KR101751377B1 - Preparing mehtod of anodizing film of alumium alloy having improved surface appearance - Google Patents

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Abstract

본 발명은 표면 외관이 개선된 알루미늄 합금의 양극산화피막 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 알루미늄 합금 표면을 탈지하는 단계; 탈지된 알루미늄 합금 표면을 황산이 포함된 에칭 용액으로 에칭하는 단계; 에칭된 알루미늄 합금 표면을 황산이 포함된 디서머트 용액으로 디서머트하는 단계; 디서머트된 알루미늄 합금 표면을 황산이 포함된 양극산화 용액으로 전압을 인가하여 양극산화하는 단계; 및 양극산화된 알루미늄 합금 표면을 니켈 아세테이트가 포함된 실링 용액으로 실링하는 단계;를 포함하는, 표면 외관이 개선된 알루미늄 합금의 양극산화피막 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 표면 외관이 개선된 알루미늄 합금의 양극산화피막 제조방법은 황산이 포함된 에칭 용액으로 에칭함으로써 종래 수산화나트륨이 포함된 에칭 용액으로 에칭한 경우에 비해 알루미늄 합금의 표면 불균일을 유발하는 마그네슘 결정체를 효율적으로 제거 또는 환원시킬 수 있어 고품질의 알루미늄 합금의 양극산화피막을 제조할 수 있는 효과가 있다.
The present invention relates to a method of manufacturing an anodized film of an aluminum alloy having improved surface appearance, and more particularly, to a method of manufacturing an anodized film of an aluminum alloy, Etching the degreased aluminum alloy surface with an etching solution containing sulfuric acid; Desmethylating the etched aluminum alloy surface with a desalting solution containing sulfuric acid; Anodizing the decomposed aluminum alloy surface by applying an electric voltage to an anodizing solution containing sulfuric acid; And sealing the anodized aluminum alloy surface with a sealing solution containing nickel acetate. The present invention also relates to a method for producing an anodized coating of an aluminum alloy with improved surface appearance.
The method of manufacturing an anodic oxidation film of an aluminum alloy improved in surface appearance according to the present invention is advantageous in that the etching of the etching solution containing sulfuric acid makes it possible to reduce the surface roughness of the aluminum alloy, The crystals can be efficiently removed or reduced, and an anodized film of a high quality aluminum alloy can be produced.

Description

표면 외관이 개선된 알루미늄 합금의 양극산화피막 제조방법{Preparing mehtod of anodizing film of alumium alloy having improved surface appearance}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an anodized film of an aluminum alloy having improved surface appearance,

본 발명은 황산(H2SO4)이 포함된 에칭 용액으로 알루미늄 합금을 에칭함으로써 표면 외관이 개선된 알루미늄 합금의 양극산화피막을 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing an anodized film of an aluminum alloy having an improved surface appearance by etching an aluminum alloy with an etching solution containing sulfuric acid (H 2 SO 4 ).

알루미늄의 비중(2.7)은 철(7.8) 또는 동(8.9)에 비하여 약 1/3 수준이므로, 경량화가 요구되는 자동차, 철도, 항공기 등의 수송분야와, 장비의 대형화가 필요한 산업분야에서 효과적인 대안으로 사용되고 있으며, 특히 단위무게당 강도가 크기 때문에 정밀기계나 건출물의 구조재료로 많이 사용되고 있다.Since the specific gravity of aluminum (2.7) is about 1/3 of that of iron (7.8) or copper (8.9), effective alternatives are needed in the transportation sector such as automobile, railway, Especially, since the strength per unit weight is large, it is widely used as a structural material for precision machines and dry products.

순수한 알루미늄의 인장강도는 그다지 높지 않으나, 마그네슘(Mg), 규소(Si), 구리(Cu), 아연(Zn), 또는 망간(Mn) 등을 첨가하여 알루미늄 합금으로 사용될 경우 순수한 알루미늄에 비해 강도를 높일 수 있다.The tensile strength of pure aluminum is not so high but when used as an aluminum alloy by adding magnesium, silicon, copper, zinc or manganese, .

알루미늄은 소성가공이 용이하여 다양한 형상으로 가공/성형이 가능하며, 알루미늄은 공기 중에서 치밀하고 안정한 산화피막을 형성하여 알루미늄 합금의 부식을 방지할 수 있으며, 그 자체로도 외관이 미려할 뿐만 아니라, 양극산화 피막처리 등 여러 표면 처리기법을 가함에 따라 표면 강도 및 색상을 추가할 수 있다.Aluminum can be processed / formed into various shapes by easy plastic processing, and aluminum can form a dense and stable oxide film in the air to prevent corrosion of the aluminum alloy. The aluminum itself is not only beautiful in appearance, Surface hardness and color can be added by applying various surface treatment techniques such as anodic oxidation treatment.

특히 알루미늄 합금은 진공장치의 재료로 사용했을 때, 금속자체로부터의 가스 방출율이 매우 작고, 진공도달 성능이 다른 재료에 비해 매우 뛰어나기 때문에 각종 고진공 펌프나, 배관, 고진공 반도체 장치 및 디스플레이 제조 설비에서 널리 사용되고 있다.In particular, when aluminum alloy is used as a material for a vacuum device, the gas release rate from the metal itself is very small and the vacuum reaching performance is very superior to other materials. Therefore, the aluminum alloy is used in various high vacuum pumps, piping, high vacuum semiconductor devices, Widely used.

구체적으로, 다양한 알루미늄 합금 중에서 AL5000 계열의 알루미늄 합금은 알루미늄이 가진 진공도, 외관, 부식방지, 및 경량화 특성을 가지고 있어, 디스플레이 및 반도체 장비 산업에서 대체 소재를 찾기 어려울 정도로 매력적인 소재이며, 특히 알루미늄 50계열 합금의 경우 알루미늄-마그네슘(Al-Mg) 계열 합금으로 비열처리된 합금 중에서 가장 뛰어난 강도를 나타내며 용접성도 우수하다.Specifically, among the various aluminum alloys, the AL5000 series aluminum alloy is an attractive material that is difficult to find substitute materials in the display and semiconductor equipment industry because it has the characteristics of vacuum degree, appearance, corrosion prevention, and light weight, In the case of alloys, aluminum-magnesium (Al-Mg) series alloys show the highest strength among the non-heat treated alloys and excellent weldability.

또한, AL5052 알루미늄 합금의 경우, 적당한 강도와 우수한 내식성 및 성형성 용접성으로 인해 장비산업 분야에서 각광받고 있으며, 특히, 산화피막을 형성하였을 경우 균질한 외관 품질을 얻을 수 있어 대형 장비에 양극산화 후 조립되어 사용되고 있다.In addition, AL5052 aluminum alloy is attracting attention in the equipment industry due to its moderate strength, excellent corrosion resistance and formability weldability. In particular, when an oxide film is formed, a homogeneous appearance quality can be obtained, Has been used.

다만, AL5052 알루미늄 합금의 경우 적당한 강도와 양극산화에 의한 미려한 외관의 구현이 가능한 장점이 있으나, 세대가 지날수록 장비가 고도화 대형화 됨에 따라 기능적인 개선이 요구되고 있다.However, the AL5052 aluminum alloy has the advantage of being able to realize a proper appearance by an appropriate strength and anodic oxidation, but functional improvement is demanded as the equipment becomes more sophisticated and larger as the generation passes.

특히, 레이저를 이용한 설비의 경우, 레이져의 분산 및 광학(Optic) 시스템의 강성 확보와 대형화에 맞춰 50계열의 알루미늄 합금 중에서, 비열처리 계열 중 가장 강도가 강한 AL5083 알루미늄 합금의 사용이 해외를 중심으로 시도되고 있다.In particular, in the case of laser-based equipment, the use of AL5083 aluminum alloy, which has the strongest strength among the 50 series of aluminum alloys among the non-heat treatment series, It is being tried.

다만, AL5083 알루미늄 합금의 경우, 강도 등의 물성이 비열처리 합금 중 극히 뛰어나나, 합금의 성분 중 주요 성분인 마그네슘이 주조(Casting) 중에 결정화하는 속도 및 농도가 상이함에 따라 제품에 따라 동일한 배치(Batch)에서도 표면 무늬가 다양하게 나타나는 문제점이 있다.However, in the case of AL5083 aluminum alloy, the properties such as strength are extremely excellent among the non-heat-treated alloys. However, since the rate and concentration of magnesium, which is the main component of the alloy, crystallize during casting, Batch) has a problem in that the surface pattern is varied.

따라서, 기존 AL5052 알루미늄 합금이나 60계열 등의 알루미늄 합금과 같이 마그네슘 함량이 낮은 합금의 양극산화 공정으로 AL5083 알루미늄 합금을 처리할 경우 구름무늬(Cloudy surface) 또는 얼룩(Stain) 형상의 표면 품질 불량이 발생할 수 있다.Therefore, when the AL5083 aluminum alloy is treated with an anodic oxidation process of an alloy having a low magnesium content such as an existing AL5052 aluminum alloy or an aluminum alloy such as a 60 series, a cloudy surface or a stain-shaped surface quality defect may occur .

따라서, AL5083 알루미늄 합금은 일반적으로 쓰이는 AL5052 알루미늄 합금 보다 강성 및 스트레스에 의한 휨에 대한 저항성이 강하여 AL5052 알루미늄 합금을 대체할 수 있으므로 양극산화 처리를 통해 표면 외관이 개선된 AL5083 알루미늄 합금의 양극산화피막을 제조하는 방법에 대한 연구 개발이 시급한 실정이다.Therefore, AL5083 aluminum alloy is more resistant to bending due to stiffness and stress than AL5052 aluminum alloy, which can replace AL5052 aluminum alloy. Therefore, the anodic oxide coating of AL5083 aluminum alloy improved in surface appearance through anodization It is urgent to research and develop methods of manufacturing.

한국공개특허 제2015-0041357호Korea Patent Publication No. 2015-0041357

본 발명의 목적은 알루미늄 합금의 양극산화 공정 중, 에칭(Etching) 공정에 쓰이는 기존의 수산화나트륨(NaOH) 용액을 대신하여 황산(H2SO4)이 포함된 에칭 용액을 사용하여 에칭함으로써 마그네슘의 불균일 결정화에 따른 표면 불량을 감소시켜 알루미늄 합금의 양극산화 외관 품질을 개선할 수 있는 표면 외관이 개선된 알루미늄 합금의 양극산화피막 제조방법을 제공하는 데에 있다.An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an anodic oxidation process of an aluminum alloy by using an etching solution containing sulfuric acid (H 2 SO 4 ) instead of a conventional sodium hydroxide (NaOH) solution used in an etching process, And an object of the present invention is to provide a method for manufacturing an anodic oxide film of an aluminum alloy improved in surface appearance that can reduce surface defects due to non-uniform crystallization and improve anodized appearance quality of aluminum alloy.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 알루미늄 합금 표면을 탈지하는 단계; 탈지된 알루미늄 합금 표면을 황산(H2SO4)이 포함된 에칭 용액으로 에칭하는 단계; 에칭된 알루미늄 합금 표면을 황산이 포함된 디서머트 용액으로 디서머트하는 단계; 디서머트된 알루미늄 합금 표면을 황산이 포함된 양극산화 용액으로 전압을 인가하여 양극산화하는 단계; 및 양극산화된 알루미늄 합금 표면을 니켈 아세테이트가 포함된 실링 용액으로 실링하는 단계;를 포함하는, 표면 외관이 개선된 알루미늄 합금의 양극산화피막 제조방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: degreasing an aluminum alloy surface; Etching the degreased aluminum alloy surface with an etching solution containing sulfuric acid (H 2 SO 4 ); Desmethylating the etched aluminum alloy surface with a desalting solution containing sulfuric acid; Anodizing the decomposed aluminum alloy surface by applying an electric voltage to an anodizing solution containing sulfuric acid; And sealing the anodized aluminum alloy surface with a sealing solution containing nickel acetate. The present invention also provides a method for manufacturing an anodic oxide film of an aluminum alloy with improved surface appearance.

본 발명에 따른 표면 외관이 개선된 알루미늄 합금의 양극산화피막 제조방법은 황산이 포함된 에칭 용액으로 에칭함으로써 종래 수산화나트륨이 포함된 에칭 용액으로 에칭한 경우에 비해 알루미늄 합금의 표면 불균일을 유발하는 마그네슘 결정체를 효율적으로 제거 또는 환원시킬 수 있어 고품질의 알루미늄 합금의 양극산화피막을 제조할 수 있는 효과가 있다.The method of manufacturing an anodic oxidation film of an aluminum alloy improved in surface appearance according to the present invention is advantageous in that the etching of the etching solution containing sulfuric acid makes it possible to reduce the surface roughness of the aluminum alloy, The crystals can be efficiently removed or reduced, and an anodized film of a high quality aluminum alloy can be produced.

도 1은 본 발명인 표면 외관이 개선된 알루미늄 합금의 양극산화피막 제조방법을 나타낸 흐름도이다.
도 2는 다양한 알루미늄 합금의 종류를 나타낸 도면이다.
도 3은 AL5083 알루미늄 합금의 특성을 나타낸 도면이다.
도 4는 AL5083 알루미늄 합금의 특성을 나타낸 도면이다.
도 5는 AL5083 알루미늄 합금의 특성을 나타낸 도면이다.
도 6은 AL5083 알루미늄 합금(a), AL5083 알루미늄 합금의 양극산화 후 표면 불량(b), 및 AL5083 알루미늄 합금의 양극산화 후 표면 양호(c)한 상태를 나타낸 도면이다.
도 7은 AL5083 알루미늄 합금의 특성을 나타낸 도면이다.
도 8은 알루미늄 합금의 에칭원리를 나타낸 도면이다.
도 9는 알루미늄 양극산화피막의 형성 원리를 나타낸 도면이다.
도 10은 비교예 1에 따라 수산화나트륨 수용액이 포함된 에칭 용액으로 AL5083 알루미늄 합금을 에칭한 후 양극산화 공정을 통해 얻어진 양극산화피막의 표면을 나타낸 도면이다.
도 11은 비교예 1에 따라 수산화나트륨 수용액이 포함된 에칭 용액으로 AL5083 알루미늄 합금을 에칭하였을 때 발생하는 문제점을 나타낸 도면이다.
도 12는 실시예 1 및 실시예 2에 따라 수산화나트륨 수용액이 포함된 에칭 용액으로 AL5083 알루미늄 합금을 에칭한 후 양극산화 공정을 통해 얻어진 양극산화피막의 표면을 나타낸 도면이다.
도 13은 실시예 1 및 실시예 2에 따라 수산화나트륨 수용액이 포함된 에칭 용액으로 AL5083 알루미늄 합금을 에칭하였을 때 종래 문제점을 개선할 수 있음을 나타낸 도면이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a flow chart showing a method for producing an anodized film of an aluminum alloy having improved surface appearance according to the present invention.
Fig. 2 is a view showing kinds of various aluminum alloys.
3 is a graph showing the characteristics of AL5083 aluminum alloy.
4 is a graph showing the characteristics of AL5083 aluminum alloy.
5 is a graph showing the characteristics of AL5083 aluminum alloy.
Fig. 6 is a graph showing the surface defects (b) after anodic oxidation of AL5083 aluminum alloy (a), AL5083 aluminum alloy, and the state after the anodic oxidation of AL5083 aluminum alloy (c).
7 is a graph showing the characteristics of AL5083 aluminum alloy.
8 is a view showing an etching principle of an aluminum alloy.
9 is a view showing the principle of formation of the aluminum anodized film.
10 is a view showing the surface of an anodized film obtained through an anodic oxidation process after AL5083 aluminum alloy is etched with an etching solution containing an aqueous solution of sodium hydroxide according to Comparative Example 1. FIG.
11 is a view showing a problem caused when AL5083 aluminum alloy is etched with an etching solution containing an aqueous solution of sodium hydroxide according to Comparative Example 1. FIG.
12 is a view showing the surface of an anodized film obtained through an anodic oxidation process after AL5083 aluminum alloy is etched with an etching solution containing an aqueous solution of sodium hydroxide according to Example 1 and Example 2. FIG.
FIG. 13 is a graph showing that the conventional problem can be solved when AL 5083 aluminum alloy is etched with an etching solution containing an aqueous solution of sodium hydroxide according to Example 1 and Example 2.

이하, 본 발명인 표면 외관이 개선된 알루미늄 합금의 양극산화피막 제조방법을 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the method for producing an anodized film of an aluminum alloy with improved surface appearance according to the present invention will be described in more detail.

본 발명의 발명자들은 알루미늄 합금의 양극산화 공정 시 알루미늄 합금의 표면에 형성된 양극산화피막이 불균일하게 되는 현상을 억제하기 위한 방법에 대해 연구 개발 하던중, 종래 수산화나트륨을 포함한 에칭 용액으로 에칭하는 대신에 황산을 포함한 에칭 용액으로 에칭할 경우 알루미늄 합금의 표면에 형성된 양극산화피막이 균일하게 형성되어 고품질의 양극산화피막 표면을 얻을 수 있음을 밝혀내어 본 발명을 완성하였다.The inventors of the present invention have conducted research and development on a method for suppressing the phenomenon that an anodic oxidation coating formed on the surface of an aluminum alloy becomes uneven in the anodic oxidation process of an aluminum alloy. However, instead of etching with an etching solution containing sodium hydroxide, The present inventors have found that an anodized film formed on the surface of an aluminum alloy can be uniformly formed to obtain a high quality anodized film surface.

본 발명은 알루미늄 합금 표면을 탈지하는 단계; 탈지된 알루미늄 합금 표면을 황산이 포함된 에칭 용액으로 에칭하는 단계; 에칭된 알루미늄 합금 표면을 황산이 포함된 디서머트 용액으로 디서머트하는 단계; 디서머트된 알루미늄 합금 표면을 황산이 포함된 양극산화 용액으로 전압을 인가하여 양극산화하는 단계; 및 양극산화된 알루미늄 합금 표면을 니켈 아세테이트가 포함된 실링 용액으로 실링하는 단계;를 포함하는, 표면 외관이 개선된 알루미늄 합금의 양극산화피막 제조방법을 제공한다.The present invention relates to a method for manufacturing an aluminum alloy, comprising degreasing an aluminum alloy surface; Etching the degreased aluminum alloy surface with an etching solution containing sulfuric acid; Desmethylating the etched aluminum alloy surface with a desalting solution containing sulfuric acid; Anodizing the decomposed aluminum alloy surface by applying an electric voltage to an anodizing solution containing sulfuric acid; And sealing the anodized aluminum alloy surface with a sealing solution containing nickel acetate. The present invention also provides a method for manufacturing an anodic oxide film of an aluminum alloy with improved surface appearance.

상기 알루미늄 합금은 규소(Si) : 0.4 중량%, 철(Fe) : 0.4 중량%, 구리(Cu) : 0.1 중량%, 망간(Mn) : 0.4 내지 1.0 중량%, 마그네슘(Mg) : 4.0 내지 4.9 중량%, 아연(Zn) : 0.25 중량%, 크롬(Cr) : 0.05 내지 0.25 중량%, 티타늄(Ti) : 0.15 중량%를 함유하고, 나머지는 알루미늄 및 불가피한 불순물로 이루어진 알루미늄 합금일 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다.Wherein the aluminum alloy contains 0.4 wt% of silicon (Si), 0.4 wt% of iron (Fe), 0.1 wt% of copper, 0.4 to 1.0 wt% of manganese (Mn), 4.0 to 4.9 wt% of magnesium (Ti): 0.15% by weight, and the remainder being aluminum and unavoidable impurities, and it is preferable that the aluminum alloy is used in an amount of 0.05 to 0.25% by weight of zinc (Zn), 0.25% But is not limited to.

[표 1][Table 1]

Figure 112017026479426-pat00001
Figure 112017026479426-pat00001

구체적으로, 상기 알루미늄 합금은 AL5083 알루미늄 합금으로서(표 1 및 도 2 참조), 다른 알루미늄 합금과 마찬가지로 양극산화할 수 있지만, 합금 자체가 양극산화 품질(anodizing quality) 자체와는 연관이 없다.Specifically, the aluminum alloy is an AL5083 aluminum alloy (see Table 1 and FIG. 2) and can be anodized in the same manner as other aluminum alloys, but the alloy itself is not related to anodizing quality itself.

마그네슘 함량(contact)이 0.5 중량% ~ 1.1 중량%인 AL5005 알루미늄 합금, 마그네슘 함량이 1.2 중량% 이하인 다른 6xxx 타입의 알루미늄 합금 또는 순수(pure) 알루미늄의 경우 매우 높은 양극산화 품질(high-quality)을 보여준다는 것이다.AL5005 aluminum alloy with a magnesium content of 0.5 wt% to 1.1 wt%, another 6xxx type aluminum alloy with a magnesium content of 1.2 wt% or less, or pure aluminum has a very high anodic oxidation quality (high-quality) It shows.

다만, AL5083 알루미늄 합금의 마그네슘 함량은 불가피한 사실을 보여주는 데, 그것은 합금 구조(structure) 내의 마그네슘은 캐스팅(casting) 및 응결(solidification) 시 완전 균질 분포화(perfectly homogenous) 되지 않는다는 것이다.However, the magnesium content of the AL5083 aluminum alloy shows the inevitable fact that magnesium in the alloy structure is not perfectly homogenous in casting and solidification.

이것은 캐스팅의 기술적인 방법(technical design) 때문이 아니라, 알루미늄 고용체(solid solution)에서 마그네슘의 용해도(solubility)가 제한되어(limited) 그런 현상이 나타난다(도 3 참조).This is not due to the technical design of the casting but to the limited solubility of the magnesium in the solid solution (see FIG. 3).

도 4를 참조하면, 좌측(far left)에는 알루미늄에 마그네슘이 완전 용해(perfect solution)된 상태를 나타내고 있고, 이를 통해 온도가 낮아질수록 마그네슘의 용해도(solubility)가 낮아지는 것을 확인하였다.Referring to FIG. 4, the far left shows a state in which magnesium is perfectly dissolved in the aluminum, and as a result, the solubility of magnesium is lowered as the temperature is lowered.

붉은선은 더 높은 온도로부터 온도 축 방향(direction of the temperature)으로 향하고 있으며, P1에서 P2를 지나 P3를 지나는 선을 볼 수 있다. The red line is from a higher temperature pointing in the direction of the temperature, and you can see the line passing through P1 through P2 and past P3.

100℃에서 눈금 끝단부(end of scale)의 마그네슘 1 중량% 이상의 값은 이미 달성되며, AL5083 알루미늄 합금은 4.0 중량% ~ 4.9 중량%의 마그네슘 함량을 나타내고 있다. A value of at least 1 wt.% Of magnesium at the end of scale at 100 DEG C has already been achieved, and AL5083 aluminum alloy has a magnesium content of 4.0 wt.% To 4.9 wt.%.

따라서, 응고(solidification) 과정 중, β-상(phase)의 일부가 분리(excreted)되는 것을 막을 수 없다.Therefore, during the solidification process, it is not possible to prevent a part of the? -Phase from being excreted.

AL5083 알루미늄 합금의 모든 구조에서 알루미늄 완전용해(perfect solution) 부분과 β-상 상태(condition of phase) 양쪽 부분이 결과적으로 혼재되어 있는 현상(mixing zone)을 보여주고 있다.The AL5083 aluminum alloy shows a mixing zone in which both the perfect solution part and the β-phase conditional part are mixed together in all the structures.

이러한 β-상은 개별적으로 보이지 않는 Al3Mg2 입자로 구성되어 있는데, 이러한 입자들이 응고 과정 중에 서로 뭉치고, 그로 인하여 금속의 결정립계(grain boundaries)의 분리를 지속적으로 증가시킨다.These β-phases are individually invisible Al 3 Mg 2 These particles are clustered together during the solidification process, thereby continuously increasing the separation of the metal grain boundaries.

도 5를 참조하면, 양극산화를 위해 에칭 준비(run-up) 중에 있다고 한다면, 이러한 입자 축적물(particles accumulation)이 마그네슘 함량이 33 중량% ~ 37 중량%를 가짐으로써 축적물(accumulation)을 둘러싼 구조(structure surrounded)와 비교하여 다른 양상의 산세척 양식(different pickling behavior)을 보여주게 된다.5, if it is assumed during run-up for anodization that such particle accumulations have a magnesium content of 33% by weight to 37% by weight, And shows different pickling behavior in comparison to structure surrounded.

증가된 마그네슘 함량은 더 강한 산세척(stronger picking)을 유발(attack)하는데, 이런 강한 산세척 유발(stronger picking attack/ 더 어두운 외관)과 약한 산세척 유발(weaker pickling/더 밝은 외관)을 일으킨다. 결과는 외관불량(optical error)으로 이어지는 문제점이 있다.Increased magnesium content causes stronger picking, which results in stronger picking attack and weaker pickling (brighter appearance). The result is a problem that leads to an optical error.

또한, 도 6을 참조하면, AL5083 알루미늄 합금의 표면 불량 형상은 알카리 에칭(alkaine etching)후 보이게 된다.Also, referring to FIG. 6, the surface defective shape of AL5083 aluminum alloy is seen after alkaine etching.

구체적으로, 불량 형상의 어두운 부분의 마그네슘 함량은 밝은 부분보다 미약하게 낮다. 양쪽 면(both area)의 표면을 측정하면, 한 곳은 마그네슘 함량이 더 낮은(lower) 부분의 양극산화 층(anodizing layer)의 바로 아래(underneath) 부분이 1 내지 2 ㎛가 더 증가된 것을 인지할 수 있다. 이를 통해 더 낮은 마그네슘 함량은 양극산화 전 표면에 더 약한 산세척(weaker picking attack)을 유발함을 알 수 있다.Specifically, the magnesium content of the dark portion of the defective shape is slightly lower than that of the bright portion. When the surface of both areas is measured, it is recognized that the underneath portion of the anodizing layer at the lower part of the magnesium content is further increased by 1 to 2 μm can do. It can be seen that the lower magnesium content causes a weaker picking attack on the surface before anodizing.

Al-Mg 계열인 Al5083 알루미늄 합금 자체는 한 배치에서 주조되었다고 하더라도 에이징(Aging) 시간의 편차 및 합금 내, 첨가물의 분포에 따라 균일한 구조를 구현하기 어렵다. 따라서 종래에는 알루미늄 합금 균질화(Homogenization)처리를 통해 결정립계의 완화와 미세 편석을 통한 재석출을 유도하고 있으나 AL5083 알루미늄 합금의 경우, 높은 마그네슘 함량으로 인한 소재 자체의 한계를 가지고 있다.Even though Al-Mg-based Al5083 aluminum alloy itself is cast in one batch, it is difficult to realize a uniform structure due to variations in aging time and distribution of additives in the alloy. Therefore, conventionally, aluminum alloy homogenization treatment induces grain boundary relaxation and re-precipitation through micro segregation. However, AL5083 aluminum alloy has a limit of material itself due to high magnesium content.

따라서, AL5083 알루미늄 합금의 양극산화 품질은 현재 양극산화 공정의 조정 및 공정 프로세스 개발에 의하여 불량 위험을 최소화 또는 없는 방법이 효율적이다.Therefore, the anodic oxidation quality of AL5083 aluminum alloy is effective by minimizing or eliminating the risk of badness by adjusting current anodization process and developing process process.

양극산화 공정은 알루미늄 합금의 외관 품질을 도모하고, 산화피막을 인위적으로 생성하여 합금에 필연적으로 첨가되는 성분에 의한 금속간 화합물에 의한 부식을 방지하여 균질한 산화피막을 형성한다.The anodic oxidation process improves the appearance quality of the aluminum alloy and artificially generates an oxide film to prevent corrosion by an intermetallic compound due to components that are necessarily added to the alloy, thereby forming a homogeneous oxide film.

AL5083 알루미늄 합금의 경우 AL5052 알루미늄 합금에 비하여 마그네슘의 함량이 높아 산화 피막의 균질 도포를 방해한다.In case of AL5083 aluminum alloy, magnesium content is higher than AL5052 aluminum alloy, which prevents homogeneous coating of the oxide film.

따라서, 마그네슘 등 AL5083 알루미늄 합금 내 포함된 결정질 및 분순물을 제거하고, 양극산화의 표면 시각 품질을 균질화를 이루기 위하여 하기 설명하는 에칭 공정 내 화학처리제 및 농도 시간 등을 조절하여 비용대비 최선의 결과를 도출한다(도 7 참조).Therefore, in order to remove the crystalline and impurities contained in the AL5083 aluminum alloy such as magnesium and to homogenize the surface visual quality of the anodic oxidation, the chemical treatment agent and the concentration time in the etching process described below are adjusted to obtain the best result for the cost (See FIG. 7).

상기 에칭하는 단계는 탈지된 알루미늄 합금 표면을 42 내지 45 M(mol/ℓ)의 황산이 포함된 에칭 용액으로 50 내지 60℃에서 10 내지 20분 동안 에칭할 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다.The etching may be performed by etching the degreased aluminum alloy surface with an etching solution containing 42 to 45 M (mol / l) sulfuric acid at 50 to 60 ° C for 10 to 20 minutes, but is not limited thereto.

구체적으로, 도 8을 참조하면, 알루미늄은 양쪽성 금속으로 산과 염기에 모두 반응한다. 화학적 용해반응을 이용하여 알루미늄의 표면을 매끄럽게 깍아 주는 공정인 에칭 공정을 통해 금속원자가 산화되어 양이온이 되려는 경향을 이용한 에칭 공정을 진행한다. 에칭 공정을 통해 알루미늄 합금 표면에 존재하는 산화물을 제거하고 균일한 표면을 생성하여 표면 처리 성능 및 표면 조도를 향상시키기 위해 수행한다.Specifically, referring to Fig. 8, aluminum is an amphoteric metal that reacts with both acid and base. The etching process using the tendency of the metal atoms to be oxidized and become positive ions through an etching process which is a process of smoothing out the surface of aluminum using a chemical dissolution reaction is performed. Is performed in order to remove the oxides present on the surface of the aluminum alloy through an etching process and to produce a uniform surface to improve surface treatment performance and surface roughness.

상기 디서머트하는 단계는 에칭된 알루미늄 합금 표면을 18 내지 20 M(mol/ℓ)의 황산이 포함된 디서머트 용액으로 18 내지 22℃에서 1 내지 3분 동안 디서머트할 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다.The desermetting step may deselect the etched aluminum alloy surface at 18-22 ° C for 1 to 3 minutes with a desmeart solution containing 18-20 M (mol / l) sulfuric acid, But is not limited to.

상기 양극산화하는 단계는 디서머트된 알루미늄 합금 표면을 18 내지 20 M(mol/ℓ)의 황산이 포함된 양극산화 용액으로 10 내지 20 V의 전압을 인가하여 15 내지 25분 동안 양극산화할 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다.The anodizing step may be performed by anodizing the decomposed aluminum alloy surface by an anodizing solution containing sulfuric acid of 18 to 20 M (mol / l) for 15 to 25 minutes by applying a voltage of 10 to 20 V But is not limited thereto.

구체적으로, 디서머트된 알루미늄 합금 표면을 18 내지 20 M(mol/ℓ)의 황산이 포함된 양극산화 용액으로 10 내지 20 V의 전압을 인가하여 15 내지 25분 동안 양극산화함으로써 알루미늄 양극산화피막을 생성한다. 산화물 형성과정은 하기 화학식 1과 같다.Specifically, the anodized aluminum alloy surface is anodized for 15 to 25 minutes by applying a voltage of 10 to 20 V with an anodizing solution containing sulfuric acid of 18 to 20 M (mol / l) . The oxide formation process is shown in the following chemical formula 1.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

2Al + 3H2SO4 + 16H2O ↔ Al2(SO4)316H2O + 3H2↑ ↔ Al2O3 + 3H2SO4 + 13H2O2Al + 3H 2 SO 4 + 16H 2 O ↔Al 2 (SO 4 ) 3 16H 2 O + 3H 2 ↑ Al 2 O 3 + 3H 2 SO 4 + 13H 2 O

상기 화학식 1을 통해 생성된 양극산화피막의 물성은 10 내지 20 nm의 미세공(pore) 직경, 9.4 ㎛의 미세공 길이, 및 15%의 공극률(Porosity)을 나타내며, 상기 화학식 x를 통해 생성된 양극산화피막의 조성은 알루미나(80 중량%), 알루미늄황산염(18 중량%), 및 물(2 중량%)로 이루어져 있다(도 9 참조).The physical properties of the anodized film produced through the above formula (1) exhibit a pore diameter of 10 to 20 nm, a microporous length of 9.4 μm, and a porosity of 15% The composition of the anodic oxide coating is composed of alumina (80 wt%), aluminum sulfate (18 wt%), and water (2 wt%) (see Fig.

상기 실링하는 단계는 양극산화된 알루미늄 합금 표면을 3 내지 5 M(mol/ℓ)의 니켈 아세테이트가 포함된 실링 용액으로 20 내지 30℃에서 15 내지 25분 동안 실링할 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다.The sealing may be performed by sealing the anodized aluminum alloy surface with a sealing solution containing 3 to 5 M (mol / l) of nickel acetate at 20 to 30 ° C for 15 to 25 minutes, but not limited thereto .

이하, 하기 실시예에 의해 본 발명인 표면 외관이 개선된 알루미늄 합금의 양극산화피막 제조방법을 보다 상세하게 설명한다. 다만, 이러한 실시예에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the method for producing an anodized film of an aluminum alloy with improved surface appearance according to the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited by these examples.

<< 실시예Example 1> 표면 외관이 개선된 알루미늄 합금의  1> Aluminum alloy with improved surface appearance 양극산화피막Anodic oxidation coating 제조 Produce

1. 탈지 공정1. Degreasing Process

규소(Si) : 0.4 중량%, 철(Fe) : 0.4 중량%, 구리(Cu) : 0.1 중량%, 망간(Mn) : 0.4 내지 1.0 중량%, 마그네슘 : 4.0 내지 4.9 중량%, 아연(Zn) : 0.25 중량%, 크롬(Cr) : 0.05 내지 0.25 중량%, 티타늄(Ti) : 0.15 중량%를 함유하고, 나머지는 알루미늄 및 불가피한 불순물로 이루어진 알루미늄 합금(AL5083)을 계면활성제(제품명 DR-500)로 25 내지 30℃에서 15분 동안 탈지(Degreasing) 공정을 통해 알루미늄 합금(AL5083) 표면에 부착되어 있는 유지성 오염물질을 제거한 후 증류수로 세정하였다.0.4 wt% of silicon, 0.4 wt% of iron, 0.1 wt% of copper, 0.4 to 1.0 wt% of manganese, 4.0 to 4.9 wt% of magnesium, (Product name DR-500) containing 0.25 wt% of chromium (Cr), 0.05 to 0.25 wt% of titanium (Ti) and 0.15 wt% of titanium and the balance of aluminum and inevitable impurities, (AL5083) was removed by degreasing at 25 to 30 ° C for 15 minutes, followed by washing with distilled water.

2. 에칭 공정2. Etching process

45 M(mol/ℓ)의 황산(H2SO4, 98%)을 포함하는 에칭 용액으로 탈지 처리된 알루미늄 합금(AL5083) 표면을 55℃에서 15분 동안 에칭한 후 증류수로 세정하였다.The surface of the aluminum alloy (AL5083) degreased with an etching solution containing 45 M (mol / l) sulfuric acid (H 2 SO 4 , 98%) was etched at 55 ° C for 15 minutes and then rinsed with distilled water.

3. 3. 디서머트Decommert 공정 fair

18 M(mol/ℓ)의 황산(H2SO4, 98%)을 포함하는 디서머트 용액으로 에칭된 알루미늄 합금(AL5083) 표면을 20℃에서 2분 동안 디서머트한 후 증류수로 세정하였다.The aluminum alloy (AL5083) surface etched with a dissolution solution containing 18 M (mol / l) sulfuric acid (H 2 SO 4 , 98%) was demersatted at 20 ° C. for 2 minutes and then rinsed with distilled water .

4. 양극산화 공정4. Anodizing process

알루미늄 합금(AL5083) 표면에 잔존하는 서머트를 제거한 후 18 M(mol/ℓ)의 황산(H2SO4, 98%)을 포함하는 양극산화 용액으로 15 V의 전압을 인가하여 18 내지 22℃에서 20분 동안 양극산화 한 후 증류수로 세정하였다.Aluminum alloy (AL5083), remove the daylight saving agent remaining on the surface 18 M (mol / ℓ) of sulfuric acid (H 2 SO 4, 98% ) by applying a 15 V voltage to the anodizing solution containing 18 to 22 ℃ of For 20 minutes and then rinsed with distilled water.

5. 실링 공정5. Sealing process

알루미늄 합금(AL5083) 표면에 양극산화 처리 후 5 M(mol/ℓ)의 니켈 아세테이트를 포함하는 실링 용액으로 20 내지 30℃에서 20분 동안 실링 처리하여 18 내지 22 ㎛의 산화피막을 갖는 알루미늄 합금을 제조하였다.The surface of the aluminum alloy (AL5083) was anodized and then subjected to a sealing treatment at 20 to 30 DEG C for 20 minutes with a sealing solution containing 5 M (mol / L) of nickel acetate to obtain an aluminum alloy having an oxide film of 18 to 22 mu m .

<< 실시예Example 2> 표면 외관이 개선된 알루미늄 합금의  2> Aluminum alloy with improved surface appearance 양극산화피막Anodic oxidation coating 제조 Produce

45 M(mol/ℓ)의 황산(H2SO4, 98%)을 포함하는 에칭 용액으로 탈지 처리된 알루미늄 합금(AL5083) 표면을 60℃에서 15분 동안 에칭한 후 증류수로 세정한 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 조건으로 18 내지 22 ㎛의 양극산화피막을 갖는 알루미늄 합금을 제조하였다.45 M except that the cleaning sulfuric acid (H 2 SO 4, 98% ) the degreased aluminum alloy with an etching solution comprising (AL5083) surface of the (mol / ℓ) to then at 60 ℃ etching for 15 minutes with distilled water, and , An aluminum alloy having an anodic oxide coating of 18 to 22 mu m was produced under the same conditions as in Example 1 above.

<< 비교예Comparative Example 1> 1>

1. 탈지 공정1. Degreasing Process

규소(Si) : 0.4 중량%, 철(Fe) : 0.4 중량%, 구리(Cu) : 0.1 중량%, 망간(Mn) : 0.4 내지 1.0 중량%, 마그네슘 : 4.0 내지 4.9 중량%, 아연(Zn) : 0.25 중량%, 크롬(Cr) : 0.05 내지 0.25 중량%, 티타늄(Ti) : 0.15 중량%를 함유하고, 나머지는 알루미늄 및 불가피한 불순물로 이루어진 알루미늄 합금(AL5083)을 계면활성제(제품명 DR-500)로 25 내지 30℃에서 5 내지 10분 동안 탈지(Degreasing) 공정을 통해 알루미늄 합금(AL5083) 표면에 부착되어 있는 유지성 오염물질을 제거한 후 증류수로 세정하였다.0.4 wt% of silicon, 0.4 wt% of iron, 0.1 wt% of copper, 0.4 to 1.0 wt% of manganese, 4.0 to 4.9 wt% of magnesium, (Product name DR-500) containing 0.25 wt% of chromium (Cr), 0.05 to 0.25 wt% of titanium (Ti) and 0.15 wt% of titanium and the balance of aluminum and inevitable impurities, (AL5083) was removed from the aluminum alloy (AL5083) through a degreasing process at 25 to 30 DEG C for 5 to 10 minutes, followed by washing with distilled water.

2. 에칭 공정2. Etching process

5 M(mol/ℓ)의 수산화나트륨(NaOH, 98%)을 포함하는 에칭 용액으로 탈지 처리된 알루미늄 합금(AL5083) 표면을 40 내지 50℃에서 30초 내지 3분 동안 에칭한 후 증류수로 세정하였다.The surface of the aluminum alloy (AL5083) degreased with an etching solution containing 5 M (mol / l) of sodium hydroxide (NaOH, 98%) was etched at 40 to 50 ° C for 30 seconds to 3 minutes and then rinsed with distilled water .

3. 3. 디서머트Decommert 공정 fair

35 M(mol/ℓ)의 질산(HNO3, 98%)을 포함하는 디서머트 용액으로 에칭된 알루미늄 합금(AL5083) 표면을 18 내지 20℃에서 30초 내지 1분 동안 디서머트한 후 증류수로 세정하였다.35 M (mol / ℓ) of nitric acid (HNO 3, 98%) D. Sommer agent solution the aluminum alloy (AL5083) the surface at 18 to 20 ℃ for 30 seconds to 1 minute di After Summer bit distilled etched in containing the .

4. 양극산화 공정4. Anodizing process

알루미늄 합금(AL5083) 표면에 잔존하는 서머트를 제거한 후 18 M(mol/ℓ)의 황산(H2SO4, 98%)을 포함하는 양극산화 용액으로 15 V의 전압을 인가하여 18℃에서 26 내지 30분 동안 양극산화 한 후 증류수로 세정하였다.Aluminum alloy (AL5083), remove the daylight saving agent remaining on the surface 18 M (mol / ℓ) of sulfuric acid (H 2 SO 4, 98% ) in 18 ℃ 26 by applying a 15 V voltage to the anodizing solution containing For 30 minutes and then rinsed with distilled water.

5. 실링 공정5. Sealing process

알루미늄 합금(AL5083) 표면에 양극산화 처리 후 5 M(mol/ℓ)의 니켈 아세테이트를 포함하는 실링 용액으로 18 내지 20℃에서 19 내지 21분 동안 실링 처리하여 17 내지 28 ㎛의 산화피막을 갖는 알루미늄 합금을 제조하였다.The surface of the aluminum alloy (AL5083) was anodized and then subjected to a sealing treatment at 18 to 20 DEG C for 19 to 21 minutes in a sealing solution containing 5 M (mol / l) of nickel acetate to obtain an aluminum Alloy.

<< 실험예Experimental Example 1> 알루미늄1> Aluminum 합금의  Alloy 양극산화피막의Anodic oxidation coating 품질 분석 Quality analysis

본 발명에 따른 실시예 1 및 실시예 2와, 비교예 1에 따라 제조된 알루미늄 합금의 양극산화피막의 표면의 품질을 분석하였다.The quality of the surface of the anodized film of the aluminum alloy produced according to Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 according to the present invention was analyzed.

구체적으로, 비교예 1에 따라 수산화나트륨 수용액이 포함된 에칭 용액으로 AL5083 알루미늄 합금을 에칭한 후 양극산화 공정을 통해 얻어진 양극산화피막은 마그네슘 결정체에 의해 외관 불량이 개선되지 않음을 확인하였다(도 10 참조).Specifically, it was confirmed that the anodic oxide coating obtained through the anodic oxidation process after the AL5083 aluminum alloy was etched with the etching solution containing an aqueous solution of sodium hydroxide according to Comparative Example 1 was not improved in appearance defects due to the magnesium crystals (FIG. 10 Reference).

구체적으로, 하기 화학식 2는 AL5083 알루미늄 합금의 에칭 공정 시 수반되는 화학반응을 나타낸 것이다.Specifically, the following chemical formula 2 represents the chemical reaction involved in the etching process of AL5083 aluminum alloy.

[화학식 2](2)

2Al +2NaOH+H2O → 2NaAlO2 +3H2 또는 2Al +2OH- + 6H2O → 2Al(OH)- 4 +3H2 → 2NaAlO2 + 3H2O → 2Al(OH)3 ↓ + 2NaOH 2Al + 2NaOH + H 2 O → 2NaAlO 2 + 3H 2 or 2Al + 2OH - + 6H 2 O → 2Al (OH) - 4 + 3H 2 → 2NaAlO 2 + 3H 2 O → 2Al (OH) 3 ↓ + 2NaOH

상기 화학식 2를 참조하면, 산화 알루미늄과 금속 알루미늄은 수산화 나트륨과 반응하여 알루민산나트륨을 생성한다.Referring to Formula 2, aluminum oxide and metal aluminum react with sodium hydroxide to produce sodium aluminate.

[화학식 3](3)

2NaOH + Al2O3 = 2NaAlO2 + H2O2NaOH + Al 2 O 3 = 2NaAlO 2 + H 2 O

상기 화학식 3을 참조하면, 수소가스를 발생하면서 알루미늄은 부식되어 용액으로 전환되어 알루미늄 표면의 산화막을 부식시킨다.Referring to Formula 3, aluminum is corroded while generating hydrogen gas to convert into a solution, thereby corroding the oxide film on the aluminum surface.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

2NaOH + Al + 2H2O = 2NaAlO2 + 3H2 2NaOH + Al + 2H 2 O = 2NaAlO 2 + 3H 2

상기 화학식 4를 참조하면, 이는 알루민산나트륨을 만들고 물이 생성된다. Referring to the above formula (4), sodium aluminate is produced and water is produced.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

2NaAlO2 + 3H2O = 2Al(OH)3 ↓ + 2NaOH2NaAlO 2 + 3H 2 O = 2Al (OH) 3 ↓ + 2NaOH

수산화나트륨 에칭은 알루미늄만 녹이고 합금성분은 표면에 그대로 남아 있는 현상을 제거하지 못한다.Sodium hydroxide etching does not remove the phenomenon that only aluminum is melted and the alloy component remains on the surface.

도 11을 참조하면, 마그네슘 등 결정계 합금원소가 수산화나트륨 에칭 공정에서 제거 되지 않아 양극산화 시 산화피막의 불균일 생성하게 하여 표면의 조도 및 외관 불량을 일으키므로 마그네슘 함량이 높은 AL5083 알루미늄 합금의 에칭 용액으로 수산화나트륨은 적합하지 않음을 알 수 있다.Referring to FIG. 11, since an element such as magnesium is not removed in the sodium hydroxide etching process, unevenness of an oxide film is generated during anodic oxidation, thereby causing surface roughness and poor appearance. Therefore, an etching solution of AL5083 aluminum alloy having a high magnesium content It can be seen that sodium hydroxide is not suitable.

반면에, 도 12를 참조하면, 본 발명에 따른 실시예 1 및 실시예 2에 따라 황산이 포함된 에칭 용액으로 에칭하였을 때 AL5083 알루미늄 합금의 에칭 후 양극산화피막의 외관이 현저히 개선되었음을 확인하였다.On the other hand, referring to FIG. 12, when the etching solution containing sulfuric acid was etched according to Example 1 and Example 2 according to the present invention, it was confirmed that the appearance of the anodized coating after AL5083 aluminum alloy etching was remarkably improved.

구체적으로, 마그네슘은 2가 양이온화 경향이 있고, SO4 2- 는 2가 음이온으로 마그네슘 이온이 황산이온과 결합하여 AL5083 알루미늄 합금의 표면 불균일을 유발하는 마그네슘 결정체를 제거 또는 환원시키는 역할을 하기 때문에 AL5083 알루미늄 합금의 에칭 용액으로 황산을 포함하는 것이 더 적합함을 알 수 있다(도 13 참조).Specifically, magnesium tends to have a divalent cationization, and SO 4 2- is a divalent anion, which acts to remove or reduce magnesium crystals that cause magnesium ions to bond with sulfate ions to cause surface unevenness of AL 5083 aluminum alloy It can be seen that sulfuric acid is more suitable as an etching solution of AL5083 aluminum alloy (see FIG. 13).

다만, 실시예 2의 경우, 실시예 1 보다 에칭 시 온도를 높여 수행하였고, 이 경우 에칭력이 좋아지나, 일정 수준 이상의 온도는 관리의 어려움과 에칭력의 저하가 발생하므로, 본 발명의 실시예 1 및 실시예 2에 따라 황산이 포함된 에칭 용액으로 에칭하는 것이 바람직함을 알 수 있다(도 12 참조).However, in the case of Example 2, the etching temperature was increased to higher than that in Example 1, and in this case, the etching power was improved. However, a temperature higher than a certain level caused difficulties in maintenance and deterioration of etching power. 1 and the etching solution containing sulfuric acid according to Example 2 (see FIG. 12).

이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속한 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 내용을 바탕으로 본 발명의 범주내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be possible to carry out various applications and modifications.

Claims (5)

알루미늄 합금 표면을 탈지하는 단계;
탈지된 알루미늄 합금 표면을 황산이 포함된 에칭 용액으로 에칭하는 단계;
에칭된 알루미늄 합금 표면을 황산이 포함된 디서머트 용액으로 디서머트하는 단계;
디서머트된 알루미늄 합금 표면을 황산이 포함된 양극산화 용액으로 전압을 인가하여 양극산화하는 단계; 및
양극산화된 알루미늄 합금 표면을 니켈 아세테이트가 포함된 실링 용액으로 실링하는 단계;를 포함하되,
상기 에칭하는 단계는,
탈지된 알루미늄 합금 표면을 42 내지 45 M(mol/ℓ)의 황산이 포함된 에칭 용액으로 50 내지 60℃에서 10 내지 20분 동안 에칭하고,
상기 디서머트하는 단계는,
에칭된 알루미늄 합금 표면을 18 내지 20 M(mol/ℓ)의 황산이 포함된 디서머트 용액으로 18 내지 22℃에서 1 내지 3분 동안 디서머트하며,
상기 양극산화하는 단계는,
디서머트된 알루미늄 합금 표면을 18 내지 20 M(mol/ℓ)의 황산이 포함된 양극산화 용액으로 10 내지 20 V의 전압을 인가하여 15 내지 25분 동안 양극산화하고,
상기 실링하는 단계는,
양극산화된 알루미늄 합금 표면을 3 내지 5 M(mol/ℓ)의 니켈 아세테이트가 포함된 실링 용액으로 20 내지 30℃에서 15 내지 25분 동안 실링하는 것을 특징으로 하는, 표면 외관이 개선된 알루미늄 합금의 양극산화피막 제조방법.
Degreasing the aluminum alloy surface;
Etching the degreased aluminum alloy surface with an etching solution containing sulfuric acid;
Desmethylating the etched aluminum alloy surface with a desalting solution containing sulfuric acid;
Anodizing the decomposed aluminum alloy surface by applying an electric voltage to an anodizing solution containing sulfuric acid; And
Sealing the anodized aluminum alloy surface with a sealing solution comprising nickel acetate,
Wherein the etching comprises:
The degreased aluminum alloy surface was etched for 10 to 20 minutes at 50 to 60 DEG C with an etching solution containing 42 to 45 M (mol / l) sulfuric acid,
Wherein the deselecting comprises:
Desalting the etched aluminum alloy surface at 18-22 &lt; 0 &gt; C for 1 to 3 minutes with a desmeart solution containing 18-20 M (mol / l) sulfuric acid,
Wherein the anodizing comprises:
The depolymerized aluminum alloy surface is anodized for 15 to 25 minutes by applying a voltage of 10 to 20 V with an anodizing solution containing sulfuric acid of 18 to 20 M (mol / l)
Wherein the sealing comprises:
Characterized in that the anodized aluminum alloy surface is sealed with a sealing solution containing 3 to 5 M (mol / l) of nickel acetate at 20 to 30 DEG C for 15 to 25 minutes. A method for manufacturing an anodized film.
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