KR101703811B1 - Mold removal apparatus for nano imprint - Google Patents

Mold removal apparatus for nano imprint Download PDF

Info

Publication number
KR101703811B1
KR101703811B1 KR1020150015854A KR20150015854A KR101703811B1 KR 101703811 B1 KR101703811 B1 KR 101703811B1 KR 1020150015854 A KR1020150015854 A KR 1020150015854A KR 20150015854 A KR20150015854 A KR 20150015854A KR 101703811 B1 KR101703811 B1 KR 101703811B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mold
support
support table
gripping
gripping means
Prior art date
Application number
KR1020150015854A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20160095232A (en
Inventor
백점곤
조민수
천옥순
Original Assignee
주식회사 에이앤디코퍼레이션
(주)세미코아
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에이앤디코퍼레이션, (주)세미코아 filed Critical 주식회사 에이앤디코퍼레이션
Priority to KR1020150015854A priority Critical patent/KR101703811B1/en
Publication of KR20160095232A publication Critical patent/KR20160095232A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101703811B1 publication Critical patent/KR101703811B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명은 나노 임프린트용 몰드 이형장치에 관한 것으로서, 상면에 피대상물이 안착된 지지테이블과, 상기 지지테이블의 일측에 설치되고, 상기 몰드의 일단부를 파지하여 고정하는 클램프유닛과, 상기 지지테이블의 일측에 이동가능하게 설치되고, 일측이 상기 몰드의 타단부를 파지하는 파지수단과, 상기 지지테이블의 일측에 설치되고, 일측이 상기 파지수단의 일측에 연결되어 상기 파지수단을 미리 설정된 각도로 회전하는 회전수단과, 일측에 상기 회전수단의 일측이 결합되고, 상기 회전수단을 일방향으로 이송하여 상기 파지수단이 상기 회전수단과 동반하여 이동되도록 하는 이송유닛 및 상기 지지테이블의 일측에 설치되고, 상기 파지수단이 일방향으로 이송되는 경우 상기 몰드의 상면 일측을 지지하면서 상기 파지수단과 동일한 방향으로 이동하는 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트용 몰드 이형장치를 제공한다.
상기와 같은 본 발명에 따르면, 피대상물에 패턴 형성 후 몰드가 자동으로 이형되도록 하고, 몰드가 균일하게 이형되도록 하면서도 몰드의 이형각도가 일정각도로 유지되도록 함으로써 몰드 이형작업의 작업성을 크게 향상시킬 수 있으면서도 몰드의 이형작업에 따른 가공불량을 크게 저하시킬 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to a mold releasing apparatus for a nanoimprint, comprising: a support table on which an object is placed on an upper surface; a clamp unit installed on one side of the support table and holding and fixing one end of the mold; A gripping means for gripping the other end of the mold, a gripping means provided on one side of the holding table, one side of which is connected to one side of the gripping means to rotate the gripping means at a predetermined angle A conveying unit that is coupled to one side of the rotating unit and conveys the rotating unit in one direction so that the holding unit moves with the rotating unit; When the gripping means is transferred in one direction, the gripping means is provided in the same direction as the gripping means while supporting one side of the upper surface of the mold The present invention provides a mold releasing device for a nanoimprint, which comprises a moving support part.
According to the present invention as described above, the mold is automatically released after forming a pattern on the object, and the mold is uniformly released while the mold is maintained at a constant angle, thereby greatly improving the workability of the mold releasing operation It is possible to greatly reduce the manufacturing defects due to mold releasing operations of the mold.

Description

나노 임프린트용 몰드 이형장치{Mold removal apparatus for nano imprint}[0001] The present invention relates to a mold removal apparatus for nano imprint,

본 발명은 나노 임프린트용 몰드 이형장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 몰드 이형작업이 자동으로 이루어지도록 하여 몰드 이형작업의 작업성을 크게 향상시킬 수 있으면서도 몰드의 이형작업에 따른 가공불량을 크게 저하시킬 수 있는 나노 임프린트용 몰드 이형장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a mold releasing apparatus for a nanoimprint, more specifically, a mold releasing operation is automatically performed to greatly improve workability of a mold releasing operation, To a mold releasing device for a nanoimprint.

최근 반도체 디바이스 및 디스크리트 트랙 미디어(DTM) 또는 비트 패턴드 미디어(BPM) 등의 자기 기록 매체등을 제조하는 경우 피대상물 상에 도포된 레지스트에 나노 임프린트를 행하는 패턴 전사 기술의 이용되고 있다.In recent years, when a semiconductor device and a magnetic recording medium such as a discrete track medium (DTM) or a bit patterned medium (BPM) are manufactured, a pattern transfer technique in which nanoimprinting is performed on a resist coated on an object is used.

여기서 나노 임프린트는 광디스크 제작에서 잘 알려져 있는 엠보싱 기술을 응용하여 발전시킨 것으로서, 보다 상세하게는 요철 패턴이 형성된 몰드로 피대상물 상에 도포된 레지스트를 압박하여 레지스트를 역학적으로 변형 또는 유동시킴으로써 미세패턴을 정밀하게 전사하는 기술이다.Here, the nanoimprint is developed by applying an embossing technique well known in the manufacture of an optical disk. More specifically, the nanoimprint is a mold in which a concavo-convex pattern is formed. The resist is mechanically deformed or flowed by pressing a resist coated on the object, It is precise transfer technology.

이러한 나노 임프린트는 몰드를 한번 제작하면 나노 레벨의 미세 구조를 간단하게 반복해서 성형할 수 있기 때문에 경제적임과 아울러 유해한 폐기물 및 배출물이 적은 전사기술이기 때문에 최근 다양한 분야에 이용되고 있다.
Such a nanoimprint is used in various fields in recent years because it is economical because it can easily and repeatedly mold a nano-level microstructure once a mold is manufactured, and is a transfer technology in which harmful waste and emission are few.

도1은 종래의 나노 임프린트를 이용한 미세패턴 전사방법을 순서대로 도시한 순서도이다.1 is a flowchart showing a method of transferring a fine pattern using a conventional nanoimprint in order.

도1에서 보는 바와 같이 종래의 나노 임프린트법은 피대상물 상에 스핀 코트 등에 의해서 균일하게 레지스트를 도포하여 레지스트 막을 성막한 상태에서 가압챔버와 피대상물 사이에 요철패턴이 형성된 몰드를 배치하고, 가압챔버를 통해 몰드가 레지스트를 압박하도록 함으로써 미세패턴이 정밀하게 전사되도록 한 후 피대상물로부터 몰드를 이형하여 작업을 완료한다.As shown in FIG. 1, in the conventional nanoimprint method, a mold having a concavo-convex pattern formed between a pressurizing chamber and an object is disposed in a state in which a resist is uniformly coated on an object by a spin coat or the like to form a resist film, So that the fine pattern is precisely transferred, and then the mold is released from the object to complete the operation.

그러나, 종래의 나노 임프린트법은 몰드를 통해 미세패턴을 전사한 이후 몰드를 피대상물로부터 이형하는 작업이 작업자에 의해 수작업으로 이루어지면서 작업성이 크게 낮은 문제점이 있었다.However, in the conventional nanoimprint method, since the work of releasing the mold from the object after the transfer of the fine pattern through the mold is performed manually by the operator, there is a problem that the workability is significantly low.

뿐만 아니라 종래의 나노 임프린트법은 작업자가 몰드를 피대상물로부터 이형하기 위해 몰드의 일측을 파지한 상태에서 몰드를 일방향으로 말아가면서 이형하게 되는데, 이때 몰드의 이형각도가 커지면서 몰드에 형성된 요철패턴이 피대상물에 형성된 전사패턴에 간섭됨에 따라 가공 불량률이 크게 상승하는 문제점이 발생되었다.In addition, in the conventional nanoimprint method, the operator releases the mold while curling the mold in one direction while gripping one side of the mold in order to release the mold from the object. At this time, as the mold opening angle increases, There has been a problem that the defective fabrication rate is greatly increased due to interference with the transfer pattern formed on the object.

또한, 종래의 나노 임프린트법은 앞서 설명한 바와 같이 몰드 이형시 작업자가 임의로 몰드의 일측을 말아가면서 이형함으로써 몰드가 전체적으로 균일하게 이형되지 않아 몰드의 이형각도가 불균일하게 되고, 이에 따라 가공 불량률이 보다 상승하는 문제점이 있었다.
In addition, in the conventional nanoimprinting method, as described above, when the mold is released, the operator freely rolls one side of the mold, and the mold is not uniformly released over the entire surface, so that the angle of mold release is uneven, .

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 몰드 이형작업이 자동으로 이루어지도록 하여 몰드 이형작업의 작업성을 크게 향상시킬 수 있으면서도 몰드의 이형작업에 따른 가공불량을 크게 저하시킬 수 있는 나노 임프린트용 몰드 이형장치를 제공함에 있다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a mold releasing apparatus, which can automatically improve a workability of a mold releasing operation, The present invention provides a mold releasing device for a nanoimprint.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일측면에 따르면, 피대상물 상에 도포된 레지스트를 압박하여 상기 피대상물에 미세패턴을 전사하는 몰드를 상기 피대상물로부터 이형하기 위한 나노 임프린트용 몰드 이형장치에 있어서, 상면에 피대상물이 안착된 지지테이블과, 상기 지지테이블의 일측에 설치되고, 상기 몰드의 일단부를 파지하여 고정하는 클램프유닛과, 상기 지지테이블의 일측에 이동가능하게 설치되고, 일측이 상기 몰드의 타단부를 파지하는 파지수단과, 상기 지지테이블의 일측에 설치되고, 일측이 상기 파지수단의 일측에 연결되어 상기 파지수단을 미리 설정된 각도로 회전하는 회전수단과, 일측에 상기 회전수단의 일측이 결합되고, 상기 회전수단을 일방향으로 이송하여 상기 파지수단이 상기 회전수단과 동반하여 이동되도록 하는 이송유닛 및 상기 지지테이블의 일측에 설치되고, 상기 파지수단이 일방향으로 이송되는 경우 상기 몰드의 상면 일측을 지지하면서 상기 파지수단과 동일한 방향으로 이동하는 지지부를 포함하되, 상기 지지부는 상기 지지테이블의 일측에 일방향으로 이동가능하게 설치되는 지지대 및 상기 지지대의 일측에 원주방향으로 회전가능하게 결합되고, 상기 몰드의 상면을 지지하는 지지롤러를 포함하는 것이 바람직하다.According to an aspect of the present invention, there is provided a nanoimprint mold releasing apparatus for releasing a mold for pressing a resist coated on an object to transfer a fine pattern to the object, A clamping unit provided on one side of the support table for gripping and fixing one end of the mold, and a clamping unit provided movably on one side of the support table, A gripping means for gripping the other end of the mold; a rotating means provided on one side of the holding table, one side of which is connected to one side of the gripping means to rotate the gripping means at a preset angle; And the gripping means is moved together with the rotating means, And a support portion provided at one side of the support table and moving in the same direction as the holding means while supporting one side of the upper surface of the mold when the holding means is conveyed in one direction, And a support roller which is coupled to one side of the support base so as to be rotatable in the circumferential direction and supports the upper surface of the mold.

삭제delete

또한, 상기 지지부는 상기 지지대의 일측에 설치되고, 일측이 상기 지지롤러에 연결되어 상기 지지롤러에 상하방향으로 이동력을 제공하는 상하이동력제공수단을 더 포함할 수 있다.The supporting portion may further include a top power providing means provided on one side of the supporting table and having one side connected to the supporting roller to provide a supporting force in a vertical direction to the supporting roller.

아울러, 상기 회전수단은 상기 몰드가 상기 피대상물로부터 탈거되는 이형각도가 15 ~ 60°가 되도록 상기 파지수단을 회전시키는 것이 바람직하다.
Preferably, the rotating means rotates the gripping means such that the mold is released from the object at an angle of 15 to 60 degrees.

상기와 같은 본 발명에 따르면, 피대상물에 패턴 형성 후 몰드가 자동으로 이형되도록 하고, 몰드가 균일하게 이형되도록 하면서도 몰드의 이형각도가 일정각도로 유지되도록 함으로써 몰드 이형작업의 작업성을 크게 향상시킬 수 있으면서도 몰드의 이형작업에 따른 가공불량을 크게 저하시킬 수 있는 효과가 있다.
According to the present invention as described above, the mold is automatically released after forming a pattern on the object, and the mold is uniformly released while the mold is maintained at a constant angle, thereby greatly improving the workability of the mold releasing operation It is possible to greatly reduce the manufacturing defects due to mold releasing operations of the mold.

도1은 종래의 나노 임프린트를 이용한 미세패턴 전사방법을 순서대로 도시한 순서도,
도2는 본 발명의 일실시예에 따른 나노 임프린트용 몰드 이형장치의 측면도,
도3은 본 발명의 일실시예에 따른 나노 임프린용 몰드 이형장치의 평면도,
도4는 본 발명의 일실시예에 따른 회전링크가 회전되는 상태를 도시한 도면,
도5는 본 발명의 일실시예에 따른 지지롤러가 하방으로 이동되는 상태를 도시한 도면,
도6은 본 발명의 일실시예에 따른 지지플레이트 및 지지롤러가 일방향으로 이동되는 상태를 도시한 도면.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a flowchart showing a conventional method of transferring fine patterns using a nanoimprint,
FIG. 2 is a side view of a mold releasing device for a nanoimprint according to an embodiment of the present invention;
3 is a plan view of a mold releasing apparatus for a nanoimprint according to an embodiment of the present invention,
4 is a view illustrating a state in which a rotating link is rotated according to an embodiment of the present invention;
5 is a view illustrating a state in which the support roller is moved downward according to an embodiment of the present invention;
6 is a view showing a state in which the support plate and the support roller according to the embodiment of the present invention are moved in one direction.

이하에서 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 상세하게 설명하도록 한다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도2는 본 발명의 일실시예에 따른 나노 임프린트용 몰드 이형장치의 측면도이고, 도3은 본 발명의 일실시예에 따른 나노 임프린용 몰드 이형장치의 평면도이다.FIG. 2 is a side view of a mold releasing apparatus for a nanoimprint according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a plan view of a mold releasing apparatus for a nanoimprint according to an embodiment of the present invention.

도2 내지 도3에서 보는 바와 같이 본 발명의 일실시예에 따른 나노 임프린트용 몰드 이형장치(1)는 지지테이블(10)과, 클램프유닛(20)과, 파지수단(30)과, 회전수단(40)과, 이송유닛(50) 및 지지부(60)를 포함하여 구성된다.2 to 3, a mold releasing apparatus 1 for a nanoimprint according to an embodiment of the present invention includes a support table 10, a clamp unit 20, a gripping means 30, (40), a transfer unit (50), and a support unit (60).

지지테이블(10)은 대략 테이블 형상으로 형성되고, 상면에 피대상물이 안착되는 안착면(11)이 형성되는 것으로서, 피대상물에 미세패턴을 전사함과 아울러 피대상물로부터 몰드를 이형할 수 있도록 피대상물을 지지하는 역할을 한다.The support table 10 is formed in a substantially table shape and has a seating surface 11 on which an object to be placed is formed. The support table 10 has a structure in which a fine pattern is transferred to an object and the mold is released from the object It supports the object.

클램프유닛(20)은 지지테이블(10)의 일측에 고정설치되는 베이스(21)와, 베이스(21)의 일측에 이동가능하게 설치되고 몰드의 일단부 일측을 가압하여 고정하는 고정블럭(22)을 포함하고, 몰드의 일측을 지지하여 피대상물에 미세패턴을 전사하거나 피대상물로부터 몰드를 이형할수 있도록 하는 역할을 한다.The clamp unit 20 includes a base 21 fixed to one side of the support table 10, a fixed block 22 movably installed on one side of the base 21 and pressing and fixing one side of the one end of the mold, And supports one side of the mold to transfer a fine pattern to an object or to release a mold from an object.

여기서 고정블럭(22)은 일측이 공압실린더의 실린더 로드에 연결되고, 공압실린더로부터 이동력을 제공받아 피대상물 상면에 배치되는 몰드의 일측을 가압하여 고정하게 된다.Here, one side of the fixed block 22 is connected to the cylinder rod of the pneumatic cylinder, and one side of the mold disposed on the upper surface of the object is pressed and fixed by receiving a moving force from the pneumatic cylinder.

아울러, 본 발명의 일실시예에서는 고정블럭(22)이 공압실린더에 의해 이동되는 것으로 설명하고 있으나, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며 고정블럭(22)을 이동시킬 수 있는 구조이면 어느 것이든 적용이 가능하다.In addition, although the fixed block 22 is described as being moved by the pneumatic cylinder in the embodiment of the present invention, the present invention is not limited thereto, and any structure capable of moving the fixed block 22 It is applicable.

파지수단(30)은 지지테이블(10)의 일측 중 몰드의 타단부와 대응되는 일측에 배치되는 지지플레이트(31)와, 지지플레이트(31)의 일측에 이동가능하게 설치되고 몰드의 타단부 일측을 가압하여 지지하는 파지블럭(32)을 포함하여 구성되며, 몰드의 타단부를 파지한 상태에서 후술하는 이송유닛(50)에 의해 일방향으로 이동되면서 몰드를 피대상물로부터 이형하는 역할을 한다.The holding means 30 includes a support plate 31 disposed on one side of the support table 10 and corresponding to the other end of the mold, a support plate 31 movably installed on one side of the support plate 31, And gripping the other end of the mold to release the mold from the object while being moved in one direction by the transfer unit 50 to be described later.

지지플레이트(31)는 양측단부에 각각 후술하는 한 쌍의 회전수단(40)이 결합되고, 회전수단(40)에 의해 미리 설정된 각도로 회전된 상태에서 이송유닛(50)에 의해 일방향으로 이송하면서 몰드가 피대상물로부터 이형되도록 하는 역할을 한다.A pair of rotation means 40, which will be described later, are coupled to both end portions of the support plate 31, and the support plate 31 is transferred in one direction by the transfer unit 50 while being rotated at a predetermined angle by the rotation means 40 And serves to mold the mold from the object.

파지블럭(32)은 대략 블럭형상으로 형성되고, 지지플레이트(31)의 일측에 이동가능하게 설치되며, 몰드의 타단부 일측을 가압하여 지지플레이트(31)가 이동되면서 몰드가 피대상물로부터 이형되도록 하는 역할을 한다.The grip block 32 is formed in a substantially block shape and is movably provided on one side of the support plate 31 so that the mold is released from the object while the support plate 31 is moved by pressing one side of the other end of the mold. .

회전수단(40)은 지지테이블(10)의 일측에 몰드의 이형방향으로 이동가능하게 설치되는 회전력제공수단(41)과, 일측이 회전력제공수단(41)의 일측에 결합되고 타측이 지지플레이트(31)의 일측에 연결되는 회전링크(42)를 포함하여 구성되며, 지지플레이트(31)를 미리 설정된 각도만큼 회전시켜 몰드의 이형각도를 설정하는 역할을 한다.The rotary means 40 includes a rotary force providing means 41 provided on one side of the support table 10 so as to be movable in the mold releasing direction and a rotary force providing means 41 having one side coupled to one side of the rotational force providing means 41, 31 and a rotary link 42 connected to one side of the support plate 31. The support plate 31 is rotated by a predetermined angle to set the mold opening angle.

여기서, 회전력제공수단(41)은 회전링크(42)에 회전력을 제공하는 역할을 하는 것으로서, 일반적인 모터가 사용될 수 있는데, 회전각도를 정확하게 제어하기 위해서 스텝모터(63a)가 사용되는 것이 바람직하다.Here, the rotational force providing means 41 serves to provide a rotational force to the rotational link 42, and a general motor can be used, and a step motor 63a is preferably used to accurately control the rotational angle.

회전링크(42)는 앞서 설명한 바와 같이 지지플레이트(31)의 일측에 연결되고, 회전력제공수단(41)으로부터 회전력이 제공받아 미리 설정된 각도만큼 회전하여 지지플레이트(31)가 동반하여 회전되도록 함으로써 몰드가 일정한 이형각도를 유지하면서 이형되도록 하는 역할을 한다.The rotation link 42 is connected to one side of the support plate 31 as described above and is rotated by a predetermined angle by being provided with a rotational force from the rotational force providing means 41 to rotate together with the support plate 31, To be released while maintaining a certain releasing angle.

여기서 회전링크(42)는 몰드가 피대상물로부터 탈거되는 이형각도가 15° ~ 60°가 되도록 지지플레이트(31)를 회전시키도록 하는 것이 바람직한데, 이는 몰드의 이형각도가 15°미만인 경우 피대상물과의 점착력이 높아 이형작업이 수월하지 못할 뿐 아니라 강제로 이형작업을 진행하는 경우 몰드에 일부 레지스트가 점착된 상태로 딸려오면서 전사패턴의 가공불량이 발생되며, 몰드의 이형각도가 60°를 초과하는 경우 몰드에 형성된 요철패턴이 피대상물에 형성된 전사패턴에 간섭됨에 따라 가공 불량이 발생되는 문제점이 발생되기 때문이다.It is preferable that the rotation link 42 rotates the support plate 31 so that the mold is deformed at an angle of 15 to 60 deg. From the object. If the angle of the mold is less than 15, Not only the mold releasing operation is not easy but also the releasing operation is forcibly carried out. In this case, some resist is adhered to the mold while being adhered to the mold, resulting in a defective transfer pattern, There is a problem that defective fabrication occurs due to interference with the transferred pattern formed on the object.

이송유닛(50)은 회전력제공수단(41)의 일측에 연결되어 회전력제공수단(41)에 몰드의 이형방향으로 이송력을 제공하는 역할을 하는 것으로서, 일반적인 벨트컨베이어가 이용될 수 있는데, 이러한 이송유닛(50)은 당해 기술분야에서 통상의 지식을 갖는 자에게는 상용적으로 공급되는 것을 구입하여 사용할 수 있을 정도로 공지된 것임이 자명한 것으로서 구체적인 구성설명은 생략하도록 한다.The transfer unit 50 is connected to one side of the rotational force providing means 41 and serves to provide a transfer force in the mold releasing direction to the rotational force providing means 41. A general belt conveyor can be used, It is obvious that the unit 50 is well known to those who have ordinary skill in the art to purchase and use a commercially available one, so a detailed description of the unit will be omitted.

지지부(60)는 지지테이블(10)의 일측에 일방향으로 이동가능하게 설치되는 지지대(61)와, 지지대(61)의 일측에 원주방향으로 회전가능하게 결합되는 지지롤러(62)와, 지지대(61)의 일측에 설치되고 일측이 지지롤러(62)에 연결되는 상하이동력제공수단(63)을 포함하여 구성되며, 지지플레이트(31)가 일방향으로 이송되면서 몰드를 피대상물로부터 이형하는 경우 몰드의 상면을 폭방향으로 가압하여 몰드가 균일하게 이형되도록 하는 역할을 한다.The support portion 60 includes a support table 61 which is installed on one side of the support table 10 so as to be movable in one direction, a support roller 62 which is rotatably coupled to one side of the support table 61 in the circumferential direction, 61), and the upper and lower power supply means (63), one side of which is connected to the support roller (62). When the mold is released from the object while the support plate (31) And presses the upper surface in the width direction so as to mold the mold uniformly.

지지대(61)는 앞서 설명한 바와 같이 지지테이블(10)의 일측에 일방향으로 이동가능하게 설치되어 후술하는 지지롤러(62)가 지지플레이트(31)의 이동과 함께 동반 이동되도록 하는 역할을 한다.As described above, the support table 61 is provided on one side of the support table 10 so as to be movable in one direction so that the support roller 62, which will be described later, moves together with the movement of the support plate 31.

지지롤러(62)는 대략 원통형상으로 형성되고, 지지대(61)의 일측에 회전가능하게 결합되며, 몰드의 폭방향으로 배치되어 몰드를 이형하는 경우 몰드의 상면을 가압하는 역할을 한다.The support roller 62 is formed in a substantially cylindrical shape and is rotatably coupled to one side of the support table 61 and disposed in the width direction of the mold to press the upper surface of the mold when releasing the mold.

상하이동력제공수단(63)은 지지대(61)의 일측에 설치되는 스텝모터(63a)와, 스텝모터(63a)의 회전축에 결합되고 일측에 지지롤러(62)가 결합된 회전바(63b)를 포함하여 구성되며, 회전바(63b)가 상하방향으로 회동하면서 지지롤러(62)에 상하방향으로 이동력을 제공함으로써 몰드의 상면을 지지하는 몰드의 가압력을 조절하는 역할을 한다.
The upper and lower power supply means 63 includes a step motor 63a provided at one side of the support table 61 and a rotary bar 63b coupled to the rotation shaft of the step motor 63a and having a support roller 62 at one side thereof And the rotary bar 63b rotates in the vertical direction to provide a moving force to the support roller 62 in the up and down direction to control the pressing force of the mold supporting the upper surface of the mold.

도4는 본 발명의 일실시예에 따른 회전링크가 회전되는 상태를 도시한 도면이고, 도5는 본 발명의 일실시예에 따른 지지롤러가 하방으로 이동되는 상태를 도시한 도면이며, 도6은 본 발명의 일실시예에 따른 지지플레이트 및 지지롤러가 일방향으로 이동되는 상태를 도시한 도면이다.FIG. 4 is a view illustrating a state in which a rotating link is rotated according to an embodiment of the present invention, FIG. 5 is a view illustrating a state in which a support roller is moved downward according to an embodiment of the present invention, Is a view showing a state in which the support plate and the support roller according to the embodiment of the present invention are moved in one direction.

이와 같은 구성을 갖는 본 발명의 일실시예에 따른 나노 임프린트용 몰드 이형장치(1)의 동작을 도4 내지 도6을 참조하여 설명하면 다음과 같다.The operation of the mold releasing apparatus 1 for a nanoimprint according to an embodiment of the present invention having such a structure will be described with reference to FIGS. 4 to 6. FIG.

먼저, 지지테이블(10) 상부에 상하방향으로 이동가능하게 설치된 가압챔버가 그 하부에 배치된 몰드의 상면을 가압하여 피대상물에 미세패턴이 전사되도록 한 후 가압챔버가 상방으로 이동되면, 클램프유닛(20)의 고정블럭(22)이 이동하여 몰드의 일단부를 고정하고, 파지수단(30)의 파지블럭(32)이 동하여 몰드의 타단부를 지지한다.First, when the upper surface of a mold having a pressurizing chamber, which is disposed in a lower portion of the support table 10 so as to be movable up and down, is pressed to transfer a fine pattern to an object and then the pressurizing chamber is moved upward, The fixed block 22 of the mold 20 is moved to fix one end of the mold and the holding block 32 of the holding means 30 moves to support the other end of the mold.

이렇게 클램프유닛(20)과 파지수단(30)에 의해 몰드의 양측단부가 지지되면, 도4에서 보는 바와 같이 회전수단(40)의 회전링크(42)가 회전되어 지지플레이트(31)가 미리 설정된 각도만큼 동반 회전되도록 한다.4, when the rotary link 42 of the rotating means 40 is rotated so that the support plate 31 is set in advance, as shown in FIG. 4, when the both ends of the mold are supported by the clamp unit 20 and the gripping means 30, Make an accompanying rotation by an angle.

이에 파지부에 의해 파지된 몰드의 일측이 지지플레이트(31)를 따라 상방으로 회동되며, 이때 회전바(63b)는 도5에서 보는 바와 같이 하방으로 회전되어 지지롤러(62)가 몰드의 상면을 폭방향으로 가압하도록 한다.The rotary bar 63b is rotated downward as shown in FIG. 5, so that the support roller 62 rotates in a direction opposite to the upper surface of the mold, So as to be pressed in the width direction.

이후 도6에서 보는 바와 같이 지지플레이트(31)가 이송유닛(50)에 의해 일방향, 즉 몰드의 이형방향으로 이송되면서 몰드의 일측이 피대상물로부터 이형되며, 지지롤러(62)는 지지플레이트(31)와 동일한 이송방향과 속도로 몰드의 상면을 가압하면서 이송됨에 따라 몰드의 일측이 균일한 속도로 이형되도록 한다.6, one side of the mold is released from the object while the support plate 31 is conveyed by the conveying unit 50 in one direction, that is, in the releasing direction of the mold, and the support roller 62 is supported by the support plate 31 So that one side of the mold is released at a uniform speed as it is conveyed while pushing the upper surface of the mold at the same conveying direction and speed.

이와 같이 본 발명의 일실시예에 따른 나노 임프린트용 몰드 이형장치(1)는 몰드 이형시 지지플레이트(31)가 일정한 각도를 유지함에 몰드의 이형각도가 유지될 뿐 아니라 몰드의 일측이 균일하게 이형되도록 함으로써 몰드 이형작업의 작업성을 크게 향상시킬 수 있으면서도 몰드의 이형작업에 따른 가공불량을 크게 저하시킬 수 있는 특징이 있다.
As described above, in the mold releasing apparatus 1 for a nanoimprint according to the embodiment of the present invention, since the support plate 31 maintains a certain angle when releasing the mold, the mold is not only maintained at the angle of release, So that the workability of the mold releasing operation can be greatly improved and the defective working due to the mold releasing operation can be greatly reduced.

비록 본 발명이 상기 언급된 바람직한 실시예와 관련하여 설명되어졌지만, 발명의 요지와 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정이나 변형을 하는 것이 가능하다. 따라서 첨부된 특허청구의 범위는 본 발명의 요지에서 속하는 이러한 수정이나 변형을 포함할 것이다.
Although the present invention has been described in connection with the above-mentioned preferred embodiments, it is possible to make various modifications and variations without departing from the spirit and scope of the invention. Accordingly, the appended claims are intended to cover such modifications or changes as fall within the scope of the invention.

1 : 나노 임프린트용 몰드 이형장치 10 : 지지테이블
11 : 안착면 20 : 클램프유닛
21 : 베이스 22 : 고정블럭
30 : 파지수단 31 : 지지플레이트
32 : 파지블럭 40 : 회전수단
41 : 회전력제공수단 42 : 회전링크
50 : 이송유닛 60 : 지지부
61 : 지지대 62 : 지지롤러
63 : 상하이동력제공수단 63a : 스텝모터
63b : 회전바1: mold release device for nanoimprint 10: support table
11: seat surface 20: clamp unit
21: base 22: fixed block
30: holding means 31: supporting plate
32: gripping block 40: rotating means
41: rotational force providing means 42: rotational link
50: transfer unit 60:
61: support base 62: support roller
63: Shanghai power supply means 63a: Step motor
63b: rotating bar

Claims (4)

피대상물 상에 도포된 레지스트를 압박하여 상기 피대상물에 미세패턴을 전사하는 몰드를 상기 피대상물로부터 이형하기 위한 나노 임프린트용 몰드 이형장치에 있어서,
상면에 피대상물이 안착된 지지테이블과;
상기 지지테이블의 일측에 설치되고, 상기 몰드의 일단부를 파지하여 고정하는 클램프유닛과;
상기 지지테이블의 일측에 이동가능하게 설치되고, 일측이 상기 몰드의 타단부를 파지하는 파지수단과;
상기 지지테이블의 일측에 설치되고, 일측이 상기 파지수단의 일측에 연결되어 상기 파지수단을 미리 설정된 각도로 회전하는 회전수단과;
일측에 상기 회전수단의 일측이 결합되고, 상기 회전수단을 일방향으로 이송하여 상기 파지수단이 상기 회전수단과 동반하여 이동되도록 하는 이송유닛; 및
상기 지지테이블의 일측에 설치되고, 상기 파지수단이 일방향으로 이송되는 경우 상기 몰드의 상면 일측을 지지하면서 상기 파지수단과 동일한 방향으로 이동하는 지지부를 포함하되,
상기 지지부는
상기 지지테이블의 일측에 일방향으로 이동가능하게 설치되는 지지대; 및
상기 지지대의 일측에 원주방향으로 회전가능하게 결합되고, 상기 몰드의 상면을 지지하는 지지롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트용 몰드 이형장치.
A mold releasing apparatus for a nanoimprint in which a mold for pressing a resist coated on an object to transfer a fine pattern to the object is released from the object,
A support table on which an object is placed;
A clamp unit installed on one side of the support table and holding and fixing one end of the mold;
Gripping means movably installed on one side of the support table and having one side gripping the other end of the mold;
Rotating means provided on one side of the support table and having one side connected to one side of the holding means to rotate the holding means at a predetermined angle;
A transfer unit coupled to one side of the rotating means on one side and to move the holding means in conjunction with the rotating means by transferring the rotating means in one direction; And
And a support unit installed on one side of the support table and moving in the same direction as the gripping unit while supporting one side of the upper surface of the mold when the gripping unit is conveyed in one direction,
The support
A support table movably installed on one side of the support table in one direction; And
And a support roller rotatably coupled to one side of the support in a circumferential direction and supporting an upper surface of the mold.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 지지부는
상기 지지대의 일측에 설치되고, 일측이 상기 지지롤러에 연결되어 상기 지지롤러에 상하방향으로 이동력을 제공하는 상하이동력제공수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트용 몰드 이형장치.
The method according to claim 1,
The support
Further comprising: a top power supply unit installed at one side of the support and connected to the support roller at one side thereof to provide a moving force in the up and down direction to the support roller.
제1항에 있어서,
상기 회전수단은 상기 몰드가 상기 피대상물로부터 탈거되는 이형각도가 15 ~ 60°가 되도록 상기 파지수단을 회전시키는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트용 몰드 이형장치.The method according to claim 1,
Wherein the rotating means rotates the gripping means such that the mold is released from the object at an angle of 15 to 60 DEG.
KR1020150015854A 2015-02-02 2015-02-02 Mold removal apparatus for nano imprint KR101703811B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150015854A KR101703811B1 (en) 2015-02-02 2015-02-02 Mold removal apparatus for nano imprint

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150015854A KR101703811B1 (en) 2015-02-02 2015-02-02 Mold removal apparatus for nano imprint

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160095232A KR20160095232A (en) 2016-08-11
KR101703811B1 true KR101703811B1 (en) 2017-02-09

Family

ID=56713962

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150015854A KR101703811B1 (en) 2015-02-02 2015-02-02 Mold removal apparatus for nano imprint

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101703811B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG11201901367RA (en) 2016-09-05 2019-03-28 Ev Group E Thallner Gmbh Apparatus and method for embossing micro- and/or nanostructures

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010105314A (en) 2008-10-31 2010-05-13 Toray Ind Inc Method of molding film intermittently and device using the method
JP2014004696A (en) 2012-06-21 2014-01-16 Hitachi Industrial Equipment Systems Co Ltd Fine structure transfer apparatus

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5279397B2 (en) * 2008-08-06 2013-09-04 キヤノン株式会社 Imprint apparatus, imprint method, and device manufacturing method
JP5593190B2 (en) * 2010-10-08 2014-09-17 東芝機械株式会社 Mold peeling device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010105314A (en) 2008-10-31 2010-05-13 Toray Ind Inc Method of molding film intermittently and device using the method
JP2014004696A (en) 2012-06-21 2014-01-16 Hitachi Industrial Equipment Systems Co Ltd Fine structure transfer apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160095232A (en) 2016-08-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI472422B (en) Nano-imprinting apparatus and method
CA2611436C (en) Method and device for nano-imprinting
TWI436878B (en) Mold stripping device
KR20140109624A (en) Large scaled imprint apparatus and method
JP6702973B2 (en) Mounting and release device
JP2005108975A5 (en)
Lim et al. Roll-to-roll nanoimprint lithography for patterning on a large-area substrate roll
JP2007269023A (en) Device of treating tire surface for attaching patch
WO2012117716A1 (en) Marking device
JP2015507355A (en) UV forming apparatus and method for roll-to-roll alignment
KR101703811B1 (en) Mold removal apparatus for nano imprint
KR20210018154A (en) Microstructure transfer device and microstructure transfer method
CN109521642A (en) The method of imprinting apparatus and manufacture display panel
EP2431808B1 (en) Method and apparatus for securing printing forms on a mountable surface
KR100885670B1 (en) High temperature embossing apparatus using auto-transfer process
JP2005005284A (en) Micromachining equipment and device using it
KR101240319B1 (en) Roll imprint method and apparatus with dual stamp
TWI489582B (en) Multiple adjustment and positioning mechanism
KR101303194B1 (en) Liquid transfer imprint lithography apparatus using a roll stamp and the method
JPH09107018A (en) Wafer centering device
ATE352865T1 (en) DEVICE FOR WAFER PREPARATION
JP4440370B2 (en) Pattern replication device to flexible sheet base material
KR101721497B1 (en) Apparatus for manufacturing roll stamp and method for manufacturing roll stamp using the same
CN206232077U (en) Relay turns material device
KR101678684B1 (en) The glass circuit board patterning equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant