KR101781049B1 - Organic electro-luminescent Device - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 다수의 화소영역을 갖는 표시영역이 정의된 제 1 기판과; 상기 제 1 기판 상의 상기 각 화소영역에 형성된 스위칭 박막트랜지스터 및 구동 박막트랜지스터와; 상기 스위칭 및 구동 박막트랜지스터를 덮으며 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키며 형성된 보호층과; 상기 보호층 위로 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접촉하며 형성된 제 1 전극과; 상기 제 1 전극의 가장자리와 중첩하며 상기 화소영역의 경계에 형성된 뱅크와; 상기 뱅크 내측으로 상기 제 1 전극 상부에 형성된 유기 발광층과; 상기 유기 발광층 및 상기 뱅크 상부로 상기 표시영역 전면에 형성되며, 일함수 값이 낮은 금속물질로 이루어진 제 1 두께의 하부층과, 투명 도전성 산화물로 이루어진 제 2 두께의 상부층의 이중층 구조로 이루어진 제 2 전극을 포함하는 유기전계 발광소자를 제공한다. The present invention provides a display device comprising: a first substrate on which a display region having a plurality of pixel regions is defined; A switching thin film transistor and a driving thin film transistor formed in the respective pixel regions on the first substrate; A protective layer covering the switching and driving thin film transistor and exposing a drain electrode of the driving thin film transistor; A first electrode formed on the protective layer in contact with a drain electrode of the driving thin film transistor; A bank formed on a boundary of the pixel region and overlapping an edge of the first electrode; An organic light emitting layer formed on the first electrode inwardly of the bank; A lower layer of a first thickness made of a metal material having a low work function value and an upper layer having a second thickness of a transparent conductive oxide and formed on the entire surface of the display region over the organic light emitting layer and the bank, And an organic electroluminescent device.

Description

유기전계 발광소자{Organic electro-luminescent Device}[0001] The present invention relates to an organic electroluminescent device,

본 발명은 유기전계 발광소자(Organic Electro-luminescent Device)에 관한 것이며, 특히 상부발광 방식의 구조에서 저저항 특성을 유지하면서도 캐소드 전극의 투과율을 향상시키는 것을 특징으로 하는 유기전계 발광소자에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic electroluminescent device, and more particularly, to an organic electroluminescent device which improves the transmittance of a cathode electrode while maintaining a low resistance characteristic in a top emission type structure.

평판 디스플레이(FPD ; Flat Panel Display)중 하나인 유기전계 발광소자는 높은 휘도와 낮은 동작 전압 특성을 갖는다. 또한 스스로 빛을 내는 자체발광형이기 때문에 명암대비(contrast ratio)가 크고, 초박형 디스플레이의 구현이 가능하며, 응답시간이 수 마이크로초(㎲) 정도로 동화상 구현이 쉽고, 시야각의 제한이 없으며 저온에서도 안정적이고, 직류 5V 내지 15V의 낮은 전압으로 구동하므로 구동회로의 제작 및 설계가 용이하다.An organic electroluminescent device, which is one of flat panel displays (FPDs), has high luminance and low operating voltage characteristics. In addition, since it is a self-luminous type that emits light by itself, it has a large contrast ratio, can realize an ultra-thin display, can realize a moving image with a response time of several microseconds (μs), has no viewing angle limit, And it is driven with a low voltage of 5 V to 15 V direct current, so that it is easy to manufacture and design a driving circuit.

또한, 상기 유기전계 발광소자의 제조공정은 증착(deposition) 및 인캡슐레이션(encapsulation) 장비가 전부라고 할 수 있기 때문에 제조 공정이 매우 단순하다. In addition, since the manufacturing process of the organic electroluminescent device is all the deposition and encapsulation equipment, the manufacturing process is very simple.

따라서, 전술한 바와 같은 장점을 갖는 유기전계 발광소자는 최근에는 TV, 모니터, 핸드폰 등 다양한 IT기기에 이용되고 있다. Accordingly, the organic electroluminescent device having the above-described advantages has recently been used in various IT devices such as a TV, a monitor, and a mobile phone.

이하, 유기전계 발광 소자의 기본적인 구조에 대해서 조금 더 상세히 설명한다. Hereinafter, the basic structure of the organic electroluminescent device will be described in more detail.

유기전계 발광소자는 크게 어레이 소자와 유기전계 발광 다이오드로 이루지고 있다. 상기 어레이 소자는 게이트 및 데이터 배선과 연결된 스위칭 박막트랜지스터와, 상기 유기전계 발광 다이오드와 연결된 구동 박막트랜지스터로 이루어지며, 상기 유기전계 발광 다이오드는 상기 구동 박막트랜지스터와 연결된 제 1 전극과 유기 발광층 및 제 2 전극으로 이루어지고 있다.BACKGROUND ART An organic electroluminescent device is largely composed of an array element and an organic electroluminescent diode. The array element includes a switching thin film transistor connected to a gate and a data line, and a driving thin film transistor connected to the organic light emitting diode. The organic light emitting diode includes a first electrode connected to the driving thin film transistor, Electrode.

이러한 구성을 갖는 유기전계 발광소자는 상기 유기 발광층으로부터 발생된 빛은 상기 제 1 전극 또는 제 2 전극을 향해 출사됨으로써 화상을 표시하게 된다. 이러한 유기전계 발광소자는 개구율 등을 고려할 때, 통상 상기 제 2 전극을 향해 출사되는 빛을 이용하여 화상을 표시하는 상부 발광 방식으로 제조되고 있다.In the organic electroluminescent device having such a configuration, light emitted from the organic light emitting layer is emitted toward the first electrode or the second electrode to display an image. Such an organic electroluminescent device is generally manufactured by a top emission type in which an image is displayed using light emitted toward the second electrode in consideration of an aperture ratio and the like.

하지만, 유기전계 발광소자 제조 특성 상, 유기 발광층 상부에 위치하는 제 2 전극은 상기 유기 발광층의 손상 방지를 위해 일반적인 금속물질의 증착법인 스퍼터링법에 의해 형성될 수 없으며, 통상 진공 열증착에 의해 형성되고 있는 실정이다.However, due to the manufacturing characteristics of the organic electroluminescent device, the second electrode located above the organic luminescent layer can not be formed by sputtering, which is a general metal material evaporation method, to prevent damage to the organic luminescent layer. .

한편, 상기 제 1 전극은 애노드 전극의 역할을 하도록 일함수 값이 높은 투명 도전성 물질인 인듐-틴-옥사이드(ITO)로 이루어지고 있으며, 제 2 전극은 캐소드 전극의 역할을 하도록 일함수 값이 낮은 금속물질로서 이루어지고 있다. The first electrode is made of indium-tin-oxide (ITO), which is a transparent conductive material having a high work function value, to serve as an anode electrode. The second electrode has a low work function value And is made of a metal material.

그러나, 캐소드 전극의 역할을 하는 상기 제 2 전극을 이루는 일함수 값이 낮은 금속물질은 불투명한 특성을 가지므로, 이러한 불투명한 금속을 일반적인 전극의 두께를 갖도록 즉, 1000Å 내지 4000Å의 두께로 형성하면 빛이 투과할 수 없다. However, since the metal material having a low work function value constituting the second electrode serving as the cathode electrode has opaque characteristics, if the opaque metal is formed to have a thickness of about 1000 to 4000 ANGSTROM Light can not penetrate.

따라서, 낮은 일함수 값을 가지며 불투명한 금속물질로 이루어진 제 2 전극은 투명성을 확보하기 위해 불투명한 금속물질로 이루어지는 하부층을 10Å 내지 200Å정도의 두께를 갖도록 형성하고 있다. 이 경우, 상기 제 2 전극의 빛 투과도는 15% 이상이 되므로 일반적인 표시장치의 휘도 수준이 되고 있다. Therefore, the second electrode made of an opaque metal material having a low work function value is formed to have a thickness of about 10 Å to about 200 Å to form a lower layer made of an opaque metal material in order to ensure transparency. In this case, since the light transmittance of the second electrode is 15% or more, the brightness level of a general display device is obtained.

하지만, 제 2 전극을 10Å 내지 200Å정도의 두께를 갖도록 형성하면, 그 면저항이 20Ω/□ 내지 1000Ω/□이 되며, 이 경우 제 2 전극 자체의 저항이 높아 구동전압이 매우 커지게 되므로 소비전력이 증가됨으로써 특히, 개인용 휴대 IT기기에 적용 시 빠른 배터리 소비를 야기시키고 있다. However, if the second electrode is formed to have a thickness of about 10 Å to 200 Å, the sheet resistance becomes 20 Ω / □ to 1000 Ω / □. In this case, since the resistance of the second electrode itself is high, , Which causes fast battery consumption particularly when applied to personal portable IT devices.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 상부 발광 방식의 유기전계 발광 소자에 있어 최상층에 형성되는 유기전계 발광 다이오드의 제 2 전극 자체의 저항 증가 없이 빛 투과율를 향상시킬 수 있는 유기전계 발광소자를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a top emission type organic electroluminescent device capable of improving the light transmittance without increasing the resistance of the second electrode of the organic electroluminescent diode formed in the uppermost layer. And an organic electroluminescent device comprising the same.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 유기전계 발광소자는, 다수의 화소영역을 갖는 표시영역이 정의된 제 1 기판과; 상기 제 1 기판 상의 상기 각 화소영역에 형성된 스위칭 박막트랜지스터 및 구동 박막트랜지스터와; 상기 스위칭 및 구동 박막트랜지스터를 덮으며 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키며 형성된 보호층과; 상기 보호층 위로 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접촉하며 형성된 제 1 전극과; 상기 제 1 전극의 가장자리와 중첩하며 상기 화소영역의 경계에 형성된 뱅크와; 상기 뱅크 내측으로 상기 제 1 전극 상부에 형성된 유기 발광층과; 상기 유기 발광층 및 상기 뱅크 상부로 상기 표시영역 전면에 형성되며, 마그네슘-은 합금으로 이루어진 제 1 두께의 하부층 및 상기 하부층 상에 투명 도전성 산화물로 이루어진 제 2 두께의 상부층의 이중층 구조로 이루어진 제 2 전극을 포함한다. According to an aspect of the present invention, there is provided an organic electroluminescent device including a first substrate on which a display region having a plurality of pixel regions is defined; A switching thin film transistor and a driving thin film transistor formed in the respective pixel regions on the first substrate; A protective layer covering the switching and driving thin film transistor and exposing a drain electrode of the driving thin film transistor; A first electrode formed on the protective layer in contact with a drain electrode of the driving thin film transistor; A bank formed on a boundary of the pixel region and overlapping an edge of the first electrode; An organic light emitting layer formed on the first electrode inwardly of the bank; A second electrode formed on the entire surface of the display region on the organic light emitting layer and the bank, the second electrode having a first layer having a first thickness and the second layer having a second thickness made of a transparent conductive oxide, .

이때, 상기 투명 도전성 산화물은 인듐-징크-옥사이드(IZO) 또는 인듐-틴-옥사이드(ITO)인 것이 특징이다. In this case, the transparent conductive oxide is indium-zinc-oxide (IZO) or indium-tin-oxide (ITO).

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기전계 발광소자는, 다수의 화소영역을 갖는 표시영역이 정의된 제 1 기판과; 상기 제 1 기판 상의 상기 각 화소영역에 형성된 스위칭 박막트랜지스터 및 구동 박막트랜지스터와; 상기 스위칭 및 구동 박막트랜지스터를 덮으며 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키며 형성된 보호층과; 상기 보호층 위로 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접촉하며 형성된 제 1 전극과; 상기 제 1 전극의 가장자리와 중첩하며 상기 화소영역의 경계에 형성된 뱅크와; 상기 뱅크 내측으로 상기 제 1 전극 상부에 형성된 유기 발광층과; 상기 유기 발광층 및 상기 뱅크 상부로 상기 표시영역 전면에 형성되며, 마그네슘-은 합금의 단일층 구조로 이루어진 제 1 두께의 제 2 전극과; 상기 제 2 전극과 접촉하며 상기 표시영역 전면에 형성된 투명 절연막을 포함한다. According to another aspect of the present invention, there is provided an organic electroluminescent device comprising: a first substrate having a display region defined therein having a plurality of pixel regions; A switching thin film transistor and a driving thin film transistor formed in the respective pixel regions on the first substrate; A protective layer covering the switching and driving thin film transistor and exposing a drain electrode of the driving thin film transistor; A first electrode formed on the protective layer in contact with a drain electrode of the driving thin film transistor; A bank formed on a boundary of the pixel region and overlapping an edge of the first electrode; An organic light emitting layer formed on the first electrode inwardly of the bank; A second electrode formed on the organic light emitting layer and on the entire surface of the display region above the bank, the first electrode having a single layer structure of a magnesium-silver alloy; And a transparent insulating layer formed on the entire surface of the display region in contact with the second electrode.

이때, 상기 투명 절연막은 무기절연물질인 산화실리콘(SiO2) 또는 산화알루미늄(Al2O3)으로 이루어지거나, 또는 유기절연물질인 폴리머 또는 모노머로 이루어진 것이 특징이다. At this time, the transparent insulating film is formed of silicon oxide (SiO 2 ) or aluminum oxide (Al 2 O 3 ), which is an inorganic insulating material, or a polymer or monomer, which is an organic insulating material.

또한, 상기 스위칭 및 구동 박막트랜지스터는 p타입 박막트랜지스터가 되며, 상기 제 1 전극은 애노드 전극의 역할을 하며, 상기 제 2 전극은 캐소드 전극의 역할을 하는 것이 특징이다. In addition, the switching and driving thin film transistor is a p-type thin film transistor, the first electrode serves as an anode electrode, and the second electrode serves as a cathode electrode.

또한, 상기 제 1 전극은, 일 함수값이 높은 투명 도전성 물질인 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 이루어진 단일층 구조를 이루거나, 또는 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접촉하며 반사성이 우수한 금속물질인 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 은(Ag) 중 어느 하나로 이루어진 제 1 층과, 상기 투명 도전성 물질로 이루어지며 상기 유기 발광층과 접촉하는 제 2 층으로 구성된 이중층 구조를 이루는 것이 특징이다. The first electrode may have a single layer structure of indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO), which is a transparent conductive material having a high work function value, A first layer made of any one of aluminum (Al), an aluminum alloy (AlNd), and silver (Ag) which is in contact with an electrode and has excellent reflectivity and a second layer made of the transparent conductive material and in contact with the organic light- Layer structure constituted by a single layer structure.

또한, 상기 제 1 기판에는 서로 교차하여 상기 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선과, 상기 데이터 배선과 나란하게 위치하는 전원배선이 형성되며, 상기 게이트 및 데이터 배선은 각각 상기 스위칭 박막트랜지스터의 게이트 전극 및 소스 전극과 연결되는 것이 특징이다. Further, a gate wiring and a data wiring crossing each other and defining the pixel region, and a power supply wiring arranged in parallel with the data wiring are formed on the first substrate, and the gate and the data wiring are connected to the gate of the switching thin film transistor Electrode and the source electrode.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기전계 발광소자는, 다수의 화소영역을 갖는 표시영역이 정의된 제 1 기판과; 상기 제 1 기판 상의 상기 각 화소영역에 형성된 스위칭 박막트랜지스터 및 구동 박막트랜지스터와; 상기 스위칭 및 구동 박막트랜지스터를 덮으며 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키며 형성된 보호층과; 상기 보호층 위로 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접촉하며 형성된 제 1 전극과; 상기 제 1 전극의 가장자리와 중첩하며 상기 화소영역의 경계에 형성된 뱅크와; 상기 뱅크 내측으로 상기 제 1 전극 상부에 형성된 유기 발광층과; 상기 유기 발광층 및 상기 뱅크 상부로 상기 표시영역 전면에 형성되며, 제 1 금속으로 이루어진 제 1 두께의 제 1 층과, 투명 도전성 산화물로 이루어진 제 1 투명 도전층과 저저항 금속물질로 이루어진 저저항 금속층과 투명 도전성 산화물로 이루어진 제 2 투명 도전층의 3중층으로 이루어진 하나의 세트층이 상기 제 1 층 상부에 적층되어 상기 제 1 층과 제 1 세트층의 구조를 이루는 제 2 전극을 포함한다. According to another aspect of the present invention, there is provided an organic electroluminescent device comprising: a first substrate having a display region defined therein having a plurality of pixel regions; A switching thin film transistor and a driving thin film transistor formed in the respective pixel regions on the first substrate; A protective layer covering the switching and driving thin film transistor and exposing a drain electrode of the driving thin film transistor; A first electrode formed on the protective layer in contact with a drain electrode of the driving thin film transistor; A bank formed on a boundary of the pixel region and overlapping an edge of the first electrode; An organic light emitting layer formed on the first electrode inwardly of the bank; A first layer of a first thickness made of a first metal and a first transparent conductive layer made of a transparent conductive oxide and a low resistance metal layer made of a low resistance metal material, And a second transparent conductive layer formed of a transparent conductive oxide and a second electrode formed on the first layer and having a structure of the first layer and the first set layer.

이때, 상기 제 2 전극은 면저항이 1.9Ω/□ 내지 5Ω/□인 것이 특징이다.At this time, the second electrode has a sheet resistance of 1.9? /? To 5? / ?.

또한, 상기 제 2 전극은 상기 제 1 세트층 위로 또 다른 세트층이 형성됨으로써 상기 제 1 층과 제 1 세트층과 제 2 세트층으로 이루어질 수 있으며, 이때, 상기 제 2 전극은 면저항이 1Ω/□ 내지 2Ω/□인 것이 특징이다. The second electrode may be formed of the first layer, the first set layer, and the second set layer by forming another set layer on the first set layer, wherein the second electrode has a sheet resistance of 1 Ω / □ to 2 Ω / □.

상기 제 1 층은 은(Ag), 마그네슘-은 합금(Mg:Ag), 금(Au), 마그네슘(Mg), 구리(Cu), 칼슘(Ca) 중 어느 하나로 이루어지며, 상기 투명 도전층은 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 이루어지며, 상기 저저항 금속층은 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu) 중 어느 하나로 이루어진 것이 특징이다.
Wherein the first layer is made of any one of silver (Ag), magnesium-silver alloy (Mg: Ag), gold (Au), magnesium (Mg), copper (Cu), and calcium (Ca) (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO), and the low-resistance metal layer is formed of any one of silver (Ag), gold (Au), and copper (Cu).

상기 제 1 층은 10Å 내지 50Å의 두께를 가지며, 상기 제 1 및 제 2 세트층은 각각 400Å 내지 1000Å의 두께를 가지며, 상기 제 1 및 제 2 세트층 내부에 구비된 상기 저저항 금속층은 각각 그 두께가 150Å 내지 300Å인 것이 특징이다. Wherein the first and second set layers each have a thickness of about 10 A to 50 A and the first and second set layers each have a thickness of about 400 A to about 1000 A, And has a thickness of 150 ANGSTROM to 300 ANGSTROM.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기전계 발광소자는, 다수의 화소영역을 갖는 표시영역이 정의된 제 1 기판과; 상기 제 1 기판 상의 상기 각 화소영역에 형성된 스위칭 박막트랜지스터 및 구동 박막트랜지스터와; 상기 스위칭 및 구동 박막트랜지스터를 덮으며 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키며 형성된 보호층과; 상기 보호층 위로 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접촉하며 형성된 제 1 전극과; 상기 제 1 전극의 가장자리와 중첩하며 상기 화소영역의 경계에 형성된 뱅크와; 상기 뱅크 내측으로 상기 제 1 전극 상부에 형성되며 상기 화소영역별로 적, 녹, 청색을 각각 발광하는 유기 발광층과; 상기 유기 발광층 및 상기 뱅크 상부로 상기 표시영역 전면에 형성되며, 제 1 금속으로 이루어진 제 1 층과, 투명 도전성 산화물로 이루어진 제 2 층과, 저저항 금속물질로 이루어진 제 3 층과, 상기 투명 도전성 산화물 또는 유기물질로 이루어진 제 4 층과, 상기 저저항 금속물질로 이루어진 제 5 층 및 상기 투명 도전성 산화물로 이루어진 제 6 층의 6중층 구조로 이루어진 제 2 전극을 포함하며, 상기 제 4 층은 상기 적, 녹, 청색을 발광하는 유기 발광층이 구비된 화소영역별로 그 두께를 달리하여 형성된 것이 특징이다. According to another aspect of the present invention, there is provided an organic electroluminescent device comprising: a first substrate having a display region defined therein having a plurality of pixel regions; A switching thin film transistor and a driving thin film transistor formed in the respective pixel regions on the first substrate; A protective layer covering the switching and driving thin film transistor and exposing a drain electrode of the driving thin film transistor; A first electrode formed on the protective layer in contact with a drain electrode of the driving thin film transistor; A bank formed on a boundary of the pixel region and overlapping an edge of the first electrode; An organic light emitting layer formed on the first electrode in the bank and emitting red, green, and blue light for each pixel region; A first layer made of a first metal, a second layer made of a transparent conductive oxide, a third layer made of a low-resistance metal material, and a second layer made of a transparent conductive material, A fourth layer made of an oxide or an organic material, a fifth layer made of the low-resistance metal material, and a sixth layer made of the transparent conductive oxide, the fourth layer having a six- The organic light emitting layer emitting red, green, and blue light is formed with different thicknesses for each pixel region.

이때, 상기 제 4 층은 600Å 내지 1200Å의 두께를 가지며, 상기 청색을 발광하는 유기 발광층과 중첩하는 부분이 가장 얇은 두께를 가지며, 상기 적색을 발광하는 유기 발광층과 중첩하는 부분이 가장 두꺼운 두께를 갖는 것이 특징이다.At this time, the fourth layer has a thickness of 600 ANGSTROM to 1200 ANGSTROM, the portion overlapping the organic light emitting layer emitting blue light has the thinnest thickness, and the portion overlapping the organic light emitting layer emitting red light has the largest thickness .

상기 제 1 층은 10Å 내지 50Å의 두께를 가지며, 상기 저저항 금속물질로 이루어진 제 3 층 및 제 5 층은 각각 150Å 내지 400Å의 두께를 갖는 것이 특징이다. The first layer has a thickness of 10A to 50A and the third and fifth layers of the low resistance metal material have a thickness of 150A to 400A.

이때, 상기 제 1 층은 은(Ag), 마그네슘-은 합금(Mg:Ag), 금(Au), 마그네슘(Mg), 구리(Cu), 칼슘(Ca) 중 어느 하나로 이루어지며, 상기 투명 도전성 산화물은 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)이며, 상기 유기물질은 포토아크릴, 벤조사이클로부텐 또는 상기 유기발광층을 이루는 물질 중 어느 하나이며, 상기 저저항 금속물질은 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu) 중 어느 하나로 이루어지며, 이때, 상기 제 2 전극은 면저항이 1Ω/□ 내지 3Ω/□인 것이 특징이다. The first layer may be formed of any one of silver (Ag), magnesium-silver alloy (Ag), gold (Au), magnesium (Mg), copper (Cu), and calcium (Ca) Wherein the oxide is indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO), the organic material is any one of photoacryl, benzocyclobutene or the material forming the organic light emitting layer, Wherein the first electrode is made of at least one of Ag, Au and Cu, and the second electrode has a sheet resistance of 1? /? To 3? / ?.

또한, 상기 제 4 층이 상기 유기물질로 이루어지는 경우 상기 제 4 층은 상기 각 화소영역의 경계에서 이격하며 형성되며, 상기 제 3 층과 상기 제 5층은 상기 각 화소영역의 경계에서 서로 접촉하도록 형성된 것이 특징이다. When the fourth layer is made of the organic material, the fourth layer is formed apart from the boundaries of the pixel regions, and the third layer and the fifth layer are made to contact each other at the boundaries of the pixel regions .

상기 스위칭 및 구동 박막트랜지스터는 p타입 박막트랜지스터가 되며, 상기 제 1 전극은 애노드 전극의 역할을 하며, 상기 제 2 전극은 캐소드 전극의 역할을 하는 것이 특징이며, 상기 제 1 전극은, 일 함수값이 높은 투명 도전성 물질인 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 이루어진 단일층 구조를 이루거나, 또는 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접촉하며 반사성이 우수한 금속물질인 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 은(Ag) 중 어느 하나로 이루어진 제 1 층과, 상기 투명 도전성 물질로 이루어지며 상기 유기 발광층과 접촉하는 제 2 층으로 구성된 이중층 구조를 이루는 것이 특징이다. Wherein the switching and driving thin film transistor is a p-type thin film transistor, the first electrode serves as an anode electrode, and the second electrode serves as a cathode electrode. The first electrode has a work function value Layer structure of indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO), which is a high transparent conductive material, or aluminum Layer structure composed of a first layer made of any one of aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd) and silver (Ag), and a second layer made of the transparent conductive material and in contact with the organic light emitting layer.

또한, 상기 제 1 기판에는 서로 교차하여 상기 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선과, 상기 데이터 배선과 나란하게 위치하는 전원배선이 형성되며, 상기 게이트 및 데이터 배선은 각각 상기 스위칭 박막트랜지스터의 게이트 전극 및 소스 전극과 연결되는 것이 특징이다. Further, a gate wiring and a data wiring crossing each other and defining the pixel region, and a power supply wiring arranged in parallel with the data wiring are formed on the first substrate, and the gate and the data wiring are connected to the gate of the switching thin film transistor Electrode and the source electrode.

또한, 상기 제 1 기판에 대응하여 이와 마주하며 인캡슐레이션을 위한 투명한 제 2 기판이 구비된 것이 특징이다. In addition, the second substrate is opposed to the first substrate and has a transparent second substrate for encapsulation.

이때, 상기 제 2 기판은 상기 제 2 전극과 접촉하며 형성되며 무기막과 유기막이 교대하는 형태의 다중층 구조를 이루는 것이 특징이다.At this time, the second substrate is formed in contact with the second electrode and has a multilayer structure in which the inorganic film and the organic film alternate.

그리고, 상기 제 2 기판은 유기막/무기막/유기막/무기막의 4중층 구조를 이룰 수 있다.The second substrate may have a four-layer structure of organic film / inorganic film / organic film / inorganic film.

또한, 상기 제 2 기판은 무기막/유기막/무기막/유기막/무기막의 5증층 구조를 이루며, 상기 제 2 기판과 접촉하는 상기 제 2 전극은 투명 도전성 산화물로 이루어진 최상층이 생략됨으로써 상기 제 2 기판은 제 2 전극의 저저항 물질로 이루어진 층과 접촉하는 것이 특징이다. In addition, the second substrate may have a five-layer structure of an inorganic film / an organic film / an inorganic film / an organic film / an inorganic film, and the second electrode contacting the second substrate may be formed by omitting the uppermost layer made of a transparent conductive oxide, 2 substrate is in contact with the layer made of the low-resistance material of the second electrode.

이때, 상기 무기막은 산화알루미늄(Al2O3), 산화실리콘(SiO2), 질화실리콘(SiNx) 중 어느 하나로 이루어지며, 상기 유기막은 모노머 또는 폴리머로 이루어지는 것이 특징이다.
At this time, the inorganic film is made of any one of aluminum oxide (Al 2 O 3 ), silicon oxide (SiO 2 ) and silicon nitride (SiNx), and the organic film is composed of a monomer or a polymer.

본 발명에 따른 상부발광 방식 유기전계 발광 소자는 낮은 일함수 값을 갖는 금속물질로 10Å 내지 200Å 정도의 두께를 갖는 금속층과, 투명한 투명 도전성 물질 또는 투명 메탈 옥사이드의 도전성 물질층으로 이루어진 이중층 구조의 제 2 전극을 형성하거나, 또는 낮은 일함수 값을 갖는 금속물질로 10Å 내지 200Å 정도의 두께를 갖는 금속층과 이의 상부로 유기절연물질층을 형성함으로써 표면 플라즈몬 현상이 발생되도록 하여 그 면저항이 10Ω/□ 이하가 되며 동시에 빛의 투과율을 향상시키는 효과가 있다.
The top emission type organic electroluminescent device according to the present invention includes a metal layer having a low work function value and a metal layer having a thickness of about 10 to 200 angstroms and a transparent layer made of a transparent conductive material or a conductive material layer of transparent metal oxide Or by forming a metal layer having a thickness of about 10 to 200 angstroms with a metal material having a low work function value and an organic insulating material layer thereon to form a surface plasmon phenomenon so that the sheet resistance is 10? And at the same time, the light transmittance is improved.

도 1은 일반적인 유기전계 발광소자의 한 화소에 대한 회로도.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 표시영역 일부에 대한 단면도.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자의 표시영역 일부에 대한 단면도.
도 4는 제 2 전극이 마그네슘-은 합금과 투명 도전 산화물의 이중층 구조를 갖는 본 발명의 제 1 실시예와, 제 2 전극이 마그네슘-은 합금 단일층 구조를 가지며 이의 상부에 유기 또는 무기절연막이 구비된 본 발명의 제 1 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자와, 마그네슘-은 합금 단일층 구조의 제 2 전극을 구비한 비교예에 따른 유기전계 발광소자의 파장별 투과도를 나타낸 그래프.
도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 하나의 화소영역에 대한 단면도.
도 6은 제 2 전극이 4중층 구조를 갖는 본 발명의 제 2 실시예와, 제 2 전극이 마그네슘-은 합금 단일층 구조를 갖는 비교예에 따른 유기전계 발광소자의 파장별 투과도를 나타낸 그래프.
도 7은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 하나의 화소영역에 대한 단면도.
도 8은 마그네슘-은 합금(Mg:Ag)의 제 1 층 위로 IZO/Ag/IZO/IZO/Ag/IZO의 6중층이 구비된 제 2 전극을 갖는 본 발명의 제 3 실시예와, IZO/Ag/IZO의 3중층이 구비된 본 발명의 제 1 실시예 및 마그네슘-은 합금(Mg:Ag)의 제 1 층 위로 Ag로 이루어진 층이 구비된 제 1 비교예와 IZO/Ag/IZO/Ag/IZO의 5중층이 구비된 제 2 전극을 갖는 제 2 비교예에 따른 유기전계 발광소자의 파장별 투과도를 나타낸 그래프.
도 9는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 연속된 적, 녹, 청색을 각각 발광하는 3개의 화소영역에 대한 단면도.
도 10은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 제 2 전극의 제 4 층의 두께를 600Å 내지 1000Å를 갖도록 변화시키며 투과도를 측정한 그래프.
도 11은 본 발명의 제 5 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 연속된 적, 녹, 청색을 각각 발광하는 3개의 화소영역에 대한 단면도.
도 12는 본 발명의 제 5 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 제 2 전극의 제 4 층의 두께를 800Å 내지 1200Å를 갖도록 변화시키며 투과도를 측정한 그래프.
도 13은 본 발명의 제 6 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 표시영역 일부에 대한 단면도.
도 14는 본 발명의 제 6 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자의 표시영역 일부에 대한 단면도.
1 is a circuit diagram of one pixel of a general organic light emitting device.
2 is a cross-sectional view of a portion of a display region of an organic electroluminescent device according to a first embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view of a portion of a display region of an organic electroluminescent device according to a modification of the first embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view of a first embodiment of the present invention in which the second electrode has a double-layer structure of a magnesium-silver alloy and a transparent conductive oxide, and FIG. FIG. 2 is a graph showing transmittance of an organic electroluminescent device according to a modified example of the first embodiment of the present invention and a second electrode of a magnesium-silver alloy single layer structure according to wavelengths of an organic electroluminescent device according to a comparative example. FIG.
5 is a sectional view of one pixel region of an organic electroluminescent device according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a graph showing the transmittance of a second embodiment of the present invention in which the second electrode has a quadruple layer structure, and a transmittance of an organic electroluminescent device according to a comparative example in which the second electrode has a magnesium-silver alloy single layer structure.
7 is a sectional view of one pixel region of an organic electroluminescent device according to a third embodiment of the present invention.
8 shows a third embodiment of the present invention having a second electrode having a six layer of IZO / Ag / IZO / IZO / Ag / IZO over a first layer of a magnesium-silver alloy (Mg: Ag) Ag / IZO / Ag and IZO / Ag / IZO / Ag (IZO) and the first comparative example having a layer made of Ag on the first layer of magnesium-silver alloy / IZO according to the second comparative example having the second electrode provided with the five-layered structure of the organic electroluminescent device.
9 is a cross-sectional view of three pixel regions which emit successive red, green, and blue light, respectively, of an organic electroluminescent device according to a fourth embodiment of the present invention.
10 is a graph showing transmittance of a fourth electrode of a second electrode of an organic electroluminescent device according to a fourth embodiment of the present invention, in which the thickness of the fourth electrode is changed to 600 ANGSTROM to 1000 ANGSTROM.
11 is a cross-sectional view of three pixel regions that emit successive red, green, and blue light, respectively, of an organic electroluminescent device according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 12 is a graph showing transmittance of a fourth electrode of a second electrode of an organic electroluminescent device according to a fifth embodiment of the present invention, in which the thickness of the fourth electrode is changed to 800 ANGSTROM to 1200 ANGSTROM. FIG.
13 is a cross-sectional view of a portion of a display region of an organic electroluminescent device according to a sixth embodiment of the present invention.
14 is a cross-sectional view of a portion of a display region of an organic electroluminescent device according to a modification of the sixth embodiment of the present invention.

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 도면을 참조하여 상세히 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

우선, 유기전계 발광소자의 구성 및 동작에 대해서 유기전계 발광소자의 하나의 화소에 대한 회로도인 도 1을 참조하여 간단히 설명한다. First, the structure and operation of an organic electroluminescent device will be briefly described with reference to Fig. 1, which is a circuit diagram for one pixel of an organic electroluminescent device.

도시한 바와 같이 유기전계 발광소자의 하나의 화소에는 스위칭(switching) 박막트랜지스터(STr)와 구동(driving) 박막트랜지스터(DTr), 스토리지 캐패시터(StgC), 그리고 유기전계발광 다이오드(E)가 구비되고 있다. As shown, a switching thin film transistor STr, a driving thin film transistor DTr, a storage capacitor StgC, and an organic light emitting diode E are provided in one pixel of the organic electroluminescent device have.

즉, 제 1 방향으로 게이트 배선(GL)이 형성되어 있고, 이 제 1 방향과 교차되는 제 2 방향으로 화소영역(P)을 정의하며 데이터 배선(DL)이 형성되어 있으며, 상기 데이터 배선(DL)과 이격하며 전원전압을 인가하기 위한 전원배선(PL)이 형성되어 있다. That is, a gate line GL is formed in a first direction, a data line DL is defined by defining a pixel region P in a second direction intersecting the first direction, and the data line DL And a power supply line PL for applying a power supply voltage is formed.

또한, 상기 데이터 배선(DL)과 게이트 배선(GL)이 교차하는 부분에는 스위칭 박막트랜지스터(STr)가 형성되어 있으며, 상기 스위칭 박막트랜지스터(STr)와 전기적으로 연결된 구동 박막트랜지스터(DTr)가 형성되어 있다. A switching thin film transistor STr is formed at the intersection of the data line DL and the gate line GL and a driving thin film transistor DTr electrically connected to the switching thin film transistor STr is formed have.

상기 유기전계 발광 다이오드(E)의 일측 단자인 제 1 전극은 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 드레인 전극과 연결되고 있으며, 타측 단자인 제 2 전극은 접지되고 있다. 이때, 상기 전원배선(PL)은 전원전압을 상기 유기전계 발광 다이오드(E)로 전달하게 된다. 또한, 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 게이트 전극과 소스 전극 사이에는 스토리지 커패시터(StgC)가 형성되고 있다. The first electrode, which is one terminal of the organic electroluminescent diode E, is connected to the drain electrode of the driving thin film transistor DTr, and the second electrode, which is the other terminal, is grounded. At this time, the power supply line (PL) transfers the power supply voltage to the organic light emitting diode (E). A storage capacitor StgC is formed between the gate electrode and the source electrode of the driving thin film transistor DTr.

따라서, 상기 게이트 배선(GL)을 통해 신호가 인가되면 스위칭 박막트랜지스터(STr)가 온(on) 되고, 상기 데이터 배선(DL)의 신호가 구동 박막트랜지스터(DTr)의 게이트 전극에 전달되어 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)가 온(on) 되므로 유기전계발광 다이오드(E)를 통해 빛이 출력된다. 이때, 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)가 온(on) 상태가 되면, 전원배선(PL)으로부터 유기전계발광 다이오드(E)에 흐르는 전류의 레벨이 정해지며, 이로 인해 상기 유기전계 발광 다이오드(E)는 그레이 스케일(gray scale)을 구현할 수 있게 되며, 상기 스토리지 커패시터(StgC)는 스위칭 박막트랜지스터(STr)가 오프(off) 되었을 때, 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 게이트 전압을 일정하게 유지시키는 역할을 함으로써 상기 스위칭 박막트랜지스터(STr)가 오프(off) 상태가 되더라도 다음 프레임(frame)까지 상기 유기전계발광 다이오드(E)에 흐르는 전류의 레벨을 일정하게 유지할 수 있게 된다.Therefore, when a signal is applied through the gate line GL, the switching thin film transistor STr is turned on and the signal of the data line DL is transmitted to the gate electrode of the driving thin film transistor DTr, The thin film transistor DTr is turned on so that light is output through the organic light emitting diode E. At this time, when the driving thin film transistor DTr is turned on, the level of a current flowing from the power supply line PL to the organic light emitting diode E is determined, The storage capacitor StgC is capable of maintaining a constant gate voltage of the driving thin film transistor DTr when the switching thin film transistor STr is turned off, The level of the current flowing through the organic light emitting diode E can be kept constant until the next frame even if the switching thin film transistor STr is turned off.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 표시영역 일부에 대한 단면도이다. 이때, 설명의 편의를 위해 구동 박막트랜지스터(DTr)가 형성되는 영역을 구동영역(DA), 그리고 도면에는 나타내지 않았지만 각 화소영역(P) 내에 스위칭 박막트랜지스터가 형성되는 영역을 스위칭 영역(미도시)이라 정의한다.2 is a cross-sectional view of a portion of a display region of an organic electroluminescent device according to a first embodiment of the present invention. In this case, for convenience of description, a region where the driving thin film transistor DTr is formed is referred to as a driving region DA, and a region where a switching thin film transistor is formed in each pixel region P (not shown) .

도시한 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)는 구동 및 스위칭 박막트랜지스터(DTr, 미도시)와 유기전계 발광 다이오드(E)가 형성된 제 1 기판(110)과, 인캡슐레이션을 위한 제 2 기판(170)으로 구성되고 있다. 이때, 상기 제 2 기판(170)은 무기막 또는 유기막 등으로 대체됨으로써 생략될 수 있다. The organic EL device 101 according to the first embodiment of the present invention includes a first substrate 110 on which a driving and switching thin film transistor DTr and an organic light emitting diode E are formed, And a second substrate 170 for encapsulation. At this time, the second substrate 170 may be omitted by being replaced with an inorganic film, an organic film, or the like.

우선, 구동 및 스위칭 박막트랜지스터(DTr, 미도시)와 유기전계 발광 다이오드(E)가 구비된 제 1 기판(110)의 구성에 대해 설명한다. First, the structure of the first substrate 110 including the driving and switching thin film transistor DTr (not shown) and the organic electroluminescent diode E will be described.

상기 제 1 기판(110) 상의 상기 구동영역(DA) 및 스위칭 영역에는 각각 순수 폴리실리콘으로 이루어지며, 그 중앙부는 채널의 통로를 이루는 제 1 영역(113a) 그리고 상기 제 1 영역(113a) 양측면으로 고농도의 불순물이 도핑된 제 2 영역(113b)으로 구성된 반도체층(113)이 형성되어 있다. The driving region DA and the switching region on the first substrate 110 are respectively made of pure polysilicon and the central portion of the driving region DA has a first region 113a and a second region 113b. A semiconductor layer 113 composed of a second region 113b doped with a high concentration of impurities is formed.

이때, 상기 반도체층(113)과 상기 제 1 기판(110) 사이에는 전면에 무기절연물질 예를들면, 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx)으로 이루어진 버퍼층(미도시)이 더욱 구비될 수도 있다. 상기 버퍼층(미도시)은 상기 반도체층(113)의 결정화시 상기 제 1 기판(110) 내부로부터 나오는 알카리 이온의 방출에 의한 상기 반도체층(113)의 특성 저하를 방지하기 위함이다. At this time, a buffer layer (not shown) made of an inorganic insulating material such as silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride (SiNx) is further provided on the entire surface between the semiconductor layer 113 and the first substrate 110 It is possible. The buffer layer (not shown) prevents the deterioration of the characteristics of the semiconductor layer 113 due to the release of alkali ions from the inside of the first substrate 110 when the semiconductor layer 113 is crystallized.

또한, 상기 반도체층(113)을 덮으며 게이트 절연막(116)이 전면에 형성되어 있으며, 상기 게이트 절연막(116) 위로 상기 구동영역(DA) 및 스위칭 영역(미도시)에는 상기 각 반도체층(113)의 제 1 영역(113a)에 대응하여 각각 게이트 전극(120)이 형성되어 있다. 그리고, 상기 게이트 절연막(116) 위로는 상기 스위칭 영역(미도시)에 형성된 게이트 전극(미도시)과 연결되며 일방향으로 연장하며 게이트 배선(미도시)이 형성되어 있다. A gate insulating layer 116 is formed on the entire surface of the semiconductor layer 113. A gate insulating layer 116 is formed on the semiconductor layer 113 The gate electrode 120 is formed in correspondence with the first region 113a of the gate electrode 120a. The gate insulating layer 116 is connected to a gate electrode (not shown) formed in the switching region (not shown) and extends in one direction to form a gate wiring (not shown).

다음, 상기 게이트 전극(120)과 게이트 배선(미도시) 위로 무기절연물질 예를들면, 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx)으로 이루어진 층간절연막(123)이 형성되어 있다. 이때, 상기 층간절연막(123)과 그 하부의 게이트 절연막(116)에는 상기 제 1 영역(113a) 양측면에 위치한 상기 제 2 영역(113b)을 각각 노출시키는 반도체층 콘택홀(125)이 구비되고 있다. Next, an interlayer insulating film 123 made of an inorganic insulating material such as silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride (SiNx) is formed on the gate electrode 120 and the gate wiring (not shown). A semiconductor layer contact hole 125 exposing the second region 113b located on both sides of the first region 113a is formed in the interlayer insulating layer 123 and the gate insulating layer 116 below the interlayer insulating layer 123 .

다음, 상기 반도체층 콘택홀(125)이 구비된 상기 층간절연막(123) 상부에는 상기 게이트 배선(미도시)과 교차하여 화소영역(P)을 정의하는 데이터 배선(미도시)과, 이와 이격하여 나란하게 전원배선(미도시)이 형성되고 있다. Next, a data line (not shown) is formed on the interlayer insulating layer 123 provided with the semiconductor layer contact hole 125 to define a pixel region P intersecting the gate line (not shown) A power supply wiring (not shown) is formed side by side.

또한, 상기 층간절연막(123) 위로 각 구동영역(DA) 및 스위칭 영역(미도시)에는 서로 이격하며 상기 반도체층 콘택홀(125)을 통해 노출된 제 2 영역(113b)과 각각 접촉하며 소스 및 드레인 전극(133, 136)이 형성되어 있다. The source and drain electrodes 113 and 114 are in contact with the second region 113b which are spaced apart from each other in the driving region DA and the switching region (not shown) above the interlayer insulating layer 123 and exposed through the semiconductor layer contact hole 125, Drain electrodes 133 and 136 are formed.

한편, 상기 구동영역(DA)에 순차 적층된 상기 반도체층(113)과 게이트 절연막(116)과 게이트 전극(120)과 층간절연막(123)과 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극(133, 136)은 구동 박막트랜지스터(DTr)를 이룬다. 이때, 상기 스위칭 영역(미도시)에도 상기 구동영역(DA)에 형성된 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)와 동일한 구조의 스위칭 박막트랜지스터(미도시)가 형성되고 있다. On the other hand, the source and drain electrodes 133 and 136, which are separated from the semiconductor layer 113, the gate insulating film 116, the gate electrode 120, and the interlayer insulating film 123 sequentially stacked in the driving region DA, Thereby forming a driving thin film transistor DTr. At this time, a switching thin film transistor (not shown) having the same structure as the driving thin film transistor DTr formed in the driving region DA is formed in the switching region (not shown).

상기 스위칭 박막트랜지스터(미도시)는 게이트 배선(미도시) 및 데이터 배선(미도시)과 전기적으로 연결되고 있으며, 나아가 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)와 도 연결되고 있다. The switching thin film transistor (not shown) is electrically connected to a gate wiring (not shown) and a data wiring (not shown), and further to the driving thin film transistor DTr.

한편, 상기 구동 및 스위칭 박막트랜지스터(DTr, 미도시)는 상기 제 2 영역(113b)에 도핑되는 불순물에 따라 p타입 또는 n타입 박막트랜지스터를 이루게 된다. p타입 박막트랜지스터의 경우는 제 2 영역(113b)에 3족의 원소 예를들면 붕소(B)를 도핑함으로써 이루어지게 되며, n타입 박막트랜지스터의 경우는 상기 제 2 영역(113b)에 5족의 원소 예를들면, 인(P)을 도핑함으로써 이루어지게 된다. Meanwhile, the driving and switching thin film transistor DTr (not shown) forms a p-type or n-type thin film transistor according to impurities doped in the second region 113b. In the case of the p-type thin film transistor, the second region 113b is formed by doping an element of Group 3 such as boron (B). In the case of the n-type thin film transistor, For example, by doping phosphorus (P).

p타입의 박막트랜지스터는 캐리어로서 정공이 이용되며, n타입의 박막트랜지스터는 캐리어로서 전자가 이용된다. 따라서, 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 드레인 전극(136)과 연결되는 제 1 전극(147)은 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 타입에 따라 애노드 또는 캐소드 전극의 역할을 하게 되는 것이다. In the p-type thin film transistor, holes are used as carriers, and n-type thin film transistors are used as carriers. The first electrode 147 connected to the drain electrode 136 of the driving thin film transistor DTr functions as an anode or a cathode electrode depending on the type of the driving thin film transistor DTr.

즉, 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)가 p타입인 경우, 상기 제 1 전극(147)은 애노드 전극의 역할을 하며, n타입인 경우 상기 제 1 전극(147)은 캐소드 전극의 역할을 하게 된다. That is, when the driving thin film transistor DTr is p-type, the first electrode 147 serves as an anode electrode, and when the driving thin film transistor DTr is an n-type, the first electrode 147 serves as a cathode electrode.

본 발명의 제 1 실시예에 있어서는 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)가 p타입을 이룸으로써 상기 제 1 전극(147)이 애노드 전극의 역할을 하는 것을 일례로 설명하고 있다. In the first embodiment of the present invention, the driving thin film transistor DTr is p-type, so that the first electrode 147 serves as an anode electrode.

다음, 상기 구동 및 스위칭 박막트랜지스터(DTr, 미도시) 위로는 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 드레인 전극(136)을 노출시키는 드레인 콘택홀(143)을 갖는 보호층(140)이 형성되어 있다. 이때, 상기 보호층(140)은 하부 구성요소의 단차에 영향을 거의 받지 않고 평탄한 표면을 이룰 수 있도록 유기절연물질 예를들면 포토아크릴(photo acryl) 또는 벤조사이클로부텐(BCB)으로 이루어지는 것이 특징이다. A passivation layer 140 having a drain contact hole 143 exposing a drain electrode 136 of the driving thin film transistor DTr is formed on the driving and switching thin film transistor DTr (not shown). At this time, the protective layer 140 is formed of an organic insulating material such as photo acryl or benzocyclobutene (BCB) so as to obtain a flat surface without being affected by the step of the lower component .

또한, 상기 보호층(140) 위로는 상기 구동 박막트랜지스터(DTr)의 드레인 전극(136)과 상기 드레인 콘택홀(143)을 통해 접촉되며, 각 화소영역(P) 별로 일함수 값이 큰 투명 도전성 물질 예를들면 인듐-틴-옥사이드(ITO)로 이루어진 제 1 전극(147)이 형성되어 있다. The protective layer 140 is in contact with the drain electrode 136 of the driving thin film transistor DTr through the drain contact hole 143. The pixel electrode P has a transparent conductive layer A first electrode 147 made of a material such as indium-tin-oxide (ITO) is formed.

이때, 상기 제 1 전극(147)은 전술한 투명 도전성 물질로만 이루어진 단일층 구조를 가질 수도 있고, 또는 유기전계 발광 다이오드(E)의 상부로의 발광효율 증대를 위해 반사율이 우수한 금속물질인 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 은(Ag) 중 어느 하나로 이루어진 제 1 층(147a)과 상기 일함수 값이 높은 금속물질로 이루어진 제 2 층(147b)의 이중층 구조를 갖도록 이루어질 수도 있다.The first electrode 147 may have a single layer structure made only of the above-described transparent conductive material, or may be made of aluminum (Al), which is a metal material having a high reflectivity for increasing the luminous efficiency of the upper part of the organic light emitting diode E. Layer structure of a first layer 147a made of Al, an aluminum alloy (AlNd) or silver (Ag) and a second layer 147b made of a metal material having a high work function value.

다음, 전술한 바와 같이 단일층 또는 이중층 구조를 가지며 애노드 전극의 역할을 하는 상기 제 1 전극(147)의 가장자리와 중첩하며 상기 보호층(140) 위로 각 화소영역(P)의 경계에는 뱅크(150)가 형성되어 있다. Next, as described above, the first electrode 147 having a single-layer structure or a double-layer structure and overlapping the edge of the first electrode 147 serving as an anode electrode, and the bank 150 Is formed.

한편, 상기 뱅크(150)로 둘러싸인 각 화소영역(P) 내부에는 상기 제 1 전극(147) 위로 유기 발광층(155)이 형성되고 있다. 이때, 상기 유기 발광층(155)은 유기 발광 물질로 이루어진 단일층으로 구성될 수도 있으며, 또는 발광 효율을 향상시키기 위해 상기 애노드 전극의 역할을 하는 상기 제 1 전극(147) 상부로부터 순차적으로 정공주입층(hole injection layer)(155a), 정공수송층(hole transporting layer)(155b), 유기 발광 물질층(emitting material layer)(155c), 전자수송층(electron transporting layer)(155d) 및 전자주입층(electron injection layer)(155e)의 다중층으로 형성될 수도 있다. 도면에서는 상기 유기 발광층(155)이 5중층 구조를 이루는 것을 일례로 도시하였다.An organic light emitting layer 155 is formed on the first electrode 147 in each pixel region P surrounded by the bank 150. The organic light emitting layer 155 may be formed of a single layer made of an organic light emitting material or may be sequentially formed from the top of the first electrode 147 serving as the anode electrode, a hole injection layer 155a, a hole transporting layer 155b, an emitting material layer 155c, an electron transporting layer 155d, and an electron injection layer 155d. layer 155e. In the drawing, for example, the organic light emitting layer 155 has a five-layer structure.

다음, 본 발명의 제 1 실시예에 있어서 가장 특징적인 것으로, 상기 유기 발광층(155) 및 상기 뱅크(150)의 상부에는 표시영역 전면에 캐소드 전극의 역할을 하며, 이중층 구조를 갖는 제 2 전극(158)이 형성되어 있다. 이때, 상기 제 1 및 제 2 전극(147, 158)과 그 사이에 형성된 유기 발광층(155)은 유기전계 발광 다이오드(E)를 이루게 된다.Next, in the first embodiment of the present invention, the organic light emitting layer 155 and the bank 150 serve as a cathode electrode on the entire surface of the display region, and a second electrode 158 are formed. At this time, the first and second electrodes 147 and 158 and the organic light emitting layer 155 formed therebetween form an organic light emitting diode (E).

한편, 이중층 구조를 갖는 상기 제 2 전극(158)의 구조를 살펴보면, 그 하부층은 일함수 값이 낮은 금속물질 예를들면, 은(Ag), 마그네슘-은 합금(Mg:Ag), 금(Au), 마그네슘(Mg), 구리(Cu), 칼슘(Ca) 중 어느 하나로 이루어지며, 빛의 투과성을 15% 이상이 되도록 유지시키기 위해 그 두께는 50Å 내지 200Å 정도의 두께를 갖도록 형성되고 있는 것이 특징이다.The lower layer of the second electrode 158 having a bilayer structure may be formed of a metal material having a low work function value such as silver (Ag), a magnesium-silver alloy (Mg), a gold (Au) ), Magnesium (Mg), copper (Cu), and calcium (Ca), and has a thickness of about 50 Å to about 200 Å in order to maintain the light transmittance at 15% to be.

또한, 상기 제 2 전극(158)의 상부층은 투명한 도전성 물질인 인듐-징크-옥사이드(IZO) 또는 인듐-틴-옥사이드(ITO) 중 어느 하나로 50Å 내지 1000Å정도의 두께를 가지며 형성되고 있는 것이 특징이다. An upper layer of the second electrode 158 is formed of indium-zinc-oxide (IZO) or indium-tin-oxide (ITO) which is a transparent conductive material and has a thickness of about 50 Å to 1000 Å .

이러한 이중층 구조를 갖는 제 2 전극(158)은 상기 일함수 값이 낮은 금속물질로 이루어진 하부층이 10Å 내지 200Å정도의 두께를 갖도록 형성되어 그 면저항이 증가된다 하더라도 이의 상부에 투명 도전성 물질로 이루어진 상부층이 50Å 내지 1000Å 정도의 두께를 가지며 형성됨으로써 제 2 전극(158) 자체의 두께는 전체적으로 증가하게 됨으로써 면저항을 저감시키게 됨을 알 수 있다.The second electrode 158 having such a bilayer structure is formed such that the lower layer made of a metal material having a low work function value has a thickness of about 10 to 200 angstroms and its sheet resistance is increased. An upper layer made of a transparent conductive material The thickness of the second electrode 158 itself increases as the thickness of the second electrode 158 is about 50 Å to 1000 Å, thereby reducing the sheet resistance.

표 1은 비교예로서 마그네슘-은 합금(Mg:Ag) 단일층 구조를 갖는 제 2 전극을 형성한 유기전계 발광소자와 이중층 구조를 갖는 제 2 전극을 갖는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 제 2 전극이 유사한 수준의 면저항을 갖는 상태에서의 특정 파장대의 빛의 투과도를 나타낸 것이다.Table 1 shows an organic electroluminescent device in which a second electrode having a single layer structure of magnesium-silver alloy (Mg: Ag) is formed as a comparative example and a second electrode having a double- And the transmittance of light of a specific wavelength band in a state where the second electrode of the electroluminescent device has a similar level of sheet resistance.

단일층(MgAg)Single layer (MgAg) 이중층(MgAg + IZO)Double layer (MgAg + IZO) 면저항(Ω/□)Sheet resistance (Ω / □) 9.9(Ω/□)9.9 (Ω / □) 10.5(Ω/□)10.5 (Ω / □) 투과도(%)Permeability (%) 470nm파장의 빛Light of 470nm wavelength 15.8%15.8% 42.6%42.6% 550nm파장의 빛550nm wavelength light 11.9%11.9% 32.5%32.5% 630nm파장의 빛630nm wavelength light 9.2%9.2% 22%22%

표 1을 참조하면, 비교예와 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자에 있어 제 2 전극의 면저항을 유기전계 발광소자로서 동작할 수 있는 유사한 수준으로 맞추었을 시, 제 2 전극이 마그네슘-은 합금(Mg:Ag)의 단일층 구조를 이루는 비교예의 경우 470nm, 550nm, 630nm의 파장대를 갖는 빛에 대한 각각의 투과도는 15.8%, 11.9%, 9.2%가 되는 반면 제 2 전극이 마그네슘-은 합금(Mg:Ag)의 하부층과 인듐-징크-옥사이드(IZO)의 상부층의 이중층 구조를 갖는 본 발명의 제 1 실시예의 경우 470nm, 550nm, 630nm의 파장대를 갖는 빛에 대한 각각의 투과도는 42.3%, 32.5%, 22%가 됨으로서 본 발명에 따른 제 1 실시예가 비교예 대비 2배 이상 휘도 특성이 향상되었음을 알 수 있다.Referring to Table 1, in the organic electroluminescent device according to the comparative example and the first embodiment of the present invention, when the sheet resistance of the second electrode is adjusted to a similar level that can operate as an organic electroluminescent device, In the comparative example having a single layer structure of a magnesium-silver alloy (Mg: Ag), the respective transmittances for light having wavelength bands of 470 nm, 550 nm and 630 nm were 15.8%, 11.9% and 9.2%, respectively, For the first embodiment of the present invention having a bilayer structure of a lower layer of silver (Mg: Ag) and an upper layer of indium-zinc-oxide (IZO), the respective transmittances for light having wavelength bands of 470 nm, 550 nm and 630 nm 42.3%, 32.5% and 22%, respectively, it can be seen that the luminance characteristic of the first embodiment according to the present invention is improved by two times or more as compared with the comparative example.

표 2는 비교예로서 마그네슘-은 합금(Mg:Ag) 단일층 구조를 갖는 제 2 전극을 형성한 유기전계 발광소자와 이중층 구조를 갖는 제 2 전극을 갖는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자에 있어서, 마그네슘-은 합금(Mg:Ag)으로 이루어진 부분이 동일한 두께를 가질 경우의 각 파장대의 빛 투과도를 나타낸 것이다. Table 2 shows an organic electroluminescent device in which a second electrode having a single layer structure of magnesium-silver alloy (Mg: Ag) is formed as a comparative example and a second electrode having a double- In the electroluminescent device, the light transmittance at each wavelength band when the portion made of magnesium-silver alloy (Mg: Ag) has the same thickness.

투과도(%)Permeability (%) 단일층(MgAg)Single layer (MgAg) 이중층(MgAg + IZO)Double layer (MgAg + IZO) 470nm파장의 빛Light of 470nm wavelength 10.5%10.5% 26.1%26.1% 550nm파장의 빛550nm wavelength light 7.9%7.9% 18.4%18.4% 630nm파장의 빛630nm wavelength light 6.3%6.3% 12.4%12.4%

표 2를 참조하면, 비교예와 본 발명의 제 1 실시예에 따른 유기전계 발광소자에 있어 마그네슘-은 합금(Mg:Ag)으로 이루어진 부분이 동일한 두께를 갖도록 한 경우의 각 파장대의 빛 투과도를 비교하면, 제 2 전극이 마그네슘-은 합금(Mg:Ag)의 단일층 구조를 이루는 비교예의 경우 470nm, 550nm, 630nm의 파장대를 갖는 빛에 대한 각각의 투과도는 10.5%, 7.9%, 6.3%가 되는 반면 제 2 전극이 마그네슘-은 합금(Mg:Ag)의 하부층과 인듐-징크-옥사이드(IZO)의 상부층의 이중층 구조를 갖는 본 발명의 제 1 실시예의 경우 470nm, 550nm, 630nm의 파장대를 갖는 빛에 대한 각각의 투과도는 26.1%, 18.4%, 12.4%가 됨을 알 수 있다. Referring to Table 2, in the organic EL device according to the comparative example and the first embodiment of the present invention, the light transmittance of each wavelength band when the portions made of the magnesium-silver alloy (Mg: Ag) In the comparative example in which the second electrode has a single layer structure of a magnesium-silver alloy (Mg: Ag), the respective transmittances of light having wavelengths of 470 nm, 550 nm, and 630 nm are 10.5%, 7.9%, and 6.3% While the second electrode has a wavelength band of 470 nm, 550 nm and 630 nm in the case of the first embodiment of the present invention having a dual layer structure of a lower layer of magnesium-silver alloy (Mg: Ag) and an upper layer of indium-zinc-oxide The transmittance of each light is 26.1%, 18.4% and 12.4%, respectively.

따라서, 동일한 두께의 마그네슘-은 합금(Mg:Ag)으로 이루어진 제 2 전극이 구성된다 하더라도 이의 상부에 인듐-징크-옥사이드로 이루어진 상부층이 더욱 구비된 구성을 갖는 본 발명에 따른 유기전계 발광소자가 투과율 측면에서 2배 이상 더 향상된 특성을 가짐을 알 수 있다.Accordingly, even though the second electrode made of magnesium-silver alloy (Mg: Ag) having the same thickness is formed, the organic electroluminescent device according to the present invention having a structure in which an upper layer made of indium-zinc- It is found that the transmittance is improved more than two times.

이렇게 단일층 구조를 갖는 것보다는 서로 다른 물질로 이중층 구조를 이루는 것이 투과율 측면에서 향상된 것을 보이는 것은 광학 길이 제어에 의한 마이크로 커비티(micro cavity) 효과에 기인한다 할 것이다.The improvement in the transmittance of the bilayer structure of the different materials rather than the single layer structure is due to the microcavity effect due to the optical length control.

마이크로 커비티 효과는 빛이 특정 물질층 내부에서 반사를 반복하다 특정 조건이 만족되면 일시에 반사시킴으로써 빛의 투과효율이 향상시킬 수 있는 것으로 이러한 마이크로 커비티 효과를 구현하기 위해서는 반사율이 다른 이중층 이상의 구조를 이루어야 한다.The microcurve effect is that the light repeats reflection inside a specific material layer. When the specific condition is satisfied, the light is reflected at a time to improve the light transmission efficiency. In order to realize such microcubitic effect, .

한편, 본 발명에 제 1 실시예의 변형예로서 도 3(본 발명의 제 1 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자의 표시영역 일부에 대한 단면도로서, 제 1 실시예에 도시된 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여함)에 도시한 바와같이, 상기 제 2 전극(158)은 일함수 값이 낮은 금속물질 예를들면 은(Ag), 마그네슘-은 합금(Mg:Ag), 금(Au) 중 어느 하나로 이루어진 단일층 구조로 이루어질 수도 있으며, 이 경우 단일층 구조의 제 2 전극(158) 상부에는 투명 무기 산화물 예를들면 산화실리콘(SiO2) 또는 산화알루미늄(Al2O3)으로 이루어진 무기절연막(162)이 형성되거나, 또는 투명한 유기물질 예를들면 폴리머 또는 모노머로 이루어진 유기절연막(미도시)이 형성되는 것이 특징이다.3 (a cross-sectional view of a portion of a display region of an organic electroluminescent device according to a modification of the first embodiment of the present invention as a modification of the first embodiment) The second electrode 158 is formed of a metal material having a low work function value such as silver (Ag), a magnesium-silver alloy (Mg), a gold (Au) (SiO 2) or aluminum oxide (Al 2 O 3 ) is formed on the second electrode 158 having a single-layer structure on the upper surface of the second electrode 158. In this case, An insulating film 162 is formed, or an organic insulating film (not shown) made of a transparent organic material such as a polymer or a monomer is formed.

이러한 구성을 갖는 본 발명의 변형예에 따른 유기전계 발광소자(101) 또한 종래의 단일층 구조의 제 2 전극(158)이 형성되며, 이의 상부에는 무기절연막 또는 유기절연막 등이 형성되지 않은 비교예에 따른 유기전계 발광소자 대비 빛의 투과 특성이 향상되는 것이 특징이다.The organic electroluminescent device 101 according to a modification of the present invention having such a structure also has a structure in which a second electrode 158 having a conventional single layer structure is formed and an inorganic insulating film or an organic insulating film is not formed on the second electrode 158 The light transmission characteristic of the organic electroluminescent device according to the present invention is improved.

전술한 변형예에 따른 유기전계 발광소자(101)의 경우, 비록 제 2 전극(158)이 일함수 값이 낮은 금속물질 일례로 금(Au), 은(Ag)로 단일층 구조를 가지며 형성되고 있지만, 이의 상부에는 투명한 무기절연막(162) 또는 유기절연막(미도시)이 상기 단일층의 제 2 전극(158)과 접촉하며 형성되고 있으며, 이러한 구성에 의해 표면 플라즈몬(surface plasmon)이 발생함으로써 유기 발광층(155)으로부터 발생된 빛의 투과율을 향상시킬 수 있는 것이다. In the case of the organic EL device 101 according to the modification described above, although the second electrode 158 is formed with a single layer structure of gold (Au) and silver (Ag) as an example of a metal material having a low work function value However, a transparent inorganic insulating film 162 or an organic insulating film (not shown) is formed in contact with the second electrode 158 of the single layer on the transparent insulating film 162. Surface plasmons are generated by this configuration, The transmittance of light generated from the light emitting layer 155 can be improved.

표면 플라즈몬(surface plasmon)은 금속 박막 표면에서 일어나는 전자들의 집단적 진동(collective charge density oscillation)이며, 이러한 표면 플라즈몬은 특정의 금속 즉 외부 자극에 의해 전자의 방출이 쉽고 음의 유전상수를 갖는 금속에서 발생되며, 이렇게 표면 플라즈몬을 발생시키는 금속은 일례로 금(Au), 은(Ag) 등이 있다. Surface plasmons are collective charge density oscillations of electrons occurring on the surface of metal thin films. These surface plasmons are generated by metals that have a negative dielectric constant, The metal that generates surface plasmons is, for example, gold (Au), silver (Ag), or the like.

플라즈몬은 빛이 외부에서 입사되면 집단으로 운동하고, 특정한 조건을 만족하는 빛이 입사되면 이와 반응하여 더 센 빛을 방출하는 특성이 있으며, 이러한 표면 플라즈몬의 특성에 의해 빛의 투과율이 향상됨을 알 수 있었다. The plasmons act as a group when light enters from the outside, and when the light satisfying a specific condition is incident, the plasmon emits a stronger light in response to the incident light. It is known that the transmittance of light is improved by the characteristics of the surface plasmon there was.

한편, 전술한 본 발명의 제 1 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자(101)의 경우, 일함수 값이 낮은 금속물질의 단일층 구조로 이루어진 제 2 전극(158)의 자체의 저저항 특성을 낮출 수는 없지만, 비교예 대비 상대적으로 투과율이 향상됨으로써 투과율을 비교예와 동일한 수준이 되도록 제 2 전극(158) 자체의 두께를 비교예 대비 더 두껍게 형성함으로써 제 2 전극(158)의 면저항을 낮출 수 있다. 따라서 본 발명의 변형예에 따른 유기전계 발광소자(101)의 경우도 투과율을 높임으로써 휘도 특성을 향상시키거나, 또는 소비전력을 저감시키는 효과가 있다.Meanwhile, in the case of the organic EL device 101 according to the modification of the first embodiment of the present invention, the second electrode 158 having a single layer structure of a metal material having a low work function value has low resistance The transmittance of the second electrode 158 may be made thicker than that of the comparative example so that the transmittance of the second electrode 158 may be made thicker than that of the comparative example, Can be lowered. Therefore, in the case of the organic EL device 101 according to the modification of the present invention, there is also an effect of improving the luminance characteristic or reducing the power consumption by increasing the transmittance.

한편, 도 2 및 도 3을 참조하면, 전술한 구성을 갖는 제 1 실시예 또는 변형예에 따른 유기전계 발광소자(101)의 제 1 기판(110)에 대응하여 인캡슐레이션을 위한 제 2 기판(170)이 상기 제 1 기판(110)과 이격하며 구비되고 있다. 이때, 상기 제 1 기판(110)과 제 2 기판(170)은 그 가장자리를 따라 실란트 또는 프릿으로 이루어진 접착제(미도시)가 구비되고 있으며, 이러한 접착제(미도시)에 의해 상기 제 1 기판(110)과 제 2 기판(170)이 합착되어 패널상태를 유지하고 있다. Referring to FIGS. 2 and 3, a second substrate 110 for encapsulation corresponding to the first substrate 110 of the organic electroluminescent device 101 according to the first embodiment or the modification example having the above- (170) is spaced apart from the first substrate (110). The first substrate 110 and the second substrate 170 are provided with an adhesive agent (not shown) made of a sealant or a frit along the edges of the first substrate 110 and the second substrate 170. And the second substrate 170 are adhered to each other to maintain the panel state.

서로 이격하는 상기 제 1 기판(110)과 제 2 기판(170) 사이에는 진공의 분위기를 갖거나 또는 불활성 기체로 채워짐으로써 불활성 가스 분위기를 이루고 있다.An atmosphere of vacuum is formed between the first substrate 110 and the second substrate 170 which are spaced apart from each other or filled with an inert gas to form an inert gas atmosphere.

상기 인캡슐레이션을 위한 상기 제 2 기판(170)은 유연한 특성을 갖는 플라스틱으로 이루어질 수도 있으며, 또는 유리기판으로 이루어질 수도 있다.
The second substrate 170 for the encapsulation may be made of plastic having a flexible property, or may be made of a glass substrate.

한편, 전술한 제 1 실시예 및 변형예에 따른 유기전계 발광소자(101)는 제 1 기판(110)과 마주하여 이격하는 형태로 인캡슐레이션을 위한 제 2 기판(170)이 구비된 것을 나타내고 있지만, 상기 제 2 기판(170)은 점착층을 포함하는 필름 형태로 상기 제 1 기판(110)의 최상층에 구비된 상기 제 2 전극(158)과 접촉하도록 구성될 수도 있다. Meanwhile, the organic electroluminescent device 101 according to the first embodiment and the modified examples described above includes a second substrate 170 for encapsulation, which is spaced apart from the first substrate 110 However, the second substrate 170 may be configured to contact the second electrode 158 provided on the uppermost layer of the first substrate 110 in the form of a film including an adhesive layer.

나아가 도 3에 도시한 바와같이, 본 발명의 제 1 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자(101)의 경우 상기 단일층 구조의 제 2 전극(158) 상부로 유기절연막(미도시) 또는 무기절연막(162)이 형성된 경우, 상기 유기절연막(미도시) 또는 무기절연막(162)이 그 자체로 인캡슐레이션 막으로 이용됨으로써 이 경우 상기 제 2 기판(170)은 생략할 수도 있다.
3, in the case of the organic EL device 101 according to the modification of the first embodiment of the present invention, an organic insulating film (not shown) or an inorganic film (not shown) is formed on the second electrode 158 having the single- In the case where the insulating film 162 is formed, the organic insulating film (not shown) or the inorganic insulating film 162 is used as an encapsulation film itself, so that the second substrate 170 may be omitted.

도 4는 제 2 전극이 마그네슘-은 합금과 투명 도전 산화물의 이중층 구조를 갖는 본 발명의 제 1 실시예와, 제 2 전극이 마그네슘-은 합금 단일층 구조를 가지며 이의 상부에 유기 또는 무기절연막이 구비된 본 발명의 제 1 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자와, 마그네슘-은 합금 단일층 구조의 제 2 전극을 구비한 비교예에 따른 유기전계 발광소자의 파장별 투과도를 나타낸 그래프이다. 이때, 비교예의 경우 마그네슘-은 합금의 단일층 구조의 제 2 전극을 각각 150Å 및 240Å의 두께를 갖도록 형성한 것에 대한 투과도를 나타내었으며, 제 1 실시예 및 변형예의 경우 마그네슘-은 합금으로 이루어진 부분의 두께가 240Å를 갖는 것에 대한 빛의 투과도를 나타내었다.FIG. 4 is a cross-sectional view of a first embodiment of the present invention in which the second electrode has a double-layer structure of a magnesium-silver alloy and a transparent conductive oxide, and FIG. FIG. 3 is a graph illustrating transmittance of an organic electroluminescent device according to a modified example of the first embodiment of the present invention and a second electrode of a magnesium-silver alloy single layer structure, according to wavelengths. In this case, in the comparative example, the second electrode having a single layer structure of a magnesium-silver alloy was formed to have a thickness of 150 ANGSTROM and 240 ANGSTROM, respectively. In the first embodiment and the modified example, Lt; RTI ID = 0.0 > 240A. ≪ / RTI >

도면을 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예와 변형예 및 150Å정도의 두께를 갖는 마그네슘-은 합금으로 이루어진 제 2 전극을 구비한 비교예(이하 제 1 비교예라 칭함)의 경우 적, 녹, 청색을 발광하는 470nm 내지 630nm 파장대의 빛에 대해 각각 26% 내지 34%(제 1 실시예), 25% 내지 36%(변형예), 26% 내지 36%의 투과도를 가짐을 알 수 있지만, 240Å정도의 두께를 갖는 마그네슘-은 합금으로 이루어진 제 2 전극을 구비한 비교예(이하 제 2 비교예라 칭함)의 경우, 그 투과도가 제 1 비교예와 제 1 실시예 및 변형예 대비 현저히 떨어져 11% 내지 18%의 투과도를 가짐을 알 수 있다.Referring to the drawings, in the case of a comparative example (hereinafter referred to as a first comparative example) having a first electrode, a modification, and a second electrode made of a magnesium-silver alloy having a thickness of about 150 Å, (First embodiment), 25% to 36% (variant), and 26% to 36% transmittance for light of 470 to 630 nm wavelength band emitting blue light, respectively, (Hereinafter referred to as second comparative example) having a second electrode made of a magnesium-silver alloy having a thickness of about 10 nm, the transmittance is significantly lower than that of the first comparative example, the first embodiment, and the modified example, To 18%. ≪ / RTI >

특히, 녹색을 표시하는 550nm의 파장대의 빛에 대해서는 제 1 실시예와 변형예 및 제 1 비교예의 경우 모두 33%의 투과도를 가짐을 알 수 있지만, 제 2 비교예의 경우 14%의 투과도를 가짐을 알 수 있다.Particularly, in the case of the light having a wavelength of 550 nm which indicates green, the transmittance is 33% in both cases of the first embodiment, the modification and the first comparative example, but in the second comparative example, the transmittance is 14% Able to know.

비교예의 경우 마그네슘-은 합금만으로 이루어진 제 2 전극의 두께를 200Å이하로 얇게 하는 경우, 평균적으로 15%정도의 투과도를 가짐으로서 표시장치로 이용될 수 있지만, 이 경우 제 2 전극의 면저항이 증가하여 소비전력을 증가시키는 문제가 발생하며, 제 2 비교예와 같이 마그네슘-은 합금만으로 이루어진 제 2 전극을 200Å보다 더 큰 두께 일례로 240Å정도의 두께를 갖도록 하는 경우 면저항을 낮출 수 있지만, 그래프에 제시된 바와같이 470nm 내지 630nm 파장대 빛에 대한 평균적인 투과율이 15% 미만이 됨을 알 수 있다.In the case of the comparative example, when the thickness of the second electrode made of only the magnesium-silver alloy is reduced to 200 ANGSTROM or less, the electrode can be used as a display device having an average transmittance of about 15% There is a problem that the power consumption is increased. When the second electrode made of only the magnesium-silver alloy as in the second comparative example has a thickness of more than 200 Å and a thickness of about 240 Å, for example, the sheet resistance can be lowered. It can be seen that the average transmittance for the 470 nm to 630 nm wavelength band light is less than 15%.

하지만, 본 발명의 제 1 실시예와 변형예의 경우, 마그네슘-은 합금으로 이루어진 부분의 두께가 200Å이상 일례로 240Å정도가 되더라도, 470nm 내지 630nm 파장대 빛에 대한 투과율은 평균적으로 30% 이상이 됨을 알 수 있다.However, according to the first embodiment and the modification of the present invention, the transmittance of the light of the wavelength range of 470 nm to 630 nm is 30% or more, even if the thickness of the portion made of the magnesium-silver alloy is 200 Å or more, .

따라서, 이러한 실험 결과를 고려할 때, 본 발명의 제 1 실시예 및 변형예에 따른 유기전계 발광소자는 제 2 전극의 면저항을 저감하고, 470nm 내지 630nm 파장대의 가시광선에 대한 투과율을 향상시킨다는 점에서 제 1 및 제 2 비교예에 따른 유기전계 발광소자 대비 현저한 효과를 갖는다 할 것이다.
Therefore, in consideration of these experimental results, the organic electroluminescent device according to the first embodiment and the modified example of the present invention reduces the sheet resistance of the second electrode and improves the transmittance of visible light in the wavelength range of 470 nm to 630 nm The organic electroluminescent device according to the first and second comparative examples will have a remarkable effect compared to the organic electroluminescent device according to the first and second comparative examples.

도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 하나의 화소영역에 대한 단면도로서 제 2 전극의 구조를 제외한 이의 하부에 형성된 모든 구성요소는 전술한 제 1 실시예 및 변형예와 동일하므로 동일한 구성요소에 대해서는 제 1 실시예와 동일한 도면 부호를 부여하였으며 차별점이 있는 제 2 전극에 대해서만 제 1 실시예와 다른 도면부호를 부여하였다. FIG. 5 is a cross-sectional view of one pixel region of an organic electroluminescent device according to a second embodiment of the present invention, except for the structure of the second electrode, includes all the elements formed below the first electrode, Therefore, the same reference numerals as in the first embodiment are assigned to the same constituent elements, and only the second electrode having a different point is given different reference numerals from the first embodiment.

본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)에 있어서 가장 특징적인 것은 제 2 전극(257)이 다중층 구조를 이루고 있다는 것이다. 즉, 제 2 전극(257)은 캐소드 전극의 역할을 하기 위해 일함수 값이 비교적 낮은 금속물질인 은(Ag), 마그네슘-은 합금(Mg:Ag), 금(Au), 마그네슘(Mg), 구리(Cu), 칼슘(Ca) 중 어느 하나의 물질로 이루어진 제 1 층(258)과, 투명 도전성 물질인 인듐-틴-옥사이드 또는 인듐-징크-옥사이드로 이루어진 제 2 층(259a)과, 저저항 금속물질인 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu) 중 어느 하나로 이루어진 제 3 층(259b)과 전술한 제 2 층(259a)을 이루는 동일한 물질로 이루어진 제 4 층(259c)의 구성을 이루며 4중층 구조를 이루는 것이 특징이다. The most characteristic feature of the organic electroluminescent device 101 according to the second embodiment of the present invention is that the second electrode 257 has a multilayer structure. That is, the second electrode 257 is formed of a metal material such as silver (Ag), magnesium-silver alloy (Ag), gold (Au), magnesium (Mg) A first layer 258 made of any one of copper (Cu) and calcium (Ca), a second layer 259a made of indium-tin-oxide or indium-zinc-oxide, which is a transparent conductive material, A third layer 259b made of any one of silver (Ag), gold (Au) and copper (Cu), which is a resistive metal material, and a fourth layer 259c made of the same material as the aforementioned second layer 259a And has a four-layered structure.

이때, 상기 제 1 층(258)은 10Å 내지 50Å 정도의 두께를 가지며, 상기 제 2 층 내지 제 4 층(259a 내지 259c)으로 이루어진 3중층의 총 두께는 400Å 내지 1000Å 정도가 되며, 이중 저저항 금속물질로 이루어진 제 3 층(259b)은 그 두께가 150Å 내지 300Å 정도가 되는 것이 특징이다. At this time, the first layer 258 has a thickness of about 10 to 50 angstroms, and the total thickness of the triple layers of the second to fourth layers 259a to 259c is about 400 to 1000 angstroms. And the third layer 259b made of a metal material has a thickness of about 150 ANGSTROM to 300 ANGSTROM.

이렇게 본 발명의 제 2 실시예에 있어서 상기 제 2 전극(257)을 4중층 구조를 이루도록 형성한 것은 마이크로 커비티 효과를 제 1 실시예 대비 더욱더 극대화하여 빛의 투과도는 높이고 면저항은 낮추기 위함이다.In the second embodiment of the present invention, the second electrode 257 is formed to have a four-layer structure in order to maximize the microcurve effect compared to the first embodiment, thereby increasing the light transmittance and lowering the sheet resistance.

본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자(101)의 경우, 제 2 전극(257)내에 빛을 반사시킬 수 있는 층이 제 1 층(258) 및 제 3 층(259b)의 2개 층이 되므로 제 2 전극(257) 내에 반사되는 층이 하부층 하나만을 갖는 제 1 실시예 대비 마이크로 커비티 효과를 증대시킬 수 있다. In the case of the organic electroluminescent device 101 according to the second embodiment of the present invention, the layer capable of reflecting light in the second electrode 257 is divided into two layers of the first layer 258 and the third layer 259b So that the microcircuit effect can be enhanced compared to the first embodiment in which the layer reflected in the second electrode 257 has only one lower layer.

따라서 이러한 마이크로 커비티 효과 증대에 의해 투과도가 향상되는 효과를 갖게 됨으로써 상대적으로 제 2 전극(257)의 전체적인 두께를 두껍게 할 수 있으며, 이에 의해 저저항 특성이 향상됨으로서 면저항을 낮출 수 있는 것이다. As a result, the second electrode 257 can have a relatively large overall thickness by increasing the transmittance by increasing the microcavity effect, thereby improving the low-resistance characteristic and lowering the sheet resistance.

본 발명의 제 2 실시예에 따라 4중층 구조를 이루는 제 2 전극(257)이 구비되는 유기전계 발광소자(101)의 경우, 제 2 전극(257) 자체의 면저항은 1.9Ω/□ 내지 5Ω/□ 가 되며, 적, 녹, 청색 파장대의 빛에 대해서도 각각 50% 이상의 투과도를 가짐으로써 전술한 비교예를 포함하여 제 1 실시예보다도 면저항 저감과 투과도 향상 측면에서 더욱 우수함을 알 수 있었다.In the case of the organic electroluminescent device 101 having the second electrode 257 having a four-layer structure according to the second embodiment of the present invention, the sheet resistance of the second electrode 257 itself is 1.9? /? To 5? /? □, and the light transmittances of the red, green and blue wavelength ranges are respectively 50% or more, which is superior to the first embodiment in terms of sheet resistance reduction and transmittance improvement.

표 3은 비교예로서 마그네슘-은 합금(Mg:Ag) 단일층 구조를 갖는 제 2 전극을 형성한 유기전계 발광소자와 4중층 구조를 갖는 제 2 전극(158)을 갖는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 면저항 및 특정 파장대의 빛의 투과도를 나타낸 것이다.
Table 3 shows a second embodiment of the present invention having an organic electroluminescent device in which a second electrode having a single layer structure of magnesium-silver alloy (Mg: Ag) is formed as a comparative example and a second electrode 158 having a four-layer structure The sheet resistance of an organic electroluminescent device according to an example and the transmittance of light at a specific wavelength band.

비교예:단일층(MgAg)Comparative Example: Single layer (MgAg) 제2실시예:4중층(MgAg + IZO+Ag+IZO)Example 2: Four layers (MgAg + IZO + Ag + IZO) 면저항(Ω/□)Sheet resistance (Ω / □) 9.9(Ω/□)9.9 (Ω / □) 1.9(Ω/□)1.9 (Ω / □)
투과도(%)

Permeability (%)
470nm파장의 빛Light of 470nm wavelength 15.8%15.8% 73.7%73.7%
550nm파장의 빛550nm wavelength light 11.9%11.9% 73.1%73.1% 630nm파장의 빛630nm wavelength light 9.2%9.2% 54.9%54.9%

표 3을 참조하면, 마그네슘-은 합금(Mg:Ag)의 단일층 구조를 갖는 제 2 전극을 구비한 비교예의 경우, 9.9Ω/□ 정도의 면저항을 갖도록 그 두께를 형성하였을 경우, 470nm, 550nm, 630nm의 파장대를 갖는 빛에 대한 각각의 투과도는 15.8%, 11.9%, 9.2%가 되고 있음을 알 수 있다.Referring to Table 3, in the case of the comparative example having the second electrode having a single layer structure of magnesium-silver alloy (Mg: Ag), when the thickness was formed to have a sheet resistance of about 9.9? /? , And the transmittance for light having a wavelength band of 630 nm is 15.8%, 11.9%, and 9.2%, respectively.

반면 마그네슘-은 합금(Mg:Ag)의 제 1 층(도 5의 258)과 인듐-징크-옥사이드(IZO)의 제 2 층(도 5의 259a)과 은(Ag)의 제 3 층(도 5의 259b) 및 인듐-징크-옥사이드(IZO)의 제 4 층(도 5의 259c)의 4중층 구조를 갖는 제 2 전극(도 5의 257)을 구비한 본 발명의 제 2 실시예의 경우, 제 1 층 내지 제 4 층(도 5의 258 내지 259c)이 적절한 두께를 갖도록 형성하여 그 면저항이 1.9Ω/□ 정도가 되도록 하였을 경우에도 470nm, 550nm, 630nm의 파장대를 갖는 빛에 대한 각각의 투과도는 73.7%, 73.1%, 54.9%가 됨을 알 수 있다.On the other hand, the second layer (259a in FIG. 5) of the magnesium-silver alloy (Mg: Ag) (258 of FIG. 5) and the third layer of indium-zinc- In the case of the second embodiment of the present invention having the second electrode (257 of FIG. 5) having a quadruple-layer structure of the fourth layer (259b of FIG. 5) and the fourth layer of indium-zinc- Even when the first layer to the fourth layer (258 to 259c in FIG. 5) are formed to have a proper thickness and the sheet resistance is set to about 1.9? / ?, the respective transmittances for light having wavelength bands of 470 nm, 550 nm, Are 73.7%, 73.1% and 54.9%, respectively.

따라서, 4중층 구조의 제 2 전극(도 5의 257)을 구비한 본 발명에 따른 제 2 실시예가 단일층 구조의 제 2 전극을 구비한 비교예 대비 4배 이상 휘도 특성이 향상되었음을 알 수 있다.Accordingly, it can be seen that the second embodiment according to the present invention including the second electrode (257 in FIG. 5) having a four-layer structure has improved luminance characteristics four times or more as compared with the comparative example having the second electrode having a single layer structure .

나아가 본 발명의 제 2 실시예와 2중층 구조의 제 2 전극(도 2의 158)을 갖는 본 발명의 제 1 실시예과 비교해서도, 표 1 및 표 3을 참조하면, 4중층 구조의 제 2 전극(도 5의 257)을 갖는 본 발명의 제 2 실시예가 제 1 실시예 대비 면저항 저감 측면에서 더욱 우수하며, 투과도 측면에서도 1.3 내지 2배정도 더 향상되었음을 알 수 있다. Further, in comparison with the second embodiment of the present invention and the first embodiment of the present invention having the second electrode (158 in FIG. 2) of a double-layer structure, referring to Tables 1 and 3, It is understood that the second embodiment of the present invention having the electrode (257 in FIG. 5) is more excellent in terms of sheet resistance reduction than the first embodiment, and 1.3-2 times more in terms of the transmittance.

도 6은 제 2 전극이 4중층 구조를 갖는 본 발명의 제 2 실시예와, 제 2 전극이 마그네슘-은 합금 단일층 구조를 갖는 비교예에 따른 유기전계 발광소자의 파장별 투과도를 나타낸 그래프이다. 이때, 비교예의 경우 마그네슘-은 합금의 단일층 구조의 제 2 전극을 140Å의 두께를 갖도록 형성한 것에 대한 투과도를 나타내었으며, 제 2 실시예의 경우 마그네슘-은 합금으로 이루어진 제 1 층이 10Å, 인듐-징크-옥사이드(IZO)의 제 2 층 및 제 4 층이 각각 400Å, 은(Ag)의 제 3 층이 240Å의 두께를 갖는 것(도면에서 '실시예2-1'로 표시됨)과, 마그네슘-은 합금으로 이루어진 제 1 층이 10Å, 인듐-징크-옥사이드(IZO)의 제 2 층 및 제 4 층이 각각 400Å, 은(Ag)의 제 3 층이 300Å의 두께를 갖는 것(도면에서 '실시예2-2'로 표시됨)에 대한 빛의 투과도를 나타내었다.6 is a graph showing the transmittance of the second embodiment of the present invention in which the second electrode has a quadruple layer structure and the transmittance of the organic electroluminescent device according to the comparative example in which the second electrode has a magnesium-silver alloy single layer structure . In this case, in the comparative example, the transmittance of the second electrode having a single layer structure of magnesium-silver alloy was formed to have a thickness of 140 ANGSTROM. In the case of the second embodiment, the first layer made of magnesium- The second layer and the fourth layer of zinc oxide (IZO) each have a thickness of 400 ANGSTROM and the third layer of silver (Ag) has a thickness of 240 ANGSTROM (represented by 'Example 2-1' The second layer and the fourth layer of indium-zinc-oxide (IZO) each have a thickness of 400 angstroms and the third layer of silver (Ag) has a thickness of 300 angstroms (Shown as Example 2-2 ').

도면을 참조하면, 4중층 구조의 제 2 전극을 구비한 본 발명의 제 2 실시예의 경우, 적, 녹, 청색을 발광하는 470nm 내지 630nm 파장대의 빛에 대해 약 54% 내지 73%의 투과도를 가짐을 알 수 있다.Referring to the drawings, in the case of the second embodiment of the present invention having the second electrode of the four-layer structure, the transmittance is about 54% to 73% for light in the wavelength range of 470 nm to 630 nm emitting red, green and blue light .

하지만, 마그네슘-은 합금으로 이루어진 단일층 구조의 제 2 전극을 구비한 비교예의 경우 적, 녹, 청색을 발광하는 470nm 내지 630nm 파장대의 빛에 대해 26% 내지 36%의 투과도를 가짐을 알 수 있다. However, it can be seen that the comparative example having the second electrode having a monolayer structure of a magnesium-silver alloy has a transmittance of 26% to 36% with respect to light of 470 nm to 630 nm which emits red, green and blue light .

따라서, 투과도 측면에서 4중층 구조를 갖는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자가 단일층 구조의 제 2 전극을 구비한 비교예 대비 월등히 우수함을 알 수 있다.
Therefore, it can be seen that the organic electroluminescent device according to the second embodiment of the present invention having a quadruple layer structure in terms of transmittance is far superior to the comparative example having the second electrode having a single layer structure.

한편, 최근에는 표시장치가 대면적화 되고 있으며, 따라서 표시영역 전체에 판 형태로 형성되는 제 2 전극의 면저항이 큰 이슈가 되고 있다. 대면적화 될수록 제 2 전극의 면적항이 작아야 표시영역의 중앙부와 측면부에서의 오차가 없는 우수한 표시품질의 표시장치를 제공할 수 있다.On the other hand, in recent years, display devices have become large-sized, and thus the sheet resistance of the second electrodes formed in a plate shape over the entire display area has become a big issue. It is possible to provide a display device with excellent display quality free from errors in the central portion and the side portion of the display region, as long as the surface area of the second electrode becomes smaller as the surface is larger.

따라서, 유기전계 발광소자에 있어서 표시영역 전면에 판 형태로 형성되는 제 2 전극의 면저항을 2Ω/□ 이하 바람직하게는 1Ω/□ 정도의 수준이 되도록 하면서도 투과도가 30% 이상이 되도록 하는 기술이 요구되고 있는 실정이다. Therefore, in the organic electroluminescent device, it is required to have a technique in which the sheet resistance of the second electrode formed in the form of a plate on the entire surface of the display region is set to a level of 2? /? Or less, preferably about 1? /? .

본 발명의 제 3 실시예는 이러한 요구에 부응하여 2Ω/□ 이하의 면저항을 갖는 제 2 전극이 구현된 유기전계 발광소자를 제공한다. The third embodiment of the present invention provides an organic electroluminescent device in which a second electrode having a sheet resistance of 2? /? Or less is implemented in response to this demand.

도 7은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 하나의 화소영역에 대한 단면도로서 제 2 전극의 구조를 제외한 이의 하부에 형성된 모든 구성요소는 전술한 제 2 실시예와 동일하므로 차별점이 있는 제 2 전극만을 확대 도시(도 5의 A영역이라 표시된 부분만을 도시함)하였다. 7 is a cross-sectional view of one pixel region of an organic electroluminescent device according to the third embodiment of the present invention, except for the structure of the second electrode, all of which are formed below the same, (Only the portion indicated by A in Fig. 5) is shown.

본 발명의 제 3 실시예는 캐소드 전극의 역할을 하면서 2Ω/□ 이하의 면저항을 갖는 제 2 전극(357)을 구비하면서도 적, 녹, 청색 파장대의 빛에 대해서는 30% 이상의 투과도를 갖는 유기전계 발광소자를 구현한 것이 특징이다.The third embodiment of the present invention is characterized in that the second electrode 357 having a sheet resistance of 2 OMEGA / & squ & while serving as a cathode electrode is provided with an organic electroluminescent light emission having a transmittance of 30% or more for red, Device.

본 발명의 제 3 실시예에 따른 유기전계 발광소자(미도시)에 있어 가장 특징적인 것은 제 2 전극(357)이 제 1 실시예 대비 더욱더 다중층 구조를 가져 마이크로 커비티 효과를 극대화 할 수 있는 구조를 이루고 있다는 것이다. The most characteristic feature of the organic electroluminescent device according to the third embodiment of the present invention is that the second electrode 357 has a multi-layer structure more than that of the first embodiment and can maximize the micro- .

즉, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 제 2 전극(357)은 캐소드 전극의 역할을 하기 위해 일함수 값이 비교적 낮은 금속물질인 은(Ag), 마그네슘-은 합금(Mg:Ag), 금(Au), 마그네슘(Mg), 구리(Cu), 칼슘(Ca) 중 어느 하나의 물질로 이루어진 제 1 층(358)과, 상기 제 1 층(358) 상부로 제 1 실시예에 구현된 3개층의 구성 즉, 투명 도전성 물질인 인듐-틴-옥사이드 또는 인듐-징크-옥사이드로 이루어진 제 2 층(359a)과, 저저항 금속물질인 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu) 중 어느 하나로 이루어진 제 3 층(359b)과 전술한 제 2 층(359a)을 이루는 동일한 물질로 이루어진 제 4 층(359c)의 구성(이하 이러한 3중층을 세트층(359)이라 정의함)과 더불어 상기 제 4 층(359c) 위로 3개층으로 이루어진 상기 세트층(360(360a, 360b, 360c)이 한번 더 구성되고 있는 것이 특징이다. 따라서, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 제 2 전극(357)은 총 7중층 구조를 이루는 것이 특징이다. That is, the second electrode 357 according to the third embodiment of the present invention is formed of a metal material having a relatively low work function value such as silver (Ag), a magnesium-silver alloy (Mg) A first layer 358 made of any one material of gold (Au), magnesium (Mg), copper (Cu), and calcium (Ca) A second layer 359a made of indium-tin-oxide or indium-zinc-oxide which is a transparent conductive material and a second layer 359b made of low resistance metal such as silver (Ag), gold (Au) (Hereinafter referred to as a set layer 359) of a fourth layer 359c made of the same material and constituting the third layer 359b made of any one of the above materials and the aforementioned second layer 359a, The set layers 360 (360a, 360b, and 360c), which are three layers above the fourth layer 359c, are formed once again. Thus, according to the third embodiment of the present invention And the second electrode 357 has a total of seven layers.

도면에서는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 유기전계 발광소자(미도시)의 경우, 상기 제 2 전극(357)이 제 1 층(358)과 제 1 및 제 2 세트층(359, 360)으로 구성되어 총 7중층 구조를 이룸을 일례로 보이고 있지만, 본 발명의 제 3 실시예의 변형예로서 상기 제 2 세트층 위로 또 다른 하나 이상의 세트층(미도시)이 더욱 구비되어 10중층 또는 13중층 구조가 될 수도 있다. In the case of an organic electroluminescent device (not shown) according to the third embodiment of the present invention, the second electrode 357 is formed of a first layer 358 and first and second set layers 359 and 360 (Not shown) is further provided on the second set layer as a modification of the third embodiment of the present invention to form a ten-layer or a thirteen-layer structure .

이러한 구성을 갖는 경우, 상기 제 2 전극(357) 내에 빛이 반사가 이루어지는 층이 더욱 늘어나게 되므로 마이크로 커비티 효과가 더욱 극대화된다. 따라서, 빛의 투과도의 향상이 이루어지게 되며, 이로 인해 제 2 전극(357)을 이루는 다수의 층 중 저저항 물질로 이루어진 층의 수가 증가되어도 투과율은 낮아지지 않으므로 제 2 전극(357) 전체의 면저항을 낮출 수 있는 것이다.In such a configuration, the layer in which light is reflected in the second electrode 357 is further extended, thereby maximizing the microcurve effect. Therefore, even if the number of layers made of the low-resistance material is increased among the plurality of layers constituting the second electrode 357, the transmittance is not lowered, so that the sheet resistance of the entire second electrode 357 .

본 발명의 제 3 실시예의 경우, 상기 제 1 층(358)은 10Å 내지 50Å 정도의 두께를 가지며, 상기 제 2 층 내지 제 7 층(359a, 359b, 359c, 360a, 360b, 360c)으로 이루어진 6중층의 총 두께는 800Å 내지 2000Å 정도가 되며, 이중 저저항 금속물질로 이루어진 제 3 층(359b)과 제 6층(360b)은 그 두께가 각각 150Å 내지 300Å 정도가 되는 것이 특징이다. In the third embodiment of the present invention, the first layer 358 has a thickness of about 10 Å to about 50 Å, and the first layer 358 has a thickness of about 10 Å to about 50 Å. The second layer to the seventh layer 359 a, 359 b, 359 c, 360 a, 360 b, The total thickness of the middle layer is about 800 Å to 2000 Å, and the thickness of the third layer 359b and the sixth layer 360b made of the low-resistance metal material is about 150 Å to 300 Å, respectively.

도 8은 마그네슘-은 합금(Mg:Ag)의 제 1 층 위로 IZO/Ag/IZO/IZO/Ag/IZO의 6중층이 구비된 제 2 전극을 갖는 본 발명의 제 3 실시예와, IZO/Ag/IZO의 3중층이 구비된 본 발명의 제 2 실시예 및 마그네슘-은 합금(Mg:Ag)의 제 1 층 위로 Ag로 이루어진 층이 구비된 제 1 비교예와 IZO/Ag/IZO/Ag/IZO의 5중층이 구비된 제 2 전극을 갖는 제 2 비교예에 따른 유기전계 발광소자의 파장별 투과도를 나타낸 그래프이다. 이때, 실시예 및 비교예에 있어 은(Ag)으로 이루어진 층은 250Å 그리고 IZO로 이루어진 층은 모두 400Å의 두께로 형성하였다.8 shows a third embodiment of the present invention having a second electrode having a six layer of IZO / Ag / IZO / IZO / Ag / IZO over a first layer of a magnesium-silver alloy (Mg: Ag) Ag / IZO / Ag (IZO / Ag / IZO / Ag / IZO) and the first comparative example having a layer of Ag on the first layer of magnesium-silver alloy / IZO according to the second comparative example having the second electrode provided with the five-layered structure of the organic electroluminescent device. In this case, the layer made of silver (Ag) was formed to have a thickness of 250 angstroms and the layer made of IZO was formed to have a thickness of 400 angstroms in Examples and Comparative Examples.

도시한 바와같이, 본 발명의 제 2 실시예 및 제 3 실시예의 경우, 적, 녹, 청색을 발광하는 470nm 내지 600nm 파장대의 빛 각각에 대해 30% 이상의 투과도를 가짐을 알 수 있다.As shown in the figure, in the second and third embodiments of the present invention, it is understood that the transmittance is 30% or more for each of 470 nm to 600 nm wavelength light emitting red, green and blue light.

하지만, 마그네슘-은 합금(Mg:Ag)의 제 1 층 위로 은(Ag)만으로 이루어진 제 2 층이 구비된 제 1 비교예의 경우 470nm 내지 600nm 파장대의 빛에 있어 특히 600nm 파장대의 빛을 갖는 빛에 대해서는 30%보다 작은 투과율을 가짐을 알 수 있으며, 마그네슘-은 합금(Mg:Ag)의 제 1 층 위로 IZO/Ag/IZO/Ag/IZO의 5중층이 구비된 제 2 비교예의 경우, 적, 녹, 청색을 발광하는 470nm 내지 600nm 파장대의 빛 중에서 특히 530nm 이상의 파장대에 빛에 대해서는 20% 이하의 투과도를 가짐을 알 수 있다.However, in the first comparative example having the second layer made of only silver (Ag) on the first layer of the magnesium-silver alloy (Mg: Ag), in the light of the wavelength range of 470 nm to 600 nm, Ag / IZO / Ag / IZO on the first layer of the magnesium-silver alloy (Mg: Ag). In the case of the second comparative example having the IZO / Ag / It can be seen that the light has a transmittance of 20% or less in the light of wavelengths of 470 to 600 nm, particularly in the wavelength band of 530 nm or more, which emits green and blue light.

이러한 결과로 알 수 있는 것은, 본 발명의 제 3 실시예의 경우, 저저항 물질 일례로 은(Ag)으로 이루어진 층이 2층이 구비되었으므로 상대적으로 면저항이 저감될 수 있음을 알 수 있으며, 실질적으로 은(Ag)으로 이루어진 제 3 층과 제 6 층을 250Å의 두께로 구성하는 경우 7중층 구조로 이루어진 상기 제 2 전극 전체의 면저항은 1Ω/□ 정도가 됨으로써 본 발명의 제 3 실시예에 따른 유기전계 발광소자는 면저항 저감 측면에서 비교예들과 제 1 및 제 2 실시예 대비 우수함을 알 수 있다. As a result, in the case of the third embodiment of the present invention, it can be seen that relatively low sheet resistance can be reduced since a layer made of silver (Ag) is provided as a low resistance material, When the third layer and the sixth layer made of silver (Ag) are formed to have a thickness of 250 angstroms, the sheet resistance of the entirety of the second electrode made of the seven-layered structure is about 1? /? It can be seen that the electroluminescent device is superior to the comparative examples and the first and second embodiments in terms of sheet resistance reduction.

도 9는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 연속된 적, 녹, 청색을 각각 발광하는 3개의 화소영역에 대한 단면도로서 제 2 전극의 구조를 제외한 이의 하부에 형성된 모든 구성요소는 전술한 제 2 실시예와 동일하므로 차별점이 있는 제 2 전극을 위주로 도시하였다. 설명의 편의를 위해 적, 녹, 청색을 발광하는 화소영역을 각각 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3)이라 정의한다. FIG. 9 is a cross-sectional view of three pixel regions that emit successive red, green, and blue colors of an organic electroluminescent device according to a fourth exemplary embodiment of the present invention, Are the same as those of the second embodiment described above, and therefore, the second electrode having a different point is mainly shown. For convenience of description, pixel regions emitting red, green, and blue are defined as first, second, and third pixel regions P1, P2, and P3, respectively.

도시한 바와같이, 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3)에는 동일한 두께를 가지며 각각 적, 녹, 청색을 발광하는 유기 발광층(455(455a, 455b, 455c))이 형성되고 있다. 도면에 있어서는 상기 적, 녹, 청색을 발광하는 유기 발광층(455a, 455b, 455c)이 접촉하여 형성된 것처럼 도시되고 있지만, 실질적으로 각 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3)의 경계에는 뱅크(미도시)가 형성되고 있으며, 따라서 이러한 뱅크(미도시)에 의해 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3)이 분리됨으로써 상기 적, 녹, 청색 유기 발광층(455a, 455b, 455c)은 분리 형성되고 있다. As shown in the figure, organic light emitting layers 455 (455a, 455b, and 455c) having the same thickness and emitting red, green, and blue light are formed in the first, second, and third pixel regions P1, P2, and P3 . Although the organic light emitting layers 455a, 455b, and 455c emitting red, green, and blue light are illustrated as being in contact with each other in the drawing, the boundary between the first, second, and third pixel regions P1, P2, and P3 Green, and blue organic light emitting layers 455a and 455b (not shown) are formed by separating the first, second, and third pixel regions P1, P2, and P3 by such banks (not shown) And 455c are separated and formed.

다음, 상기 적, 녹, 청색 유기발광층(455a, 455b, 455c) 위로는 화소영역(P1, P2, P3)간 분리없이 표시영역 전면에 제 2 전극(457)이 형성되고 있다.Next, a second electrode 457 is formed on the entire display region without separating the pixel regions P1, P2, and P3 over the red, green, and blue organic light emitting layers 455a, 455b, and 455c.

이때, 상기 제 2 전극(457)은 캐소드 전극의 역할을 하기 위해 일함수 값이 비교적 낮은 금속물질인 은(Ag), 마그네슘-은 합금(Mg:Ag), 금(Au), 마그네슘(Mg), 구리(Cu), 칼슘(Ca) 중 어느 하나의 물질로 이루어진 제 1 층(461)과, 상기 제 1 층(461) 상부로 투명 도전성 물질인 인듐-틴-옥사이드 또는 인듐-징크-옥사이드로 이루어진 제 2 층(462)과, 저저항 금속물질인 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu) 중 어느 하나로 이루어진 제 3 층(463)과, 전술한 제 2 층(462)을 이루는 동일한 물질로 이루어진 제 4 층(464(464a, 464b, 464c))과 상기 제 3 층(463)을 이루는 동일한 물질로 이루어진 제 5 층(465)과, 상기 제 2 층(462)을 이루는 동일한 물질로 이루어진 제 6 층(466)의 6중층 구조로 구성되고 있다. The second electrode 457 may be formed of a metal such as silver (Ag), silver-silver (Ag), gold (Au), magnesium (Mg) A first layer 461 made of a material selected from the group consisting of copper (Cu), calcium (Ca) and indium-tin-oxide or indium-zinc- A third layer 463 made of silver (Ag), gold (Au) or copper (Cu) which is a low resistance metal material and a third layer 463 made of the second layer 462 A fourth layer 464 (464a, 464b, 464c) made of the same material and a fifth layer 465 made of the same material forming the third layer 463; And a sixth layer 466 formed of a six-layered structure.

이때, 본 발명의 제 4 실시예에 있어서 가장 특징적인 것은 상기 투명 도전성 물질로 이루어진 제 4 층(464)이 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3) 별로 서로 다른 두께를 가지며 형성되고 있다는 것이다. 즉, 제 1 층 내지 제 3 층(461, 462, 463)과 제 5 층(465) 및 제 6 층(466)은 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3)에 관계없이 표시영역 전면에 각각 동일한 두께를 가지며 형성되지만, 상기 제 4 층(464)은 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3) 별로 서로 다른 두께를 가지며 형성되고 있는 것이 특징이다.In the fourth embodiment of the present invention, the fourth layer 464 made of the transparent conductive material has different thicknesses for the first, second, and third pixel regions P1, P2, and P3, . That is, the first to third layers 461, 462 and 463, the fifth layer 465 and the sixth layer 466 are displayed regardless of the first, second and third pixel regions P1, P2 and P3 The fourth layer 464 is formed to have different thicknesses for the first, second, and third pixel regions P1, P2, and P3, respectively.

이때, 상기 제 4 층(464)은 파장이 상대적으로 긴 적색을 발광하는 유기 발광층(455a)이 구비된 제 1 화소영역(P1)에 대응하는 부분이 가장 두꺼운 제 1 두께를 가지며, 파장이 가장 짧은 청색을 발광하는 유기 발광층(455c)이 구비된 제 3 화소영역(P3)에 대응하는 부분이 가장 얇은 제 2 두께를 가지며, 녹색을 발광하는 유기 발광층(455b)이 구비된 제 2 화소영역(P2)에 대응하는 부분은 상기 제 1 두께보다는 얇고 상기 제 2 두께보다는 두꺼운 제 3 두께를 갖는 것이 특징이다.At this time, the fourth layer 464 has the first thickest portion corresponding to the first pixel region P1 having the organic light emitting layer 455a emitting the red light having a relatively long wavelength, A portion corresponding to the third pixel region P3 provided with the organic light emitting layer 455c emitting a short blue light has the second thinnest thickness and the second pixel region 452b having the organic light emitting layer 455b emitting green light P2) is thinner than the first thickness and has a third thickness that is thicker than the second thickness.

이때, 상기 제 4 층(464)은 400Å 내지 1200Å 정도의 두께를 갖는 것이 바람직하다.At this time, the fourth layer 464 preferably has a thickness of about 400 Å to 1200 Å.

한편, 상기 제 1 층(461)은 10Å 내지 50Å 정도의 두께를 가지며, 상기 제 2 층 내지 제 6 층(462, 463, 464, 465, 466)으로 이루어진 5중층의 총 두께는 1000Å 내지 2500Å 정도가 되며, 이중 저저항 금속물질로 이루어진 제 3 층(463)과 제 5 층(465)은 그 두께가 각각 150Å 내지 400Å 정도가 되는 것이 바람직하다. The total thickness of the fifth layer composed of the second to sixth layers 462, 463, 464, 465, and 466 is about 1000 Å to about 2500 Å. The first layer 461 has a thickness of about 10 Å to 50 Å. And the third layer 463 and the fifth layer 465 made of a double low resistance metal material each have a thickness of about 150 ANGSTROM to about 400 ANGSTROM.

이렇게 투명 도전성 물질로 이루어진 제 4 층(464)을 적, 녹, 청색을 발광하는 유기 발광층(455a, 455b, 455c)이 각각 구비된 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3)별로 다른 두께를 갖도록 형성한 것은 발광된 빛의 투과도를 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3) 모두에서 향상시키며, 나아가 제 2 전극(457)의 면 저항을 1Ω/□ 내지 3Ω/□정도 수준이 되도록 하기 위함이다. The fourth layer 464 made of the transparent conductive material is divided into first, second and third pixel regions P1, P2, and P3 each having red, green and blue organic light emitting layers 455a, 455b, The thickness of the second electrode 457 is set to be in the range of 1? /? To 3? /? 3, □ level.

동일 두께를 갖는 저저항 금속물질로 이루어진 층 상하부에 각각 투명 도전성 물질로 이루어진 층을 형성하는 경우 투과도 측면에서 향상된다. When a layer made of a transparent conductive material is formed on the upper and lower portions of the layer made of the low resistance metal material having the same thickness, it is improved in terms of the transmittance.

하지만, 제 2 전극(457)의 면저항 수준을 1Ω/□ 내지 3Ω/□정도 수준이 되도록 하기 위해 저저항 금속물질로 이루어진 층의 두께를 400Å보다 큰 두께를 갖도록 형성하는 경우, 투과도가 낮아 상부 발광 방식의 유기전계 발광소자의 제 2 전극으로 사용할 수 없다.However, when the thickness of the layer made of the low-resistance metal material is formed to have a thickness greater than 400 A so that the sheet resistance level of the second electrode 457 is about 1? /? To 3? / ?, the transmittance is low, Type organic electroluminescent device can not be used as the second electrode.

이러한 것을 해결하고자 제 1 층(461)을 제외한 제 2 층 내지 제 5 층(462, 463, 464, 465, 466)을 각 화소영역(P1, P2, P3)별로 두께차 없이 일례로 IZO/Ag/IZO/Ag/IZO 의 구조를 갖도록 형성하면 마이크로 커비티 효과를 극대화 할 수 있으므로 투과도 보상이 발생하여 전체적인 투과도는 향상되지만, 녹색을 발광하는 제 2 화소영역(P2) 이외의 적색 또는 청색을 발광하는 제 1 및 제 3 화소영역(P1, P2)에서의 투과도는 낮아진다. To solve this problem, the second layer to the fifth layer 462, 463, 464, 465, 466 except for the first layer 461 is formed by IZO / Ag / IZO / Ag / IZO, the transmittance is compensated for and the overall transmittance is improved. However, since the transmittance is improved and the transmittance is improved, the red or blue light other than the second pixel region P2 emitting green light The transmittance in the first and third pixel regions P1 and P2 becomes low.

따라서, 이러한 적색 및 청색을 발광하는 제 1 및 제 3 화소영역(P1, P3)에서의 투과도 저하를 억제하고자 적, 녹, 청색을 발광하는 빛의 파장대를 고려하여 투명 도전성 물질로 이루어지는 상기 제 4 층(464)의 두께를 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3)별로 달리 형성한 것이다.Therefore, in order to suppress the decrease in the transmittance in the first and third pixel regions P1 and P3 emitting red and blue light, in consideration of the wavelength band of light emitting red, green and blue, The thickness of the layer 464 is formed differently for the first, second, and third pixel regions P1, P2, and P3.

이러한 구성적 특징을 갖는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 유기전계 발광소자는 저저항 금속물질로 이루어진 제 3 층(463) 및 제 5 층(465)의 두께를 300Å 내지 400Å 정도가 되어도 형성하더라도 투과도 측면에서는 제 2 층 내지 제 5 층(462, 463, 464, 465, 466)이 각 화소영역(P1, P2, P3)별로 두께차 없이 IZO/Ag/IZO/Ag/IZO의 구조를 갖는 유기전계 발광소자의 투과도와 비슷한 수준이 되는 것이 특징이다.The organic electroluminescent device according to the fourth embodiment of the present invention having such a feature may be formed even if the thickness of the third layer 463 and the fifth layer 465 made of a low resistance metal material is about 300 Å to 400 Å The second layer to the fifth layer 462, 463, 464, 465, and 466 may have an IZO / Ag / IZO / Ag / IZO structure without a thickness difference for each pixel region P1, P2, Which is similar to the transmittance of the electroluminescent device.

따라서 이러한 본 발명의 제 4 실시예에 따른 유기전계 발광소자는 일정 수준의 투과도를 유지하면서도 저저항 금속물질로 이루어진 제 3 층 및 제 5 층(463, 465)의 두께를 400Å 정도까지 형성할 수 있으므로 제 2 전극(457) 자체의 면저항이 1Ω/□ 내지 3Ω/□정도로 낮은 수준을 유지할 수 있음으로서 대면적화에 유리한 구성이 되는 것이 특징이다.Therefore, the organic EL device according to the fourth embodiment of the present invention can form the third layer and the fifth layer 463 and 465, which are made of a low-resistance metal material, to a thickness of about 400 Å while maintaining a certain level of transmittance The sheet resistance of the second electrode 457 itself can be maintained at a level as low as 1? /? To 3? /?, Which is advantageous for the large-scale production.

도 10은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 제 2 전극의 제 4 층의 두께를 600Å 내지 1000Å를 갖도록 변화시키며 투과도를 측정한 그래프이다. 이때, 제 1 비교예로서 캐소드로서의 역할을 하는 제 1 층 이외에 은(Ag) 250Å의 두께를 갖는 제 2 층만이 구비된 것과, 제 2 비교예로서 제 2 층 내지 4층이 IZO 400Å/Ag 250Å/IZO 400Å의 구성을 갖는 것과, 제 3 비교예로서 제 2 층 내지 제 6 층이 IZO 400Å/Ag 250Å/IZO 400Å/Ag 250Å/IZO 400Å의 구성을 갖는 것의 투과도도 함께 도시하였다.10 is a graph showing the transmittance of the fourth electrode of the second electrode of the organic electroluminescent device according to the fourth embodiment of the present invention, in which the thickness of the fourth electrode is changed to 600 Å to 1000 Å. In this case, as the first comparative example, only the second layer having the thickness of 250 Å of silver (Ag) was provided in addition to the first layer serving as the cathode, and the second layer to the fourth layer was formed of IZO 400 Å / Ag 250 Å / IZO 400 ANGSTROM, and as a third comparative example, the transmittance of the second layer to the sixth layer having a composition of IZO 400 ANG / Ag 250 ANGSTROM / IZO 400 ANG / Ag 250 ANGSTROM / IZO 400 ANGSTROM was also shown.

도시한 바와같이, 제 4 층을 각각 600Å, 800Å, 1000Å의 두께로 형성하는 경우, 청, 녹, 적색의 파장대에서 각각 투과도가 0.66, 0.66, 0.58인 피크치를 이룸을 알 수 있다. As shown in the figure, when the fourth layer is formed to a thickness of 600 Å, 800 Å, and 1000 Å, the transmittance is 0.66, 0.66, and 0.58 at the blue, green, and red wavelength ranges, respectively.

따라서, 적, 녹, 청색을 발광하는 제 1, 2, 3 화소영역별로 제 4 층의 두께를 달리하여 즉, 적색을 발광하는 제 1 화소영역에서는 1000Å 정도의 두께를 갖도록, 녹색을 발광하는 제 2 화소영역에서는 800Å 정도의 두께를 갖도록, 그리고 청색을 발광하는 제 3 화소영역에서는 600Å 정도의 두께를 갖도록 형성함으로써 최종 합산된 투과도는 0.5 이상이 된다. Accordingly, in the first, second and third pixel regions emitting red, green and blue, the thickness of the fourth layer is different, that is, in the first pixel region emitting red light, The second pixel region has a thickness of about 800 ANGSTROM and the third pixel region that emits blue light has a thickness of about 600 ANGSTROM.

하지만, 제 1, 2, 3 비교예의 경우 적, 녹, 청색을 나타내는 470nm 내지 650nm의 파장대에서 모두 0.4 이하의 투과도를 가짐을 알 수 있다.
However, in the comparative examples 1, 2 and 3, all of the transmittances in the wavelength range of 470 nm to 650 nm indicating red, green, and blue have a transmittance of 0.4 or less.

도 11은 본 발명의 제 5 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 연속된 적, 녹, 청색을 각각 발광하는 3개의 화소영역에 대한 단면도로서 제 2 전극의 구조를 제외한 이의 하부에 형성된 모든 구성요소는 전술한 제 2 실시예와 동일하므로 차별점이 있는 제 2 전극을 위주로 도시하였다. 설명의 편의를 위해 적, 녹, 청색을 발광하는 화소영역을 각각 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3)이라 정의한다. 11 is a cross-sectional view of three pixel regions that emit successive red, green, and blue colors of an organic electroluminescent device according to a fifth embodiment of the present invention, in which all the components Are the same as those of the second embodiment described above, and therefore, the second electrode having a different point is mainly shown. For convenience of description, pixel regions emitting red, green, and blue are defined as first, second, and third pixel regions P1, P2, and P3, respectively.

도시한 바와같이, 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3)에는 동일한 두께를 가지며 각각 적, 녹, 청색을 발광하는 유기 발광층(555(555a, 555b, 555c))이 형성되고 있다. 도면에 있어서는 상기 적, 녹, 청색을 발광하는 유기 발광층(555a, 555b, 555c)이 접촉하여 형성된 것처럼 도시되고 있지만, 실질적으로 각 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3)의 경계에는 뱅크(미도시)가 형성되고 있으며, 따라서 이러한 뱅크(미도시)에 의해 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3)이 분리됨으로써 상기 적, 녹, 청색 유기 발광층(555a, 555b, 555c)은 분리 형성되고 있다. As shown in the figure, organic light emitting layers 555 (555a, 555b and 555c) having the same thickness and emitting red, green and blue light are formed in the first, second and third pixel regions P1, P2 and P3 . Although the organic light emitting layers 555a, 555b and 555c emitting red, green and blue light are shown as being in contact with each other in the drawing, the boundary between the first, second and third pixel regions P1, P2 and P3 Green and blue organic light emitting layers 555a and 555b are formed by separating the first, second and third pixel regions P1, P2 and P3 by such banks (not shown) And 555c are separated and formed.

다음, 상기 적, 녹, 청색을 발광하는 유기발광층(555a, 555b, 555c) 위로는 화소영역(P1, P2, P3)간 분리없이 표시영역 전면에 제 2 전극(557)이 형성되고 있다.Next, a second electrode 557 is formed on the entire display region without separating between the pixel regions P1, P2, and P3 over the organic light emitting layers 555a, 555b, and 555c emitting red, green, and blue light.

이때, 상기 제 2 전극(557)은 캐소드 전극의 역할을 하기 위해 일함수 값이 비교적 낮은 금속물질인 은(Ag), 마그네슘-은 합금(Mg:Ag), 금(Au), 마그네슘(Mg), 구리(Cu), 칼슘(Ca) 중 어느 하나의 물질로 이루어진 제 1 층(561)과, 상기 제 1 층(561) 상부로 투명 도전성 물질인 인듐-틴-옥사이드 또는 인듐-징크-옥사이드로 이루어진 제 2 층(562)과, 저저항 금속물질인 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu) 중 어느 하나로 이루어진 제 3 층(563)과, 유기물질 예를들면 보호층을 이루는 물질인 벤조사이클로부텐 또는 포토아크릴이나 상기 유기 발광층을 이루는 물질로 이루어진 제 4 층(564(564a, 564b, 564c))과 상기 제 3 층(563)을 이루는 동일한 물질로 이루어진 제 5 층(565)과, 상기 제 2 층(562)을 이루는 동일한 물질로 이루어진 제 6 층(566)의 6중층 구조로 구성되고 있다. The second electrode 557 may be formed of a metal such as silver (Ag), silver-silver (Ag), gold (Au), magnesium (Mg) A first layer 561 made of a material selected from the group consisting of copper (Cu), calcium (Ca) and indium-tin-oxide or indium-zinc- A third layer 563 made of silver (Ag), gold (Au) or copper (Cu), which is a low resistance metal material, and a third layer 563 made of an organic material such as a material A fourth layer 564 (564a, 564b, 564c) made of benzocyclobutene or photoacryl or a material forming the organic light emitting layer and a fifth layer 565 made of the same material making the third layer 563, , And a sixth layer 566 made of the same material that constitutes the second layer 562.

이때, 본 발명의 제 5 실시예에 있어서 가장 특징적인 것은 상기 유기물질로 이루어진 제 4 층(564)이 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3) 별로 이격하며 서로 다른 두께를 가지며 형성되고 있다는 것과, 상기 제 4 층(564)을 사이에 두고 그 하부 및 상부에 각각 저저항 금속물질로 이루어진 제 3 층(563) 및 제 5 층(565)은 각 화소영역(P1, P2, P3)의 경계 즉 서로 이격하는 제 4 층(564a, 564b, 564c)간의 이격영역에서 서로 접촉하며 형성되는 구성을 이루는 것이다. In the fifth embodiment of the present invention, the fourth layer 564 made of the organic material is spaced apart from the first, second, and third pixel regions P1, P2, and P3 and has different thicknesses A third layer 563 and a fifth layer 565 made of a low-resistance metal material are formed on the lower and upper portions of the fourth layer 564 with the pixel regions P1, P2, P3, that is, the fourth layers 564a, 564b, and 564c that are spaced apart from each other.

이때, 상기 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3)별로 분리되어 서로 다른 두께를 가지며 형성된 제 4 층(564a, 564b, 564c)은 파장이 상대적으로 긴 적색을 발광하는 유기 발광층(555a)이 구비된 제 1 화소영역(P1)에 대응하는 부분이 가장 두꺼운 제 1 두께를 가지며, 파장이 가장 짧은 청색을 발광하는 유기 발광층(555c)이 구비된 제 3 화소영역(P3)에 대응하는 부분이 가장 얇은 제 2 두께를 가지며, 녹색 유기 발광층이 구비된 제 2 화소영역에 대응하는 부분은 상기 제 1 두께보다는 얇고 상기 제 2 두께보다는 두꺼운 제 3 두께를 갖는 것이 특징이다.At this time, the fourth layers 564a, 564b, and 564c formed with different thicknesses for the first, second, and third pixel regions P1, P2, and P3 are formed in the organic light emitting layer 555a corresponding to the first pixel region P1 correspond to the third pixel region P3 having the thickest first thickness and the organic light emitting layer 555c emitting the shortest wavelength of blue light A portion corresponding to the second pixel region having the green organic light emitting layer is thinner than the first thickness and has a third thickness greater than the second thickness.

이때, 상기 제 4 층(564)은 400Å 내지 1200Å 정도의 두께를 갖는 것이 바람직하다.At this time, the fourth layer 564 preferably has a thickness of about 400 Å to 1200 Å.

한편, 상기 제 1 층(561)은 10Å 내지 50Å 정도의 두께를 가지며, 상기 제 2 층 내지 제 6 층(562, 563, 564, 565, 566)으로 이루어진 5중층의 총 두께는 1000Å 내지 2500Å 정도가 되며, 이중 저저항 금속물질로 이루어진 제 3 층(563)과 제 5 층(565)은 그 두께가 각각 150Å 내지 400Å 정도가 되는 것이 바람직하다. The total thickness of the fifth layer composed of the second to sixth layers 562, 563, 564, 565 and 566 is about 1000 to 2500 angstroms And the third layer 563 and the fifth layer 565 made of the double low resistance metal material have a thickness of about 150 Å to about 400 Å, respectively.

이렇게 유기물질로 이루어진 제 4 층(564)을 적, 녹, 청색을 발광하는 유기 발광층(555a, 555b, 555c)이 각각 구비된 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3)별로 다른 두께를 갖도록 형성한 것은 제 4 실시예를 통해 설명한 바와같이 발광된 빛의 투과도를 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3) 모두에서 향상시키며, 이를 통해 제 3 층(563)과 제 5 층(565)의 두께를 400Å 정도의 두께로 형성함으로써 상기 제 2 전극(557)의 면 저항을 1Ω/□ 내지 3Ω/□정도 수준이 되도록 하기 위함이다. The fourth layer 564 made of the organic material is divided into the first, second and third pixel regions P1, P2, and P3 provided with the organic light emitting layers 555a, 555b, and 555c emitting red, The thickness of the third layer 563 and the second layer 563 are improved by improving the transmittance of the emitted light in the first, second and third pixel regions P1, P2 and P3 as described in the fourth embodiment. The thickness of the fifth layer 565 is set to about 400 ANGSTROM so that the surface resistance of the second electrode 557 is about 1? /? To 3? / ?.

이러한 구성적 특징을 갖는 본 발명의 제 5 실시예에 따른 유기전계 발광소자 또한 저저항 금속물질로 이루어진 제 3 층(563) 및 제 5 층(565)에 있어 상기 제 4 층(564)과 중첩하는 부분의 두께를 각각 300Å 내지 400Å 정도가 되어도 형성하더라도 투과도 측면에서는 제 2 층 내지 제 5 층(562, 563, 564, 565, 566)이 각 화소영역(P1, P2, P3)별로 두께차 없이 IZO/Ag/IZO/Ag/IZO의 구조를 갖는 유기전계 발광소자의 투과도와 비슷한 수준이 되는 것이 특징이다.The organic electroluminescent device according to the fifth embodiment of the present invention having such a constitutional feature also overlaps the fourth layer 564 in the third layer 563 and the fifth layer 565 made of a low- The second layer to the fifth layer 562, 563, 564, 565, and 566 are formed in a thickness-wise manner for each pixel region P1, P2, and P3 in terms of transmittance IZO / Ag / IZO / Ag / IZO having a structure similar to that of the organic electroluminescent device having the structure of IZO / Ag / IZO / Ag / IZO.

따라서 이러한 본 발명의 제 5 실시예에 따른 유기전계 발광소자는 일정 수준의 투과도를 유지하면서도 저저항 금속물질로 이루어진 제 3 층(563) 및 제 5 층(565)의 상기 제 4 층(564)과 중첩하는 부분의 두께를 400Å 정도까지 형성할 수 있으므로 제 2 전극(557) 자체의 면저항이 1Ω/□ 내지 3Ω/□정도로 낮은 수준을 유지할 수 있음으로서 대면적화에 유리한 구성이 되는 것이 특징이다.Accordingly, the organic light emitting device according to the fifth embodiment of the present invention may include a third layer 563 made of a low-resistance metal material and a fourth layer 564 of the fifth layer 565 while maintaining a certain level of transmittance, The sheet resistance of the second electrode 557 itself can be maintained at a level as low as 1? /? To 3? /?, Which is advantageous in the large-sized configuration.

도 12는 본 발명의 제 5 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 제 2 전극의 제 4 층의 두께를 800Å 내지 1200Å를 갖도록 변화시키며 투과도를 측정한 그래프이다. 이때, 제 1 비교예로서 캐소드로서의 역할을 하는 제 1 층 이외에 제 2 층 내지 4층이 IZO 400Å/Ag 250Å/IZO 400Å의 구성을 갖는 것과, 제 2 비교예로서 제 2 층 내지 제 6 층이 IZO 400Å/Ag 250Å/IZO 800Å/Ag 250Å/IZO 400Å의 구성을 갖는 것과, 제 3 실시예로서 제 2 비교예로서 제 2 층 내지 제 6 층이 IZO 400Å/Ag 250Å/IZO 400Å/Ag 250Å/IZO 400Å의 구성을 이루는 유기전계 발광소자의 투과도도 함께 도시하였다.FIG. 12 is a graph showing transmittance of a fourth electrode of a second electrode of an organic electroluminescent device according to a fifth embodiment of the present invention, in which the thickness of the fourth electrode is changed to 800 ANGSTROM to 1200 ANGSTROM. In this case, as a first comparative example, in addition to the first layer serving as a cathode, the second to fourth layers have a structure of IZO 400 Å / Ag 250 Å / IZO 400 Å, and the second to sixth layers IZO 400 Å / Ag 250 Å / IZO 800 Å / Ag 250 Å / IZO 400 Å, and as a second comparative example, the second to sixth layers have a composition of IZO 400 Å / Ag 250 Å / IZO 400 Å / Ag 250 Å / The transmittance of the organic EL device having the IZO 400 ANGSTROM structure is also shown.

도시한 바와 같이, 제 4 층을 각각 유기물질로서 일례로 800Å, 1000Å, 1200Å의 두께로 형성하는 경우, 청, 녹, 적색을 나타내는 파장대인 470nm, 550nm, 630nm 근방에서 각각 투과도가 0.78, 0.7, 0.68 정도인 피크치를 이룸을 알 수 있다. As shown in the figure, when the fourth layer is formed as an organic material, for example, 800 Å, 1000 Å and 1200 Å, transmittances of 0.78, 0.7, and 0.7 are obtained at wavelengths of 470 nm, 550 nm, and 630 nm, 0.67, respectively.

따라서, 적, 녹, 청색을 발광하는 제 1, 2, 3 화소영역(P1, P2, P3)별로 제 4 층의 두께를 달리하여 즉, 적색을 발광하는 제 1 화소영역에서는 1200Å 정도의 두께를 갖도록, 녹색을 발광하는 제 2 화소영역에서는 1000Å 정도의 두께를 갖도록, 그리고 청색을 발광하는 제 3 화소영역에서는 800Å 정도의 두께를 갖도록 형성함으로써 최종 합산된 투과도는 0.58 이상이 됨을 알 수 있다. Therefore, the thickness of the fourth layer is different for each of the first, second, and third pixel regions P1, P2, and P3 emitting red, green, and blue light, that is, The second pixel region emitting green light has a thickness of about 1000 angstroms and the third pixel region emitting blue light has a thickness of about 800 angstroms so that the final summed transmittance is more than 0.58.

제 1 비교예의 경우는 470nm 내지 630nm 파장대 범위에서 0.4 내지 0.7 정도의 투과도를 가짐을 알 수 있으며, 제 2 실시예의 경우 470nm 내지 600nm 파장대 범위에서 0.4 정도의 투과도를 가짐을 알 수 있으며, 제 3 비교예의 경우는 470nm 내지 600nm 파장대 범위에서 0.1 내지 0.3 정도의 투과도를 가짐을 알 수 있다. It can be seen that the first comparative example has a transmittance of about 0.4 to 0.7 in the wavelength range of 470 nm to 630 nm and has a transmittance of about 0.4 in the wavelength range of 470 nm to 600 nm in the second embodiment, In the case of the example, it can be seen that the transmittance is about 0.1 to 0.3 in the wavelength range of 470 nm to 600 nm.

따라서, 본 발명의 제 5 실시예의 경우, 평균적인 투과도가 0.58이상이 되므로 제 2 전극이 캐소드 전극의 역할을 하는 제 1 층을 포함하여 총 4중층 구조를 갖는 제 1 비교예의 투과도 수준이 됨을 알 수 있으며, 총 6중층 구조를 갖는 제 3 비교예의 투과도 보다 훨씬 우수한 투과도를 가짐을 알 수 있다.
Therefore, in the case of the fifth embodiment of the present invention, the average transmittance is 0.58 or more, so that the second electrode is the transmittance level of the first comparative example having the total four-layer structure including the first layer serving as the cathode electrode And the transmittance is much better than that of the third comparative example having a total six-layered structure.

도 13 및 도 14는 각각 본 발명의 제 6 실시예 및 제 6 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자의 표시영역 일부에 대한 단면도로서, 일례로 제 2 전극이 4중층 구조를 갖는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 유기전계 발광소자의 상기 제 2 전극 위로 4중층 구조를 갖는 인캡슐레이션 막이 구비된 것을 도시하였으며, 설명의 편의를 위해 제 2 실시예에 도시된 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하였다.FIGS. 13 and 14 are cross-sectional views, respectively, of a display region of an organic electroluminescent device according to a modification of the sixth and sixth embodiments of the present invention. Layer structure is provided on the second electrode of the organic electroluminescent device according to the second embodiment. For convenience of explanation, the same components shown in the second embodiment are denoted by the same reference numerals Respectively.

이때, 본 발명의 제 6 실시예 및 이의 변형예에 따른 유기전계 발광소자에 있어 가장 특징적인 것은 제 2 전극 상부에 형성되는 인캡슐레이션을 위한 인캡슐레이션 막에 있으며, 상기 인캡슐레이션 막 하부에 위치하는 유기전계 발광 다이오드를 포함하는 모든 구성요소는 제 2 전극이 3중층 이상의 다중층 구조를 가지며 최상층이 투명 도전성 물질로 이루어진 것이 특징인 제 2 내지 제 5 실시예에 따른 유기전계 발광소자 중 어느 하나와 동일한 구성을 가지므로 인캡슐레이션 막을 위주로 설명한다. The organic electroluminescent device according to the sixth embodiment of the present invention and its modification is characterized in that it is an encapsulation layer for encapsulation formed on the second electrode, The organic electroluminescent device according to any one of the second to fifth embodiments is characterized in that the second electrode has a multilayer structure of a triple or more layer and the uppermost layer is made of a transparent conductive material. The encapsulation film is mainly described since it has the same configuration as any one.

우선 도 13을 참조하면, 본 발명의 제 6 실시예에 따른 유기전계 발광소자(601)는 유기전계 발광 다이오드(E)의 제 2 전극(257) 상부로 다중층 구조를 갖는 인캡슐레이션 막(772)이 구비되고 있는 것이 특징이다.Referring to FIG. 13, an organic electroluminescent device 601 according to a sixth embodiment of the present invention includes an encapsulation layer (not shown) having a multilayer structure on the second electrode 257 of the organic electroluminescent diode E 772 are provided.

이때, 이러한 인캡슐레이션 막(772)은 유기물질 더욱 정확히는 모노머 또는 폴리머로 이루어진 유기막(772a, 772c)과 무기절연물질로 이루어진 무기막(772b, 772d)이 순차 교대하는 형태로 4중층의 구조를 이루며 적층되고 있는 것이 특징이다. At this time, the encapsulation film 772 is formed of an organic material, more precisely, an organic film 772a or 772c made of a monomer or polymer and an inorganic film 772b or 772d made of an inorganic insulating material, Which are laminated together.

통상적으로 상기 인캡슐레이션 막은 유기막과 무기막이 교대하는 형태로 5중층 구조를 이루는 것이 일반적이다. Generally, the encapsulation layer generally has a five-layer structure in which an organic film and an inorganic film alternate.

하지만, 본 발명의 제 6 실시예에 따른 유기전계 발광소자(601)의 경우, 상기 제 2 전극(257)의 최상층(259c)이 투명 도전성 물질로 이루어지는 것이 특징이므로 이러한 구성적 특징을 반영하여 상기 인캡슐레이션 막(772)의 무기막(미도시)으로 이루어지는 최하층을 투명 도전성 물질로 이루어진 상기 제 2 전극(257)의 최상층(259c)으로 이용함으로써 유기막과 무기막이 교대하는 형태로 즉, 제 1 유기막(772a)/제 1 무기막(772b)/제 2 유기막(772c)/제 2 무기막(772d)의 4중층 구조를 갖도록 형성되는 것이 특징이다. However, since the uppermost layer 259c of the second electrode 257 is formed of a transparent conductive material in the organic electroluminescent device 601 according to the sixth embodiment of the present invention, The lowest layer made of the inorganic film (not shown) of the encapsulation film 772 is used as the uppermost layer 259c of the second electrode 257 made of a transparent conductive material so that the organic film and the inorganic film alternate Layer structure of the first organic film 772a / the first inorganic film 772b / the second organic film 772c / the second inorganic film 772d.

이러한 구조를 갖는 본 발명의 제 6 실시예에 따른 유기전계 발광소자(601)의 경우, 인캡슐레이션 막(772)이 4중층으로 이루어지는 것이 특징이므로 종래의 5중층으로 이루어지는 인캡슐레이션 막 대비 한 개의 층을 생략할 수 있으므로 제조 공정을 단순화하는 효과를 갖는다.In the case of the organic EL device 601 according to the sixth embodiment of the present invention having such a structure, since the encapsulation film 772 is formed of a quadruple layer, It is possible to omit the number of layers, thereby simplifying the manufacturing process.

한편 도 14를 참조하면, 제 6 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자(701)의 경우, 인캡슐레이션 막(772)은 다중층 구조를 갖는 상기 제 2 전극(257) 중 투명 도전성 물질로 이루어진 최상층(도 5의 259c)을 생략하고, 저저항 물질로 이루어진 저저항 물질층(도 5의 259b) 상에 제 1 무기막(772a)/제 1 유기막(772b)/제 2 무기막(772c)/제 2 유기막(772d)/제 3 무기막(772e)의 5중층 구조를 갖도록 형성되는 것이 특징이다. 14, in the case of the organic electroluminescent device 701 according to the modification of the sixth embodiment, the encapsulation film 772 is formed of a transparent conductive material among the second electrodes 257 having a multilayer structure The first inorganic film 772a / the first organic film 772b / the second inorganic film (not shown) is formed on the low-resistance material layer 259b of FIG. 5 by omitting the uppermost layer 259c 772c, a second organic film 772d, and a third inorganic film 772e.

이러한 제 6 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자(701)의 경우도 제 2 전극(257)의 투명 도전성 물질로 이루어지는 최상층(도 5의 259c)이 생략되며 5중층 구조를 이루는 인캡슐레이션 막(772)의 최하층인 제 1 무기막(772a)이 이를 대신함으로써 이 또한 제조 공정을 단순화하는 효과를 갖는다.In the case of the organic electroluminescent device 701 according to the modification of the sixth embodiment, the uppermost layer (259c in FIG. 5) made of the transparent conductive material of the second electrode 257 is omitted and an encapsulation layer The first inorganic film 772a which is the lowermost layer of the second insulating film 772 has the effect of simplifying the manufacturing process.

한편, 제 6 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자(701)의 경우, 유기전계 발광 다이오드(E)의 제 2 전극(257)이 투명 도전성 물질층과 저저항 물질층의 교대하며 3중층 이상의 다중층 구조를 이룸으로써 발생되는 투과율 향상의 효과를 저감시킬 수 있는 여지가 있지만, 이러한 본 발명의 제 6 실시예의 변형예에 따른 유기전계 발광소자(701)가 본 발명의 제 5 실시예에 따른 유기전계 발광소자(도 11 참조)를 통해 제시된 제 2 전극 내부에 청, 녹, 적색을 발광하는 제 1, 2, 3 화소영역(도 11의 P1, P2, P3)별로 서로 다른 두께를 갖는 유기물질로 이루어진 유기물질층(도 11의 564)이 개재된 경우 상기 유기물질층(도 11의 564)의 두께를 조절함으로써 투과율 향상을 저감시키는 요인을 방지할 수 있다.
In the case of the organic EL device 701 according to the modification of the sixth embodiment, the second electrode 257 of the organic electroluminescent diode E alternates between the transparent conductive material layer and the low-resistance material layer, The organic EL device 701 according to the modified example of the sixth embodiment of the present invention is not limited to the organic EL device according to the fifth embodiment of the present invention. 11), which are different in the first, second and third pixel regions (P1, P2, and P3 in FIG. 11) emitting blue, green and red light, are formed in the second electrode through the organic electroluminescent device When the organic material layer (564 in FIG. 11) is interposed, the thickness of the organic material layer (564 in FIG. 11) can be controlled to prevent a reduction in transmittance improvement.

본 발명은 전술한 실시예 및 변형예로 한정되지 않고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한도내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다. The present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications, and various modifications may be made without departing from the spirit of the present invention.

101 : 유기전계 발광소자 110 : 제 1 기판
113 : 반도체층 113a, 113b : 제 1 및 제 2 영역
116 : 게이트 절연막 120 : 게이트 전극
123 : 층간절연막 125 : 반도체층 콘택홀
133 : 소스 전극 136 : 드레인 전극
140 : 보호층 143 : 드레인 콘택홀
147 : 제 1 전극 147a : 제 1 층
147b : 제 2 층 150 : 뱅크
155 : 유기 발광층 155a : 정공주입층
155b : 정공수송층 155c : 유기 발광 물질층
155d : 전자수송층 155e : 전자주입층
158 : 제 2 전극 158a : (제 2 전극의)하부층
158b : (제 2 전극의)상부층
DA : 구동영역 DTr : 구동 박막트랜지스터
P : 화소영역
101: organic electroluminescent device 110: first substrate
113: semiconductor layers 113a and 113b: first and second regions
116: gate insulating film 120: gate electrode
123: interlayer insulating film 125: semiconductor layer contact hole
133: source electrode 136: drain electrode
140: protective layer 143: drain contact hole
147: first electrode 147a: first layer
147b: second layer 150: bank
155: organic light emitting layer 155a: hole injection layer
155b: hole transport layer 155c: organic light emitting material layer
155d: electron transport layer 155e: electron injection layer
158: second electrode 158a: lower layer (of the second electrode)
158b: upper layer (of the second electrode)
DA: driving region DTr: driving thin film transistor
P: pixel area

Claims (27)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 다수의 화소영역을 갖는 표시영역이 정의된 제 1 기판과;
상기 제 1 기판 상의 상기 각 화소영역에 형성된 스위칭 박막트랜지스터 및 구동 박막트랜지스터와;
상기 스위칭 및 구동 박막트랜지스터를 덮으며 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키며 형성된 보호층과;
상기 보호층 위로 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접촉하며 형성된 제 1 전극과;
상기 제 1 전극의 가장자리와 중첩하며 상기 화소영역의 경계에 형성된 뱅크와;
상기 뱅크 내측으로 상기 제 1 전극 상부에 형성된 유기 발광층과;
상기 유기 발광층 및 상기 뱅크 상부로 상기 표시영역 전면에 형성되며, 제 1 금속으로 이루어진 제 1 두께의 제 1 층과, 상기 제 1 층 상부에 순차적으로 적층된 투명 도전성 산화물로 이루어진 제 1 투명 도전층과 저저항 금속물질로 이루어진 저저항 금속층과 투명 도전성 산화물로 이루어진 제 2 투명 도전층의 3중층으로 이루어진 제 1 세트층을 포함하는 제 2 전극
을 포함하고,
상기 유기 발광층으로부터 상기 제 2 전극을 향해 출사되는 빛을 이용하여 화상을 표시하는 유기전계 발광소자.
A first substrate on which a display region having a plurality of pixel regions is defined;
A switching thin film transistor and a driving thin film transistor formed in the respective pixel regions on the first substrate;
A protective layer covering the switching and driving thin film transistor and exposing a drain electrode of the driving thin film transistor;
A first electrode formed on the protective layer in contact with a drain electrode of the driving thin film transistor;
A bank formed on a boundary of the pixel region and overlapping an edge of the first electrode;
An organic light emitting layer formed on the first electrode inwardly of the bank;
A first transparent conductive layer formed on the organic light emitting layer and the bank, the first transparent conductive oxide being formed on the entire surface of the display region, the first layer having a first thickness made of a first metal, And a first set of three layers of a low resistance metal layer made of a low resistance metal material and a second transparent conductive layer made of a transparent conductive oxide,
/ RTI >
And an image is displayed using light emitted from the organic light emitting layer toward the second electrode.
제 8 항에 있어서,
상기 제 2 전극은 면저항이 1.9Ω/□ 내지 5Ω/□인 것이 특징인 유기전계 발광소자.
9. The method of claim 8,
And the second electrode has a sheet resistance of 1.9? /? To 5? / ?.
제 8 항에 있어서,
상기 제 2 전극은 상기 제 1 세트층 상부에 상기 제 1 세트층과 동일한 구성의 3중층으로 이루어진 제 2 세트층을 더 포함하는 유기전계 발광소자.
9. The method of claim 8,
Wherein the second electrode further comprises a second set layer formed of a triple layer having the same structure as the first set layer on the first set layer.
제 10 항에 있어서,
상기 제 2 전극은 면저항이 1Ω/□ 내지 2Ω/□인 것이 특징인 유기전계 발광소자.
11. The method of claim 10,
And the second electrode has a sheet resistance of 1? /? To 2? / ?.
제 8 항 또는 제 10 항에 있어서,
상기 제 1 층은 은(Ag), 마그네슘-은 합금(Mg:Ag), 금(Au), 마그네슘(Mg), 구리(Cu), 칼슘(Ca) 중 어느 하나로 이루어지며,
상기 제 1 및 제 2 투명 도전층은 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 이루어지며,
상기 저저항 금속층은 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu) 중 어느 하나로 이루어진 것이 특징인 유기전계 발광소자.
11. The method according to claim 8 or 10,
The first layer is made of any one of Ag, Mg, Ag, Mg, Cu,
The first and second transparent conductive layers are made of indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO)
Wherein the low resistance metal layer is made of one of silver (Ag), gold (Au), and copper (Cu).
제 10 항에 있어서,
상기 제 1 층은 10Å 내지 50Å의 두께를 가지며,
상기 제 1 및 제 2 세트층 각각은 400Å 내지 1000Å의 두께를 가지며, 상기 제 1 및 제 2 세트층 내부에 구비된 상기 저저항 금속층은 각각 그 두께가 150Å 내지 300Å인 것이 특징인 유기전계 발광소자.
11. The method of claim 10,
The first layer has a thickness of 10 A to 50 A,
Wherein each of the first and second set layers has a thickness of 400 ANGSTROM to 1000 ANGSTROM and the low resistance metal layer provided in the first and second set layers has a thickness of 150 ANGSTROM to 300 ANGSTROM, .
다수의 화소영역을 갖는 표시영역이 정의된 제 1 기판과;
상기 제 1 기판 상의 상기 각 화소영역에 형성된 스위칭 박막트랜지스터 및 구동 박막트랜지스터와;
상기 스위칭 및 구동 박막트랜지스터를 덮으며 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키며 형성된 보호층과;
상기 보호층 위로 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접촉하며 형성된 제 1 전극과;
상기 제 1 전극의 가장자리와 중첩하며 상기 화소영역의 경계에 형성된 뱅크와;
상기 뱅크 내측으로 상기 제 1 전극 상부에 형성되며 상기 화소영역별로 적, 녹, 청색을 각각 발광하는 유기 발광층과;
상기 유기 발광층 및 상기 뱅크 상부로 상기 표시영역 전면에 형성되며, 순차적으로 적층된 제 1 금속으로 이루어진 제 1 층과, 투명 도전성 산화물로 이루어진 제 2 층과, 저저항 금속물질로 이루어진 제 3 층과, 상기 투명 도전성 산화물 또는 유기물질로 이루어진 제 4 층과, 상기 저저항 금속물질로 이루어진 제 5 층 및 상기 투명 도전성 산화물로 이루어진 제 6 층의 6중층 구조로 이루어진 제 2 전극
을 포함하며, 상기 제 4 층은 상기 적, 녹, 청색을 발광하는 유기 발광층이 구비된 화소영역별로 그 두께를 달리하여 형성된 것이 특징인 유기전계 발광소자.
A first substrate on which a display region having a plurality of pixel regions is defined;
A switching thin film transistor and a driving thin film transistor formed in the respective pixel regions on the first substrate;
A protective layer covering the switching and driving thin film transistor and exposing a drain electrode of the driving thin film transistor;
A first electrode formed on the protective layer in contact with a drain electrode of the driving thin film transistor;
A bank formed on a boundary of the pixel region and overlapping an edge of the first electrode;
An organic light emitting layer formed on the first electrode in the bank and emitting red, green, and blue light for each pixel region;
A first layer made of a first metal formed on the entire surface of the display region on the organic light emitting layer and the bank, a second layer made of a transparent conductive oxide, a third layer made of a low resistance metal material, A fourth layer made of the transparent conductive oxide or organic material, a fifth layer made of the low-resistance metal material, and a sixth layer made of the transparent conductive oxide,
Wherein the fourth layer is formed to have a different thickness for each pixel region having the organic light emitting layer emitting red, green and blue light.
제 14 항에 있어서,
상기 제 4 층은 600Å 내지 1200Å의 두께를 가지며, 상기 청색을 발광하는 유기 발광층과 중첩하는 부분이 가장 얇은 두께를 가지며, 상기 적색을 발광하는 유기 발광층과 중첩하는 부분이 가장 두꺼운 두께를 갖는 것이 특징인 유기전계 발광소자.
15. The method of claim 14,
The fourth layer has a thickness of 600 ANGSTROM to 1200 ANGSTROM and the portion overlapping the organic light emitting layer emitting blue light has the thinnest thickness and the portion overlapping the organic light emitting layer emitting red light has the largest thickness Organic electroluminescent device.
제 14 항에 있어서,
상기 제 1 층은 10Å 내지 50Å의 두께를 가지며,
상기 저저항 금속물질로 이루어진 제 3 층 및 제 5 층은 각각 150Å 내지 400Å의 두께를 갖는 것이 특징인 유기전계 발광소자.
15. The method of claim 14,
The first layer has a thickness of 10 A to 50 A,
And the third layer and the fifth layer made of the low-resistance metal material each have a thickness of 150 ANGSTROM to 400 ANGSTROM.
제 14 항에 있어서,
상기 제 1 층은 은(Ag), 마그네슘-은 합금(Mg:Ag), 금(Au), 마그네슘(Mg), 구리(Cu), 칼슘(Ca) 중 어느 하나로 이루어지며,
상기 투명 도전성 산화물은 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)이며, 상기 유기물질은 포토아크릴, 벤조사이클로부텐 또는 상기 유기발광층을 이루는 물질 중 어느 하나이며,
상기 저저항 금속물질은 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu) 중 어느 하나로 이루어진 것이 특징인 유기전계 발광소자.
15. The method of claim 14,
The first layer is made of any one of Ag, Mg, Ag, Mg, Cu,
Wherein the transparent conductive oxide is indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO), and the organic material is any one of photoacryl, benzocyclobutene,
Wherein the low resistance metal material is one of silver (Ag), gold (Au), and copper (Cu).
제 14 항에 있어서,
상기 제 2 전극은 면저항이 1Ω/□ 내지 3Ω/□인 것이 특징인 유기전계 발광소자.
15. The method of claim 14,
And the second electrode has a sheet resistance of 1? /? To 3? / ?.
제 14 항에 있어서,
상기 제 4 층이 상기 유기물질로 이루어지는 경우 상기 제 4 층은 상기 각 화소영역의 경계에서 이격하며 형성되며, 상기 제 3 층과 상기 제 5층은 상기 각 화소영역의 경계에서 서로 접촉하도록 형성된 것이 특징인 유기전계 발광소자.
15. The method of claim 14,
The fourth layer is formed to be spaced apart from the boundary of each pixel region when the fourth layer is made of the organic material, and the third layer and the fifth layer are formed so as to contact each other at the boundaries of the pixel regions Organic electroluminescent device.
제 8 항, 제 10 항 및 제 14 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 스위칭 및 구동 박막트랜지스터는 p타입 박막트랜지스터가 되며, 상기 제 1 전극은 애노드 전극의 역할을 하며, 상기 제 2 전극은 캐소드 전극의 역할을 하는 것이 특징인 유기전계 발광소자.
The method according to any one of claims 8, 10 and 14,
Wherein the switching and driving thin film transistor is a p-type thin film transistor, the first electrode serves as an anode electrode, and the second electrode serves as a cathode electrode.
제 20 항에 있어서,
상기 제 1 전극은, 일 함수값이 높은 투명 도전성 물질인 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 이루어진 단일층 구조를 이루거나, 또는 상기 구동 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접촉하며 반사성이 우수한 금속물질인 알루미늄(Al), 알루미늄 합금(AlNd), 은(Ag) 중 어느 하나로 이루어진 제 1 층과, 상기 투명 도전성 물질로 이루어지며 상기 유기 발광층과 접촉하는 제 2 층으로 구성된 이중층 구조를 이루는 것이 특징인 유기전계 발광소자.
21. The method of claim 20,
The first electrode may have a single layer structure of indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO), which is a transparent conductive material having a high work function value, A first layer made of any one of aluminum (Al), aluminum alloy (AlNd), and silver (Ag) which is in contact with and has excellent reflectivity and a second layer made of the transparent conductive material and in contact with the organic light emitting layer Layer structure. ≪ IMAGE >
제 8 항, 제 10 항 및 제 14 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 제 1 기판에는 서로 교차하여 상기 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선과, 상기 데이터 배선과 나란하게 위치하는 전원배선이 형성되며, 상기 게이트 및 데이터 배선은 각각 상기 스위칭 박막트랜지스터의 게이트 전극 및 소스 전극과 연결되는 것이 특징인 유기전계 발광소자.
The method according to any one of claims 8, 10 and 14,
Wherein a gate wiring and a data wiring crossing each other and defining the pixel region are formed on the first substrate, and a power supply wiring arranged in parallel with the data wiring is formed, and the gate and the data wiring are respectively connected to the gate electrode and the data wiring of the switching thin- Wherein the source electrode is connected to the organic electroluminescent device.
제 8 항, 제 10 항 및 제 14 항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 제 1 기판에 대응하여 이와 마주하며 인캡슐레이션을 위한 투명한 제 2 기판이 구비된 것이 특징인 유기전계 발광소자.
The method according to any one of claims 8, 10 and 14,
And a second transparent substrate facing the first substrate and encapsulating the first substrate.
제 23 항에 있어서,
상기 제 2 기판은 상기 제 2 전극과 접촉하며 형성되며 무기막과 유기막이 교대하는 형태의 다중층 구조를 이루는 것이 특징인 유기전계 발광소자.
24. The method of claim 23,
Wherein the second substrate is formed in contact with the second electrode and has a multi-layer structure in which an inorganic film and an organic film alternate with each other.
제 24 항에 있어서,
상기 제 2 기판은 유기막/무기막/유기막/무기막의 4중층 구조를 이루는 것이 특징인 유기전계 발광소자.
25. The method of claim 24,
Wherein the second substrate has a four-layer structure of an organic film / an inorganic film / an organic film / an inorganic film.
제 24 항에 있어서,
상기 제 2 기판은 무기막/유기막/무기막/유기막/무기막의 5증층 구조를 이루며, 상기 제 2 기판과 접촉하는 상기 제 2 전극은 투명 도전성 산화물로 이루어진 최상층이 생략됨으로써 상기 제 2 기판은 제 2 전극의 저저항 물질로 이루어진 층과 접촉하는 것이 특징인 유기전계 발광소자.
25. The method of claim 24,
The second substrate has a five-layered structure of an inorganic film / an organic film / an inorganic film / an organic film / an inorganic film, and the second electrode contacting the second substrate is omitted from the uppermost layer made of a transparent conductive oxide, Is in contact with a layer of a low-resistance material of the second electrode.
제 24 항에 있어서,
상기 무기막은 산화알루미늄(Al2O3), 산화실리콘(SiO2), 질화실리콘(SiNx) 중 어느 하나로 이루어지며,
상기 유기막은 모노머 또는 폴리머로 이루어지는 것이 특징인 유기전계 발광소자.
25. The method of claim 24,
The inorganic film is made of any one of aluminum oxide (Al 2 O 3 ), silicon oxide (SiO 2 ), and silicon nitride (SiNx)
Wherein the organic film is made of a monomer or a polymer.
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