KR101750451B1 - Particle removing apparatus for high purity hexachlorodisilane - Google Patents

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Abstract

고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치가 개시된다.
개시되는 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치는 정제 대상인 헥사클로로디실란이 수용되는 원재료 수용 탱크 부재; 상기 원재료 수용 탱크 부재로부터 유동되는 상기 헥사클로로디실란 내의 파티클을 필터링하는 필터링 부재; 상기 필터링 부재를 경유한 상기 헥사클로로디실란 내의 파티클을 카운팅하는 파티클 카운팅 부재; 상기 파티클 카운팅 부재에서 카운팅된 파티클이 미리 설정된 허용 범위 내에 있는 경우, 상기 파티클 카운팅 부재를 경유한 상기 헥사클로로디실란을 수용하는 리시버 탱크 부재; 및 상기 원재료 수용 탱크 부재로부터 유동되는 상기 헥사클로로디실란이 상기 필터링 부재, 상기 파티클 카운팅 부재 및 상기 리시버 탱크 부재를 따라 연속적인 흐름으로 유동되도록, 상기 원재료 수용 탱크 부재, 상기 필터링 부재, 상기 파티클 카운팅 부재 및 상기 리시버 탱크 부재를 순차적으로 연결하는 연결 배관;을 포함한다.
개시되는 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치에 의하면, 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치가 원재료 수용 탱크 부재와, 필터링 부재와, 파티클 카운팅 부재와, 리시버 탱크 부재와, 연결 배관을 포함함에 따라, 헥사클로로디실란이 외부와 차단된 상태로 상기 연결 배관을 따라 연속적으로 유동되면서 필터링, 파티클 카운팅 및 이동을 위한 이송 등의 취급이 이루어질 수 있고, 그러한 헥사클로로디실란의 취급 과정 중에 공기 중의 수분 또는 산소와의 헥사클로로디실란의 접촉이 억제되어 이물질 생성이 방지될 수 있게 되고, 헥사클로로디실란의 생산 효율성이 향상되며, 헥사클로로디실란이 안전하게 제조될 수 있게 되는 장점이 있다.A high purity hexachlorodisilane particle removal apparatus is disclosed.
An apparatus for removing high purity hexachlorodisilane particles, comprising: a raw material receiving tank member containing hexachlorodisilane to be purified; A filtering member for filtering particles in the hexachlorodisilane flowing from the raw material receiving tank member; A particle counting member for counting particles in the hexachlorodisilane via the filtering member; A receiver tank member receiving the hexachlorodisilane via the particle counting member when the particles counted in the particle counting member are within a predetermined allowable range; And the hexachlorodisilane flowing from the raw material receiving tank member flows in a continuous flow along the filtering member, the particle counting member, and the receiver tank member, wherein the raw material receiving tank member, the filtering member, And a connection pipe for sequentially connecting the member and the receiver tank member.
According to the disclosed high purity hexachlorodisilane particle removing apparatus, since the high purity hexachlorodisilane particle removing apparatus includes the raw material receiving tank member, the filtering member, the particle counting member, the receiver tank member, and the connecting pipe, Handling such as filtration, particle counting, and transfer for movement can be performed while chlorodisilane is continuously flowing along the connection pipe while being shielded from the outside, and the handling of such hexachlorodisilane, It is possible to prevent the formation of foreign substances, to improve the production efficiency of hexachlorodisilane, and to securely produce hexachlorodisilane.

Description

고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치{Particle removing apparatus for high purity hexachlorodisilane}[0001] The present invention relates to a high purity hexachlorodisilane particle removing apparatus,

고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치에 관한 것이다.To a high purity hexachlorodisilane particle removing apparatus.

메모리 소자의 초고집적화를 위한 패턴 미세화를 위한 공정에서 포토레지스트와 함께 패턴 구현의 핵심 소재로 이용되는 것이 헥사클로로디실란이다.Hexachlorodisilane is used as a core material for patterning with photoresist in the process for miniaturizing patterns for ultra-high integration of memory devices.

이러한 헥사클로로디실란은 LPCVD(low pressure chemical vapor deposition) 장치에 의해 SiN 또는 SiO2 박막으로 구현되는데, 이러한 구현 과정에서 가장 문제시되는 것이 헥사클로로디실란에 포함된 파티클이다.The hexachlorodisilane is SiN or SiO 2 by the LPCVD (low pressure chemical vapor deposition) device Thin film is the most problematic part of this implementation process is particles contained in hexachlorodisilane.

헥사클로로디실란이 공기 중에 노출되면, 공기 중의 수분 또는 산소와 반응하여 HCl, SiO2 파우더 등의 이물질을 생성하고, 이로 인해 헥사클로로디실란 자체의 순도가 저하되어, 반도체 소자의 증착 시 성능에 악영향을 미치게 된다.When hexachlorodisilane is exposed to air, it reacts with moisture or oxygen in the air to generate foreign substances such as HCl and SiO 2 powder. As a result, the purity of hexachlorodisilane itself is lowered, It will have an adverse effect.

따라서, 이러한 헥사클로로디실란의 이동 등 취급 시에 공기와의 접촉을 최대한 억제하여야 한다.Therefore, when handling such hexachlorodisilane, contact with air should be minimized.

그러나, 종래에는, 하기된 특허공개문헌과 같이 고순도 헥사클로로디실란을 어렵게 수득하였어도, 이러한 고순도 헥사클로로디실란을 대형 탱크에서 작은 소형 탱크 등으로 옮겨 담는 등의 취급 과정을 작업자가 수작업으로 수행하였기에, 헥사클로로디실란이 공기 중의 수분 또는 산소와 반응하여 이물질이 다량 발생되는 문제가 있었다.However, conventionally, even when the high purity hexachlorodisilane is hardly obtained as in the following patent publications, since the operator manually handles such handling processes as transferring such high purity hexachlorodisilane from a large tank to a small small tank or the like , There is a problem that hexachlorodisilane reacts with moisture or oxygen in the air to generate a large amount of foreign matter.

공개특허 제 10-2010-0066528호, 공개일자: 2010.06.17., 발명의 명칭: 고순도 헥사클로로디실란의 제조 방법Title of Invention: Process for producing high purity hexachlorodisilane

본 발명은 헥사클로로디실란의 취급 과정 중에 공기 중의 수분 또는 산소와의 헥사클로로디실란의 접촉이 억제되어 이물질 생성이 방지될 수 있고 헥사클로로디실란의 생산 효율성이 향상되며 헥사클로로디실란이 안전하게 제조될 수 있는 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.The present invention relates to a process for the treatment of hexachlorodisilane, in which the contact of hexachlorodisilane with moisture or oxygen in the air is inhibited, foreign matter production can be prevented, the production efficiency of hexachlorodisilane is improved and hexachlorodisilane is safely It is an object of the present invention to provide a high purity hexachlorodisilane particle removing apparatus which can be manufactured.

본 발명의 일 측면에 따른 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치는 정제 대상인 헥사클로로디실란이 수용되는 원재료 수용 탱크 부재; 상기 원재료 수용 탱크 부재로부터 유동되는 상기 헥사클로로디실란 내의 파티클을 필터링하는 필터링 부재; 상기 필터링 부재를 경유한 상기 헥사클로로디실란 내의 파티클을 카운팅하는 파티클 카운팅 부재; 상기 파티클 카운팅 부재에서 카운팅된 파티클이 미리 설정된 허용 범위 내에 있는 경우, 상기 파티클 카운팅 부재를 경유한 상기 헥사클로로디실란을 수용하는 리시버 탱크 부재; 상기 원재료 수용 탱크 부재로부터 유동되는 상기 헥사클로로디실란이 상기 필터링 부재, 상기 파티클 카운팅 부재 및 상기 리시버 탱크 부재를 따라 연속적인 흐름으로 유동되도록, 상기 원재료 수용 탱크 부재, 상기 필터링 부재, 상기 파티클 카운팅 부재 및 상기 리시버 탱크 부재를 순차적으로 연결하는 연결 배관; 및 상기 리시버 탱크 부재와 상기 원재료 수용 탱크 부재를 연결하는 리사이클 배관;을 포함하고,
상기 파티클 카운팅 부재에서 카운팅된 파티클이 상기 미리 설정된 허용 범위를 벗어난 경우, 상기 리시버 탱크 부재로 유동된 상기 헥사클로로디실란이 상기 리시버 탱크 부재에 수용되지 않고 상기 리시버 탱크 부재를 그대로 경유하여 상기 리사이클 배관을 통해 상기 원재료 수용 탱크 부재로 환류되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an apparatus for removing high purity hexachlorodisilane particles, comprising: a raw material receiving tank member containing hexachlorodisilane to be purified; A filtering member for filtering particles in the hexachlorodisilane flowing from the raw material receiving tank member; A particle counting member for counting particles in the hexachlorodisilane via the filtering member; A receiver tank member receiving the hexachlorodisilane via the particle counting member when the particles counted in the particle counting member are within a predetermined allowable range; Wherein the hexachlorodisilane flowing from the raw material receiving tank member flows in a continuous flow along the filtering member, the particle counting member, and the receiver tank member, the raw material receiving tank member, the filtering member, And a connection pipe for sequentially connecting the receiver tank member; And a recycling pipe for connecting the receiver tank member and the raw material receiving tank member,
The hexachlorodisilane flowing into the receiver tank member is not accommodated in the receiver tank member and the receiver tank member is directly passed through the recycling pipe member when the particle counted in the particle counting member is out of the predetermined allowable range, To the raw material receiving tank member.

본 발명의 일 측면에 따른 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치에 의하면, 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치가 원재료 수용 탱크 부재와, 필터링 부재와, 파티클 카운팅 부재와, 리시버 탱크 부재와, 연결 배관을 포함함에 따라, 헥사클로로디실란이 외부와 차단된 상태로 상기 연결 배관을 따라 연속적으로 유동되면서 필터링, 파티클 카운팅 및 이동을 위한 이송 등의 취급이 이루어질 수 있고, 그러한 헥사클로로디실란의 취급 과정 중에 공기 중의 수분 또는 산소와의 헥사클로로디실란의 접촉이 억제되어 이물질 생성이 방지될 수 있게 되고, 헥사클로로디실란의 생산 효율성이 향상되며, 헥사클로로디실란이 안전하게 제조될 수 있게 되는 효과가 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a high purity hexachlorodisilane particle removing apparatus comprising a raw material tank member, a filtering member, a particle counting member, a receiver tank member, and a connection pipe The hexachlorodisilane can be continuously flowed along the connection pipe while being blocked from the outside, and handling such as filtering, particle counting, and transfer for movement can be performed, and during handling of such hexachlorodisilane The contact of hexachlorodisilane with moisture or oxygen in the air is inhibited to prevent the formation of foreign materials, the production efficiency of hexachlorodisilane is improved, and hexachlorodisilane can be safely produced .

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치의 구성을 개략적으로 보이는 도면.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치의 구성을 개략적으로 보이는 도면.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic view of a high-purity hexachlorodisilane particle removing apparatus according to an embodiment of the present invention; FIG.
FIG. 2 is a schematic view showing a configuration of a high purity hexachlorodisilane particle removing apparatus according to another embodiment of the present invention. FIG.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치에 대하여 설명한다.Hereinafter, a high purity hexachlorodisilane particle removing apparatus according to embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치의 구성을 개략적으로 보이는 도면이다.FIG. 1 is a schematic view of a high purity hexachlorodisilane particle removing apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG.

도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치(100)는 원재료 수용 탱크 부재(110)와, 필터링 부재(120)와, 파티클 카운팅 부재(130)와, 리시버 탱크 부재(140)와, 연결 배관(150)을 포함한다.1, the apparatus 100 for removing high purity hexachlorodisilane particles according to the present embodiment includes a raw material receiving tank member 110, a filtering member 120, a particle counting member 130, (140), and a connection pipe (150).

상기 원재료 수용 탱크 부재(110)는 정제 대상인 고순도의 헥사클로로디실란이 수용되는 것이다.The raw material receiving tank member 110 accommodates hexachlorodisilane of high purity to be purified.

상기 필터링 부재(120)는 상기 원재료 수용 탱크 부재(110)로부터 유동되는 상기 헥사클로로디실란 내의 파티클을 필터링하여, 상기 헥사클로로디실란 내의 파티클을 제거하는 것이다.The filtering member 120 filters particles in the hexachlorodisilane flowing from the raw material receiving tank member 110 to remove particles in the hexachlorodisilane.

상기 필터링 부재(120)는 후술되는 연결 배관(150) 상에 순차적으로 연결되는 복수 개의 필터(121, 122)로 구성될 수 있고, 파티클 제거를 위하여 상기 필터링 부재(120)에 형성되는 필터의 기공 크기는 0.05 내지 0.5㎛로 형성될 수 있으며, 상기 필터링 부재(120)를 구성하는 각 필터(121, 122)의 재질은 상기 헥사클로로디실린과의 반응에 의한 부식이 방지되도록 스테인리스, 니켈, 니켈 합금, 테프론 재질 등으로 이루어질 수 있다.The filtering member 120 may be composed of a plurality of filters 121 and 122 sequentially connected to a connection pipe 150 to be described later. In order to remove particles, The size of each of the filters 121 and 122 constituting the filtering member 120 may be selected from the group consisting of stainless steel, nickel, and nickel so as to prevent corrosion due to the reaction with the hexachlorodisilane. An alloy, a Teflon material, or the like.

상기 파티클 카운팅 부재(130)는 상기 필터링 부재(120)를 경유한 상기 헥사클로로디실란 내의 파티클을 카운팅하여, 카운팅된 파티클이 미리 설정된 허용 범위 내에 있는지를 판단하는 것이다.The particle counting member 130 counts the particles in the hexachlorodisilane via the filtering member 120 to determine whether the counted particles are within a predetermined allowable range.

상기 리시버 탱크 부재(140)는 상기 파티클 카운팅 부재(130)에서 카운팅된 파티클이 미리 설정된 허용 범위 내에 있는 경우, 상기 파티클 카운팅 부재(130)를 경유한 상기 헥사클로로디실란을 수용하는 것이다.The receiver tank member 140 accommodates the hexachlorodisilane via the particle counting member 130 when the particles counted by the particle counting member 130 are within a predetermined allowable range.

상기 연결 배관(150)은 상기 원재료 수용 탱크 부재(110)로부터 유동되는 상기 헥사클로로디실란이 상기 필터링 부재(120), 상기 파티클 카운팅 부재(130) 및 상기 리시버 탱크 부재(140)를 따라 연속적인 흐름으로 유동되도록, 상기 원재료 수용 탱크 부재(110), 상기 필터링 부재(120), 상기 파티클 카운팅 부재(130) 및 상기 리시버 탱크 부재(140)를 순차적으로 연결하는 것이다.The connection pipe 150 is formed in such a manner that the hexachlorodisilane flowing from the raw material receiving tank member 110 is continuous with the filtering member 120, the particle counting member 130 and the receiver tank member 140 The filtering member 120, the particle counting member 130, and the receiver tank member 140 so as to flow in a flow direction.

상기 연결 배관(150)의 초입에는 상기 원재료 수용 탱크 부재(110)가 연결되고, 상기 연결 배관(150) 상에는 상기 필터링 부재(120) 및 상기 파티클 카운팅 부재(130)가 서로 이격되도록 설치되며, 상기 연결 배관(150)의 말단에는 상기 리시버 탱크 부재(140)가 연결된다.The raw material receiving tank member 110 is connected to the inlet pipe 150 and the filtering member 120 and the particle counting member 130 are installed on the connecting pipe 150 so as to be spaced apart from each other. The receiver tank member 140 is connected to the distal end of the connection pipe 150.

도면 번호 101은 불활성 가스 공급 부재로, 상기 불활성 가스 공급 부재(101)에서는 질소, 아르곤 등의 불활성 가스를 상기 연결 배관(150) 상에 공급할 수 있는 것이다.Reference numeral 101 denotes an inert gas supply member. In the inert gas supply member 101, an inert gas such as nitrogen or argon can be supplied onto the connection pipe 150.

도면 번호 102는 진공 펌프 등의 감압 펌프로, 상기 연결 배관(150) 내부를 감압시킬 수 있는 것이다.Reference numeral 102 denotes a decompression pump such as a vacuum pump capable of reducing the pressure inside the connection pipe 150.

상기 감압 펌프(102)가 상기 연결 배관(150) 내부를 감압시키고, 상기 불활성 가스 공급 부재(101)가 상기 연결 배관(150) 내부에 불활성 가스를 주입하는 과정이 적어도 한 번, 바람직하게는 수차례 반복됨으로써, 상기 연결 배관(150) 내부의 공기 중의 수분, 산소 등이 제거될 수 있고, 그에 따라 상기 헥사클로로디실란이 상기 연결 배관(150)을 따라 유동되는 과정에서 상기 헥사클로로디실란이 그러한 공기 중의 수분, 산소 등과 반응하여 이물질이 생성되는 현상이 억제될 수 있다.The decompression pump 102 decompresses the interior of the connection pipe 150 and the inert gas supply member 101 injects the inert gas into the connection pipe 150 at least once, Oxygen and the like in the air inside the connection pipe 150 can be removed by repeating the above-mentioned steps so that when the hexachlorodisilane flows along the connection pipe 150, the hexachlorodisilane The phenomenon that foreign substances are generated by reacting with moisture, oxygen, and the like in such air can be suppressed.

도면 번호 160은 상기 리시버 탱크 부재(140)에 수용된 상기 헥사클로로디실란을 이동 등 취급을 위하여 옮겨담기 위한 헥사클로로디실란 이동용 탱크이고, 도면 번호 161은 상기 리시버 탱크 부재(140)와 상기 헥사클로로디실란 이동용 탱크(160)를 연결하는 이송 배관이며, 도면 번호 165는 상기 헥사클로로디실란 이동용 탱크(160)에 요구되는 양만큼의 헥사클로로디실란이 수용될 수 있도록 하는 로드셀이다.Reference numeral 160 is a hexachlorodisilane transporting tank for transferring the hexachlorodisilane contained in the receiver tank member 140 for handling and the like for movement and numeral 161 is a hexachlorodisilane transporting tank for transporting the hexachlorodisilane to the receiver tank member 140, Numeral 165 denotes a load cell for accommodating the required amount of hexachlorodisilane in the hexachlorodisilane transporting tank 160. In the hexachlorodisilane transporting tank 160,

도면 번호 103은 상기 원재료 수용 탱크 부재(110)와 상기 필터링 부재(120) 사이의 상기 연결 배관(150) 내의 압력을 감지하는 제 1 압력 감지 부재이고, 도면 번호 104는 상기 필터링 부재(120)와 상기 파티클 카운팅 부재(130) 사이의 상기 연결 배관(150) 내의 압력을 감지하는 제 2 압력 감지 부재이며, 도면 번호 105는 상기 리시버 탱크 부재(140)와 상기 헥사클로로디실란 이동용 탱크(160) 사이의 상기 이송 배관(161) 내의 압력을 감지하는 제 3 압력 감지 부재이다.Reference numeral 103 denotes a first pressure sensing member for sensing a pressure in the connection pipe 150 between the raw material receiving tank member 110 and the filtering member 120. Reference numeral 104 denotes a filtering member 120 A second pressure sensing member for sensing a pressure in the connection pipe 150 between the particle counting member 130 and a second pressure sensing member for sensing a pressure in the connection pipe 150 between the particle tank 140 and the hexachlorodisilane- Is a third pressure sensing member that senses the pressure in the transfer pipe (161)

상기 원재료 수용 탱크 부재(110)에서 상기 연결 배관(150)으로 유동되는 상기 헥사클로로디실란의 유량은 0.1 내지 5L/min이고, 상기 제 1 압력 감지 부재(103)에 의해 감지되는 공급 압력은 0 내지 2kg/㎠으로 유지된다.The flow rate of the hexachlorodisilane flowing from the raw material receiving tank member 110 to the connection pipe 150 is 0.1 to 5 L / min, and the supply pressure sensed by the first pressure sensing member 103 is 0 To 2 kg / cm < 2 >.

또한, 상기 불활성 가스 공급 부재(101)에 의한 불활성 가스 공급 압력은 0.1 내지 1.5Kg/㎠로, 그 공급 유량은 0.1 내지 5L/min으로 유지된다.The inert gas supply pressure by the inert gas supply member 101 is 0.1 to 1.5 kg / cm 2, and the supply flow rate thereof is maintained at 0.1 to 5 L / min.

한편, 본 실시예에 따른 상기 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치(100)는 리사이클 배관(155)을 더 포함한다.Meanwhile, the high purity hexachlorodisilane particle removing apparatus 100 according to the present embodiment further includes a recycle pipe 155.

상기 리사이클 배관(155)은 상기 파티클 카운팅 부재(130)에서 카운팅된 파티클이 상기 미리 설정된 허용 범위를 벗어난 경우, 상기 리시버 탱크 부재(140)로 유동된 상기 헥사클로로디실란이 상기 원재료 수용 탱크 부재(110)로 환류될 수 있도록, 상기 리시버 탱크 부재(140)와 상기 원재료 수용 탱크 부재(110)를 연결하는 것이다.When the particles counted by the particle counting member 130 are out of the predetermined allowable range, the hexachlorodisilane flowing into the receiver tank member 140 flows into the raw material receiving tank member 110, so that the receiver tank member 140 and the raw material receiving tank member 110 are connected to each other.

상기 리사이클 배관(155)을 통해 상기 리시버 탱크 부재(140)에 수용되지 않고 상기 리시버 탱크 부재(140)를 경유만 한 헥사클로로디실란이 상기 원재료 수용 탱크 부재(110)로 환류되어, 다시 상기 연결 배관(150)을 따라 유동되면서 파티클 제거 및 파티클 카운팅될 수 있게 된다.The hexachlorodisilane passing through the receiver tank member 140 without being received in the receiver tank member 140 through the recycle piping 155 is refluxed to the raw material receiving tank member 110, The particles can be removed and particle counted while flowing along the pipe 150.

이하에서는 도면을 참조하여 본 실시예에 따른 상기 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치(100)의 작동에 대하여 설명한다.Hereinafter, the operation of the apparatus 100 for removing high purity hexachlorodisilane particles according to the present embodiment will be described with reference to the drawings.

먼저, 상기 감압 펌프(102)에 의한 상기 연결 배관(150) 내부의 감압 및 상기 불활성 가스 공급 부재(101)에 의한 상기 연결 배관(150) 내부로의 불활성 가스 공급이 주기적으로 수차례 이루어지도록 하여, 상기 연결 배관(150) 내부의 수분, 공기 중의 산소 등이 제거되도록 한다.The decompression of the inside of the connection pipe 150 by the decompression pump 102 and the supply of the inert gas into the connection pipe 150 by the inert gas supply member 101 are performed several times , Water in the connection pipe 150, and oxygen in the air are removed.

그런 다음, 상기 원재료 수용 탱크 부재(110)에서 정제 대상인 헥사클로로디실란이 상기 연결 배관(150)을 따라 유동되다가, 상기 필터링 부재(120)에서 파티클이 제거되고, 상기 파티클 카운팅 부재(130)에서 잔존 파티클 개수가 카운팅된다.Thereafter, hexachlorodisilane to be purified in the raw material receiving tank member 110 flows along the connection pipe 150, particles are removed from the filtering member 120, and the particle counting member 130 The number of remaining particles is counted.

상기와 같이 카운팅된 상기 헥사클로로디실란 내의 잔존 파티클 개수가 상기 미리 설정된 허용 범위 내에 있는 경우, 상기 헥사클로로디실란은 상기 리시버 탱크 부재(140)에 수용된다.When the number of remaining particles in the hexachlorodisilane counted as described above is within the predetermined allowable range, the hexachlorodisilane is accommodated in the receiver tank member 140. [

반면, 상기와 같이 카운팅된 상기 헥사클로로디실란 내의 잔존 파티클 개수가 상기 미리 설정된 허용 범위를 벗어난 경우, 상기 헥사클로로디실란은 상기 리시버 탱크 부재(140)에 수용되지 않고 상기 리시버 탱크 부재(140)를 그대로 경유하여 상기 리사이클 배관(155)을 통해 상기 원재료 수용 탱크 부재(110)로 환류된 다음, 위와 같은 정제 과정을 다시 거치게 된다.On the other hand, when the number of remaining particles in the hexachlorodisilane counted as described above is out of the predetermined allowable range, the hexachlorodisilane is not received in the receiver tank member 140, Through the recycle pipe 155 to the raw material receiving tank member 110, and then the above purification process is performed again.

한편, 상기 리시버 탱크 부재(140)에 수용된 정제된 헥사클로로디실란은 상기 이송 배관(161)을 통해 상기 헥사클로로디실란 이동용 탱크(160)로 요구되는 양만큼 이동될 수 있다.Meanwhile, the purified hexachlorodisilane contained in the receiver tank member 140 can be moved by the amount required to the hexachlorodisilane transporting tank 160 through the transfer pipe 161.

상기와 같이, 상기 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치(100)가 원재료 수용 탱크 부재(110)와, 필터링 부재(120)와, 파티클 카운팅 부재(130)와, 리시버 탱크 부재(140)와, 연결 배관(150)을 포함함에 따라, 헥사클로로디실란이 외부와 차단된 상태로 상기 연결 배관(150)을 따라 연속적으로 유동되면서 필터링, 파티클 카운팅 및 이동을 위한 이송 등의 취급이 이루어질 수 있고, 그러한 헥사클로로디실란의 취급 과정 중에 공기 중의 수분 또는 산소와의 헥사클로로디실란의 접촉이 억제되어 이물질 생성이 방지될 수 있게 되고, 헥사클로로디실란의 생산 효율성이 향상되며, 헥사클로로디실란이 안전하게 제조될 수 있게 된다.As described above, the high purity hexachlorodisilane particle removing apparatus 100 includes the raw material receiving tank member 110, the filtering member 120, the particle counting member 130, the receiver tank member 140, The inclusion of the piping 150 allows the handling such as filtration, particle counting, and transport for movement while the hexachlorodisilane is continuously flowing along the connection piping 150 while being shut off from the outside, The contact of hexachlorodisilane with moisture or oxygen in the air during handling of hexachlorodisilane can be suppressed to prevent the formation of foreign substances, the production efficiency of hexachlorodisilane is improved, .

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치에 대하여 설명한다. 이러한 설명을 수행함에 있어서, 상기된 본 발명의 일 실시예에서 이미 기재된 내용과 중복되는 설명은 그에 갈음하고, 여기서는 생략하기로 한다.Hereinafter, a high purity hexachlorodisilane particle removing apparatus according to another embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In carrying out these explanations, the description overlapping with the content already described in the embodiment of the present invention described above is replaced with it, and it will be omitted here.

도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치의 구성을 개략적으로 보이는 도면이다.FIG. 2 is a schematic view of a high purity hexachlorodisilane particle removing apparatus according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG.

도 2를 참조하면, 본 실시예에서는, 필터링 부재(220, 225)가 복수 개로 구성되어, 연결 배관(250) 상에 서로 분리된 복수 개의 라인 상에 설치된다.Referring to FIG. 2, in this embodiment, a plurality of filtering members 220 and 225 are provided on a plurality of lines separated from each other on a connection pipe 250.

예를 들어, 상기 필터링 부재(220, 225)는 두 개로 구성되고, 상기 연결 배관(250) 상에 서로 독립적인 라인을 따라 설치된다.For example, the filtering members 220 and 225 are formed of two pieces, and are installed along the independent lines on the connection pipe 250.

상기와 같이 구성되면, 상기 필터링 부재(220, 225) 중 하나는 메인으로 작동되고, 다른 하나는 메인으로 작동되는 부재의 고장, 교체 등의 경우 예비적으로 작동될 수 있다.In this case, one of the filtering members 220 and 225 can be operated preliminarily in case of failure, replacement, etc., of the main operated member and the other active member.

또는, 상기 필터링 부재(220, 225)를 각각 구성하는 각 필터의 기공 크기를 달리하여, 다양한 필터링 요구 조건에 즉답할 수 있게도 할 수 있다.Alternatively, the sizes of the pores of the respective filters constituting the filtering members 220 and 225 may be different, so that various filtering requirements can be immediately met.

상기에서 본 발명은 특정한 실시예에 관하여 도시되고 설명되었지만, 당업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 알 수 있을 것이다. 그렇지만 이러한 수정 및 변형 구조들은 모두 본 발명의 권리범위 내에 포함되는 것임을 분명하게 밝혀두고자 한다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and detail may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the following claims And can be changed. However, it is intended that the present invention covers the modifications and variations of this invention provided they come within the scope of the appended claims and their equivalents.

본 발명의 일 측면에 따른 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치에 의하면, 헥사클로로디실란의 취급 과정 중에 공기 중의 수분 또는 산소와의 헥사클로로디실란의 접촉이 억제되어 이물질 생성이 방지될 수 있고 헥사클로로디실란의 생산 효율성이 향상되며 헥사클로로디실란이 안전하게 제조될 수 있으므로, 그 산업상 이용가능성이 높다고 하겠다.According to the apparatus for removing high purity hexachlorodisilane particles according to one aspect of the present invention, the contact of hexachlorodisilane with water or oxygen in the air during handling of hexachlorodisilane can be suppressed, foreign matter generation can be prevented, The production efficiency of chlorodisilane is improved, and hexachlorodisilane can be safely produced, so that the industrially applicable possibility is high.

110 : 원재료 수용 탱크 부재 120 : 필터링 부재
130 : 파티클 카운팅 부재 140 : 리시버 탱크 부재
150 : 연결 배관 155 : 리사이클 배관110: raw material receiving tank member 120: filtering member
130: particle counting member 140: receiver tank member
150: Connection piping 155: Recycling piping

Claims (3)

정제 대상인 헥사클로로디실란이 수용되는 원재료 수용 탱크 부재;
상기 원재료 수용 탱크 부재로부터 유동되는 상기 헥사클로로디실란 내의 파티클을 필터링하는 필터링 부재;
상기 필터링 부재를 경유한 상기 헥사클로로디실란 내의 파티클을 카운팅하는 파티클 카운팅 부재;
상기 파티클 카운팅 부재에서 카운팅된 파티클이 미리 설정된 허용 범위 내에 있는 경우, 상기 파티클 카운팅 부재를 경유한 상기 헥사클로로디실란을 수용하는 리시버 탱크 부재;
상기 원재료 수용 탱크 부재로부터 유동되는 상기 헥사클로로디실란이 상기 필터링 부재, 상기 파티클 카운팅 부재 및 상기 리시버 탱크 부재를 따라 연속적인 흐름으로 유동되도록, 상기 원재료 수용 탱크 부재, 상기 필터링 부재, 상기 파티클 카운팅 부재 및 상기 리시버 탱크 부재를 순차적으로 연결하는 연결 배관; 및
상기 리시버 탱크 부재와 상기 원재료 수용 탱크 부재를 연결하는 리사이클 배관;을 포함하고,
상기 파티클 카운팅 부재에서 카운팅된 파티클이 상기 미리 설정된 허용 범위를 벗어난 경우, 상기 리시버 탱크 부재로 유동된 상기 헥사클로로디실란이 상기 리시버 탱크 부재에 수용되지 않고 상기 리시버 탱크 부재를 그대로 경유하여 상기 리사이클 배관을 통해 상기 원재료 수용 탱크 부재로 환류되는 것을 특징으로 하는 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치.A raw material receiving tank member containing hexachlorodisilane to be purified;
A filtering member for filtering particles in the hexachlorodisilane flowing from the raw material receiving tank member;
A particle counting member for counting particles in the hexachlorodisilane via the filtering member;
A receiver tank member receiving the hexachlorodisilane via the particle counting member when the particles counted in the particle counting member are within a predetermined allowable range;
Wherein the hexachlorodisilane flowing from the raw material receiving tank member flows in a continuous flow along the filtering member, the particle counting member, and the receiver tank member, the raw material receiving tank member, the filtering member, And a connection pipe for sequentially connecting the receiver tank member; And
And a recycle pipe connecting the receiver tank member and the raw material receiving tank member,
The hexachlorodisilane flowing into the receiver tank member is not accommodated in the receiver tank member and the receiver tank member is directly passed through the recycling pipe member when the particle counted in the particle counting member is out of the predetermined allowable range, To the raw material receiving tank member through the outlet of the high-purity hexachlorodisilane particle removing unit. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 필터링 부재는 복수 개로 구성되어, 상기 연결 배관 상에 서로 분리된 복수 개의 라인 상에 설치되는 것을 특징으로 하는 고순도 헥사클로로디실란 파티클 제거 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the filtering member comprises a plurality of filtering members and is installed on a plurality of lines separated from each other on the connection pipe.
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