KR101715878B1 - Light screening device and manufacturing method thereof - Google Patents

Light screening device and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
KR101715878B1
KR101715878B1 KR1020090073359A KR20090073359A KR101715878B1 KR 101715878 B1 KR101715878 B1 KR 101715878B1 KR 1020090073359 A KR1020090073359 A KR 1020090073359A KR 20090073359 A KR20090073359 A KR 20090073359A KR 101715878 B1 KR101715878 B1 KR 101715878B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
roll
actuator
substrate
light shielding
light
Prior art date
Application number
KR1020090073359A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20100122833A (en
Inventor
김재흥
홍석우
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to US12/692,285 priority Critical patent/US8576469B2/en
Priority to EP10155823.7A priority patent/EP2251732B1/en
Publication of KR20100122833A publication Critical patent/KR20100122833A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101715878B1 publication Critical patent/KR101715878B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B9/00—Exposure-making shutters; Diaphragms
    • G03B9/08—Shutters
    • G03B9/28—Roller blind or flexible plate
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B11/00—Filters or other obturators specially adapted for photographic purposes
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B9/00—Exposure-making shutters; Diaphragms
    • G03B9/58—Means for varying duration of "open" period of shutter
    • G03B9/60—Means for varying duration of "open" period of shutter by varying speed of movement of obturating members

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)

Abstract

광 차폐 장치 및 그 제조 방법을 개시한다. 광 차폐 장치는 기판, 투명 전극, 복수 개의 롤업 액츄에이터, 및 광 차폐 패턴을 포함한다. 기판은 광이 통과하는 투광부를 구비하며, 이러한 기판의 일면에는 투명 전극이 형성되어 있다. 불투광 특성을 가지며 투광부의 바깥쪽에 고정되어 있는 복수 개의 롤업 액츄에이터 각각은 고정단과 이 고정단에 연장 형성된 가동부로 구성된다. 그리고 서로 인접한 롤업 액츄에이터 사이에는 간극이 형성되어 있는데, 이 간극에 대응하는 위치의 기판 상에는 광 차폐 패턴이 형성되어 있다. 광 차폐 패턴은 간극을 통해서 들어오는 빛이 투광부를 통과하지 못하도록 차단한다.A light shielding apparatus and a manufacturing method thereof are disclosed. The light shielding device includes a substrate, a transparent electrode, a plurality of roll-up actuators, and a light shielding pattern. The substrate has a transparent portion through which light passes, and a transparent electrode is formed on one surface of the substrate. Each of the plurality of roll-up actuators having an opaque characteristic and fixed to the outside of the light transmitting portion is constituted by a fixed end and a movable portion extending from the fixed end. A gap is formed between the roll-up actuators adjacent to each other, and a light shielding pattern is formed on the substrate at a position corresponding to the gap. The light shielding pattern blocks the light coming in through the gap from passing through the light transmitting portion.

카메라 모듈, 광 셔터, 롤업 액츄에이터 Camera module, optical shutter, roll-up actuator

Description

광 차폐 장치 및 그 제조 방법{Light screening device and manufacturing method thereof}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a light shielding device and a manufacturing method thereof,

본 명세서는 광학 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로 광 차폐 장치(light screening device)와 이를 제조하는 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present disclosure relates to optical devices, and more particularly to a light screening device and a method of manufacturing the same.

광 차폐 장치는 빛의 통과를 차단하는 장치를 총칭한다. 광 차폐 장치의 하나인 광 셔터(optical shutter)는 정해진 시간 동안만 빛이 통과되도록 하는 광학 장치이다. 예를 들어, 카메라 모듈에 구비되는 광 셔터는 카메라 렌즈를 통과하는 빛을 차단하거나 개방한다. 그리고 광 셔터의 동작 속도 및/또는 카메라 렌즈를 차단하는 면적(즉, 개방되는 카메라 렌즈의 면적)을 변화시킴으로써, 광 셔터는 이미지 센서로 광이 수신되는 시간 및/또는 수신되는 광량 등을 조절하는데 이용될 수 있다. 광 셔터 등과 같은 광 차폐 장치는 카메라 모듈 이외에도 일시적인 또는 영구적인 광 차폐 기능이나 또는 선택적인 광 차폐 기능이 요구되는 다른 광학 장치에도 이용될 수 있다.The light shielding device is collectively referred to as a device for blocking the passage of light. An optical shutter, which is one of the light shielding devices, is an optical device that allows light to pass through for a predetermined time. For example, the optical shutter provided in the camera module blocks or opens the light passing through the camera lens. By changing the operating speed of the optical shutter and / or the area of blocking the camera lens (i.e., the area of the camera lens being opened), the optical shutter adjusts the time and / or amount of light received by the image sensor Can be used. Optical shutters such as optical shutters and the like can be used in other optical devices that require temporary or permanent light shielding functions or selective light shielding functions in addition to camera modules.

광 셔터로는 기계적으로 작동하는 기계식 광 셔터와 전자식 광 셔터가 있다. 전자식 광 셔터는 이미지 센서의 온(on)/오프(off)를 제어함으로써, 이미지 센서가 빛을 수신하는 시간을 제어한다. 이러한 전자식 광 셔터는 회로적인 방법으로 동작을 하므로, 카메라 모듈의 크기에 제약이 있는 휴대용 디지털 카메라의 광 셔터로서 널리 이용되고 있다. 그런데 전자식 광 셔터는 카메라 모듈의 화소수가 증가하면서 이미지 끌림 현상이 나타나는 단점을 보이고 있다.Optical shutters include mechanically operated mechanical optical shutters and electronic optical shutters. The electronic optical shutter controls the time that the image sensor receives light by controlling the on / off of the image sensor. Since such an electronic optical shutter operates in a circuit manner, it is widely used as an optical shutter of a portable digital camera which is limited in the size of a camera module. However, the electronic optical shutter has a disadvantage in that image dragging phenomenon occurs as the number of pixels of the camera module increases.

최근 모바일 기기에 장착되는 디지털 카메라의 화소수가 높아 지면서, 기계적 광 셔터에 대한 관심이 다시 높아지고 있다. 디지털 카메라를 비롯하여 이를 구비한 전자 기기들이 소형화 및 박형화되고 있으므로, 기계적 광 셔터 또한 그 크기나 두께를 작게 하여 제조될 수 있어야 한다. 그리고 기계적 광 셔터가 닫혔을 때는 카메라 렌즈를 통과하는 빛이 완전히 차단될 수 있어야 할 뿐만 아니라, 개방되었을 때는 카메라 렌즈를 통과하는 빛을 간섭하지 않아야 한다. 뿐만 아니라, 고화질 및 고성능의 카메라 모듈을 지원하기 위해서는, 기계적 광 셔터는 아주 빠른 응답(셔터링) 속도를 지원할 수 있어야 한다. Recently, as the number of pixels of a digital camera mounted on a mobile device increases, interest in mechanical optical shutter is increasing again. Since digital cameras and electronic devices equipped with them are becoming smaller and thinner, mechanical optical shutters must also be manufactured with smaller sizes and thicknesses. In addition, when the mechanical light shutter is closed, the light passing through the camera lens must be completely blocked, and when it is opened, it should not interfere with the light passing through the camera lens. In addition, to support high-quality and high-performance camera modules, mechanical optical shutters must be able to support very fast response (shuttering) speeds.

그 크기와 두께를 작게 할 수 있고, 빠른 응답 속도를 지원하는 광 차폐 장치와 이를 제조하는 방법을 제공한다.A light shielding device capable of reducing the size and thickness thereof and supporting a fast response speed, and a method of manufacturing the same.

빛을 완전하게 차단시킬 수 있을 뿐만 아니라, 개방된 경우에는 충분한 양의 광이 통과될 수 있도록 하는 광 차폐 장치와 이를 제조하는 방법을 제공한다.The present invention provides a light shielding device capable of completely blocking light as well as allowing a sufficient amount of light to pass therethrough, and a method of manufacturing the same.

일 실시예에 따른 광 차폐 장치는 기판, 투명 전극, 복수 개의 롤업 액츄에이터, 및 광 차폐 패턴을 포함한다. 기판은 광이 통과하는 투광부를 구비하며, 이 투광부의 일면에는 투명 전극이 형성되어 있다. 불투광 특성을 갖는 복수 개의 롤업 액츄에이터 각각은 투광부의 바깥쪽에 고정되어서 투광부를 면적 분할하여 덮을 수 있도록 기판 상에 형성되어 있으며, 인접한 롤업 액츄에이터와 간극을 갖고 이격되어 있다. 그리고 광 차폐 패턴은 이 간극에 대응하는 위치의 기판 상에 간극의 수만큼 형성되어 있다.A light shielding apparatus according to an exemplary embodiment includes a substrate, a transparent electrode, a plurality of roll-up actuators, and a light shielding pattern. The substrate has a light transmitting portion through which light passes, and a transparent electrode is formed on one surface of the light transmitting portion. Each of the plurality of roll-up actuators having an opaque characteristic is fixed on the outside of the light-projecting portion and is formed on the substrate so as to cover the light-transmitting portion in a divided manner, and is spaced apart from the adjacent roll-up actuator. The light shielding pattern is formed by the number of gaps on the substrate corresponding to the gap.

다른 실시예에 따른 광 차폐 장치도 기판, 투명 전극, 복수 개의 롤업 액츄에이터, 및 광 차폐 패턴을 포함한다. 기판은 광이 통과하는 원형 또는 다각형의 투광부를 구비하며, 이 투광부의 일면에는 투명 전극이 형성되어 있다. 불투광 특성을 갖는 복수 개의 롤업 액츄에이터 각각은 투광부의 바깥쪽 둘레에 고정되어서 투광부의 중심에서 방사상으로 연장 형성되는 모양으로 투광부를 면적 분할하여 덮 을 수 있도록 기판 상에 형성되어 있으며, 인접한 롤업 액츄에이터와 간극을 갖고 이격되어 있다. 그리고 광 차폐 패턴은 이 간극에 대응하는 위치의 기판 상에 간극의 수만큼 형성되어 있다.The light shielding device according to another embodiment also includes a substrate, a transparent electrode, a plurality of roll-up actuators, and a light shielding pattern. The substrate has a circular or polygonal transparent portion through which light passes, and a transparent electrode is formed on one surface of the transparent portion. Each of the plurality of roll-up actuators having an opaque property is fixed on the outer periphery of the light-projecting portion and is formed on the substrate so as to cover the light-transmitting portion in an area radially extending from the center of the light- They are spaced apart with a gap. The light shielding pattern is formed by the number of gaps on the substrate corresponding to the gap.

또 다른 실시예에 따른 광 차폐 장치는 기판, 투명 전극, 및 롤업 액츄에이터를 포함한다. 기판은 광이 통과하는 투광부를 구비하며, 이 투광부의 일면에는 투명 전극이 형성되어 있다. 롤업 액츄에이터는 불투광 특성을 가지며, 투광부의 바깥쪽에 고정되어 투광부를 면적 분할하여 덮을 수 있도록 기판 상에 형성되어 있다. 그리고 롤업 액츄에이터는 가동부와 고정단으로 구성되는데, 고정단은 투광부의 바깥쪽에 고정되며, 가동부는 고정단쪽의 가동부의 일부가 이웃하는 롤업 액츄에이터의 가동부와 연결되어서, 롤업 액츄에이터가 구동될 때 이웃하는 롤업 액츄에이터와 연동되어 구동되도록 한다.A light shielding apparatus according to another embodiment includes a substrate, a transparent electrode, and a roll-up actuator. The substrate has a light transmitting portion through which light passes, and a transparent electrode is formed on one surface of the light transmitting portion. The roll-up actuator has an opaque characteristic and is formed on the substrate so as to be fixed to the outside of the transparent portion so that the transparent portion can be covered with an area. The roll-up actuator includes a movable portion and a fixed portion. The fixed portion is fixed to the outside of the transparent portion. The movable portion is connected to a movable portion of a roll-up actuator adjacent to a part of the movable portion of the fixed portion. So as to be driven in cooperation with the actuator.

일 실시예에 따른 광 차폐 장치의 제조방법에 의하면, 우선 일면에 투명 전극이 형성되고 또한 투광부를 갖는 기판을 준비한 다음, 이 기판의 일부 상에 희생층을 형성한다. 그리고 기판과 희생층 상에는 간극에 의하여 서로 이격되어 있는 복수 개의 롤업 액츄에이터를 형성한 다음, 이 간극에 의하여 노출되는 희생층을 식각한다. 계속해서, 이러한 희생층의 식각으로 노출되는 기판 상에는 광 차폐 패턴을 형성하며, 계속해서 잔류하는 희생층을 모두 제거한다.According to the method for manufacturing a light shielding device according to one embodiment, a substrate having transparent electrodes formed on one surface thereof and having a light transmitting portion is prepared, and then a sacrificial layer is formed on a part of the substrate. A plurality of roll-up actuators spaced apart from each other by a gap are formed on the substrate and the sacrifice layer, and then the sacrifice layer exposed by the gap is etched. Subsequently, a light shielding pattern is formed on the substrate exposed by the etching of this sacrificial layer, and all remaining sacrificial layers are removed.

광 차폐 장치는 적어도 롤업 액츄에이터의 가동부의 전부 또는 일부가 간극 에 의하여 복수 개로 분할되어 있어서, 광 차폐 동작 시에 내부의 공기가 간극을 통해 쉽게 유출될 수 있어서 빠른 셔터링 동작이 가능하다. 그리고 롤업 액츄에이터의 간극에 대응하는 위치에는 소정의 폭을 갖는 광 차폐 패턴이 형성되어 있으므로, 광 차폐 장치는 광을 완전히 차단할 수 있다. 또한, 롤업 액츄에이터의 고정단에 인접한 가동부는 간극 없이 인접한 롤렁 액츄에이터와 일체가 되도록 형성하여, 복수의 롤업 액츄에이터의 구동의 균일성을 향상시키고 셔터링 속도도 향상시킬 수 있다. At least the moving part of the roll-up actuator is divided into a plurality of parts by the clearance, so that the air inside can easily flow out through the gap during the light shielding operation, so that a fast shuttering operation is possible. Since the light shielding pattern having the predetermined width is formed at the position corresponding to the gap of the roll-up actuator, the light shielding device can completely block the light. Further, the movable portion adjacent to the fixed end of the roll-up actuator may be formed integrally with the adjacent rheel actuator without gaps, thereby improving the uniformity of driving of the plurality of roll-up actuators and improving the shuttering speed.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다. 사용되는 용어들은 실시예에서의 기능을 고려하여 선택된 용어들로서, 그 용어의 의미는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 후술하는 실시예들에서 사용된 용어의 의미는, 본 명세서에 구체적으로 정의된 경우에는 그 정의에 따르며, 구체적인 정의가 없는 경우는 당업자들이 일반적으로 인식하는 의미로 해석되어야 할 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The terms used are terms selected in consideration of the functions in the embodiments, and the meaning of the terms may vary depending on the user, the intention or custom of the operator, and the like. Therefore, the meaning of the terms used in the following embodiments is defined according to the definition when specifically defined in this specification, and unless otherwise defined, it should be interpreted in a sense generally recognized by those skilled in the art.

도 1 및 도 2는 일 실시예에 따른 광 차폐 장치(100)의 구성을 보여 주는 사시도이다. 도시된 광 차폐 장치(100)는 그 자체가 하나의 광 차폐 장치이거나 또는 다른 광 차폐 장치의 일부일 수도 있다(도 4 참조). 도 1은 광 차폐 장치(100)가 구동되어 광을 차단시키는 상태를 도시한 사시도로서, 설명의 편의를 위하여 기 판(110)과 롤업 액츄에이터(130)를 분리하여 도시하였다. 그리고 도 2는 도 1의 광 차폐 장치가 광을 통과시키는 상태를 도시한 사시도이다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 광 차폐 장치(100)는 기판(110), 투명 전극(120), 롤업 액츄에이터(130), 및 광 차폐 패턴(140)을 포함한다.1 and 2 are perspective views showing the configuration of a light shielding apparatus 100 according to an embodiment. The illustrated light-shielding apparatus 100 itself may be one light-shielding apparatus or a part of another light-shielding apparatus (see FIG. 4). FIG. 1 is a perspective view illustrating a state in which the light shielding apparatus 100 is driven to block light, and the substrate 110 and the roll-up actuator 130 are shown separately for convenience of explanation. And FIG. 2 is a perspective view showing a state in which the light shielding device of FIG. 1 passes light. 1 and 2, the light shielding apparatus 100 includes a substrate 110, a transparent electrode 120, a roll-up actuator 130, and a light shielding pattern 140.

기판(110)은 투광부(110a)를 갖는다. 투광부(110a)는 롤업 액츄에이터(130)가 위로 말려 있는 상태(도 2 참조)에서 빛이 통과하지만, 롤업 액츄에이터(130)가 구동되어서 펴지면 이에 의해서 가려지는 기판(110)의 일 부분이다. 예를 들어, 광 차폐 장치(100)가 카메라 모듈의 광 셔터인 경우에, 기판(110)의 투광부(110a)는 렌즈의 위치에 대응하며, 투광부(110a)를 통과한 광은 렌즈를 거쳐서 이미지 센서에서 수신된다. 투광부(110a)의 형태는 특별한 제한이 없으며, 사각형, 원형, 타원형, 다각형 등이 될 수 있다. 도시하지는 않았지만, 투광부(110a)의 외측에는 기판(110)을 통해 빛이 통과하지 못하도록 하는 불투명부가 존재할 수 있다.The substrate 110 has a transparent portion 110a. The transparent portion 110a passes through the roll-up actuator 130 in a state in which the roll-up actuator 130 is curled upward (see FIG. 2), but is a portion of the substrate 110 that is blocked by the roll-up actuator 130 when the roll-up actuator 130 is driven. For example, when the light shielding apparatus 100 is an optical shutter of a camera module, the light projecting portion 110a of the substrate 110 corresponds to the position of the lens, and the light passing through the light projecting portion 110a is a lens And is received by the image sensor. The shape of the transparent portion 110a is not particularly limited, and may be a square, a circle, an ellipse, a polygon, or the like. Although not shown, an opaque portion for preventing light from passing through the substrate 110 may exist on the outer side of the transparent portion 110a.

기판(110)은 전체가 투명한 재질로 형성되거나 또는 적어도 투광부(110a)를 포함하는 일부 영역만 투명한 재질로 형성될 수도 있다. 기판(110)은 유리 기판일 수 있으나 여기에만 한정되는 것은 아니며, 투명한 다른 물질, 예컨대 석영, 플라스틱, 또는 실리카 등의 물질로 형성될 수도 있다.The substrate 110 may be formed of a transparent material as a whole, or may be formed of a transparent material only at least in a partial area including the transparent portion 110a. The substrate 110 may be a glass substrate, but is not limited thereto, and may be formed of a transparent material such as quartz, plastic, or silica.

기판(110)의 일면 상에는 투명 전극(120)이 형성된다. 투명 전극(150)은 투명한 전도성 물질, 예컨대 ITO(Indium Tin Oxide)나 ZnO, SnO2, 탄소나노튜브(CNT), 전도성 폴리머(conductive polymer) 등으로 형성될 수 있다. 투명 전극(120)은 구 동 전원에 연결되어서 광 차폐 장치(100), 보다 구체적으로는 롤업 액츄에이터(130)를 구동하는 힘을 발생시키기 위한 것이다. A transparent electrode 120 is formed on one surface of the substrate 110. The transparent electrode 150 may be formed of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO), ZnO, SnO 2 , carbon nanotubes (CNT), or a conductive polymer. The transparent electrode 120 is connected to a driving power source to generate a force for driving the light-shielding apparatus 100, more specifically, the roll-up actuator 130.

투명 전극(120)은 투광부(110a) 전체에 걸쳐서 형성되거나 또는 투광부(110a) 내에서 소정의 패턴을 갖는 형상으로 형성될 수 있다. 구동력의 크기를 증가시켜서 광 차폐 장치(100)가 신속하게 구동될 수 있도록, 투명 전극(120)은 기판(110)의 투광부(110a)에 대응하는 전 영역에 걸쳐서 형성될 수 있다. 하지만, 본 실시예가 여기에만 한정되는 것은 아니며, 투명 전극(120)은 투광부(110a)의 일부 영역에만 형성되거나 또는 투광부(110a)와 그 주변 영역에 걸쳐서 형성될 수도 있다.The transparent electrode 120 may be formed over the entire transparent portion 110a or may have a predetermined pattern in the transparent portion 110a. The transparent electrode 120 may be formed over the entire region corresponding to the transparent portion 110a of the substrate 110 so that the light shielding apparatus 100 can be quickly driven by increasing the driving force. However, the present embodiment is not limited thereto, and the transparent electrode 120 may be formed only in a part of the transparent portion 110a, or may extend over the transparent portion 110a and its peripheral region.

롤업 액츄에이터(130)는 투명 전극(120)과의 사이에 구동 전압(Vd)이 가해지지 않으면 위로 말려 있는 상태로 존재한다(도 2 참조). 이 상태에서는 적어도 기판(110)의 투광부(110a)는 노출되며, 외부로부터 입사되는 광은 투광부(110a)를 통과할 수 있다. 반면, 구동 전압(Vd)이 인가되면, 롤업 액츄에이터(130)는 펴져 있는 상태가 된다(도 1 참조). 이 상태에서는 기판(110)의 투광부(110a)는 롤업 액츄에이터(130)에 의하여 가려지며, 외부로부터 입사되는 광은 차단된다.The roll-up actuator 130 is in a state of being rolled up (see FIG. 2) unless a driving voltage V d is applied between the roll-up actuator 130 and the transparent electrode 120. In this state, at least the transparent portion 110a of the substrate 110 is exposed, and the light incident from the outside can pass through the transparent portion 110a. On the other hand, when the driving voltage Vd is applied, the roll-up actuator 130 is in an extended state (see Fig. 1). In this state, the transparent portion 110a of the substrate 110 is blocked by the roll-up actuator 130, and light incident from the outside is blocked.

롤업 액츄에이터(130)는 복수 개의 집합으로 구성되어 있다. 도 1 및 도 2에 도시된 롤업 액츄에이터(130)의 개수는 예시적인 것이다. 각각의 롤업 액츄에이터(130)는 고정단(130a)에 의하여 고정되는데, 도시된 바와 같이 기판(110)의 일측(투광부(110a)의 바깥쪽)에 고정될 수 있다. 또는, 고정단(130a)은 스페이서(도 시하지 않음) 등과 같은 투광부(110a)의 바깥에 위치한 다른 구조물에 고정이 될 수도 있다. 고정단(130a)을 제외한 롤업 액츄에이터(130)의 나머지 부분은 구동 전압에 따라서 펴지거나 또는 위로 말리는 가동부(130b)이다.The roll-up actuators 130 are composed of a plurality of sets. The number of roll-up actuators 130 shown in Figures 1 and 2 is exemplary. Each of the roll-up actuators 130 is fixed by a fixed end 130a, and may be fixed to one side of the substrate 110 (outside the light-projecting portion 110a) as shown in the figure. Alternatively, the fixed end 130a may be fixed to another structure located outside the transparent portion 110a, such as a spacer (not shown) or the like. The remaining portion of the roll-up actuator 130 excluding the fixed end 130a is a movable portion 130b which is expanded or curled up in accordance with the driving voltage.

각각의 롤업 액츄에이터(130)는 적어도 적층된 2개의 박막 패턴(132, 134)을 포함한다. 예를 들어, 복수의 롭업 액츄에이터(130)들 각각은 절연층(132)과 그 상부에 적층되어 있는 전극층(134)을 포함할 수 있다. 롤업 액츄에이터(130)는 전체적으로 불투광 특성을 가지므로, 절연층(132)이나 전극층(134) 중에서 적어도 하나는 불투명한 재질의 물질로 형성된다. 절연층(132)은 실리콘 산화물(SiO2), 실리콘 질화물(Si3N4) 등과 같은 절연 물질로 형성되고, 전극층(132)은 크롬(Cr), 알루미늄(Al), 금(Au), 몰리브덴(Mo), 구리(Cu) 등과 같은 불투명 금속으로 형성될 수 있다.Each of the roll-up actuators 130 includes at least two thin film patterns 132, 134 stacked. For example, each of the plurality of row-up actuators 130 may include an insulating layer 132 and an electrode layer 134 stacked thereon. Since the roll-up actuator 130 has an opaque property as a whole, at least one of the insulating layer 132 and the electrode layer 134 is formed of an opaque material. The insulating layer 132 may be formed of an insulating material such as silicon oxide (SiO 2 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), or the like, and the electrode layer 132 may be formed of Cr, Al, Au, (Mo), copper (Cu), or the like.

그리고 구동력이 인가되지 않으면 롤업 액츄에이터(130)의 가동부(130b)가 위로 말려 있는 상태를 유지할 수 있도록, 절연층(132)과 전극층(134)은 서로 다른 잔류 응력(residual stress)을 가지도록 형성될 수 있다. 보다 구체적으로, 전극층(134)은 인장 잔류 응력을 갖도록 형성될 수 있다. 그리고 절연층(132)은 압축 잔류 응력을 갖거나, 잔류 응력을 갖지 않거나, 또는 인장 잔류 응력을 갖지만 전극층(134)보다 그 크기가 작은 인장 잔류 응력을 갖도록 형성될 수 있다. If the driving force is not applied, the insulating layer 132 and the electrode layer 134 are formed so as to have different residual stresses so that the movable portion 130b of the roll-up actuator 130 can be kept curled up. . More specifically, the electrode layer 134 may be formed to have a tensile residual stress. The insulating layer 132 may be formed to have a tensile residual stress that has a compressive residual stress, does not have residual stress, or has a tensile residual stress but is smaller in size than the electrode layer 134.

이러한 전극층(134)과 절연층(132) 사이의 잔류 응력 차이에 의하여, 구동 전압이 인가되지 않으면 롤업 액츄에이터(130)의 가동부(130b)는 말려 있는 상태가 된다. 반면, 구동 전압이 인가되어 투명 전극(120)과 롤업 액츄에이터(130), 보다 구체적으로 전극층(134) 사이에 소정의 구동력(인력)이 작용하면, 롤업 액츄에이터(130)의 가동부(130b)는 펴져서 기판(110)의 투광부(110a)를 가린다. 구동력은 투명 전극(120)과 전극층(134) 사이에 작용하는 정전력에 한정되지 않는다. 예를 들어, 전극층(134) 대신에 압전 구동 패턴이 추가로 형성되는 경우에는 정전력 외에도 압전 구동력도 롤업 액츄에이터(130)의 가동부(130b)를 구동시키는 구동력이 될 수 있다. 또는, 실시예에 따라서는 자기력이 구동력이 될 수도 있다.If the driving voltage is not applied due to the difference in residual stress between the electrode layer 134 and the insulating layer 132, the movable portion 130b of the roll-up actuator 130 is in a curled state. On the other hand, when a predetermined driving force (attractive force) is applied between the transparent electrode 120 and the roll-up actuator 130, more specifically, the electrode layer 134 by applying the driving voltage, the moving portion 130b of the roll- The transparent portion 110a of the substrate 110 is covered. The driving force is not limited to the electrostatic force acting between the transparent electrode 120 and the electrode layer 134. For example, in the case where a piezoelectric driving pattern is additionally formed instead of the electrode layer 134, in addition to the electrostatic force, the piezoelectric driving force may also be a driving force for driving the movable portion 130b of the roll-up actuator 130. [ Alternatively, the magnetic force may be a driving force depending on the embodiment.

복수 개의 롤업 액츄에이터(130)는 기판(110)의 투광부(110a)를 개방하거나 또는 차단하도록 일시에 동작을 할 수 있다. 예를 들어, 구동 전압(Vd)이 복수의 롤업 액츄에이터(130)들에 동시에 인가되면, 말려 있는 상태(도 2 참조)로 있던 모든 롤업 액츄에이터(130)들의 가동부(130b)는, 투명 전극(120)과 복수의 롤업 액츄에이터(130)들 사이에 작용하는 정전기력에 의하여 동시에 펴져서 투광부(110a)를 가릴 수 있다(도 1 참조). 그리고 인가된 구동 전압(Vd)이 차단되면, 롤업 액츄에이터(130)들 각각의 가동부는 동시에 잔류 응력에 의하여 말린 상태로 되돌아간다. The plurality of roll-up actuators 130 may be operated at a time to open or shut off the transparent portion 110a of the substrate 110. [ For example, when the driving voltage V d is applied to the plurality of roll-up actuators 130 at the same time, the movable portion 130b of all the roll-up actuators 130 in the rolled state (see FIG. 2) 120) and the plurality of roll-up actuators 130 to shield the transparent portion 110a (see FIG. 1). When the applied driving voltage V d is cut off, the movable parts of the roll-up actuators 130 simultaneously return to the dried state by the residual stress.

실시예에 따라서는 구동 전압(Vd)의 인가 여부를 복수 개의 롤업 액츄에이터(130)들에 대하여 개별적으로 제어하거나 또는 구동 전압(Vd)이 인가되는 타이밍을 개별적으로 또는 몇 개의 집합 단위로 다르게 할 수도 있다. 또는, 마치 카메라의 조리개와 같이, 롤업 액츄에이터(130)가 펴지는 정도를 복수의 단계로 세분화할 수도 있다. 이 경우에, 노출되는 기판(110)의 투광부(110a)의 넓이는 각 단계에 따 라서 달라질 수 있다.The embodiment thus is different as to whether the drive voltage (V d) of a plurality of roll-up actuator 130 to individually control or drive voltage (V d) is applied to the timing individually or several set unit with respect to the You may. Alternatively, the extent to which the roll-up actuator 130 is stretched, such as a diaphragm of a camera, may be subdivided into a plurality of steps. In this case, the width of the transparent portion 110a of the exposed substrate 110 may vary depending on each step.

그리고 복수 개의 롤업 액츄에이터(130)는 소정의 폭(WG)을 갖는 간극(gap, G1)에 의하여 서로 이격되어 있다(도 1 참조). 즉, 인접한 롤업 액츄에이터(130)들 사이에는 간극(G1)이 존재한다. 간극(G1)의 폭(WG)은 특별한 제한은 없으나, 이에 대응하는 광 차폐 패턴(140)의 기능을 고려하여 제한될 수 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 간극(G1)은 롤업 액츄에이터(130)의 길이 방향으로 전체에 걸쳐서 길게 존재할 수 있다. 또는, 간극(G1)은 롤업 액츄에이터(130)의 가동부(130b)의 길이 방향으로 가동부(130b) 전체에 걸쳐서 존재할 수도 있다. 이와 같은 경우에, 간극(G1)의 폭(WG)은 반드시 일정할 필요는 없다.The plurality of roll-up actuators 130 are spaced apart from each other by a gap G 1 having a predetermined width W G (see FIG. 1). That is, a clearance G 1 exists between adjacent roll-up actuators 130. The width W G of the gap G 1 is not particularly limited, but may be limited in consideration of the function of the corresponding light shielding pattern 140. As shown in FIG. 1, the gap G 1 may be long throughout the lengthwise direction of the roll-up actuator 130. Alternatively, the clearance G 1 may exist over the entire movable portion 130b in the longitudinal direction of the movable portion 130b of the roll-up actuator 130. [ In such a case, the width W G of the gap G 1 need not always be constant.

이와 같이, 액츄에이터(130)들이 간극(G1)에 의하여 서로 이격되어 있으면, 액츄에이터(130)가 펴지거나 또는 말리는 동작 시에 인접한 액츄에이터(130)에 의한 동작 간섭을 받지 않는다. 뿐만 아니라, 액츄에이터(130)의 구동 시에는 간극(G1)을 통해 내부의 공기가 유출될 수 있으므로, 스퀴즈 필름 댐핑(squeeze film damping) 현상을 방지할 수 있다.Thus, when the actuators 130 are spaced apart from each other by the gap G 1 , the actuators 130 are not subjected to operation interference by the adjacent actuators 130 in the spreading or curling operation. In addition, when the actuator 130 is driven, air inside can be flowed out through the gap G 1 , thereby preventing a squeeze film damping phenomenon.

도 3은 인접한 액츄에이터(130)들 사이에 존재하는 간극(G2)의 다른 예를 보여 주기 위한 것이다. 도 3을 참조하면, 간극(G2)은 가동부(130b) 전체에 걸쳐서 존재하는 것이 아니라 가동부(130b)의 일 부분에만 걸쳐서 존재한다. 보다 구체적으 로, 간극(G2)은 롤업 액츄에이터(130)의 고정단(130a)의 반대쪽 단부(즉, 고정단(130a)에 인접하지 않은 가동부(130b)의 단부)에서부터 일정 부분에만 존재한다. 고정단(130a)에 인접한 가동부(130b)의 다른 부분은 일체로 형성되어 있으며, 간극이 존재하지 않는다. FIG. 3 shows another example of the gap G 2 existing between the adjacent actuators 130. Referring to FIG. 3, the gap G 2 exists not only over the entire movable portion 130b but over only a portion of the movable portion 130b. More specifically, the clearance G 2 exists only at a certain portion from the opposite end of the fixed end 130a of the roll-up actuator 130 (i.e., the end of the movable portion 130b not adjacent to the fixed end 130a) . Other portions of the movable portion 130b adjacent to the fixed end 130a are integrally formed, and there is no gap.

복수 개의 롤업 액츄에이터(130)들은 그 각각의 전기적 특성이나 물질적 특성에 편차가 존재하거나 또는 심한 경우에는 어느 하나의 롤업 액츄에이터(130)가 구동 특성이 좋지 않을 수가 있다. 또는, 구동 전압이 복수 개의 롤업 액츄에이터(130)들에게 가해지는데 소정의 편차가 생길 수도 있다. 이러한 롤업 액츄에이터(130)들 사이의 편차나 불량 등은 광 차폐 장치(100)의 성능을 제한하는 요소가 될 수 있다. 그러나 도 3에 도시된 바와 같이 가동부(130b)의 일정 부분에 대해서는 간극없이 일체로 형성하면, 인접한 롤업 액츄에이터(130)들 사이에는 기계적인 커플링(mechanical coupling)이 형성된다. 이러한 기계적인 커플링에 의하여, 간극(G2)에 의하여 복수 개로 분할된 롤업 액츄에이터(130)의 가동부들도, 동작의 동시성, 신속성, 균일성 등을 향상시킬 수 있다.Up rollers 130 may have poor driving characteristics when there is a variation in the electrical characteristics or material properties of the plurality of roll-up actuators 130, or in a severe case. Alternatively, a predetermined deviation may occur when the drive voltage is applied to the plurality of roll-up actuators 130. Deviations or defects between the roll-up actuators 130 may limit the performance of the light-shielding apparatus 100. However, as shown in FIG. 3, if a certain portion of the movable portion 130b is formed integrally with no gap, a mechanical coupling is formed between the adjacent roll-up actuators 130. By this mechanical coupling, the moving parts of the roll-up actuator 130 divided into a plurality of parts by the gap G 2 can also improve the simultaneity of operation, quickness, uniformity, and the like.

계속해서 도 1 및 도 2를 참조하면, 광 차폐 장치(100)는 복수의 롤업 액츄에이터(130)들을 서로 이격시키는 간극(G1)에 대응하는 위치의 기판(110) 상에 형성된 광 차폐 패턴(140)를 포함한다. 투명 전극(120)의 모양이나 위치에 따라서, 광 차폐 패턴(140)은 투명 전극(120)의 상부에 형성되거나, 투명 전극(120)이 없는 기판(110)의 상부에 형성되거나, 일부만이 투명 전극(120)의 상부에 형성될 수도 있 다. 1 and 2, the light shielding apparatus 100 includes a light shielding pattern (not shown) formed on a substrate 110 at a position corresponding to a gap G 1 for separating a plurality of roll-up actuators 130 from each other 140). The light shielding pattern 140 may be formed on the upper part of the transparent electrode 120 or on the upper part of the substrate 110 without the transparent electrode 120 depending on the shape and position of the transparent electrode 120, And may be formed on the upper portion of the electrode 120.

광 차폐 패턴(140)은 광 차폐 장치(100)가 닫힌 상태(도 1에 도시된 상태)에서 복수의 액츄에이터(130)들 사이의 간극(G1)을 통과한 빛이 기판(110)의 투광부(110a)를 통과하지 못하도록 차단하는 기능을 수행한다. 이를 위하여, 광 차폐 패턴(140)은 불투광성 물질로 형성되는데, 예를 들어 크롬(Cr)이나 알루미늄(Al)과 같은 금속 물질이나 산화막(silicon oxide)이나 질화막(silicon nitride) 등과 같은 절연성 물질로 형성될 수 있다.The light shielding pattern 140 is formed on the substrate 110 in such a manner that light that has passed through the gap G 1 between the plurality of actuators 130 in the state where the light shielding apparatus 100 is closed And blocks the light from passing through the light portion 110a. For this, the light shielding pattern 140 is formed of an opaque material. For example, the light shielding pattern 140 may be formed of a metal material such as Cr or Al, an insulating material such as a silicon oxide or a silicon nitride, .

이러한 광 차폐 패턴(140)의 위치는 복수의 액츄에이터(130)들 사이의 간극(G1)의 위치에 대응한다. 간극(G1)과 광 차폐 패턴(140)의 위치가 서로 대응하도록 하는 방법은 여러 가지가 있을 수 있다. 예를 들어, 광 차폐 패턴(140)을 먼저 형성한 후에 간극(G1)을 형성하는 경우에는, 통상적인 정렬 기법을 이용하여, 두 구성 요소가 잘 정렬되도록 제조 공정을 진행할 수 있다. 또는, 광 차폐 패턴(140)을 형성할 때, 자가 정렬 증착(Self Aligned Deposition, SAD)법을 이용할 수도 있다. 여기서, 자가 정렬 증착법이란 광 차폐 패턴(140)을 형성하기 위하여 포토마스크 공정을 별도로 추가하지 않는 것을 가리키는데, 예를 들어 간극(G1)을 형성하기 위하여 롤업 액츄에이터용 물질층을 패터닝할 때 사용한 포토마스크를 광 차폐 패턴(140)을 증착하는 공정에서 마스크 패턴으로 그대로 사용할 수 있다. 또는, 간극(G1)에 의해 분할된 복수의 액츄에이터(130)들 자체를 광 차폐 패턴(140)을 증착 하기 위한 마스크로 사용할 수도 있다.The position of the light shielding pattern 140 corresponds to the position of the gap G 1 between the plurality of actuators 130. There are various methods for making the positions of the gap G 1 and the light shielding pattern 140 correspond to each other. For example, in the case of forming the gap G 1 after first forming the light-shielding pattern 140, the manufacturing process can be performed using a conventional alignment technique so that the two components are well aligned. Alternatively, when forming the light shielding pattern 140, a Self Aligned Deposition (SAD) method may be used. Here, the self-aligned deposition method refers to not adding a photomask process separately to form the light shielding pattern 140. For example, when the roll-up actuator material layer is patterned to form the gap G 1 The photomask can be used as a mask pattern in the process of depositing the light shielding pattern 140 as it is. Alternatively, the plurality of actuators 130 divided by the gap G 1 may be used as a mask for depositing the light shielding pattern 140.

이러한 광 차폐 패턴(140)은 롤업 액츄에이터(130)가 펴진 상태(도 1 참조)에서 간극(G1)을 통해서 들어오는 빛을 차단할 수 있는 크기를 가져야 한다. 예를 들어, 광 차폐 패턴(140)의 폭(Ws)은 간극(G1)의 폭(WG)과 같거나 그 이상일 수 있다. 다만, 광 차폐 패턴(140)의 크기는 광 차폐 장치(100)가 개방된 상태(도 2 참조)에서 기판(110)의 투광부(110a)를 통과하는 광의 세기나 휘도 등에 영향을 미치지 않거나 또는 이를 최소화할 수 있을 정도이어야 한다.The light shielding pattern 140 should have a size that can block the light coming in through the gap G 1 in a state in which the roll-up actuator 130 is opened (see FIG. 1). For example, the width W s of the light shielding pattern 140 may be equal to or greater than the width W G of the gap G 1 . The size of the light shielding pattern 140 does not affect the intensity or the brightness of light passing through the transparent portion 110a of the substrate 110 in a state where the light shielding apparatus 100 is opened (see FIG. 2) It should be enough to minimize this.

따라서 롤업 액츄에이터(130) 사이의 간극(G1)의 폭(WG) 및/또는 광 차폐 패턴(140)의 폭(Ws)은 광 차폐 장치(100)의 이러한 특성을 고려하여 결정될 수 있다. 예를 들어, 광 차폐 패턴(140)의 폭(Ws)을 약 4㎛ 이하로 할 경우에, 광 차폐 장치(100)가 개방된 상태(도 2 참조)에서 휘도의 감소나 이미지 왜곡 현상이 거의 없을 수 있다. 그리고 롤업 액츄에이터(130)들 사이의 간극(G1)의 폭이 1㎛ 이하이면, 스퀴즈 필름 댐핑의 방지 효과가 적을 수 있다. 하지만, 이러한 수치들은 단지 예시적인 것이며, 그 구체적인 값들은 실험 조건이나 기타 다른 모듈(카메라 렌즈 등)과의 관계에 따라서 달라질 수는 있다. The width W G of the clearance G 1 between the roll-up actuators 130 and / or the width W s of the light shielding pattern 140 can be determined in consideration of this characteristic of the light shielding device 100 . For example, when the width W s of the light shielding pattern 140 is set to about 4 μm or less, a decrease in brightness or an image distortion phenomenon occurs in a state in which the light shielding apparatus 100 is opened There may be few. If the gap G 1 between the roll-up actuators 130 is 1 μm or less, the effect of preventing the squeeze film damping can be small. However, these values are merely illustrative, and their specific values may vary depending on the experimental conditions or relationships with other modules (camera lenses, etc.).

도 4 내지 도 6은 다른 실시예에 다른 광 차폐 장치를 설명하기 위한 것이다. 광 차폐 장치는 디지털 카메라 등의 광 셔터(optical shutter, 200)로 사용될 수 있는데, 여기에만 한정되는 것은 아니다. 본 실시예에 따른 광 차폐 장치는, 복수 개의 롤업 액츄에이터 각각의 가동부가 투광부의 중심에서 방사상으로 연장 형성되는 모양으로 투광부를 면적 분할하여 덮을 수 있도록, 롤업 액츄에이터의 고정단이 투광부의 둘레에 고정되어 있다는 점에서 전술한 실시예와 차이가 있다. 이하에서는 전술한 실시예와의 차이점을 중심으로 설명한다.FIGS. 4 to 6 are views for explaining the light shielding device according to another embodiment. The light shielding device can be used as an optical shutter 200 such as a digital camera, but is not limited thereto. Up device of the roll-up actuator is fixed around the transparent portion so that the movable portion of each of the plurality of roll-up actuators is radially extended from the center of the light-transmitting portion so as to cover the transparent portion by an area Which is different from the above-described embodiment. Hereinafter, differences from the above-described embodiment will be mainly described.

도 4는 광 셔터(200)가 광을 차단시키는 상태를 도시한 사시도이고, 도 5는 도 4의 V-V 선을 따라 취한 단면도이다. 그리고 도 6은 도 4의 광 셔터(200)가 광을 통과시키는 상태를 도시한 사시도이다. 도 1 내지 도 3을 참조하여 전술한 실시예는, 도 4의 A 부분을 확대하여 보여 주는 것일 수도 있다. 4 is a perspective view showing a state in which the optical shutter 200 blocks light, and FIG. 5 is a sectional view taken along the line V-V in FIG. And FIG. 6 is a perspective view showing a state in which the optical shutter 200 of FIG. 4 passes light. The embodiment described above with reference to Figs. 1 to 3 may be an enlarged view of part A of Fig.

도 4 내지 도 6을 참조하면, 광 셔터(200)는 투광부를 갖는 기판(210)을 포함한다. 투광부의 형상은 원형, 타원형, 정다각형 등일 수 있는데, 여기에만 한정되는 것은 아니다. 기판(210) 상에는 투명한 투명 전극(220)이 형성되어 있다.4 to 6, the optical shutter 200 includes a substrate 210 having a light-transmitting portion. The shape of the light transmitting portion may be circular, elliptical, regular polygon, and the like, but is not limited thereto. On the substrate 210, a transparent transparent electrode 220 is formed.

광 셔터(200)는 복수 개의 롤업 액츄에이터(230)를 포함한다. 복수 개의 롤업 액츄에이터(230)의 고정단은 투광부의 바깥쪽 둘레에 원형, 타원형 또는 정다각형을 형성하도록 기판(210)에 고정되어 있다. 그리고 롤업 액츄에이터(230)가 구동되어 그 가동부가 펴진 경우에, 각각의 가동부는 투광부의 중심에서 방사상으로 연장 형성되는 모양(예컨대, 투광부의 중심에서 각각의 롤업 액츄에이터(230)가 소정 크기의 중심각을 갖는 부채꼴 모양 또는 소정 크기의 꼭지각을 갖는 삼각형 모양 등)으로 투광부를 면적 분할하여 덮을 수 있다. The optical shutter 200 includes a plurality of roll-up actuators 230. The fixed ends of the plurality of roll-up actuators 230 are fixed to the substrate 210 so as to form a circle, an ellipse, or a regular polygon on the outer circumference of the light-transmitting portion. In the case where the roll-up actuator 230 is driven and the movable portion is extended, each of the movable portions is formed to extend radially from the center of the light-transmissive portion (for example, each roll-up actuator 230 at a center of the light- A triangular shape having a vertex angle of a predetermined size, or the like).

인접한 롤업 액츄에이터(230)는 적어도 가동부의 일부가 간극(G3)에 의해 서로 이격되어 있다. 간극(G3)은 가동부 사이는 물론 고정단 사이에도 존재할 수 있다. 또는, 인접한 롤업 액츄에이터(230)들 사이에 기계적인 커플링이 이루어질 수 있도록, 고정단에 인접한 가동부의 일부 사이에는 간극(G3)이 존재하지 않고 서로 일체가 될 수도 있다. 이러한 간극(G3)의 위치에 대응하는 기판(210) 상에는 광 차폐 패턴(240)이 형성되어 있다. At least a part of the movable portion of the adjacent roll-up actuator 230 is separated from each other by a gap G 3 . The clearance G 3 can exist between the moving parts as well as between the fixed ends. Or, to be formed of the adjacent roll-up actuator 230, the mechanical coupling between the rings, between the part of the movable portion adjacent the fixed end may be gap (G 3) with each other integrally does not exist. The gap (G 3) substrate 210 formed on the light-shielding pattern 240 corresponding to the position of the can is formed.

이와 같은 구조의 광 셔터(200)는 구동 전압이 가해지지 않으면, 도 6에 도시되어 있는 바와 같이, 각각의 롤업 액츄에이터(230)의 가동부는 절연층(232)과 전극층(234)의 잔류 응력 차이로 인하여 말려 있는 상태가 된다. 즉, 각각의 롤업 액츄에이터(230)의 가동부는 투광부의 중심에서부터 바깥쪽 방향으로 말려 올라가서 기판(210)의 투광부를 노출시킨다. 그리고 투명 전극(220)과 롤업 액츄에이터(230) 사이에 구동 전압이 가해지면, 가동부는 펴져서 투광부를 가려서 빛의 통과를 차단한다. 간극(G3)을 통해 유입되는 빛은 기판(210) 상에 형성되어 있는 광 차광 패턴(240)에 의하여 차단된다.6, the moving parts of the respective roll-up actuators 230 are driven by the residual stress difference between the insulating layer 232 and the electrode layer 234, as shown in FIG. 6, So that it is in a curled state. That is, the movable parts of the respective roll-up actuators 230 are rolled up in the outward direction from the center of the light transmitting part to expose the light transmitting part of the substrate 210. When a drive voltage is applied between the transparent electrode 220 and the roll-up actuator 230, the movable portion is expanded to block the light transmitting portion by blocking the passage of light. Light entering through the gap G 3 is blocked by the light blocking pattern 240 formed on the substrate 210.

도 7은 일 실시예에 따른 광 차폐 장치의 제조 방법을 보여 주는 흐름도이다. 7 is a flowchart illustrating a method of manufacturing the light blocking device according to an embodiment.

도 7을 참조하면, 광 차폐 장치의 제조 방법은, 투명 전극을 포함하는 투광 성의 기판을 제공하는 단계(10)와, 기판 상에 희생층을 형성하는 단계(20)와, 기판과 희생층 상에 롤업 액츄에이터를 형성하는 단계(30)와, 희생층을 패터닝하여 롤업 액츄에이터의 하부에 언더컷(under-cut)을 형성하는 단계(40)와, 자가 정렬 증착법을 이용하여 기판상에 광 차폐 패턴을 형성하는 단계(50)와, 잔류하는 희생층을 제거하는 단계(60)를 포함한다. Referring to FIG. 7, a method of fabricating a light shielding apparatus includes the steps of providing a transparent substrate including transparent electrodes, forming a sacrificial layer on the substrate, Forming a roll-up actuator on the roll-up actuator; patterning the sacrificial layer to form an undercut in the bottom of the roll-up actuator; and forming a light-shielding pattern on the substrate using self- A forming step 50, and a step 60 of removing the remaining sacrificial layer.

도 8 내지 도 13은 일 실시예에 따른 광 차폐 장치의 제조 방법의 각 단계를 도시한 것으로서, 도 1과 도 2에 도시된 광 차폐 장치(100)이거나 또는 도 4와 도 6에 도시된 광 셔터(200)의 A 부분(도 4 참조)만을 확대 도시한 사시도일 수 있다.FIGS. 8 to 13 illustrate steps of the method for manufacturing the light shield according to the embodiment. The light shielding apparatus 100 shown in FIGS. 1 and 2, or the light shielding apparatus shown in FIGS. 4 and 6 Only a portion A of the shutter 200 (see FIG. 4) may be enlarged.

도 8을 참조하면, 먼저 투광부를 갖는 기판(310)을 제공한다. 기판(310)은 유리 기판일 수 있으나, 여기에만 한정되는 것은 아니다. 기판(310), 보다 구체적으로 투광부 상에는 투명한 투명 전극(320)이 형성되어 있다. 투명 전극(320)은 미리 기판(310)에 형성되어 있거나, 또는 별도의 반도체 제조 공정을 이용하여 기판(310) 상에 형성할 수도 있다.Referring to FIG. 8, first, a substrate 310 having a light-transmitting portion is provided. The substrate 310 may be a glass substrate, but is not limited thereto. A transparent electrode 320 is formed on the substrate 310, more specifically, on the transparent portion. The transparent electrode 320 may be formed on the substrate 310 in advance, or may be formed on the substrate 310 using a separate semiconductor manufacturing process.

도 9를 참조하면, 기판(310)의 일면에 희생층(sacrificial layer)(350)을 도포한다. 희생층(350)은 롤업 액츄에이터(230)를 형성한 이후에 제거하는 물질층이므로, 기판(310), 투명 전극(320), 및 추후에 형성될 롤업 액츄에이터(330)에 대하여 식각 선택비가 우수한 물질이나 또는 제거가 용이한 물질로 형성될 수 있다. 희생층(350)은 적어도 기판(310)의 투광부를 가리도록 기판(310)의 일 부분에만 형성될 수 있다. 이 경우에, 투광부의 바깥쪽, 즉 그 상부에 롤업 액츄에이터(330)의 고정단이 설치되는 기판(310)의 영역에는 희생층(350)이 형성되지 않는다. Referring to FIG. 9, a sacrificial layer 350 is coated on one surface of a substrate 310. Since the sacrificial layer 350 is a material layer to be removed after forming the roll-up actuator 230, the sacrificial layer 350 may be formed on the substrate 310, the transparent electrode 320, and the roll-up actuator 330 to be formed later Or may be formed of a material that is easy to remove. The sacrificial layer 350 may be formed only at a portion of the substrate 310 so as to cover at least the light transmitting portion of the substrate 310. [ In this case, the sacrifice layer 350 is not formed in the region of the substrate 310 on which the fixed end of the roll-up actuator 330 is provided, that is, on the outer side of the transparent portion.

도 10을 참조하면, 도 9의 결과물, 보다 구체적으로 투명 전극(320)이 형성된 기판(310)과 희생층(350) 상에 롤업 액츄에이터(330)를 형성한다. 롤업 액츄에이터(330)는 절연층(332)과 그 상부에 전극층(334)이 적층된 이중 박막을 포함하는 구조일 수 있다. 기판(310) 상에 형성되는 롤업 액츄에이터(330)의 일 부분이 고정단이 되고, 투광부 상에 형성되는 롤업 액츄에이터(330)의 다른 부분은 가동부가 될 수 있다. 그 결과, 롤업 액츄에이터(330)의 고정단과 가동부 사이에는 소정의 단차가 있을 수 있다. 그리고 적어도 롤업 액츄에이터(330)의 가동부의 일부 또는 전부는 소정의 폭(WG)를 갖는 간극에 의하여 복수 개로 분할된 구조를 갖는다.10, a roll-up actuator 330 is formed on the substrate 310 on which the transparent electrode 320 is formed, and the sacrificial layer 350. The roll-up actuator 330 may have a structure including an insulating layer 332 and a double-layered thin film having an electrode layer 334 stacked thereon. One part of the roll-up actuator 330 formed on the substrate 310 becomes a fixed end and the other part of the roll-up actuator 330 formed on the transparent part can be a movable part. As a result, there may be a predetermined step between the fixed end and the movable end of the roll-up actuator 330. And some or all of the moving part of at least a roll-up actuator 330 has a divided structure, a plurality pieces by a gap having a predetermined width (W G).

본 실시예에서 이러한 구조의 롤업 액츄에이터(330)를 형성하는 방법에는 특별한 제한이 없다. 예를 들어, 기판(310)과 희생층(350) 상에 절연층과 전극 층을 순차적으로 증착한 다음, 소정의 식각 공정을 이용하여 절연층과 전극층을 패터닝함으로써 롤업 액츄에이터(330)를 형성할 수 있다. 이러한 제조 방법은 단지 예시적인 것으로서, 본 실시예가 여기에만 한정되는 것은 아니다.There is no particular limitation on the method of forming the roll-up actuator 330 of this structure in this embodiment. For example, the insulation layer and the electrode layer are sequentially deposited on the substrate 310 and the sacrifice layer 350, and then the insulation layer and the electrode layer are patterned using a predetermined etching process to form the roll-up actuator 330 . This manufacturing method is merely exemplary, and the present embodiment is not limited thereto.

도 11을 참조하면, 희생층(350)에 대한 식각 공정을 수행하여 기판(310) 또는 투명 전극(320)을 부분적으로 노출시킨다. 노출된 기판(320) 상에는 광 차폐 패턴(340)이 형성되므로, 본 단계에서 식각되어 형성된 희생층(350) 패턴의 모양은 광 차폐 패턴(340)의 형상을 한정한다. 이러한 희생층(350)에 대한 식각 공정에서는 롤업 액츄에이터(330)를 형성하기 위한 식각 공정에서 사용한 포토마스크를 그대로 사용할 수 있다.Referring to FIG. 11, the sacrifice layer 350 is etched to partially expose the substrate 310 or the transparent electrode 320. Since the light shielding pattern 340 is formed on the exposed substrate 320, the shape of the pattern of the sacrificial layer 350 formed by etching in this step defines the shape of the light shielding pattern 340. In the etching process for the sacrificial layer 350, the photomask used in the etching process for forming the roll-up actuator 330 may be used as it is.

이 경우에, 롤업 액츄에이터(330)들 사이의 간극에 대응하는 부분, 즉 간극에 의하여 노출되는 희생층(350)은 물론 롤업 액츄에이터(330)의 하부에 위치하는 희생층(350)도 부분적으로 식각하여, 롤업 액츄에이터(330)의 하부에 언더컷(under-cut)을 형성할 수도 있다. 만일, 언더컷을 형성하지 않으면, 후속 공정에서 광 차폐 패턴(340)을 형성할 경우에 광 차폐 패턴용 물질이 희생층(350)의 측벽을 따라서 롤업 액츄에이터(330)까지 연결될 수 있는데, 언더컷은 이러한 현상이 발생하지 않도록 한다. 또한, 언더컷을 이용하면 광 차폐 패턴(340)의 폭이 롤업 액츄에이터(330)들 사이의 간극의 폭보다 더 크게 할 수 있다. In this case, not only the sacrificial layer 350 exposed by the gap corresponding to the gap between the roll-up actuators 330, but also the sacrificial layer 350 located at the lower portion of the roll-up actuator 330, An undercut may be formed in the lower portion of the roll-up actuator 330. [ If the undercut is not formed, the material for the light shielding pattern may be connected to the roll-up actuator 330 along the sidewalls of the sacrificial layer 350 when forming the light shielding pattern 340 in a subsequent process, So that the phenomenon does not occur. In addition, when the undercut is used, the width of the light shielding pattern 340 can be made larger than the width of the gap between the roll-up actuators 330.

그리고 도 12를 참조하면, 노출된 기판(310) 또는 투명 전극(320) 상에 광 차폐 패턴(340)을 형성한다. 광 차폐 패턴(340)은 이 분야에서 사용되는 통상적인 증착 공정을 이용하여 형성할 수 있다. 본 단계의 증착 공정에서는 희생층(350)의 식각 공정에서 사용한 포토 마스크를 그대로 사용하는 자가 정렬 증착법을 이용할 수 있으며, 이 경우에는 광 차폐 패턴(340)이 형성되는 위치를 정확하게 정렬할 수 있을 뿐만 아니라 포토마스크의 사용 횟수를 줄일 수 있으므로 제조 비용을 절감할 수 있다. 증착 공정의 결과, 기판(310) 또는 투명 전극(320) 상에는 소정의 폭(Ws)을 갖는 광 차폐 패턴(340)이 형성된다.Referring to FIG. 12, a light shielding pattern 340 is formed on the exposed substrate 310 or the transparent electrode 320. The light shielding pattern 340 may be formed using conventional deposition processes used in this field. In the deposition process of this step, a self-aligned deposition method using the photomask used in the etching process of the sacrifice layer 350 may be used. In this case, the position where the light-shielding pattern 340 is formed can be accurately aligned However, since the number of times of use of the photomask can be reduced, manufacturing cost can be reduced. As a result of the deposition process, a light shielding pattern 340 having a predetermined width W s is formed on the substrate 310 or the transparent electrode 320.

도 13을 참조하면, 도 12의 결과물에 대하여 희생층(350)을 제거하는 공정을 수행한다. 희생층(350)을 제거한 결과, 고정단이 기판(310)의 가장자리에 기판(310)과 접하도록 설치되고, 고정부와 소정의 단차를 갖는 가동부는 기판(310) 또는 투명 전극(320)과 소정의 간격으로 이격 배치된 롤업 액츄에이터(330)가 만들어진다. 이와 같이, 제조된 광 차폐 장치는 그 두께가 1mm 이하가 될 수 있다.Referring to FIG. 13, the sacrificial layer 350 is removed from the resultant structure shown in FIG. As a result of removing the sacrificial layer 350, a fixed end is provided on the edge of the substrate 310 so as to be in contact with the substrate 310, and a movable part having a predetermined step difference with the fixed part is formed on the substrate 310 or the transparent electrode 320 A roll-up actuator 330 spaced apart at a predetermined interval is produced. As described above, the thickness of the manufactured light shielding device can be 1 mm or less.

이상의 설명은 본 발명의 실시예에 불과할 뿐, 이 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상이 한정되는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 발명의 기술 사상은 특허청구범위에 기재된 발명에 의해서만 특정되어야 한다. 따라서 본 발명의 기술 사상을 벗어나지 않는 범위에서 전술한 실시예는 다양한 형태로 변형되어 구현될 수 있다는 것은 당업자에게 자명하다.The above description is only an example of the present invention, and the technical idea of the present invention should not be interpreted as being limited by this embodiment. The technical idea of the present invention should be specified only by the invention described in the claims. Therefore, it is apparent to those skilled in the art that the above-described embodiments may be modified and embodied in various forms without departing from the technical spirit of the present invention.

도 1은 일 실시예에 따른 광 차폐 장치의 사시도로서, 광을 차단시키는 상태를 도시한 것이다.FIG. 1 is a perspective view of a light shielding apparatus according to an embodiment, showing a state of blocking light.

도 2는 도 1의 광 차폐 장치가 광을 통과시키는 상태를 도시한 사시도이다.2 is a perspective view showing a state in which the light shielding device of FIG. 1 passes light.

도 3은 도 1의 광 차폐 장치의 변형예를 도시한 사시도이다.3 is a perspective view showing a modified example of the light shielding device of FIG.

도 4는 다른 실시예에 따른 광 차폐 장치의 사시도로서, 광을 차단시키는 상태를 도시한 도면이다. 4 is a perspective view of a light shielding apparatus according to another embodiment, showing a state of blocking light.

도 5는 도 4의 V-V선을 따라 절취한 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along line V-V of Fig.

도 6은 도 4의 광 차폐 장치가 광을 통과시키는 상태를 도시한 사시도이다.6 is a perspective view showing a state in which the light shielding device of FIG. 4 passes light.

도 7은 일 실시예에 따른 광 차폐 장치의 제조 방법을 보여 주는 흐름도이다.7 is a flowchart illustrating a method of manufacturing the light blocking device according to an embodiment.

도 8 내지 도 13은 광 차폐 장치의 제조 방법을 순차적으로 도시한 사시도이다.Figs. 8 to 13 are perspective views sequentially illustrating the manufacturing method of the light shielding apparatus.

Claims (23)

투광부를 구비한 기판;A substrate having a light-transmitting portion; 상기 기판의 일면에 형성된 투명 전극;A transparent electrode formed on one surface of the substrate; 불투광 특성을 가지며, 상기 투광부의 바깥쪽에 고정되어 상기 투광부를 면적 분할하여 덮을 수 있도록 상기 기판 상에 형성된 복수 개의 롤업 액츄에이터; 및A plurality of roll-up actuators having an opaque characteristic and fixed on the outer side of the transparent portion, the plurality of roll-up actuators being formed on the substrate so as to cover the transparent portion of the transparent portion; And 인접한 상기 롤업 액츄에이터들 사이에 존재하는 간극에 대응하는 위치의 상기 기판 상에 상기 간극의 수만큼 형성된 광 차폐 패턴을 포함하고,A light shielding pattern formed on the substrate at a position corresponding to a gap existing between adjacent roll-up actuators, the number of which is equal to the number of gaps, 상기 광 차폐 패턴은 적어도 일부가 상기 투광부의 상측에 위치하며, Wherein at least a part of the light shielding pattern is located on the upper side of the transparent portion, 상기 광 차폐 패턴은 상기 투명 전극 위에 형성된 광 차폐 장치.Wherein the light shielding pattern is formed on the transparent electrode. 제1항에 있어서, The method according to claim 1, 상기 광 차폐 패턴의 폭은 상기 간극의 폭과 같거나 더 큰 광 차폐 장치.Wherein a width of the light shielding pattern is equal to or larger than a width of the gap. 삭제delete 제1항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 롤업 액츄에이터는 가동부와 고정단으로 구성되고, 상기 고정단은 상기 투광부의 바깥쪽에 고정되며, 상기 롤업 액츄에이터가 구동될 때 이웃하는 롤업 액츄에이터와 연동되어 구동되도록 상기 고정단쪽의 상기 가동부의 일부가 이웃하는 상기 롤업 액츄에이터의 가동부와 연결된 광 차폐 장치.Up actuator is driven by a roll-up actuator that is adjacent to the roll-up actuator when the roll-up actuator is driven, the movable- Up actuator connected to the roll-up actuator. 제1항에 있어서, The method according to claim 1, 상기 롤업 액츄에이터는 절연층과 상기 절연층 상에 형성된 상부 전극을 포함하는 광 차폐 장치.Wherein the roll-up actuator comprises an insulating layer and an upper electrode formed on the insulating layer. 제5항에 있어서,6. The method of claim 5, 상기 절연층과 상기 상부 전극은 잔류 응력이 서로 다른 물질로 형성된 광 차폐 장치.Wherein the insulating layer and the upper electrode are formed of materials having different residual stresses. 제6항에 있어서,The method according to claim 6, 상기 상부 전극은 인장 잔류 응력을 가지며, 상기 절연층은 압축 잔류 응력을 갖거나, 잔류 응력을 갖지 않거나, 또는 상기 상부 전극보다 작은 인장 잔류 응력을 갖는 광 차폐 장치.Wherein the upper electrode has a tensile residual stress and the insulating layer has a compressive residual stress, has no residual stress, or has a tensile residual stress less than the upper electrode. 제5항에 있어서,6. The method of claim 5, 상기 롤업 액츄에이터는 각각 상기 투명 전극과 상기 상부 전극 사이에 발생하는 정전기력에 의해 구동되는 광 차폐 장치.Wherein the roll-up actuator is driven by an electrostatic force generated between the transparent electrode and the upper electrode, respectively. 원형 또는 다각형의 투광부를 구비한 기판;A substrate having a circular or polygonal transparent portion; 상기 기판의 일면에 형성된 투명 전극;A transparent electrode formed on one surface of the substrate; 불투광 특성을 가지며, 상기 투광부의 바깥쪽 둘레에 고정되어 상기 투광부의 중심에서 방사상으로 연장 형성되는 모양으로 상기 투광부를 면적 분할하여 덮을 수 있도록 상기 기판 상에 형성된 복수 개의 롤업 액츄에이터; 및A plurality of roll-up actuators formed on the substrate so as to have an opaque characteristic and to be divided into a plurality of areas, the plurality of roll-up actuators being fixed on an outer periphery of the transparent portion and extending radially from the center of the transparent portion; And 인접한 상기 롤업 액츄에이터들 사이에 존재하는 간극에 대응하는 위치의 상기 기판 상에 상기 간극의 수만큼 형성된 광 차폐 패턴을 포함하고,A light shielding pattern formed on the substrate at a position corresponding to a gap existing between adjacent roll-up actuators, the number of which is equal to the number of gaps, 상기 광 차폐 패턴은 적어도 일부가 상기 투광부의 상측에 위치하며,Wherein at least a part of the light shielding pattern is located on the upper side of the transparent portion, 상기 광 차폐 패턴은 상기 투명 전극 위에 형성된 광 차폐 장치.Wherein the light shielding pattern is formed on the transparent electrode. 제9항에 있어서, 10. The method of claim 9, 상기 광 차폐 패턴의 폭은 상기 간극의 폭과 같거나 더 큰 광 차폐 장치.Wherein a width of the light shielding pattern is equal to or larger than a width of the gap. 제9항에 있어서, 10. The method of claim 9, 상기 롤업 액츄에이터는 가동부와 고정단으로 구성되고, 상기 복수 개의 롤업 액츄에이터의 고정단들은 상기 투광부의 바깥쪽 둘레에 원형 또는 다각형의 형태로 배치되며, 상기 복수 개의 롤업 액츄에이터의 가동부들은 상기 투광부를 부채꼴 또는 삼각형으로 면적 분할하여 덮는 광 차폐 장치.Wherein the roll-up actuators are constituted by a movable part and a fixed end, the fixed ends of the plurality of roll-up actuators are arranged in a circular or polygonal shape on the outer circumference of the transparent part, and the movable parts of the plurality of roll- Or a triangle. 제11항에 있어서, 12. The method of claim 11, 상기 롤업 액츄에이터가 구동될 때 이웃하는 롤업 액츄에이터와 연동되어 구동되도록 상기 고정단쪽의 상기 가동부의 일부가 이웃하는 상기 롤업 액츄에이터의 가동부와 연결된 광 차폐 장치.And a part of the movable part of the fixed end is connected to the movable part of the neighboring roll-up actuator so as to be driven in conjunction with the adjacent roll-up actuator when the roll-up actuator is driven. 제9항에 있어서,10. The method of claim 9, 상기 롤업 액츄에이터는 절연층과 상기 절연층 상에 형성된 상부 전극을 포함하고, 상기 절연층과 상기 상부 전극은 잔류 응력이 서로 다른 물질로 형성된 광 차폐 장치.Wherein the roll-up actuator includes an insulating layer and an upper electrode formed on the insulating layer, wherein the insulating layer and the upper electrode are formed of materials having different residual stresses. 제13항에 있어서,14. The method of claim 13, 상기 상부 전극은 인장 잔류 응력을 가지며, 상기 절연층은 압축 잔류 응력을 갖거나, 잔류 응력을 갖지 않거나, 또는 상기 상부 전극보다 작은 인장 잔류 응력을 갖는 광 차폐 장치.Wherein the upper electrode has a tensile residual stress and the insulating layer has a compressive residual stress, has no residual stress, or has a tensile residual stress less than the upper electrode. 투광부를 구비한 기판;A substrate having a light-transmitting portion; 상기 기판의 일면에 형성된 투명 전극; 및A transparent electrode formed on one surface of the substrate; And 불투광 특성을 가지며, 상기 투광부의 바깥쪽에 고정되어 상기 투광부를 면적 분할하여 덮을 수 있도록 상기 기판 상에 형성된 복수 개의 롤업 액츄에이터를 포함하고,And a plurality of roll-up actuators formed on the substrate so as to cover the transmissive portion by dividing the transmissive portion while being fixed to the outside of the transmissive portion, 상기 롤업 액츄에이터는 가동부와 고정단으로 구성되고, 상기 고정단은 상기 투광부의 바깥쪽에 고정되며, 상기 롤업 액츄에이터가 구동될 때 이웃하는 롤업 액츄에이터와 연동되어 구동되도록 상기 고정단쪽의 상기 가동부의 일부가 이웃하는 상기 롤업 액츄에이터의 가동부와 연결되고, Up actuator is driven by a roll-up actuator that is adjacent to the roll-up actuator when the roll-up actuator is driven, the movable- Up actuator of the roll-up actuator, 상기 가동부의 나머지 부분은 소정의 폭을 갖는 간극에 의하여 이웃하는 상기 롤업 액츄에이터의 가동부와 분리되어 있으며, The remaining portion of the movable portion is separated from the movable portion of the adjacent roll-up actuator by a gap having a predetermined width, 상기 간극에 대응하는 위치의 상기 기판 상에 상기 간극의 수만큼 형성된 광 차폐 패턴을 더 포함하고,Further comprising a light shielding pattern formed on the substrate at a position corresponding to the gap, the light shielding pattern being formed by the number of the gaps, 상기 광 차폐 패턴은 적어도 일부가 상기 투광부의 상측에 위치하며,Wherein at least a part of the light shielding pattern is located on the upper side of the transparent portion, 상기 광 차폐 패턴은 상기 투명 전극 위에 형성된 광 차폐 장치.Wherein the light shielding pattern is formed on the transparent electrode. 삭제delete 제15항에 있어서, 16. The method of claim 15, 상기 롤업 액츄에이터는 절연층과 상기 절연층 상에 형성된 상부 전극을 포함하고, 상기 절연층과 상기 상부 전극은 잔류 응력이 서로 다른 물질로 형성되는 광 차폐 장치.Wherein the roll-up actuator comprises an insulating layer and an upper electrode formed on the insulating layer, wherein the insulating layer and the upper electrode are formed of a material having a different residual stress. 제17항에 있어서,18. The method of claim 17, 상기 롤업 액츄에이터는 각각 상기 투명 전극과 상기 상부 전극 사이에 발생하는 정전기력에 의해 구동되는 광 차폐 장치.Wherein the roll-up actuator is driven by an electrostatic force generated between the transparent electrode and the upper electrode, respectively. 일면에 투명 전극이 형성되고 또한 투광부를 구비한 기판을 제공하는 기판 제공 단계;Providing a substrate having a transparent electrode formed on one surface thereof and having a light-transmitting portion; 상기 투광부를 포함하는 상기 기판의 일 부분 상에 희생층을 형성하는 희생층 형성 단계;Forming a sacrificial layer on a portion of the substrate including the light-transmitting portion; 상기 기판과 상기 희생층 상에 상기 투광부의 바깥쪽에 고정되어 상기 투광부를 면적 분할하여 덮을 수 있으며 또한 간극에 의하여 서로 이격되어 있는 복수 개의 롤업 액츄에이터를 형성하는 롤업 액츄에이터 형성 단계;A roll-up actuator forming step of forming a plurality of roll-up actuators, which are fixed on the substrate and the sacrificial layer outside the light-transmitting portion to cover the light-transmitting portion in an area divided and separated from each other by a gap; 상기 간극에 의하여 노출되는 상기 희생층을 식각하는 희생층 패터닝 단계;A sacrificial layer patterning step of etching the sacrificial layer exposed by the gap; 상기 희생층 패터닝 단계의 결과로 노출된 상기 기판 상에 광 차폐 패턴을 형성하는 광 차폐 패턴 형성 단계; 및Forming a light shielding pattern on the exposed substrate as a result of the sacrificial layer patterning step; And 잔류하는 상기 희생층을 제거하는 희생층 제거 단계를 포함하고,And removing the remaining sacrificial layer, 상기 광 차폐 패턴은 적어도 일부가 상기 투광부의 상측에 위치하며,Wherein at least a part of the light shielding pattern is located on the upper side of the transparent portion, 상기 광 차폐 패턴은 상기 투명 전극 위에 형성된 광 차폐 장치의 제조 방법.Wherein the light shielding pattern is formed on the transparent electrode. 제19항에 있어서,20. The method of claim 19, 상기 광 차폐 패턴 형성 단계에서는 자가 정렬 증착법을 이용하는 광 차폐 장치의 제조 방법.Wherein the light shielding pattern forming step uses the self-aligned deposition method. 제19항에 있어서,20. The method of claim 19, 상기 희생층 패터닝 단계에서는 상기 롤업 액츄에이터의 하부에 언더컷이 형성되도록 상기 희생층을 식각하는 광 차폐 장치의 제조방법.And the sacrificial layer is etched so that an undercut is formed in a lower portion of the roll-up actuator in the sacrificial layer patterning step. 제19항에 있어서, 상기 롤업 액츄에이터 형성 단계는The method as claimed in claim 19, wherein the roll-up actuator forming step 상기 기판과 상기 희생층 상에 절연막과 도전막을 순차적으로 형성하는 단계;Sequentially forming an insulating film and a conductive film on the substrate and the sacrificial layer; 상기 도전막과 절연막을 식각하여 상기 도전막과 절연막에 상기 간극을 형성 하는 단계를 포함하는 광 차폐 장치의 제조방법.And etching the conductive film and the insulating film to form the gap in the conductive film and the insulating film. 제22항에 있어서,23. The method of claim 22, 상기 간극 형성 단계에서는 상기 희생층 상에 형성된 상기 도전막과 절연막의 일부를 식각하여 상기 간극을 형성하되, 상기 기판에 인접한 상기 도전막과 절연막의 나머지 부분은 식각을 하지 않아서 상기 간극이 형성되지 않도록 하는 광 차폐 장치의 제조방법.In the gap forming step, the conductive film formed on the sacrificial layer and a part of the insulating film are etched to form the gap, and the conductive film adjacent to the substrate and the remaining portion of the insulating film are not etched so that the gap is not formed Of the light shielding device.
KR1020090073359A 2009-05-13 2009-08-10 Light screening device and manufacturing method thereof KR101715878B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/692,285 US8576469B2 (en) 2009-05-13 2010-01-22 Light screening apparatus including roll-up actuators
EP10155823.7A EP2251732B1 (en) 2009-05-13 2010-03-08 Light screening device and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20090041855 2009-05-13
KR1020090041855 2009-05-13

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100122833A KR20100122833A (en) 2010-11-23
KR101715878B1 true KR101715878B1 (en) 2017-03-14

Family

ID=43407668

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090073359A KR101715878B1 (en) 2009-05-13 2009-08-10 Light screening device and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101715878B1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102065116B1 (en) 2011-07-14 2020-01-10 삼성전자주식회사 Optical transmittance adjusting device, Image apparatus and Method for manufacturing the device
CN108267900B (en) * 2018-02-08 2021-03-02 京东方科技集团股份有限公司 Light valve structure, manufacturing method and operation method thereof, array substrate and electronic device

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060196613A1 (en) 2005-02-24 2006-09-07 National Research Council Of Canada Microblinds and a method of fabrication thereof

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4266339A (en) * 1979-06-07 1981-05-12 Dielectric Systems International, Inc. Method for making rolling electrode for electrostatic device
US6443637B1 (en) * 2000-03-15 2002-09-03 Eastman Kodak Company Camera with electrostatic light valve that functions as diaphragm
ITTO20010250A1 (en) * 2001-03-16 2002-09-16 Fiat Ricerche ELECTROSTATIC CONTROL OPTICAL MICRO-SHUTTER DEVICE WITH FIXED NON-TRANSPARENT ELECTRODE.

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060196613A1 (en) 2005-02-24 2006-09-07 National Research Council Of Canada Microblinds and a method of fabrication thereof

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100122833A (en) 2010-11-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5450990B2 (en) Ultra-small shutter having aperture function, method for manufacturing the same, and micro camera module including the same
US8576469B2 (en) Light screening apparatus including roll-up actuators
KR101566433B1 (en) Display device
US8854712B2 (en) Display device provided with MEMS light valve and forming method thereof
WO2016033887A1 (en) Touch control panel and manufacturing method thereof
US9310605B2 (en) Method of fabricating a display apparatus
US10437044B2 (en) MEMS light valve and display device
TWI660233B (en) Photomask, method of manufacturing a photomask, pattern transfer method , method of manufacturing a display device and method of manufacturing a black matrix or a black stripe
KR101715878B1 (en) Light screening device and manufacturing method thereof
WO2015085772A1 (en) Fabrication method of substrate
US8764320B2 (en) Light screening apparatus and fabricating method thereof
JPH112764A (en) Optical opening and closing device, display device and manufacture of optical opening and closing device
KR101557485B1 (en) Micro shutter device and method of manufacturing the same
US20110170158A1 (en) Optical shuttering device and method of manufacturing the same
KR101941165B1 (en) Micro optical switch device, Image display apparatus comprising micro optical switch device and Methed of manufacturing micro optical switch device
US9958609B2 (en) Method of manufacturing nano antenna
KR100647663B1 (en) Mask for depositing thin film of flat panel display and method for fabricating the same
TWI657271B (en) Manufacturing method of color filter device, manufacturing method of active device substrate, and active device substrate
KR101941167B1 (en) Micro optical switch device, Image display apparatus comprising micro optical switch device and Method of manufacturing micro optical switch device
JP2011028075A (en) Optical control device and method of manufacturing the same
KR20130030105A (en) Micro optical switch device, image display apparatus comprising micro optical switch device and methed of manufacturing micro optical switch device
KR101560397B1 (en) Method of fabricating the thin film transistor for liquid crystal display device
JP2004061839A (en) Electrophoretic light adjusting device and its driving method
TW201606998A (en) Display device and method for fabricating the same
Goodwin et al. Artificial eyelid dynamic aperture optical arrays for large scale coding elements with application in the visible to MWIR

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200225

Year of fee payment: 4