KR101747735B1

KR101747735B1 - Display device and manufacturing method thereof

Info

Publication number: KR101747735B1
Application number: KR1020110070689A
Authority: KR
Inventors: 최호원
Original assignee: 엘지디스플레이 주식회사
Priority date: 2011-07-15
Filing date: 2011-07-15
Publication date: 2017-06-16
Also published as: KR20130009520A

Abstract

본 발명은 터치 센서 어레이부터 전하가 OLED 어레이의 전극으로 유입되는 것을 방지하여 센싱력을 증가시킬 수 있는 표시 장치 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 표시 장치는 서로 대향된 상부 기판 및 하부 기판과, 상기 하부 기판 상에 형성된 박막 트랜지스터 어레이와, 상기 박막 트랜지스터 어레이와 접속된 유기 전계 발광 어레이를 포함하는 하부 어레이와, 상기 하부 어레이와 마주보며 상기 상부 기판 배면 상에 형성되며, 제1 방향으로 제1 센서 전극들이 복수개가 형성된 제1 센서 전극 패턴부와, 상기 제1 센서 전극들과 교차하도록 제2 방향으로 제2 센서 전극들이 복수개가 형성된 제2 센서 전극 패턴부를 포함하는 터치 센서 어레이와, 상기 터치 센서 어레이 상에 형성된 보호막과, 상기 제1 센서 전극에서 상기 제2 센서 전극으로 전하가 이동될 때 전하가 상기 유기 전계 발광 어레이의 전극으로 유입되는 것을 방지하도록 상기 보호막 상에 형성된 전도성 패턴층과, 상기 전도성 패턴층과 터치 센서 어레이가 형성된 상부 기판과 하부 어레이가 형성된 하부 기판을 부착하는 박막 필름과, 상기 상부 기판 전면 상에 형성된 커버 글래스와, 상부 기판과 커버 글래스 사이에 형성된 편광판과 점착층을 포함한다. The present invention relates to a display device capable of increasing the sensing force by preventing charges from flowing from the touch sensor array to the electrodes of the OLED array and a method of manufacturing the same, and a display device according to the present invention includes: A lower array including a substrate, a thin film transistor array formed on the lower substrate, and an organic electroluminescence array connected to the thin film transistor array; a second array formed on the back surface of the upper substrate facing the lower array, And a second sensor electrode pattern portion having a plurality of second sensor electrodes formed in a second direction so as to intersect the first sensor electrodes, and a second sensor electrode pattern portion having a plurality of second sensor electrode patterns intersecting the first sensor electrodes, A protection film formed on the touch sensor array, and a protection film formed on the first sensor electrode and the second sensor electrode, A conductive pattern layer formed on the protective film to prevent charges from flowing into the electrodes of the organic electroluminescent array when charges are moved; and a lower substrate on which the upper patterned substrate and the lower patterned array are formed, A cover glass formed on the front surface of the upper substrate, and a polarizing plate and an adhesive layer formed between the upper substrate and the cover glass.

Description

DISPLAY APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD THEREOF [0002]

본 발명은 표시 장치 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 특히 터치 센서 어레이부터 전하가 OLED 어레이의 전극으로 유입되는 것을 방지하여 센싱력을 증가시킬 수 있는 표시 장치 및 그의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a display device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a display device capable of increasing the sensing force by preventing charges from entering from the touch sensor array into the electrodes of the OLED array, and a method of manufacturing the same.

요즘에는 표시 장치(Display Device)는 휴대가 가능한 박형의 평판 표시 장치로 대체되는 추세이다. 평판 디스플레이 장치 중에서도 전계 발광 표시 장치는 자발광형 표시 장치로서 시야각이 넓고 콘스라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 가져서 차세대 디스플레이 장치로 주목받고 있다. 또한, 유기 발광층으로 구성된 유기 전계 발광 표시 장치는 휘도, 구동 전압 및 응답 속도 특성이 우수하고 다색화가 가능하다는 점을 가진다. Nowadays, the display device is replaced with a thin portable flat display device. Among the flat panel display devices, electroluminescent display devices are self-luminous display devices having wide viewing angle, excellent contrast, and fast response speed, and are attracting attention as next generation display devices. Further, the organic light emitting display device composed of the organic light emitting layer has excellent luminance, driving voltage, and response speed characteristics, and can be multi-colored.

최근, 이러한 유기 전계 발광 표시 장치에 터치 패널 기능을 적용하는 연구가 진행중에 있다. 즉, 유기 전계 발광 표시 패널 상에 포인터 또는 사용자의 손가락을 통해 표면을 가압하면 그 위치에 대응하는 정보를 입력시키는 터치 패널을 탑재하여 입력 장치로 이용하는 표시 장치에 대한 수요가 급증하고 있다. 터치 패널은 터치 감지 방식에 따라 저항 방식, 정전 용량 방식, 적외선 감지 방식 등으로 나누며, 터치 감도를 감안하여 최근 정전 용량 방식이 주목을 받고 있다. In recent years, studies for applying a touch panel function to such an organic light emitting display device are underway. That is, a demand for a display device using an input device by mounting a touch panel that inputs information corresponding to a position of a pointer or a finger of a user on the organic light emitting display panel is increasing rapidly. The touch panel is divided into a resistance method, a capacitance method, and an infrared sensing method according to a touch sensing method. Recently, a capacitance method is getting attention in consideration of a touch sensitivity.

이때, 터치 패널이 유기 전계 발광 표시 패널 상에 탑재된 표시 장치를 애드 온 타입(Add-On type)이라 하며, 유기 전계 발광 표시 패널의 상부 기판 상에 터치 센싱 패턴이 형성된 타입을 온-셀 타입(On-Cell type)이라 하며, 유기 전계 발광 표시 패널의 상부 기판 배면 상에 터치 센싱 패턴이 형성된 타입을 인-셀 타입(In-Cell type)이라 한다. The display device in which the touch panel is mounted on the organic light emitting display panel is referred to as an add-on type, and a type in which a touch sensing pattern is formed on the upper substrate of the organic light emitting display panel is referred to as an on- (On-cell type), and a type in which a touch sensing pattern is formed on the back surface of the upper substrate of the organic light emitting display panel is referred to as an in-cell type.

이러한, 온-셀 타입의 표시 장치의 구조를 살펴보면, 박막 트랜지스터와, 이와 접속된 OLED 어레이가 형성된 하부 기판과, 하부 기판과 마주보며 형성된 상부 기판과, 상부 기판 전면 상에 형성되어 정전 용량 방식으로 위치를 감지하는 구동 전극들(Driving electrode)과 센싱 전극들(Sensing electrode)이 형성된 터치 센서 어레이와, 터치 센서 어레이 상에 형성된 점착층과, 커버 글래스를 포함한다. The on-cell type display device includes a thin film transistor, a lower substrate formed with an OLED array connected thereto, an upper substrate formed facing the lower substrate, a thin film transistor formed on the upper surface of the upper substrate, A touch sensor array formed with driving electrodes and sensing electrodes for sensing a position of the touch sensor array, an adhesive layer formed on the touch sensor array, and a cover glass.

또한, 인-셀 타입의 표시 장치의 구조를 살펴보면, 박막 트랜지스터와, 이와 접속된 OLED 어레이가 형성된 하부 기판과, 하부 기판과 마주보며 형성된 상부 기판 배면 상에 형성된 정전 용량 방식으로 위치를 감지하는 전극이 형성된 터치 센서 어레이와, In addition, a structure of the in-cell type display device includes a thin film transistor, a lower substrate on which an OLED array is formed, and an electrode that detects the position in a capacitive manner formed on the back surface of the upper substrate, A touch sensor array formed with the touch sensor array,

이와 같이, 온-셀 타입의 표시 장치와 인-셀 타입의 표시 장치를 사용자가 터치할 경우에 터치 여부에 따라 전하가 구동 전극들에서 센싱 전극들로 이동하게 되는데, 터치 전후의 커패시터의 변화량에 의해 감지하게 된다. 이때, 구동 전극들에서 센싱 전극들로 전하 이동시에 전하 이동이 OLED 어레이의 음극으로 유입되어 터치 전후의 커패시터의 변화량을 제대로 감지하기 어렵게 되어 센싱력이 저하된다. 특히, 인-셀 타입의 표시 장치는 터치 센서 어레이와 OLED 어레이와 마주보며 형성되므로 터치 센서 어레이와 OLED 어레이의 거리가 가까워 OLED 어레이의 음극으로 전하가 유입되기 쉬워 센싱력이 더욱 떨어지게 된다. When the user touches the on-cell type display device and the in-cell type display device as described above, the charge moves to the sensing electrodes from the driving electrodes depending on whether the user touches the touch panel. . At this time, the charge moves to the cathode of the OLED array at the time of charge transfer from the driving electrodes to the sensing electrodes, so that it is difficult to accurately detect the change amount of the capacitors before and after the touch, and the sensing power is lowered. In particular, since the in-cell type display device is formed facing the touch sensor array and the OLED array, the distance between the touch sensor array and the OLED array is short, so that charge is easily introduced into the cathode of the OLED array.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로서, 터치 센서 어레이부터 전하가 OLED 어레이의 전극으로 유입되는 것을 방지하여 센싱력을 증가시킬 수 있는 표시 장치 및 그의 제조 방법을 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a display device and a method of manufacturing the same that can increase the sensing force by preventing charges from the touch sensor array from flowing into the electrodes of the OLED array.

이를 위하여, 본 발명에 제1 실시 예에 따른 표시 장치는 서로 대향된 상부 기판 및 하부 기판과, 상기 하부 기판 상에 형성된 박막 트랜지스터 어레이와, 상기 박막 트랜지스터 어레이와 접속된 유기 전계 발광 어레이를 포함하는 하부 어레이와, 상기 하부 어레이와 마주보며 상기 상부 기판 배면 상에 형성되며, 제1 방향으로 제1 센서 전극들이 복수개가 형성된 제1 센서 전극 패턴부와, 상기 제1 센서 전극들과 교차하도록 제2 방향으로 제2 센서 전극들이 복수개가 형성된 제2 센서 전극 패턴부를 포함하는 터치 센서 어레이와, 상기 터치 센서 어레이 상에 형성된 보호막과, 상기 제1 센서 전극에서 상기 제2 센서 전극으로 전하가 이동될 때 전하가 상기 유기 전계 발광 어레이의 전극으로 유입되는 것을 방지하도록 상기 보호막 상에 형성된 전도성 패턴층과, 상기 전도성 패턴층과 터치 센서 어레이가 형성된 상부 기판과 하부 어레이가 형성된 하부 기판을 부착하는 박막 필름과, 상기 상부 기판 전면 상에 형성된 커버 글래스와, 상부 기판과 커버 글래스 사이에 형성된 편광판과 점착층을 포함한다. To this end, the display device according to the first embodiment of the present invention includes an upper substrate and a lower substrate facing each other, a thin film transistor array formed on the lower substrate, and an organic electroluminescence array connected to the thin film transistor array A first sensor electrode pattern portion formed on the back surface of the upper substrate facing the lower array and having a plurality of first sensor electrodes formed in a first direction, And a second sensor electrode pattern portion having a plurality of second sensor electrodes formed in a direction of the first sensor electrode, a protection film formed on the touch sensor array, and a second sensor electrode pattern portion when a charge is moved from the first sensor electrode to the second sensor electrode A conductive pattern formed on the protective film to prevent charges from flowing into the electrodes of the organic electroluminescent array A thin film film for attaching the upper substrate on which the conductive pattern layer and the touch sensor array are formed and the lower substrate on which the lower array is formed, a cover glass formed on the front surface of the upper substrate, and a polarizer formed between the upper substrate and the cover glass, Layer.

여기서, 상기 제1 센서 전극 패턴부는 제1 내지 제4 측면을 가지는 마름모 형태 또는 다이아몬드 형태로 형성되며, 각 측면에 적어도 하나의 돌출부를 가지는 상기 제1 센서 전극들과, 인접한 상기 제1 센서 전극들을 연결하는 브리지와, 상기 브리지 상에 형성되며, 상기 브리지를 노출시키도록 컨택홀이 형성된 층간 절연막과, 상기 브리지는 상기 컨택홀을 통해 상기 제1 센서 전극들과 접속되며, 인접한 제1 센서 전극들을 연결하는 것을 특징으로 한다.Here, the first sensor electrode pattern part may be formed in rhombic or diamond shape having first to fourth sides, and may include first sensor electrodes having at least one protrusion on each side, An interlayer insulating layer formed on the bridge and having a contact hole formed therein to expose the bridge, the bridge being connected to the first sensor electrodes through the contact hole, Respectively.

그리고, 상기 제2 센서 전극 패턴부는 십자 형태의 상기 제2 센서 전극들과, 상기 제2 센서 전극들과 동일층에 형성되어 서로 인접한 제2 센서 전극들을 연결해주는 연결부를 포함하는 것을 특징으로 한다. The second sensor electrode pattern part includes the second sensor electrodes in the form of a cross and a connection part formed in the same layer as the second sensor electrodes and connecting the second sensor electrodes adjacent to each other.

또한, 상기 제2 센서 전극들은 X축 방향으로 형성된 수평부와, 상기 X축 방향으로 형성된 수평부와 교차하도록 형성된 수직부와, 상기 제1 센서 전극의 제1 측면과 마주보는 제1 수직면과, 상기 제1 센서 전극의 제2 측면과 마주보는 제2 수직면과, 상기 제1 센서 전극의 제3 측면과 마주보는 제3 수직면과, 상기 제1 센서 전극의 제4 측면과 마주보는 제4 수직면을 포함하는 것을 특징으로 한다. The second sensor electrodes may include a horizontal portion formed in the X-axis direction, a vertical portion formed to cross the horizontal portion formed in the X-axis direction, a first vertical surface facing the first side surface of the first sensor electrode, A second vertical surface facing the second side surface of the first sensor electrode, a third vertical surface facing the third side surface of the first sensor electrode, and a fourth vertical surface facing the fourth side surface of the first sensor electrode .

그리고, 상기 전도성 패턴층은 복수개가 X축 방향으로 스트라이프 형태로 형성되거나, 복수개가 Y축 방향으로 스트라이프 형태로 형성되는 것을 특징으로 한다. A plurality of the conductive pattern layers are formed in a stripe shape in the X-axis direction, or a plurality of conductive pattern layers are formed in a stripe shape in the Y-axis direction.

또한, 상기 전도성 패턴층은 상기 브리지와 대응되는 위치의 상기 보호막 상에 브리지와 대응되는 패턴으로 형성되며, 상기 브리지보다 크기가 크거나 동일하게 형성되는 것을 특징으로 한다. The conductive pattern layer is formed in a pattern corresponding to the bridge on the protective film at a position corresponding to the bridge, and is formed to have a size larger or equal to that of the bridge.

그리고, 상기 터치 센서 어레이는 상기 제1 센서 전극의 측면과 상기 제2 센서 전극의 측면 사이에 다수의 다각형 패턴으로 형성된 더미 패턴부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. The touch sensor array further includes a dummy pattern portion formed in a plurality of polygonal patterns between a side surface of the first sensor electrode and a side surface of the second sensor electrode.

또한, 상기 더미 패턴부는 상기 제1 센서 전극의 제1 측면과 제2 센서 전극의 제1 수직면 사이에 형성된 제1 더미 패턴부와, 상기 제1 센서 전극의 제2 측면과 제2 센서 전극의 제2 수직면 사이에 형성된 제2 더미 패턴부와, 상기 제1 센서 전극의 제3 측면과 제2 센서 전극의 제3 수직면 사이에 형성된 제3 더미 패턴부와, 상기 제1 센서 전극의 제4 측면과 제2 센서 전극의 제4 수직면 사이에 형성된 제4 더미 패턴부를 포함하는 것을 특징으로 한다. The dummy pattern portion may include a first dummy pattern portion formed between the first side surface of the first sensor electrode and the first vertical surface of the second sensor electrode and a second dummy pattern portion formed between the second side surface of the first sensor electrode and the second side surface of the second sensor electrode. A third dummy pattern portion formed between the third side surface of the first sensor electrode and a third vertical surface of the second sensor electrode and a second dummy pattern portion formed between the third side surface of the first sensor electrode and the third side surface of the second sensor electrode, And a fourth dummy pattern portion formed between the fourth vertical surfaces of the second sensor electrode.

그리고, 상기 전도성 패턴층은 상기 제1 더미 패턴과 대응되는 패턴으로 상기 보호막 상에 형성되는 제1 도전성 더미 패턴과, 상기 제2 더미 패턴과 대응되는 패턴으로 상기 보호막 상에 형성된 제2 도전성 더미 패턴과, 상기 제3 더미 패턴과 대응되는 패턴으로 상기 보호막 상에 형성된 제3 도전성 더미 패턴과, 상기 제4 더미 패턴과 대응되는 패턴으로 상기 보호막 상에 형성된 제4 도전성 더미 패턴을 포함하는 것을 한다. The conductive pattern layer may include a first conductive dummy pattern formed on the protective film in a pattern corresponding to the first dummy pattern, a second conductive dummy pattern formed on the protective film in a pattern corresponding to the second dummy pattern, A third conductive dummy pattern formed on the protective film in a pattern corresponding to the third dummy pattern, and a fourth conductive dummy pattern formed on the protective film in a pattern corresponding to the fourth dummy pattern.

또한, 상기 전도성 패턴층은 상기 제1 도전성 더미 패턴은 상기 제1 센서 전극의 제1 측면보다 크게 형성되며, 상기 제2 센서 전극의 제1 수직면보다 크게 형성되며,상기 제2 도전성 더미 패턴은 상기 제1 센서 전극의 제2 측면보다 크게 형성되며, 상기 제2 센서 전극의 제2 수직면보다 크게 형성되며,상기 제3 도전성 더미 패턴은 상기 제1 센서 전극의 제3 측면보다 크게 형성되며, 상기 제2 센서 전극의 제3 수직면보다 크게 형성되며,상기 제4 도전성 더미 패턴은 상기 제1 센서 전극의 제4 측면보다 크게 형성되며, 상기 제2 센서 전극의 제4 수직면보다 크게 형성되는 것을 특징으로 한다. The first conductive dummy pattern is formed to be larger than the first side of the first sensor electrode and is formed to be larger than the first vertical plane of the second sensor electrode, Wherein the second sensor electrode is formed to be larger than the second side of the first sensor electrode and is formed to be larger than the second vertical surface of the second sensor electrode and the third conductive dummy pattern is formed to be larger than the third side of the first sensor electrode, The sensor electrode is formed to be larger than the third vertical surface of the second sensor electrode and the fourth conductive dummy pattern is formed to be larger than the fourth side surface of the first sensor electrode and larger than the fourth vertical surface of the second sensor electrode .

본 발명의 제1 실시 예에 따른 제조 방법은 상부 기판 배면 상에 제1 방향으로 제1 센서 전극들이 복수개가 형성된 제1 센서 전극 패턴부와, 상기 제1 센서 전극들과 교차하도록 제2 방향으로 제2 센서 전극들이 복수개가 형성된 제2 센서 전극 패턴부를 포함하는 터치 센서 어레이를 마련하는 단계와, 상기 터치 센서 어레이 상에 보호막을 형성하는 단계와, 상기 보호막 상에 전도성 패턴층을 형성하는 단계와, 상기 상부 기판과 마주보며 상기 하부 기판 상에 박막 트랜지스터 어레이를 마련하는 단계와, 상기 박막 트랜지스터 어레이와 접속된 유기 전계 발광 어레이를 마련하는 단계와, 상기 박막 트랜지스터 어레이와 상기 유기 전계 발광 어레이가 형성된 상기 하부 기판과 상기 터치 센서 어레이가 형성된 상부 기판 배면을 서로 마주보도록 박막 필름으로 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. The manufacturing method according to the first embodiment of the present invention includes a first sensor electrode pattern portion having a plurality of first sensor electrodes formed on a rear surface of an upper substrate in a first direction, The method comprising the steps of: providing a touch sensor array including a second sensor electrode pattern portion having a plurality of second sensor electrodes; forming a protective film on the touch sensor array; forming a conductive pattern layer on the protective film; Forming a thin film transistor array on the lower substrate facing the upper substrate, providing an organic electroluminescent array connected to the thin film transistor array, forming the thin film transistor array and the organic electroluminescent array The lower substrate and the back surface of the upper substrate, on which the touch sensor array is formed, In that it comprises a step of attaching to the features.

여기서, 상기 터치 센서 어레이를 마련하는 단계는상기 상부 기판 배면 상에 제1 및 제2 라우팅 라인과, 상기 제1 라우팅 라인과 접속된 제1 하부 패드 전극과, 상기 제2 라우팅 라인과 접속된 제2 하부 패드 전극을 포함하는 라우팅 및 패드 패턴군을 형성하는 단계와, 상기 라우팅 및 패드 패턴군이 형성된 상기 상부 배면 상에 브리지를 형성하는 단계와, 상기 브리지가 형성된 상기 상부 기판 배면 상에 상기 브리지가 노출되도록 컨택홀을 포함하며, 상기 제1 및 제2 하부 패드 전극이 형성된 패드부 영역을 오픈된 층간 절연막을 형성하는 단계와, 상기 층간 절연막이 형성된 상부 기판 상에 제1 및 제2 센서 전극들과, 서로 인접한 제2 센서 전극들을 연결하는 연결부와, 제1 및 제2 센서 전극들 사이에 형성된 더미 패턴부와, 제1 및 제2 상부 패드 전극을 포함하는 센서 전극 패턴군을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. Here, the step of providing the touch sensor array may include the steps of: forming first and second routing lines on the back surface of the upper substrate; first lower pad electrodes connected to the first routing lines; Forming a group of routing and pad patterns including two lower pad electrodes; forming a bridge on the upper back surface on which the routing and pad pattern groups are formed; Forming an open interlayer insulating layer on the pad region where the first and second lower pad electrodes are formed, the first and second pad electrodes being formed on the upper substrate on which the interlayer insulating layer is formed; A dummy pattern portion formed between the first and second sensor electrodes, a first and a second upper pad electrodes, Which it is characterized in that it comprises a step of forming a sensor electrode pattern group.

또한, 상기 전도성 패턴층은 복수개를 X축 방향으로 스트라이프 형태로 형성하거나, 복수개를 Y축 방향으로 스트라이프 형태로 형성하는 것을 특징으로 한다. A plurality of the conductive pattern layers are formed in a stripe shape in the X-axis direction, or a plurality of conductive pattern layers are formed in a stripe shape in the Y-axis direction.

그리고, 상기 전도성 패턴층은 상기 브리지와 대응되는 위치의 상기 보호막 상에 브리지와 대응되는 패턴으로 형성하며, 상기 브리지보다 크기가 크거나 동일하게 형성하는 것으로 특징으로 한다. The conductive pattern layer is formed in a pattern corresponding to the bridge on the protective film at a position corresponding to the bridge, and is formed to have a size larger or equal to that of the bridge.

또한, 상기 전도성 패턴층은 상기 더미 패턴부와 대응되는 위치의 상기 보호막 상에 상기 더미 패턴과 대응되는 패턴으로 형성하는 것을 특징으로 한다. The conductive pattern layer is formed in a pattern corresponding to the dummy pattern on the protective film at a position corresponding to the dummy pattern portion.

본 발명의 제2 실시 예에 따른 표시 장치는 서로 대향된 상부 기판 및 하부 기판과, 상기 하부 기판 상에 형성된 박막 트랜지스터 어레이와, 상기 박막 트랜지스터 어레이와 접속된 유기 전계 발광 어레이를 포함하는 하부 어레이와, 상기 상부 기판 전면 상에 형성되며, 제1 방향으로 복수개가 형성된 제1 센서 전극들과 인접한 상기 제1 센서 전극들을 연결하는 브리지를 포함하는 제1 센서 전극 패턴부와, 상기 제1 센서 전극들과 교차하도록 제2 방향으로 복수개가 형성된 제2 센서 전극들과, 상기 제2 센서 전극들과 동일층에 형성되어 인접한 상기 제2 센서 전극들을 연결하는 연결부를 포함하는 제2 센서 전극 패턴부를 포함하는 터치 센서 어레이부와, 상기 브리지와 동일층에 형성되어 상기 제1 센서 전극에서 상기 제2 센서 전극으로 전하가 이동될 때 전하가 상기 유기 전계 발광 어레이의 전극으로 유입되는 것을 방지하도록 상기 상부 기판 상에 형성된 전도성 패턴층과, 상기 전도성 패턴층과 터치 센서 어레이가 형성된 상부 기판과 하부 어레이가 형성된 하부 기판을 부착하는 점착층을 포함하는 것을 특징으로 한다. A display device according to a second embodiment of the present invention includes an upper substrate and a lower substrate facing each other, a thin film transistor array formed on the lower substrate, a lower array including an organic electroluminescence array connected to the thin film transistor array, A first sensor electrode pattern portion formed on the front surface of the upper substrate and including a first sensor electrode having a plurality of first sensor electrodes formed in a first direction and a bridge connecting the first sensor electrodes adjacent to each other, And a second sensor electrode pattern part formed on the same layer as the second sensor electrodes and including a connection part for connecting the second sensor electrodes adjacent to each other, A touch sensor array unit, and a second sensor electrode formed on the same layer as the bridge and being moved from the first sensor electrode to the second sensor electrode A conductive pattern layer formed on the upper substrate to prevent the lower layer from being introduced into the electrodes of the organic electroluminescent array, and an upper substrate on which the conductive pattern layer and the touch sensor array are formed, And a control unit.

여기서, 상기 전도성 패턴층은 상기 브리지와 대응되는 영역에 홀을 가지는 것을 특징으로 한다. Here, the conductive pattern layer has a hole in a region corresponding to the bridge.

본 발명의 제2 실시 예에 따른 제조 방법은 상기 상부 기판 전면 상에 제1 및 제2 라우팅 라인과, 상기 제1 라우팅 라인과 접속된 제1 하부 패드 전극과, 상기 제2 라우팅 라인과 접속된 제2 하부 패드 전극을 포함하는 라우팅 및 패드 패턴군을 형성하는 단계와, 상기 라우팅 및 패드 패턴군이 형성된 상기 상부 기판 전면 상에 브리지와, 상기 브리지와 대응되는 영역에 홀이 형성된 전도성 패턴층을 전면 형성하는 단계와, 상기 브리지가 형성된 상기 상부 기판 전면 상에 상기 브리지가 노출되도록 컨택홀을 포함하며, 상기 제1 및 제2 하부 패드 전극이 형성된 패드부 영역을 오픈된 층간 절연막을 형성하는 단계와, 상기 층간 절연막이 형성된 상부 기판 전면 상에 제1 및 제2 센서 전극들과, 서로 인접한 제2 센서 전극들을 연결시키는 연결부와, 제1 및 제2 상부 패드 전극을 포함하는 센서 전극 패턴군을 형성하는 단계와, 상기 센서 전극 패턴군이 형성된 상부 기판 전면 상에 패드부 영역이 오픈된 보호막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. The manufacturing method according to the second embodiment of the present invention is characterized by comprising first and second routing lines on the front surface of the upper substrate, a first lower pad electrode connected to the first routing line and a second lower pad electrode connected to the second routing line Forming a group of routing and pad patterns including a first lower pad electrode and a second lower pad electrode; forming a conductive pattern layer having a bridge on the entire surface of the upper substrate on which the routing and pad pattern groups are formed and a hole in a region corresponding to the bridge, Forming an open interlayer insulating layer on the pad region where the first and second lower pad electrodes are formed, the contact holes being exposed on the front surface of the upper substrate on which the bridge is formed; A connecting portion connecting the first and second sensor electrodes and the adjacent second sensor electrodes on the entire surface of the upper substrate on which the interlayer insulating film is formed, Characterized in that it comprises a step of forming a sensor electrode pattern group including a sub-pad electrode and forming a protective film of the pad part region is open on the upper substrate surface are formed in the sensor electrode pattern group.

상술한 바와 같이, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 표시 장치는 박막 트랜지스터 어레이와 이와 접속된 OLED 어레이를 포함하는 하부 어레이가 형성된 하부 기판과, 상기 OLED 어레이와 마주보며 상부 기판 배면 상에 형성되며, 제1 방향으로 제1 센서 전극들이 복수개 형성된 제1 센서 전극 패턴부와, 상기 제1 센서 전극들과 교차하도록 제2 방향으로 제2 센서 전극들이 복수개가 형성된 제2 센서 전극 패턴부를 포함하는 터치 센서 어레이와, 터치 센서 어레이 상에 형성된 보호막과, 보호막 상에 전도성 패턴층을 포함한다. As described above, the display device according to the first embodiment of the present invention includes a lower substrate on which a lower array including a thin film transistor array and an OLED array connected thereto is formed, and a lower substrate facing the OLED array, A first sensor electrode pattern portion having a plurality of first sensor electrodes in a first direction and a second sensor electrode pattern portion having a plurality of second sensor electrodes in a second direction crossing the first sensor electrodes, A sensor array, a protective film formed on the touch sensor array, and a conductive pattern layer on the protective film.

또한, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 표시 장치는 박막 트랜지스터 어레이와 이와 접속된 OLED 어레이를 포함하는 하부 어레이가 형성된 하부 기판과, 상부 기판 전면 상에 형성되며, 제1 방향으로 복수개가 형성된 제1 센서 전극들과 인접한 상기 제1 센서 전극들을 연결하는 브리지를 포함하는 제1 센서 전극 패턴부와, 상기 제1 센서 전극들과 교차하도록 제2 방향으로 복수개가 형성된 제2 센서 전극들과, 상기 제2 센서 전극들과 동일층에 형성되어 인접한 상기 제2 센서 전극들을 연결하는 연결부를 포함하는 제2 센서 전극 패턴부를 포함하는 터치 센서 어레이부와, 브리지와 동일층에 형성되어 상기 제1 센서 전극에서 상기 제2 센서 전극으로 전하가 이동될 때 전하가 상기 유기 전계 발광 어레이의 전극으로 유입되는 것을 방지하도록 상기 상부 기판 상에 형성된 전도성 패턴층을 포함한다. In addition, a display device according to a second embodiment of the present invention includes a lower substrate on which a lower array including a thin film transistor array and an OLED array connected thereto is formed, and a plurality of first electrodes formed on the front surface of the upper substrate, A first sensor electrode pattern part including first sensor electrodes and a bridge connecting the first sensor electrodes adjacent to each other, second sensor electrodes formed in a second direction so as to cross the first sensor electrodes, A second sensor electrode pattern part formed on the same layer as the second sensor electrodes and including a connection part connecting the adjacent second sensor electrodes; To prevent the charge from flowing into the electrodes of the organic electroluminescent array when charge is transferred from the first substrate to the second sensor electrode, And the conductive pattern layer.

이와 같이 전도성 패턴층을 형성하여 터치 센서 어레이로부터 전하가 OLED 어레이의 전극으로 전하가 유입되는 것을 방지하며, 제1 센서 전극들로부터 제2 센서 전극들로 전하 이동할 수 있는 통로를 마련해준다. Thus, a conductive pattern layer is formed to prevent the charge from flowing from the touch sensor array to the electrodes of the OLED array, and provide a path for charge transfer from the first sensor electrodes to the second sensor electrodes.

또한, 전도성 패턴층은 플로팅 역할을 하여 OLED 어레이로부터 노이즈 영향을 감소시킬 수 있다. In addition, the conductive pattern layer can serve as a floating to reduce noise effects from the OLED array.

도 1은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 표시 장치를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 표시 장치의 단면도를 나타내고 있다.
도 3a는 도 1에 도시된 표시 장치의 터치 센서 어레이를 나타낸 평면도이고, 도 3b는 도 3a에 도시된 터치 센서 어레이의 확대도를 나타낸 평면도이다.
도 4 및 도 5는 전도성 패턴층을 스트라이프 형태로 형성된 경우를 나타낸 평면도이다.
도 6은 전도성 패턴이 브리지 패턴으로 형성된 경우를 나타낸 평면도이다.
도 7a은 전도성 패턴이 더미 패턴으로 형성된 경우를 나타낸 평면도이고, 도 7b는 도 7a에 도시된 A 영역을 확대한 평면도이다.
도 8a는 전도성 패턴을 도 7a에 형성된 더미 패턴 외에 다른 더미 패턴으로 형성된 경우를 나타낸 평면도이고, 도 8b는 도 8b에 도시된 B 영역을 확대한 평면도이다.
도 9는 전도성 패턴층을 상부 기판 상에 형성된 것을 나타낸 단면도이다.
도 10은 전도성 패턴층을 보호막 전면에 형성된 경우를 나타낸 단면도이다.
도 11a 내지 도 18은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 표시 장치의 제조 방법들을 나타낸 단면도들 및 그에 따른 평면도들이다.
도 19은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 표시 장치를 나타내는 사시도이다.
도 20는 도 19에 도시된 표시 장치의 단면도를 나타내고 있다.
도 21은 도 19에 도시된 표시 장치의 터치 센서 어레이를 나타낸 평면도이다.
도 22a 내지 도 28은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 표시 장치의 제조 방법들을 나타낸 단면도들 및 그에 따른 평면도들이다. 1 is a perspective view showing a display device according to a first embodiment of the present invention.
Fig. 2 shows a cross-sectional view of the display device shown in Fig.
FIG. 3A is a plan view showing a touch sensor array of the display device shown in FIG. 1, and FIG. 3B is a plan view showing an enlarged view of the touch sensor array shown in FIG. 3A.
4 and 5 are plan views showing a case where conductive pattern layers are formed in a stripe form.
6 is a plan view showing a case where a conductive pattern is formed in a bridge pattern.
FIG. 7A is a plan view showing a case where conductive patterns are formed in a dummy pattern, and FIG. 7B is a plan view in which the region A shown in FIG. 7A is enlarged.
8A is a plan view showing a conductive pattern formed in a dummy pattern other than the dummy pattern formed in FIG. 7A, and FIG. 8B is a plan view showing an enlarged view of the region B shown in FIG. 8B.
9 is a cross-sectional view showing a conductive pattern layer formed on an upper substrate.
10 is a cross-sectional view showing a case where a conductive pattern layer is formed on the entire surface of a protective film.
FIGS. 11A to 18 are cross-sectional views illustrating the manufacturing method of the display device according to the first embodiment of the present invention, and plan views thereof.
19 is a perspective view showing a display device according to a second embodiment of the present invention.
Fig. 20 shows a cross-sectional view of the display device shown in Fig.
21 is a plan view showing a touch sensor array of the display device shown in Fig.
22A to 28 are cross-sectional views illustrating the manufacturing method of the display device according to the first embodiment of the present invention and plan views thereof.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시 예를 상세하게 설명한다. 본 발명의 구성 및 그에 따른 작용 효과는 이하의 상세한 설명을 통해 명확하게 이해될 것이다. 본 발명의 상세한 설명에 앞서, 동일한 구성 요소에 대해서는 다른 도면 상에 표시되더라도 가능한 동일한 부호로 표시하며, 공지된 구성에 대해서는 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 구체적인 설명은 생략하기로 함에 유의한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The configuration of the present invention and the operation and effect thereof will be clearly understood through the following detailed description. Before describing the present invention in detail, the same components are denoted by the same reference symbols as possible even if they are displayed on different drawings. In the case where it is judged that the gist of the present invention may be blurred to a known configuration, do.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 도 1 내지 도 28을 참조하여 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 28. FIG.

도 1은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 표시 장치를 나타내는 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 표시 장치의 단면도를 나타내고 있다. 그리고, 도 3a는 도 1에 도시된 표시 장치의 터치 센서 어레이를 나타낸 평면도이고, 도 3b는 도 3a에 도시된 터치 센서 어레이의 확대도를 나타낸 평면도이다. 도 4 및 도 5는 전도성 패턴층을 스트라이프 형태로 형성된 경우를 나타낸 평면도이고, 도 6은 전도성 패턴이 브리지 패턴으로 형성된 경우를 나타낸 평면도이고, 도 7a 및 도 7b는 전도성 패턴이 더미 패턴으로 형성된 경우를 나타낸 평면도이고, 도 8a 및 도 8b는 전도성 패턴을 도 7a 및 도 7b에 형성된 더미 패턴 외에 다른 더미 패턴으로 형성된 경우를 나타낸 평면도이다. FIG. 1 is a perspective view showing a display device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view of the display device shown in FIG. 3A is a plan view showing a touch sensor array of the display device shown in FIG. 1, and FIG. 3B is a plan view showing an enlarged view of the touch sensor array shown in FIG. 3A. FIGS. 4 and 5 are plan views showing a case where conductive pattern layers are formed in a stripe shape, FIG. 6 is a plan view showing a case where conductive patterns are formed in a bridge pattern, and FIGS. 7A and 7B show a case where conductive patterns are formed in a dummy pattern And FIGS. 8A and 8B are plan views showing a conductive pattern formed in a dummy pattern other than the dummy patterns formed in FIGS. 7A and 7B.

도 1에 도시된 본 발명의 제1 실시 예에 따른 표시 장치는 하부 기판(102) 전면 상에 형성된 하부 어레이(104)와, 하부 어레이(104)와 마주보며 상부 기판(180) 배면 상에 형성된 터치 센서 어레이와, 터치 센서 어레이의 전하(Charge)가 하부 어레이(104)의 전극으로 유입되는 것을 방지하도록 하부 어레이(104)와 터치 센서 어레이 사이에 형성된 전도성 패턴층(120)과, 전도성 패턴층(120)과 터치 센서 어레이가 형성된 상부 기판(180)과 하부 어레이(104)가 형성된 하부 기판(102)을 서로 마주보도록 부착하는 박막 필름(116)과, 상부 기판(180) 상에 형성된 커버 글래스(186)와, 상부 기판(180)과 커버 글래스(186) 사이에 형성된 편광판(182)과 점착층(184)을 포함한다. 이때, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 표시 장치는 상부 기판(180) 배면에 형성된 터치 센서 어레이와 하부 기판(102)의 전면 상에 형성된 하부 어레이(104)가 서로 마주보며 형성된 인-셀(In-Cell) 구조의 표시 장치이다. 즉, 상부 기판(180)과 하부 기판(102) 사이에 터치 센서 어레이와 하부 어레이(104)의 OLED가 같이 존재한다. The display device according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 includes a lower array 104 formed on a front surface of a lower substrate 102, A conductive pattern layer 120 formed between the lower array 104 and the touch sensor array to prevent the charge of the touch sensor array from entering the electrodes of the lower array 104, A thin film 116 for adhering the upper substrate 180 on which the touch sensor array is formed and the lower substrate 102 on which the lower array 104 is formed to face each other and a cover glass And a polarizer 182 and an adhesive layer 184 formed between the upper substrate 180 and the cover glass 186. The display device according to the first embodiment of the present invention includes a touch sensor array formed on the back surface of the upper substrate 180 and an in-cell (not shown) formed on the front surface of the lower substrate 102, In-Cell) structure. That is, the touch sensor array and the OLED of the lower array 104 are present between the upper substrate 180 and the lower substrate 102.

하부 어레이(104)는 하부 기판(102) 상에 형성된 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor;TFT) 어레이와, 박막 트랜스터 어레이 상에 형성된 OLED(Organic Light Emitting Diode) 어레이를 구비한다. The lower array 104 includes a thin film transistor (TFT) array formed on the lower substrate 102 and an OLED (Organic Light Emitting Diode) array formed on the thin film transistor array.

박막 트랜지스터 어레이는 하부 기판(102) 상에 서로 교차하여 발광 영역을 정의하는 다수의 게이트 라인과, 다수의 데이터 라인을 구비한다. 각 발광 영역은 OLED 어레이의 발광량을 제어하는 박막 트랜지스터를 구비한다. 박막 트랜지스터는 게이트 라인으로부터 제공된 스캔 펄스에 따라 데이터 라인으로부터 제공된 영상 신호를 OLED 어레이에 공급한다. 이러한, 박막 트랜지스터는 하부 기판(102) 상에 버퍼막, 액티브층이 형성되며, 게이트 전극은 액티브층의 채널 영역과 게이트 절연막을 사이에 두고 중첩되게 형성된다. 소스 전극 및 드레인 전극은 게이트 전극과 층간 절연막을 사이에 두고 절연되게 형성된다. 소스 전극 및 드레인 전극은 층간 절연막 및 게이트 절연막을 관통하는 소스 컨택홀 및 드레인 컨택홀 각각을 통해 n+ 불순물이 주입된 액티브층의 소스 영역 및 드레인 영역 각각과 접속된다. 또한, 액티브층은 오프 전류를 감소시키기 위해 채널 영역과 소스 및 드레인 영역 사이에 n- 불순물이 주입된 엘디디(Light Droped Drain; LDD) 영역을 더 구비하기도 한다. 이러한, 박막 트랜지스터 상에 유기 또는 무기 보호막이 형성된다. The thin film transistor array includes a plurality of gate lines and a plurality of data lines crossing each other on the lower substrate 102 to define a light emitting region. Each light emitting region has a thin film transistor for controlling the amount of light emitted from the OLED array. The thin film transistor supplies the image signal provided from the data line to the OLED array in accordance with the scan pulse supplied from the gate line. In this thin film transistor, a buffer film and an active layer are formed on the lower substrate 102, and a gate electrode is formed so as to overlap the channel region of the active layer and the gate insulating film. The source electrode and the drain electrode are formed so as to be insulated with the gate electrode and the interlayer insulating film therebetween. The source electrode and the drain electrode are respectively connected to the source region and the drain region of the active layer into which the n + impurity is implanted through the source contact hole and the drain contact hole penetrating the interlayer insulating film and the gate insulating film, respectively. Further, the active layer may further include a lightly doped drain (LDD) region injected with n-impurity between the channel region and the source and drain regions to reduce the off current. An organic or inorganic protective film is formed on the thin film transistor.

OLED 어레이는 박막 트랜지스터로부터 제공된 영상 신호에 따라 발광량을 조절한다. 이를 위해, 박막 트랜지스터의 드레인 전극과 접속된 제1 전극과, 제1 전극 상에 형성된 유기층과, 유기층 상에 형성된 제2 전극과, 다수의 발광 영역을 구획하는 뱅크 절연막을 포함한다. 여기서, 유기층은 제1 전극 상에 순차적으로 형성된 정공 주입층(Hole Injection Layer;HIL), 정공 수송층(Hole Transport Layer;HTL), 유기 발광층, 전자 수송층(Electron Transport Layer;HTL), 전자 주입층(Electron Injection Layer;HIL)을 포함한다. 제1 전극 및 제2 전극의 재질에 따라 하부 기판의 전면으로 발광하는 전면 발광, 하부 기판의 후면으로 발광하는 후면 발광할 수 있으며, 하부 기판의 전면 및 후면으로 발광하는 양면 발광을 할 수 있다. 이때, 제1 전극은 양극으로서 기능을 하며, 제2 전극은 음극으로서 기능을 한다. OLED 어레이 상에는 캡핑 레이어(capping layer)(112)와 무기 절연막(114)이 형성된다. The OLED array adjusts the amount of emitted light according to an image signal provided from the thin film transistor. To this end, a thin film transistor includes a first electrode connected to a drain electrode, an organic layer formed on the first electrode, a second electrode formed on the organic layer, and a bank insulating film for partitioning a plurality of light emitting regions. Here, the organic layer includes a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an organic light emitting layer, an electron transport layer (HTL), an electron injection layer Electron Injection Layer (HIL). Depending on the materials of the first electrode and the second electrode, a front emission which emits light to the front surface of the lower substrate, a rear emission which emits light to the rear surface of the lower substrate, and a both surface emission which emits light to the front and rear surfaces of the lower substrate. At this time, the first electrode functions as an anode, and the second electrode functions as a cathode. A capping layer 112 and an inorganic insulating film 114 are formed on the OLED array.

점착층(184)은 편광판(182)과 커버 글래스(186) 사이에 형성되며, 광 투과율이 높은 투명성 접착재료로 구현되며, 예를 들어 SVR(Super View Resin) 또는 OCA(Optical Cleared Adhesive) 필름 등으로 이루어질 수 있다. The adhesive layer 184 is formed between the polarizing plate 182 and the cover glass 186 and is formed of a transparent adhesive material having a high light transmittance. For example, an SVR (Super View Resin) or an OCA (Optical Cleared Adhesive) &Lt; / RTI >

터치 센서 어레이는 정전 용량 방식으로 외부의 터치를 감지한다. 이러한, 터치 센서 어레이는 위치 감지 전극으로서 기능을 하는 제1 및 제2 센서 전극 패턴부(156,166), 라우팅부(158,168), 패드부(192)를 포함한다. The touch sensor array senses an external touch in a capacitive manner. The touch sensor array includes first and second sensor electrode pattern units 156 and 166 functioning as position sensing electrodes, routing units 158 and 168, and a pad unit 192.

제1 센서 전극 패턴부(156)는 제1 방향으로 제1 센서 전극들(150,154)이 복수개가 형성되어 구동 전압을 인가받는다. 여기서, 제1 방향은 예로 들어 X축 방향일 수 있다. 제1 센서 전극 패턴부(156)는 마름모 형태 또는 다이아몬드 형태로 형성되는 제1 센서 전극들(150,154)과, 인접한 제1 센서 전극들(150,154)을 연결하는 브리지(152)들과, 브리지(152)를 노출시키는 컨택홀(150a,154a)을 포함하는 층간 절연막(170)을 포함한다. 이때, 브리지(152)는 층간 절연막(170)의 컨택홀(150a,154a)을 통해 제1 센서 전극(150,154)과 접속되며, 인접한 제1 센서 전극들(150,154)을 연결한다. 이러한, 제1 센서 전극들(150,154)은 도 3a 및 도 3b에 도시된 바와 같이 제1 내지 4 측면을 가지는 마름모 형태 또는 다이아몬드 형태로 형성되며, 제1 센서 전극(150,154)의 각 측면은 적어도 하나의 돌출부를 가진다. 제1 센서 전극들(150,154)은 제1 라우팅 라인(158)과 전기적으로 접속되어 신호를 공급받는다. 이에 따라, 제1 패드 전극들(159)을 통해 공급된 구동 전압은 제1 라우팅 라인(158)과 접속된 제1 센서 전극들(150,154)로 공급되며, 인접한 제1 센서 전극들(150,154)은 브리지(152)를 통해 구동 전압이 공급된다. A plurality of first sensor electrodes 150 and 154 are formed in the first sensor electrode pattern unit 156 in a first direction to receive a driving voltage. Here, the first direction may be, for example, the X-axis direction. The first sensor electrode pattern part 156 includes first sensor electrodes 150 and 154 formed in a rhombic or diamond shape and bridges 152 connecting adjacent first sensor electrodes 150 and 154 and bridge 152 And an interlayer insulating film 170 including contact holes 150a and 154a for exposing the interlayer insulating film. The bridge 152 is connected to the first sensor electrodes 150 and 154 through the contact holes 150a and 154a of the interlayer insulating layer 170 and connects the adjacent first sensor electrodes 150 and 154. The first sensor electrodes 150 and 154 are formed in rhombic or diamond shapes having first to fourth sides as shown in FIGS. 3A and 3B, and each side of the first sensor electrodes 150 and 154 has at least one Respectively. The first sensor electrodes 150 and 154 are electrically connected to the first routing line 158 to receive a signal. Accordingly, the driving voltage supplied through the first pad electrodes 159 is supplied to the first sensor electrodes 150 and 154 connected to the first routing line 158, and the adjacent first sensor electrodes 150 and 154 And a driving voltage is supplied through the bridge 152.

제2 센서 전극 패턴부(166)는 제1 센서 전극들(150,154)과 교차하도록 제2 방향으로 제2 센서 전극들(160,164)이 복수개가 형성되어 터치 여부에 따라 변화된 전압 강하를 감지하게 된다. 여기서, 제2 방향은 예로 들어 Y축 방향일 수 있다. 제2 센서 전극 패턴부(166)는 층간 절연막(170) 상에 형성된 십자 형태의 제2 센서 전극들(160,164)과, 제2 센서 전극들(160,164)과 동일층에 제2 방향으로 형성되어 서로 인접한 제2 센서 전극들(160,164)을 연결해주는 연결부(162)를 포함한다. 제2 센서 전극들(160,164) 각각은 X 축 방향으로 형성된 수평부와 X축 방향으로 형성된 수평부와 교차하도록 형성된 수직부로 구성된다. 또한, 제2 센서 전극(160,164)은 제1 센서 전극(150,154)의 제1 측면과 마주보는 제1 수직면과, 제1 센서 전극(150,154)의 제2 측면과 마주보는 제2 수직면과, 제1 센서 전극(150,154)의 제3 측면과 마주보는 제3 수직면과, 제1 센서 전극(150,154)의 제4 측면과 마주보는 제4 수직면을 포함한다. 이때, 제1 센서 전극(150,154)의 측면과 마주보는 수평부의 측면은 적어도 하나의 돌출부가 형성된다. 제2 센서 전극들(160,164)은 제2 라우팅 라인(168)과 전기적으로 접속되어 터치 여부에 따라 변화된 전압 또는 전류를 제2 패드 전극들(160,164)로 공급한다. 즉, 터치 여부에 따라 변화된 전압 또는 전류를 제2 센서 전극들(160,164)과 접속된 제2 라우팅 라인(168)을 통해 제2 패드 전극들(169)로 인가되어 위치를 감지한다. A plurality of second sensor electrodes 160 and 164 are formed in the second direction so that the second sensor electrode pattern unit 166 intersects with the first sensor electrodes 150 and 154 to detect a voltage drop that varies depending on whether the touch sensor unit 160 is touched. Here, the second direction may be Y-axis direction, for example. The second sensor electrode pattern portion 166 is formed in the second direction on the same layer as the second sensor electrodes 160 and 164 in the form of a cross formed on the interlayer insulating layer 170 and the second sensor electrodes 160 and 164, And a connection unit 162 for connecting the adjacent second sensor electrodes 160 and 164. Each of the second sensor electrodes 160 and 164 is composed of a horizontal portion formed in the X-axis direction and a vertical portion formed in the X-axis direction. The second sensor electrodes 160 and 164 include a first vertical surface facing the first side surface of the first sensor electrodes 150 and 154, a second vertical surface facing the second side surfaces of the first sensor electrodes 150 and 154, A third vertical surface facing the third side of the sensor electrodes 150 and 154 and a fourth vertical surface facing the fourth side of the first sensor electrodes 150 and 154. At this time, at least one protrusion is formed on the side surface of the horizontal portion facing the side surface of the first sensor electrode (150, 154). The second sensor electrodes 160 and 164 are electrically connected to the second routing line 168 to supply a voltage or current to the second pad electrodes 160 and 164 according to the touch. That is, the voltage or current changed according to the touch is applied to the second pad electrodes 169 through the second routing line 168 connected to the second sensor electrodes 160 and 164 to sense the position.

라우팅부(158,168)는 제1 패드 전극(159)들과 접속되어 제1 패드 전극(159)들로부터 공급된 구동 전압을 제1 센서 전극(150,154)들로 인가하는 제1 라우팅 라인(158)과, 제2 센서 전극(160,164)들과 전기적으로 접속되어 터치 여부에 따라 변화된 전압 또는 전압을 제2 패드 전극(169)들로 공급하는 제2 라우팅 라인(168)을 포함한다. The routing units 158 and 168 are connected to the first pad electrodes 159 and include a first routing line 158 for applying a driving voltage supplied from the first pad electrodes 159 to the first sensor electrodes 150 and 154, And a second routing line 168 that is electrically connected to the second sensor electrodes 160 and 164 and supplies a voltage or voltage that varies depending on the touch to the second pad electrodes 169.

패드부(192)는 제1 라우팅 라인(158)과 접속된 제1 패드 전극(159)과 제2 라우팅 라인(168)과 접속된 제2 패드 전극(169)을 포함한다. 제1 패드 전극(159)은 도 2에 도시된 바와 같이 제1 라우팅 라인(158)과 동일층에 동일 재질로 형성된 제1 하부 패드 전극(159a)과 제1 하부 패드 전극(159a) 상에 형성된 제1 상부 패드 전극(159b)을 포함하며, 제2 패드 전극(169)은 제2 라우팅 라인(168)과 동일층에 동일 재질로 형성된 제2 하부 패드 전극(미도시)과 제2 하부 패드 전극 상에 형성된 제2 상부 패드 전극(미도시)을 포함한다. The pad portion 192 includes a first pad electrode 159 connected to the first routing line 158 and a second pad electrode 169 connected to the second routing line 168. The first pad electrode 159 is formed on the first lower pad electrode 159a and the first lower pad electrode 159a formed of the same material and on the same layer as the first routing line 158 as shown in FIG. The second pad electrode 169 includes a first lower pad electrode 159b and a second lower pad electrode 169 formed on the same layer as the second routing line 168 and formed of the same material, And a second upper pad electrode (not shown) formed on the second upper pad electrode.

더미 패턴부(140)는 제1 센서 전극(150,154)의 측면과 제2 센서 전극(160,164)의 측면 사이에 형성되며, 다수의 다각형 패턴(141)을 포함한다. 구체적으로, 더미 패턴부(140)는 도 3a 및 도 3b에 도시된 바와 같이 제1 센서 전극(150,154)의 제1 측면과 제2 센서 전극(160,164)의 제1 수직면 사이에 형성된 제1 더미 패턴부(142)와 제1 센서 전극(150,154)의 제2 측면과 제2 센서 전극(160,164)의 제2 수직면 사이에 형성된 제2 더미 패턴부(144)와 제1 센서 전극(150,154)의 제3 측면과 제2 센서 전극(160,164)의 제3 수직면 사이에 형성된 제3 더미 패턴부(146)와, 제1 센서 전극(150,154)의 제4 측면과 제2 센서 전극(160,164)의 제4 수직면 사이에 형성된 제4 더미 패턴부(148)를 포함한다. 제1 내지 제4 더미 패턴부(142 내지 148)는 다수의 다각형 패턴(141)을 포함하며, 다수의 다각형 패턴(141)이 모여 지그재그 형태로 형성된다. 지그재그 형태는 예를 들어 Z형으로 형성될 수 있다. The dummy pattern unit 140 is formed between the side surfaces of the first sensor electrodes 150 and 154 and the side surfaces of the second sensor electrodes 160 and 164 and includes a plurality of polygonal patterns 141. 3A and 3B, the dummy pattern unit 140 includes a first dummy pattern 140 formed between a first side of the first sensor electrodes 150 and 154 and a first vertical side of the second sensor electrodes 160 and 164, A second dummy pattern portion 144 formed between the second side surface of the second sensor electrode 160 and the second side surface of the first sensor electrode 160 and 164 and the second dummy pattern portion 144 formed between the second side surface of the first sensor electrode 150 and 154 and the third side of the first sensor electrode 150 and 154, A third dummy pattern portion 146 formed between the side surfaces of the first sensor electrodes 160 and 164 and the third vertical surface of the second sensor electrodes 160 and 164 and a third dummy pattern portion 146 formed between the fourth side surfaces of the first sensor electrodes 150 and 154 and the fourth vertical surfaces of the second sensor electrodes 160 and 164 And a fourth dummy pattern portion 148 formed on the second dummy pattern portion 148. The first to fourth dummy pattern units 142 to 148 include a plurality of polygonal patterns 141 and a plurality of polygonal patterns 141 are formed in a zigzag pattern. The zigzag shape may be formed, for example, in the Z shape.

전도성 패턴층(120,122,124,126)은 사용자의 터치에 의해 전하(Charge)가 제1 센서 전극(150,154)에서 제2 센서 전극(160,164)으로 이동할 때 OLED 어레이의 제2 전극으로 유입되는 것을 방지할 수 있도록 터치 센서 어레이 상에 형성된다. 구체적으로, 전도성 패턴층(120,122,124,126)은 터치 센서 어레이 상에 형성된 보호막(172) 상에 형성되며, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 스트라이프 형태로 형성될 수 있다. 전도성 패턴층은 도 4에 도시된 바와 같이 보호막(172) 상에 복수개의 스트라이프 패턴(120)이 X축 방향으로 형성될 수 있으며, 도 5에 도시된 바와 같이 복수개의 스트라이프 패턴(122)이 보호막(172) 상에 Y축 방향으로 형성될 수 있다. 또한, 전도성 패턴층(126)은 도 6에 도시된 바와 같이 브리지(152)와 대응되는 위치의 보호막(172) 상에 브리지(152)와 대응되는 패턴(126)으로 형성될 수 있다. 전도성 패턴층(126)은 브리지(152)의 크기보다 크거나 같을 수 있다. The conductive pattern layers 120,122,124 and 126 may be touched to prevent the charge from entering the second electrode of the OLED array when charge moves from the first sensor electrode 150,154 to the second sensor electrode 160,164, Is formed on the sensor array. Specifically, the conductive pattern layers 120, 122, 124, and 126 are formed on the protective film 172 formed on the touch sensor array, and may be formed in a stripe shape as shown in FIGS. 4, a plurality of stripe patterns 120 may be formed on the passivation layer 172 in the X-axis direction, and a plurality of stripe patterns 122 may be formed on the passivation layer 172, Axis direction in the Y-axis direction. The conductive pattern layer 126 may also be formed with a pattern 126 corresponding to the bridge 152 on the protective film 172 at a location corresponding to the bridge 152, as shown in FIG. The conductive pattern layer 126 may be greater than or equal to the size of the bridge 152.

그리고, 전도성 패턴층(124)은 도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이 터치 센서 어레이 상에 형성된 보호막(172) 상에 더미 패턴 형태(124)로 형성될 수 있다. 구체적으로, 전도성 패턴층(124)을 더미 패턴 형태로 형성될 경우에 전도성 패턴층(124)은 제1 내지 제4 전도성 더미 패턴(124a 내지 124d)을 포함한다. 제1 전도성 더미 패턴(124a)은 제1 더미 패턴(146)과 대응되는 위치에 형성되며, 제1 센서 전극(150,154)의 제1 측면보다 크게 형성되며, 제2 센서 전극(160,164)의 제1 수직면보다 크게 형성된다. 즉, 제1 전도성 더미 패턴(124a)은 제1 더미 패턴(142)보다 크게 보호막(172) 상에 형성된다. 제2 전도성 더미 패턴(124b)은 제2 더미 패턴(142)과 대응되는 위치에 형성되며, 제1 센서 전극(150,154)의 제2 측면보다 크게 형성되며, 제2 센서 전극(160,164)의 제2 수직면보다 크게 형성된다. 즉, 제2 전도성 더미 패턴(124b)은 제2 더미 패턴(144)보다 크게 보호막(172) 상에 형성된다. 제3 전도성 더미 패턴(124c)은 제3 더미 패턴(146)과 대응되는 위치에 형성되며, 제1 센서 전극(150,154)의 제3 측면보다 크게 형성되며, 제2 센서 전극(160,164)의 제3 수직면보다 크게 형성된다. 즉, 제3 전도성 더미 패턴(124c)은 제3 더미 패턴(148)보다 크게 보호막(172) 상에 형성된다. 제4 전도성 더미 패턴(124d)은 제1 센서 전극(150,154)의 제4 측면보다 크게 형성되며, 제2 센서 전극(160,164)의 제4 수직면보다 크게 형성된다. 즉, 제4 전도성 더미 패턴(124d)은 제4 더미 패턴(148)보다 크게 보호막 상에 형성된다. The conductive pattern layer 124 may be formed in a dummy pattern shape 124 on the protective film 172 formed on the touch sensor array as shown in Figs. 7A and 7B. Specifically, when the conductive pattern layer 124 is formed in the form of a dummy pattern, the conductive pattern layer 124 includes the first to fourth conductive dummy patterns 124a to 124d. The first conductive dummy pattern 124a is formed at a position corresponding to the first dummy pattern 146 and is formed to be larger than the first side of the first sensor electrodes 150 and 154, And is formed larger than the vertical plane. That is, the first conductive dummy pattern 124a is formed on the protective film 172 larger than the first dummy pattern 142. [ The second conductive dummy pattern 124b is formed at a position corresponding to the second dummy pattern 142 and is formed to be larger than the second side of the first sensor electrodes 150 and 154, And is formed larger than the vertical plane. That is, the second conductive dummy pattern 124b is formed on the protective film 172 larger than the second dummy pattern 144. The third conductive dummy pattern 124c is formed at a position corresponding to the third dummy pattern 146 and is formed to be larger than the third side of the first sensor electrodes 150 and 154, And is formed larger than the vertical plane. That is, the third conductive dummy pattern 124c is formed on the protective film 172 larger than the third dummy pattern 148. The fourth conductive dummy pattern 124d is formed to be larger than the fourth side of the first sensor electrodes 150 and 154 and larger than the fourth vertical side of the second sensor electrodes 160 and 164. That is, the fourth conductive dummy pattern 124d is formed on the protective film larger than the fourth dummy pattern 148. [

또한, 도 8a 및 도 8b에 도시된 바와 같이 제1 전도성 더미 패턴(124a)은 상하로 분리된 제1 상부 전도성 더미 패턴(124a')과 제1 하부 전도성 더미 패턴(124a")으로 형성될 수 있으며, 제2 전도성 더미 패턴(124b)은 상하로 분리된 제2 상부 전도성 더미 패턴(124b')과 제2 하부 전도성 더미 패턴(124b")으로 형성될 수 있으며, 제3 전도성 더미 패턴(124c)은 상하로 분리된 제3 상부 전도성 더미 패턴(124c')와 제3 하부 전도성 더미 패턴(124c")으로 형성될 수 있으며, 제4 전도성 더미 패턴(124d)는 상하로 분리된 제4 상부 전도성 더미 패턴(124d')와 제4 하부 전도성 더미 패턴(124d")으로 형성될 수 있다. 그리고, 전도성 패턴층(120)은 도 9에 도시된 바와 같이 터치 센서 어레이 하부에 형성할 수 있다. 즉, 상부 기판(180) 배면 상에 전도성 패턴층(120)을 형성한 뒤, 보호막(119)을 형성하고, 그 상에 터치 센서 어레이를 형성할 수 있다. 이때, 보호막(119)은 무기 절연 물질 또는 유기 절연 물질로 형성될 수 있으며 이에 한정하지 않는다. 또한, 도 10에 도시된 바와 같이 패턴없이 보호막(172) 전면에 형성될 수 있다. 8A and 8B, the first conductive dummy pattern 124a may be formed of a first upper conductive dummy pattern 124a 'and a first lower conductive dummy pattern 124a' And the second conductive dummy pattern 124b may be formed as a second upper conductive dummy pattern 124b 'and a second lower conductive dummy pattern 124b' And the fourth conductive dummy pattern 124d may be formed of a third upper conductive dummy pattern 124c 'and a third lower conductive dummy pattern 124c' Pattern 124d 'and the fourth lower conductive dummy pattern 124d ". The conductive pattern layer 120 may be formed under the touch sensor array as shown in FIG. That is, after the conductive pattern layer 120 is formed on the back surface of the upper substrate 180, a protective film 119 may be formed, and a touch sensor array may be formed thereon. At this time, the protective film 119 may be formed of an inorganic insulating material or an organic insulating material, but is not limited thereto. Also, it may be formed on the entire surface of the protective film 172 without a pattern as shown in FIG.

이와 같이, 전도성 패턴층(120,122,124,126)은 터치 여부에 따라 전하(Charge)가 제1 센서 전극(150,154)에서 제2 센서 전극(160,164)으로 이동할 때 OLED 어레이의 제2 전극으로 유입되는 것을 방지할 수 있도록 터치 센서 어레이 상에 형성되어 전하가 제1 센서 전극(150,154)에서 제2 센서 전극(160,164)으로 이동하는 통로를 만들어 줌으로써 터치 센싱력을 증가시킬 수 있다. 다시 말하여, 터치 센서 어레이가 OLED 어레이와 마주보며 형성된 인-셀(In-cell) 구조의 표시 장치는 터치 센서 어레이의 제1 및 제2 센서 전극들(150,154,160,164)과 OLED 어레이의 제2 전극 간의 거리가 가깝기 때문에 기생 커패시터 값이 커지게 된다. 이에 따라, 제1 센서 전극(150,154)에서 제2 센서 전극(160,164)으로 전하(Charge)가 이동할 때 전하는 OLED 어레이의 제2 전극으로 유입될 수 있다. 따라서, 터치 전후의 커패시터 변화량을 의미하는 센싱력이 저하될 수 있다. 하지만, 본원 발명은 터치 센서 어레이 상에 전도성 패턴층을 형성함으로써 전하가 OLED 어레이의 제2 전극으로 전하를 유입되는 것을 막아 터치 전후의 커패시터 변화량을 증가시켜 센싱력을 향상시킬 수 있다. 이때, 터치 전후의 커패시터 변화량은 5,500~13,500으로 증가되어야 하며, 이 범위 이상이나 이하가 되면 터치 기능을 저하시킬 수 있다. 따라서, 본원 발명은 전도성 패턴층을 형성함으로써 터치 전후의 커패시터 변화량을 5,500~13,500의 범위로 가질 수 있으므로 그에 따른 터치 센싱력이 향상된다. 전도성 패턴층이 플로팅(Floating) 역할을 하여 OLED 어레이로부터 유입되는 노이즈(Noise)의 영향을 감소시킬 수 있다. As described above, the conductive pattern layers 120, 122, 124 and 126 can prevent the charge from flowing into the second electrodes of the OLED array when charge moves from the first sensor electrodes 150 and 154 to the second sensor electrodes 160 and 164, So that a charge can be transferred from the first sensor electrodes 150 and 154 to the second sensor electrodes 160 and 164 so that the touch sensing force can be increased. In other words, a display device of an in-cell structure in which the touch sensor array is formed facing the OLED array is disposed between the first and second sensor electrodes 150, 154, 160, and 164 of the touch sensor array and the second electrode of the OLED array The parasitic capacitor value becomes large because the distance is close to zero. Accordingly, when charge moves from the first sensor electrodes 150 and 154 to the second sensor electrodes 160 and 164, charges may flow into the second electrode of the OLED array. Therefore, the sensing power, which means the amount of capacitor change before and after the touch, may be lowered. However, according to the present invention, by forming a conductive pattern layer on the touch sensor array, charges can be prevented from flowing into the second electrode of the OLED array, thereby increasing the capacitance change before and after the touch, thereby improving the sensing ability. At this time, the capacitor change amount before and after the touch should be increased to 5,500 ~ 13,500, and if it is over or below this range, the touch function may be deteriorated. Accordingly, since the conductive pattern layer is formed in the present invention, the amount of capacitor change before and after the touch can be in the range of 5,500 to 13,500, thereby improving the touch sensing performance. The conductive pattern layer functions as a floating layer to reduce the influence of noise introduced from the OLED array.

도 11a 내지 도 18는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 표시 장치의 제조 방법들을 나타낸 단면도들 및 그에 따른 평면도들이다. FIGS. 11A to 18 are cross-sectional views showing the manufacturing method of the display device according to the first embodiment of the present invention, and plan views thereof.

도 11a 및 도 11b를 참조하면, 상부 기판(182) 배면 상에 제1 및 제2 라우팅 라인(158,168)과, 이와 연결된 제1 및 제2 하부 패드 전극(159a,169a)을 포함하는 라우팅 및 패드 패턴군이 형성된다. 11A and 11B, a routing and pad (not shown) including first and second routing lines 158 and 168 and first and second lower pad electrodes 159a and 169a connected thereto on the back surface of the upper substrate 182, A pattern group is formed.

구체적으로, 상부 기판(182) 배면 상에 스퍼터링 방법 등의 증착 방법을 통해 제1 도전층이 형성된다. 제1 도전층으로는 Mo, Cu, Al, Cr, Ag 등과 같이 금속 물질이 이용된다. 이어서, 제1 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 식각 공정으로 제1 도전층이 패터닝됨으로써 제1 및 제2 라우팅 라인(158,168)과 제1 라우팅 라인(158)과 연결된 제1 하부 패드 전극(159a)와, 제2 라우팅 라인(168)과 연결된 제2 하부 패드 전극(169a)을 포함하는 라우팅 및 패드 패턴군이 형성된다. Specifically, a first conductive layer is formed on the back surface of the upper substrate 182 through a deposition method such as a sputtering method. As the first conductive layer, a metal material such as Mo, Cu, Al, Cr, or Ag is used. Then, the first conductive layer is patterned by the photolithography process and the etching process using the first mask to form first lower pad electrodes 159a connected to the first and second routing lines 158 and 168 and the first routing line 158, And a second lower pad electrode 169a connected to the second routing line 168 are formed.

도 12a 및 도 12b를 참조하면, 라우팅 및 패드 패턴군이 형성된 상부 기판(180) 배면 상에 브리지(152)가 형성된다. Referring to FIGS. 12A and 12B, a bridge 152 is formed on the rear surface of the upper substrate 180 on which a group of routing and pad patterns are formed.

구체적으로, 라우팅 및 패드 패턴군이 형성된 상부 기판(180) 배면 상에 스퍼터링 방법 등의 증착 방법을 통해 제2 도전층이 형성된다. 제2 도전층으로는 틴 옥사이드(Tin Oxide : TO), 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide : ITO), 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide : IZO), 인듐 틴 징크 옥사이드(Indium Tin Zind Oxide : ITZO) 등의 투명 도전층이 이용된다. 이어서, 제2 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 식각 공정으로 제2 도전층이 패터닝됨으로써 브리지(152)가 형성된다. Specifically, a second conductive layer is formed on the back surface of the upper substrate 180 on which the routing and pad pattern groups are formed through a deposition method such as a sputtering method. The second conductive layer may be formed of a conductive material such as tin oxide (TO), indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium tin zinc oxide (ITZO) Of a transparent conductive layer is used. Next, the second conductive layer is patterned by the photolithography process and the etching process using the second mask, thereby forming the bridge 152. [

도 13a 및 도 13b를 참조하면, 브리지(152)가 형성된 상부 기판(180) 배면 상에 컨택홀(150a,154a)을 포함하며, 패드부(192) 영역은 오픈된 층간 절연막(170)이 형성된다. 13A and 13B, contact holes 150a and 154a are formed on the back surface of the upper substrate 180 on which the bridge 152 is formed, and the pad region 192 is formed by forming an open interlayer insulating film 170 do.

구체적으로, 상부 기판(180) 배면 상에 SiO₂ 등의 무기 절연 물질이 전면 도포되며, 이 무기 절연 물질은 제3 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 습식 식각 공정으로 브리지(152)를 노출시키는 컨택홀(150a,154a)들과, 패드부(192) 영역은 오픈된 층간 절연막(170)이 형성된다. Specifically, an inorganic insulating material such as SiO ₂ is coated on the back surface of the upper substrate 180, and the inorganic insulating material is etched by a photolithography process using a third mask and a wet etching process to expose the bridge 152 The openings of the pad regions 192 and the interlayer insulating films 170 are formed.

도 14a 및 도 14b를 참조하면, 층간 절연막(170)이 형성된 상부 기판(180) 배면 상에 제1 및 제2 센서 전극들(150,154,160,164)과, 서로 인접한 제2 센서 전극들(160,164)을 연결시키는 연결부(162)와, 제1 및 제2 센서 전극들(150,154,160,164) 사이에 형성된 더미 패턴부(140)를 포함하는 센서 전극 패턴군이 형성된다. 14A and 14B, the first and second sensor electrodes 150, 154, 160 and 164 and the second sensor electrodes 160 and 164 adjacent to each other are connected to the back surface of the upper substrate 180 on which the interlayer insulating layer 170 is formed A sensor electrode pattern group including a connection portion 162 and a dummy pattern portion 140 formed between the first and second sensor electrodes 150, 154, 160 and 164 is formed.

구체적으로, 상부 기판(180) 배면 상에 스퍼터링 방법 등의 증착 방법을 통해 제3 도전층이 형성된다. 제3 도전층으로는 틴 옥사이드(Tin Oxide : TO), 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide : ITO), 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide : IZO), 인듐 틴 징크 옥사이드(Indium Tin Zind Oxide : ITZO) 등의 투명 도전층이 이용된다. 이어서, 제4 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 식각 공정으로 제3 도전층이 패터닝됨으로써 제1 방향으로 형성된 제1 센서 전극들(150,154)과, 제2 방향으로 형성된 제2 센서 전극들(160,164)과, 인접한 제2 센서 전극들(160,164)을 연결시키는 연결부(162)와, 제1 및 제2 센서 전극들(150,154,160,164) 사이에 형성된 더미 패턴부(140)과, 제1 상부 패드 전극(159b)과 제2 상부 패드 전극(169b)을 포함하는 센서 전극 패턴군이 형성된다. 이때, 도 14a 및 도 14b에 도시된 바와 같이 제1 센서 전극들(150)은 제1 라우팅 라인(158)과 접속되며, 제2 센서 전극들(160)은 제2 라우팅 라인(168)과 접속된다. 또한, 제1 센서 전극들은 도 14a에 도시된 바와 같이 제1 방향으로 제1 내지 제4 측면을 가지는 마름모 형태 또는 다이아몬드 형태로 형성되며, 각 측면에 적어도 하나의 돌출부를 가지며, 제2 센서 전극들은 X축 방향으로 형성된 수평부와, X축 방향으로 형성된 수평부와 교차하도록 형성된 수직부를 가지는 십자 형태로 형성되며, 더미 패턴부는 다수의 다각형 패턴이 지그재그 형태로 형성된 제1 내지 제4 더미 패턴을 포함한다. Specifically, a third conductive layer is formed on the back surface of the upper substrate 180 through a deposition method such as a sputtering method. Examples of the third conductive layer include tin oxide (TO), indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium tin zinc oxide (ITZO), and the like. Of a transparent conductive layer is used. Next, the first sensor electrodes 150 and 154 formed in the first direction and the second sensor electrodes 160 and 164 formed in the second direction are formed by patterning the third conductive layer in the photolithography process and the etching process using the fourth mask, A connection part 162 connecting adjacent second sensor electrodes 160 and 164 and a dummy pattern part 140 formed between the first and second sensor electrodes 150 and 154 and 160 and 164 and a first upper pad electrode 159b, A sensor electrode pattern group including the second upper pad electrode 169b is formed. 14A and 14B, the first sensor electrodes 150 are connected to the first routing line 158 and the second sensor electrodes 160 are connected to the second routing line 168 do. 14A, the first sensor electrodes are formed in a rhombic or diamond shape having first to fourth sides in a first direction, and have at least one protrusion on each side thereof, and the second sensor electrodes A horizontal portion formed in the X-axis direction, and a vertical portion formed in a direction intersecting the horizontal portion formed in the X-axis direction, and the dummy pattern portion includes first to fourth dummy patterns formed in a zigzag pattern do.

도 15를 참조하면, 터치 센서 어레이가 형성된 상부 기판(180) 전면 상에 패드부 영역이 오픈된 보호막(172)이 형성된다. Referring to FIG. 15, a protective layer 172 is formed on a front surface of an upper substrate 180 where a touch sensor array is formed.

구체적으로, 터치 센서 어레이가 형성된 상부 기판(180) 전면 상에 무기 절연 물질 또는 유기 절연 물질이 전면 도포되며, 이 무기 또는 유기 절연 물질은 제5 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 습식 식각 공정으로 패드부 영역이 오픈된다. Specifically, an inorganic insulating material or an organic insulating material is entirely coated on the entire surface of the upper substrate 180 on which the touch sensor array is formed. The inorganic or organic insulating material is subjected to a photolithography process using a fifth mask and a wet etching process, Area is opened.

도 16a 및 도 16b를 참조하면, 보호막(172) 상에 전도성 패턴층(120)이 형성된다. Referring to FIGS. 16A and 16B, a conductive pattern layer 120 is formed on the passivation layer 172.

구체적으로, 터치 센서 어레이가 형성된 상부 기판(180) 상에 무기 절연 물질 또는 유기 절연 물질이 전면 도포되어 보호막(172)이 형성된다. 이러한, 보호막(172) 상에 스퍼터링 방법으로 제4 도전층이 형성되며, 제4 도전층으로는 틴 옥사이드(Tin Oxide : TO), 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide : ITO), 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide : IZO), 인듐 틴 징크 옥사이드(Indium Tin Zind Oxide : ITZO) 등의 투명 도전층이 이용된다. 이어서, 제6 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 식각 공정으로 제4 도전층이 패터닝됨으로써 전도성 패턴층(120)이 형성된다. 제6 마스크를 이용하여 전도성 패턴층(120)은 도 15a에 도시된 바와 같이 X축 방향의 스트라이프 형태로 형성되거나, Y축 방향의 스트라이프 형태로 형성될 수 있다. 또는, 전도성 패턴층(122)은 도 6에 도시된 바와 같이 터치 센서 어레이의 브리지(152)와 대응되는 패턴으로 형성될 수 있다. 그리고, 도 7a에 도시된 바와 같이, 제1 내지 제4 더미 패턴(142 내지 148)과 대응되는 형태의 제1 내지 제4 도전성 더미 패턴(124a 내지 124d)으로 형성될 수 있으며, 도 8a에 도시된 바와 같이 제1 내지 제4 더미 패턴(124a 내지 124d)이 상부 및 하부로 분리되어 형성될 수 있다. Specifically, an inorganic insulating material or an organic insulating material is applied on the entire surface of the upper substrate 180 on which the touch sensor array is formed, thereby forming the protective film 172. A fourth conductive layer is formed on the protective layer 172 by a sputtering method. The fourth conductive layer may be formed of tin oxide (TO), indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide Zinc Oxide (IZO), and Indium Tin Zinc Oxide (ITZO). Next, the conductive pattern layer 120 is formed by patterning the fourth conductive layer by a photolithography process and an etching process using a sixth mask. The conductive pattern layer 120 using the sixth mask may be formed in a stripe shape in the X-axis direction or in a stripe shape in the Y-axis direction as shown in FIG. 15A. Alternatively, the conductive pattern layer 122 may be formed in a pattern corresponding to the bridge 152 of the touch sensor array, as shown in FIG. As shown in FIG. 7A, the first to fourth conductive dummy patterns 124a to 124d may have a shape corresponding to the first to fourth dummy patterns 142 to 148, The first to fourth dummy patterns 124a to 124d may be separated into upper and lower portions.

도 17를 참조하면, 하부 기판(102) 상에 TFT 어레이와 TFT 어레이와 접속된 OLED 어레이가 형성된 하부 어레이(104)를 마련한 후, 캡핑 레이어(112)와 보호막(114)을 형성한다. 이후, 도 18에 도시된 바와 같이 터치 센서 어레이와 전도성 패턴층(120)이 형성된 상부 기판(180)과 하부 어레이가 형성된 하부 기판(102)을 박막 필름(116)을 통해 부착한다.Referring to FIG. 17, a lower array 104 having an OLED array formed with a TFT array and a TFT array is formed on a lower substrate 102, and then a capping layer 112 and a protective film 114 are formed. 18, an upper substrate 180 on which a touch sensor array and a conductive pattern layer 120 are formed and a lower substrate 102 on which a lower array is formed are attached through a thin film 116. [

도 19은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 표시 장치를 나타내는 사시도이고, 도 20는 도 18에 도시된 표시 장치의 단면도를 나타내고 있다. 그리고, 도 21은 도 19에 도시된 표시 장치의 터치 센서 어레이를 나타낸 평면도이다.FIG. 19 is a perspective view showing a display device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 20 is a cross-sectional view of the display device shown in FIG. 21 is a plan view showing the touch sensor array of the display device shown in Fig.

도 19 및 도 20에 도시된 본 발명의 제2 실시 예에 따른 표시 장치는 하부 기판(102) 상에 형성된 하부 어레이(104)와, 하부 기판(102)과 마주보며 형성된 상부 기판(201)과, 상부 기판(201) 전면 상에 형성되는 터치 센서 어레이와, 상부 기판(201) 전면 상에 터치 센서 어레이의 브리지(252)와 동일층에 형성되어 전하(Charge)가 하부 어레이(104)의 전극으로 유입되는 것을 방지하는 전도성 패턴층(240)과, 터치 센서 어레이와 마주보며 형성된 커버 글래스(232)를 포함한다. 이와 같이, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 표시 장치는 터치 센서 어레이가 상부 기판(201) 전면 상에 형성된 온-셀 구조의 표시 장치이다. The display device according to the second embodiment of the present invention shown in FIGS. 19 and 20 includes a lower array 104 formed on a lower substrate 102, an upper substrate 201 formed to face the lower substrate 102, A touch sensor array formed on the front surface of the upper substrate 201 and a touch sensor array formed on the same layer as the bridge 252 of the touch sensor array on the front surface of the upper substrate 201, And a cover glass 232 formed opposite to the touch sensor array. As described above, the display device according to the second embodiment of the present invention is an on-cell display device in which a touch sensor array is formed on the front surface of the upper substrate 201.

하부 어레이(104)는 하부 기판(102) 상에 형성된 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; 이하, TFT) 어레이와, 박막 트랜스터 어레이 상에 형성된 OLED(Organic Light Emitting Diode) 어레이를 구비한다. 이때, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 TFT 어레이와 OLED 어레이는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 TFT 어레이와 OLED 어레이의 구성요소와 동일하므로 생략하기로 한다. The lower array 104 includes a thin film transistor (TFT) array formed on the lower substrate 102 and an OLED (Organic Light Emitting Diode) array formed on the thin film transistor array. Here, the TFT array and the OLED array according to the second embodiment of the present invention are the same as those of the TFT array and the OLED array according to the first embodiment of the present invention.

터치 센서 어레이는 정전 용량 방식으로 외부의 터치를 감지한다. 이러한, 터치 센서 어레이는 위치 감지 전극으로서 기능을 하는 제1 및 제2 센서 전극 패턴부(256,266), 라우팅부(258,268), 패드부(272)를 포함한다. 이때, 라우팅부와 패드부는 본 발명의 제1 실시 예에 기재된 내용과 동일하므로 생략하기로 한다. The touch sensor array senses an external touch in a capacitive manner. The touch sensor array includes first and second sensor electrode pattern units 256 and 266 serving as position sensing electrodes, routing units 258 and 268, and a pad unit 272. At this time, the routing unit and the pad unit are the same as those described in the first embodiment of the present invention and will not be described.

제1 센서 전극 패턴부(256)는 제1 방향으로 제1 센서 전극들(250,254)이 복수개가 형성되어 구동 전압을 인가받는다. 여기서, 제1 방향은 예로 들어 X축 방향일 수 있다. 제1 센서 전극 패턴부(256)는 마름모 형태 또는 다이아몬드 형태로 형성되는 제1 센서 전극들(250,254)과, 인접한 제1 센서 전극들(250,254)을 연결하는 브리지(252)들과, 브리지(252)를 노출시키는 컨택홀(250a,254a)을 포함하는 층간 절연막을 포함한다. 이때, 브리지(252)는 층간 절연막의 컨택홀(250a,254a)을 통해 제1 센서 전극(250,254)과 접속되며, 인접한 제1 센서 전극들(250,254)을 연결한다. 제1 센서 전극들(250,254)은 제1 라우팅 라인(258)과 전기적으로 접속되어 신호를 공급받는다. 이에 따라, 제1 패드 전극들(259)을 통해 공급된 구동 전압은 제1 라우팅 라인(258)과 접속된 제1 센서 전극들(250,254)로 공급되며, 인접한 제1 센서 전극들(250,254)은 브리지(252)를 통해 구동 전압이 공급된다. The first sensor electrode pattern unit 256 is formed with a plurality of first sensor electrodes 250 and 254 in a first direction to receive a driving voltage. Here, the first direction may be, for example, the X-axis direction. The first sensor electrode pattern part 256 includes first sensor electrodes 250 and 254 formed in a rhombic or diamond shape and bridges 252 connecting adjacent first sensor electrodes 250 and 254 and bridge 252 And contact holes (250a, 254a) for exposing the interlayer insulating film. At this time, the bridge 252 is connected to the first sensor electrodes 250 and 254 through the contact holes 250a and 254a of the interlayer insulating film, and connects the adjacent first sensor electrodes 250 and 254. The first sensor electrodes 250 and 254 are electrically connected to the first routing line 258 to receive a signal. Accordingly, the driving voltage supplied through the first pad electrodes 259 is supplied to the first sensor electrodes 250 and 254 connected to the first routing line 258, and the adjacent first sensor electrodes 250 and 254 And a driving voltage is supplied through the bridge 252.

제2 센서 전극 패턴부(266)는 제1 센서 전극 패턴부(256)와 교차하도록 제2 방향으로 나란하게 복수개가 형성되어 터치 여부에 따라 변화된 전압 강하를 감지하게 된다. 여기서, 제2 방향은 예로 들어 Y축 방향일 수 있다. 제2 센서 전극 패턴부(266)는 마름모 형태 또는 다이아몬드 형태의 제2 센서 전극들(260,264)과, 제2 센서 전극들(260,264)과 동일층에 제2 방향으로 형성되어 서로 인접한 제2 센서 전극들(260,264)을 연결해주는 연결부(262)를 포함한다. 제2 센서 전극들(260,264)은 제2 라우팅 라인(268)과 전기적으로 접속되어 터치 여부에 따라 변화된 전압 또는 전류를 제2 패드 전극들(260,264)로 공급한다. 즉, 터치 여부에 따라 변화된 전압 또는 전류를 제2 센서 전극들(260,264)과 접속된 제2 라우팅 라인(268)을 통해 제2 패드 전극들(269)로 인가되어 위치를 감지한다. A plurality of second sensor electrode pattern units 266 are formed in parallel in the second direction so as to intersect with the first sensor electrode pattern units 256 to detect a voltage drop that varies depending on whether the touch sensor unit is in touch. Here, the second direction may be Y-axis direction, for example. The second sensor electrode pattern portion 266 is formed in a rhombic or diamond-like shape on the same layer as the second sensor electrodes 260 and 264 and the second sensor electrodes 260 and 264, And a connection part 262 connecting the first and second connection parts 260 and 264. The second sensor electrodes 260 and 264 are electrically connected to the second routing line 268 and supply a voltage or a current to the second pad electrodes 260 and 264 depending on the touch. That is, the voltage or current changed depending on the touch is applied to the second pad electrodes 269 through the second routing line 268 connected to the second sensor electrodes 260 and 264 to sense the position.

전도성 패턴층(240)은 터치 여부에 따라 전하가 제1 센서 전극(250,254)에서 제2 센서 전극(250,254)으로 이동할 때 하부 어레이의 제2 전극으로 유입되는 것을 방지할 수 있도록 터치 센서 어레이가 형성된 상부 기판(201) 전면 상에 형성된다. 전도성 패턴층(240)은 도 20 및 도 21에 도시된 바와 같이 브리지(252)와 동일층에 형성되므로 브리지(252)가 형성된 영역에는 홀(242)이 형성되며, 홀(242)이 형성된 영역을 제외하고 전면에 형성된다. The conductive pattern layer 240 is formed with a touch sensor array so as to prevent the charge from flowing into the second electrode of the lower array when the charge moves from the first sensor electrodes 250 and 254 to the second sensor electrodes 250 and 254, And is formed on the front surface of the upper substrate 201. Since the conductive pattern layer 240 is formed on the same layer as the bridge 252 as shown in FIGS. 20 and 21, the hole 242 is formed in the region where the bridge 252 is formed, Are formed on the front surface.

이와 같이, 전도성 패턴층(240)은 터치 여부에 따라 전하가 제1 센서 전극(250,254)에서 제2 센서 전극(260,264)으로 이동할 때 OLED 어레이로부터 유입된 노이즈를 영향을 받지 않도록 브리지(252)가 형성된 영역을 제외하고 제1 및 제2 센서 전극(250,254,260,264) 하부 전면에 형성된다. 즉, 전도성 패턴층(240)이 플로팅(Floating) 역할을 하여 OLED 어레이로부터 유입되는 노이즈(Noise)의 영향을 감소시킬 수 있다. As the conductive pattern layer 240 moves from the first sensor electrodes 250 and 254 to the second sensor electrodes 260 and 264 depending on the touch, the bridge 252 prevents the noise from the OLED array from being affected 254, 260, and 264 are formed on the entire lower surface of the first and second sensor electrodes 250, 254, That is, the conductive pattern layer 240 functions as a floating layer, thereby reducing the influence of noise introduced from the OLED array.

도 22a 내지 도 28은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 표시 장치의 제조 방법들을 나타낸 단면도들 및 그에 따른 평면도들이다. FIGS. 22A to 28 are cross-sectional views illustrating the manufacturing method of the display device according to the second embodiment of the present invention, and plan views thereof.

도 22a 및 도 22b를 참조하면, 상부 기판(201) 전면 상에 제1 및 제2 라우팅 라인(258,268)과, 이와 연결된 제1 및 제2 하부 패드 전극(259a,269a)을 포함하는 라우팅 및 패드 패턴군이 형성된다. 22A and 22B, a routing and pad (not shown) including first and second routing lines 258 and 268 and first and second lower pad electrodes 259a and 269a connected to the first and second routing lines 258 and 268 on the front surface of the upper substrate 201, A pattern group is formed.

구체적으로, 상부 기판(201) 전면 상에 스퍼터링 방법 등의 증착 방법을 통해 제1 도전층이 형성된다. 제1 도전층으로는 Mo, Cu, Al, Cr, Ag 등과 같이 금속 물질이 이용된다. 이어서, 제1 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 식각 공정으로 제1 도전층이 패터닝됨으로써 제1 및 제2 라우팅 라인(258,268)과 제1 라우팅 라인(158)과 연결된 제1 하부 패드 전극(259a)와, 제2 라우팅 라인(268)과 연결된 제2 하부 패드 전극(269a)을 포함하는 라우팅 및 패드 패턴군이 형성된다. Specifically, a first conductive layer is formed on the entire surface of the upper substrate 201 through a deposition method such as a sputtering method. As the first conductive layer, a metal material such as Mo, Cu, Al, Cr, or Ag is used. Then, the first conductive layer is patterned by the photolithography process and the etching process using the first mask to form first lower pad electrodes 259a connected to the first and second routing lines 258 and 268 and the first routing line 158, And a second lower pad electrode 269a connected to the second routing line 268 are formed.

도 23a 및 도 23b를 참조하면, 라우팅 및 패드 패턴군이 형성된 상부 기판(201) 전면 상에 브리지(252)와, 브리지(252)가 형성된 영역을 제외하고 전도성 패턴층(240)이 형성된다. 23A and 23B, a conductive pattern layer 240 is formed except for a bridge 252 and a region where a bridge 252 is formed on an entire surface of an upper substrate 201 on which a group of routing and pad patterns are formed.

구체적으로, 라우팅 및 패드 패턴군이 형성된 상부 기판(201) 전면 상에 스퍼터링 방법 등의 증착 방법을 통해 제2 도전층이 형성된다. 제2 도전층으로는 틴 옥사이드(Tin Oxide : TO), 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide : ITO), 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide : IZO), 인듐 틴 징크 옥사이드(Indium Tin Zind Oxide : ITZO) 등의 투명 도전층이 이용된다. 이어서, 제2 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 식각 공정으로 제2 도전층이 패터닝됨으로써 브리지(252)와, 브리지(252)와 대응되는 영역에 홀(242)이 형성된 전도성 패턴층(240)을 전면 형성한다. Specifically, a second conductive layer is formed on the front surface of the upper substrate 201 on which the routing and pad pattern groups are formed through a deposition method such as a sputtering method. The second conductive layer may be formed of a conductive material such as tin oxide (TO), indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium tin zinc oxide (ITZO) Of a transparent conductive layer is used. Next, the second conductive layer is patterned by a photolithography process and an etching process using the second mask, thereby forming a bridge 252 and a conductive pattern layer 240 having holes 242 in a region corresponding to the bridge 252, .

도 24a 및 도 24b를 참조하면, 브리지(252)가 형성된 상부 기판(201) 전면 상에 컨택홀(250a,254a)을 포함하며, 패드부(272) 영역은 오픈된 층간 절연막(170)이 형성된다. 24A and 24B, contact holes 250a and 254a are formed on the entire surface of the upper substrate 201 on which the bridge 252 is formed, and the region of the pad portion 272 is formed by forming an open interlayer insulating film 170 do.

구체적으로, 상부 기판(201) 전면에 SiO₂ 등의 무기 절연 물질이 전면 도포되며, 이 무기 절연 물질은 제3 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 습식 식각 공정으로 브리지(252)를 노출시키는 컨택홀(250a,254a)들과, 패드부(272) 영역은 오픈된 층간 절연막(170)이 형성된다. Specifically, an inorganic insulating material such as SiO ₂ is coated on the entire surface of the upper substrate 201. The inorganic insulating material is etched by a photolithography process using a third mask and a wet etching process using a contact hole 250a, and 254a, and the pad portion 272 are opened.

도 25a 및 도 25b를 참조하면, 층간 절연막(170)이 형성된 상부 기판(201) 전면 상에 제1 및 제2 센서 전극들(250,254,260,264)과, 서로 인접한 제2 센서 전극들(260,264)을 연결시키는 연결부(262)를 포함하는 센서 전극 패턴군이 형성된다. 25A and 25B, the first and second sensor electrodes 250, 254, 260 and 264 and the adjacent second sensor electrodes 260 and 264 are connected to the entire surface of the upper substrate 201 on which the interlayer insulating layer 170 is formed A sensor electrode pattern group including a connection portion 262 is formed.

구체적으로, 상부 기판(201) 전면 상에 스퍼터링 방법 등의 증착 방법을 통해 제3 도전층이 형성된다. 제3 도전층으로는 틴 옥사이드(Tin Oxide : TO), 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide : ITO), 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide : IZO), 인듐 틴 징크 옥사이드(Indium Tin Zind Oxide : ITZO) 등의 투명 도전층이 이용된다. 이어서, 제4 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정 및 식각 공정으로 제3 도전층이 패터닝됨으로써 제1 방향으로 마름모 또는 다이아몬드 형태로 형성된 제1 센서 전극들(250,254)과, 제2 방향으로 마름모 또는 다이아몬드 형태로 형성된 제2 센서 전극들(260,264)과, 인접한 제2 센서 전극들(260,264)을 연결시키는 연결부(262)와, 제1 상부 패드 전극(259b)과, 제2 상부 패드 전극(269b)을 포함하는 센서 전극 패턴군이 형성된다. Specifically, a third conductive layer is formed on the entire surface of the upper substrate 201 through a deposition method such as a sputtering method. Examples of the third conductive layer include tin oxide (TO), indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium tin zinc oxide (ITZO), and the like. Of a transparent conductive layer is used. Next, the first sensor electrodes 250 and 254 formed in a rhomboid or diamond shape in the first direction by patterning the third conductive layer by the photolithography process and the etching process using the fourth mask, and the first sensor electrodes 250 and 254 formed in a rhombic or diamond shape in the second direction A connection portion 262 connecting the second sensor electrodes 260 and 264 and the adjacent second sensor electrodes 260 and 264, a first upper pad electrode 259b and a second upper pad electrode 269b A sensor electrode pattern group is formed.

도 26을 참조하면, 터치 센서 어레이가 형성된 상부 기판(201) 전면 상에 패드부 영역이 오픈된 보호막(172)이 형성된다. Referring to FIG. 26, a passivation layer 172 having a pad region opened is formed on a front surface of an upper substrate 201 on which a touch sensor array is formed.

도 27을 참조하면, 하부 기판(202) 상에 TFT 어레이와 TFT 어레이와 접속된 OLED 어레이가 형성된 하부 어레이(204)를 마련한 후, 캡핑 레이어(212)와 보호막(214)을 형성한다. 이후, 도 28에 도시된 바와 같이 터치 센서 어레이와 전도성 패턴층(240)이 형성된 상부 기판(210)과 하부 어레이(204)가 형성된 하부 기판(202)이 점착층을 통해 부착된다. Referring to FIG. 27, a capping layer 212 and a protective film 214 are formed after providing a lower array 204 on which a TFT array and a TFT array are connected and an OLED array is formed on a lower substrate 202. 28, an upper substrate 210 on which a touch sensor array and a conductive pattern layer 240 are formed and a lower substrate 202 on which a lower array 204 is formed are attached through an adhesive layer.

이상의 설명은 본 발명을 예시적으로 설명한 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술적 사상에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명의 명세서에 개시된 실시 예들은 본 발명을 한정하는 것이 아니다. 본 발명의 범위는 아래의 특허청구범위에 의해 해석되어야 하며, 그와 균등한 범위 내에 있는 모든 기술도 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석해야 할 것이다. The foregoing description is merely illustrative of the present invention, and various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. Accordingly, the embodiments disclosed in the specification of the present invention are not intended to limit the present invention. The scope of the present invention should be construed according to the following claims, and all the techniques within the scope of equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention.

102 : 하부 기판 104 : 하부 어레이
112 : 캡핑 레이어 114 : 보호막
120,122,124,126 : 전도성 패턴층 150,154,250,254 : 제1 센서 전극
152,252 : 브리지 150a,154a,250a,254a : 컨택홀
142,144,146,148 : 제1 내지 제4 더미 패턴
160, 164 ,260,264 : 제2 센서 전극 162,262 : 연결부
158, 258 : 제1 라우팅 라인 168,268 : 제2 라우팅 라인 102: lower substrate 104: lower array
112: capping layer 114: protective film
120, 122, 124, 126: conductive pattern layers 150, 154, 250, 254:
152, 252: bridges 150a, 154a, 250a, 254a:
142, 144, 146, 148: first to fourth dummy patterns
160, 164, 260, 264: second sensor electrode 162, 262:
158, 258: first routing line 168, 268: second routing line

Claims

A lower array including a thin film transistor array positioned on a lower substrate and an organic electroluminescent array connected to the thin film transistor array;
A first sensor electrode pattern portion disposed on the lower array and including first sensor electrodes positioned on an upper substrate facing the lower substrate and second sensor electrodes positioned between the first sensor electrodes, A touch sensor array including a second sensor electrode pattern portion;
A conductive pattern layer positioned between the lower array and the touch sensor array;
A protective layer disposed between the conductive pattern layer and the touch sensor array; And
A thin film disposed between the conductive pattern layer and the bottom array,
Wherein the conductive pattern layer is floating.

The method according to claim 1,
The first sensor electrode pattern portion
A bridge positioned between the upper substrate and the first sensor electrodes,
And an interlayer insulating layer disposed between the bridge and the first sensor electrodes and including contact holes overlapping the bridge,
Wherein the bridge connects between adjacent first sensor electrodes in a first direction.

3. The method of claim 2,
The second sensor electrode pattern portion
And a connection unit which is located on the same layer as the second sensor electrodes and connects the second sensor electrodes adjacent to each other in a second direction perpendicular to the first direction.

The method according to claim 1,
A cover glass positioned on the upper substrate;
A polarizer disposed between the upper substrate and the cover glass; And
And a pressure-sensitive adhesive layer disposed between the polarizing plate and the cover glass.

The method according to claim 1,
Wherein the conductive pattern layer is in the form of a stripe.

3. The method of claim 2,
The conductive pattern layer
Wherein the bridge has a size larger than or equal to the size of the bridge.

The method according to claim 1,
The touch sensor array
And a dummy pattern portion positioned between the first sensor electrodes and the second sensor electrodes.

8. The method of claim 7,
Each of the first sensor electrodes has a rhombic shape or a diamond shape having first to fourth sides,
The dummy pattern portion
A first dummy pattern located on a first side of the first sensor electrode,
A second dummy pattern located on a second side of the first sensor electrode,
A third dummy pattern located on a third side of the first sensor electrode,
And a fourth dummy pattern located on a fourth side of the first sensor electrode.

9. The method of claim 8,
The conductive pattern layer
A first conductive dummy pattern corresponding to the first dummy pattern,
A second conductive dummy pattern corresponding to the second dummy pattern,
A third conductive dummy pattern corresponding to the third dummy pattern, and
And a fourth conductive dummy pattern corresponding to the fourth dummy pattern.

10. The method of claim 9,
Wherein each of the first to fourth conductive dummy patterns of the conductive pattern layer has a size larger than a corresponding dummy pattern of the dummy pattern portion.

A touch sensor array including a first sensor electrode pattern portion including first sensor electrodes positioned on an upper substrate and a second sensor electrode pattern portion including second sensor electrodes positioned between the first sensor electrodes ;
Forming a protective film on the touch sensor array;
Forming a conductive pattern layer on the protective film;
Providing a lower array comprising a thin film transistor array positioned on a lower substrate and an organic electroluminescent array connected to the thin film transistor array; And
Attaching the lower array and the touch sensor array using a thin film,
Wherein the conductive pattern layer is floating.

12. The method of claim 11,
The step of providing the touch sensor array
Forming a routing and pad pattern group including first and second routing lines on the upper substrate, a first lower pad electrode connected to the first routing line, and a second lower pad electrode connected to the second routing line ;
Forming a bridge on the upper substrate on which the routing and the pad pattern groups are formed;
Forming an interlayer insulating layer including a contact hole exposing the bridge on the upper substrate on which the bridge is formed, the pad region having the first and second lower pad electrodes formed thereon; And
The first sensor electrodes connected in the first direction by the bridge on the upper substrate on which the interlayer insulating film is formed, the second sensor electrodes located between the first sensor electrodes, And forming connection portions connecting the second sensor electrodes adjacent to each other in two directions.

12. The method of claim 11,
Wherein the conductive pattern layer is formed in a stripe shape.

13. The method of claim 12,
The conductive pattern layer
Wherein the conductive pattern layer is formed in a pattern corresponding to the bridge on the protective film at a position corresponding to the bridge, and the size of the conductive pattern layer is greater than or equal to the size of the bridge.

12. The method of claim 11,
Wherein the step of providing the touch sensor array includes forming a dummy pattern between the first sensor electrodes and the second sensor electrodes,
Wherein the conductive pattern layer is formed in a pattern corresponding to the dummy pattern on the protective film at a position corresponding to the dummy pattern.

An upper substrate and a lower substrate facing each other;
A lower array including a thin film transistor array formed on the lower substrate and an organic electroluminescence array connected to the thin film transistor array;
A first sensor electrode pattern part formed on the front surface of the upper substrate and including first sensor electrodes formed with a plurality of first sensor electrodes in a first direction and a bridge connecting the first sensor electrodes adjacent to each other, And a second sensor electrode pattern portion including a plurality of second sensor electrodes formed in a second direction so as to intersect with each other and a connection portion connecting the adjacent second sensor electrodes formed on the same layer as the second sensor electrodes, A sensor array unit;
A conductive pattern layer formed on the upper substrate to prevent charges from entering the electrodes of the organic electroluminescent array when charges are transferred from the first sensor electrode to the second sensor electrode, ;
And an adhesive layer for attaching the upper substrate on which the conductive pattern layer and the touch sensor array are formed and the lower substrate on which the lower array is formed,
Wherein the conductive pattern layer is floating.

17. The method of claim 16,
Wherein the conductive pattern layer has a hole in a region corresponding to the bridge.

A routing and pad pattern group including first and second routing lines on the front surface of the upper substrate, a first lower pad electrode connected to the first routing line, and a second lower pad electrode connected to the second routing line, ; &Lt; / RTI >
Forming a conductive pattern layer having a bridge on the front surface of the upper substrate on which the routing and pad pattern groups are formed and a hole in a region corresponding to the bridge;
Forming an open interlayer insulating layer on the pad region where the first and second lower pad electrodes are formed, the contact hole exposing the bridge on the front surface of the upper substrate on which the bridge is formed;
A connection portion connecting first and second sensor electrodes and second sensor electrodes adjacent to each other on a front surface of the upper substrate on which the interlayer insulating film is formed, and a sensor electrode pattern group including first and second upper pad electrodes ;
And forming a protection layer on the front surface of the upper substrate on which the sensor electrode pattern group is formed, the pad region being open.