KR101732640B1 - 호스트 앰플을 위한 개선된 딥튜브 디자인 - Google Patents

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찰스 미카엘 버쳐
길다르도 비반코
윌리엄 존 쉬히
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버슘 머티리얼즈 유에스, 엘엘씨
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Abstract

한 가지 양태로, 본 발명은 액체 화학물질을 함유하고 분배하는 용기를 위한 개선된 딥튜브 디자인을 제공하며, 상기 딥튜브는 압박되는 때에 그러한 딥튜브의 하단부가 용기의 하부 내부 표면 및 딥튜브와 용기의 기저부의 내부 공간 사이에 유동 전달을 생성시키는 딥튜브의 하단부의 하부 에지에 위치한 노치와 접촉되어 유지되게 작용하는 스프링력을 생성시킨다. 또 다른 양태로, 본 발명은 이러한 제한을 지니는 용기를 구성시키는 방법을 제공한다.

Description

호스트 앰플을 위한 개선된 딥튜브 디자인{IMPROVED DIPTUBE DESIGN FOR A HOST AMPOULE}
관련 출원에 대한 참조
본 발명은 본원에서 그 전체 내용이 참고로 포함되는 2014년 6월 24일자 출원된 미국 가특허 출원 일련번호 제62/016,367호의 우선권 및 그 이익을 주장한다.
본 발명은 용기 및 연결된 재충전/회수 시스템 사이의 단일 라인을 통한 재충전, 폐기물 회수, 및 모든 습윤된 표면의 세정 공정을 용이하게 하는 호스트 앰플(용기)에 대한 개선된 딥튜브 디자인을 제공한다.
전자 장치 제조 산업은 집적회로, 웨이퍼 및 그 밖의 전자 장치를 제조하기 위한 원료 또는 전구체로서 다양한 액체 화학물질을 필요로 한다. 이들 적용에서 사용되는 화학물질의 순도는 전자 제조 산업의 엄격한 요건을 맞추기 위해서 매우 높아야 한다.
고순도 화학물질을 제공하기 위해서 이용되는 노력 중 일부는 전자 장치가 제조되는 반응기 또는 노(furnace)에 이들 화학물질을 전달하는 용기 및 시스템의 디자인 및 구조를 겨냥하고 있다. 화학물질의 순도는 열적 분해, 물리적인 진탕, 또는 시스템 내에 있는 산소, 수분, 또는 그 밖의 오염물과의 화학적 반응으로 인해서 시간이 지남에 따라서 더 나빠질 수 있다. 따라서, 세정제 또는 솔벤트(solvent) 및 퍼지 가스로 화학물질 용기를 동일반응계 내에서 주기적으로 세정하는 것이 바람직하다. 그러나, 공정 화학물질이 다시 들어가기 전에 화학물질 용기로부터 솔벤트가 완전히 제거되지 않으면, 솔벤트 자체가 제조 공정 동안에 오염물로서 작용할 수 있다. 따라서, 세정 공정 후에 화학물질 용기로부터 가능한 한 많은 솔벤트를 흡출시키는 것이 바람직하다.
또한, 충분한 화학물질이 웨이퍼의 제조 및/또는 배치 공정(batch processing)에 이용 가능함을 확실히 하기 위해서 전자 장치 제조 공정에서의 고순도 화학물질의 사용 동안에 용기 내의 이용 가능한 그러한 고순도 화학물질의 양을 모니터링하는 것이 중요하다. 제조 공정에서 사용되는 고순도 화학물질이 매우 비싸기 때문에, 세정 사이클을 수행하기 전에 가능한 한 많은 화학물질을 소비하는 것이 바람직하다. 그러나, 또한 화학물질 용기를 완전히 비우지 않는 것이 중요한데, 그 이유는 용기 내에 어떠한 잔류 화학물질(즉, 치유물질(heal))을 남기지 않으면, 전자 장치 제조 공정이 고갈 상태(run-dry condition)에서 작동될 수 있고, 이는 웨이퍼 결함 및 비용 소모적인 생산량의 감소를 유발시킬 수 있다. 따라서, 화학물질 용기내의 잔류 화학물질의 양을 주의해서 모니터링하는 것이 바람직하다.
화학물질 용기에서 사용 가능한 화학물질의 순도 및 그 양의 모니터링 문제를 처리하기 위한 다양한 시도가 종래 기술에서 이루어졌다.
일부 공지된 종래 기술 참고문헌은 입구 및 출구 밸브 및 딥튜브(diptube)를 포함하는 화학물질 용기를 개시하고 있지만, 수준 센서 프로브 또는 용기에 잔류하는 화합물질의 양을 측정하기 위한 어떠한 수단을 교시하고 있지는 않다.
또 다른 공지된 종래 기술 참고문헌은 딥튜브와 내부 부유 수준 센서를 지닌 화학물질 용기를 개시하고 있다.
또 다른 공지된 종래 기술 참고문헌은 둥근 바닥과 딥튜브를 지니는 화학물질 용기를 개시하고 있다.
또 다른 공지된 종래 기술 참고문헌은 입구 및 출구 밸브, 굴곡부(bend)를 포함하는 딥튜브, 및 화학물질 수준 센서 프로브를 지니는 화학물질 용기를 개시하고 있지만, 이러한 참고문헌에서, 용기의 베이스 부분은 둥근 바닥을 지니고 있으며, 딥튜브는 베이스 부분의 바닥과 접촉되지 않고 있다.
화학물질의 순도, 화학물질의 양의 모니터링 및 효율적인 화학물질 이용의 목표를 다루는데 있어서의 종래 기술의 단점을 해결하는 것이 요구되고 있다.
본 발명은 용기 및 연결된 재충전/회수 시스템 사이의 단일 라인을 통한 재충전, 폐기물 회수, 및 모든 습윤된 표면의 세정 공정을 용이하게 하는 호스트 앰플(용기)에 대한 개선된 딥튜브 디자인을 제공한다. 딥튜브는 전장 디자인의 딥튜브이며 용기의 최저부에 도달하여, 딥튜브가 시스템의 첫 번째 작동 방식으로 배출관(drain)으로서 사용되는 때에 용기의 전체 내용물이 밀려 나가게 한다. 딥튜브는 또한 시스템의 두 번째 작동 방식으로 세정 용액을 용기의 최저부로 전달하기 위해서 사용될 수 있다. 이러한 두 번째 작동 방식에서, 제 2 라인이 이의 첫 번째 단부에서 용기의 상부 공간에 연결되고(예, 포트(115)를 통해서) 이의 두 번째 단부에서 폐기물 회수 용기에 연결된다. 따라서, 세정제 또는 솔벤트는 딥튜브를 통해서 용기 내로 밀려서 용기를 채울 수 있고, 이어서, 사용된 세정제 또는 솔벤트 용액이 제 2 라인을 통해서 연결된 폐기물 회수 용기 내로 밀려나갈 수 있다. 본 발명에 따른 딥튜브 디자인은 필요한 세정 시간 및 세정 공정 동안에 요구되는 솔벤트 및 퍼지 가스의 양을 감소시킨다.
본 발명은 이하 유사한 참조번호는 유사한 구성요소를 나타내고 있는 첨부된 도면과 결부되어 기재될 것이다.
도 1은 본 발명의 첫 번째 구체예에 따른 호스트 앰플의 정면도이다.
도 2는 도 1의 선 2-2를 따라서 본 이의 우측면도이다.
도 3은 평면도이다.
도 4는 도 3의 선 4-4를 따라서 취한 단면도이다.
도 5는 도 3의 선 5-5를 따라서 취한 단면도이다.
도 6은 본 발명의 구체예에 따른 딥튜브의 측면도이다.
도 7은 도 2의 선 7-7을 따라서 취한 단면도이다.
도 8은 도 2의 선 7-7과 동등한 라인을 따라서 취한 호스트 앰플의 두 번째 구체예의 단면도이다.
도 9는 딥튜브의 하단부를 나타내는 도 3의 선 9-9를 따라서 취한 부분 단면도이다.
도 10은 도 5에서의 선 10-10에 의해서 지정된 영역의 확대도이다.
발명의 상세한 설명
이어지는 상세한 설명은 단지 바람직한 예시적 구체예를 제공하며, 본 발명의 범위, 적용성, 또는 형태를 제한하는 것으로 의도되지 않는다. 오히려, 바람직한 예시적 구체예의 이어지는 상세한 설명은 당업자에게 본 발명의 바람직한 예시적 구체예의 실행을 가능하게 하는 설명을 제공할 것이다. 첨부된 청구범위에서 기재된 바와 같은 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않으면서 구성요소의 기능 및 배열에서 다양한 변화가 이루어질 수 있다.
본 명세서 및 첨부된 청구범위를 위해서, "굴곡부"는 하나 이상의 비-무한 곡률 반경을 지니는 관형 부재로 정의된다. 바람직하게는 굴곡부의 곡율 반경은 1000cm 미만이다.
본 명세서 및 첨부된 청구범위를 위해서, 두 개의 선, 표면들, 부분들, 부품들 또는 조립체들은 그러한 두 개의 선, 표면들, 부분들, 부품들 또는 조립체들 사이의 각의 측정치의 절대값이 10°를 초과하지 않는 때에는 서로 "실질적으로 평행한" 것으로 여겨진다.
본 명세서 및 첨부된 청구범위를 위해서, 용어 "흐름 소통관계(flow communication)"는 제어된 양상으로(즉, 누출 없이) 액체, 증기, 및/또는 기체가 부분들 또는 부품들 사이에서 수송되게 할 수 있는 둘 이상의 부분 또는 부품 사이의 연결의 본질을 나타낸다. 둘 이상의 부분 또는 부품이 서로 흐름 소통관계에 있게 하기 위해서 이들 둘 이상의 부분 또는 부품을 함께 연결시키는 것은, 예컨대, 용접, 플랜지형 도관, 개스킷, 화스너, 및 접착제의 사용에 의한, 본 기술분야에서의 공지된 어떠한 적합한 방법을 포함할 수 있다. 둘 이상의 부분 또는 부품은 또한 이들을 물리적으로 분리시킬 수 있는 시스템의 중간 부품을 통해서 "흐름 소통관계"로 함께 연결될 수 있다.
일반적으로, 전자 장치 제조 산업에서 사용하기 위한 호스트 앰플(용기)은 하부 베이스 부분 및 상부 뚜껑과 함께 형성된다. 딥튜브는 일반적으로 먼저 뚜껑의 밑면에, 예를 들어, 용접에 의해서 고정 부착된다. 이어서, 용기는 뚜껑 및 접합된 딥튜브를 베이스 부분의 맨 위에 놓고 뚜껑을, 예를 들어, 둘레 용접(perimetral weld) 또는 복수의 볼트, 클램프 또는 그 밖의 화스너를 통해서 베이스 부분에 고정 부착시킴으로써 완전히 구성된다. 용접 적용에서, 용접에서 불가피하게 발생하는 수축으로 인해서, 곧은 딥튜브의 크기를 적절히 정하여, 용접 수축이 발생한 후에, 그러한 딥튜브가 적절히 용기를 비우고 충진시키는 그 능력 둘 모두를 최대화시키는 배향으로 용기의 최저부에 도달되도록 충분히 길게 하고, 그러한 딥튜브가 더 이상 작동하지 못하도록 용기의 내부 바닥 표면에 의해서 완전히 스스로 밀봉하지 않게 충분히 짧게 하는 것은 어렵다.
추가로, 일부 적용에서, 딥튜브의 하단부를 용기 내에 중앙에 위치시키는 것이 바람직하기 때문에, 그리고, 기존 딥튜브가 곧다는 사실로 인해서, 딥튜브는 일반적으로 용기의 중심 공간(즉, 대체로 용기의 높이의 중심선을 따라서 위치되는 공간)의 실질적인 부분을 차지한다. 따라서, 용기의 이러한 중심 공간은 시스템의 다른 부품, 예를 들어, 유체 수준 센서 프로브를 수용할 여유가 없다.
본 발명에 따른 일부 구체예에서, 용기의 "중심 공간"은 용기의 중심선을 중심으로 하여 용기의 높이를 따라서 측정되는 용기의 실린더 모양 공간을 포함하며, 중심 공간은 중심선에 직각으로 측정되는 반경을 지닌다. 본 발명에 따른 추가의 구체예에서, 용기의 중심 공간은 용기의 반경 값의 5% 이상, 그러나 75% 이하인 값의 반경을 지닌다. 본 발명에 따른 추가의 구체예에서, 용기의 중심 공간은 용기의 반경 값의 5% 이상, 그러나 50% 이하인 값의 반경을 지닌다. 본 발명에 따른 추가의 구체예에서, 용기의 중심 공간은 용기의 반경 값의 대략 5% 내지 30%인 값의 반경을 지닌다.
본 발명은 용기 및 연결된 재충전/회수 시스템 사이의 단일 라인을 통한 재충전, 폐기물 회수, 및 모든 습윤된 표면의 세정 공정을 용이하게 하는 호스트 앰플(용기)에 대한 개선된 딥튜브 디자인을 제공한다. 딥튜브는 전장 디자인의 딥튜브이며 용기의 최저부에 도달하여, 딥튜브가 시스템의 첫 번째 작동 방식으로 배출관(drain)으로서 사용되는 때에 용기의 전체 내용물이 밀려 나가게 한다. 딥튜브는 또한 시스템의 두 번째 작동 방식으로 세정 용액을 용기의 최저부로 전달하기 위해서 사용될 수 있다. 이러한 두 번째 작동 방식에서, 제 2 라인이 이의 첫 번째 단부에서 용기의 상부 공간에 연결되고(예, 포트(115)를 통해서) 이의 두 번째 단부에서 폐기물 회수 용기에 연결된다. 따라서, 세정제 또는 솔벤트는 딥튜브를 통해서 용기 내로 밀려서 용기를 채울수 있고, 이어서, 사용된 세정제 또는 솔벤트 용액이 제 2 라인을 통해서 연결된 폐기물 회수 용기 내로 밀려나갈 수 있다. 본 발명에 따른 딥튜브 디자인은 필요한 세정 시간 및 세정 공정 동안에 요구되는 솔벤트 및 퍼지 가스의 양을 감소시킨다.
기존의 시스템과 같이, 본 발명에 따른 딥튜브는, 뚜껑이 베이스 부분에 고정 부착, 예를 들어, 용접, 클램핑 또는 볼트조임되기 전에, 용기의 뚜껑에 먼저 고정 부착, 예를 들어, 용접된다. 그러나, 기존 시스템과는 달리, 본 발명의 딥튜브는 굴곡부가 있는 모양이며, 그러한 딥튜브는, 용기 바닥에 뚜껑을 고정 부착하도록 용기 바닥 위에 있는 동안에, 뚜껑 및 접합된 딥튜브가 아래로 압박되게 크기가 정해진다. 뚜껑과 베이스 부분 사이의 용접 수축이 딥튜브가 용기 내에서 추가로 압축되게 하는 구체예에서도, 딥튜브에 있는 굴곡부는 압축되는 때에 고유한 기계적 스프링 효과를 발생시키며, 그러한 스프링 효과는 딥튜브의 하부 가장자리를 용기의 내부 바닥 표면과 둘레 접촉된 상태로 유지시킨다. 추가로, 굴곡부는 딥튜브의 하단부가 용접 수축에도 불구하고 용기의 내부 바닥 표면과 둘레 밀봉되어 유지되도록 딥튜브의 하단부를 배향시킨다.
추가로, 본 발명에 따른 일부 구체예에서, 딥튜브의 굴곡부는 딥튜브의 상단부에 두어서 딥튜브의 상단부가 용기의 중심선을 따라서 정렬되지 않은 오프-센터 포트(off-center port)에 용접되게 한다. 이러한 구체예에서, 딥튜브의 이러한 오프-센터 정위는 용기의 중심 공간이 용기에 남아있는 화학물질 수준을 측정하기 위한 수준 센서 프로브를 수용하도록 자유롭게 남겨지게 한다. 본 발명에 따른 일부 구체예에서, 용기는 용기의 최저 내부 표면을 나타내는 용기의 내부 바닥 표면의 평면(평탄) 부분을 지니며, 그러한 부분으로 딥튜브 및 수준 센서 프로브 둘 모두가 연장된다. 일부 구체예에서, 평면 부분은 용기의 중심 공간에 자리한다. 대안적인 구체예에서, 평면 부분은 용기의 공간 내의 어느 곳에, 예를 들어, 용기의 외주변 벽까지에 걸쳐서 용기의 중심선과 오프셋(offset)되어 자리할 수 있다. 수준 센서 프로브가 이러한 평면 부분까지 내내 연장되게 함으로써, 그러한 수준 센서 프로브는 용기에 남아있는 화학물질 수준의 가장 정확한 가능한 측정치를 제공할 수 있다.
딥튜브의 하단부에는 또한 딥튜브의 하부 에지의 둘레를 따라서 반대로 있는 한 쌍의 노치(notch)가 제공된다. 상기 주지된 바와 같이, 딥튜브 내의 고유한 기계적 스프링 효과는 딥튜브의 하부 에지를 용기의 내부 바닥 표면에 대해서 압박한다. 하부 에지가 딥튜브에 의해서 생성된 스프링 상수를 통해서 용기의 내부 바닥 표면에 둘레 밀봉됨으로 인해서, 딥튜브 노치는 상부 공간 압력이 용기에서 이용되게 하여 액체 및 고체 잔류물을 딥튜브를 통해서 그리고 노치를 통해서 용기 밖으로 압박하여 연속된 사용을 위한 용기를 완전히 비우고 건조시키는 배출 구로서 작용한다. 본 구체예에서, 정확히 두 개의 노치가 딥튜브의 하단부에 제공되고 있지만, 대안적인 구체예에서, 어떠한 수의 노치가 딥튜브의 외벽을 통해서 이의 내부 통로로 연장되는 딥튜브의 하단부에 제공될 수 있다. 추가의 대안적인 구체예에서, 노치는 딥튜브의 하단부 근처에 있으며 딥튜브의 외벽을 통해서 이의 내부 통로로 연장되는 하나 이상의 구멍, 슬롯(slot), 또는 그 밖의 천공을 포함할 수 있다.
고유의 스프링 효과를 지니는 오프-센터 딥튜브(off-center diptube), 오목한 내부 바닥 표면을 지니는 용기, 및 용기의 중심 공간 내에 위치된 수준 센서 프로브의 조합된 특징은 화학물질 폐기물, 세정제 또는 솔벤트, 또는 퍼지 가스를 용기내의 모든 습윤된 표면으로부터 회수하는 것과, 용기를 건조시키고 생산 또는 제조 공정을 위한 새로운 화학물질로 용기를 재충진시키는 것 둘 모두를 위한 단일의 재충진 라인의 사용을 가능하게 한다.
도 1 내지 도 7, 및 도 9 및 도 10을 일반적으로 참조하여, 본 발명에 따른 시스템(100)의 예시적인 구체예가 이제 상세히 기재될 것이다. 이러한 구체예에서, 시스템(100)은 호스트 앰플 또는 용기(120)에 결합된 밸브/라인 조립체(110)를 포함한다. 용기는 베이스 부분(118) 및 그러한 베이스 부분(118)의 맨 위에 놓이며 그에 둘레 용접되어 가시적인 용접부(119)를 남기는 뚜껑(117)을 지닌다. 상기 주지된 바와 같이, 대안적인 구체예에서, 뚜껑(117)은 베이스 부분(118)에 다른 수단, 예를 들어, 그의 둘레 주위에 자리하는 복수의 클램프 또는 볼트에 의해서, 고정 부착될 수 있다. 도면을 다시 참조하면, 이러한 구체예에서, 뚜껑(117)은 하부(내부) 표면(123)을 지닌다(도 4 및 도 5 참조). 도 1은 시스템(100)의 정면도이고, 도 2는 도 1의 선 2-2를 따라서 본 이의 우측면도이다. 도 1, 도 3 및 도 4에서 도시된 바와 같이, 포트(114, 115)가 용기(120)의 중심선(122)으로부터 떨어진 장소에서 용기(120)에 진입되어 있다. 포트(114)는, 포트(114)의 관의 직경을 딥튜브(130)의 직경으로 감소시키는 작용을 하는 커플링(131)을 포함하는, 딥튜브(130)의 상단부(132)의 상부 에지(134)에 용접 또는 달리 고정 부착된다. 이러한 구체예에서, 포트(114)의 관의 직경은 0.375 인치(0.953 센티미터)이고, 딥튜브(130)의 직경은 0.250 인치(0.635 센티미터)이어서, 커플링(131)이 필요하다. 대안적인 구체예로, 포트(114)의 관과 딥튜브(130)의 직경이 동일하여, 커플링(131)의 요구를 없앨 수 있다. 본 발명의 구체예에서, 용기(120)는 실질적으로 오목하며 용기(120)의 중심선(122)에 대해서 자리한 평면 부분(126)(도 7 참조)을 포함하는 내부 하부 표면(124)을 지닌다. 용기(120)의 외벽은 외주변 벽(128)에 의해서 한정된다(도 7 참조).
도 4 및 도 6에 도시된 바와 같이, 이러한 구체예에서, 딥튜브(130)는 그 안에 굴곡부(148)를 지니고 있으며, 그러한 굴곡부는 고유의 기계적인 스프링 효과를 생성시키고, 그러한 스프링 효과는 딥튜브(130)의 하단부(136)에 위치한 하부 에지(138)가 내부 바닥 표면(124)으로 효과적으로 밀봉되고 용기(120)의 뚜껑(117)과 베이스 부분(118) 사이의 용접부(119)에서 발생할 수 있는 어떠한 용접 수축에도 불구하고 내부 바닥 표면(124)에 의해서 밀봉 유지되게 한다. 추가로, 도 5에 도시된 바와 같이, 용기(120)의 중심 공간으로부터 떨어져서(즉, 대체로 용기(120)의 중심선(122)을 따라서 있는 공간으로부터 떨어져서) 딥튜브(130)가 그 상단부(132)에서 포트(114)에 연결됨으로써 중심 공간은 용기(120)에 남아있는 화학물질(또는 다른 액체)의 수준을 측정하기 위해서 사용되는 수준 센서 프로브(112)를 수용할 여유가 있다. 수준 센서 프로브(112)는 글랜드(gland: 113)를 통해서 뚜껑(117)에 부착된다. 따라서, 수준 센서 프로브(112)가 용기(120)의 최저 내부 표면까지(즉, 내부 바닥 표면(124)의 평면 부분(126)까지) 내내 하향으로 연장될 수 있기 때문에, 수준 센서 프로브(112)는 용기(120)에 남아있는 화학물질의 수준의 가장 정확한 가능한 측정값을 제공할 수 있다.
용기(120)의 최저 내부 표면은 평면 부분(126)과 조화를 이루고 있으며, 그러한 평면 부분은, 이러한 구체예에서, 용기(120)의 중심선(122)을 따라서 자리한다. 대안적인 구체예에서, 평면 부분(126)은 용기의 내부 바닥 표면(124) 상의 어느 곳에 자리할 수 있으며, 중심선(122)을 따라서 있을 필요가 없거나 용기(120)의 중심 공간 내에 있을 필요가 없다. 대안적인 구체예에서, 평면 부분(126)은 원형일 필요가 없으며, 내부 바닥 표면(124)의 면적의 0.0001% 내지 100%를 포함하는 면적을 지니는 어떠한 모양일 수 있다.
딥튜브(130)의 구체예에 대한 상세한 설명이 이의 설치된(즉, 압축된) 상태로 커플링(131)과 함께 도 5 및 도 6에 도시되어 있으며, 그러한 커플링은 길이(133)를 지니며 도 6의 도면에서는 생략되어 있다. 도 5에 도시된 바와 같이, 이러한 구체예에서, 딥튜브(130)는 커플링(131)의 상단부로부터 딥튜브(130)의 관형 부분의 하단부까지 측정한 높이(140)를 지니며, 이러한 높이(140)는 뚜껑(117)의 하부 표면(123)과 내부 바닥 표면(124)의 평면 부분(126) 사이를 측정한 용기(120)의 최대 내부 높이(121)보다 약간 더 크다. 딥튜브(130)의 상단부(132)의 방사상 중심선은 오프셋 거리(142) 만큼 딥튜브(130)의 하단부(136)의 방사상 중심선과 오프셋되어 있다(즉, 동일선상이 아니다). 본 구체예에서, 상부 에지(134)는 하부 에지(138)와 평행하다. 본 발명에 따른 대안적인 구체예에서, 상부 에지(134)는 하부 에지(138)와 실질적으로 평행하다. 추가의 대안적인 구체예에서, 상부 에지(134)와 하부 에지(138)은 평행하거나 실질적으로 평행할 필요가 없다.
상단부(132)로부터 하단부(136)로 이동하면서, 딥튜브(130)는 길이(146)를 지니는 상부 선형 부분(144), 굴곡부(148), 및 길이(170)를 지니는 하부 선형 부분(168)을 지닌다. 굴곡부(148)는 길이(154)를 지니는 상부 굽은 부분(152), 길이(160)를 지니는 중간 선형 부분(158) 및 길이(164)를 지니는 하부 굽은 부분(162)을 포함한다. 길이(154, 164)는 각각의 굽은 부분(152, 162)의 만곡부(curvature)을 따라서 측정되는 것으로 이해되어야 한다. 본 구체예에서, 상부 선형 부분(144)은 하부 선형 부분(168)과 평행하고, 상분 선형 부분(144)은 일정한 각(156)으로 중간 선형 부분(158)에 대해서 각을 이루고 있고, 하부 선형 부분(168)은 일정한 각(166)으로 중간 선형 부분(158)에 대해서 각을 이루고 있다. 본 구체예에서, 각(156, 166)은 둘 모두 135°이다. 바람직하게는, 각(156, 166)의 값은 91 내지 179° 범위에 있다. 더욱 바람직하게는, 각(156, 166)의 값은 100 내지 170° 범위에 있다. 더욱더 바람직하게는, 각(156, 166)의 값은 120 내지 150° 범위에 있다. 비록, 바람직한 구체예로, 딥튜브(130)이 용기(120) 내에 설치되고 압축되는 때에 각(156, 166)의 값이 동일하지만, 대안적인 구체예로, 각(156, 166)의 값은 설치 후에 동일한 필료가 없다. 설치 후에 동일한 각(156,166)의 값을 지니는 것이 바람직한 경우에, 각(156)의 초기 값이 각(166)의 초기 값보다 약간 크게 하는 것이 필요할 수 있는데, 그 이유는, 본 구체예에서, 상부 굽은 부분(152)이 하부 굽은 부분(162)보다 좀 더 압축되어 각(166)의 값보다 각(156)의 값에 영향을 줄 가능성이 많기 때문이다.
본 구체예에서, 딥튜브(130)의 길이(141)는 이의 만곡부를 따라서 측정되며, 커플링(131)의 길이(133), 상부 선형 부분(144)의 길이(146), 상부 굽은 부분(152)의 길이(154), 중간 선형 부분(158)의 길이(160), 하부 굽은 부분(162)의 길이(164), 및 하부 선형 부분(168)의 길이(170)의 값의 합과 값이 동일하다. 본 구체예에서, 길이(141)는 딥튜브(130)의 높이(140)보다 더 크다. 바람직하게는, 길이(141)의 값은 딥튜브(130)의 높이(140)의 값보다 5 내지 30% 더 크다. 더욱 바람직하게는, 길이(141)의 값은 딥튜브(130)의 높이(140)의 값보다 10 내지 20% 더 크다,
도 4, 도 7, 도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이, 딥튜브(130)는 외벽(180) 및 내부 통로(182)를 포함하고, 그러한 내부 통로는 상단부(132)를 하단부(136)와 흐름 소통관계로 연결시키고 있다. 본 구체예에서, 딥튜브(130)는 관형이고, 그에 따라서, 딥튜브(130)의 개구부(즉, 내부 통로(182))의 횡단면은 원형이다. 대안적인 구체예에서, 딥튜브(130)의 내부 통로(182)는 사각형, 직사각형, 삼각형, 육각형, 팔각형 또는 어떠한 그 밖의 적합한 규칙적 또는 불규칙적 기하학적 모양을 지닐 수 있다.
본 구체예에서, 딥튜브(130)는 굴곡부(148)를 지니는 모양이어서, 판 스프링 디자인을 통한 고유의 기계적 스프링 효과를 생성시킨다. 본 발명에 따른 대안적인 구체예에서, 딥튜브(130)는 하나 이상의 굴곡부를 포함할 수 있거나, 수평 또는 수직으로 배향된 스프링의 회전을 지니는 감긴 모양 또는 나선 모양을 지닐 수 있어서, 딥튜브(130) 내의 스프링 상수가 압축 스프링 효과 또는 비틀림 스프링 효과를 통해서 생성되게 한다. 본 발명에 따른 어떠한 구체예에서, 딥튜브(130)는 그러한 딥튜브(130)가 용기(120) 내에서 압축되는 때에 딥튜브(130)의 하부 에지(138)가 용기(120)의 내부 바닥 표면(124)과의 둘레 밀봉을 생성시키고 이를 유지시키도록 충분히 큰 스프링 상수를 지녀야 한다.
도 5, 도 6, 도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이, 본 구체예에서, 딥튜브(130)의 하단부(136)는 딥튜브(1300의 하단부(136)의 둘레(137) 주위에 서로 반대로 배열된 한쌍의 노치(172a,172b)를 포함한다. 노치(172a)는 내부 통로(182) 내로 연장되는 개구(174a)를 형성하고 노치(172b)는 내부 통로(182) 내로 연장되는 개구(174b)를 형성한다. 노치(172a,172b)의 각각은 높이(176) 및 2-차원 선형 폭(178)을 지닌다(도 6 참조). 이러한 구체예에서, 개구(174a,174b)는 직각으로 보는 때에 직사각형이며, 대안적인 구체예에서는, 개구(174a,174b)에 대해서, 이로 한정되는 것은 아니지만, 반원, 삼각, 또는 쐐기 모양을 포함한 다른 모양이 가능하다. 비록, 두 개의 노치(172a,172b)가 본 구체예에서 딥튜브(130)에 포함되지만, 다른 구체예에서는, 본 발명의 사상을 유지하면서 어떠한 수의 노치가 사용될 수 있다. 추가의 대안적인 구체예에서, 노치는 구멍, 슬롯(slot), 컷아웃(cutout), 또는 어떠한 가능한 모양을 지니는 그 밖의 천공으로 대체될 수 있다.
상기 논의된 바와 같이, 딥튜브(130) 및 굴곡부(148)의 압축에 의해서 유발된 딥튜브(130)에서의 고유의 기계적 스프링 효과는 딥튜브(130)의 하부 에지(138)를 용기(120)의 내부 바닥 표면(124)에 대해서 압박하고 하부 에지(138)와 내부 바닥 표면(124) 사이의 밀봉을 효과적으로 유지시킨다. 하부 에지(138)가 용기(120)의 내부 바닥 표면(124)에 둘레 밀봉되어서, 상부 공간 압력이 용기(120) 내에서 이용되어(예를 들어, 포트(115)를 통해서) 액체 및 고체 잔류물을 딥튜브(130)를 통해서 그리고 노치(172a,172b)를 통해 용기(120) 밖으로 밀어내서 화학물질 재충진을 위한 준비로 용기(120)를 완전히 비우고 건조시킬 수 있다.
도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 구체에에서, 용기(120)의 내부 바닥 표면(124)의 평면 부분(126)은 용기(120)의 중심선(122)을 따라서 정렬되고, 딥튜브(130)와 수준 센서 프로브(112)의 하단부들은 그들 각각이 부분적으로 평면 부분(126) 내에서 종착되도록 종착된다(평면 부분(126)과 부분적으로 접촉되기보다는, 수준 센서 프로브(112)의 하단부는 평면 부분(126)의 둘레 위에 자리하고 그 내부에서 부분적으로 수직으로 정렬될 수 있다). 내부 바닥 표면(124)은 중심선(122)으로부터 외주변 벽(128)의 내부 표면까지 측정되는 반경(125)을 지니며, 평면 부분(126)은 중심선(122)으로부터 평면 부분(126)의 가장자리까지 측정되는 반경(127)을 지닌다. 이러한 구체예에서, 평면 부분의 반경(127)의 값은 대체로 내부 바닥 표면(124)의 반경(125)의 값의 5 내지 15%의 범위에 있다. 도 8에 도시된 바와 같은 용기(220)의 대안적인 구체예에서, 내부 바닥 표면(224)은 확대된 크기의 평면 부분(226)을 지녀서 딥튜브(130)와 수준 센서 프로브(112)의 하단부들 각각이 완전히 평면 부분(226) 내에서 종착되게 한다(평면 부분(226)과 접촉되기보다는, 수준 센서 프로브(112)의 하단부는 평면 부분(226)의 둘레 위에 자리하고 그 내부에서 완전히 수직으로 정렬될 수 있다). 내부 바닥 표면(224)은 용기(220)의 중심선으로부터 이의 외주변 벽(228)의 내부 표면까지 측정되는 반경(225)을 지니며, 평면 부분(226)은 용기(220)의 중심선으로부터 평면 부분(226)의 가장자리까지 측정되는 반경(227)을 지닌다. 도 8의 구체예에서, 평면 부분(226)의 반경(227)의 값은 대체로 내부 바닥 표면(224)의 반경(225)의 값의 15 내지 25%의 범위에 있다. 추가의 대안적인 구체예에서, 평면 부분(226)의 반경(227)은 용기의 내부 바닥 표면(224)의 반경(225)과 값이 동일할 수 있는데, 달리 설명하면, 전체 내부 바닥 표면(224)은 평면 부분(226)을 포함할 수 있다. 추가의 대안적인 구체예에서, 평면 부분(226)은 용기의 내부 바닥 표면(224)의 면적의 어떠한 가능한 백분율을 포함할 수 있다. 대안적인 구체예에서, 평면 부분(126)은 원형일 필요가 없으며, 내부 바닥 표면(124)으로 한정되는 면적의 0.0001% 내지 100%를 포함하는 면적을 지니는 어떠한 모양일 수 있다.
본원에서 기재된 구체예에서, 개구(174a,174b)의 둘레 폭은 전체로서 딥튜브(130)의 하단부(136)의 둘레(137)의 값의 25 내지 50%를 포함한다(즉, 개구(174a,174b)는 전체로서 하단부(136)의 둘레(137) 주위에서 90 내지 180° 사이로 연장된다). 대안적인 구체예에서, 개구(174a,174b)의 둘레 폭은 전체로서 딥튜브(130)의 하단부(136)의 둘레(137)의 값의 25% 미만 또는 50% 초과, 예를 들어, 둘레(137)의 값의 0.1 내지 99.9%를 포함할 수 있다.
본 발명의 원리가 바람직한 구체예와 함께 상기 기재되었지만, 본 설명은 단지 예를 이루는 것이고 본 발명의 범위를 제한하지 않는 것으로 명확히 이해되어야 한다.
본 발명의 추가의 양태
본 발명의 추가의 양태는 하기 양태들을 포함한다:
양태 1: 하부 내부 표면과 복수의 포트를 지니는 뚜껑, 내부 바닥 표면을 지니는 베이스 부분 및 딥튜브를 포함하는 액체 화학물질을 함유시키고 분배시키기 위한 용기로서, 상기 복수의 포트가 뚜껑을 통해서 연장되어 있고, 상기 딥튜브가 내부 통로를 한정하는 외벽, 복수의 포트 중 첫 번째 포트에 고정 부착되며 하부 내부 표면으로부터 연장되는 상단부, 및 하부 에지를 지니는 하단부를 포함하고, 뚜껑이 베이스에 부착되는 때에 하부 에지중 적어도 일부가 베이스 부분의 내부 바닥 표면과 접촉되고, 하단부가 하부 에지로 연장되고 외벽을 통해서 내부 통로로 연장되는 하나 이상의 노치를 추가로 포함하는 용기.
양태 2: 양태 1에 있어서, 딥튜브가 이의 상단부 및 하단부 사이에 위치하는 하나 이상의 굴곡부를 추가로 포함하고, 하나 이상의 굴곡부가 하부 에지를 베이스 부분의 내부 바닥 표면과 적어도 부분적으로 접촉되어 유지되게 하는 스프링력(spring force)을 생성시키는 용기.
양태 3: 양태 1 또는 양태 2에 있어서, 딥튜브의 상단부의 중심선이 딥튜브의 하단부의 중심선과 동일선상에 있지 않은 용기.
양태 4: 양태 3에 있어서, 상단부의 중심선이 하단부의 중심선과 실질적으로 평행한 용기.
양태 5: 양태 1 내지 양태 4 중 어느 한 양태에 있어서, 전체 하부 에지가 용기의 내부 바닥 표면과 접촉되어 있는 용기.
양태 6: 양태 1 내지 양태 5 중 어느 한 양태에 있어서, 딥튜브의 하단부가 외벽을 통해서 내부 통로로 연장되지만 하부 에지와 접촉되지 않는 하나 이상의 구멍을 추가로 포함하는 용기.
양태 7: 양태 1 내지 양태 6 중 어느 한 양태에 있어서, 딥튜브의 상단부가 상부 에지를 지니며, 상부 에지가 하부 에지와 실질적으로 평행한 용기.
양태 8: 양대 1 내지 양태 7 중 어느 한 양태에 있어서, 용기의 내부 바닥 표면이 평면 부분을 지니며, 딥튜브의 하부 에지의 적어도 일부가 평면 부분과 접촉되는 용기.
양태 9: 양태 8에 있어서, 평면 부분이 내부 바닥 표면의 최저부를 포함하는 용기.
양태 10: 양태 8에 있어서, 상단부와 하단부를 지니는 수준 센서를 추가로 포함하고, 상기 상단부가 복수의 포트의 두 번째 포트에 부착되어 있고, 상기 하단부가 평면 부분의 둘레 위에 위치하여 그 내부에서 적어도 부분적으로 수직으로 정렬되어 있는 용기.
양태 11: 양대 1 내지 양태 10 중 어느 한 양태에 있어서, 딥튜브가 그러한 딥튜브가 압축되지 않은 상태에 있는 때에 그의 상단부의 상부 에지와 하부 에지 사이에서 측정되는 압축되지 않은 높이 및 그러한 딥튜브가 용기 내에 설치되는 때에 하부 에지와 접촉되어 있는 용기의 내부 바닥 표면의 최저부와 상부 에지 사이에서 측정되는 압축된 높이를 추가로 포함하고, 압축되지 않은 높이가 압축된 높이보다 더 큰 용기.
양태 12: (a) 딥튜브의 상단부를 뚜껑에 고정 부착시키는 단계로서, 딥튜브가 하부 에지를 지니는 하단부를 포함하며 내부 통로를 한정하는 외벽을 포함하고, 뚜껑이 그를 통해서 연장되어 있는 복수의 포트를 추가로 포함하고 있게 하여, 딥튜브의 상단부를 뚜껑에 고정 부착시키는 단계; (b) 내부 바닥 표면을 지니는 베이스 부분 위에 뚜껑을 위치시키는 단계로서, 딥튜브의 하단부의 하부 에지의 적어도 일부가 내부 바닥 표면과 접촉되도록 하여 내부 바닥 표면을 지니는 베이스 부분 위에 뚜껑을 위치시키는 단계; (c) 뚜껑과 베이스 부분이 함께 맞물리고 딥튜브가 베이스 부분 내에서 적어도 부분적으로 압축될 때까지 뚜껑 또는 베이스 부분에 힘을 가하는 단계; 및 (d) 단계(c)를 수행하는 동안에 뚜껑을 베이스 부분에 고정 부착시키는 단계를 포함하는 방법.
양태 13: 양태 12에 있어서, 단계(a)가 딥튜브의 상단부를 뚜껑에 고정 부착시킴을 추가로 포함하고, 딥튜브의 하단부가 하부 에지로 연장되고 외벽을 통해서 내부 통로로 연장되는 하나 이상의 노치를 포함하는 방법.
양태 14: 양태 12 또는 양태 13에 있어서, 단계(a)가 딥튜브의 상단부를 뚜껑에 고정 부착시킴을 추가로 포함하고, 딥튜브가 이의 상단부와 하단부 사이에 위치하는 굴곡부를 지녀서 상단부의 중심선이 하단부의 중심선과 동일선상에 있지 않게 하고 있는 방법.
양태 15: 양대 12 내지 양태 14 중 어느 한 양태에 있어서, 단계(a)가 뚜껑이 단계(d)에서 베이스 부분에 고정 부착된 후에 용기의 중심 공간 내에 위치하지 않게 되는 장소에서 딥튜브의 상단부를 뚜껑의 하부 표면에 고정 부착시킴을 추가로 포함하고, 중심 공간이 뚜껑의 하부 표면과 내부 바닥 표면 사이의 용기의 높이를 따라서 위치되며, 높이가 뚜껑의 하부 표면의 중심점과 내부 바닥 표면의 중심점 사이의 용기의 중심선을 따라서 측정되고, 베이스 부분이 중심선으로부터 용기의 외벽의 내부 표면까지 직각으로 측정되는 반경을 지니며, 중심 공간이 중심선으로부터 직각으로 측정되는 반경을 지니며, 중심 공간의 반경이 베이스 부분의 반경의 값의 75% 이하인 값을 지니는 방법.
양태 16: 하부 표면과 복수의 포트를 지니는 뚜껑, 내부 바닥 표면 및 내부표면을 지닌 외벽을 지니는 베이스 부분, 뚜껑의 하부 표면의 중심점과 내부 바닥 표면의 중심점 사이의 베이스 부분의 중심선을 따라서 측정되는 높이 및 뚜껑의 하부 표면과 내부 바닥 표면 사이의 높이를 따라서 위치하는 중심 공간; 및 딥튜브를 포함하는 액체 화학물질을 함유시키고 분배시키기 위한 용기로서, 복수의 포트가 뚜껑을 통해서 연장되고, 베이스 부분이 중심선으로부터 외벽의 내부 표면까지 직각으로 측정되는 반경을 지니며, 중심 공간이 중심선으로부터 직각으로 측정되는 반경을 지니며, 중심 공간의 반경이 베이스 부분의 반경의 값의 75% 이하인 값을 지니고, 딥튜브가 뚜껑에 고정 부착되는 상단부 및 적어도 부분적으로 중심 공간 내에 위치하는 하단부를 포함하고, 상단부가 전체적으로 중심 공간 밖에 위치하고, 하단부가 하부 에지를 지니고, 하부 에지의 적어도 일부가 내부 바닥 표면과 접촉되어 있는 용기.
양태 17: 양태 16에 있어서, 딥튜브의 하단부가 딥튜브의 하부 에지로 연장되고 딥튜브의 외벽을 통해서 이의 내부 통로로 연장되어 있는 하나 이상의 노치를 추가로 포함하는 용기.
양태 18: 양태 16 또는 양태 17에 있어서, 딥튜브가 상단부와 하단부 사이에서 그 안에 위치된 일체형의 굴곡부를 추가로 포함하는 용기.
양태 19: 양태 16 내지 양태 18 중 어느 한 양태에 있어서, 중심 공간의 반경이 베이스 부분의 반경의 값의 5% 이상인 값을 지니는 용기.
양태 20: 양태 16 내지 양태 19 중 어느 한 양태에 있어서, 전체 하부 에지가 내부 바닥 표면과 접촉되어 있는 용기.

Claims (20)

  1. 하부 내부 표면과 뚜껑을 통해서 연장되어 있는 복수의 포트(port)를 지니는 뚜껑; 내부 바닥 표면을 지니는 베이스 부분(base portion); 및 딥튜브(diptube)를 포함하는, 액체 화학물질을 함유하고 분배시키기 위한 용기로서,
    딥튜브가 내부 통로를 한정하는 외벽, 복수의 포트 중 제 1 포트에 고정 부착되며 하부 내부 표면으로부터 연장되는 상단부, 하부 에지를 지니는 하단부, 및 이의 상단부 및 하단부 사이에 위치하는 하나 이상의 굴곡부를 포함하고,
    뚜껑이 베이스에 부착되는 때에 하부 에지 중 적어도 일부가 베이스 부분의 내부 바닥 표면과 접촉되어 있고, 하단부가 하부 에지로 연장되고 외벽을 통해서 내부 통로로 연장되는 하나 이상의 노치(notch)를 추가로 포함하며, 하나 이상의 굴곡부가 하부 에지를 베이스 부분의 내부 바닥 표면과 적어도 부분적으로 접촉되어 유지되게 하는 스프링력(spring force)을 생성시키는 용기.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서, 딥튜브의 상단부의 중심선이 딥튜브의 하단부의 중심선과 동일선상에 있지 않은 용기.
  4. 제 3항에 있어서, 상단부의 중심선이 하단부의 중심선과 평행한 용기.
  5. 제 1항에 있어서, 전체 하부 에지가 용기의 내부 바닥 표면과 접촉되어 있는 용기.
  6. 제 1항에 있어서, 딥튜브의 하단부가 외벽을 통해서 내부 통로로 연장되지만 하부 에지와는 접촉되지 않는 하나 이상의 구멍을 추가로 포함하는 용기.
  7. 제 1항에 있어서, 딥튜브의 상단부가 상부 에지를 지니며, 상부 에지가 하부 에지와 평행한 용기.
  8. 제 1항에 있어서, 용기의 내부 바닥 표면이 평면 부분을 지니며, 딥튜브의 하부 에지의 적어도 일부가 평면 부분과 접촉되는 용기.
  9. 제 8항에 있어서, 평면 부분이 내부 바닥 표면의 최저부를 포함하는 용기.
  10. 제 8항에 있어서, 상단부와 하단부를 지니는 수준 센서를 추가로 포함하고, 상기 상단부가 복수의 포트 중 제 2 포트에 부착되어 있고, 상기 하단부가 평면 부분의 둘레 위에 위치하여 그 내부에서 적어도 부분적으로 수직으로 정렬되어 있는 용기.
  11. 제 1항에 있어서, 딥튜브가 그러한 딥튜브가 압축되지 않은 상태에 있는 때에 그의 상단부의 상부 에지와 하부 에지 사이에서 측정되는 압축되지 않은 높이 및 그러한 딥튜브가 용기 내에 설치되는 때에 하부 에지와 접촉되어 있는 용기의 내부 바닥 표면의 최저부와 상부 에지 사이에서 측정되는 압축된 높이를 추가로 포함하고, 압축되지 않은 높이가 압축된 높이보다 더 큰 용기.
  12. (a) 딥튜브의 상단부를 뚜껑에 고정 부착시키는 단계로서, 딥튜브가 하부 에지를 지니는 하단부 및 내부 통로를 한정하는 외벽을 포함하고, 딥튜브가 이의 상단부와 하단부 사이에 위치하는 굴곡부를 지녀서 상단부의 중심선이 하단부의 중심선과 동일선상에 있지 않고 하부 에지가 베이스 부분의 내부 바닥 표면과 적어도 부분적으로 접촉되어 유지되게 하며, 뚜껑이 뚜껑을 통해서 연장되어 있는 복수의 포트를 추가로 포함하고 있게 하여, 딥튜브의 상단부를 뚜껑에 고정 부착시키는 단계;
    (b) 내부 바닥 표면을 지니는 베이스 부분 위에 뚜껑을 위치시키는 단계로서, 딥튜브의 하단부의 하부 에지의 적어도 일부가 내부 바닥 표면과 접촉되도록 하여 내부 바닥 표면을 지니는 베이스 부분 위에 뚜껑을 위치시키는 단계;
    (c) 뚜껑과 베이스 부분이 함께 맞물리고 딥튜브가 베이스 부분 내에서 적어도 부분적으로 압축될 때까지 뚜껑 또는 베이스 부분에 힘을 가하는 단계; 및
    (d) 단계(c)를 수행하는 동안에 뚜껑을 베이스 부분에 고정 부착시키는 단계를 포함하는 방법.
  13. 제 12항에 있어서, 단계(a)가 딥튜브의 상단부를 뚜껑에 고정 부착시킴을 추가로 포함하고, 딥튜브의 하단부가 하부 에지로 연장되고 외벽을 통해서 내부 통로로 연장되는 하나 이상의 노치를 포함하는 방법.
  14. 삭제
  15. 제 12항에 있어서, 단계(a)가 뚜껑이 단계(d)에서 베이스 부분에 고정 부착된 후에 용기의 중심 공간 내에 위치하지 않게 되는 장소에서 딥튜브의 상단부를 뚜껑의 하부 표면에 고정 부착시킴을 추가로 포함하고, 중심 공간이 뚜껑의 하부 표면과 내부 바닥 표면 사이의 용기의 높이를 따라서 위치되며, 높이가 뚜껑의 하부 표면의 중심점과 내부 바닥 표면의 중심점 사이의 용기의 중심선을 따라서 측정되고, 베이스 부분이 중심선으로부터 용기의 외벽의 내부 표면까지 직각으로 측정되는 반경을 지니며, 중심 공간이 중심선으로부터 직각으로 측정되는 반경을 지니며, 중심 공간의 반경이 베이스 부분의 반경의 값의 75% 이하인 값을 지니는 방법.
  16. 하부 표면과 뚜껑을 통해 연장되어 있는 복수의 포트를 지니는 뚜껑; 내부 바닥 표면 및 내부 표면을 지닌 외벽을 지니는 베이스 부분; 뚜껑의 하부 표면의 중심점과 내부 바닥 표면의 중심점 사이에 있는 베이스 부분의 중심선을 따라서 측정되는 높이; 및 뚜껑의 하부 표면과 내부 바닥 표면 사이의 높이를 따라서 위치하는 중심 공간; 및 딥튜브를 포함하는 액체 화학물질을 함유시키고 분배시키기 위한 용기로서,
    베이스 부분이 중심선으로부터 외벽의 내부 표면까지 직각으로 측정되는 반경을 지니고, 중심 공간이 중심선으로부터 직각으로 측정되는 반경을 지니고, 중심 공간의 반경이 베이스 부분의 반경의 값의 75% 이하인 값을 지니며,
    딥튜브가 뚜껑에 고정 부착되는 상단부, 적어도 부분적으로 중심 공간 내에 위치하는 하단부, 및 이의 상단부 및 하단부 사이에 위치하는 하나 이상의 굴곡부를 포함하고, 상단부가 전체적으로 중심 공간 밖에 위치하고, 하단부가 하부 에지를 지니고, 하부 에지의 적어도 일부가 내부 바닥 표면과 접촉되어 있으며, 하나 이상의 굴곡부가 하부 에지를 베이스 부분의 내부 바닥 표면과 적어도 부분적으로 접촉되어 유지되게 하는 스프링력을 생성시키는 용기.
  17. 제 16항에 있어서, 딥튜브의 하단부가 딥튜브의 하부 에지로 연장되고 딥튜브의 외벽을 통해서 이의 내부 통로로 연장되어 있는 하나 이상의 노치를 추가로 포함하는 용기.
  18. 삭제
  19. 제 16항에 있어서, 중심 공간의 반경이 베이스 부분의 반경의 값의 5% 이상인 값을 지니는 용기.
  20. 제 16항에 있어서, 전체 하부 에지가 내부 바닥 표면과 접촉되어 있는 용기.
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