KR101721189B1 - Angle of the light adjustment device and exposure device and Angle of the light adjustment method using it - Google Patents

Angle of the light adjustment device and exposure device and Angle of the light adjustment method using it Download PDF

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KR101721189B1 KR1020140124299A KR20140124299A KR101721189B1 KR 101721189 B1 KR101721189 B1 KR 101721189B1 KR 1020140124299 A KR1020140124299 A KR 1020140124299A KR 20140124299 A KR20140124299 A KR 20140124299A KR 101721189 B1 KR101721189 B1 KR 101721189B1
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Abstract

본 발명의 실시례는 노광 장치의 거울과 노광부 사이에 위치되며 상부에 구멍이 형성되어 있는 경통부와, 상기 경통부의 내측 하면을 관측할 수 있는 카메라부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치에 관한 것이다.An embodiment of the present invention is directed to a wide angle correcting apparatus comprising a lens barrel having a hole formed at an upper portion thereof between a mirror and an exposure portion of an exposure apparatus, and a camera portion capable of observing an inner bottom surface of the barrel portion will be.

Description

광각 보정 장치와 이를 사용하는 노광 장치 및 광각 보정 방법{Angle of the light adjustment device and exposure device and Angle of the light adjustment method using it}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a wide-angle correction device, an exposure device and a wide-angle correction method using the same,

본 발명은 광각 보정 장치와 이를 사용하는 노광 장치 및 광각 보정 방법에 관한 것이며, 좀 더 구체적으로 설명하면 근접(Proximity) 광학계의 광각 보정 장치와 이를 사용하는 근접 노광 장치 및 광각 보정 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a wide angle correction apparatus, an exposure apparatus and a wide angle correction method using the same, and more specifically, to a wide angle correction apparatus of a proximity optical system, a proximity exposure apparatus and a wide angle correction method using the same.

일반적으로 노광 방식에는 렌즈 또는 거울을 이용해 마스크의 패턴(Pattern)을 기판상에 투영하는 투영방식과, 마스크와 기판 사이에 미소한 간격을 설치해 마스크의 패턴을 기판에 전사하는 근접(Proximity) 방식이 있다.Generally, the exposure method includes a projection method of projecting a mask pattern onto a substrate using a lens or a mirror, and a proximity method of transferring a pattern of the mask onto a substrate by providing a minute gap between the mask and the substrate have.

상기 근접 방식은 투영방식에 비해 패턴 해상 성능은 낮지만, 조사 광학계의 구성이 간단하고 처리 능력이 높아 대량생산에 적합하다.The proximity method has a lower pattern resolution performance than the projection method, but has a simple structure of the irradiation optical system and high processing capability, and is suitable for mass production.

이러한 근접 방식에 사용되는 근접 노광 장치는 기판을 지지하는 척(Chuck)과 마스크를 지지하는 마스크 홀더 및 빛을 조사하는 광조사 장치를 포함하며, 마스크와 기판을 근접시키고 노광을 실시한다.A proximity exposure apparatus used in this proximity system includes a chuck for supporting a substrate, a mask holder for supporting the mask, and a light irradiation device for irradiating light, and the mask and the substrate are brought close to each other and exposed.

최근 표시용 패널의 대화면화에 수반해 기판이 대형화되는 만큼, 마스크도 대형화되어 자중에 의한 처짐이 커지는 현상이 발생된다.Recently, as the size of the substrate increases with the large screen of the display panel, the mask becomes large and the deflection due to its own weight becomes large.

근접 노광 장치에서는 대형의 기판 및 마스크를 안정되게 지지하기 위해서 기판을 수평으로 지지하고 노광을 실시하는 것이 일반적인데, 마스크에 처짐이 발생되면 기판으로의 패턴 인화가 균일하게 행해지지 않는다.In the proximity exposure apparatus, in order to stably support a large-size substrate and a mask, it is general to horizontally support the substrate and perform exposure. When deflection occurs in the mask, pattern printing on the substrate is not uniformly performed.

따라서, 원샷 노광 방식으로는 마스크의 처짐에 따른 간격 조절이 힘들어짐에 따라 대형면적에서는 분할 노광이 실시된다. Therefore, in the one-shot exposure method, it is difficult to adjust the interval according to the deflection of the mask, so that the divided exposure is performed in a large area.

그러나, 종래 분할 노광을 실시할 때 각 스텝마다 다른 광각으로 인해 정밀한 형상을 노광하기가 쉽지 않다는 문제점이 발생된다.
However, there is a problem that it is not easy to expose a precise shape due to a different wide angle in each step when the conventional divided exposure is performed.

일본공개특허 제2003－131388호Japanese Laid-Open Patent Application No. 2003-131388

본 발명에 따른 광각 보정 장치와 이를 사용하는 근접 노광 장치 및 광각 보정 방법은 분할 노광을 실시할 때 광각을 보정할 수 있는 광각 보정 장치와 이를 사용하는 근접 노광 장치 및 광각 보정 방법을 제공하고자 한다.The wide-angle correction device, the near-field exposure device and the wide-angle correction method using the same according to the present invention are intended to provide a wide-angle correction device capable of correcting the wide angle when performing division exposure, and a proximity exposure device and a wide-

본 발명은 노광 장치의 거울과 노광부 사이에 위치되며 상부에 구멍이 형성되어 있는 경통부와, 상기 경통부의 내측 하면을 관측할 수 있는 카메라부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치를 제공한다.The present invention provides a wide-angle correction device, comprising: a lens barrel having a hole formed at an upper portion thereof between a mirror and an exposure portion of an exposure apparatus; and a camera portion capable of observing an inner bottom surface of the lens barrel portion.

상기 경통부의 하면에는 상기 상부에 형성된 구멍과 동일 수직선상에 위치하는 수직핀이 형성될 수 있다.A vertical pin may be formed on the lower surface of the lens barrel and positioned on the same vertical line as the hole formed in the upper portion.

상기 수직핀을 중심으로 동심원이 형성될 수 있다.A concentric circle may be formed around the vertical pin.

본 발명은 상기 경통부 둘레에 형성되는 조도센서를 더 포함할 수 있다.The present invention may further include an illuminance sensor formed around the lens barrel.

본 발명은 상기 경통부와 이격되어 노광부의 마스크와 기판 소재가 수직면상에서 일치되는지 촬영할 수 있도록 형성된 마스크 얼라인 카메라부를 더 포함할 수 있다.The present invention may further include a mask alignment camera unit spaced apart from the lens barrel unit and configured to photograph the mask of the exposure unit and the substrate material on a vertical plane.

본 발명은 상기 경통부와 이격되어 노광부의 마스크와 기판 소재 사이의 거리를 측정하는 갭 센서를 더 포함할 수 있다.The present invention may further include a gap sensor spaced apart from the lens barrel to measure a distance between the mask of the exposure unit and the substrate material.

또한, 본 발명은 상기 광각 보정 장치와, 상기 거울 후면에 형성된 엑츄에이터와, 상기 경통부의 상부 구멍을 통하여 하방으로 이동되는 광을 촬영한 카메라부로부터 이미지를 전송받아 상기 엑츄에이터를 작동시키는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치를 사용하는 노광 장치를 제공한다.The present invention also includes a control unit that receives the image from the camera unit that captures the light that is moved downward through the upper hole of the barrel unit and operates the actuator, The exposure apparatus using the wide-angle correction device.

상기 제어부는 엑츄에이터를 작동시켜 광이 수직면에 일치되게 경통부로 입사되도록 하여 경사각(D.A)과 조도를 보정할 수 있다.The controller may operate the actuator to correct the tilt angle (D.A) and illuminance by allowing the light to be incident on the lens barrel in the vertical direction.

본 발명은 상기 광각 보정 장치가 장착된 이동프레임을 더 포함할 수 있다.The present invention may further include a moving frame equipped with the wide angle correction device.

상기 이동프레임은 기재부재와, 상기 기재부재의 상부에 형성된 리니어 모터에 의해 이동되도록 형성된 제1방향 이동부재와, 상기 제1방향 이동부재에 거치되도록 형성되는 상부지지부재와, 상기 상부지지부재에 형성된 리니어 모터에 의해 이동되도록 형성된 제2방향 이동부재 및, 상기 제2방향 이동부재에 형성되는 광각 보정 장치를 포함하며, 상기 제1방향 이동부재와 제2방향 이동부재는 서로 각질 수 있다.The movable frame includes a base member, a first direction-moving member formed to be moved by a linear motor formed on an upper portion of the base member, an upper support member configured to be mounted on the first direction-moving member, A second direction moving member configured to be moved by the linear motor formed, and a wide angle correcting device formed on the second direction moving member, wherein the first direction moving member and the second direction moving member can be angled with each other.

한편, 본 발명은 상기 광각 보정 장치와 평면거울 및 제어부를 포함하는 노광 장치를 이용하여 노광이 이루어지는 영역에 대한 광각 보정을 진행하는 제1단계와, 상기 제1단계를 진행한 후에 제1단계를 통해 진행된 엑츄에이터의 작동 평균값을 구하는 과정인 제2단계 및, 제2단계를 거친 후에 진행되는 작동 평균값에 따라서 엑츄에이터를 작동시키는 과정인 제3단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치를 사용하는 광각 보정 방법도 제공한다.
In the meantime, the present invention may include a first step of performing a wide angle correction on an area where exposure is performed using the exposure apparatus including the wide angle correction apparatus, the planar mirror, and the control unit; And a third step of operating the actuator in accordance with the operation average value after the second step and a third step of operating the actuator according to the operation average value obtained after the second step. A calibration method is also provided.

본 발명의 실시례에 따르면 다음과 같은 효과가 발생된다.According to the embodiment of the present invention, the following effects are produced.

첫째, 광각 보정 장치와 제어부 및 평면거울의 엑츄에이터를 작동시켜 경사각(D.A)을 0도가 되도록 조절할 수 있다.First, it is possible to adjust the inclination angle (D.A) to be 0 degree by operating the actuator of the wide angle correcting device, the control part and the plane mirror.

둘째, 제어부는 조도센서에 의해 전달된 조도 정보에 따라서 엑츄에이터를 작동시켜 조도를 조절할 수 있다.Secondly, the controller can control the illuminance by operating the actuator according to the illuminance information transmitted by the illuminance sensor.

셋째, 마스크 얼라인 카메라부와 갭센서를 광각 보정 장치에 일체로 형성하여 작업 효율을 향상시킬 수 있다.Third, the mask alignment camera part and the gap sensor can be integrally formed in the wide-angle correction device, thereby improving the working efficiency.

넷째, 광각 보정 장치는 이동프레임 구조를 통하여 수평방향으로 다양한 위치로 이동될 수 있어 효과적인 광각 보정을 진행할 수 있다.Fourth, the wide-angle correction device can be moved to various positions in the horizontal direction through the moving frame structure, so that an effective wide-angle correction can be performed.

다섯째, 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치를 포함하는 근접 노광 장치의 광각 보정 방법은 한 번의 노광이 이루어지는 영역에 대한 최적의 광각 보정을 형성할 수 있다.
Fifth, the wide-angle correction method of the near-field exposure apparatus including the wide-angle correction apparatus according to the embodiment of the present invention can form an optimal wide-angle correction for a region where one exposure is performed.

도 1은 근접 노광 장치를 나타내는 개략도.
도 2는 도 1의 A부분을 확대한 개략도.
도 3은 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치가 평면거울과 노광부 사이에 위치된 상태를 나타내는 개략도.
도 4는 도 3의 광각 보정 장치를 확대한 개략도.
도 5는 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치가 적용되는 것을 나타내는 개략도.
도 6은 광각 보정 과정을 나타내는 경통부 내측 하면의 확대도.
도 7은 광각 보정 장치의 변형례를 나타내는 사시도.
도 8은 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치가 장착된 이동프레임 구조를 나타내는 개략사시도.
도 9는 마스크에 형성된 격자 무늬에서 광각 보정 장치가 작용되는 것을 설명하기 위한 개략도.
도 10은 본 발명의 실시례인 근접 노광 장치의 광각 보정 방법을 나타내는 순서도.1 is a schematic view showing a proximity exposure apparatus;
2 is an enlarged schematic view of part A of Fig.
3 is a schematic view showing a state in which the wide-angle correction device according to the embodiment of the present invention is positioned between a plane mirror and an exposure part;
FIG. 4 is an enlarged view of the wide angle correction device of FIG. 3; FIG.
Fig. 5 is a schematic view showing that a wide-angle correction device, which is an embodiment of the present invention, is applied. Fig.
6 is an enlarged view of the inner bottom surface of the barrel section showing the wide angle correction process.
7 is a perspective view showing a modification of the wide angle correction device.
8 is a schematic perspective view showing a movable frame structure equipped with a wide angle correcting device, which is an embodiment of the present invention.
9 is a schematic view for explaining the operation of the wide-angle correction device in the grid pattern formed in the mask;
10 is a flowchart showing a method for correcting a wide angle of a near-field exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하 본 발명의 실시례에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다. 다만, 첨부된 도면은 본 발명의 내용을 보다 쉽게 개시하기 위하여 설명되는 것일 뿐, 본 발명의 범위가 첨부된 도면의 범위로 한정되는 것이 아님은 이 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 용이하게 알 수 있을 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It is to be understood, however, that the appended drawings illustrate the present invention in order to more easily explain the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto. You will know.

그리고, 본 실시례를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략하기로 한다.In describing the present embodiment, the same designations and the same reference numerals are used for the same components, and further description thereof will be omitted.

또한, 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시례를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Also, the terms used in the present application are used only to illustrate specific embodiments and are not intended to limit the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the terms "comprises" or "having" and the like are used to specify that there is a feature, a number, a step, an operation, an element, a component or a combination thereof described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

도 1은 근접 노광 장치를 나타내는 개략도이고, 도 2는 도 1의 A부분을 확대한 개략도이다.Fig. 1 is a schematic view showing a near-field exposure apparatus, and Fig. 2 is a schematic view showing an enlarged view of a portion A in Fig.

본 발명의 실시례인 근접 노광 장치(100)는 도 1과 같이 광을 조사하는 광원부(110)와, 상기 광원부(110)로부터 조사된 광을 반사하는 오목거울(120)과, 상기 오목거울(120)을 통해 반사된 광을 반사하는 평면거울(130) 및 상기 평면거울(130)에서 반사된 광이 전달되는 노광부(140)를 포함한다.As shown in FIG. 1, the near-field exposure apparatus 100 according to the embodiment of the present invention includes a light source 110 for emitting light, a concave mirror 120 for reflecting the light emitted from the light source 110, A plane mirror 130 for reflecting the light reflected by the plane mirror 130 and an exposure unit 140 for transmitting the light reflected from the plane mirror 130.

상기 오목거울(120)은 광원부(110)로부터 전달되는 광을 모아서 평면거울(130)의 형상에 부합되게 전달하는 기능을 수행한다.The concave mirror 120 collects the light transmitted from the light source 110 and transmits the collected light to match the shape of the plane mirror 130.

그리고 평면거울(130)은 오목거울(120)로부터 전달된 광을 노광부(140)의 마스크(142)에 조사하는 기능을 수행한다.The plane mirror 130 functions to irradiate the mask 142 of the exposure unit 140 with the light transmitted from the concave mirror 120.

종래의 평면거울은 후방에 엑츄에이터가 형성되어 있지 않고 볼트 형태의 고정형 부재가 형성되어 있어 평면거울을 통하여 마스크로 전달되는 광이 수직면과 사이에 경사각(Declination angle)을 발생시키는 경우에 수작업을 통하여 볼트를 조이는 방식으로 조절되었다.In the conventional planar mirror, when an actuator is not formed at the rear but a fixed member of a bolt type is formed, and the light transmitted to the mask through the plane mirror generates a declination angle between the vertical plane and the vertical plane, In the same manner.

그러나, 본 발명의 실시례에서 사용되는 평면거울(130)은 도 2와 같이 두께가 얇은 박막형이며, 후면에 복수개의 엑츄에이터(132)가 장착되어 평면거울(130)의 일부분을 각각 조절할 수 있다.However, the planar mirror 130 used in the embodiment of the present invention is thin as a thin film as shown in FIG. 2, and a plurality of actuators 132 can be mounted on the rear surface to adjust a part of the planar mirror 130, respectively.

이를 통하여 평면거울(130)은 전체 형상이 미세하게 변화되면서 반사되는 광의 경로를 조절한다.Through this, the planar mirror 130 adjusts the path of the reflected light while finely changing the overall shape.

따라서, 도 2와 같이 평면거울(130)을 통해서 반사되어 마스크(142)에 도달되는 광이 수직면과 일치되지 않아 수직면과 사이에 경사각(D.A: Declination angle)(θ)이 형성되는 경우에 엑츄에이터(132)를 통하여 평면거울(130)을 조절하여 수직면과의 경사각(θ)이 발생되지 않도록 조절될 수 있다.
2, the light reflected by the plane mirror 130 and reaching the mask 142 does not coincide with the vertical plane, so that when a declination angle (DA) is formed between the plane and the vertical plane, 132 to adjust the plane mirror 130 so that the inclination angle with respect to the vertical plane does not occur.

도 3은 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치가 평면거울과 노광부 사이에 위치된 상태를 나타내는 개략도이고, 도 4는 도 3의 광각 보정 장치를 확대한 개략도이다.FIG. 3 is a schematic view showing a state in which the wide-angle correction apparatus according to the embodiment of the present invention is positioned between a plane mirror and an exposure unit, and FIG. 4 is an enlarged view of the wide- angle correction apparatus in FIG.

본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)는 마스크(142)가 대형면적이고, 분할 노광이 실시되는 경우에 사용되며, 각 분할 노광 위치에서 평면거울(130)과 노광부(140) 사이에 위치된다.The wide angle correction device 160 according to the embodiment of the present invention is used when the mask 142 is a large area and is subjected to the divisional exposure and is provided between the plane mirror 130 and the exposure unit 140 at each divided exposure position .

좀 더 자세히 설명하면, 광각 보정 장치(160)는 평면거울(130) 아래에서 마스크(142)의 상면에 근접하게 위치된다.More specifically, the wide angle correction device 160 is positioned close to the top surface of the mask 142 below the planar mirror 130.

이 상태에서 도 3과 같이 광은 평면거울(130)에 반사되어 광각 보정 장치(160)로 전달된다.In this state, as shown in FIG. 3, the light is reflected on the plane mirror 130 and transmitted to the wide angle correction device 160.

본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)는 원통형상이며 상부 중심에 수직방향으로 구멍(164)이 형성되어 있는 경통부(162)와, 상기 경통부(162)의 둘레에 형성되어 경통 내측 하면을 관측할 수 있는 카메라부(166) 및 경통부(162)의 하부 둘레에 형성되는 조도센서(168)를 포함한다.The wide angle correcting apparatus 160 according to an embodiment of the present invention includes a barrel portion 162 having a cylindrical shape and having a hole 164 formed in a direction perpendicular to the center of the upper portion of the barrel portion 162. The barrel portion 162 is formed around the barrel portion 162, And an illuminance sensor 168 formed around the lower portion of the camera section 166 and the barrel section 162 that can be observed.

상기 경통부(162)의 하면은 막힌 상태이며 하면의 평평한 바닥 중심에는 상기 상부에 형성된 구멍(164)과 동일 수직선상에 위치하는 수직핀(169)이 형성된다.The lower surface of the lens barrel 162 is closed and a vertical pin 169 located on the same vertical line as the hole 164 formed in the upper portion is formed in the flat bottom center of the lower surface.

그리고 상기 수직핀(169)의 주위는 수직핀(169)을 중심으로 해서 일정 간격으로 형성된 동심원(171)이 복수개 형성된다.Around the vertical pin 169, a plurality of concentric circles 171 formed at regular intervals around the vertical pin 169 are formed.

경통부(162)의 내측은 광이 이동되는 경로이며, 밀폐된 암실형태로 광의 진행을 용이하게 관찰할 수 있도록 형성된다.The inner side of the lens barrel 162 is a path through which the light is moved, and is formed so as to easily observe the progress of the light in the form of a closed darkroom.

상기 카메라부(166)는 경통부(162)의 내측 하면을 관찰할 수 있도록 장착되어 광이 경통부(162)의 내측 하면에 도달된 상태를 촬영한 후 촬영된 이미지를 근접 노광 장치(100)에 형성된 제어부(180)에 전송한다.The camera unit 166 is installed so as to observe the inner bottom surface of the barrel unit 162 and photographs a state where the light reaches the inner bottom surface of the barrel unit 162, To the control unit 180.

상기 조도센서(168)는 경통부(162)의 내측 하면에 도달된 광의 조도를 감지한 후 감지 결과를 제어부(180)에 전달한다.The illuminance sensor 168 senses the illuminance of the light reaching the inner bottom surface of the barrel section 162 and transmits the detection result to the controller 180.

즉, 경통부(162)의 내측을 통하여 하면으로 도달되는 광의 경로가 수직면과 일치하지 않고 경사진 경우에 수직면과 일치하는 경우를 기준으로 조도가 변화됨으로 조도센서(168)는 이를 감지하여 제어부(180)에 전달하는 것이다.That is, when the path of the light reaching the lower surface through the inside of the lens barrel 162 does not coincide with the vertical surface and the light path is inclined, the illuminance is changed based on the case where the path is coincident with the vertical surface. ).

도 5는 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치가 적용되는 것을 나타내는 개략도이고, 도 6은 광각 보정 과정을 나타내는 경통부 내측 하면의 확대도이다.FIG. 5 is a schematic view showing a wide angle correcting apparatus to which the present invention is applied, and FIG. 6 is an enlarged view of a medial lower face showing a wide angle correcting process.

광(a)이 경통부(162)의 상부 구멍(164)을 통하여 하방으로 이동되어 광의 중심이 수직핀(169)에 정확하게 도달하는 경우에는 평면거울을 통하여 마스크에 도달될 광이 수직면과 일치된 경우이므로 경사각(D.A), 조도의 조절이 필요없다.When the light a is moved downward through the upper hole 164 of the lens barrel 162 so that the center of the light reaches the vertical pin 169 exactly and the light to reach the mask through the plane mirror coincides with the vertical plane It is not necessary to adjust the inclination angle (DA) and the illuminance.

그러나, 광(b)이 경통부(162)의 상부 구멍(164)을 통하여 하방으로 이동될 때, 광의 중심이 수직핀(169)에 도달하지 않고 수직핀(169)에서 일정거리 이격된 위치에 도달한 경우에는 카메라부(166)가 이를 촬영하여 제어부(180)에 전송하고 제어부(180)는 평면거울(130)의 엑츄에이터(132)를 작동시켜 도 6과 같이 광의 중심이 화살표(501) 방향으로 이동되어 수직핀(169)의 중심에 오도록 조절한다.However, when the light b is moved downward through the upper hole 164 of the barrel portion 162, the center of the light does not reach the vertical pin 169 and reaches a position spaced a certain distance from the vertical pin 169 The camera unit 166 photographs the same and transmits the same to the control unit 180. The control unit 180 operates the actuator 132 of the plane mirror 130 to rotate the center of the light in the direction of the arrow 501 And is adjusted to come to the center of the vertical pin 169.

이를 통하여 경사각(D.A)은 0도가 되며, 조도센서(168)에서 감지되는 조도 또한 일정하게 된다.Through this, the inclination angle D.A becomes 0 degree, and the illuminance sensed by the illuminance sensor 168 becomes also constant.

이를 통하여 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)는 광의 진행경로를 정확히 파악하여 제어할 수 있는 효과가 발생된다.As a result, the wide angle correcting device 160, which is an embodiment of the present invention, has the effect of accurately grasping and controlling the light traveling path.

도 7은 광각 보정 장치의 변형례를 나타내는 사시도이다.7 is a perspective view showing a modification of the wide angle correction device.

본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)는 도 7과 같이 경통부(162)와 이격되어 수직 하방을 촬영할 수 있도록 형성된 마스크 얼라인 카메라부(190)와, 마스크(142)와 기판 소재(144) 사이의 거리를 측정하는 갭(GAP)센서(192)를 추가로 포함한다.The wide angle correcting apparatus 160 according to an embodiment of the present invention includes a mask aligning camera unit 190 formed to be capable of photographing vertically downward from the barrel portion 162 as shown in FIG. 7, a mask 142 and a substrate material 144 And a gap (GAP) sensor 192 for measuring the distance between the electrodes.

상기 마스크 얼라인 카메라부(190)는 마스크(142)에 형성된 일정 지점과 상기 일정 지점에 대응되도록 기판 소재(144)에 형성된 대응 지점이 수직면상에서 일치되는지 확인하는 기능을 수행한다.The mask alignment camera unit 190 performs a function of checking whether a corresponding point formed on the substrate material 144 corresponds to a certain point formed on the mask 142 and the predetermined point on a vertical plane.

상기 갭센서(192)는 마스크(142)와 기판 소재(144) 사이의 간격을 측정하는 기능을 수행한다.The gap sensor 192 functions to measure the distance between the mask 142 and the substrate material 144.

본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)를 통하여 광각 보정을 하기 전에 마스크 얼라인 카메라부(190)와 갭센서(192)를 통하여 파악된 정보에 의해 필요한 조정작업이 진행된다.Necessary adjustment work is carried out by the information obtained through the mask alignment camera unit 190 and the gap sensor 192 before performing the wide angle correction through the wide angle correction apparatus 160 which is an embodiment of the present invention.

즉, 마스크 얼라인 카메라부(190)에 의해 파악된 마스크(142)에 형성된 일정 지점과 상기 일정 지점에 대응되도록 기판 소재(144)에 형성된 대응 지점이 수직면상에서 일치되지 않는 경우에는 제어부는 기판 소재(144)의 위치를 교정하여 마스크(142)에 형성된 일정 지점과 상기 일정 지점에 대응되도록 기판 소재(144)에 형성된 대응 지점이 수직면상에서 일치되도록 한다.That is, when a certain point formed on the mask 142 detected by the mask alignment camera unit 190 and a corresponding point formed on the substrate material 144 corresponding to the certain point do not coincide on the vertical plane, And the corresponding points formed on the substrate material 144 are aligned on the vertical plane so as to correspond to the predetermined points.

그리고 갭센서(192)에 의해 파악된 마스크(142)와 기판 소재(144) 사이의 간격이 기준치를 벗어난 경우에 제어부는 기판 소재(144)의 높이를 교정하여 마스크(142)와 기판 소재(144) 사이의 간격이 기준치에 위치되도록 한다.When the gap between the mask 142 and the substrate material 144 detected by the gap sensor 192 deviates from the reference value, the control unit corrects the height of the substrate material 144 so that the mask 142 and the substrate material 144 Is positioned at the reference value.

따라서, 마스크 얼라인 카메라부(190)와 갭센서(192)를 별도로 장착하는 경우보다 광각 보정 장치(160)에 일체로 형성하여 작업 효율을 향상시킬 수 있다.Therefore, it is possible to improve the working efficiency by integrally forming the mask alignment camera unit 190 and the gap sensor 192 in the wide angle correction device 160 as compared with the case where the mask alignment camera unit 190 and the gap sensor 192 are separately mounted.

도 8은 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치가 장착된 이동프레임 구조를 나타내는 개략사시도이다.8 is a schematic perspective view showing a movable frame structure equipped with a wide angle correcting device, which is an embodiment of the present invention.

본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)가 장착된 이동프레임(300) 구조는 서로 나란히 일정간격 이격되어 형성되는 2개의 기재부재(312, 314)와, 상기 2개의 기재부재(312, 314) 각각의 상부에 형성된 리니어 모터(315)에 의해 기재부재(312, 314)가 위치된 방향을 따라 이동되도록 형성된 2개의 제1방향 이동부재(322, 324)와, 상기 제1방향 이동부재(322, 324)들의 양측단 사이에 거치되도록 형성되는 2개의 상부지지부재(342, 344)와, 상기 2개의 상부지지부재(342, 344) 각각에 형성된 리니어 모터(317)에 의해 상부지지부재(342, 344)가 위치된 방향을 따라 이동되도록 형성된 2개의 제2방향 이동부재(352, 354) 및, 상기 제2방향 이동부재(352, 354)의 양단에 각각 형성되는 광각 보정 장치(160)를 포함한다.The structure of the moving frame 300 on which the wide angle correcting device 160 of the present invention is mounted includes two base members 312 and 314 spaced apart from each other by a predetermined distance and two base members 312 and 314 Two first direction-moving members 322 and 324 which are formed so as to move along the direction in which the base member 312 and 314 are positioned by the linear motor 315 formed on the upper portions of the first direction- Two upper support members 342 and 344 formed so as to be mounted between both side ends of the upper support members 322 and 324 and a linear motor 317 formed on each of the upper support members 342 and 344, Two second direction moving members 352 and 354 formed to move along the directions in which the first and second movable members 352 and 344 are positioned and a wide angle correcting device 160 formed at both ends of the second direction moving members 352 and 354, .

상기 제1방향 이동부재(322, 324)와 제2방향 이동부재(352, 354)는 서로 수직이며, 광각 보정 장치(160)는 이동프레임(300) 구조에 4개가 장착되어 리니어 모터(315, 317)에 의해 필요한 위치로 이동된다.The first direction-moving members 322 and 324 and the second direction-moving members 352 and 354 are perpendicular to each other and the wide angle correction device 160 is mounted on the structure of the moving frame 300, 317 to the required position.

본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)는 이동프레임(300) 구조를 통하여 수평방향으로 다양한 위치로 이동될 수 있어 효과적인 광각 보정을 진행할 수 있는 효과가 발생된다.The wide angle correcting apparatus 160 according to the embodiment of the present invention can be moved to various positions in the horizontal direction through the structure of the moving frame 300,

도 9는 마스크에 형성된 격자 무늬에서 광각 보정 장치가 작용되는 것을 설명하기 위한 개략도이다.9 is a schematic view for explaining the operation of the wide-angle correction device in the grid pattern formed in the mask.

도 9는 마스크(142)에 형성된 격자 무늬(142-1)에서 한 번의 노광이 이루어지는 영역을 나타내며, 각 격자 무늬(142-1)의 교차 지점(147, 148, 149)마다 보정되기 전의 광이 도달된 면적(147a, 148a, 149a)을 도시한 것이다.9 shows a region where a single exposure is made in the grid pattern 142-1 formed on the mask 142. Light before being corrected for each intersection point 147, 148, 149 of each grid pattern 142-1 And the areas 147a, 148a, and 149a reached.

각 격자 무늬(142-1)의 교차 지점(147, 148, 149)과 광의 도달 면적(147a, 148a, 149a) 중심이 일치하지 않는 경우에 엑츄에이터(132)를 이용하여 평면거울(130)을 조절한다.It is possible to control the plane mirror 130 using the actuator 132 when the centers of the light arrival areas 147a, 148a and 149a do not coincide with the intersection points 147, 148 and 149 of the respective grid patterns 142-1 do.

그리고 이동프레임(300) 구조를 통하여 한번에 4개의 교차 지점(147, 148, 151, 152)에서 광각 보정을 진행한 후 리니어 모터(315, 317)를 작동하여 경통부(162)를 다른 4개의 교차 지점으로 이동시킨 후에 광각 보정을 진행한다.After performing the wide angle correction at four intersection points 147, 148, 151 and 152 at a time through the structure of the movable frame 300, the linear motors 315 and 317 are operated to move the lens barrel portion 162 to the other four intersection points And then the wide angle correction is performed.

상기와 같은 광각 보정 과정을 진행하여 한 번의 노광이 이루어지는 영역에 대한 전체적인 광각 보정을 진행하는데, 하나의 교차 지점(147)에 대한 광각 보정이 이루어진 후 다른 교차 지점(149)에 대한 광각 보정시 엑츄에이터(132)에 의한 평면거울(130)의 형태는 변화될 수 밖에 없다.The wide angle correction for the one intersection point 147 is performed and the wide angle correction for the other intersection point 149 is performed after the wide angle correction for the one intersection point 147 is performed. The shape of the plane mirror 130 by the mirror 132 is inevitably changed.

따라서, 한 번의 노광이 이루어지는 영역에 대한 모든 지점에서 동시에 정확한 광각 보정이 형성되지는 못하기 때문에 최선의 광각을 확보하기 위해서 한 번의 노광이 이루어지는 영역에 속한 모든 지점에 대한 광각 보정을 진행하는 과정에서 각 엑츄에이터(132)의 작동 상황을 모니터링 한 후에 한 번의 노광이 이루어지는 영역에 대한 광각 보정이 진행된 데이터를 평균치하여 최종적인 광각 보정이 진행된다.Therefore, since accurate accurate wide angle correction can not be formed at the same time in all the areas where one exposure is performed, in order to secure the best wide angle, in the process of performing wide angle correction for all points belonging to the area where one exposure is performed After monitoring the operation state of each actuator 132, the data obtained by performing the wide angle correction on the area where one exposure is performed is averaged to progress the final wide angle correction.

도 10은 본 발명의 실시례인 근접 노광 장치의 광각 보정 방법을 나타내는 순서도이다.10 is a flowchart showing a method for correcting a wide angle of a near-field exposure apparatus, which is an embodiment of the present invention.

본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)를 사용하는 근접 노광 장치(100)의 광각 보정 방법은 상기 광각 보정 장치(160)와 평면거울(130) 및 제어부(180) 등을 포함하는 근접 노광 장치(100)를 이용하여 한 번의 노광이 이루어지는 영역에 대한 광각 보정을 진행하는 제1단계(S100)와, 상기 제1단계(S100)를 진행한 후에 제1단계(S100)를 통해 진행된 엑츄에이터(132)의 작동 평균값을 구하는 과정인 제2단계(S200) 및, 제2단계(S200)를 거친 후에 진행되는 작동 평균값에 따라서 엑츄에이터(132)를 작동시키는 과정인 제3단계(S300)를 포함한다.The method for correcting the wide angle of the near-field exposure apparatus 100 using the wide angle correcting apparatus 160 according to an embodiment of the present invention is a method for correcting the near-field exposure using the wide angle correcting apparatus 160, the planar mirror 130, A first step S100 of advancing a wide angle correction to an area where one exposure is performed using the apparatus 100 and a second step S100 of performing an operation of moving the actuator through the first step S100 after the first step S100 And a third step S300 of operating the actuator 132 in accordance with the operating average value after the second step S200 and the second step S200, .

상기와 같은 과정을 통하여 본 발명의 실시례인 광각 보정 장치(160)를 포함하는 근접 노광 장치(100)의 광각 보정 방법은 한 번의 노광이 이루어지는 영역에 대한 최적의 광각 보정을 형성하는 효과가 발생된다.
In the method of correcting the wide angle of the near-field exposure apparatus 100 including the wide angle correcting apparatus 160 according to the embodiment of the present invention, the effect of forming the optimal wide-angle correction for the area where one exposure is performed is generated do.

이상과 같이 본 발명에 따른 실시례를 살펴보았으며, 앞서 설명된 실시례 이외에도 본 발명이 그 취지나 범주에서 벗어남이 없이 다른 특정 형태로 구체화 될 수 있다는 사실은 해당 기술에 통상의 지식을 가진 이들에게는 자명한 것이다. 그러므로, 상술된 실시례는 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 여겨져야 하고, 이에 따라 본 발명은 상술한 설명에 한정되지 않고 첨부된 청구항의 범주 및 그 동등 범위 내에서 변경될 수도 있다.It will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the appended claims. . Therefore, the above-described embodiments are to be considered as illustrative rather than restrictive, and the present invention is not limited to the above description, but may be modified within the scope and equivalence of the appended claims.

100: 근접 노광 장치 110: 광원부
120: 오목거울 130: 평면거울
132: 엑츄에이터 140: 노광부
142: 마스크 160: 광각 보정 장치
162: 경통부 164: 구멍
166: 카메라부 180: 제어부100: proximity exposure apparatus 110: light source unit
120: concave mirror 130: flat mirror
132: Actuator 140:
142: mask 160: wide angle correction device
162: barrel 164: hole
166: camera unit 180:

Claims (11)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 노광 장치의 거울과 노광부 사이에 위치되며 상부에 구멍이 형성되어 있는 경통부와, 상기 경통부의 내측 하면을 관측할 수 있는 카메라부와, 상기 경통부의 하면에 형성되며, 상기 상부에 형성된 구멍과 동일 수직선상에 위치하는 수직핀과, 상기 경통부 둘레에 형성되는 조도센서와, 상기 경통부와 이격되어 노광부의 마스크와 기판 소재가 수직면상에서 일치되는지 촬영할 수 있도록 형성된 마스크 얼라인 카메라부와, 상기 경통부와 이격되어 노광부의 마스크와 기판 소재 사이의 거리를 측정하는 갭 센서를 포함하는 광각 보정 장치와,
상기 거울 후면에 형성된 엑츄에이터와,
상기 경통부의 상부 구멍을 통하여 하방으로 이동되는 광을 촬영한 카메라부로부터 이미지를 전송받아 상기 엑츄에이터를 작동시켜 광의 경사각을 보정하고, 상기 마스크 얼라인 카메라부와 갭 센서로부터 정보를 전송받아 상기 마스크와 기판 소재의 정렬 상태를 조정하는 제어부
를 포함하고, 광의 경사각 보정 기능 및 마스크와 기판 소재의 정렬 상태 조정 기능을 수행하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치를 사용하는 노광 장치.A lens barrel having an upper portion formed between the mirror and the exposure portion of the exposure apparatus, a camera portion capable of observing an inner bottom surface of the barrel portion, and a hole formed in the upper surface of the barrel portion, A mask aligning camera section formed so as to be able to take a photograph of whether the mask of the exposure section and the substrate material coincide with each other on a vertical plane, a vertical pin positioned on the vertical line, an illuminance sensor formed around the lens barrel section, And a gap sensor for measuring a distance between the mask of the exposure unit and the substrate material,
An actuator formed on the rear surface of the mirror,
And a controller for receiving the image from the camera unit that has received the light moving downward through the upper hole of the barrel unit and correcting the inclination angle of the light by operating the actuator to receive information from the mask alignment camera unit and the gap sensor, A control unit for adjusting the alignment state of the substrate material
And performs an inclination angle correcting function of the light and an alignment state adjusting function of the mask and the substrate material. 청구항 7에 있어서,
상기 제어부가 광의 경사각을 보정하도록 제어하는 경우,
상기 제어부는 상기 엑츄에이터를 작동시켜 광이 수직면에 일치되게 경통부로 입사되도록 하여 경사각(D.A)과 조도를 보정하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치를 사용하는 노광 장치.The method of claim 7,
When the control unit controls to correct the inclination angle of light,
Wherein the control unit corrects the inclination angle DA and the illuminance by operating the actuator so that the light is incident on the lens barrel in a state consistent with a vertical plane. 청구항 7에 있어서,
상기 광각 보정 장치가 장착된 이동프레임을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치를 사용하는 노광 장치.The method of claim 7,
Further comprising a moving frame on which the wide angle correction device is mounted. 청구항 9에 있어서,
상기 이동프레임은
기재부재와,
상기 기재부재의 상부에 형성된 리니어 모터에 의해 이동되도록 형성된 제1방향 이동부재와,
상기 제1방향 이동부재에 거치되도록 형성되는 상부지지부재와,
상기 상부지지부재에 형성된 리니어 모터에 의해 이동되도록 형성된 제2방향 이동부재 및,
상기 제2방향 이동부재에 형성되는 광각 보정 장치를 포함하며,
상기 제1방향 이동부재와 제2방향 이동부재는 서로 각진 것을 특징으로 하는 광각 보정 장치를 사용하는 노광 장치.The method of claim 9,
The moving frame
A base member;
A first direction-moving member configured to be moved by a linear motor formed on an upper portion of the base member,
An upper support member configured to be mounted on the first direction-moving member,
A second direction-moving member formed to be moved by a linear motor formed on the upper support member,
And a wide angle correction device formed on the second direction-moving member,
Wherein the first direction-moving member and the second direction-moving member are angled with respect to each other. 삭제delete
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