KR101761968B1 - Transfer film for replacing electroplating being capable of deep drawing - Google Patents

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Abstract

본 발명은 위로부터 이형 무연신 PET층(10), 표면처리층(20), 금속 sputtering층(30), 접착제층(40), 및 이형 PET층(50)이 순차적으로 이루어진 것을 특징으로 하는 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름에 관한 것이다.
본 발명의 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름에 따르면, 도금과 유사한 효과를 도금대체 전사 필름으로도 구현할 수 있어, 필름의 한계였던 복잡한 모양의 딥 드로우(Deep Draw) 성형까지 가능함으로써, 산업상 응용범위를 넓힐 수 있는 효과가 있다.The present invention is characterized in that a release-type non-leadable PET layer 10, a surface treatment layer 20, a metal sputtering layer 30, an adhesive layer 40, and a release PET layer 50 are sequentially formed from above. To a plated alternative transfer film capable of draw forming.
According to the plating replacement film that can be formed by the deep draw formation of the present invention, it is possible to realize a similar effect to the plating as a plating replacement film, and it is possible to form a deep draw of complicated shape which is the limit of the film. It is possible to broaden the range of application.

Description

딥드로우 성형이 가능한 도금대체 전사 필름{TRANSFER FILM FOR REPLACING ELECTROPLATING BEING CAPABLE OF DEEP DRAWING}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an electrophotographic transfer film,

본 발명은 딥드로우 성형이 가능한 도금대체 필름에 관한 것으로서, 더욱 상세히는 기존의 도금공법을 대체하여 금속재질의 질감을 표현할 수 있고, 플라스틱 사출성형품의 형상에 제약을 받지 않고 다양한 형상의 사출성형품의 제조에 적용할 수 있는 딥드로우 성형이 가능한 도금대체 전사 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a plating substitute film capable of deep draw forming, and more particularly, to a plating substitute film capable of expressing a texture of a metal material in place of a conventional plating method and capable of expressing the texture of a plastic injection- To a plated alternative transfer film capable of deep draw forming that can be applied to manufacture.

오래전부터, 플라스틱 사출성형품의 표면에 금속효과를 부여하기 위하여 크롬도금 등과 같은 각종 도금을 이용한 공법이 널리 사용되어 왔다.BACKGROUND ART For a long time, various plating methods such as chromium plating have been widely used to impart a metal effect to the surface of a plastic injection molded article.

그러나, 이러한 도금을 이용하여 플라스틱 사출성형품의 표면에 금속의 질감을 표현하는 공정에 따르면, 상기 도금에 따른 피막을 처리하는 과정에서 생성되는 폐수에 의한 환경오염의 문제점이 발생하였으며, 이에 따라 생태계가 파괴될 뿐만 아니라, 식수로 사용되는 지하수가 오염되는 등 각종 문제점이 대두되어 왔다.However, according to the process of expressing the texture of the metal on the surface of the plastic injection-molded product by using such a plating, there arises a problem of environmental pollution caused by the wastewater generated in the course of processing the coating due to the plating, Not only destroyed but also polluted groundwater used as drinking water.

더욱이, 상기의 도금을 이용한 표면처리 공정은 그 전체공정이 복잡하여 생산의 효율이 떨어지는 문제점도 있었다.
Furthermore, the above-described surface treatment process using plating has a problem that the entire process is complicated and the production efficiency is inferior.

이러한 문제점을 해소하기 위하여 PET Film(polyethylene terephtalate film)에 증착 혹은 스퍼터링(sputtering)을 이용하여 금속효과를 실현하기 위하여 일부 대체되고 있으나, 특히 상기 PET Film은 신율이 낮아, 특히 딥드로잉(Deep Drawing)의 성형에 적용하기에는 어려움이 있어, 복잡한 형상의 플라스틱 사출성형품의 표면에 적용하는데 한계가 있었다.
Particularly, the PET film has a low elongation, and in particular, a deep drawing technique has been proposed. However, in order to overcome such a problem, a PET film (polyethylene terephthalate film) has been partially substituted for realizing a metal effect by using deposition or sputtering. It is difficult to apply it to the molding of a plastic injection molded article having a complicated shape.

공개특허공보 제 10-2012-0108110호에서는 성형성이 우수한 인몰드 전사필름에 대하여 개시되어 있으나, 이는 인몰드 전사 필름에 있어서, 기재층; 상기 기재층에 적층되는 이형층; 상기 이형층에 적층되며, 이액형 열경화 수지를 재질로 하는 보호층; 상기 보호층에 적층되는 인쇄층; 및 상기 인쇄층에 적층되는 접착층을 포함하는 것을 특징으로 하는 인몰드 전사 필름이 개시되어 있을 뿐이다.
Open No. 10-2012-0108110 discloses an in-mold transfer film having excellent moldability. However, in an in-mold transfer film, a base layer; A release layer laminated on the substrate layer; A protective layer laminated on the release layer and made of the liquid type thermosetting resin; A print layer laminated on the protective layer; And an adhesive layer which is laminated on the printing layer.

그러나, 종래의 어떤 전사필름에 있어서도, 기존의 도금공법을 대체하여 손쉽게 도금과 유사한 금속재질의 질감을 표현할 수 있는 효과를 얻을 수 있도록 함고 동시에 딥드로우 성형이 가능한 도금대체 전사 필름에 대해서는 전혀 개시된 바가 없다.However, in any conventional transfer film, it is possible to obtain an effect of easily expressing the texture of a metal material similar to plating by replacing the existing plating method, and at the same time, a plating replacement transfer film which can be deep- none.

공개특허공보 제 10-2012-0108110호 (2012. 10. 05)Open Patent Publication No. 10-2012-0108110 (Oct. 05, 2012)

본 발명의 목적은 기존의 도금공법을 대체하여 금속재질의 질감을 표현할 수 있고, 딥드로우(Deep Draw) 성형이 가능하도록, 무연신의 PET 필름를 이용하여 도금대체 전사 필름을 제조함으로써, 플라스틱 사출성형품의 형상에 제약을 받지 않고 다양한 형상의 사출성형품의 제조에 적용할 수 있는 딥드로우 성형이 가능한 도금대체 전사 필름을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a plated alternative transfer film using a lead-free PET film so as to be capable of expressing the texture of a metal material in place of the existing plating method and capable of forming a deep draw, And which can be applied to the production of injection molded articles of various shapes without restriction of the shape.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 위로부터 이형 무연신 PET층, 표면처리층, 금속 스퍼터링층, 접착제층 및 이형 PET층이 순차적으로 이루어진 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름을 제공한다.In order to accomplish the above object, the present invention provides a plated replacement transfer film capable of deep draw forming comprising a release-type non-leadable PET layer, a surface treatment layer, a metal sputtering layer, an adhesive layer and a release PET layer sequentially from above.

본 발명의 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름에 따르면, 도금과 유사한 효과를 도금대체 전사 필름으로도 구현할 수 있어, 종래기술에 따른 필름의 한계였던 복잡한 모양의 딥드로우(Deep Draw) 성형까지도 가능함으로써, 산업상 응용범위를 넓힐 수 있는 효과가 있다.
According to the plating-substitution transfer film capable of forming the deep draw of the present invention, it is possible to realize a plating-substitution transfer film with an effect similar to plating, and also to form a deep shape of a complicated shape which was the limit of the conventional film Thereby making it possible to broaden the application range in the industry.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름을 도시한 단면도이다.
도 2는 딥드로우성형 전에 아래에 배치되어 있는 이형 PET층을 분리시킨 것을 도시한 단면도이다.
도 3은 딥드로우성형 후, 위에 배치되어 있는 이형 무연신 PET층을 분리시킨 것을 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a plating-transferred transfer film capable of deep draw forming according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a cross-sectional view showing that the release PET layer disposed below is separated before deep draw forming.
Fig. 3 is a cross-sectional view showing separation of the mold releasing non-stretched PET layer disposed thereon after the deep draw forming.

본 발명은 도 1에 도시된 바와 같이, 위로부터 이형 무연신 PET층(10), 표면처리층(20), 금속 스퍼터링층(30), 접착제층(40) 및 이형 PET층(50)이 순차적으로 이루어진 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름(100)에 관한 것이다.
1, the present invention is characterized in that the release-type non-stretchable PET layer 10, the surface treatment layer 20, the metal sputtering layer 30, the adhesive layer 40 and the release PET layer 50 are sequentially To a plated substitute transfer film (100) capable of deep draw forming.

본 발명의 도금대체 전사 필름(100)은 최상부가 이형 무연신 PET층(10)으로 형성된 것을 특징으로 한다. 종래에는 이형 연신 PET층으로 되어 있었던 것으로, PET 필름이 이미 연신되어 있기 때문에, 성형시 쉽게 연신이 일어나지 않아 실질적으로 딥드로잉 성형이 불가능하여 복잡한 형상을 지닌 성형품의 제작이 불가능한 단점이 있었으므로, 본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위해 최상부의 층을 신율이 좋은 이형 무연신 PET층(10)으로 형성한 것을 특징으로 한다.
The plated substitute transfer film (100) of the present invention is characterized in that the uppermost portion is formed of a mold releasing non-stretchable PET layer (10). Since the PET film has already been stretched, stretching is not easily performed during molding, and deep drawing molding can not be practically practiced. Thus, there is a disadvantage that it is impossible to produce a molded article having a complicated shape. Therefore, The present invention is characterized in that the uppermost layer is formed of a deformable, non-stretchable PET layer 10 having good stretchability.

본 발명의 상기 이형 무연신 PET층(10)에 아크릴계 표면처리제를 도포하여 표면처리층(20)을 형성한다.여기서, 상기 표면처리층은 딥드로우성형 후, 상기 이형 무연신 PET층(10)을 박리하였을때, 금속 스퍼터링층(30)을 보호하고, 오염을 방지하며, 표면 경도를 높이기 위해 형성된다. An acrylic surface treatment agent is applied to the mold release non-oriented PET layer 10 of the present invention to form a surface treatment layer 20. Here, after the surface treatment layer is subjected to deep draw molding, It is formed to protect the metal sputtering layer 30, to prevent contamination, and to increase the surface hardness.

상기 표면처리제를 도포하는 방법은 그라비아 혹은 마이크로 그라비아로 1~10㎛, 바람직하게는 2㎛ ~ 5 ㎛ 정도로 얇게 도포하는 것이 바람직하다. 상기 표면처리제를 10 ㎛ 이상 도포하는 경우에는, 용제가 쉽게 건조되지 않을 뿐만 아니라, 이에 따라 높은 온도의 건조 Oven에서 상기 이형 무연신 PET층(10)이 수축할 수 있기 때문에 바람직하지 않고, 1㎛이하로 도포하는 경우, 금속 스퍼터링층 보호효과, 오염방지 효과 및 표면 경도 향상효과를 얻기 곤란하므로, 상기 수치 범위내로 도포하는 것이 바람직하다.
The method of applying the surface treatment agent is preferably applied to a thickness of 1 to 10 탆, preferably 2 to 5 탆, by gravure or microgravure. When the surface treatment agent is applied to a thickness of 10 탆 or more, the solvent is not easily dried and thus the moldable, non-oriented PET layer 10 can be shrunk in a drying oven at a high temperature. , It is difficult to obtain the effect of protecting the metal sputtering layer, the effect of preventing the contamination, and the effect of improving the surface hardness. Therefore, it is preferable that the coating is carried out within the above numerical range.

상기 아크릴계 표면처리제를 코팅하여 표면처리층(20)을 형성한 후, 금속효과를 극대화시키기 위하여, 크롬(Cr) 또는 주석(Sn)을 이용하여 스퍼터링(Sputtering)을 실시하여 상기 금속 스퍼터링층(30)을 형성한다.After the surface treatment layer 20 is formed by coating the acrylic surface treatment agent, sputtering is performed using chromium (Cr) or tin (Sn) to maximize the metal effect, thereby forming the metal sputtering layer 30 ).

여기서, 스퍼터링(Sputtering)이라 함은, 진공상태의 용기 안에 헬륨 등 불활성기체를 채워, 코팅재료(타깃)에 고전압을 걸어 방전시키면 이온화된 불활성기체가 상기 코팅재료에 충돌하게 되고, 이때 타깃물질의 이온이 튀어나와 기판(코팅하기 위한 대상물)에 달라붙어 기판상에 막을 만드는 기술을 말한다. Here, the term "sputtering" refers to a phenomenon in which when an inert gas such as helium is filled in a vacuum container and a high voltage is applied to a coating material (target) to be discharged, an ionized inert gas collides with the coating material, Refers to a technique in which an ion protrudes and adheres to a substrate (object to be coated) to form a film on the substrate.

이는, 증착을 이용하는 경우 딥드로우성형시 모서리부에 크랙(Crack)이 발생할 우려가 있기 때문으로, 가능한 스퍼터링(Sputtering)을 이용하는 것이 적당한데, 이때 금속 표현효과가 우수한 크롬(Cr) 또는 주석(Sn)을 이용한다.
This is because it is preferable to use sputtering as much as possible because there is a risk of cracks occurring at the edges when forming the deep draw when vapor deposition is used. In this case, chromium (Cr) or tin (Sn ).

이후, 상기 플라스틱 사출성형품에 부착하기 위하여, 이형 PET층(50)에 접착제를 도포하여 접착제층(40)을 형성하고, 이를 상기 스퍼터링층이 형성된 필름과 합판시키면, 본 발명의 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름(100)이 완성된다. 상기 이형 PET층(50)은 접착제층에 먼지나 이물이 달라붙는 것을 방지하기 위한 것이다.
Thereafter, in order to adhere to the plastic injection molded product, an adhesive is applied to the release PET layer 50 to form an adhesive layer 40, and this is laminated with the film on which the sputtering layer is formed, The plating replacement transfer film 100 is completed. The release PET layer 50 is for preventing dust or foreign matter from sticking to the adhesive layer.

완성된 본 발명의 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름(100)을 열 또는 진공성형을 이용하여 금속질감을 표현하고자 하는 상기 플라스틱 사출성형품에 이형 PET층(50)을 제거하여 붙이고, 열 또는 진공성형을 통해 플라스틱 사출성형 후, 상기 이형 무연신 PET층(10)을 박리시키면, 표면처리층으로 보호되는 크롬(Cr) 또는 주석(Sn)의 금속 스퍼터링층만 플라스틱 사출성형품에 접착되어 있어, 도금과 유사한 금속재질의 질감을 표현할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
The mold releasing transfer film 100 which can be used in the deep draw forming of the present invention is removed or attached to the plastic injection molded product which is to express a metal texture by heat or vacuum molding, Only the metal sputtering layer of chromium (Cr) or tin (Sn), which is protected by the surface treatment layer, is adhered to the plastic injection molded product by peeling off the mold release non-oriented PET layer 10 after plastic injection molding through molding, It is possible to obtain an effect of expressing the texture of a metal material similar to that of the metal.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

도 1에 도시된 바와 같이, 위로부터 이형 무연신 PET층(10), 표면처리층(20), 금속 스퍼터링층(30), 접착제층(40) 및 이형 PET층(50)이 순차적으로 이루어진 딥드로우성형이 가능하고, 금속효과를 나타내는 도금대체 전사 필름(100)을 완성하였다. As shown in Fig. 1, a dip (non-stretched) non-stretchable PET layer 10, a surface treatment layer 20, a metal sputtering layer 30, an adhesive layer 40, A plating substitute transfer film 100 that can be draw-formed and exhibits a metallic effect is completed.

구체적인 제조방법은 다음과 같다. The specific manufacturing method is as follows.

우선, 상기 이형 무연신 PET층(10) 아래에 표면처리제를 얇게 도포하여 표면처리층(20)을 형성한다. First, the surface treatment layer 20 is formed by applying a thin film of the surface treatment agent beneath the mold release non-stretchable PET layer 10.

이때, 상기 표면처리제를 도포하는 방법은 그라비아 혹은 마이크로 그라비아로 1~10㎛, 바람직하게는 2㎛ ~ 5 ㎛ 정도로 얇게 도포하는 것이 바람직하다.
At this time, the method of applying the surface treatment agent is preferably applied in a thin layer of 1 to 10 탆, preferably 2 to 5 탆, by gravure or microgravure.

그리고, 상기와 같이 표면처리제를 적정의 두께로 도포하여 표면처리층(20)을 형성한 후, 크롬(Cr) 또는 주석(Sn)으로 스퍼터링(Sputtering)하여 금속 스퍼터링층(30)을 형성하여, 금속효과를 나타내도록 한다.
Then, the surface treatment agent is applied to the surface treatment layer 20 as described above to form the surface treatment layer 20, and then the metal sputtering layer 30 is formed by sputtering with chromium (Cr) or tin (Sn) To exhibit a metallic effect.

한편, 이형 PET층(50)에 접착제를 도포하여 접착제층(40)을 형성하고, 이를 상기 금속 스퍼터링층(30)과 합판하여 금속효과를 나타내는 도금대체 전사 필름(100)이 완성된다.
On the other hand, an adhesive is applied to the release PET layer 50 to form an adhesive layer 40, which is then laminated with the metal sputtering layer 30 to complete a plating replacement transfer film 100 that exhibits a metal effect.

여기서, 상기 이형 무연신 PET층(10)은 높은 온도의 건조 Oven에서 열에 의한 수축 및 변형이 심하게 발생하기 때문에, 접착제층을 직접 도포하지 않고, 상기 접착제를 보호하기 위하여 이형 PET층(50)에 접착제를 우선 도포한 후, 이를 금속 스퍼터링층이 형성된 필름과 합판하는 방법을 적용하였다.
Here, since the mold releasing non-stretchable PET layer 10 is shrunk and deformed by heat in a drying oven at a high temperature, the adhesive layer is not directly applied to the releasable PET layer 50 A method of applying an adhesive first and then plywooding it with a film having a metal sputtering layer is applied.

이때, 상기 접착제는 polyester계 접착제가 적당하며, 상기 건조 Oven의 온도는 50℃ ~ 180℃의 범위를 유지하였다.
At this time, a polyester adhesive was suitable for the adhesive, and the temperature of the dried oven was maintained in the range of 50 ° C to 180 ° C.

그리고, 상기 접착제층(40)은 30㎛ ~ 50㎛ 두께를 형성시킨 다음, 금속 스퍼터링층(30)으로 접착제층을 전이시켜 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름(100)을 완성하였다.
The adhesive layer 40 is formed to a thickness of 30 탆 to 50 탆, and then the adhesive layer is transferred to the metal sputtering layer 30 to complete a plating drawback transfer film 100 capable of deep draw forming.

<시험예><Test Example>

상기의 실시예 1에 따라 완성된 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름(100)을 가지고, 진공 열성형기를 이용하여 성형 Test를 실시하였다.A plating test was conducted using a vacuum thermoforming machine with a plated replacement transfer film 100 that was capable of deep draw forming completed according to Example 1 above.

즉, 가장 아래층에 있는 접착제 보호를 위한 이형 PET층(50)을 분리시켜, 상기 도금대체 전사 필름(100)을 성형기에 고정시킨 후, 진공 열성형을 실시하였다.(도 2 참고)
That is, the release PET layer 50 for protecting the adhesive layer on the lowermost layer was separated, the plate replacement transfer film 100 was fixed to a molding machine, and vacuum heat molding was performed (refer to FIG. 2).

이때, 상기 성형온도를 100℃ ~ 140℃로 test 한 경우의 시험결과가 가장 양호하였다.
At this time, the test results were the best when the molding temperature was tested at 100 ° C to 140 ° C.

만약, 상기 성형온도가 낮을 경우에는, 접착력과 성형성이 떨어지고, 반면 상기 성형온도가 높은 경우에는 상기 금속 스퍼터링층(30)의 표면 손상을 가져온다.
If the molding temperature is low, the adhesion and formability are inferior. On the other hand, when the molding temperature is high, the surface of the metal sputtering layer 30 is damaged.

따라서, 적정한 성형온도를 유지하는 것이 접착력, 딥 드로우(Deep Draw) 성형, 금속 스퍼터링층(30)의 표면품질을 모두 양호한 상태로 유지할 수 있었다.Therefore, it was possible to keep the molding temperature at a proper level in all of the adhesive force, the deep draw molding, and the surface quality of the metal sputtering layer 30.

그리고, 딥드로우성형 후, 위에 배치되어 있는 이형 무연신 PET층(10)을 박리시킴으로써, 상기 금속 sputtering층(30)에 의한 금속효과를 나타내는 성형품을 완성할 수 있었다.(도 3 참고)After the deep draw forming, the mold releasing non-leadable PET layer 10 disposed thereon was peeled off, thereby completing a molded product showing the metal effect by the metal sputtering layer 30. (See FIG. 3)

10 : 이형 무연신 PET층
20 : 표면처리층
30 : 금속 스퍼터링층
40 : 접착제층
50 : 이형 PET층
100 : 도금대체 전사 필름10: heterogeneous non-oriented PET layer
20: Surface treatment layer
30: metal sputtering layer
40: adhesive layer
50:
100: Plated alternative transfer film

Claims (10)

위로부터 이형층, 표면처리층(20), 금속 스퍼터링층(30), 접착제층(40)이 순차적으로 적층된 전사 필름으로서,
상기 이형층은 이형 무연신 PET층(10)으로 형성되고,
상기 접착제층(40)은 별도의 이형 PET층(50)에 도포된 후 상기 금속 스퍼터링층(30)과 합판되는 것인 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름(100).As a transfer film in which a releasing layer, a surface treatment layer 20, a metal sputtering layer 30, and an adhesive layer 40 are sequentially laminated from above,
The release layer is formed of a mold releasing non-stretched PET layer 10,
Wherein the adhesive layer (40) is applied to a separate release PET layer (50) and then laminated with the metal sputtering layer (30). 제 1항에 있어서,
상기 표면처리층(20)은 아크릴계 표면처리제가 도포되어 형성된 것을 특징으로 하는 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름(100).The method according to claim 1,
Wherein the surface treatment layer (20) is formed by applying an acrylic surface treatment agent to the surface treatment layer (20). 제 2항에 있어서,
상기 표면처리제는, 그라비아 혹은 마이크로 그라비아로 1㎛ ~ 10 ㎛ 두께로 도포되는 것을 특징으로 하는 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름(100). 3. The method of claim 2,
Characterized in that the surface treatment agent is applied in a thickness of 1 탆 to 10 탆 in a gravure or microgravure manner. 제 1항에 있어서,
상기 금속 스퍼터링층(30)은, 크롬(Cr) 또는 주석(Sn)으로 스퍼터링(Sputtering)된 것을 특징으로 하는 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름(100). The method according to claim 1,
Wherein the metal sputtering layer (30) is sputtered with chromium (Cr) or tin (Sn). 이형층 하부에 표면처리제를 도포하여 표면처리층(20)을 형성하는 단계;
상기 표면처리층(20) 하부에 금속 스퍼터링층(30)을 형성하는 단계;
상기 금속 스퍼터링층(30) 하부에 접착제층(40)을 형성하는 단계;를 포함하는 전사 필름 제조방법으로서,
상기 표면처리층을 형성하는 단계에서 상기 이형층은 이형 무연신 PET층(10)으로 형성되어 상기 표면처리제가 상기 이형 무연신 PET층(10) 하부에 도포되고,
상기 접착제층을 형성하는 단계는, 상부에 접착제가 도포된 별도의 이형 PET층(50)을 상기 금속 스퍼터링층(30)과 합판하여 상기 금속 스퍼터링층(30) 하부에 상기 접착제층(40)을 형성하는 것인 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름(100)의 제조방법.Forming a surface treatment layer (20) by applying a surface treatment agent to the lower part of the release layer;
Forming a metal sputtering layer (30) under the surface treatment layer (20);
And forming an adhesive layer (40) under the metal sputtering layer (30), the method comprising:
In the step of forming the surface treatment layer, the release layer is formed of a release-type non-stretchable PET layer 10, and the surface treatment agent is applied to a lower portion of the release-type non-stretchable PET layer 10,
The adhesive layer may be formed by laminating a separate release PET layer 50 on which an adhesive is applied on the upper surface of the metal sputtering layer 30 with the adhesive layer 40 under the metal sputtering layer 30 (100) having a thickness of at least 100 nm. 제5항에 있어서,
상기 표면처리층(20)을 형성하는 단계는 아크릴계 표면처리제를 사용하는 것을 특징으로 하는 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름(100)의 제조방법. 6. The method of claim 5,
Wherein the step of forming the surface treatment layer (20) comprises using an acrylic surface treatment agent. 제5항에 있어서,
상기 표면처리제는 그라비아 혹은 마이크로 그라비아 도포방법으로 1~10㎛ 두께로 도포하는 것을 특징으로 하는 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름(100)의 제조방법. 6. The method of claim 5,
Wherein the surface treatment agent is applied by a gravure or microgravure coating method to a thickness of 1 to 10 탆. 제5항에 있어서,
상기 금속 스퍼터링층(30)을 형성하는 단계에서 금속으로 크롬 또는 주석을 사용하는 것을 특징으로 하는 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름(100)의 제조방법. 6. The method of claim 5,
Wherein the metal sputtering layer (30) is formed by using chromium or tin as a metal in the step of forming the metal sputtering layer (30). 제5항에 있어서,
상기 접착제층을 형성하는 단계는 상기 이형 PET층(50) 상부에 도포되는 상기 접착제를 건조 Oven에서 50 ~ 180℃의 범위에서 건조시키는 단계를 더 포함하는 것인 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름(100)의 제조방법.6. The method of claim 5,
Wherein the step of forming the adhesive layer further comprises drying the adhesive applied on top of the release PET layer (50) in a drying oven at a temperature in the range of 50 to 180 DEG C, (100). 제5항에 있어서,
상기 접착제층을 형성하는 단계에 의한 상기 접착제층(40)은 30㎛ ~ 50㎛ 두께로 형성되는 것인 딥드로우성형이 가능한 도금대체 전사 필름(100)의 제조방법.
6. The method of claim 5,
Wherein the adhesive layer (40) formed by the step of forming the adhesive layer has a thickness of 30 탆 to 50 탆.
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