KR101764167B1 - Coating Composition For Protecting Wafers In Laser Scribing Process - Google Patents

Coating Composition For Protecting Wafers In Laser Scribing Process Download PDF

Info

Publication number
KR101764167B1
KR101764167B1 KR1020170012369A KR20170012369A KR101764167B1 KR 101764167 B1 KR101764167 B1 KR 101764167B1 KR 1020170012369 A KR1020170012369 A KR 1020170012369A KR 20170012369 A KR20170012369 A KR 20170012369A KR 101764167 B1 KR101764167 B1 KR 101764167B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
weight
parts
water
coating composition
present
Prior art date
Application number
KR1020170012369A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
박성균
박종보
Original Assignee
(주)엠티아이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)엠티아이 filed Critical (주)엠티아이
Priority to KR1020170012369A priority Critical patent/KR101764167B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101764167B1 publication Critical patent/KR101764167B1/en
Priority to PCT/KR2017/008796 priority patent/WO2018139725A1/en

Links

Images

Classifications

    • C09D7/125
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/65Additives macromolecular
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D129/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal, or ketal radical; Coating compositions based on hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D129/02Homopolymers or copolymers of unsaturated alcohols
    • C09D129/04Polyvinyl alcohol; Partially hydrolysed homopolymers or copolymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09D133/08Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D139/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D139/04Homopolymers or copolymers of monomers containing heterocyclic rings having nitrogen as ring member
    • C09D139/06Homopolymers or copolymers of N-vinyl-pyrrolidones
    • C09D7/1216
    • C09D7/1233
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/60Additives non-macromolecular
    • C09D7/61Additives non-macromolecular inorganic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/60Additives non-macromolecular
    • C09D7/63Additives non-macromolecular organic

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

The present invention provides a coating composition for protecting wafers, wherein the coating composition comprises with respect to 100 parts by weight of a high water-soluble polymer resin: 5-50 parts by weight of a polyurethane, a vinyl pyrrolidone/methacrylamide/vinyl imidazole copolymer, a vinyl pyrrolidone/vinyl alcohol copolymer, poly(vinyl acetate-co-crotonic acid), an aminoethylpropanediol-acrylate copolymer, or a mixture thereof; 1-10 parts by weight of a surfactant; 5-30 parts by weight of a hydrolysable silane compound; 10-30 parts by weight of a water-dispersible polyurethane dispersant; 3-10 parts by weight of nanoceramic particles; 3-10 parts by weight of a binder; and 50-150 parts by weight of a solvent. The coating composition for protecting wafers according to the present invention easily adheres to the surface of a wafer, and at the same time, improves adhesion, thereby protecting the wafer from being damaged upon laser scribing, and improves washability.

Description

레이저 스크라이빙 공정의 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물{Coating Composition For Protecting Wafers In Laser Scribing Process}Technical Field [0001] The present invention relates to a coating composition for protecting wafers in a laser scribing process,

본 발명은 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체를 제조하기 위한 레이저 스크라이빙 공정 중 웨이퍼 스크라이빙시 웨이퍼를 보호하는 동시에 세정성을 향상시키는 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물에 관한 것이다.
The present invention relates to a coating composition for protecting wafers, and more particularly, to a coating composition for protecting wafers, which protects wafers during wafer scribing and improves cleanability during laser scribing for manufacturing semiconductors.

현재 반도체 소자의 집적화 및 대구경화로 스트리트의 간격이 좁아지고 더욱 집적화되고 있는 추세이다. At present, the gap between streets becomes narrower due to integration and thickening of semiconductor devices, and is becoming more integrated.

일반적으로 이루어지는 블레이드에 의한 다이싱 공정은 생산성이나 범용성에는 우수한 특성을 가지나, 대구경화 및 집적화로 블레이드에 의한 손상이 발생하거나 생산 자체가 곤란하게 되는 문제점이 발생하고 있는 실정이다. Generally, the dicing process using a blade has excellent properties in terms of productivity and versatility, but problems such as damage due to blades due to large-scale curing and integration and difficulties in production itself occur.

이와 같은 문제점을 해결하기 위해, 레이저를 이용한 다이싱 공정이 개발되었다.In order to solve such a problem, a dicing process using a laser has been developed.

하지만 상기 레이저 다이싱 공정은 다이싱 중에 발생하는 자체 열에 의한 오염, 흄(fume) 및/또는 부스러기(debris)에 의한 오염 등으로 사용상에 많은 제약이 따른다는 문제점이 있다. However, the laser dicing process has a problem in that it is subject to many restrictions in use due to contamination due to self heat generated during dicing, fume and / or debris.

이에, 전술한 문제점을 극복하기 위하여 대한민국 특허출원 제10-2009-0095592호에는 폴리(2-에틸-2-옥사졸린)(Poly(2-Ethyl-2-Oxazoline)와 수용성 수지를 이용하여 열 안정성 및 접착력이 우수하며, 세정성이 좋은 코팅제 조성물을 개시하고 있지만, 이는 폴리(2-에틸-2-옥사졸린)의 특성상 특정 온도 이상에서 불투명하게 되는 특성과 낮은 수용해성으로 인해 조성물을 제조하는 것이 곤란하다는 문제점이 있다. In order to overcome the above-mentioned problems, Korean Patent Application No. 10-2009-0095592 discloses a poly (2-ethyl-2-oxazoline) and a water- (2-ethyl-2-oxazoline), it is difficult to prepare a composition due to the properties of being opaque at a certain temperature or above and low water solubility There is a problem that it is difficult.

또한, 대한민국 특허출원 제10-2015-0013315호에는 PVA(Polyvinylalcohol)에 적용되고 있는 글루타알데하이드(Glutaraldehyde)의 가교결합(Cross-linking)을 이용한 조성물이 개시되어 있지만, 이는 글루타알데하이드만으로 특성이 개질되었다고 보기는 어렵다는 문제점이 있다.Korean Patent Application No. 10-2015-0013315 discloses a composition using cross-linking of glutaraldehyde, which is applied to PVA (polyvinylalcohol), because glutaraldehyde alone has a characteristic It is difficult to say that it has been modified.

또한 대한민국 특허출원 제10-2005-0107577에는 수용성 수지에 레이저광 흡수제를 사용하여 보호막을 구성하였지만, 이들의 구성만으로 웨이퍼를 보호하는 것은 곤란하다는 문제점이 있다.In Korean Patent Application No. 10-2005-0107577, a protective film is formed by using a laser light absorbent for a water-soluble resin. However, there is a problem that it is difficult to protect the wafer only by these constitutions.

특히, 전술한 종래 기술들은 대부분이 수용성 고분자에 분산제, 가교제 또는 계면활성제를 분산시켜 사용하지만, 이러한 조성물이 제조되면 수용성 고분자 1종 또는 2종이 혼합되더라도 그 기능이 다소 약화되어 레이저의 열에 의한 웨이퍼 절단면에 가스가 발생하고, 이에 따라 보호막의 들뜸 현상이 발생하여, 그 틈 사이로 이물질들이 침적되는 문제점이 있고, 이로 인해 세정성이 감소하게 된다.Particularly, most of the above-mentioned conventional technologies use dispersing agents, crosslinking agents or surfactants dispersed in water-soluble polymers. However, when one or two water-soluble polymers are mixed, the function is somewhat weakened, So that the protective film is lifted up and foreign substances are deposited between the gaps. As a result, the cleaning property is reduced.

이와 같은 문제점을 극복하기 위해서는 웨이퍼 표면과 이를 보호하기 위한 코팅막(보호막) 사이의 접착성 및 밀착성이 매우 중요하다.
In order to overcome such a problem, adhesion and adhesion between the wafer surface and a coating film (protective film) for protecting the wafer surface are very important.

본 발명은 전술한 문제점을 극복하기 위해 창출된 것으로서, 웨이퍼 표면에 용이하게 접착하는 동시에, 밀착성을 향상시켜 레이져 스크라이빙 시 웨이퍼가 손상되는 것을 방지하고, 세정성을 향상시킬 수 있도록 하는 코팅제 조성물을 제공하고자 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to overcome the above-described problems, and it is an object of the present invention to provide a coating agent composition which can easily adhere to a wafer surface and improve adhesion, prevent wafer from being damaged during laser scribing, .

본 발명은The present invention

수용성 고분자 수지 100중량부를 기준으로, Based on 100 parts by weight of the water-soluble polymer resin,

폴리우레탄, 비닐피롤리돈/메타아크릴아마이드/비닐이미다졸 공중합체, 비닐피롤리돈/비닐알코올 공중합체, 폴리(비닐아세테이트-CO-크로토닉산), 아미노에틸프로판디올-아크릴레이트 공중합체 또는 이들의 혼합물 5 내지 50중량부;Polyvinyl pyrrolidone / vinyl alcohol copolymer, poly (vinyl acetate-CO-crotonic acid), aminoethyl propanediol-acrylate copolymer, polyvinyl pyrrolidone / methacrylamide / vinyl imidazole copolymer, 5 to 50 parts by weight of a mixture thereof;

계면활성제 1 내지 10중량부; 1 to 10 parts by weight of a surfactant;

가수분해 실란화합물 5 내지 30중량부;5 to 30 parts by weight of a hydrolyzed silane compound;

수분산 폴리우레탄 분산제 10 내지 30중량부; 10 to 30 parts by weight of a water-dispersed polyurethane dispersant;

나노세라믹입자 3 내지 10중량부;3 to 10 parts by weight of nano-ceramic particles;

바인더 3 내지 10중량부; 및 3 to 10 parts by weight of a binder; And

용매 50 내지 150중량부를 포함하는 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물을 제공한다.
And 50 to 150 parts by weight of a solvent.

본 발명에 따른 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물은 웨이퍼 표면에 용이하게 접착하는 동시에, 밀착성을 향상시켜 레이져 스크라이빙 시 웨이퍼가 손상되는 것을 방지하고, 세정성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.The coating composition for wafer protection according to the present invention has an effect of easily bonding to the surface of the wafer and improving the adhesiveness, thereby preventing the wafer from being damaged during laser scribing and improving the cleaning property.

도 1은 본 발명에 따른 실시예 1의 웨이퍼 표면을 측정한 결과이다.
도 2는 본 발명에 따른 실시예 2의 웨이퍼 표면을 측정한 결과이다.
도 3은 본 발명에 따른 실시예 3의 웨이퍼 표면을 측정한 결과이다.
도 4는 본 발명에 따른 비교예 1의 웨이퍼 표면을 측정한 결과이다.
Fig. 1 shows the result of measurement of the wafer surface of Example 1 according to the present invention.
2 shows the results of measurement of the wafer surface of Example 2 according to the present invention.
3 shows the results of measurement of the wafer surface of Example 3 according to the present invention.
4 shows the results of measurement of the wafer surface of Comparative Example 1 according to the present invention.

이하, 본 발명을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명은 수용성 고분자 수지 100중량부를 기준으로, 폴리우레탄, 비닐피롤리돈/메타아크릴아마이드/비닐이미다졸 공중합체, 비닐피롤리돈/비닐알코올 공중합체, 폴리(비닐아세테이트-CO-크로토닉산), 아미노에틸프로판디올-아크릴레이트 공중합체 또는 이들의 혼합물 5 내지 50중량부; 계면활성제 1 내지 10중량부; 가수분해 실란화합물 5 내지 30중량부; 수분산 폴리우레탄 분산제 10 내지 30중량부; 나노세라믹입자 3 내지 10중량부; 바인더 3 내지 10중량부; 및 용매 50 내지 150중량부를 포함하는 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물을 제공한다.
The present invention relates to a water-soluble polymeric resin composition comprising, based on 100 parts by weight of a water-soluble polymer resin, at least one member selected from the group consisting of polyurethane, vinylpyrrolidone / methacrylamide / vinylimidazole copolymer, vinylpyrrolidone / vinyl alcohol copolymer, Acid), aminoethyl propanediol-acrylate copolymer or mixtures thereof 5 to 50 parts by weight; 1 to 10 parts by weight of a surfactant; 5 to 30 parts by weight of a hydrolyzed silane compound; 10 to 30 parts by weight of a water-dispersed polyurethane dispersant; 3 to 10 parts by weight of nano-ceramic particles; 3 to 10 parts by weight of a binder; And 50 to 150 parts by weight of a solvent.

본 발명에 따른 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물은 도막(코팅층)을 형성하고자 하는 대상표면, 예를 들면 웨이퍼 표면에 코팅되어 도막을 형성시킴으로써, 레이저 스크라이빙 시 웨이퍼가 손상되는 것을 방지하고, 세정성을 향상시킬 수 있도록 하는 것으로서, 이러한 목적을 갖는 당업계의 통상적인 코팅제 조성물이라면 특별히 한정되지 않는다.The coating composition for protecting a wafer according to the present invention can prevent a wafer from being damaged during laser scribing and improve cleaning property by forming a coating film on a surface of a target to be coated (for example, a coating layer), for example, And is not particularly limited as long as it is a conventional coating composition in the art having such a purpose.

본 발명에 따른 수용성 고분자 수지는 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물에 포함되어 밀착도를 향상시키기 위한 것으로서, 이러한 목적을 갖는 당업계의 통상적인 수용성 고분자 수지라면 어떠한 것을 사용하여도 무방하다.The water-soluble polymer resin according to the present invention is included in the coating composition for protecting wafers to improve the degree of adhesion, and any water-soluble polymer resin in the art having such a purpose may be used.

바람직한 수용성 고분자 수지는 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈, 카르복시 메틸셀룰로오스, 폴리아크릴산 또는 이들의 혼합물을 포함한다.Preferred water soluble polymer resins include polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, carboxymethylcellulose, polyacrylic acid, or mixtures thereof.

이때, 상기 수용성 고분자 수지는 검화도 및 분자량에 따라 사용자가 그 함량 비율을 조절하여 코팅제 조성물의 기본물성 및 수용행성과 표면 밀착도를 조절할 수 있다.At this time, the water-soluble polymer resin can control the basic physical properties of the coating composition, the receiving planet and the surface adhesion by controlling the content ratio of the water-soluble polymer resin according to the degree of saponification and the molecular weight.

한편, 상기 수용성 고분자 수지 중 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈은 물에 대한 용해성이 좋으며, 코팅 대상인 웨이퍼와의 접착력도 상당히 우수하다.On the other hand, polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone in the water-soluble polymer resin have good solubility in water and have an excellent adhesion to a wafer to be coated.

또한, 상기 폴리비닐알코올은 검화도가 86 내지 90%인 것이 상대적인 사용성 및 적용성이 용이하고, 폴리비닐피롤리돈은 K-값(value)가 13 내지 130이고, 분자량의 평균값이 6,000 내지 2,000,000Da인 것으로 사용하는 것이 바람직하다.The polyvinyl alcohol has a degree of saponification of 86 to 90% and is easy to use and applicable. Polyvinylpyrrolidone has a K-value of 13 to 130 and an average molecular weight of 6,000 to 2,000,000 Da. ≪ / RTI >

특히, 본 발명에 따른 수용성 고분자 수지는 검화도와 분자량에 따라 물에 대한 용해도 및 용해된 이후의 수분산성과 경시변화에 따른 저장 안정성이 상이하므로, 각각 그 정도에 따라 사용자가 적절히 선택하여 사용하는 것을 추천한다.In particular, the water-soluble polymer resin according to the present invention differs in water solubility and water-dispersibility depending on saponification degree and molecular weight, and storage stability according to changes over time, so that the user appropriately selects and uses I recommend you.

본 발명에 따른 코팅제 조성물, 특정적으로 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물의 수용성 고분자 수지 외 나머지 성분들의 함량은 수용성 고분자 수지 100중량부를 기준으로 한다.The content of the components other than the water-soluble polymer resin of the coating composition according to the present invention, specifically the coating composition for protecting a wafer, is based on 100 parts by weight of the water-soluble polymer resin.

본 발명에 따른 폴리우레탄, 비닐피롤리돈/메타아크릴아마이드/비닐이미다졸 공중합체, 비닐피롤리돈/비닐알코올 공중합체, 폴리(비닐아세테이트-CO-크로토닉산), 아미노에틸프로판디올-아크릴레이트 공중합체 또는 이들의 혼합물은 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물의 접착성 및 세정성을 향상시키는 동시에 열적 안정성을 제공하기 위한 것으로서, 그 사용량은 수용성 고분자 수지 100중량부 기준으로 5 내지 50중량부를 사용하는 것이 좋다.Vinyl pyrrolidone / vinyl imidazole copolymers, vinyl pyrrolidone / vinyl alcohol copolymers, poly (vinyl acetate-CO-crotonic acid), aminoethyl propanediol- Acrylate copolymer or a mixture thereof is used for improving the adhesion and cleaning property of the wafer protective coating composition and providing thermal stability. The amount of the coating agent used is 5 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the water-soluble polymer resin good.

이때, 상기 공중합체, 예를 들면 폴리우레탄, 비닐피롤리돈/메타아크릴아마이드/비닐이미다졸 공중합체, 비닐피롤리돈/비닐알코올 공중합체, 폴리(비닐아세테이트-CO-크로토닉산), 아미노에틸프로판디올-아크릴레이트 공중합체 또는 이들의 혼합물은 수용성 고분자 수지와 함께 사용되면 물리적 특성, 예를 들면 접착성이 더욱 증가하게 된다.In this case, the above-mentioned copolymers such as polyurethane, vinylpyrrolidone / methacrylamide / vinylimidazole copolymer, vinylpyrrolidone / vinyl alcohol copolymer, poly (vinyl acetate-CO-crotonic acid) Aminoethyl propanediol-acrylate copolymers, or mixtures thereof, when used with water-soluble polymeric resins, further increases physical properties, such as adhesiveness.

한편, 일반적인 고분자 수지는 다른 고분자 수지와 함께 사용될 경우 고분자 수지가 본래 지니고 있던 특성을 일부 손실하고, 새로운 특성을 나타낼 수 있지만, 본 발명에 따른 코팅제 조성물의 경우, 수용성 고분자 수지와 공중합체를 함께 고온, 예를 들면 약 80℃ 이상의 온도에서 일정 시간 동안 가열처리할 경우 표면 접착성이 확연히 증가한다.On the other hand, when a polymer resin is used together with another polymer resin, the polymer resin may lose some of its inherent properties and exhibit new properties. However, in the case of the coating composition according to the present invention, , For example, at a temperature of about 80 캜 or more, the surface adhesiveness remarkably increases.

이에, 본 발명에 따른 수용성 고분자 수지와 공중합체 혼합물은 그 혼합 비율 및 중합시간에 따라 코팅 표면에서의 접착성과 강도가 변경될 수 있다.Thus, the water-soluble polymer resin and the copolymer mixture according to the present invention can change the adhesion and the strength on the coating surface depending on the mixing ratio and the polymerization time.

본 발명에 따른 계면활성제는 코팅제 조성물, 특정적으로 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물에 포함되어 세정성 및 평활성을 제공하기 위한 것으로서, 이러한 목적을 갖는 당업계의 통상적인 계면활성제라면 어떠한 것을 사용하여도 무방하지만, 바람직하게는 폴리에틸렌글리콜, 폴리옥시알킬렌글리콜, 폴리에톡시프로폭시알킬글리콜, 폴리옥시에틸렌알킬페놀에티르, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리프로필렌에틸렌프로필렌코폴리머 또는 이들의 혼합물을 사용하는 것이 좋고, 그 사용량은 수용성 고분자 수지 100중량부 기준으로 1 내지 10중량부인 것을 추천한다.The surfactant according to the present invention is contained in a coating composition, specifically a wafer protective coating composition to provide cleansing and smoothness. Any conventional surfactant having such a purpose may be used, It is preferable to use polyethylene glycol, polyoxyalkylene glycol, polyethoxypropoxyalkyl glycol, polyoxyethylene alkylphenol ethers, polyoxyethylene alkyl ethers, polypropylene ethylene propylene copolymers, or a mixture thereof, It is recommended that the amount thereof is 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the water-soluble polymer resin.

특히, 본 발명에 따른 계면활성제 외에 음이온 또는 양이온 계면활성제를 사용할 수도 있지만, 대부분의 음이온계 계면활성제가 황산염 또는 기타 염 성분에 의해, 그리고 양이온 계면활성제의 아민계에 의한 양이온성 때문에 웨이퍼나 금속을 부식시킬 가능성이 있으므로, 이를 사용하는 것은 추천하지 않는다.Particularly, besides the surfactant according to the present invention, anionic or cationic surfactants can be used. However, most of the anionic surfactants are used because of their cationic nature due to sulfates or other salts and cationic surfactants. It is not recommended to use it, as it is likely to corrode.

본 발명에 따른 가수분해 실란화합물은 내크랙성, 내화학성 등을 증가시키고, 열적안정성 및 기계적 물성을 향상시킬 뿐만 아니라, 후술하는 수분산 폴리우레탄 분산제의 미흡한 열적안정성 및 기계적 물성을 향상시키기 위한 것으로서, 이러한 목적을 갖는 당업계의 통상적인 가수분해 실란화합물이라면 어떠한 것을 사용하여도 무방하지만, 추천하기로는 알콕시실란, 실란옥사이드 또는 이들의 혼합물을 사용하는 것이 좋다.The hydrolyzed silane compound according to the present invention not only improves crack resistance, chemical resistance and the like, improves thermal stability and mechanical properties, but also improves thermal stability and mechanical properties of the water-dispersed polyurethane dispersant described later Any conventional hydrolyzed silane compound having such a purpose may be used, but it is recommended to use alkoxysilane, silane oxide or a mixture thereof.

바람직한 가수분해 실란화합물의 사용량은 특별히 한정되지 않지만, 추천하기로는 수용성 고분자 수지 100중량부를 기준으로 5 내지 30중량부인 것이 좋다.The amount of the preferred hydrolyzed silane compound to be used is not particularly limited, but is preferably 5 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the water-soluble polymer resin.

본 발명에 따른 수분산 폴리우레탄 분산제는 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물에 포함되어, 친환경적이면서도 부착성(G/L, GI, EGL 등), 내스크래취성, 내수성, 내한성, 내식성 및/또는 내화학성 등을 증가시키기 위한 것으로서, 이러한 목적을 갖는 당업계의 통상적인 수분산 폴리우레탄 분산제라면 어떠한 것을 사용하여도 무방하며, 그 사용량은 사용자의 선택에 따라 변경 가능하지만, 바람직하게는 수용성 고분자 수지 100중량부를 기준으로 10 내지 30중량부인 것이 좋다.The water-dispersed polyurethane dispersant according to the present invention is contained in a coating composition for a wafer protective coating to improve environmental friendliness and adhesion (G / L, GI, EGL etc.), scratch resistance, water resistance, cold resistance, corrosion resistance and / The water-dispersible polyurethane dispersant may be any conventional water-dispersible polyurethane dispersing agent having such a purpose. The amount of the water-dispersible polyurethane dispersant to be used may be changed according to the user's choice. Preferably, 100 parts by weight of the water- 10 to 30 parts by weight.

특정 양태로서, 본 발명에 따른 수분산 폴리우레탄 분산제는 프리고분자 수지, IPDI(isophorone diisocyante), MDI(methyl diisocyanate), polyol(polytetramethyleneglycol, polyhexamethylene adipate). DMPA(dimethylolpropionicacid), DMS(dimethylol sulfate) 또는 이들의 혼합물을 출발물질로 하여 NCO- 말단기를 갖는 프리고분자 수지를 제조한 뒤 촉매제, 예를 들면 DBTL 또는 DBTDL(dibutyltin dilaurate)와 중화제, 예를 들면 TEA(triethyl amine)와 사슬연장제 EDA(ethyl diamine)를 사용하여 제조할 수 있다.As a specific embodiment, the water-dispersed polyurethane dispersant according to the present invention may be a prepolymer resin, IPDI (isophorone diisocyante), MDI (methyl diisocyanate), polyol (polytetramethyleneglycol, polyhexamethylene adipate). A prepolymer resin having an NCO-terminal group is prepared by using DMPA (dimethylolpropionic acid), DMS (dimethylol sulfate) or a mixture thereof as a starting material, and then a catalyst such as DBTL or DBTDL (dibutyltin dilaurate) TEA (triethylamine) and chain extender EDA (ethyl diamine).

본 발명에 따른 나노세라믹 입자는 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물의 표면으로 부상하여 치밀하고 경도가 높은 표면을 형성하기 때문에, 수증기와 기타 기체, 액체의 투과를 방지함은 물론, 내습성, 내구성, 내후성, 내충격성, 내약품성이 향상된다.The nanoceramic particles according to the present invention float on the surface of the coating composition for wafer protection to form a dense and hard surface, thereby preventing the permeation of water vapor and other gases and liquids, as well as preventing moisture, durability, Impact resistance and chemical resistance are improved.

상기 나노세라믹 입자의 사용량은 수용성 고분자 수지 100중량부 기준으로 3 내지 10중량부인 것이 좋다.The amount of the nanoceramic particles used is preferably 3 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the water-soluble polymer resin.

바람직한 나노세라믹 입자는 실리콘카바이드, 알루미나, 실리카, 지르코니아-실리카, ZnO, TiO2 및/또는 CaCO3가 포함된다. Preferred nanoceramic particles include silicon carbide, alumina, silica, zirconia-silica, ZnO, TiO 2 and / or CaCO 3 .

이들 세라믹입자는 평균 입경이 나노미터 범위인 것이 바람직한데, 구체적으로 상기 실리콘카바이드의 평균 입경은 300 내지 500nm, 상기 알루미나의 평균 입경은 500 내지 1000nm, 상기 실리카의 평균 입경은 700 내지 1500nm, 상기 지르코니아-실리카의 평균 입경은 500 내지 1000nm, 상기 ZnO의 평균 입경은 500 내지 1000nm, 상기 TiO2의 평균 입경은 100 내지 300nm, 그리고 CaCO3의 평균 입경은 500 내지 1000nm인 것이 바람직하다.It is preferable that the average particle size of the ceramic particles is in the range of nanometers. Specifically, the average particle size of the silicon carbide is 300 to 500 nm, the average particle size of the alumina is 500 to 1000 nm, the average particle size of the silica is 700 to 1500 nm, -The average particle size of silica is 500-1000 nm, the average particle size of ZnO is 500-1000 nm, the average particle size of TiO 2 is 100-300 nm, and the average particle size of CaCO 3 is 500-1000 nm.

이 중에서도 실리콘카바이드는 천연광물로 존재하지 않으므로 인공적으로 합성하며, 고온에서의 화학적 안정성 및 내식성이 뛰어나고 높은 경도를 갖는다.Among them, silicon carbide does not exist as natural minerals, so it is synthesized artificially, has excellent chemical stability and corrosion resistance at high temperature, and has high hardness.

본 발명에 따른 바인더는 코팅제 조성물이 도포되는 대상면에 용이하게 도포되도록 하는 것으로서, 이러한 용도로 사용되는 당업계의 통상적인 바인더라면 어떠한 것을 사용하여도 무방하다.The binder according to the present invention allows the coating composition to be easily applied to a surface to be coated, and any binder common in the art to be used for such a purpose can be used.

바림직한 바인더는 열가소성수지, 열경화형수지, 광경화형수지, 실란컴파운드, 티타늄컴파운드, 고분자 공중합체, 자기조립형수지 또는 이들로부터 선택된 적어도 하나 이상의 혼합물을 사용할 수 있지만, 보다 구체적으로 멜라민 수지, 알키드 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 페놀 수지, 에폭시 수지, 실리콘 수지 또는 이들로부터 선택되는 적어도 하나 이상의 혼합물을 사용할 수도 있고, 그 사용량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 고분자 수지 100중량부 기준으로 3 내지 10중량부인 것이 좋다.The binder to be applied may be a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a photocurable resin, a silane compound, a titanium compound, a polymer copolymer, a self-assembled resin or a mixture of at least one selected from the foregoing. More specifically, a melamine resin, , An unsaturated polyester resin, a phenol resin, an epoxy resin, a silicone resin, or a mixture of at least one selected from these may be used, and the amount thereof to be used is not particularly limited, but it is preferably 3 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer resin good.

본 발명에 따른 용매는 당업계에서 통상적으로 사용되는 용제라면 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 알코올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸락테이트 또는 이들의 혼합물을 사용하는 것이 좋고, 그 사용량은 수용성 고분자 수지 100중량부를 기준으로 50 내지 150중량부인 것이 좋다.The solvent according to the present invention is not particularly limited as long as it is a solvent commonly used in the art, but it is preferable to use alcohol, propylene glycol monomethyl ether, ethyl lactate or a mixture thereof, And 50 to 150 parts by weight based on 100 parts by weight.

특정 양태로서, 본 발명에 따른 코팅제 조성물, 특정적으로 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물은 셀프 레벨링(자기충전성능)을 개선하기 위하여 수용성 고분자 수지 100중량부를 기준으로 0.5 내지 5중량부의 표면평활제를 더 포함할 수 있다.In a particular embodiment, the coating composition according to the invention, in particular the wafer protective coating composition, further comprises 0.5 to 5 parts by weight of a surface smoothing agent based on 100 parts by weight of the water-soluble polymer resin in order to improve self-leveling .

상기 표면평활제로 바람직한 것은 변성 스타치에테르(Modified Starch ether), 폴리옥사이드계, 우레탄계 및 폴리카본산계 중에서 선택된 어느 하나 이상이 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니며, 당업계에서 통상적으로 사용되는 종류가 사용될 수 있다.The surface smoothing agent may be one or more selected from the group consisting of modified starch ether, polyoxide, urethane and polycarboxylic acid, but is not limited thereto. Can be used.

다른 특정 양태로서, 본 발명에 따른 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물은 코팅제 조성물의 사용을 용이하게 하기 위해 점도를 조정하는 증점제를 수용성 고분자 수지 100중량부 기준으로 1 내지 20중량부 더 포함할 수 있다.In another specific embodiment, the coating composition for protecting a wafer according to the present invention may further contain 1 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the water-soluble polymer resin, of a thickener for adjusting the viscosity to facilitate the use of the coating composition.

바람직한 증점제로는 하이드록시 에틸 셀룰로오스(HydroxyEthyl Cellulose), 소수성 우레탄변성계 증점제 또는 이들의 혼합물을 사용하는 것을 추천한다.As a preferred thickening agent, it is recommended to use hydroxyethyl cellulose, a hydrophobic urethane modifier thickener, or a mixture thereof.

여기서, 상기 증점제로 사용되는 하이드록시 에틸 셀룰로오스는 보수성을 가질 수 있다.Here, the hydroxyethyl cellulose used as the thickener may have water retention property.

또 다른 특정 양태로서, 본 발명에 따른 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물은 구성성분들 간의 혼합물 원활하게 수행하기 위하여 수용성 고분자 수지 100중량부 기준으로 5 내지 30중량부의 가소제를 더 포함할 수 있다.In another specific embodiment, the coating composition for protecting a wafer according to the present invention may further comprise 5 to 30 parts by weight of a plasticizer based on 100 parts by weight of the water-soluble polymer resin in order to smoothly perform a mixture between the components.

바람직한 가소제는 테레프탈산 금속염, 스테아린산 금속염, 석유수지, 저분자량 폴리에틸렌 및 저분자량 폴리아미드로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 추천한다.Preferred plasticizers are selected from the group consisting of terephthalic acid metal salts, stearic acid metal salts, petroleum resins, low molecular weight polyethylenes and low molecular weight polyamides.

또 다른 특정 양태로서, 본 발명에 따른 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물은 연행공기의 발생으로 인한 공기량의 증가를 감소시키기 위하여 수용성 고분자 수지 100중량부를 기준으로 0.5 내지 5중량부의 소포제를 더 포함할 수 있다.In another specific embodiment, the coating composition for protecting a wafer according to the present invention may further include 0.5 to 5 parts by weight of an antifoaming agent based on 100 parts by weight of the water-soluble polymer resin in order to reduce an increase in the amount of air due to the generation of entrained air.

바람직한 소포제로는 등유, 파라핀, 미네랄오일, 에탄올합성오일 등과 같은 광유계 소포제, 동식물유, 참기름, 피마자유와 이들의 알킬렌옥사이드 부가물 등과 같은 유지계 소포제, 올레인산, 스테아린산과 이들의 알킬렌옥사이드 부가물 등과 간은 지방산계 소포제, 글리세린모노리시놀레이트, 알케닐호박산 유동체, 솔비톨모노라울에이트, 솔비톨트리올레이트, 천연 왁스 등과 같은 지방산 에스테르계 소포제, 폴리옥시알킬렌류, (폴리)옥시알킬에테르류, 아세틸렌에테르류, (폴리)옥시알킬렌알킬인산에스테르류, (폴리)옥시알킬렌알킬아민류,(폴리)옥시알킬렌아미드 등과 같은 옥시알킬렌계 소포제, 옥틸알콜, 헥사데실알콜, 아세틸렌알콜, 글리콜류 등과 같은 알콜계 소포제, 아크릴레이트폴리아민 등과 같은 아미드계 소포제, 인산트리부틸, 나트륨옥틸포스페이트 등과 같은 인산에스테르계 소포제, 알루미늄스테아레이트, 칼슘올레이트 등과 같은 금속비누계 소포제, 디메틸실리콘유, 실리콘 페이슷, 실리콘 에멀젼, 유기변성 폴리실록산(디메틸폴리실록산 등의 폴리오르가노실록산). 플루오로실리콘유 등과 같은 실리콘계 소포제로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상이 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Preferred defoaming agents include mineral oil defoaming agents such as kerosene, paraffin, mineral oil and ethanol synthetic oil, retention defoaming agents such as animal and vegetable oils, sesame oil, castor oil and their alkylene oxide adducts, oleic acid, stearic acid and their alkylene oxides Fatty acid ester defoaming agents such as glycerin monolysinolate, alkenyl succinic acid liquid, sorbitol monolaurate, sorbitol trioleate, and natural wax, polyoxyalkylene, (poly) oxyalkyl ether Oxyalkylene antifoaming agents such as (poly) oxyalkylene alkylphosphoric acid esters, (poly) oxyalkylene alkylamines and (poly) oxyalkylene amides, octyl alcohol, hexadecyl alcohol, acetylene alcohol, Alcohol-based defoaming agents such as glycols, amide-based defoaming agents such as acrylate polyamines, tributyl phosphate, Octyl phosphoric acid ester base defoaming agents, such as phosphate, aluminum stearate, calcium oleate (polyorganosiloxanes such as dimethyl polysiloxane), metal soap-based defoaming agent, dimethyl silicone oil, silicone, pay seut, silicone emulsions, organic modified polysiloxanes such as. And silicone-based antifoaming agents such as fluorosilicone oil, etc., but is not limited thereto.

또 다른 특정 양태로서, 본 발명에 따른 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물은 강고한 밀착성, 코팅 도막의 내수성, 투수성, 산소투과성, 이온투과성, 전기절연성, 내약품성, 기계적 특성(탄성, 유리전이온도, 응력완화) 등을 제공하기 위하여 수용성 고분자 수지 100중량부 기준으로 아크릴 에멀젼 수지 10 내지 40중량부를 더 포함할 수 있다. In another specific embodiment, the coating composition for protecting a wafer according to the present invention is characterized in that the coating composition for protecting a wafer has a high adhesion, a water resistance, a water permeability, an oxygen permeability, an ion permeability, an electrical insulating property, a chemical resistance, ) And the like, 10 to 40 parts by weight of the acrylic emulsion resin may be further added based on 100 parts by weight of the water-soluble polymer resin.

바람직한 아크릴 에멀젼 수지로는 모노머(2-에틸헥실아크릴레이트), 2- 하이드로에틸메타아크릴레이트, AN(acrylonitrile), 부틸 아크릴레이트(Butyl acrylate), 메타크릴산/메틸메타아크릴레이트(methacrylic acid, methylmethacrylate), SM(styrene monomer), 디아세톤 아크릴아미드(Diacetone acrylamide), 이소부틸메타아크릴레이트, 2-에틸헥실메타아크릴레이트, 2-하이드로에틸아크릴레이트, 2-하이드로프로필아크릴레이트 또는 이들의 혼합물을 사용하는 것이 좋다.Preferred acrylic emulsion resins include monomers such as 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroethylmethacrylate, AN, acrylonitrile, butyl acrylate, methacrylic acid, methylmethacrylate ), SM (styrene monomer), diacetone acrylamide, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate or a mixture thereof It is good to do.

또 다른 특정 양태로서, 본 발명에 따른 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물은 코팅층을 형성하고자 하는 대상면으로부터 쉽게 박리되는 것을 방지하기 위해 박리방지제를 더 포함할 수 있다.In another specific embodiment, the coating composition for protecting a wafer according to the present invention may further comprise an anti-peeling agent to prevent the coating layer from being easily peeled off from the object surface to be formed.

바람직한 박리방지제는 폴리인산계, 아민계, 또는 인산 에스테르계 박리방지제를 사용하는 것이 좋다.As the preferable peeling inhibitor, it is preferable to use a polyphosphoric acid type, an amine type, or a phosphoric acid ester type peeling inhibitor.

특정적으로, 상기 박리방지제는 액상형으로 비중이 1.0 이상이고 60℃ 점도가 110 cPs인 폴리인산계 박리방지제; 산가가 10 ㎎KOH/g 이하이고, 총 아민가가 140 내지 400㎎HCl/g인 아민계 박리방지제일 수 있다.Specifically, the anti-peeling agent is a liquid phase anti-peeling agent having a specific gravity of 1.0 or more and a viscosity at 60 DEG C of 110 cPs; The acid value is 10 mgKOH / g or less, and the total amine value is 140 to 400 mg HCl / g.

바람직한 박리방지제의 사용량은 수용성 고분자 수지 100중량부 기준으로 10 내지 30중량부인 것을 추천한다.The amount of the anti-peeling agent is preferably 10 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the water-soluble polymer resin.

또 다른 특정 양태로서, 본 발명에 따른 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물은 테트라에틸렌펜타민(Tetraethylenepentamine; TEPA)을 수용성 고분자 수지 100중량부를 기준으로 2 내지 8중량부로 더 포함할 수 있는데, 테트라에틸렌펜타민은 폴리아민의 일종으로서, 보호 코팅제 조성물의 경화속도 및 점도 조절의 역할을 하며, 그 사용량이 2중량부 이하 일 때는 효과가 미미하며, 8중량부 이상일 경우에는 그 양이 과도하여 경제적이지 못하다. In another specific embodiment, the coating composition for protecting a wafer according to the present invention may further comprise 2 to 8 parts by weight of tetraethylenepentamine (TEPA) based on 100 parts by weight of a water-soluble polymer resin, wherein the tetraethylenepentamine is a polyamine And has a role of controlling the curing speed and viscosity of the protective coating composition. When the amount is less than 2 parts by weight, the effect is insignificant. When the amount is more than 8 parts by weight, the amount is excessive and is not economical.

또 다른 특정 양태로서, 본 발명에 따른 보호 코팅제 조성물은 접착성을 향상시키기 위하여 옥틸트리에톡시실란을 더 포함할 수 있다.In another specific embodiment, the protective coating composition according to the present invention may further comprise octyltriethoxysilane to improve adhesion.

상기 옥틸트리에톡시실란은 단량체 형태로 사용 가능하며, 상기 단량체의 분자량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직하게는 150 내지 450Da인 것이 좋고, 그 사용량은 고분자 수지 100중량부를 기준으로 1 내지 10중량부인 것을 추천한다.The octyltriethoxysilane may be used in the form of a monomer. The molecular weight of the monomer is not particularly limited, but is preferably 150 to 450 Da, and the amount of the octyltriethoxysilane used is 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer resin .

또 다른 특정 양태로서, 본 발명에 따른 보호 코팅제 조성물은 실온에서 효과적으로 경화하고 내열성, 저온 성능, 내화학성, 내용매성 및 내유성과 같은 개선된 특성을 제공하기 위하여 아미노기 함유 실록산(Aminofunctional siloxan)을 더 포함할 수 있다.In another specific embodiment, the protective coating composition according to the present invention further comprises an amino-functional siloxane to effectively cure at room temperature and to provide improved properties such as heat resistance, low temperature performance, chemical resistance, solvent resistance and oil resistance can do.

상기 아미노 함유 실록산은 특별히 제한되는 것은 아니며, 일례로서 아미노메틸폴리디메틸실록산을 들 수 있으며, 그 사용량은 수용성 고분자 수지 100중량부를 기준으로 3 내지 10중량부인 것을 추천한다.
The amino-containing siloxane is not particularly limited, and examples thereof include aminomethylpolydimethylsiloxane. The amount of the amino-containing siloxane used is preferably 3 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the water-soluble polymer resin.

이하에서 실시예를 통하여 본 발명을 구체적으로 설명하기로 한다. 그러나 하기의 실시예는 오로지 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로 이들 실시예에 의해 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples. However, the following examples are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the present invention.

[실시예 1][Example 1]

폴리비닐알코올 100g, 폴리우레탄 15g, 폴리에틸렌글리콜 5g, 알콕시실란 15g, IPDI(isophorone diisocyante)를 출발물질로 하여 NCO- 말단기를 갖는 프리고분자 수지를 제조한 뒤 DBTDL(dibutyltin dilaurate)와 TEA(triethyl amine)와 EDA(ethyl diamine)를 사용하여 제조한 수분산 폴리우레탄 분산제 15g, 평균 입경이 약 400nm인 실리콘카바이드 5g, 알키드 수지 5g, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 100g을 혼합하여 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물을 제조하였다.
A prepolymer resin having an NCO-terminal group was prepared by using 100 g of polyvinyl alcohol, 15 g of polyurethane, 5 g of polyethylene glycol, 15 g of alkoxysilane and IPDI (isophorone diisocyante) as starting materials. Then, DBTDL (dibutyltin dilaurate) and TEA ) And EDA (ethyl diamine), 5 g of silicon carbide having an average particle size of about 400 nm, 5 g of an alkyd resin and 100 g of propylene glycol monomethyl ether were mixed to prepare a coating composition for protecting a wafer.

[실시예 2][Example 2]

실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 폴리우레탄 15g 대신 비닐피롤리돈/메타아크릴아마이드/비닐이미다졸 공중합체 15g을 사용하여 실시하였다.
The procedure of Example 1 was repeated except that 15 g of polyurethane was replaced by 15 g of vinylpyrrolidone / methacrylamide / vinylimidazole copolymer.

[실시예 3][Example 3]

실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 폴리우레탄 15g 대신 아미노에틸프로판디올-아크릴레이트 공중합체 15g을 사용하여 실시하였다.
Was carried out in the same manner as in Example 1 except that 15 g of aminoethylpropane diol-acrylate copolymer was used instead of 15 g of polyurethane.

[실시예 4][Example 4]

실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 변성 스타치에테르 3g을 더 부가하여 실시하였다.
The procedure of Example 1 was repeated, except that 3 g of modified starch ether was further added.

[실시예 5][Example 5]

실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 하이드록시 에틸 셀룰로오스 10g을 더 부가하여 실시하였다.
The procedure of Example 1 was repeated except that 10 g of hydroxyethylcellulose was further added.

[실시예 6][Example 6]

실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 테레프탈산 금속염 20g을 더 부가하여 실시하였다.
The procedure of Example 1 was repeated except that 20 g of terephthalic acid metal salt was further added.

[실시예 7][Example 7]

실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 미네랄오일 3g을 더 부가하여 실시하였다.
The same procedure as in Example 1 was carried out except that 3 g of mineral oil was further added.

[실시예 8][Example 8]

실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 모노머(2-에틸헥실아크릴레이트) 20g을 더 부가하여 실시하였다.
The procedure of Example 1 was repeated except that 20 g of monomer (2-ethylhexyl acrylate) was further added.

[실시예 9][Example 9]

실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 비중이 1.0 이상이고 60℃ 점도가 110 cPs인 폴리인산계 박리방지제 15g을 더 부가하여 실시하였다.
15 g of a polyphosphoric acid peeling inhibitor having a specific gravity of 1.0 or more and a viscosity at 60 ° C of 110 cPs was further added in the same manner as in Example 1.

[실시예 10][Example 10]

실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 테트라에틸렌펜타민 4g을 더 부가하여 실시하였다.
The procedure of Example 1 was repeated except that 4 g of tetraethylenepentamine was further added.

[실시예 11][Example 11]

실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 약 300Da의 분자량을 갖는 옥틸트리에톡시실란 5g을 더 부가하여 실시하였다.
5 g of octyltriethoxysilane having a molecular weight of about 300 Da was further added in the same manner as in Example 1.

[실시예 12][Example 12]

실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 아미노메틸폴리디메틸실록산 7g을 더 부가하여 실시하였다.
The procedure of Example 1 was repeated, except that 7 g of aminomethyl polydimethylsiloxane was further added.

[비교예 1][Comparative Example 1]

실시예 1과 동일한 방법으로 실시하되, 폴리우레탄 15g을 제외하여 실시하였다.
The procedure of Example 1 was repeated except that 15 g of polyurethane was excluded.

[실 험][Experiment]

실시예 1 내지 실시예 3 및 비교예 1에 따라 제조된 코팅제 조성물을 CSM Instruments(Anton Paar)사 MST(Micro Scratch Tester)로 웨이퍼 표면을 측정하였다.The coating compositions prepared according to Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were measured on a wafer surface with an MST (Micro Scratch Tester) manufactured by CSM Instruments (Anton Paar).

그 결과를 도 1 내지 도 4로 나타냈다. The results are shown in Fig. 1 to Fig.

도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물의 표면을 측정한 도 1 내지 도 3의 표면 접착성과 강도가 비교예 1의 표면을 측정한 도 4보다 현저히 좋은 것을 알 수 있었다.
1 to 4, it was found that the surface adhesion and the strength of the surface of the coating composition for wafer protection according to the present invention as measured in Figs. 1 to 3 were significantly better than those in Fig. 4 in which the surface of Comparative Example 1 was measured I could.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예는 모두 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모두 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.As described above, those skilled in the art will understand that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof. It is therefore to be understood that the embodiments described above are all illustrative and not restrictive. The scope of the present invention should be construed as being included in the scope of the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention as defined by the appended claims and their equivalents.

Claims (4)

수용성 고분자 수지 100중량부를 기준으로,
폴리우레탄, 비닐피롤리돈/메타아크릴아마이드/비닐이미다졸 공중합체, 비닐피롤리돈/비닐알코올 공중합체, 폴리(비닐아세테이트-CO-크로토닉산), 아미노에틸프로판디올-아크릴레이트 공중합체 또는 이들의 혼합물 5 내지 50중량부;
계면활성제 1 내지 10중량부;
가수분해 실란화합물 5 내지 30중량부;
수분산 폴리우레탄 분산제 10 내지 30중량부;
나노세라믹입자 3 내지 10중량부;
바인더 3 내지 10중량부; 및
용매 50 내지 150중량부를 포함하는 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물.
Based on 100 parts by weight of the water-soluble polymer resin,
Polyvinyl pyrrolidone / vinyl alcohol copolymer, poly (vinyl acetate-CO-crotonic acid), aminoethyl propanediol-acrylate copolymer, polyvinyl pyrrolidone / methacrylamide / vinyl imidazole copolymer, 5 to 50 parts by weight of a mixture thereof;
1 to 10 parts by weight of a surfactant;
5 to 30 parts by weight of a hydrolyzed silane compound;
10 to 30 parts by weight of a water-dispersed polyurethane dispersant;
3 to 10 parts by weight of nano-ceramic particles;
3 to 10 parts by weight of a binder; And
And 50 to 150 parts by weight of a solvent.
제1항에 있어서,
상기 수용성 고분자 수지는 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈, 카르복시 메틸셀룰로오스, 폴리아크릴산 또는 이들의 혼합물을 포함하는 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the water soluble polymer resin comprises polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, carboxymethyl cellulose, polyacrylic acid or a mixture thereof.
제1항에 있어서,
상기 계면활성제는 폴리에틸렌글리콜, 폴리옥시알킬렌글리콜, 폴리에톡시프로폭시알킬글리콜, 폴리옥시에틸렌알킬페놀에티르, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리프로필렌에틸렌프로필렌코폴리머 또는 이들의 혼합물인 것을 포함하는 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the surfactant is selected from the group consisting of polyethylene glycol, polyoxyalkylene glycol, polyethoxypropoxyalkyl glycol, polyoxyethylene alkylphenol ethers, polyoxyethylene alkyl ethers, polypropylene ethylene propylene copolymers, Protective coating composition.
제1항에 있어서,
상기 가수분해 실란화합물은 알콕시실란, 실란옥사이드 또는 이들의 혼합물인 것을 포함하는 웨이퍼 보호용 코팅제 조성물.


The method according to claim 1,
Wherein the hydrolyzed silane compound is an alkoxysilane, silane oxide or a mixture thereof.


KR1020170012369A 2017-01-26 2017-01-26 Coating Composition For Protecting Wafers In Laser Scribing Process KR101764167B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170012369A KR101764167B1 (en) 2017-01-26 2017-01-26 Coating Composition For Protecting Wafers In Laser Scribing Process
PCT/KR2017/008796 WO2018139725A1 (en) 2017-01-26 2017-08-11 Coating agent composition for wafer protection in laser scribing process

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170012369A KR101764167B1 (en) 2017-01-26 2017-01-26 Coating Composition For Protecting Wafers In Laser Scribing Process

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101764167B1 true KR101764167B1 (en) 2017-08-02

Family

ID=59651713

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170012369A KR101764167B1 (en) 2017-01-26 2017-01-26 Coating Composition For Protecting Wafers In Laser Scribing Process

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR101764167B1 (en)
WO (1) WO2018139725A1 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018139725A1 (en) * 2017-01-26 2018-08-02 (주)엠티아이 Coating agent composition for wafer protection in laser scribing process
JP2020529743A (en) * 2018-01-08 2020-10-08 エムティーアイ カンパニー, リミテッドMti Co., Ltd. Protective coating agent composition for wafer processing, and protective coating agent containing it
JP2020532880A (en) * 2018-01-19 2020-11-12 エムティーアイ カンパニー, リミテッドMti Co., Ltd. Protective coating agent for dicing process Release agent for peeling
JP2020532881A (en) * 2018-01-19 2020-11-12 エムティーアイ カンパニー, リミテッドMti Co., Ltd. Protective coating agent for dicing process

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100412020B1 (en) 2001-03-12 2003-12-24 박광민 An Adhesive Tape for Semiconductor
JP5881602B2 (en) 2009-07-03 2016-03-09 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Hydrophilic coating, article, coating composition and method

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4571850B2 (en) * 2004-11-12 2010-10-27 東京応化工業株式会社 Protective film agent for laser dicing and wafer processing method using the protective film agent
KR101539763B1 (en) * 2008-05-29 2015-07-27 동우 화인켐 주식회사 Protective film composition for dicing a wafer
JP5123341B2 (en) * 2010-03-15 2013-01-23 信越化学工業株式会社 Adhesive composition, semiconductor wafer protective film forming sheet
KR101896710B1 (en) * 2012-08-29 2018-09-10 동우 화인켐 주식회사 Wafer dicing protective film for a laser
KR101764167B1 (en) * 2017-01-26 2017-08-02 (주)엠티아이 Coating Composition For Protecting Wafers In Laser Scribing Process

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100412020B1 (en) 2001-03-12 2003-12-24 박광민 An Adhesive Tape for Semiconductor
JP5881602B2 (en) 2009-07-03 2016-03-09 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Hydrophilic coating, article, coating composition and method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018139725A1 (en) * 2017-01-26 2018-08-02 (주)엠티아이 Coating agent composition for wafer protection in laser scribing process
JP2020529743A (en) * 2018-01-08 2020-10-08 エムティーアイ カンパニー, リミテッドMti Co., Ltd. Protective coating agent composition for wafer processing, and protective coating agent containing it
JP2020532880A (en) * 2018-01-19 2020-11-12 エムティーアイ カンパニー, リミテッドMti Co., Ltd. Protective coating agent for dicing process Release agent for peeling
JP2020532881A (en) * 2018-01-19 2020-11-12 エムティーアイ カンパニー, リミテッドMti Co., Ltd. Protective coating agent for dicing process

Also Published As

Publication number Publication date
WO2018139725A1 (en) 2018-08-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101764167B1 (en) Coating Composition For Protecting Wafers In Laser Scribing Process
KR101623154B1 (en) Eco-Friendly Protection Coating Composition and Constructing Methods Using Thereof
JP5004229B2 (en) Coating agent
KR101512965B1 (en) Eco-Friendly Surface Protectant and Eco-Friendly Surface Method of Surface Protection Using Thereof
KR101873488B1 (en) Eco-Friendly Mortar Composite for Repair Comprising Function of Preventing Neutralization and Saltdamage and Constructing Methods Using Thereof
KR101787129B1 (en) Silicone resin composition and protective coating method using silicone resin composition
EP3099749B1 (en) Aqueous surface coating composition and modified particles
KR102454067B1 (en) Coating Composition for Iron and Concrete and Construction Methods Using Thereof
CN103013274A (en) Surface skid-resistant coating composition
KR20120077793A (en) Release film
JP2016500745A (en) Coating, composition, coated article and method
EP2205671A1 (en) Stain resistant particles
CN107573772B (en) Water-based antibacterial breathable building waterproof coating and preparation method thereof
KR20130018561A (en) Inorganic oxide particle containing silicone resin sheet
KR102217585B1 (en) Eco-Friendly Protection Coating Composition with Fire Retardant Ceramic and Constructing Methods Using Thereof
TWI625354B (en) Coating composition for protecting wafers in laser scribing process
JP7068947B2 (en) Detachable coating composition
JP5319328B2 (en) Release film for ceramic sheet production
KR102352932B1 (en) Surface Protection Coating Composition Comprising Function of Preventing Neutralization and Saltdamage and Constructing Methods Using Thereof
US10584264B1 (en) Hydrophobic and oleophobic coating compositions
JP2016069627A (en) Emulsion for wallpaper antifouling coating agent and wallpaper antifouling coating agent
CN116120796B (en) Water-based strippable coating
KR101851934B1 (en) A Coating Composition of Surface Protection for Earthquake Damage and Reinforcement of Structures Comprising Polyurea and Constructing Methods using Thereof
KR102642994B1 (en) Eco-Friendly Ceramic Non-flammable Surface Protection Coating Composition and Constructing Methods Using Thereof
JP7307468B2 (en) Aqueous composition for painted surfaces

Legal Events

Date Code Title Description
A302 Request for accelerated examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant