KR101789205B1 - 산 담지 및 방사선 조사에 의한 탄소섬유의 표면처리 방법 - Google Patents

산 담지 및 방사선 조사에 의한 탄소섬유의 표면처리 방법 Download PDF

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Abstract

산 담지 및 방사선 조사에 의한 탄소섬유의 표면처리 방법이 개시된다.
본 발명에 의한 탄소섬유의 표면처리 방법은, (1) 탄소섬유를 산 용액에 담지하는 제1단계; 및 (2) 상기 제1단계를 통하여 산 용액에 담지된 상태의 탄소섬유에 방사선을 조사하는 제2단계를 포함하여 이루어진다.
본 발명에 의할 경우, 다양한 관능기를 탄소섬유의 표면에 효율적으로 도입할 수 있게 된다.

Description

산 담지 및 방사선 조사에 의한 탄소섬유의 표면처리 방법{The method of surface modifying the carbon fiber by irradiation with acid}
본 발명은 탄소섬유의 표면 처리방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 탄소섬유를 산 용액에 담지한 상태로 방사선을 조사하여 탄소섬유의 표면에 다양한 관능기를 도입시킬 수 있는 산 담지 및 방사선 조사에 의한 탄소섬유의 표면처리 방법에 관한 것이다.
탄소섬유는 탄소섬유강화 복합재료의 강화재로 주로 이용된다. 강화재인 탄소섬유의 표면특성은 복합재료의 특성에 큰 영향을 미치는 매우 중요한 인자이며, 단섬유 강화 복합재료의 경우에는 특히 중요하다. 계면강도가 너무 낮으면 복합재료의 기계적 성질이 낮은 계면강도에 의해 지배되어 탄소섬유의 기계적 성능이 충분히 복합체의 물성에 반영되지 않는다. 반대로 계면강도가 너무 높으면 크랙 전파에 대한 저항력이 낮아서 복합재료의 파괴인성이 저하된다. 이와 같이 계면강도는 탄소섬유의 표면특성에 의해서 크게 좌우되므로, 탄소섬유의 표면처리는 매우 중요한 기술이다.
일반적으로 탄소섬유의 표면처리 방법은 황산, 질산 등의 강산으로 처리하는 습식법, 공기와 같은 산화성 기체 혹은 불활성 기체 분위기에서 고온으로 처리하는 건식법 등이 있다. 그러나 상기와 같은 종래의 처리방법은 표면처리에 소요되는 공정시간이 매우 길며, 표면처리의 정도가 미흡하다는 문제점이 있다.
대한민국 공개특허 10-2005-0108593호
본 발명의 발명자들은 탄소섬유의 효율적인 표면 개질 방법에 관한 다양한 연구를 진행한 결과, 산 용액에 담지한 상태에서 방사선을 조사함으로써, 종래보다 우수한 표면처리 효과를 가짐을 확인하였다.
즉, 본 발명은 탄소섬유의 표면에 다양한 관능기를 효율적으로 도입할 수 있는 탄소섬유의 표면처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 목적을 상술한 것에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 목적들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해되어질 수 있을 것이다.
상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 산 담지 및 방사선 조사에 의한 탄소섬유의 표면처리 방법을 제공하는데, 본 발명의 일례에 의한 탄소섬유의 표면처리 방법은, (1) 탄소섬유를 산 용액에 담지하는 제1단계; 및 (2) 상기 제1단계를 통하여 산 용액에 담지된 상태의 탄소섬유에 방사선을 조사하는 제2단계를 포함하여 이루어진다.
또한 상기 방사선 조사 이후에 탄소섬유를 세척 및 건조하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
상기 방사선은 전자선(β-rays)인 것이 바람직하다.
상기 전자선의 전자밀도는 1 내지 3MeV인 것이 바람직하다.
상기 전자선 조사량은 50 내지 1000kGy인 것이 바람직하다.
상술한 본 발명에 의할 경우, 산 용액에 담지한 상태에서 방사선을 조사하여 산 용액에 포함되어 있는 다양한 관능기를 탄소섬유의 표면에 효율적으로 도입할 수 있는 효과가 있다.
본 발명의 효과는 상술한 것에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 효과들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해되어 질 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예 및 비교예에 의하여 표면처리된 탄소섬유의 XPS 분석 결과이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명은 산 담지 및 방사선 조사에 의한 탄소섬유의 표면처리 방법을 제공하는데, 본 발명의 일례에 의한 탄소섬유의 표면처리 방법은, (1) 탄소섬유를 산 용액에 담지하는 제1단계; 및 (2) 상기 제1단계를 통하여 산 용액에 담지된 상태의 탄소섬유에 방사선을 조사하는 제2단계를 포함하여 이루어진다.
상기 탄소섬유는 섬유상으로 형성된 탄소재료를 의미하는 것으로서, 장섬유, 단섬유, 부직포 등 어느 형상이든 사용이 가능하다. 또한 페놀계, 석유계, 석탄계, 셀룰로오스(cellulose)계, 폴리아크릴로나이트릴(polyacrylonitrile)계 등의 전구체로부터 제조된 탄소섬유도 사용이 가능하다. 즉, 상기 탄소섬유는 알려진 모든 섬유상의 탄소재료가 사용될 수 있다.
상기 산 용액은 산성 용액이라면 모두 사용이 가능하며, 탄소섬유의 표면에 도입하고자 하는 관능기의 종류에 따라 적절히 선택된다.
상기 제1단계에서 탄소섬유를 산 용액에 담지하는 과정은 탄소섬유가 충분히 젖을때까지 수행된다.
상기 방사선은 통상의 감마선(γ-rays), 자외선(UV), 전자선(β-rays), 이온빔, 중성자 빔, X선을 사용할 수 있다. 다양한 종류의 방사선을 대상으로 실험을 수행한 결과, 방사선으로 전자선(β-rays)을 이용하는 것이 표면처리 효율이 가장 우수하였다. 그러나 전자선 이외의 다른 종류의 방사선을 사용하는 경우에도 본 발명 특유의 효과는 모두 발생하였다.
방사선으로 전자선(β-rays)을 이용하는 경우, 전자선의 전자밀도는 1 내지 3MeV, 전자선 조사량은 50 내지 1000kGy인 것이 바람직하다. 전자선 조사량이 50 kGy 미만일 경우, 산 용액에 라디칼이 생성되지 않아 탄소섬유의 표면에 화학반응을 유도하기 어려운 문제점이 생길 수 있고, 전자선 조사량이 1000kGy를 초과하는 경우, 반응을 유도하는데 필요한 에너지보다 과도하고 이 과한 에너지가 탄소섬유의 물성을 저하시킬 뿐만 아니라, 조사량에 비하여 충분히 표면처리가 되지 않기 때문에 경제적인 측면에서 불리하다는 문제점이 발생할 수 있다.
상기와 같이 전자선 조사가 완료되면, 최종적으로 탄소섬유를 세척 및 건조하는 단계를 거치게 된다.
상기와 같은 과정을 통하여 일반적으로 소수성을 띄고 있는 탄소섬유의 표면에 산소와 같은 친수성 관능기를 도입할 수 있게 된다.
이하, 실시예 및 시험예에 의하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
실시예 : 산 담지 및 방사선 조사를 통하여 표면 처리한 탄소섬유
피치계 탄소섬유 1g을 페트리 접시를 이용하여 과산화수소수(34.5%)와 질산(60%) 50ml에 각각 15시간 동안 담지 시켰다. 또한, 이렇게 각 용액에 탄소섬유를 담지한 페트리 접시 그대로 방사선 조사를 실시하였다. 이때 사용한 방사선은 전자선이며, 전자선 에너지는 1.14 MeV, 전자선 흡수선량은 각각 200, 400 kGy로 하였다. 전자선 조사를 마친 피치계 탄소섬유는 증류수로 충분히 세척하여 100℃에서 충분히 건조하였다.
과산화수소에 담지하여 200 kGy로 조사한 탄소섬유를 실시예 1, 과산화수소에 담지하여 400 kGy로 조사한 탄소섬유를 실시예 2, 질산에 담지하여 200 kGy로 조사한 탄소섬유를 실시예 3, 질산에 담지하여 400 kGy로 조사한 탄소섬유를 실시예 4로 하였다.
비교예 1
아무런 처리도 하지 않은 순수한 피치계 탄소섬유를 비교예 1로 선정하였다.
비교예 2
상기 실시예와 달리 산 용액에서 담지하지 않은 상태에서 전자선 조사로 표면처리를 한 피치계 탄소섬유를 비교예 2로 선정하였다.
즉, 탄소섬유에 전자선을 바로 조사하였다. 이때의 전자선 에너지는 1.14 MeV, 전자선 흡수선량은 200 kGy로 하였다.
XPS 분석
상기 실시예 및 비교예의 과정을 거친 피치계 탄소섬유에 대하여 XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy) 분석을 수행하였다. 탄소(C) 1s 영역, 질소(N) 1s 영역, 산소(O) 1s 영역의 적분값의 비율로부터 C, O, N의 표면 원소비율을 도 1 및 하기의 표 1에 나타내었다.
[표 1] 탄소섬유의 원소비율
Figure 112016063650595-pat00001
도 1에서 아무런 처리를 하지 않은 비교예 1과 전자선 조사만을 수행한 비교예 2의 경우도 결합에너지 284.5eV 부근에서 탄소 피크, 532eV 부근에서 산소 피크가 나타나는 것을 확인할 수 있었다. 과산화수소수 용액에 담지하여 전자선을 조사한 실시예 3과 실시예 4의 경우에도 탄소와 산소 피크만 존재하는 것이 확인되었으며, 질산 용액에 담지하여 전자선을 조사한 실시예 3과 실시예 4의 경우에는 탄소와 산소 피크 외에 400eV 부근에서 질소 피크가 나타나는 것을 확인할 수 있었다. 즉, 질산에 담지하여 전자선 조사를 할 경우 산소관능기와 질소관능기가 동시에 도입되는 것을 확인하였다. 이로부터 전사선 조사시 담지하는 산의 종류에 따라 산에 포함된 원소를 탄소섬유의 표면에 도입시킬 수 있다는 것을 알 수 있었다.
상기 표 1에 나타낸 바와 같이, 아무런 처리를 하지 않은 비교예 1에 비하여 전자선 조사만을 수행한 비교예 2가 산소 함량이 높은 것을 확인할 수 있었다. 또한 산 용액에 담지하여 전자선 조사한 실시예의 경우, 비교예보다 산소 함량이 월등히 높은 것을 알 수 있었다.
상기 표에서 알 수 있듯이 질산에 담지하여 400 kGy의 전자선을 조사한 실시예 4가 가장 높은 19.5%의 산소 함량을 보였으며, 이는 비교예 1에 비하여 약 2.6배 증가한 수치이다. 실시예 1 내지 4의 표면 원소 비율 결과를 분석하여 보면, 같은 전자선 조사량인 경우 질산에 담지하는 것이 과산화수소에 담지하는 것 보다 탄소섬유의 표면에 더 많은 산소관능기가 도입되는 것을 알 수 있었다. 또한 질산에 담지하는 경우에는 산소관능기 이외에 질소관능기도 동시에 도입되는 것을 알 수 있었다. 또한, 동일한 산에 담지하는 경우, 전자선 조사량이 200kGy에서 400kGy로 증가하면 탄소섬유에 도입되는 산소관능기의 함량도 증가하는 것으로 나타났다.
앞에서 설명되고 도면에 도시된 본 발명의 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 발명의 보호범위는 특허청구범위에 기재된 사항에 의해서만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 및 변경하는 것이 가능하다. 따라서, 이러한 개량 및 변경은 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 될 것이다.

Claims (5)

  1. (1) 탄소섬유를 산 용액에 담지하는 제1단계; 및
    (2) 상기 제1단계를 통하여 산 용액에 담지된 상태의 탄소섬유에 방사선을 조사하는 제2단계를 포함하여 이루어지는 탄소섬유의 표면처리 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    제2단계 이후에 탄소섬유를 세척 및 건조하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소섬유의 표면처리 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 방사선은 전자선(β-rays)인 것을 특징으로 하는 탄소섬유의 표면처리 방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 전자선의 전자밀도는 1 내지 3MeV인 것을 특징으로 하는 탄소섬유의 표면처리 방법.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 전자선 조사량은 50 내지 1000kGy인 것을 특징으로 하는 탄소섬유의 표면처리 방법.
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