KR101748428B1 - Glass polisher - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유리판 연마기에 관한 것으로서, 프레임; 원형 테이블로서, 상기 프레임에 대하여 회전 가능하게 마련되어 있으며, 상면에 상기 다수 개의 유리판이 배열되어 있는 회전테이블; 복수 개 마련되어 상기 회전테이블의 원주 방향을 따라 배열되되, 상기 회전테이블 상방에 배치되도록 상기 프레임에 고정되며, 상기 유리판을 연마하는 연마유닛;을 포함하며, 상기 연마유닛은, 상기 유리판을 연마하는 동안 상기 유리판과 마주한 상태를 유지하되, 상기 유리판을 가압하면 상기 가압력에 의해 상기 유리판의 곡률에 따라 형상이 변하는 스펀지부를 구비하는 연마패드를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 유리판의 앞면이나 뒷면과 같은 평면부 및 유리판의 곡면부를 한 번의 연마 공정으로 가공하며, 유리판의 곡률에 따라 유리판의 면에 연속적으로 접촉한 상태로 연마가 이루어질 수 있도록 하여 가공 후 유리판의 면이 매끄럽게 형성될 수 있도록 하는 효과가 있다.
The present invention relates to a glass plate grinder, comprising: a frame; 1. A circular table, comprising: a rotary table rotatably provided with respect to the frame, the rotary table having the plurality of glass plates arranged on an upper surface thereof; And a polishing unit which is provided on the frame and which is arranged along the circumferential direction of the rotary table so as to be disposed above the rotary table and which polishes the glass plate, And a polishing pad having a sponge portion that maintains a state facing the glass plate and whose shape changes according to the curvature of the glass plate by the pressing force when the glass plate is pressed.
According to the present invention, a flat portion such as a front surface or a back surface of a glass plate and a curved surface portion of the glass plate are processed by a single polishing process so that polishing can be performed in a state of continuously contacting the surface of the glass plate according to the curvature of the glass plate, So that the surface of the glass plate can be smoothly formed.

Description

유리판 연마기{GLASS POLISHER}[0001] GLASS POLISHER [0002]

본 발명은 유리판 연마기에 관한 것으로서, 특히 유리판의 앞면이나 뒷면과 같은 평면부 및 유리판의 곡면부를 한 번의 연마 공정으로 가공할 수 있는 유리판 연마기에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a glass plate polishing machine, and more particularly, to a glass plate polishing machine capable of processing a flat portion such as a front surface and a back surface of a glass plate and a curved portion of the glass plate by a single polishing process.

유리판 연마기(Glass Polisher)는, 도 1에 도시된 바와 같은 모바일 기기용 유리판(G)을 연마하기 위하여 많이 사용되고 있는데, 종래의 유리판 연마기는 접촉면이 평면인 연마 장치(S)를 회전시켜 상기 유리판(G)을 연마하는 방식이었다. The glass polisher is widely used to polish a glass plate G for a mobile device as shown in FIG. 1, and a conventional glass plate polisher rotates a polishing device S having a flat contact surface, G) was polished.

그러나, 종래의 경우처럼, 상기 연마 장치(S)를 이용하여 상기 유리판(G)을 연마하는 경우에는, 도 2에 도시된 바와 같이 상기 유리판(G)의 앞면이나 뒷면과 같이 평면부(F)를 가공할 수는 있으나, 도 3에 도시된 바와 같이 상기 유리판(G)의 외곽 테두리 등에 형성된 곡면부(R1, R2)를 연마할 수 없다는 문제점이 있다. 특히, 도 3 과 같이 서로 상이한 곡률 반경을 갖는 곡면부(R1, R2)가 복수 개 형성된 경우 이러한 연마상의 문제점은 더욱 커지게 된다.However, when the glass plate G is polished using the polishing apparatus S as in the conventional case, as shown in FIG. 2, the flat portion F is formed on the front surface or the back surface of the glass plate G, It is not possible to polish the curved portions R1 and R2 formed on the outer rim of the glass plate G as shown in FIG. Particularly, when a plurality of curved portions R1 and R2 having different radii of curvature are formed as shown in Fig. 3, the problem of such a polishing problem becomes larger.

따라서, 종래의 경우, 연마석(S)을 이용하여 상기 평면부(F)를 가공한 후, 작업자가 수작업으로 상기 곡면부(R1, R2)를 별도로 연마해야 하는 바, 전체적인 작업 공정 및 작업 시간이 증가하여, 결국 제조 단가가 상승하는 문제점이 있다. Therefore, in the conventional case, after the flat portion F is machined by using the grinding stone S, the operator must separately grind the curved portions R1 and R2 by hand. As a result, Resulting in an increase in manufacturing cost.

그러므로, 종래의 유리판 연마기는, 단시간에 대량생산을 요하는 모바일 기기용 유리판(G)을 연마하기에는 적합하지 않은 문제점이 있다. Therefore, the conventional glass plate polishing machine has a problem that it is not suitable for polishing a glass plate G for a mobile device requiring mass production in a short time.

또한, 종래의 경우, 연마석(S) 대신 도 4와 같이, 유리판(G)의 면 형상에 따라 휘어질 수 있는 재질의 와이어(W) 다발로 제조되는 브러시(Brush)를 이용하여 유리판(G)를 가공하기도 하였으나, 상기 브러시에는 서로 인접한 와이어(W)의 결과 결 사이의 공간이 있기 때문에 연마 중 마주하는 유리판(G)의 면에 연속적으로 접촉한 상태로 연마가 이루어지지 않았는바, 연마 후 유리판(G)의 면에 상기 와이어(W)의 결 자국이 남아있어 완성도가 떨어지는 문제점이 있었다. In the conventional case, instead of the grinding stone S, a glass plate G is formed by using a brush made of a bundle of wires W which can be bent according to the surface shape of the glass plate G, Since the brush has a space between the resultant teeth of the wires W adjacent to each other, the brush is not polished in a state of being in continuous contact with the surface of the glass plate G which faces during polishing, There is a problem that the grain of the wire W remains on the surface of the wire G and the completeness is lowered.

그러므로, 종래의 유리판 연마기는, 단시간에 대량생산을 요하는 모바일 기기용 유리판(G)을 연마하기에는 적합하지 않은 문제점이 있다. Therefore, the conventional glass plate polishing machine has a problem that it is not suitable for polishing a glass plate G for a mobile device requiring mass production in a short time.

본 발명은 상기 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 그 목적은 유리판의 앞면이나 뒷면과 같은 평면부 및 유리판의 곡면부를 한 번의 연마 공정으로 가공하며, 유리판의 곡률에 따라 유리판의 면에 연속적으로 접촉한 상태로 연마가 이루어질 수 있도록 구조가 개선된 유리판 연마기를 제공하기 위함이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been conceived to solve the problems described above. It is an object of the present invention to provide a method and apparatus for processing a flat surface portion such as a front surface or a back surface of a glass plate and a curved surface portion of the glass plate by a single polishing process, The present invention also provides a glass plate polishing machine with improved structure so that polishing can be performed in a state where the glass plate is polished.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 유리판 연마기는, 유리판을 다수 개 연마하는 유리판 연마기로서,In order to achieve the above object, a glass plate polishing machine according to the present invention is a glass plate polishing machine for polishing a plurality of glass plates,

프레임;frame;

원형 테이블로서, 상기 프레임에 대하여 회전 가능하게 마련되어 있으며, 상면에 상기 다수 개의 유리판이 배열되어 있는 회전테이블;1. A circular table, comprising: a rotary table rotatably provided with respect to the frame, the rotary table having the plurality of glass plates arranged on an upper surface thereof;

복수 개 마련되어 상기 회전테이블의 원주 방향을 따라 배열되되, 상기 회전테이블 상방에 배치되도록 상기 프레임에 고정되며, 상기 유리판을 연마하는 연마유닛;을 포함하며,And a polishing unit which is provided on the frame and is arranged along the circumferential direction of the rotary table, the polishing unit being fixed to the frame so as to be disposed above the rotary table,

상기 연마유닛은, 상기 유리판을 연마하는 동안 상기 유리판과 마주한 상태를 유지하되, 상기 유리판을 가압하면 상기 가압력에 의해 상기 유리판의 곡률에 따라 형상이 변하는 스펀지부를 구비하는 연마패드를 포함하는 것을 특징으로 한다.And the polishing unit includes a polishing pad having a sponge portion which is maintained in a state of facing the glass plate while polishing the glass plate and whose shape changes according to the curvature of the glass plate by the pressing force when the glass plate is pressed, do.

여기서, 상기 연마패드는, 상기 유리판과 마주한 상태로 접촉 가능하게 상기 스펀지부의 일측에 배치되며 상기 스펀지부와 함께 형상이 변하는 연마부를 포함하는 것이 바람직하다.Preferably, the polishing pad includes a polishing part disposed on one side of the sponge so as to be in contact with the glass plate, the shape of which changes with the sponge part.

여기서, 상기 연마부는, 인조가죽 및 고무로 이루어진 군 중 적어도 하나를 포함하여 제조된 것을 특징으로 하는 유리판 연마기.Wherein the polishing unit is made of at least one of the group consisting of artificial leather and rubber.

여기서, 상기 연마유닛은, 상기 스펀지부에 연마액을 공급하는 연마액공급부를 포함하며,Here, the polishing unit includes a polishing liquid supply unit for supplying a polishing liquid to the sponge unit,

상기 스펀지부에는 상기 연마액공급부로부터 공급되는 연마액이 주입되는 주입구가 형성되어 있는 것이 바람직하다.The sponge portion is preferably provided with an injection port through which the polishing liquid supplied from the polishing liquid supply portion is injected.

여기서, 상기 연마유닛은, 상기 유리판에 대하여 상대 회전하는 회전판을 구비하며Here, the polishing unit includes a rotating plate that rotates relative to the glass plate

여기서, 상기 스펀지부는, 상기 회전판에 대하여 탈착가능하게 결합되는 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the sponge portion is detachably coupled to the rotary plate.

여기서, 상기 연마패드는, 상기 스펀지부를 상기 회전판에 대하여 탈착가능하게 결합할 수 있도록, 상기 스펀지부 타측에 벨크로부를 구비하는 것이 바람직하다.The polishing pad may include a velcro portion on the other side of the sponge portion so that the sponge portion can be detachably coupled to the rotating plate.

본 발명의 유리판 연마기에 따르면, 유리판의 앞면이나 뒷면과 같은 평면부 및 유리판의 곡면부를 한 번의 연마 공정으로 가공하며, 유리판의 곡률에 따라 유리판의 면에 연속적으로 접촉한 상태로 연마가 이루어질 수 있도록 하여 가공 후 유리판의 면이 매끄럽게 형성될 수 있도록 하는 효과가 있다.According to the glass plate polishing machine of the present invention, the flat portion such as the front face or the back face of the glass plate and the curved face portion of the glass plate are processed by a single polishing process and the polishing is performed in a state of continuously contacting the face of the glass plate according to the curvature of the glass plate. So that the surface of the glass plate can be smoothly formed after processing.

도 1은 모바일 기기용 유리판을 나타내는 사시도이다.
도 2는 일반적인 유리판의 연마를 나타내는 도면이다.
도 3은 평면부와 곡면부를 모두 가진 모바일 기기용 유리판의 단면도이다.
도 4는 브러시로 구성된 연마부를 구비하는 종래기술을 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 유리판 연마기의 전체적인 구조를 나타낸 평면도이다.
도 6은 도 5에 도시된 유리판 연마기의 Ⅵ-Ⅵ선 단면도이다.
도 7은 도 5에 도시된 유리판 연마기의 Ⅶ-Ⅶ선 단면도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 유리판 연마기의 유리판 배치부 상에 배치되는 유리판의 형상을 나타내는 도면이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 유리판 연마기의 회전테이블을 나타낸 평면도이다.
도 10은 도 9의 Ⅹ를 확대 도시하여 본 발명의 일 실시예에 따른 유리판 연마기의 유리판 배치부 상에 유리판이 배치된 모습을 나타낸 도면이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 연마패드를 도시한 사시도 및 분리사시도이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 연마유닛의 구조를 나타낸 도면이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예 따른 평면부연마유닛이 유리판의 평면부를 연마할 때를 나타낸 도면이다.
도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 내측곡면부연마유닛이 유리판의 내측곡면부를 연마할 때를 나타낸 도면이다.
도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 외측곡면부연마유닛이 유리판의 외측곡면부를 연마할 때를 나타낸 도면이다.
1 is a perspective view showing a glass plate for a mobile device.
2 is a view showing polishing of a general glass plate.
3 is a cross-sectional view of a glass plate for a mobile device having both a flat portion and a curved portion.
Fig. 4 is a view showing a prior art including a polishing part composed of a brush.
5 is a plan view showing the overall structure of a glass plate polishing machine according to an embodiment of the present invention.
6 is a sectional view taken along the line VI-VI of the glass plate polishing machine shown in Fig.
7 is a sectional view taken along line VII-VII of the glass plate polishing machine shown in Fig.
8 is a view showing the shape of a glass plate disposed on a glass plate arrangement portion of a glass plate polishing machine according to an embodiment of the present invention.
9 is a plan view showing a rotation table of a glass plate grinder according to an embodiment of the present invention.
FIG. 10 is an enlarged view of FIG. 9, showing a glass plate disposed on a glass plate arrangement portion of a glass plate polishing machine according to an embodiment of the present invention.
11 is a perspective view and an exploded perspective view showing a polishing pad according to an embodiment of the present invention.
12 is a view showing a structure of a polishing unit according to an embodiment of the present invention.
13 is a view showing a planar portion polishing unit polishing a planar portion of a glass plate according to an embodiment of the present invention.
14 is a view showing an inner curved portion polishing unit according to an embodiment of the present invention when polishing an inner curved portion of a glass plate.
15 is a view showing an outer curved portion polishing unit according to an embodiment of the present invention when polishing an outer curved portion of a glass plate.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 도면들 중 동일한 구성요소들은 가능한 한 어느 곳에서든지 동일한 부호들로 나타내고 있음에 유의해야 한다. 또한 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It is to be noted that the same elements among the drawings are denoted by the same reference numerals whenever possible. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail.

본 발명에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the terms "comprises" or "having" and the like are used to specify that there is a feature, a number, a step, an operation, an element, a component or a combination thereof described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 유리판 연마기의 전체적인 구조를 나타낸 평면도이며, 도 6은 도 5에 도시된 유리판 연마기의 Ⅵ-Ⅵ선 단면도이며, 도 7은 도 5에 도시된 유리판 연마기의 Ⅶ-Ⅶ선 단면도이며, 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 유리판 연마기의 유리판 배치부 상에 배치되는 유리판의 형상을 나타내는 도면이다. 5 is a cross-sectional view taken along the line VI-VI of FIG. 5, and FIG. 7 is a cross-sectional view of the glass plate polishing machine of FIG. 5, FIG. 8 is a view showing the shape of a glass plate disposed on a glass plate arrangement portion of a glass plate polishing machine according to an embodiment of the present invention. FIG.

도 5 내지 도 15을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유리판 연마기(100)는, 모바일 기기용 유리판(G)을 다수 개 동시에 연마할 수 있는 유리판 연마기(Glass Polisher)로서, 프레임(10)과, 회전테이블(30)과, 연마유닛(50)과, 승강유닛(70)을 포함하여 구성된다.5 to 15, a glass plate polishing machine 100 according to an embodiment of the present invention is a glass polisher capable of polishing a plurality of glass plates G for a mobile device at the same time, , A rotary table 30, a polishing unit 50,

상기 프레임(10)은, 금속 재질의 프레임으로서, 본 발명에 따른 유리판 연마기(100)의 전체 외연을 형성하는 구성을 가질 수 있다. 이러한 프레임(10)은, 상부프레임(11)과, 하부프레임(12)과, 중간프레임(13)을 포함하여 구성된다.The frame 10 may be a metal frame, and may have a configuration for forming the entire outer edge of the glass plate grinder 100 according to the present invention. The frame 10 includes an upper frame 11, a lower frame 12, and an intermediate frame 13.

상기 상부프레임(11)은, 8각형 평면 형상을 가진 금속 프레임으로서, 금속 파이프와 금속판을 사용하여 용접으로 제조된다. 이러한 상부프레임(11)은 후술하는 연마유닛(50)을 지지한다. The upper frame 11 is a metal frame having an octagonal planar shape and is manufactured by welding using a metal pipe and a metal plate. The upper frame 11 supports the polishing unit 50, which will be described later.

상기 하부프레임(12)은, 상기 상부 프레임(11)과 마찬가지로, 8각형 평면 형상을 가진 금속 프레임으로서, 금속 파이프와 금속판을 사용하여 용접으로 제조되며, 상기 상부 프레임(11)과 미리 정한 간격만큼 이격된 상태로 작업장에 고정된다.Like the upper frame 11, the lower frame 12 is a metal frame having an octagonal planar shape, and is manufactured by welding using a metal pipe and a metal plate. The lower frame 12 is welded to the upper frame 11 at a predetermined distance It is fixed to the workplace in a spaced apart position.

상기 중간프레임(13)은, 상기 상부프레임(11)과 상기 하부프레임(12)을 서로 연결하는 금속 기둥 부재로서 8개 마련되어 있다.The intermediate frame 13 is provided with eight metal pillar members for connecting the upper frame 11 and the lower frame 12 to each other.

상기 회전테이블(30)은, 도 6 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 실질적으로 수직하게 배치된 중심축(C')을 원의 중심으로 하는 원형 테이블로서, 상기 하부프레임(12)과 상기 상부프레임(11)의 사이에 위치하며, 실질적으로 수평하게 배치되어 있다. 여기서 원형이라 함은 반드시 원에 한정한 개념이 아니며 전체적으로 원의 형상을 가진 다각형의 경우도 포함한다.6 to 7, the rotary table 30 is a circular table having a center axis C 'arranged substantially vertically as the center of the circle, And is disposed between the frame 11 and substantially horizontally. Here, the term "prototype" is not necessarily a concept of a circle, but includes a polygon having a circular shape as a whole.

상기 회전테이블(30)은, 상기 중심축(C')을 중심으로 상기 하부프레임(12)에 대하여 회전 가능하게 장착되어 있다. 이때, 상기 회전테이블(30)의 회전은 상기 하부프레임(12)에 마련되는 소정의 구동 장치에 의해 이루어지며, 상기 구동 장치는 예컨대 상기 중심축(C')을 중심으로 상기 회전테이블(30)을 회전시키는 소정의 모터일 수 있다.The rotary table 30 is rotatably mounted on the lower frame 12 about the central axis C '. At this time, the rotation of the rotary table 30 is performed by a predetermined driving device provided on the lower frame 12, and the driving device rotates the rotation table 30 about the center axis C ' Or the like.

상기 회전테이블(30)과 상기 하부프레임(12)의 연결 구조나, 상기 구동 장치와 상기 회전테이블(30)을 동력적으로 연결하는 기어 구조 등은 당업자가 용이하게 구현할 수 있는 부분인 바, 그에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.A coupling structure between the rotary table 30 and the lower frame 12 and a gear structure for coupling the driving device with the rotary table 30 in a power connection manner can be easily implemented by those skilled in the art, A detailed description thereof will be omitted.

상기 회전테이블(30)의 상면에는, 연마의 대상이 되는 다수 개의 유리판(G)이 배열되어 고정될 수 있는 유리판배치부(31)가 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 회전테이블(30)의 원주 방향을 따라 복수 개 마련되어 있다.9, a glass plate arrangement part 31 on which a plurality of glass plates G to be polished can be arranged and fixed is provided on the upper surface of the rotary table 30, A plurality is provided along the circumferential direction.

상기 유리판배치부(31)는 연마의 대상이 되는 유리판(G)이 적절히 거치되어 배치될 수 있도록 유리판(G)의 형상에 대응되는 구성을 가질 수 있으며, 바람직하게는 소정의 곡면부(R)를 갖는 유리판(G)의 거치가 이루어질 수 있도록 상기 유리판(G)의 곡면부(R)에 대응하는 소정의 곡면 형상을 가질 수 있다. The glass plate arrangement part 31 may have a configuration corresponding to the shape of the glass plate G so that the glass plate G to be polished may be appropriately mounted and arranged, A predetermined curved surface shape corresponding to the curved surface portion R of the glass plate G may be formed so that the glass plate G having the curved surface R can be fixed.

상기 유리판배치부(31)의 형상에 따라서 다양한 형상의 유리판(G)이 거치될 수 있으며, 예컨대 양측부에 서로 상이한 곡률 반지름을 갖는 곡면부(R1, R2)를 갖거나, 또는 도 8과 같이 측부에 서로 동일한 곡률 반지름을 갖는 곡면부(R1, R2)를 갖는 유리판(G)이 상기 유리판배치부(31) 상에 거치될 수 있다. 여기서, 유리판(G)의 곡면부(R1, R2) 중 상기 회전테이블(30)의 내측을 향하는 부분을 내측곡면부(R1)로 정의하고, 상기 회전테이블(30)의 외측을 향하는 부분을 외측곡면부(R2)로 정의하며, 상기 유리판(G)의 내측곡면부(R1)과 외측곡면부(R2) 사이의 평면부분은 평면부(F)로 정의한다. Depending on the shape of the glass plate arranging portion 31, glass plates G having various shapes may be mounted. For example, the glass plates G may have curved portions R1 and R2 having curvature radiuses different from each other on both sides, A glass plate G having curved portions R1 and R2 having the same radius of curvature as each other can be mounted on the glass plate arrangement portion 31 on the side. A portion of the curved surface portions R1 and R2 of the glass plate G facing the inside of the rotary table 30 is defined as an inner curved surface portion R1 and a portion facing the outside of the rotary table 30 is defined as an outer side Is defined as a curved surface portion R2 and a plane portion between the inside curved surface portion R1 and the outside curved surface portion R2 of the glass plate G is defined as a flat surface portion F. [

상기 유리판배치부(31)는, 도 10에 도시된 바와 같이, 베이스부(311)와, 안착부(313)와, 가이드부(315)를 포함한다. 10, the glass plate arrangement portion 31 includes a base portion 311, a seating portion 313, and a guide portion 315. [

도 10의 (a)는 도 9에 도시된 유리판배치부(31,X부분)를 확대도시한 도면이며, 도 10의 (b)는 도 10의 (a)의 Xb-Xb 선 절단면이고, 도 10의 (c)는 도 10의 (a)의 Xc-Xc 선 절단면이다.10 (a) is an enlarged view of the glass plate arranging portion 31 (X portion) shown in Fig. 9, Fig. 10 (b) is a sectional view taken along line Xb-Xb in Fig. 10 10 (c) is a sectional view taken along line Xc-Xc in FIG. 10 (a).

상기 베이스부(311)는, 대략 4각형 평면 형상을 가진 금속 재질의 부재로서,상기 회전테이블(30)의 상면에 결합된다. 여기서, 상기 유리판 연마기(100)는 상기 유리판(G)을 후술하는 안착부(313)에 흡착고정시키기 위하여 상기 유리판(G)과 안착부(313) 사이의 공기를 흡입하는 소정의 진공펌프를 구비할 수 있는데, 상기 베이스부(311) 내부에는 상기 소정의 진공펌프가 흡입하는 공기가 이동할 수 있는 유로가 형성되어 있다. The base 311 is a member made of a metal material having a substantially tetragonal planar shape and is coupled to the upper surface of the rotary table 30. The glass plate polishing machine 100 includes a predetermined vacuum pump for sucking air between the glass plate G and the seating portion 313 in order to suck and fix the glass plate G to a seating portion 313 The base portion 311 is formed with a passage through which the air sucked by the predetermined vacuum pump can move.

상기 베이스부(311)의 상면에는, 상기 유리판(G)이 안착될 수 있는 면을 제공하는 안착부(313)가 마련되어 있다. 이러한 안착부(313)는, 상기 유리판(G)이 안착될 때, 상기 유리판(G)의 평면부(F) 형상에 대응될 수 있도록 평평한 면을 가지는 평면안착부(313a)와 상기 유리판(G)의 곡면부(R)에 대응될 수 있도록 상기 곡면부(R)부의 곡률과 실질적으로 동일한 곡률로 형성된 곡면을 가지는 곡면안착부(313b)를 구비한다. On the upper surface of the base portion 311, a seating portion 313 for providing a surface on which the glass plate G can be placed is provided. The seating part 313 includes a flat seating part 313a having a flat surface so as to correspond to the shape of the flat part F of the glass plate G when the glass plate G is seated, And a curved surface seating portion 313b having a curved surface having a curvature substantially equal to a curvature of the curved surface portion R so as to correspond to the curved surface portion R of the curved surface portion R.

상기 평면안착부(313a)는 상기 유리판(G)이 상기 진공펌프에 의해 흡착될 때 발생할 수 있는 충격으로 인한 손상을 방지하기 위하여, 완충 소재로 이루어짐이 바람직하며, 본 실시예에서는 실리콘이 이용되었다. The flat mounting portion 313a is preferably made of a buffer material in order to prevent damage due to an impact that may be generated when the glass plate G is adsorbed by the vacuum pump. In this embodiment, silicon is used .

상기 곡면안착부(313b)는 상기 평면안착부(313a)의 양 측부에 각각 마련되며, 그 단면은 직각삼각형을 이룬다. 그리고 곡면안착부(313b)의 상면은 상기 유리판(G)의 곡면부(R)에 대응하도록 라운드화 되어있다. The curved seating portion 313b is provided on both side portions of the flat seating portion 313a, and the cross section of the curved seating portion 313b is a right triangle. The upper surface of the curved surface receiving portion 313b is rounded to correspond to the curved surface portion R of the glass plate G. [

상기 가이드부(315)는 도 10의 (b)에 도시된 바와 같이, 상기 베이스부(311)의 양측에 고정되어 서로 인접한 2개의 상기 베이스부(311) 사이의 간격을 유지시키는 부재로서, 삼각형 형태의 단면을 가진다. 상기 가이드부(315)의 상단부는, 상기 유리판(G)이 상기 안착부(313)에 안착될 때, 상기 유리판(G)이 상기 가이드부(315)에 접촉하여 손상되는 것을 방지할 수 있도록, 상기 평면안착부(313a)의 상단부와 소정의 간격을 유지한 상태로 배치된다. As shown in FIG. 10 (b), the guide portion 315 is a member that is fixed to both sides of the base portion 311 and maintains a gap between the two base portions 311 adjacent to each other, Shaped cross section. The upper end of the guide portion 315 is formed so as to prevent the glass plate G from being damaged due to contact with the guide portion 315 when the glass plate G is seated on the seating portion 313. [ And is disposed at a predetermined distance from the upper end of the flat mounting portion 313a.

상기 연마유닛(50)은, 상기 유리판(G)을 연마하는 유닛으로서, 복수 개 마련되어 상기 회전테이블(30)의 원주 방향을 따라 미리 정한 간격만큼 서로 이격된 상태로 배열되어 있다. The polishing unit 50 is a unit for polishing the glass plate G and is arranged in a state of being spaced from each other by a predetermined distance along the circumferential direction of the rotary table 30.

상기 연마유닛(50)은, 상기 회전테이블(30) 상방에 배치되어 상기 상부프레임(11)에 연결되어 있다.The polishing unit 50 is disposed above the rotary table 30 and connected to the upper frame 11. [

상기 연마유닛(50)은, 연마패드(51)와, 회전판(53)과, 구동부(55)와, 연마액공급부(57)를 포함하여 구성된다. The polishing unit 50 includes a polishing pad 51, a rotating plate 53, a driving unit 55, and a polishing liquid supply unit 57.

상기 회전판(53)은, 소정의 회전중심축(C1, C2, C3)을 중심으로 상기 유리판(G)에 대하여 회전 가능하게 마련되어 있다.The rotary plate 53 is rotatable with respect to the glass plate G around a predetermined rotation center axis C1, C2, and C3.

상기 구동부(55)는, 상기 회전판(53)이 회전할 수 있도록 동력을 제공하는 부분으로서, 상기 회전판(53)을 회전시키는 샤프트를 포함한다. 여기서, 상기 샤프트 내부에는 후술하는 연마패드(51)에 공급될 수 있도록 연마액이 이동하는 통로가 되는 관인 연마액공급부(57)가 마련된다. The driving unit 55 includes a shaft for rotating the rotating plate 53. The driving unit 55 includes a shaft for rotating the rotating plate 53, Here, an abrasive liquid supply part 57 is provided inside the shaft, which is a passage through which the polishing liquid moves so that it can be supplied to the polishing pad 51 described later.

상기 연마패드(51)는, 상기 회전판(53)의 하면에 고정되어 상기 회전판(53)과 함께 소정의 회전중심축(C1, C2, C3)을 중심으로 상기 유리판(G)에 대하여 회전 가능하게 마련되어 있으며, 상기 유리판(G)을 연마하는 동안 상기 유리판(G)의 평면부(F) 또는 곡면부(R)와 마주하도록 상기 연마유닛(50)의 하단부에 위치한다. 이러한 연마패드(51)는, 연마부(511)와, 스펀지부(513)과, 밸크로부(515)와 주입구(517)를 포함하여 구성된다.The polishing pad 51 is fixed to the bottom surface of the rotating plate 53 and is rotatable with respect to the glass plate G about the center of rotation C1, C2, and C3 along with the rotating plate 53 And is positioned at the lower end of the polishing unit 50 so as to face the flat portion F or the curved portion R of the glass plate G while polishing the glass plate G. [ The polishing pad 51 includes a polishing section 511, a sponge section 513, a valve section 515, and an injection port 517.

상기 연마부(511)는, 상기 유리판(G)을 연마할 때, 상기 유리판(G)의 평면부(F) 또는 곡면부(R)와 마주한 상태로 접촉하는 대략 원형의 판형부재로서, 상면은 후술하는 스펀지부(513)의 하면에 결합되어 있으며, 하면은 상기 유리판(G)과 마주한 상태로 접촉 가능하게 배치되어 있다. 이러한 상기 연마부(511)는, 상기 회전판(53)이 회전하는 동안 상기 유리판(G)과의 접촉마찰력에 의해 상기 유리판(G)을 연마시킨다. 여기서, 상기 연마부(511)는 상기 유리판(G)의 곡률에 따라 후술하는 스펀지부(513)과 함께 형상이 변할 수 있는 연성의 소재이며, 상기 유리판(G)과 접촉마찰력을 발휘할 수 있도록 동물의 가죽, 인조가죽 및 고무로 이루어진 군 중 적어도 하나를 포함하여 제조된 것일 수 있다. The polishing unit 511 is a substantially circular plate member which is in contact with the flat portion F or the curved portion R of the glass plate G when the glass plate G is polished, And is disposed so as to be in contact with the glass plate G so as to be in contact with the lower surface of the sponge portion 513. The polishing unit 511 polishes the glass plate G by a contact friction force with the glass plate G while the rotation plate 53 rotates. The polishing unit 511 is a flexible material that can change its shape along with the sponge 513 described below according to the curvature of the glass plate G. The polishing unit 511 is a flexible material, Of leather, artificial leather and rubber.

더욱 바람직하게 상기 연마부(511)는, 상기 유리판(G)의 표면에 발생할 수 있는 스크래치를 최소화할 수 있도록 상기 유리판(G)을 부드럽게 연마할 수 있는 새끼 양이나 새끼 소 따위의 가죽을 보드랍게 보풀린 스웨이드(suede) 계열의 가죽이 이용될 수 있다. More preferably, the polishing unit 511 is provided with a louver or lamb that can smoothly polish the glass plate G so as to minimize scratches that may occur on the surface of the glass plate G, A suede-based leather can be used.

상기 연마부(511)에는, 후술하는 스펀지부(513)가 머금고 있는 연마액이 상기 유리판(G)과의 사이에 배출될 수 있도록 미세한 관통공인 미세공(511a)이 복수 개 형성되어 있다. A plurality of microscopic holes 511a are formed in the polishing section 511 so that a polishing liquid fused by a sponge section 513 described later can be discharged to the glass plate G. [

상기 스펀지부(513)는, 상기 연마부(511)와 상기 회전판(53) 사이에 배치되는 대략 원기둥 형상의 다공성 스펀지 부재로서, 후술하는 승강유닛(70)에 의해 상기 연마유닛(50)이 하강하여 상기 연마부(511)가 상기 유리판(G)과 면접하면서 상기 유리판(G)을 가압하게 되면 상기 가압력에 의해 상기 유리판(G)의 곡률에 따라 형상이 변한다. The sponge portion 513 is a substantially cylindrical porous sponge member disposed between the polishing portion 511 and the rotary plate 53. The sponge portion 513 is a substantially cylindrical porous sponge member that is lowered by the lifting unit 70 When the polishing unit 511 presses the glass plate G while being in contact with the glass plate G, the shape changes according to the curvature of the glass plate G by the pressing force.

더욱 상세하게는, 상기 스펀지부(513)는, 상기 연마부(511)가 상기 유리판(G)의 평면부(F)와 접촉하는 경우, 상기 회전판(53)과 상기 유리판(G) 사이에서 발생되는 가압력에 의해 납작해지면서 상기 연마부(511)와 함께 평평한 상태가 된다. 또한, 상기 스펀지부(513)는, 상기 연마부(511)가 상기 유리판(G)의 곡면부(R)와 접촉하는 경우, 상기 회전판(53)과 상기 유리판(G) 사이에서 발생되는 가압력에 의해, 상기 연마부(511)와 함께 상기 곡면부(R)와 면접하는 부분에서 내측으로 오목하게 변형되면서 상기 곡면부(R)를 덮는 상태가 된다.More specifically, the sponge portion 513 is formed between the rotating plate 53 and the glass plate G when the polishing portion 511 contacts the flat portion F of the glass plate G And becomes a flat state together with the polishing unit 511. As shown in Fig. The sponge portion 513 may be formed by a pressing force generated between the rotating plate 53 and the glass plate G when the polishing portion 511 contacts the curved portion R of the glass plate G The concave portion 511 is concavely deformed inward at a portion where the curved portion R is in contact with the curved portion R to cover the curved portion R. [

상기 스펀지부(513)에는 상기 연마액공급부(57)로부터 공급되는 연마액이 주입되는 주입구(517)가 형성되어 있다. 상기 주입구(517)는 상기 스펀지부(513)의 상단부에 형성되어 있는 구멍으로서, 상기 스펀지부(513)의 상면으로부터 하방을 향하여 소정의 깊이를 가지도록 형성되어 있다. The sponge portion 513 is provided with an injection port 517 through which the polishing liquid supplied from the polishing liquid supply portion 57 is injected. The injection port 517 is formed at an upper end of the sponge portion 513 and is formed to have a predetermined depth downward from the upper surface of the sponge portion 513. [

여기서, 상기 주입구(517)는, 상기 연마부(511)가 상기 유리판(G)과 접촉할 때 상기 유리판(G)의 상면에서부터 연마액이 소정의 높이로 채워져 주입구(517)의 내주면으로부터 반경방향을 따라 상기 스펀지부(513)로 퍼질 수 있도록, 후술하는 밸크로부(515), 스펀지부(513) 및 연마부(511)를 관통하도록 형성되는 것이 바람직하다. 여기서 상기 연마액공급부(57)의 하단은 상기 스펀지부(513)의 상단에 위치하여 상기 연마액공급부(57)부로부터 주입되는 연마액이 상기 주입구(517)의 내주면을 따라 흘러내려 상기 유리판(G)의 상면에서부터 상기 주입구(517) 상의 소정의 높이만큼 충분히 채워질 수 있도록 하는 것이 바람직히다. When the polishing unit 511 contacts the glass plate G, the injection port 517 is filled with the polishing liquid from the upper surface of the glass plate G to a predetermined height, and is radially moved from the inner circumferential surface of the injection port 517 The sponge portion 513 and the polishing portion 511 so as to be spread to the sponge portion 513 along the spool portion 513. The lower end of the abrasive liquid supply part 57 is located at the upper end of the sponge part 513 and the abrasive liquid injected from the abrasive liquid supply part 57 flows along the inner peripheral surface of the injection port 517, G from a top surface of the injection port 517. [0064]

이로써, 상기 스펀지부(513)는 상기 연마액공급부(57)로부터 공급되는 연마액을 흡수하여 머금게 되고, 상기 가압력에 의해 변형되면서 하방으로 연마액을 방출하여 상기 연마부(511)의 미세공(511a)을 통해 연마액이 상기 유리판(G)과 상기 연마부(511) 사이에 공급되게 된다.As a result, the sponge portion 513 absorbs the polishing liquid supplied from the polishing liquid supply portion 57, and is then deformed by the pressing force to discharge the polishing liquid downward, The polishing liquid is supplied between the glass plate G and the polishing unit 511 through the polishing pad 511a.

한편, 상기 스펀지부(513)는, 상기 연마부(511)과 함께 교체가 가능하도록 상기 회전판(53)에 대하여 탈착가능하게 결합될 수 있다.Meanwhile, the sponge portion 513 may be detachably coupled to the rotary plate 53 so as to be replaceable with the polishing portion 511.

상기 밸크로부(515)는, 상기 스펀지부(513)가 상기 회전판(53)에 대하여 탈착가능하게 결합될 수 있도록 상기 스펀지부(513)의 상부에 마련되는 밸크로타입의 결합부재이다. 여기서, 상기 회전판(53)의 하부에는 상기 밸크로부(515)와 대응되는 밸크로타입의 부재가 마련된다. The valve portion 515 is a valve-type coupling member provided on the sponge portion 513 so that the sponge portion 513 can be detachably coupled to the rotation plate 53. Here, a valve-type member corresponding to the valve unit 515 is provided at a lower portion of the rotating plate 53.

상기 승강유닛(70)은, 도 6 및 도 13 내지 도 15에 도시된 바와 같이, 상기 연마유닛(50)을 상승위치와 하강위치 사이에서 직선 이동시키는 장치로서, 상기 상부프레임(11)에 장착되어 있다. 이러한 상기 승강유닛(70)은 실린더(71)와, 연결부(73)와, 지지부(75)를 포함하여 구성된다. 6 and 13 to 15, the elevating unit 70 is a device for linearly moving the polishing unit 50 between a raised position and a lowered position, and is mounted on the upper frame 11 . The elevating unit 70 includes a cylinder 71, a connecting portion 73, and a supporting portion 75.

상기 실린더(71)는, 상기 연마유닛(50)을 직선 이동시키는 장치로서, 유공압 실린더가 이용될 수 있다. The cylinder (71) is a device for linearly moving the polishing unit (50), and a pneumo-hydraulic cylinder can be used.

상기 지지부(75)는, 지면과 평행하게 배치된 금속 바(bar) 부재로서, 상기 실린더(71)의 단부에 연결된다.The support portion 75 is a metal bar member disposed in parallel with the paper surface, and is connected to the end portion of the cylinder 71.

상기 연결부(73)는, 지면과 수직하게 배치된 금속 판형 부재로서, 상기 지지부(75)와 상기 연마유닛(50)을 연결하여 상기 실린더(71)의 동력을 상기 실린더(71)에 전달한다.The connection portion 73 is a metal plate member disposed perpendicularly to the paper surface and connects the support portion 75 and the polishing unit 50 to transmit the power of the cylinder 71 to the cylinder 71.

상기 연마유닛(50)이 상기 하강위치에 있을 때에는, 상기 연마부(511)가 상기 유리판(G)과 접촉함으로써 상기 유리판(G)의 연마 가공이 가능한 상태가 되고, 상기 연마유닛(50)이 상기 상승위치에 있을 때에는, 상기 연마부(511)가 상기 유리판(G)과 접촉하지 않는 상태가 된다.When the polishing unit 50 is in the lowered position, the polishing unit 511 comes into contact with the glass plate G so that the glass plate G can be polished, and the polishing unit 50 When the polishing unit 511 is in the raised position, the polishing unit 511 does not contact the glass plate G. [

한편, 상기 연마유닛(50)은, 상기 유리판(G)의 평면부(F)를 연마할 수 있는 평면부연마유닛(50a)와, 상기 유리판(G)의 내측곡면부(R1)을 연마할 수 있는 내측곡면부연마유닛(50b)와, 상기 유리판(G)의 외측곡면부(R2)를 연마할 수 있는 외측곡면부연마유닛(50c)로 구분될 수 있다. The polishing unit 50 includes a flat portion polishing unit 50a capable of polishing the flat portion F of the glass plate G and a flat portion polishing unit 50b for polishing the inner curved portion R1 of the glass plate G And an outer curved portion polishing unit 50c capable of polishing the outer curved portion R2 of the glass plate G. The outer curved portion polishing unit 50b can be divided into an inner curved portion polishing unit 50b and an outer curved portion polishing unit 50c.

상기 평면부연마유닛(50a)은, 도 6 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 연마패드(51)가 상기 유리판(G)의 평면부(F)와 마주할 수 있도록 상기 회전판(53)이 지면에 실질적으로 수직하게 배치된 제1 중심축(C1)을 중심으로 회전가능하게 구성되어 있다. 그리고, 도 13a에 도시된 바와 같이, 상기 상승위치에 있는 평면부연마유닛(50a)이, 도 13b에 도시된 바와 같이, 상기 하강위치로 이동하여 상기 연마부(511)가 상기 유리판(G)의 평면부(F)와 접촉 후에 도 13c에 도시된 바와 같이, 연마를 위하여 상기 유리판(G)의 평면부(F)를 가압하게 되면 상기 스펀지부(513)는 납작하게 되면서 상기 연마부(511)는 상기 유리판(G)의 평면부(F)에 밀착되는 상태가 된다. 즉, 상기 연마부(511)는 상기 유리판(G)에 가할 수 있는 충격을 완화하면서 상기 평면부(F)와의 접촉밀착력을 강화하여 상기 유리판(G)을 가공하는 연마력을 향상시킬 수 있다.6 to 7, the planar part polishing unit 50a may be configured such that the rotation plate 53 is rotated so that the polishing pad 51 faces the plane part F of the glass plate G, And is rotatable about a first central axis C1 arranged substantially perpendicular to the paper. 13A, the flat portion polishing unit 50a at the raised position moves to the lowered position and the polishing unit 511 moves the glass plate G, as shown in FIG. 13B, After the flat portion F of the glass plate G is pressed for polishing as shown in FIG. 13C, the sponge portion 513 is flattened and the polishing portion 511 Is brought into a state of being in close contact with the flat portion (F) of the glass plate (G). That is, the polishing unit 511 can improve the abrasive force for processing the glass plate G by strengthening the contact adhesion force with the plane portion F while relieving the impact that can be applied to the glass plate G.

상기 내측곡면부연마유닛(50b)는, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 연마패드(51)가 상기 유리판(G)의 내측곡면부(R1)과 마주할 수 있도록 상기 회전판(53)이 상기 중심축(C')을 향하여 기울어진 제2 중심축(C2)을 중심으로 회전가능하게 구성되어 있다. 그리고, 도 14a에 도시된 바와 같이, 상기 상승위치에 있는 내측곡면부연마유닛(50b)이, 도 14b에 도시된 바와 같이, 상기 하강위치로 이동하여 상기 연마부(511)가 상기 유리판(G)의 평면부(F)와 접촉 후에 도 14c에 도시된 바와 같이, 연마를 위하여 상기 유리판(G)의 내측곡면부(R1)를 가압하게 되면 상기 스펀지부(513)는 상기 연마부(511)와 함께 상기 곡면부(R)와 면접하는 부분에서 내측으로 오목하게 변형되면서 상기 내측곡면부(R1)를 덮는 상태가 된다. 즉, 상기 연마부(511)는 상기 내측곡면부(R1)와의 접촉면적이 넓어진 상태로 상기 유리판(G)을 연마할 수 있는 바, 상기 유리판(G)을 가공하는 작업시간을 단축할 수 있게 된다.6, the inner curved portion polishing unit 50b may be configured such that the rotating plate 53 is moved in the vertical direction so that the polishing pad 51 can face the inner curved portion R1 of the glass plate G, And is rotatable around a second central axis C2 inclined toward the central axis C '. As shown in Fig. 14A, the inner curved portion polishing unit 50b at the raised position moves to the lowered position as shown in Fig. 14B, and the polishing unit 511 moves the glass plate G After the inner curved portion R1 of the glass plate G is pressed for polishing as shown in FIG. 14C, the sponge portion 513 is pressed against the polishing portion 511, The inner curved portion R1 is covered with the inner curved portion R1 while being deformed concavely inward. In other words, the polishing unit 511 can polish the glass plate G in a state where the contact area with the inner curved surface portion R1 is widened, and it is possible to shorten the working time for processing the glass plate G do.

상기 외측곡면부연마유닛(50c)은, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 연마패드(51)가 상기 유리판(G)의 외측곡면부(R2)와 마주할 수 있도록 상기 회전판(53)이 상기 중심축(C')으로부터 이격되는 방향으로 기울어진 제3 중심축(C3)을 중심으로 회전가능하게 구성되어 있다. 그리고, 도 15a에 도시된 바와 같이, 상기 상승위치에 있는 외측곡면부연마유닛(50c)이, 도 15b에 도시된 바와 같이, 상기 하강위치로 이동하여 상기 연마부(511)가 상기 유리판(G)의 외측곡면부(R2)와 접촉 후에 도 15c에 도시된 바와 같이, 연마를 위하여 상기 유리판(G)의 외측곡면부(R2)를 가압하게 되면 상기 스펀지부(513)는 상기 연마부(511)와 함께 상기 곡면부(R)와 면접하는 부분에서 내측으로 오목하게 변형되면서 상기 외측곡면부(R2)를 덮는 상태가 된다. 즉, 상기 연마부(511)는 상기 외측곡면부(R2)와의 접촉면적이 넓어진 상태로 상기 유리판(G)을 연마할 수 있는 바, 상기 유리판(G)을 가공하는 작업시간을 단축할 수 있게 된다.7, the outer curved portion polishing unit 50c may be configured such that the rotary plate 53 is rotated in the vertical direction so that the polishing pad 51 faces the outer curved portion R2 of the glass plate G, And is rotatable about a third central axis C3 which is inclined in a direction away from the central axis C '. 15A, the outer curved portion polishing unit 50c at the raised position moves to the lowered position as shown in FIG. 15B, and the polishing unit 511 moves the glass plate G After the outer curved portion R2 of the glass plate G is contacted with the outer curved portion R2 of the glass plate G for polishing as shown in Fig. 15C, the sponge portion 513 is pressed against the polishing portion 511 And is covered with the outer curved portion R2 while being concavely deformed inward at a portion where the curved surface portion R is interposed. That is, since the polishing unit 511 can polish the glass plate G in a state where the contact area with the outer curved surface portion R2 is wider, it is possible to shorten the working time for processing the glass plate G do.

한편, 상기 평면부연마유닛(50a), 내측곡면부연마유닛(50b) 및 상기 외측곡면부연마유닛(50c)은, 상기 유리판(G)의 크기, 배치, 곡면부(R1, R2)의 위치 및 곡률 등에 따라 상기 연마패드(51)가 향하는 방향이 달라질 필요가 있다. On the other hand, the planar portion polishing unit 50a, the inside curved portion polishing unit 50b and the outside curved portion polishing unit 50c are arranged in the order of the size and arrangement of the glass plate G, the positions of the curved portions R1 and R2 And the direction of the polishing pad 51 must be changed depending on the curvature or the like.

따라서, 상기 연마유닛(50)은, 상기 연결부(73)에 대하여 병진이동하거나 틸팅되어 고정될 수 있다.Therefore, the polishing unit 50 can be fixed to the connection portion 73 by translational movement or tilting.

또한, 상기 외측곡면부연마유닛(50c)의 경우, 상기 유리판(G)의 외측곡면부(R2)가 상기 회전테이블(30)의 외주면에 인접할 정도의 위치에 배치되면 상기 연마패드(51)의 위치 또한 상기 회전테이블(30)의 외주면에 인접할 정도로 위치시켜야 하므로, 상기 외측곡면부연마유닛(50c)가 연결되는 상기 연결부(73)의 일단부는 상기 중심축(C')의 반경방향을 따라 연장된 연장부(73a)로 형성될 수도 있다.In the case of the outer curved portion polishing unit 50c, if the outer curved portion R2 of the glass plate G is disposed at a position adjacent to the outer peripheral surface of the rotary table 30, The one end of the connecting portion 73 to which the outer curved portion polishing unit 50c is connected is positioned so as to be adjacent to the outer circumferential surface of the rotary table 30 in the radial direction of the center axis C ' And may be formed as an extended portion 73a.

한편, 본 발명에 따른 유리판 연마기(100)는, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 회전테이블(30)의 원주방향을 따라 상기 유리판(G)의 평면부(F)를 연마하는 영역인 평면부연마영역(A)과, 상기 유리판(G)의 내측곡면부(R1)를 연마하는 영역인 내측곡면부연마영역(B)과, 상기 유리판(G)의 외측곡면부(R2)를 연마하는 영역인 외측곡면부연마영역(C)과, 작업자가 상기 유리판(G)을 장착 및 인출하는 작업영역(D)으로 구분된다. 5, the glass plate polishing machine 100 according to the present invention includes a flat plate portion 30 which is a region for polishing the flat portion F of the glass plate G along the circumferential direction of the rotary table 30, An inner curved portion polishing area B which is an area for polishing the inner curved surface portion R1 of the glass plate G and an outer curved portion R2 which polishes the outer curved portion R2 of the glass plate G, And a work area D in which an operator mounts and pulls the glass plate G. [

상기 평면부연마영역(A)에는 복수의 상기 평면부연마유닛(50a)이 배치되며, 상기 내측곡면부연마영역(B)에는 복수의 상기 내측곡면부연마유닛(50b)이 배치되며, 상기 외측곡면부연마영역(C)에는 복수의 상기 외측곡면부연마유닛(50c)가 배치되어 있다. 상기 복수의 유리판(G)이 배치된 상기 회전테이블(30)이 상기 중심축(C')을 중심으로 회전하면서 상기 유리판(G)이 각 연마영역(A, B, C)을 거치게 되면 상기 유리판(G)의 평면부(F), 내측곡면부(R1), 외측곡면부(R2)가 모두 한 번의 연마 공정으로 가공될 수 있다. Wherein a plurality of the planar side polishing units (50a) are arranged in the planar side polishing area (A), a plurality of the inside curved side polishing units (50b) are arranged in the inside curved side polishing area A plurality of the outer curved portion polishing units 50c are arranged in the curved portion polishing region C. When the glass table G passes through the respective polishing regions A, B, and C while the rotation table 30 on which the plurality of glass plates G are disposed rotates about the central axis C ' The flat portion F, the inner curved portion R1 and the outer curved portion R2 of the substrate G can all be processed in one polishing process.

상술한 구성의 유리판 연마기(100)는, 상기 유리판(G)을 가압하면 상기 가압력에 의해 상기 유리판(G)의 곡률에 따라 형상이 변하는 스펀지부(513)를 구비하는 연마패드(51)를 포함하는 바, 상기 유리판(G)을 연마하는 동안 상기 유리판(G)에 가해질 수 있는 충격을 완화시키면서 상기 연마패드(51)와 상기 유리판(G)의 사이의 밀착력을 개선시켜 상기 연마패드(51)와 상기 유리판(G) 사이의 접촉밀착력은 향상되는 바, 전체적으로 상기 유리판(G)의 연마효율은 상승한다. 또한, 상기 연마패드(51)가 상기 유리판(G)의 곡률에 따라 형상이 변화될 수 있는 바, 상기 유리판(G)의 평면부(F) 뿐만 아니라 곡면부(R)도 한 번의 연마 공정으로 가공할 수 있는 장점이 있다. 따라서, 상기 유리판 연마기(100)는, 전체적인 연마 작업 공정 및 연마 작업 시간이 단축되어 상기 유리판(G)의 제조 단가를 낮출 수 있다는 장점이 있다.The glass plate polishing machine 100 having the above-described structure includes a polishing pad 51 having a sponge portion 513 whose shape changes according to the curvature of the glass plate G by the pressing force when the glass plate G is pressed The adhesion force between the polishing pad 51 and the glass plate G is improved while the impact that may be applied to the glass plate G is reduced while polishing the glass plate G, And the glass plate G is improved, the polishing efficiency of the glass plate G as a whole increases. The shape of the polishing pad 51 can be changed according to the curvature of the glass plate G so that the curved portion R as well as the flat portion F of the glass plate G are subjected to a single polishing process There is an advantage that it can be processed. Therefore, the glass plate polishing machine 100 is advantageous in that the overall polishing work process and polishing time are shortened and the manufacturing cost of the glass plate G can be reduced.

또한, 상기 유리판 연마기(100)는, 상기 연마패드(51)가 상기 유리판(G)과 마주한 상태로 접촉 가능하게 상기 스펀지부(513)의 일측에 배치되며 상기 스펀지부(513)와 함께 형상이 변하는 연마부(511)를 포함하는 바, 상기 연마부(511)는 상기 곡면부(R)와의 접촉면적이 넓어진 상태로 상기 유리판(G)을 연마할 수 있으므로, 상기 유리판(G)을 가공하는 작업시간을 단축할 수 있는 장점이 있다. The polishing pad 100 is disposed on one side of the sponge portion 513 such that the polishing pad 51 is in contact with the glass plate G and is in contact with the sponge portion 513, The polishing section 511 can polish the glass plate G in a state in which the contact area with the curved section R is widened so that the glass plate G is processed There is an advantage that the working time can be shortened.

그리고, 상기 유리판 연마기(100)는, 가죽 및 고무로 이루어진 군 중 적어도 하나를 포함하여 제조된 상기 연마부(511)를 이용하므로, 브러시를 연마부로 사용하는 종래기술과 비교하여 상기 유리판(G)의 표면을 더욱 매끄럽게 하여 상품성을 개선시킬 수 있다는 장점이 있다.Since the glass plate polishing machine 100 uses the polishing unit 511 made of at least one of the group consisting of leather and rubber, the glass plate G can be cleaned more easily than the prior art using a brush as a polishing unit. It is possible to improve the commerciality by smoothing the surface of the substrate.

또한, 상기 유리판 연마기(100)는, 상기 스펀지부(513)에 상기 연마액공급부(57)부터 공급되는 연마액이 주입될 수 있는 주입구(517)가 형성되어 있으므로, 상기 스펀지부(513)가 연마액을 머금어 상기 유리판(G)과 상기 연마부(511) 사이에 배출시킬 수 있는 바, 상기 유리판(G)를 가공하는 동안 연마액을 충분히 공급할 수 있다는 장점이 있다.The glass plate polishing machine 100 is provided with the injection port 517 through which the polishing liquid supplied from the polishing liquid supply part 57 can be injected into the sponge part 513 so that the sponge part 513 The polishing liquid can be discharged to the space between the glass plate G and the polishing unit 511. This is advantageous in that the polishing liquid can be sufficiently supplied during processing of the glass plate G. [

그리고, 상기 유리판 연마기(100)는, 상기 스펀지부(513)가 상기 회전판(53)에 탈착가능하게 결합되므로, 상기 연마패드(51)가 마모되어 더 이상 사용할 수 없게 되는 경우, 상기 연마유닛(50) 자체의 교체가 아닌 상기 연마패드(51)만 교체하면 되는 바, 작업의 효율을 높일 수 있다는 장점이 있다.Since the sponge portion 513 is detachably coupled to the rotary plate 53, when the polishing pad 51 is worn out and can no longer be used, the polishing unit 100 The polishing pad 51 can be replaced only by replacing the polishing pad 50 itself.

또한, 상기 유리판 연마기(100)는, 상기 스펀지부(513) 타측에 밸크로부(515)를 구비하므로, 상기 연마패드(51)의 상기 회전판(53)에 대한 탈부착을 다른 장비없이 작업자의 붙였다 떼었다하는 수작업만으로 가능하게 하는 바, 상기 연마패드(51)의 교체 공정을 단순화할 수 있다는 장점이 있다. Since the glass plate polishing machine 100 includes the balch portion 515 on the other side of the sponge portion 513, it is possible to attach and detach the polishing pad 51 to and from the rotating plate 53 without any other equipment It is possible to simplify the process of replacing the polishing pad 51. [0064] As shown in FIG.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예 및 응용예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예 및 응용예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어져서는 안될 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention.

*도면의 주요부위에 대한 부호의 설명*
100 : 유리판 연마기 10 : 프레임
11 : 상부프레임 12 : 하부프레임
13 : 중간프레임 30 : 회전테이블
31 : 유리판배치부 311 : 베이스부
313 : 안착부 315 : 가이드부
313a : 평면안착부 313b : 곡면안착부
50 : 연마유닛 50a : 평면부연마유닛
50b : 내측곡면부연마유닛 50c : 외측곡면부연마유닛
511 : 연마부 511a : 미세공
513 : 스펀지부 515 : 밸크로부
517 : 주입구 53 : 회전판
55 : 구동부 57 : 연마액공급부
70 : 승강유닛 71 : 실린더
73 : 연결부 75 : 지지부
[Description of Reference Numerals]
100: Glass plate grinder 10: Frame
11: upper frame 12: lower frame
13: intermediate frame 30: rotating table
31: Glass plate disposing part 311: Base part
313: seat part 315: guide part
313a: flat mounting portion 313b: curved mounting portion
50: polishing unit 50a: flat part polishing unit
50b: inner curved portion polishing unit 50c: outer curved portion polishing unit
511: Polishing section 511a:
513: sponge part 515:
517: Inlet port 53:
55: driving part 57: abrasive liquid supply part
70: lift unit 71: cylinder
73: connection part 75: support part

Claims (6)

유리판을 다수 개 연마하는 유리판 연마기에 있어서,
프레임;
원형 테이블로서, 상기 프레임에 대하여 회전 가능하게 마련되어 있으며, 상면에 상기 다수 개의 유리판이 배열되어 있는 회전테이블;
복수 개 마련되어 상기 회전테이블의 원주 방향을 따라 배열되되, 상기 회전테이블 상방에 배치되도록 상기 프레임에 연결되며, 상기 유리판을 연마하는 연마유닛;을 포함하며,
상기 연마유닛은,
상기 유리판을 연마하는 동안 상기 유리판과 마주한 상태를 유지하되, 상기 유리판을 가압하면 상기 가압에 의해 상기 유리판의 곡률에 따라 형상이 변하는 스펀지부를 구비하는 연마패드를 포함하고,
상기 연마유닛은,
상기 유리판의 평면부를 연마하고 제1 중심축을 중심으로 회전가능한 평면부연마유닛;
상기 유리판의 내측곡면부를 연마하고 제2 중심축을 중심으로 회전가능한 내측곡면부연마유닛; 및
상기 유리판의 외측곡면부를 연마하고 제3 중심축을 중심으로 회전가능한 외측곡면부연마유닛을 포함하고,
상기 유리판이 상기 회전테이블을 따라 회전하되, 상기 평면부연마유닛, 상기 내측곡면부연마유닛 및 상기 외측곡면부연마유닛을 모두 거치는 것을 특징으로 하는 유리판 연마기.
A glass plate polishing machine for polishing a plurality of glass plates,
frame;
1. A circular table, comprising: a rotary table rotatably provided with respect to the frame, the rotary table having the plurality of glass plates arranged on an upper surface thereof;
And a polishing unit that is provided along the circumferential direction of the rotary table and is connected to the frame so as to be disposed above the rotary table and polishes the glass plate,
The polishing unit includes:
And a polishing pad having a sponge portion which is maintained in a state of being opposed to the glass plate while polishing the glass plate and whose shape changes according to the curvature of the glass plate when the glass plate is pressed,
The polishing unit includes:
A flat part polishing unit which polishes a flat part of the glass plate and is rotatable about a first central axis;
An inner curved portion polishing unit which polishes the inner curved portion of the glass plate and is rotatable about the second central axis; And
And an outer curved portion polishing unit which is capable of polishing an outer curved portion of the glass plate and is rotatable about a third central axis,
Wherein the glass plate rotates along the rotary table and passes through both the planar portion polishing unit, the inner curved portion polishing unit and the outer curved portion polishing unit.
제 1항에 있어서,
상기 연마패드는, 상기 유리판과 마주한 상태로 접촉 가능하게 상기 스펀지부의 일측에 배치되며 상기 스펀지부와 함께 형상이 변하는 연마부를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리판 연마기.
The method according to claim 1,
Wherein the polishing pad comprises a polishing part which is arranged on one side of the sponge part so as to be in contact with the glass plate and whose shape changes together with the sponge part.
제 2항에 있어서,
상기 연마부는, 가죽 및 고무로 이루어진 군 중 적어도 하나를 포함하여 제조된 것을 특징으로 하는 유리판 연마기.
3. The method of claim 2,
Wherein the polishing part is made of at least one of the group consisting of leather and rubber.
제 1항에 있어서,
상기 연마유닛은, 상기 스펀지부에 연마액을 공급하는 연마액공급부를 포함하며,
상기 스펀지부에는, 상기 연마액공급부로부터 공급되는 연마액이 주입될는 수 있는 주입구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 유리판 연마기.
The method according to claim 1,
The polishing unit includes a polishing liquid supply unit for supplying a polishing liquid to the sponge unit,
Wherein the sponge portion is provided with an injection port through which the polishing liquid supplied from the polishing liquid supply portion can be injected.
제 1항에 있어서,
상기 연마유닛은, 상기 유리판에 대하여 상대 회전하는 회전판을 구비하며
상기 스펀지부는, 상기 회전판에 대하여 탈착가능하게 결합되는 것을 특징으로 하는 유리판 연마기.
The method according to claim 1,
The polishing unit has a rotating plate which rotates relative to the glass plate
Wherein the sponge portion is detachably coupled to the rotation plate.
제 5항에 있어서,
상기 연마패드는, 상기 스펀지부를 상기 회전판에 대하여 탈착가능하게 결합할 수 있도록, 상기 스펀지부 타측에 벨크로부를 구비하는 것을 특징으로 하는 유리판 연마기.
6. The method of claim 5,
Wherein the polishing pad comprises a Velcro portion on the other side of the sponge portion so that the sponge portion can be detachably coupled to the rotating plate.
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