과 같이 봉지 무기막(220)이 메인 영역(220a) 및 섀도우 영역(220b)을 포함하는 구조를 도 17 내지 도 23에 적용할 수도 있다.
도 24는 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 평면도이고, 도 25는 도 24의 Ⅳ-Ⅳ선을 따라 절단한 단면도이다. 도 26 내지 도 28은 도 25의 변형예를 도시한 도면이다.
도 24 및 도 25를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 관한 디스플레이 장치(3000)는 기판(301)을 포함한다. 기판(301)상에는 표시 영역(DA)을 갖는 중앙 영역(CA) 및 중앙 영역(CA)의 주변에 배치된 주변 영역(PA)이 정의된다.
기판(301)상에는 표시 영역 무기막(310) 및 봉지 무기막(320)이 형성된다.
각 부재에 대하여 구체적으로 설명하기로 한다.
기판(301)은 다양한 소재를 포함할 수 있다. 구체적으로 기판(301)은 유리, 금속 또는 유기물 기타 재질로 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 기판(301)은 플렉서블 소재의 기판(301)을 포함한다. 여기서, 플렉서블 소재의 기판(301)이란 가요성을 갖는 기판으로 잘 휘어지고 구부러지며 접거나 돌돌 말 수 있는 기판을 지칭한다. 이러한 플렉서블 소재의 기판(301)은 초박형 유리, 금속 또는 플라스틱으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 플라스틱을 사용하는 경우 기판(301)은 폴리이미드(PI)로 이루어질 수 있으나 이는 예시적인 것이며 다양한 소재를 적용할 수 있다.
디스플레이 장치(3000)는 다양한 방법으로 형성될 수 있는데, 마더 기판 상에 복수 개의 디스플레이 장치(3000)가 포함되도록 공정을 진행한 후에 절단 공정을 통하여 최종적으로 복수 개의 디스플레이 장치(3000)가 형성될 수 있고, 선택적 실시예로서 하나의 마더 기판에 1개의 디스플레이 장치(3000)가 형성될 수 있다.
기판(301)은 주변 영역(PA) 및 중앙 영역(CA)으로 구획된다. 구체적으로 주변 영역(PA)은 기판(301)의 가장자리와 인접한 영역이고, 중앙 영역(CA)은 주변 영역(PA)의 안쪽의 영역이다.
중앙 영역(CA)은 적어도 표시 영역(DA)을 포함한다.
표시 영역(DA)에는 화상이 표시되도록 하나 이상의 표시 소자(미도시), 예를들면 유기 발광 소자(OLED)가 구비될 수 있다. 또한, 표시 영역(DA)에는 복수개의 화소들이 배치될 수 있다.
표시 영역(DA)의 주변에는 비표시 영역(미도시)이 형성될 수 있다. 구체적으로 표시 영역(DA)을 둘러싸도록 비표시 영역이 형성될 수 있다. 선택적 실시예로서 비표시 영역은 표시 영역(DA)의 복수 개의 측면에 인접하도록 형성될 수 있다. 또한 다른 선택적 실시예로서 비표시 영역은 표시 영역(DA)의 일측면에 인접하도록 형성될 수 있다.
또한, 다른 선택적 실시예로서 중앙 영역(CA)에는 표시 영역(DA)만이 구비될 수 있다. 즉, 비표시 영역은 주변 영역(PA)에만 형성될 수도 있다.
비표시 영역에는 패드 영역이 형성될 수 있고, 패드 영역에는 드라이버(driver)나 복수개의 패드부(미도시)들이 배치된다.
표시 영역 무기막(310)은 기판(301)상에 형성된다. 표시 영역 무기막(310)은 적어도 표시 영역(DA)상에 형성된다. 예를들면 표시 영역 무기막(310)은 표시 영역(DA)에 구비되는 표시 소자(미도시)의 하부에 형성되거나 표시 소자(미도시)와 인접하도록 형성되거나 표시 소자(미도시)에 구비된 복수의 부재들 중 어느 하나와 인접하도록 형성될 수 있다.
*표시 영역 무기막(310)은 표시 영역(DA)에 형성되고 주변 영역(PA)의 일 영역에까지 연장되도록 형성된다.
선택적 실시예로서 표시 영역 무기막(310)의 가장자리 중 적어도 하나의 가장자리는 기판(301)의 가장자리와 이격될 수 있다. 즉, 표시 영역 무기막(310)의 가장자리와 기판(301)의 가장자리의 사이에 대응되는 영역에서 기판(301)의 상면의 일 영역이 표시 영역 무기막(310)으로 덮이지 않고 노출될 수 있다.
표시 영역 무기막(310)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 표시 영역 무기막(310)은 산화물, 질화물 또는 질산화물을 포함할 수 있다. 더 구체적인 예로서, 표시 영역 무기막(310)은 실리콘나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥사이드(SiO2) 또는 실리콘 옥시나이트라이드 (SiOxNy)를 함유할 수 있다.
표시 영역 무기막(310)과 이격되도록 이격 부재(310a)가 형성된다. 이격 부재(310a)는 표시 영역 무기막(310)의 적어도 일 가장자리보다 기판(301)의 가장자리에 더 가깝게 배치될 수 있다.
선택적 실시예로서 이격 부재(310a)는 기판(301)의 가장자리와 이격되도록 형성될 수 있다.
선택적 실시예로서 이격 부재(310a)는 표시 영역 무기막(310)과 동일한 재질로 형성할 수 있고, 이 경우 표시 영역 무기막(310)의 형성 시 동시에 형성할 수 있다.
주변 영역(PA)은 기판(301)의 가장자리에 인접하도록 배치될 수 있고, 선택적 실시예로서 주변 영역(PA)은 기판(301)의 가장자리 전체에 인접하도록 배치될 수도 있다.
봉지 무기막(320)은 기판(301)상의 표시 영역(DA)을 덮도록 형성되고, 표시 영역 무기막(310)상에 형성된다. 예를들면, 봉지 무기막(320)은 표시 영역(DA)에 구비되는 표시 소자(미도시)를 덮도록 형성된다. 봉지 무기막(320)은 표시 영역(DA)을 덮어, 예를들면 표시 소자(미도시)를 덮어서 표시 영역(DA)으로 수분 또는 산소등과 같은 이물이 침투하는 것을 차단 또는 감소할 수 있다.
봉지 무기막(320)은 표시 영역 무기막(310)상부에 형성된다. 또한, 봉지 무기막(320)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(310)의 가장자리를 벗어난다. 즉, 봉지 무기막(320)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(310)의 일 가장자리를 지나쳐서 기판(301)의 상면과 접할 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 무기막(320)의 모든 가장자리는 표시 영역 무기막(310)의 가장자리를 벗어나서 기판(301)의 상면과 접할 수 있다.
구체적으로 봉지 무기막(320)이 메인 영역(320a) 및 섀도우 영역(320b)을 포함한다. 즉, 봉지 무기막(320)을 형성 시, 예를들면 마스크(미도시)를 이용한 증착 방법으로 봉지 무기막(320)을 형성 시 마스크(미도시)와 기판(301)사이의 이격된 공간을 통하여 섀도우 영역(320b)이 형성될 수 있다.
섀도우 영역(320b)은 적어도 표시 영역 무기막(310)과 이격 부재(310a)의 사이에 배치된다. 섀도우 영역(320b)은 이격 부재(310a)를 넘어서지 않도록 형성된다. 즉, 도 25에 도시한 것과 같이 섀도우 영역(320b)은 이격 부재(310a)의 측면과 접할 수 있고, 다른 예로서 섀도우 영역(320b)이 이격 부재(310a)의 측면과 이격될 수도 있다.
봉지 무기막(320)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 무기막(320)은 산화물, 질화물 또는 질산화물을 포함할 수 있다. 더 구체적인 예로서, 봉지 무기막(320)은 실리콘나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥사이드(SiO2) 또는 실리콘 옥시나이트라이드 (SiOxNy)를 함유할 수 있다.
봉지 무기막(320)의 가장자리 영역, 즉 섀도우 영역(320b)이 기판(301)의 상면과 접할 수 있게 되고, 또한, 표시 영역 무기막(310)의 측면과도 접할 수 있어 봉지 무기막(320)의 가장자리가 표시 영역 무기막(310)으로부터 박리되어 봉지 무기막(320)의 봉지 특성이 약화 및 제거되는 것을 차단 또는 감소할 수 있다.
이를 통하여 벤딩 또는 폴딩 등 사용자의 편의성을 증대하는 유연성이 있는 디스플레이 장치(3000)를 용이하게 구현할 수 있다.
또한, 기판(301)의 적어도 일 가장자리와 봉지 무기막(320)의 가장자리가 이격되고, 이를 통하여 기판(301)의 가장자리와 인접한 영역, 즉 적어도 주변 영역(PA)에는 기판(301)의 상면이 덮이지 않고 노출된 영역이 형성된다. 이러한 기판(301)상의 노출된 영역은 디스플레이 장치(3000)의 제조 과정 중 분리를 위한 절단 공정 시 크랙 전파를 원천적으로 차단할 수 있게 한다. 또한 디스플레이 장치(3000)의 유연성을 향상하여 사용자의 편의성을 증대할 수 있다.
도 26 내지 도 28은 도 25의 변형예를 도시한 도면이다.
도 26을 참조하면 기판(301)상에 배리어층(302)이 형성된다. 배리어층(302)은 기판(301)과 표시 영역 무기막(310)의 사이에 배치된다. 배리어층(302)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있고, 예를들면 산화물, 질화물 또는 질산화물을 포함할 수 있다. 더 구체적인 예로서, 배리어층(302)은 실리콘나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥사이드(SiO2) 또는 실리콘 옥시나이트라이드 (SiOxNy)를 함유할 수 있다.
이격 부재(310a)는 배리어층(302)상에 형성된다.
봉지 무기막(320)은 표시 영역 무기막(310)상부에 형성된다. 또한, 봉지 무기막(320)의 섀도우 영역(320b)은 적어도 표시 영역 무기막(310)과 이격 부재(310a)의 사이에 배치된다. 섀도우 영역(320b)은 배리어층(302)의 상면과 접할 수 있다.
섀도우 영역(320b)은 이격 부재(310a)를 넘어서지 않도록 형성된다.
배리어층(302)은 기판(301)을 통하여 침투하는 수분 또는 산소와 같은 이물을 차단할 수 있다.
도 27을 참조하면, 도 27의 실시예에서는 이격 부재(302a)가 기판(301)상에 형성되고 배리어층(302)과 이격되도록 배치된다.
선택적 실시예로서 이격 부재(302a)는 배리어층(302)과 동일한 재질로 형성할 수 있고, 이 경우 배리어층(302)의 형성 시 동시에 형성할 수 있다.
봉지 무기막(320)은 표시 영역 무기막(310)상부에 형성된다. 또한, 봉지 무기막(320)의 섀도우 영역(320b)은 적어도 이격 부재(302a)를 넘어서지 않도록 형성된다. 선택적 실시예로서 섀도우 영역(320b)은 배리어층(302)의 측면 및 표시 영역 무기막(310)의 측면과 접할 수 있다.
도 27에는 섀도우 영역(320b)이 이격 부재(302b)와 이격된 것으로 도시되어 있으나, 선택적 실시예로서 섀도우 영역(320b)이 이격 부재(302b)의 측면과 접할 수 있다.
또한, 도 28에 도시한 것과 같이 기판(301)상에 복층의 이격 부재, 즉 제1 이격 부재(302a) 및 제2 이격 부재(310a)가 형성될 수도 있다.
도 25 내지 도 28에 도시하지 않았으나, 전술한 실시예의 봉지 유기막, 차단 부재 등의 구조, 즉 도 5 내지 도 11에 도시한 봉지 유기막, 기능층, 차단 부재 및 보호층의 구성을 도 25 내지 도 28에 적용할 수 있음은 물론이다.
도 29는 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 평면도이고, 도 30은 도 29의 ⅤA-ⅤA, ⅤB-ⅤB선을 따라 절단한 단면도이다.
도 29 및 도 30을 참조하면 본 실시예에 관한 디스플레이 장치(4000)는 기판(401)을 포함한다. 기판(401)상에는 표시 영역(DA)을 갖는 중앙 영역(CA) 및 중앙 영역(CA)의 주변에 배치된 주변 영역(PA)이 정의된다.
기판(401)상에는 표시 영역 무기막(410) 및 봉지 무기막(420)이 형성된다.
각 부재에 대하여 구체적으로 설명하기로 한다.
기판(401)은 다양한 소재를 포함할 수 있다. 구체적으로 기판(401)은 유리, 금속 또는 유기물 기타 재질로 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 기판(401)은 플렉서블 소재의 기판(401)을 포함한다. 여기서, 플렉서블 소재의 기판(401)이란 가요성을 갖는 기판으로 잘 휘어지고 구부러지며 접거나 돌돌 말 수 있는 기판을 지칭한다. 이러한 플렉서블 소재의 기판(401)은 초박형 유리, 금속 또는 플라스틱으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 플라스틱을 사용하는 경우 기판(401)은 폴리이미드(PI)로 이루어질 수 있으나 이는 예시적인 것이며 다양한 소재를 적용할 수 있다.
디스플레이 장치(4000)는 다양한 방법으로 형성될 수 있는데, 마더 기판 상에 복수 개의 디스플레이 장치(4000)가 포함되도록 공정을 진행한 후에 절단 공정을 통하여 최종적으로 복수 개의 디스플레이 장치(4000)가 형성될 수 있고, 선택적 실시예로서 하나의 마더 기판에 1개의 디스플레이 장치(4000)가 형성될 수 있다.
기판(401)은 주변 영역(PA) 및 중앙 영역(CA)으로 구획된다. 구체적으로 주변 영역(PA)은 기판(401)의 가장자리와 인접한 영역이고, 중앙 영역(CA)은 주변 영역(PA)의 안쪽의 영역이다.
중앙 영역(CA)은 적어도 표시 영역(DA)을 포함한다.
표시 영역(DA)에는 화상이 표시되도록 하나 이상의 표시 소자(OD)가 배치된다. 표시 소자(OD)는 다양한 종류의 소자일 수 있는데, 예를들면 유기 발광 소자(organic light emitting device:OLED)일 수 있다.
또한, 표시 영역(DA)에는 복수개의 화소들이 배치될 수 있고, 각 화소에 상기의 표시 소자(OD)가 적어도 하나가 배치될 수 있다.
표시 영역(DA)의 주변에는 비표시 영역(미도시)이 형성될 수 있다. 구체적으로 표시 영역(DA)을 둘러싸도록 비표시 영역이 형성될 수 있다. 선택적 실시예로서 비표시 영역은 표시 영역(DA)의 복수 개의 측면에 인접하도록 형성될 수 있다. 또한 다른 선택적 실시예로서 비표시 영역은 표시 영역(DA)의 일측면에 인접하도록 형성될 수 있다.
또한, 다른 선택적 실시예로서 중앙 영역(CA)에는 표시 영역(DA)만이 구비될 수 있다. 즉, 비표시 영역은 주변 영역(PA)에만 형성될 수도 있다.
비표시 영역에는 패드 영역이 형성될 수 있고, 패드 영역에는 드라이버(driver)나 복수개의 패드부(미도시)들이 배치된다.
기판(401)상에 배리어층(402)가 형성된다. 배리어층(402)은 표시 영역(DA)상에 형성되고, 주변 영역(PA)에도 배치되도록 연장되어 형성된다. 선택적 실시예로서 배리어층(402)이 생략될 수도 있다.
배리어층(402)상의 표시 영역(DA)상에 박막 트랜지스터(thin film transistor)를 형성할 수 있다. 표시 영역(DA) 상에 형성된 박막 트랜지스터는 표시 소자(OD)를 구동하기 위한 회로의 일부로써 기능한다. 그런데 박막 트랜지스터는 비표시 영역 상에도 형성될 수 있다.
이하에서는 박막 트랜지스터가 활성층(405), 게이트 전극(GE), 소스 전극(406) 및 드레인 전극(407)이 순차적으로 형성된 탑 게이트 타입(top gate type)인 경우를 도시하였다.
그러나 본 실시예는 이에 한정되지 않고 바텀 게이트 타입(bottom gate type) 등 다양한 타입의 박막 트랜지스터(TFT)가 채용될 수 있다.
활성층(405)(active layer)은 배리어층(402)상에 형성된다. 활성층(405)은 반도체 물질을 포함하며, 예컨대 비정질 실리콘(amorphous silicon) 또는 다결정 실리콘(poly crystalline silicon)을 포함할 수 있다. 그러나 본 실시예는 이에 한정되지 않고 활성층(405)은 다양한 물질을 함유할 수 있다. 선택적 실시예로서 활성층(405)은 유기 반도체 물질을 함유할 수 있다.
또 다른 선택적 실시예로서, 활성층(405)은 산화물 반도체 물질을 함유할 수 있다. 예컨대, 활성층(405)은 아연(Zn), 인듐(In), 갈륨(Ga), 주석(Sn) 카드뮴(Cd), 게르마늄(Ge), 또는 하프늄(Hf) 과 같은 12, 13, 14족 금속 원소 및 이들의 조합에서 선택된 물질의 산화물을 포함할 수 있다.
게이트 절연막(411:gate insulating layer)이 활성층(405) 상에 형성된다. 게이트 절연막(411)은 실리콘산화물 및/또는 실리콘질화물 등의 무기 물질로 이루어진 막이 다층 또는 단층으로 형성될 수 있다. 게이트 절연막(411)은 활성층(405)과 게이트 전극(GE)을 절연하는 역할을 한다.
선택적 실시예로서 게이트 절연막(411)은 표시 영역 무기막(410)의 막으로서 표시 영역(DA)뿐만 아니라 주변 영역(PA)의 일부에까지 연장되어 형성될 수 있다.
게이트 전극(GE)은 게이트 절연막(411)의 상부에 형성된다. 게이트 전극(GE)은 박막 트랜지스터에 온/오프 신호를 인가하는 게이트 라인(미도시)과 연결될 수 있다.
게이트 전극(GE)은 저저항 금속 물질로 이루어질 수 있으며, 예컨대 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 티타늄(Ti) 등을 포함하는 도전 물질로 이루어진 막이 다층 또는 단층으로 형성될 수 있다.
게이트 전극(GE)상에는 층간 절연막(412)이 형성된다. 층간 절연막(412)은 소스 전극(406) 및 드레인 전극(407)과 게이트 전극(GE)을 절연 한다.
선택적 실시예로서 층간 절연막(412)은 표시 영역 무기막(410)의 막으로서 표시 영역(DA)뿐만 아니라 주변 영역(PA)의 일부에까지 연장되어 형성될 수 있다.
즉, 주변 영역(PA)에서 배리어층(402)상에 표시 영역 무기막(410)인 게이트 절연막(411) 및 층간 절연막(412)이 형성될 수 있다.
층간 절연막(412)은 무기 물질로 이루어진 막이 다층 또는 단층으로 형성될 수 있다. 예컨대 무기 물질은 금속 산화물 또는 금속 질화물일 수 있으며, 구체적으로 무기 물질은 실리콘산화물(SiO2), 실리콘질화물(SiNx), 실리콘산질화물(SiON), 알루미늄산화물(Al2O3), 티타늄산화물(TiO2), 탄탈산화물(Ta2O5), 하프늄산화물(HfO2), 또는 아연산화물(ZrO2) 등을 포함할 수 있다.
층간 절연막(412) 상에 소스 전극(406) 및 드레인 전극(407)이 형성된다. 소스 전극(406) 및 드레인 전극(407)은 전도성이 좋은 재료를 이용하여 단층 또는 복층으로 형성할 수 있다.
소스 전극(406) 및 드레인 전극(407)은 활성층(405)의 영역과 접촉하도록 형성된다.
박막 트랜지스터를 덮도록, 즉 소스 전극(406) 및 드레인 전극(407)상에 패시베이션막(408)을 형성한다.
패시베이션막(408)은 박막 트랜지스터로부터 비롯된 단차를 해소하고 상면을 평탄하게 하여, 하부 요철에 의해 유기 발광 소자(OLED)와 같은 표시 소자(OD)에 불량이 발생하는 것을 방지한다. 이러한 패시베이션막(408)은 유기 물질로 이루어진 막이 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다. 유기 물질은 Polymethylmethacrylate(PMMA)나, Polystylene(PS)과 같은 일반 범용고분자, 페놀계 그룹을 갖는 고분자 유도체, 아크릴계 고분자, 이미드계 고분자, 아릴에테르계 고분자, 아마이드계 고분자, 불소계고분자, p-자일렌계 고분자, 비닐알콜계 고분자 및 이들의 블렌드 등을 포함할 수 있다. 또한, 패시베이션막(408)은 무기 절연막과 유기 절연막의 복합 적층체로 형성될 수도 있다.
패시베이션막(408)상에 표시 소자(OD)를 형성한다. 표시 소자(OD)는 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된다.
표시 소자(OD)는 제1 전극(FE), 제2 전극(SE) 및 양 전극 사이에 개재되는 중간층(IM)을 포함한다.
제1 전극(FE)은 소스 전극(406) 및 드레인 전극(407) 중 어느 하나와 전기적으로 연결되는데, 도 30에 도시한 것과 같이 드레인 전극(407)에 연결될 수 있다.
제1 전극(FE)은 다양한 형태를 가질 수 있는데, 예를들면 아일랜드 형태로 패터닝되어 형성될 수 있다.
제1 전극(FE)은 다양한 재질로 형성할 수 있다. 즉 제1 전극(FE)은 인듐틴옥사이드(indium tin oxide: ITO), 인듐징크옥사이드(indium zinc oxide: IZO), 징크옥사이드(zinc oxide: ZnO), 인듐옥사이드(indium oxide: In2O3), 인듐갈륨옥사이드(indium galium oxide: IGO), 및 알루미늄징크옥사이드(aluminium zinc oxide: AZO)과 같은 투명도전성산화물을 포함하는 그룹에서 선택된 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다. 또한, 제1 전극(FE)은 은(Ag)과 같이 반사율이 높은 금속을 포함할 수 있다.
중간층(IM)은 유기 발광층을 포함하며, 유기 발광층은 저분자 유기물 또는 고분자 유기물을 사용할 수 있다. 선택적 실시예로서 중간층(IM)은 유기 발광층과 함께, 홀 주입층, 홀 수송층, 전자 수송층 및 전자 주입층으로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 하나를 더 포함할 수 있다.
한편, 유기 발광층은 유기 발광 소자 별로 별도로 형성될 수 있다. 이 경우에는 유기 발광 소자 별로 적색, 녹색 및 청색의 광을 각각 방출할 수 있다. 그러나, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 유기 발광층이 유기 발광 소자 전체에 공통으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 적색, 녹색, 및 청색의 광을 방출하는 복수의 유기 발광층이 수직으로 적층되거나 혼합되어 형성되어 백색광을 방출할 수 있다. 물론, 백색광을 방출하기 위한 색의 조합은 상술한 바에 한정되지 않는다. 한편, 이 경우 방출된 백색광을 소정의 컬러로 변환하는 색변환층이나 컬러필터가 별도로 구비될 수 있다.
제2 전극(SE)은 다양한 도전성 재료로 형성할 수 있다. 예를들면 제2 전극(SE)은 리튬(Li), 칼슘(Ca), 불화리튬(LiF), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg) 또는 은(Ag)을 함유할 수 있고, 상기 재료 중 적어도 하나 이상으로 단층 또는 복층으로 형성할 수 있고, 상기 재료 중 적어도 두 가지를 함유하는 합금 재료를 포함할 수 있다.
패시베이션막(408) 상에 화소 정의막(PDL)이 형성되고, 화소 정의막(PDL)은 제1 전극(FE)의 소정의 영역을 덮지 않도록 형성한 후, 화소 정의막(PDL)으로 덮이지 않은 제1 전극(FE)의 영역상에 중간층(IM)을 형성하고 중간층(IM)상에 제2 전극(SE)이 형성된다.
화소 정의막(PDL)은 폴리이미드, 폴리아마이드, 아크릴 수지, 벤조사이클로부텐 및 페놀 수지로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 유기 절연 물질로 스핀 코팅 등의 방법으로 형성될 수 있다.
제2 전극(SE) 상에는 도시되지 않았으나, 선택적 실시예로서 도 11에 도시한 기능층(미도시) 및 제1 보호층(미도시)이 더 형성될 수 있다. 기능층 및 제1 보호층에 대한 구체적인 내용은 전술한 실시예와 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다.
표시 영역 무기막(410)의 게이트 절연막(411) 및 층간 절연막(412)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 표시 영역 무기막(410)은 산화물, 질화물 또는 질산화물을 포함할 수 있다. 더 구체적인 예로서, 표시 영역 무기막(410)은 실리콘나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥사이드(SiO2) 또는 실리콘 옥시나이트라이드 (SiOxNy)를 함유할 수 있다.
주변 영역(PA)은 기판(401)의 가장자리에 인접하도록 배치될 수 있고, 선택적 실시예로서 주변 영역(PA)은 기판(401)의 가장자리 전체에 인접하도록 배치될 수도 있다.
봉지 무기막(420)은 기판(401)상의 표시 영역(DA)을 덮도록 형성된다. 즉 봉지 무기막(420)은 표시 소자(OD)의 제2 전극(SE)상에 형성된다. 봉지 무기막(420)은 표시 영역(DA)을 덮어, 예를들면 표시 소자(OD)를 덮어서 표시 소자(OD)로 수분 또는 산소등과 같은 이물이 침투하는 것을 차단 또는 감소할 수 있다.
주변 영역(PA)에서 봉지 무기막(420)은 표시 영역 무기막(410)상부에 형성된다. 또한, 봉지 무기막(420)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(410)의 가장자리를 벗어난다. 즉, 봉지 무기막(420)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(410)의 일 가장자리를 지나쳐서 기판(401)의 상면과 접할 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 무기막(420)의 모든 가장자리는 표시 영역 무기막(410)의 가장자리를 벗어나서 기판(401)의 상면과 접할 수 있다.
봉지 무기막(420)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 무기막(420)은 산화물, 질화물 또는 질산화물을 포함할 수 있다. 더 구체적인 예로서, 봉지 무기막(420)은 실리콘나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥사이드(SiO2) 또는 실리콘 옥시나이트라이드 (SiOxNy)를 함유할 수 있다.
도시하지 않았으나, 선택적 실시예로서 봉지 무기막(420)이 메인 영역(미도시) 및 섀도우 영역(미도시)을 포함할 수 있다. 즉, 도 3의 구조를 본 실시예에 적용할 수 있다.
또한 선택적 실시예로서 봉지 무기막(420)의 모든 가장자리는 표시 영역 무기막(410)의 가장자리를 지나쳐서 기판(401)의 상면에 형성된다.
즉, 봉지 무기막(420)의 가장자리 영역이 기판(401)의 상면과 접할 수 있게 되고, 이를 통하여 봉지 무기막(420)의 가장자리가 표시 영역 무기막(410)으로부터 박리되는 것을 감소 또는 방지하고, 이를 통하여 봉지 무기막(420)의 봉지 특성을 향상할 수 있다.
또한, 선택적 실시예로서 기판(401)이 유기물, 예를들면 플라스틱으로 형성될 경우 봉지 무기막(420)과 봉지 무기막(420)과 기판(401)의 상면이 접하게 되고, 이를 통하여 디스플레이 장치(4000)의 제조 과정 중 또는 사용 중에 봉지 무기막(420)이 기판(401)으로부터 박리되는 것을 효과적으로 감소할 수 있다. 예를들면 디스플레이 장치(4000)의 제조 과정 중 고온 또는 고습의 공정을 수행하는데, 봉지 무기막(420)이 수축 및 팽창하여 스트레스(stress)가 발생할 수 있다. 이 때 유기물을 포함하는 기판(401)은 봉지 무기막(420)의 스트레스를 완화할 수 있다.
이를 통하여 벤딩 또는 폴딩 등 사용자의 편의성을 증대하는 유연성이 있는 디스플레이 장치(4000)를 용이하게 구현할 수 있다.
또한, 기판(401)의 적어도 일 가장자리와 봉지 무기막(420)의 가장자리가 이격되고, 이를 통하여 기판(401)의 가장자리와 인접한 영역, 즉 적어도 주변 영역(PA)에는 기판(401)의 상면이 덮이지 않고 노출된 영역이 형성된다. 이러한 기판(401)상의 노출된 영역은 디스플레이 장치(4000)의 제조 과정 중 분리를 위한 절단 공정 시 크랙 전파를 원천적으로 차단할 수 있게 한다. 또한 디스플레이 장치(4000)의 유연성을 향상하여 사용자의 편의성을 증대할 수 있다.
도시하지 않았으나, 본 실시예에도 도 5 내지 도 11의 변형예를 선택적으로 적용할 수 있다.
즉, 도 5에 도시한 것과 같이 봉지 유기막(미도시)이 표시 영역(DA)에서 표시 소자(OD)상에 형성될 수 있고 길게 연장되어, 봉지 유기막(무기막)은 주변 영역(PA)에서 표시 영역 무기막(410)과 봉지 무기막(420)의 사이에 배치될 수 있다.
또한, 본 실시예는 도 6에 도시되어 있는 차단 부재(미도시)를 더 포함할 수 있고, 도 7에 도시한 대로 복수 개의 차단 부재(미도시)를 포함할 수도 있다.
또한, 도 8에 도시한 것과 같이 봉지 무기막(420)이 복수개의 무기막을 포함할 수 있다.
또한, 도 9에 도시한 것과 같이 봉지 무기막(420)이 복수개의 무기막을 포함하고, 복수의 인접한 무기막들 사이에 봉지 유기막(미도시)이 배치되고, 봉지 유기막(미도시)의 흘러 넘치는 것을 차단하는 차단 부재(미도시)가 표시 영역 무기막(410)의 상부에 형성된다.
또한, 도 10에 도시한 것과 같이 봉지 무기막(420)이 복수개의 무기막을 포함하고, 봉지 유기막(미도시)을 더 포함할 수 있다. 하나 이상의 차단 부재(미도시)가 봉지 유기막(미도시)이 흘러 넘치는 것을 차단할 수 있다.
또한, 도 11에 도시한 것과 같이 기능층(미도시), 제1 보호층(미도시) 및 제2 보호층(미도시)을 더 포함할 수 있다.
또한, 본 실시예 및 변형예에 도 12 내지 도 28의 구조, 즉 봉지 무기막(420)의 적어도 일 가장자리가 표시 영역 무기막(410)의 적어도 일 가장자리와 나란하게 형성되는 구조, 봉지 무기막(420)이 메인 영역 및 섀도우 영역을 구비하는 구조 및 이격 부재를 더 포함하는 구조를 선택적으로 적용할 수 있음은 물론이다.
도 31은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 평면도이고, 도 32는 도 31의 ⅥA-ⅥA, ⅥB-ⅥB선을 따라 절단한 단면도이다.
도 31 및 도 32를 참조하면 본 실시예에 관한 디스플레이 장치(5000)는 기판(501)을 포함한다. 기판(501)상에는 표시 영역(DA)을 갖는 중앙 영역(CA) 및 중앙 영역(CA)의 주변에 배치된 주변 영역(PA)이 정의된다.
본 실시예의 디스플레이 장치(5000)는 전술한 실시예의 디스플레이 장치(4000)과 비교할 때 버퍼층(503), 봉지 무기막(520), 봉지 유기막(540) 및 차단 부재(550)의 구성이 상이하다. 설명의 편의를 위하여 이러한 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.
기판(501)상에 배리어층(502)이 형성된다. 배리어층(502)상에 버퍼층(503)이 형성된다. 버퍼층(503)은 기판(501)의 상부에 평탄면을 제공할 수 있고, 기판(501)을 통하여 침투하는 이물 또는 습기를 1차적으로 차단할 수 있다. 버퍼층(503)은 필수 구성 요소는 아니므로 생략할 수 있다.
버퍼층(503)상의 표시 영역(DA)상에 박막 트랜지스터(thin film transistor)를 형성할 수 있다. 표시 영역(DA) 상에 형성된 박막 트랜지스터는 표시 소자(OD)를 구동하기 위한 회로의 일부로써 기능한다. 그런데 박막 트랜지스터는 비표시 영역 상에도 형성될 수 있다.
박막 트랜지스터는 활성층(505), 게이트 전극(GE), 소스 전극(506) 및 드레인 전극(507)을 포함한다.
활성층(505)은 버퍼층(503)상에 형성된다. 게이트 절연막(511)이 활성층(505) 상에 형성된다. 선택적 실시예로서 게이트 절연막(511)은 표시 영역 무기막(510)의 막으로서 표시 영역(DA)뿐만 아니라 주변 영역(PA)의 일부에까지 연장되어 형성될 수 있다.
게이트 전극(GE)은 게이트 절연막(511)의 상부에 형성된다. 게이트 전극(GE)상에는 층간 절연막(512)이 형성된다. 층간 절연막(512)은 소스 전극(506) 및 드레인 전극(507)과 게이트 전극(GE)을 절연한다.
선택적 실시예로서 층간 절연막(512)은 표시 영역 무기막(510)의 막으로서 표시 영역(DA)뿐만 아니라 주변 영역(PA)의 일부에까지 연장되어 형성될 수 있다.
즉, 주변 영역(PA)에서 배리어층(502)상에 표시 영역 무기막(510)인 게이트 절연막(511) 및 층간 절연막(512)이 형성될 수 있다.
층간 절연막(512) 상에 소스 전극(506) 및 드레인 전극(507)이 형성된다. 소스 전극(506) 및 드레인 전극(507)은 전도성이 좋은 재료를 이용하여 단층 또는 복층으로 형성할 수 있다.
소스 전극(506) 및 드레인 전극(507)은 활성층(505)의 영역과 접촉하도록 형성된다.
박막 트랜지스터를 덮도록, 즉 소스 전극(506) 및 드레인 전극(507)상에 패시베이션막(508)을 형성한다.
패시베이션막(508)상에 표시 소자(OD)를 형성한다. 표시 소자(OD)는 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된다.
표시 소자(OD)는 제1 전극(FE), 제2 전극(SE) 및 양 전극 사이에 개재되는 중간층(IM)을 포함한다.
패시베이션막(508) 상에 화소 정의막(PDL)이 형성되고, 화소 정의막(PDL)은 제1 전극(FE)의 소정의 영역을 덮지 않도록 형성한 후, 화소 정의막(PDL)으로 덮이지 않은 제1 전극(FE)의 영역상에 중간층(IM)을 형성하고 중간층(IM)상에 제2 전극(SE)이 형성된다.
제2 전극(SE) 상에는 도시되지 않았으나, 선택적 실시예로서 도 11에 도시한기능층(미도시) 및 제1 보호층(미도시)이 더 형성될 수 있다. 기능층 및 제1 보호층에 대한 구체적인 내용은 전술한 실시예와 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다.
표시 영역 무기막(510)의 게이트 절연막(511) 및 층간 절연막(512)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있다.
봉지 무기막(520)은 기판(501)상의 표시 영역(DA)을 덮도록 형성된다. 봉지 무기막(520)은 제1 무기막(521) 및 제2 무기막(522)를 포함한다.
봉지 유기막(540)은 복수개의 유기막, 즉 제1 유기막(541) 및 제2 유기막(542)을 포함한다.
표시 소자(OD)의 제2 전극(SE)과 제1 무기막(521)의 사이에 제1 유기막(541)이 배치되고, 제1 무기막(521) 및 제2 무기막(522)의 사이에 제2 유기막(542)이 배치된다.
선택적 실시예로서 제2 유기막(542)은 제1 유기막(541)보다 크게 형성될 수 있다.
차단 부재(550)가 표시 영역 무기막(510)의 상부, 즉 선택적 실시예로서 층간 절연막(512)상에 형성되고 제1 차단 부재(551) 및 제2 차단 부재(552)를 구비한다. 제1 차단 부재(551) 및 제2 차단 부재(552)를 통하여 제1 유기막(541) 및 제2 유기막(542)이 흘러 넘치는 것을 차단할 수 있다.
제2 차단 부재(552)는 제1층(552a) 및 제2 층(552b)을 구비한다.
차단 부재(550)는 다양한 재질로 형성할 수 있다. 선택적 실시예로서 제1 차단 부재(551) 및 제2 차단 부재(552)의 제1층(552a)는 동일한 재질로 형성할 수 있고, 예를들면 패시베이션막(508)과 동일한 재질로 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 제2 차단 부재(552)의 제2층(552b)은 화소 정의막(PDL)과 동일한 재질로 형성할 수 있다.
봉지 무기막(520)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(510)의 가장자리를 벗어난다. 즉, 봉지 무기막(520)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(510)의 일 가장자리를 지나쳐서 기판(501)의 상면과 접할 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 무기막(520)의 모든 가장자리는 표시 영역 무기막(510)의 가장자리를 벗어나서 기판(501)의 상면과 접할 수 있다.
봉지 무기막(520)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 무기막(520)은 산화물, 질화물 또는 질산화물을 포함할 수 있다. 더 구체적인 예로서, 봉지 무기막(520)은 실리콘나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥사이드(SiO2) 또는 실리콘 옥시나이트라이드 (SiOxNy)를 함유할 수 있다.
도시하지 않았으나, 선택적 실시예로서 봉지 무기막(520)이 메인 영역(미도시) 및 섀도우 영역(미도시)을 포함할 수 있다. 즉, 도 3의 구조를 본 실시예에 적용할 수 있다.
또한 선택적 실시예로서 봉지 무기막(520)의 모든 가장자리는 표시 영역 무기막(510)의 가장자리를 지나쳐서 기판(501)의 상면에 형성된다.
도시하지 않았으나, 본 실시예에도 도 12 내지 도 28의 구조, 즉 봉지 무기막(520)의 적어도 일 가장자리가 표시 영역 무기막(510)의 적어도 일 가장자리와 나란하게 형성되는 구조, 봉지 무기막(520)이 메인 영역 및 섀도우 영역을 구비하는 구조 및 이격 부재를 더 포함하는 구조를 선택적으로 적용할 수 있음은 물론이다.
도 33은 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 디스플레이 장치를 개략적으로 도시한 평면도이고, 도 34는 도 33의 ⅩA-ⅩA, ⅩB-ⅩB선을 따라 절단한 단면도이다.
도 33 및 도 34를 참조하면 본 실시예에 관한 디스플레이 장치(6000)는 기판(601)을 포함한다. 기판(601)상에는 표시 영역(DA)을 갖는 중앙 영역(CA) 및 중앙 영역(CA)의 주변에 배치된 주변 영역(PA)이 정의된다.
설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 비교할 때 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.
기판(601)상에 배리어층(602)이 형성된다. 배리어층(602)상에 버퍼층(603)이 형성된다. 버퍼층(603)은 필수 구성 요소는 아니므로 생략할 수 있다.
버퍼층(603)상의 표시 영역(DA)상에 박막 트랜지스터(thin film transistor)를 형성할 수 있다. 표시 영역(DA) 상에 형성된 박막 트랜지스터는 표시 소자(OD)를 구동하기 위한 회로의 일부로써 기능한다. 그런데 박막 트랜지스터는 비표시 영역 상에도 형성될 수 있다.
박막 트랜지스터는 활성층(605), 게이트 전극(GE), 소스 전극(606) 및 드레인 전극(607)을 포함한다.
주변 영역(PA)에는 또는 선택적 실시예로서 비표시 영역에는 제1 회로 부재(PCU1)가 형성될 수 있다. 제1 회로 부재(PCU1)는 다양한 형태를 가질 수 있고, 선택적 실시예로서 회로 활성층(CA), 회로 게이트 전극(CG), 회로 소스 전극(CS) 및 회로 드레인 전극(CD)을 포함할 수 있다.
제1 회로 부재(PCU1)는 표시 소자(OD)를 구동하기 위한 전기적 신호의 표시 소자(OD)로 전달, 전기적 신호의 변환 등을 수행할 수 있다.
활성층(605) 및 회로 활성층(CA)은 버퍼층(603)상에 형성된다. 게이트 절연막(611)이 활성층(605) 및 회로 활성층(CA)상에 형성된다.
게이트 전극(GE)은 게이트 절연막(611)의 상부에 형성된다. 또한, 회로 게이트 전극(CG)은 게이트 절연막(611)상에 형성된다.
층간 절연막(612)이 게이트 전극(GE) 및 회로 게이트 전극(CG)상에 형성된다. 선택적 실시예로서 층간 절연막(612)은 표시 영역 무기막(610)의 막으로서 표시 영역(DA)뿐만 아니라 주변 영역(PA)의 일부에까지 연장되어 형성될 수 있다.
즉, 주변 영역(PA)에서 배리어층(602)상에 표시 영역 무기막(610)인 게이트 절연막(611) 및 층간 절연막(612)이 형성될 수 있다. 또한, 전술한 버퍼층(603)도 배리어층(602)에까지 이르도록 연장된 형태를 가질 수 있다.
층간 절연막(612) 상에 소스 전극(606) 및 드레인 전극(607)이 형성된다. 또한, 층간 절연막(612) 상에 회로 소스 전극(CS) 및 드레인 전극(607)이 형성된다.
선택적 실시예로서 층간 절연막(612)상에 제2 회로 부재(PCU2)가 배치될 수 있다. 제2 회로 부재(PCU2)는 표시 소자(OD)를 구동하기 위한 전기적 신호의 표시 소자(OD)로 전달, 전기적 신호의 변환 등을 수행할 수 있다.
박막 트랜지스터를 덮도록, 즉 소스 전극(606) 및 드레인 전극(607)상에 패시베이션막(608)을 형성한다. 또한 패시베이션막(608)은 제1 회로 부재(PCU1)을 덮도록 형성될 수 있다.
패시베이션막(608)상에 표시 소자(OD)를 형성한다. 표시 소자(OD)는 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된다. 즉 도 34에 도시한 것과 같이 표시 소자(OD)는 드레인 전극(607)과 전기적으로 연결될 수 있다.
표시 소자(OD)는 제1 전극(FE), 제2 전극(SE) 및 양 전극 사이에 개재되는 중간층(IM)을 포함한다.
패시베이션막(608) 상에 화소 정의막(PDL)이 형성되고, 화소 정의막(PDL)은 제1 전극(FE)의 소정의 영역을 덮지 않도록 형성한 후, 화소 정의막(PDL)으로 덮이지 않은 제1 전극(FE)의 영역상에 중간층(IM)을 형성하고 중간층(IM)상에 제2 전극(SE)이 형성된다.
제2 전극(SE) 상에는 도시되지 않았으나, 선택적 실시예로서 도 11에 도시한기능층(미도시) 및 제1 보호층(미도시)이 더 형성될 수 있다. 기능층 및 제1 보호층에 대한 구체적인 내용은 전술한 실시예와 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다.
표시 영역 무기막(610)의 게이트 절연막(611) 및 층간 절연막(612)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있다.
봉지 무기막(620)은 기판(601)상의 표시 영역(DA)을 덮도록 형성된다. 봉지 무기막(620)은 제1 무기막(621) 및 제2 무기막(622)를 포함한다.
기능층(660)이 표시 소자(OD)상에 형성된다. 기능층(660)은 캐핑층(661) 및 커버층(662)을 포함할 수 있다. 캐핑층(661)은 표시 영역(DA)에 형성되는 표시 소자(OD)의 최상부층인 제2 전극(SE)을 보호할 수 있고, 표시 소자(OD)에서 구현된 가시 광선의 굴절율을 제어할 수 있도록 형성되어 광효율을 향상할 수 있다. 또한, 커버층(662)은 캐핑층(661)상에 형성되고 캐핑층(661) 및 표시 소자(OD)를 보호하고, 표시 소자(OD)에서 구현된 가시 광선의 굴절율을 제어할 수 있도록 형성되어 광효율을 향상할 수 있다. 커버층(662)은 예를들면 LiF를 함유할 수 있다.
캐핑층(661)은 표시 소자(OD)를 덮도록 표시 소자(OD)보다 크게 형성될 수 있다. 선택적 실시예로서 커버층(662)은 캐핑층(661)보다 작을 수 있다.
제1 보호층(670)은 기능층(660)상에 형성되고, 무기물, 예를들면 산화물 또는 질화물을 구비할 수 있다. 선택적 실시예로서 제1 보호층(670)은 알루미늄 산화물을 포함할 수 있고, 예를들면 Al2O3를 함유할 수 있다.
선택적 실시예로서 제1 보호층(670)은 기능층(660)보다 크게 형성되고 후술할 제1 유기막(641)보다 작게 형성될 수 있다. 또 다른 선택적 실시예로서 제1 보호층(670)이 제1 유기막(641) 및 제2 유기막(642)보다 크게 형성될 수 있다
봉지 유기막(640)은 복수개의 유기막, 즉 제1 유기막(641) 및 제2 유기막(642)을 포함한다.
표시 소자(OD)의 제1 보호층(670)과 제1 무기막(621)의 사이에 제1 유기막(641)이 배치되고, 제1 무기막(621) 및 제2 무기막(622)의 사이에 제2 유기막(642)이 배치된다.
선택적 실시예로서 제2 유기막(642)은 제1 유기막(641)보다 크게 형성될 수 있다.
차단 부재(650)가 표시 영역 무기막(610)의 상부, 즉 선택적 실시예로서 층간 절연막(612)상에 형성되고 제1 차단 부재(651), 제2 차단 부재(652) 및 제3 차단 부재(653)를 구비한다. 제1 차단 부재(651), 제2 차단 부재(652) 및 제3 차단 부재(653)를 통하여 제1 유기막(641) 및 제2 유기막(642)이 흘러 넘치는 것을 차단할 수 있다.
제2 차단 부재(652)는 제1층(652a) 및 제2 층(652b)을 구비한다. 제3 차단 부재(653)는 제1층(652a), 제2 층(652b) 및 제3 층(653c)을 구비한다.
차단 부재(650)는 다양한 재질로 형성할 수 있다. 선택적 실시예로서 제1 차단 부재(651)는 패시베이션막(608) 또는 화소 정의막(PDL)과 동일한 재질로 형성할 수 있다. 선택적 실시예로서 제2 차단 부재(652)의 제1층(652a) 및 제2층(652b)은 패시베이션막(608) 및 화소 정의막(PDL)과 동일한 재질로 형성할 수 있다.
또한, 선택적 실시예로서 제3 차단 부재(653)의 제1층(653a), 제2 층(653b) 및 제3 층(653c)은 각각 패시베이션막(608) 및 화소 정의막(PDL)중 적어도 어느 하나와 동일한 재질로 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 제3 차단 부재(653)의 하부, 즉 제1층(653a)의 하부에 도전 부재(MUP)가 배치될 수 있다.
봉지 무기막(620)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(610)의 가장자리를 벗어난다. 즉, 봉지 무기막(620)의 적어도 일 가장자리는 표시 영역 무기막(610)의 일 가장자리를 지나쳐서 기판(601)의 상면과 접할 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 무기막(620)의 모든 가장자리는 표시 영역 무기막(610)의 가장자리를 벗어나서 기판(601)의 상면과 접할 수 있다.
봉지 무기막(620)은 다양한 무기물을 이용하여 형성할 수 있다.
선택적 실시예로서 봉지 무기막(620)은 산화물, 질화물 또는 질산화물을 포함할 수 있다. 더 구체적인 예로서, 봉지 무기막(620)은 실리콘나이트라이드(SiNx), 실리콘 옥사이드(SiO2) 또는 실리콘 옥시나이트라이드 (SiOxNy)를 함유할 수 있다.
도시하지 않았으나, 선택적 실시예로서 봉지 무기막(620)이 메인 영역(미도시) 및 섀도우 영역(미도시)을 포함할 수 있다. 즉, 도 3의 구조를 본 실시예에 적용할 수 있다.
또한 선택적 실시예로서 봉지 무기막(620)의 모든 가장자리는 표시 영역 무기막(610)의 가장자리를 지나쳐서 기판(601)의 상면에 형성된다.
도시하지 않았으나, 본 실시예에도 도 12 내지 도 28의 구조, 즉 봉지 무기막(620)의 적어도 일 가장자리가 표시 영역 무기막(610)의 적어도 일 가장자리와 나란하게 형성되는 구조, 봉지 무기막(620)이 메인 영역 및 섀도우 영역을 구비하는 구조 및 이격 부재를 더 포함하는 구조를 선택적으로 적용할 수 있음은 물론이다.
이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
101, 201,301, 401, 501, 601, 601: 기판
110, 210, 310, 410, 510, 610: 표시 영역 무기막
120, 220, 320, 420, 520, 620: 봉지 무기막
1000, 2000, 3000, 4000, 5000, 6000: 디스플레이 장치

Claims (27)

  1. 기판상에 적어도 표시 영역을 갖는 중앙 영역 및 상기 중앙 영역의 주변에 배치된 주변 영역을 포함하는 디스플레이 장치에 관한 것으로서,
    상기 표시 영역상에 형성되고 적어도 상기 주변 영역의 일 영역에까지 연장되도록 형성된 표시 영역 무기막;
    상기 표시 영역 무기막의 상부에 형성된 봉지 무기막; 및
    상기 기판과 상기 표시 영역 무기막의 사이에 배치된 배리어층을 포함하고,
    상기 봉지 무기막은 메인 영역 및 상기 메인 영역에 연결된 섀도우 영역을 포함하고,
    상기 섀도우 영역은 상기 메인 영역보다 상기 기판의 가장자리에 근접하도록 형성되고 경사진 측면을 갖고,
    상기 배리어층의 적어도 일 가장자리는 상기 표시 영역 무기막의 일 가장자리를 벗어나도록 형성되어 상기 표시 영역 무기막의 일 가장자리보다 상기 기판의 일 가장자리에 더 가깝게 위치하고,
    상기 배리어층의 상기 일 가장자리는 상기 봉지 무기막의 상기 메인 영역 및 상기 섀도우 영역의 일 가장자리를 벗어나도록 형성되어 상기 봉지 무기막의 일 가장자리보다 상기 기판의 일 가장자리에 더 가깝게 위치하는 디스플레이 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 봉지 무기막의 가장자리는 상기 기판의 가장자리와 이격되도록 상기 봉지 무기막은 상기 기판보다 작은 크기를 갖는 디스플레이 장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 표시 영역 무기막의 가장자리는 상기 기판의 가장자리와 이격되도록 상기 표시 영역 무기막은 상기 기판보다 작은 크기를 갖는 디스플레이 장치.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 봉지 무기막의 적어도 일 가장자리는 상기 표시 영역의 무기막의 일 가장자리를 지나쳐서 상기 기판상에 형성되는 디스플레이 장치.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 제1 항에 있어서,
    상기 표시 영역을 덮도록 상기 표시 영역 무기막과 상기 봉지 무기막 사이에 배치되는 봉지 유기막을 더 포함하는 디스플레이 장치.
  9. 제8 항에 있어서,
    상기 봉지 유기막은 상기 표시 영역 무기막보다 작게 형성되는 디스플레이 장치.
  10. 제8 항에 있어서,
    상기 봉지 유기막은 상기 봉지 무기막보다 작게 형성되는 디스플레이 장치.
  11. 제8 항에 있어서,
    상기 봉지 유기막보다 상기 기판의 가장자리에 더 가깝게 배치되도록 형성된 차단 부재를 더 포함하는 디스플레이 장치.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 차단 부재는 복수 개로 구비되는 디스플레이 장치.
  13. 제12 항에 있어서,
    상기 복수 개의 차단 부재는 서로 높이가 다른 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
  14. 제1 항에 있어서,
    상기 봉지 무기막은 복수 개의 무기막이 적층된 형태로 형성되는 디스플레이 장치.
  15. 제14 항에 있어서,
    상기 표시 영역을 덮도록 배치된 봉지 유기막을 더 포함하고,
    상기 봉지 유기막은 상기 봉지 무기막의 복수 개의 무기막들 사이에 배치되고 상기 복수 개의 무기막들보다 작게 형성된 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 봉지 유기막은 복수 개의 유기막을 구비하고,
    상기 복수 개의 유기막 중 적어도 하나의 유기막은 상기 봉지 무기막의 일 무기막과 상기 표시 영역 무기막의 사이에 형성된 디스플레이 장치.
  17. 제1 항에 있어서,
    상기 표시 영역 무기막과 상기 봉지 무기막의 사이에 배치된 기능층을 더 포함하는 디스플레이 장치.
  18. 제17 항에 있어서,
    상기 기능층은 적어도 가시 광선에 대한 굴절율을 제어할 수 있는 층을 구비하는 디스플레이 장치.
  19. 제17 항에 있어서,
    상기 기능층과 상기 봉지 무기막의 사이에 배치된 제1 보호층을 더 포함하는 디스플레이 장치.
  20. 제1 항에 있어서,
    상기 봉지 무기막의 상부에 형성되고 상기 봉지 무기막보다 크게 형성되는 제2 보호층을 더 포함하는 디스플레이 장치.
  21. 제1 항에 있어서,
    상기 기판은 유기물을 함유하는 디스플레이 장치.
  22. 제1 항에 있어서,
    상기 표시 영역에는,
    하나 이상의 표시 소자; 및
    상기 표시 소자와 전기적으로 연결되고, 활성층, 게이트 전극, 소스 전극 및드레인 전극을 구비하는 박막 트랜지스터가 형성되고,
    상기 표시 영역 무기막은 상기 활성층, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극의 적어도 어느 하나와 접하는 층인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
  23. 제22 항에 있어서,
    상기 표시 영역 무기막은,
    상기 활성층과 게이트 전극을 절연하는 게이트 절연막과, 소스 전극 및 드레인 전극과 게이트 전극을 절연하는 층간 절연막 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
  24. 제22 항에 있어서,
    상기 표시 소자는 제1 전극, 제2 전극 및 상기 제1 전극과 제2 전극의 사이에 배치되고 유기 발광층을 구비하는 중간층을 포함하는 디스플레이 장치.
  25. 기판상에 적어도 표시 영역을 갖는 중앙 영역 및 상기 중앙 영역의 주변에 배치된 주변 영역을 포함하는 디스플레이 장치 제조 방법에 관한 것으로서,
    상기 표시 영역상에 형성되고 적어도 상기 주변 영역의 일 영역에까지 연장되도록 형성된 표시 영역 무기막을 형성하는 단계;
    상기 표시 영역을 덮고 상기 표시 영역 무기막의 상부에 위치하고 상기 표시 영역 무기막의 가장자리를 지나치도록 형성된 가장자리를 갖는 봉지 무기막을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 기판과 상기 표시 영역 무기막의 사이에 배치된 배리어층을 형성하는 단계를 더 포함하고,
    상기 봉지 무기막은 메인 영역 및 상기 메인 영역에 연결된 섀도우 영역을 포함하고,
    상기 섀도우 영역은 상기 메인 영역보다 상기 기판의 가장자리에 근접하도록 형성되고 경사진 측면을 갖고,
    상기 배리어층의 적어도 일 가장자리는 상기 표시 영역 무기막의 일 가장자리를 벗어나도록 형성되어 상기 표시 영역 무기막의 일 가장자리보다 상기 기판의 일 가장자리에 더 가깝게 위치하고,
    상기 배리어층의 상기 일 가장자리는 상기 봉지 무기막의 상기 메인 영역 및 상기 섀도우 영역의 일 가장자리를 벗어나도록 형성되어 상기 봉지 무기막의 일 가장자리보다 상기 기판의 일 가장자리에 더 가깝게 위치하는 디스플레이 장치 제조 방법.
  26. 제25항에 있어서,
    상기 봉지 무기막을 형성하는 단계는 증착 방법을 이용하여 진행하는 디스플레이 장치 제조 방법.
  27. 제25항에 있어서,
    상기 봉지 무기막을 형성하는 단계는 마스크를 이용하여 상기 봉지 무기막이 상기 기판의 가장자리 중 적어도 일 가장자리와 이격되는 패턴 형태로 형성하는 디스플레이 장치 제조 방법.
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