KR101689166B1

KR101689166B1 - Scrubber System

Info

Publication number: KR101689166B1
Application number: KR1020140141948A
Authority: KR
Inventors: 김형극; 이상준; 신승규; 김남형
Original assignee: 씨에스케이(주)
Priority date: 2014-10-20
Filing date: 2014-10-20
Publication date: 2016-12-26
Also published as: KR20160046989A

Abstract

본 발명은 내부가 중공인 박스 형상이며, 내부의 상부에 가열 영역을 구비하며, 내부의 하부에 폐가스 유입홀과 폐가스 배출홀을 구비하는 가열 하우징과, 상하로 관통되는 다수의 유입 통로를 구비하며, 상기 가열 하우징의 내부에서 상기 가열 영역과 상기 폐가스 유입홀 사이에 위치하는 유입 유닛과 상하로 관통되는 다수의 배출 통로를 구비하며, 상기 가열 하우징의 내부에서 상기 가열 영역과 상기 폐가스 배출홀 사이에 위치하는 배출 유닛 및 상기 가열 영역의 내부로 유입되는 상기 폐가스를 가열하는 가열 유닛을 구비하는 가열부를 포함하는 스크러버 시스템을 개시한다.The present invention relates to a heating furnace having a hollow interior and having a heating area at an upper portion thereof, a heating housing having a waste gas inlet hole and a waste gas discharge hole at a lower portion thereof, and a plurality of inlet passages vertically passing through the heating housing, And a plurality of discharge passages vertically passing through the heating unit and between the heating zone and the waste gas inlet hole and between the heating zone and the waste gas discharge hole in the heating housing And a heating unit including a heating unit for heating the waste gas flowing into the heating region and an exhaust unit located in the heating region.

Description

Scrubber System [0002]

본 발명은 전자 산업 공정에서 발생되는 폐가스 처리에 사용되는 가열 방식의 스크러버 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a heating type scrubber system used in waste gas treatment generated in an electronic industrial process.

반도체, 평판 표시 장치, 태양 전지 또는 엘이디와 같은 전자 산업 제품의 제조공정 중에 발생하는 폐가스는 유해 가스인 휘발성 유기 화합물(VOC) 및 과불화 화합물(PFC's)을 포함하고 있다. 특히, 화학 증착 공정등에 사용되는 가스인 NF₃는 PFCs등과 더불어 지구 온난화를 촉진하는 가스이며 매우 유독성이 강한 독성가스이다.Waste gases generated during the manufacturing process of electronic industrial products such as semiconductors, flat panel displays, solar cells or LEDs contain volatile organic compounds (VOC) and perfluorinated compounds (PFC's), which are harmful gases. In particular, NF ₃ , a gas used in chemical vapor deposition processes, is a toxic gas that promotes global warming in addition to PFCs and is highly poisonous.

NF₃ 및 PFC 가스는 히팅 방식, 플라즈마 방식 또는 연소 방식과 같은 가열 방식 또는 화학적 흡착 방식의 스크러버 시스템에 의해 처리되고 있다. 상기 가열 방식은 NF₃가스의 처리를 위해 가장 일반적으로 사용되는 방식이다.NF ₃ and PFC gases are processed by a scrubbing system of a heating system such as a heating system, a plasma system or a combustion system or a chemical adsorption system. The heating method is the most commonly used method for treating NF ₃ gas.

종래의 가열 방식에 사용되는 스크러버 시스템은 가열 챔버가 고온으로 유지되는 상태에서 폐가스가 단순히 통과되도록 형성되어 에너지 효율 및 처리 효율이 낮아 문제가 된다. 또한, 최근에는 반도체 또는 평판 표시 장치의 대형화로 인한 공정 가스의 사용량 증가에 따라 폐가스의 배출량도 증가하고 있어 고효율의 폐가스 처리용 스크러버 시스템이 요구된다.The scrubber system used in the conventional heating system is formed such that the waste gas is simply passed through the heating chamber while the heating chamber is maintained at a high temperature, resulting in low energy efficiency and low processing efficiency. In recent years, as the amount of process gas used increases due to the enlargement of semiconductor or flat panel display devices, the amount of waste gas discharged also increases, which requires a highly efficient scrubber system for waste gas treatment.

본 발명은 전자 산업 공정에서 발생되는 폐가스를 효율적으로 처리할 수 있는 가열 방식의 스크러버 시스템을 제공한다.The present invention provides a heating type scrubber system capable of efficiently treating waste gas generated in an electronic industrial process.

본 발명의 스크러버 시스템은 내부가 중공인 박스 형상이며, 내부의 상부에 가열 영역을 구비하며, 내부의 하부에 폐가스 유입홀과 폐가스 배출홀을 구비하는 가열 하우징과, 상하로 관통되는 다수의 유입 통로를 구비하며, 상기 가열 하우징의 내부에서 상기 가열 영역과 상기 폐가스 유입홀 사이에 위치하는 유입 유닛과, 상하로 관통되는 다수의 배출 통로를 구비하며, 상기 가열 하우징의 내부에서 상기 가열 영역과 상기 폐가스 배출홀 사이에 위치하는 배출 유닛 및 상기 가열 영역의 내부로 유입되는 상기 폐가스를 가열하는 가열 유닛을 구비하는 가열부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The scrubber system according to the present invention is a scrubber system having a hollow interior and having a heating area on the upper part thereof, a heating housing having a waste gas inlet hole and a waste gas discharge hole in a lower part thereof, and a plurality of inflow passages An inlet unit located between the heating zone and the waste gas inlet hole in the heating housing, and a plurality of discharge passages vertically penetrating the heating housing, wherein the heating zone and the waste gas And a heating unit including a discharge unit located between the discharge holes and a heating unit for heating the waste gas flowing into the heating area.

또한, 상기 가열부는 상기 폐가스 유입홀에 결합되는 폐가스 유입관과, 상기 폐가스 배출홀에 결합되는 폐가스 배출관 및 판상으로 형성되며, 상기 유입 유닛과 상기 배출 유닛의 사이에서 상기 가열 영역으로 연장되는 분리 격벽을 더 포함하여 형성될 수 있다. The heating unit may include a waste gas inlet pipe coupled to the waste gas inlet hole, a waste gas discharge pipe coupled to the waste gas discharge hole and a plate, and a partition wall extending between the inlet unit and the discharge unit, As shown in FIG.

또한, 본 발명의 스크러버 시스템은 상기 가열부의 폐가스 배출관과 연결되어 가열된 상기 폐가스가 유입되는 수조 탱크 및 하부가 개방되며, 상기 수조 탱크의 타측 상부에 결합되어 상기 수조 탱크로부터 상승하는 상기 폐가스에 물을 분사하는 수처리부를 더 포함하여 형성될 수 있다.In the scrubber system of the present invention, the water tank connected to the waste gas discharge pipe of the heating unit and the heated waste gas flowing into the water tank and the lower part thereof are opened, and the scrubber system is connected to the upper part of the other side of the water tank, And a water treatment unit for spraying the water.

또한, 상기 유입 유닛과 배출 유닛은 스테인레스 스틸, 인바 합금, 알루미나(Al₂O₃), Al₂TiO₅, SiC 또는 Si₃N₄로 형성될 수 있다.Further, the inflow unit and the discharge unit may be formed of stainless steel, invar alloy, alumina (Al ₂ O ₃ ), Al ₂ TiO ₅ , SiC or Si ₃ N ₄ .

또한, 상기 유입 유닛과 배출 유닛은 상기 유입 유닛의 타측면과 배출 유닛의 일측면이 접촉되어 일체로 형성될 수 있다.In addition, the inflow unit and the discharge unit may be formed integrally with one side of the discharge unit and the other side of the inflow unit in contact with each other.

또한, 상기 유입 유닛은 소정 높이를 갖는 복수 개의 단위 유입 블록이 적층되어 형성되며, 상기 배출 유닛은 소정 높이를 갖는 복수 개의 단위 배출 블록이 적층되어 형성될 수 있다. 이때, 상기 단위 유입 블록은 제 1 유입 격벽과 제 2 유입 격벽이 교차하여 형성되는 격자 형상으로 결합되며, 상기 유입 통로가 격자 형상으로 배치되며, 상기 단위 배출 블록은 제 1 배출 격벽과 제 2 배출 격벽이 교차하여 형성되는 격자 형상으로 결합되며, 상기 배출 통로가 격자 형상으로 배치되도록 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 1 유입 격벽은 하면에서 상측 방향으로 형성되는 제 1 유입 체결 홈을 포함하고, 제 2 유입 격벽은 상면에서 하측 방향으로 형성되는 제 2 유입 체결 홈을 포함하며, 상기 제 1 유입 격벽과 제 2 유입 격벽은 수직으로 교차되는 상태에서 상기 제 1 유입 체결 홈에 상기 제 2 유입 체결 홈이 삽입되면서 결합되며, 상기 제 1 배출 격벽은 하면에서 상측 방향으로 형성되는 제 1 배출 체결 홈을 포함하고, 제 2 배출 격벽은 상면에서 하측 방향으로 형성되는 제 2 배출 체결 홈을 포함하며, 상기 제 1 배출 격벽과 제 2 배출 격벽은 수직으로 교차되는 상태에서 상기 제 1 배출 체결 홈에 상기 제 2 배출 체결 홈이 삽입되면서 결합되도록 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 2 유입 격벽은 상기 제 1 유입 격벽의 상부로 돌출되도록 결합되며, 상기 제 2 유입 격벽은 상기 제 1 유입 격벽에 대하여 상부로 돌출되어 유입 안착 영역이 형성되고 하부에 유입 안착 홈이 형성되며, 상기 제 2 배출 격벽은 상기 제 1 배출 격벽의 상부로 돌출되도록 결합되며, 상기 제 2 배출 격벽은 상기 제 1 배출 격벽에 대하여 상부로 돌출되어 배출 안착 영역이 형성되고 하부에 배출 안착 홈이 형성될 수 있다. 또한, 상기 가열 유닛은 발열 히터, 플라즈마 토치 또는 버너를 포함하여 형성될 수 있다. 이때, 상기 발열 히터는 복수 개가 상기 가열 영역의 내부로 연장되도록 형성될 수 있다. 또한, 상기 가열 유닛은 상기 가열 영역을 500 ~ 1,400℃의 온도로 가열하도록 형성될 수 있다.In addition, the inflow unit may be formed by stacking a plurality of unit inflow blocks having a predetermined height, and the discharge unit may be formed by stacking a plurality of unit discharge blocks having a predetermined height. At this time, the unit intake block is coupled in a lattice shape formed by intersecting the first inlet partition wall and the second inlet partition wall, the inlet passage is arranged in a lattice shape, and the unit discharge block includes a first discharge partition wall and a second discharge And the discharge passages are arranged in a lattice shape. The first inlet barrier wall may include a first inlet coupling groove formed in an upward direction from a lower surface thereof and the second inlet barrier wall may include a second inlet coupling groove formed in a downward direction from an upper surface thereof, And the second inlet bulkhead are vertically intersected while the second inlet coupling groove is inserted into the first inlet coupling groove, and the first discharge partition wall has a first discharge engaging groove formed upward in the lower surface thereof And the second discharge partition wall includes a second discharge engagement groove formed in a downward direction from an upper surface thereof, wherein the first discharge partition wall and the second discharge partition wall vertically cross each other, 2 discharge engaging groove is inserted. The second inlet partition wall is protruded upward from the first inlet partition wall to form an inlet seating region and an inlet seating groove is formed at a lower portion of the second inlet partition wall. And the second discharge partition wall is protruded upward from the first discharge partition wall, the second discharge partition wall is protruded upward from the first discharge partition wall to form a discharge seating area, Can be formed. Also, the heating unit may include a heating heater, a plasma torch, or a burner. At this time, a plurality of the heating heaters may be formed to extend into the heating region. Further, the heating unit may be configured to heat the heating region to a temperature of 500 to 1,400 ° C.

본 발명의 스크러버 시스템은 가열되어 배출되는 폐가스의 열을 회수하여 처리를 위하여 유입되는 폐가스를 미리 예열함으로써 폐가스의 처리 효율과 에너지 효율을 증가시킬 수 있는 효과가 있다.The scrubber system of the present invention has an effect of recovering the heat of the waste gas heated and discharged and preheating the waste gas introduced for the treatment to increase the treatment efficiency and energy efficiency of the waste gas.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버 시스템의 사시도이다.
도 2는 도 1의 가열부의 수직 단면도이다.
도 3은 도 2의 A-A에 대한 수직 단면도이다.
도 4는 본 발명의 가열부를 구성하는 단위 유입 블록 및 단위 배출 블록의 결합 관계를 도 2의 방향에서 나타내는 확대도이다.
도 5는 도 4의 단위 유입 블록 및 단위 배출 블록의 결합 관계를 도 3의 방향에서 나타내는 확대도이다.
도 6은 도 4의 단위 유입 블록을 구성하는 제 1 유입 격벽과 제 2 유입 격벽의 결합 관계를 나타내는 확대도이다.
도 7은 도 1의 수조 탱크의 부분 수직 단면도이다.
도 8은 도 1의 수처리부의 수직 단면도이다.1 is a perspective view of a scrubber system according to an embodiment of the present invention.
2 is a vertical cross-sectional view of the heating unit of Fig.
3 is a vertical cross-sectional view of AA of FIG.
Fig. 4 is an enlarged view showing the coupling relationship between the unit inlet block and the unit discharge block constituting the heating portion of the present invention in the direction of Fig.
Fig. 5 is an enlarged view showing the coupling relationship between the unit intake block and the unit discharge block in Fig. 4 in the direction of Fig. 3;
FIG. 6 is an enlarged view showing a coupling relationship between the first inlet bulkhead and the second inlet bulkhead constituting the unit inlet block of FIG. 4;
7 is a partial vertical sectional view of the water tank of Fig. 1;
8 is a vertical sectional view of the water treatment section of FIG.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버 시스템에 대하여 설명한다.
Hereinafter, a scrubber system according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

먼저, 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버 시스템의 구조에 대하여 설명한다.First, the structure of a scrubber system according to an embodiment of the present invention will be described.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버 시스템의 사시도이다. 도 2는 도 1의 가열부의 수직 단면도이다. 도 3은 도 2의 A-A에 대한 수직 단면도이다. 도 4는 본 발명의 가열부를 구성하는 단위 유입 블록 및 단위 배출 블록의 결합 관계를 도 2의 방향에서 나타내는 확대도이다. 도 5는 도 4의 단위 유입 블록 및 단위 배출 블록의 결합 관계를 도 3의 방향에서 나타내는 확대도이다. 도 6은 도 4의 단위 유입 블록을 구성하는 제 1 유입 격벽과 제 2 유입 격벽의 결합 관계를 나타내는 확대도이다. 도 7은 도 1의 수조 탱크의 부분 수직 단면도이다. 도 8은 도 1의 수처리부의 확대 수직 단면도이다.
1 is a perspective view of a scrubber system according to an embodiment of the present invention. 2 is a vertical cross-sectional view of the heating unit of Fig. 3 is a vertical cross-sectional view of AA of FIG. Fig. 4 is an enlarged view showing the coupling relationship between the unit inlet block and the unit discharge block constituting the heating portion of the present invention in the direction of Fig. Fig. 5 is an enlarged view showing the coupling relationship between the unit intake block and the unit discharge block in Fig. 4 in the direction of Fig. 3; FIG. 6 is an enlarged view showing a coupling relationship between the first inlet bulkhead and the second inlet bulkhead constituting the unit inlet block of FIG. 4; 7 is a partial vertical sectional view of the water tank of Fig. 1; 8 is an enlarged vertical cross-sectional view of the water treatment section of FIG.

본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버 시스템은, 도 1 내지 도 8을 참조하면, 가열부(100)와 수조 탱크(200) 및 수처리부(300)를 포함하여 형성된다. 상기 스크러버 시스템은 이하에서 설명하는 수조 탱크(200) 및 수처리부(300)의 구성 외에도 반도체 공정에 사용되는 일반적인 스크러버 시스템의 수조 탱크 및 수처리부가 가열부(100)와 결합되어 형성될 수 있다.1 to 8, a scrubber system according to an embodiment of the present invention includes a heating unit 100, a water tank 200, and a water treatment unit 300. The scrubber system may be formed by combining the water tank tank and the water treatment unit of the general scrubber system used in the semiconductor process, in addition to the constitution of the water tank tank 200 and the water treatment unit 300 described below.

상기 스크러버 시스템은 가열부(100)에서 폐가스를 가열시키기 전에 배출되는 폐가스의 열을 이용하여 예열함으로써 폐가스의 처리 효율을 증가시킨다. 상기 스크러버 시스템은 폐가스에 포함되어 있는 NF₃와 같은 성분을 가열 및 분해시키며, 가열, 산화 또는 열분해되는 과정에서 발생되는 SiO₂와 같은 반응 부산물 입자와 HF와 같은 수용성 유해 가스를 물과 접촉시켜 포집한다.The scrubber system increases the treatment efficiency of the waste gas by preheating the waste gas using the heat of the waste gas discharged before heating the waste gas in the heating unit 100. The scrubber system heats and decomposes components such as NF ₃ contained in the waste gas and collects reaction by-product particles such as SiO ₂ and water-soluble noxious gas such as HF generated in the process of heating, oxidation or pyrolysis, do.

상기 가열부(100)는 가열 하우징(110)과 유입 유닛(120)과 배출 유닛(130) 및 가열 유닛(140)을 포함하여 형성된다. 또한, 상기 가열부(100)는 분리 격벽(150)과 폐가스 유입관(160) 및 폐가스 배출관(170)을 더 포함하여 형성될 수 있다. 또한, 상기 가열부(100)는 외부 하우징(180)을 더 포함하여 형성될 수 있다.The heating unit 100 includes a heating housing 110, an inflow unit 120, a discharge unit 130, and a heating unit 140. The heating unit 100 may further include a partition wall 150, a waste gas inlet pipe 160, and a waste gas discharge pipe 170. The heating unit 100 may further include an outer housing 180.

상기 가열부(100)는 가열 유닛(140)에서 발생되는 열을 이용하여 폐가스를 가열하여 분해한다.
The heating unit 100 heats and decomposes the waste gas using heat generated in the heating unit 140.

상기 가열 하우징(110)은 내부가 중공인 박스 형상으로 형성되며, 육면체 형상 또는 원통 형상으로 형성될 수 있다. 상기 가열 하우징(110)은 가열부(100)의 몸체를 이루게 된다. 상기 가열 하우징(110)은 하부에 폐가스 유입홀(112)과 폐가스 배출홀(114)을 구비하여 형성된다. 또한, 가열 하우징(110)은 히터홀(115) 및 히터홈(116)을 더 포함하여 형성될 수 있다.상기 가열 하우징(110)은 내부에 유입 유닛(120)과 배출 유닛(130) 및 가열 유닛(140)이 수용되는 공간을 제공한다. 보다 구체적으로는, 상기 가열 하우징(110)은 내부의 하측에 유입 유닛(120)과 배출 유닛(130)이 배치되도록 형성된다. 또한, 상기 가열 하우징(110)은 내부의 상측에 가열 유닛(140)이 위치하여 폐가스의 가열 및 분해가 진행되는 가열 영역(a)을 형성한다. 이때, 상기 가열 영역(a)은 폐가스가 가열 및 분해되는데 필요한 시간 동안 체류할 수 있도록 처리해야 하는 폐가스의 양과 폐가스의 흐름 속도를 고려하여 충분한 체적을 가지도록 형성된다.The heating housing 110 is formed in a box shape having a hollow interior, and may be formed in a hexahedron shape or a cylindrical shape. The heating housing 110 forms the body of the heating unit 100. The heating housing 110 is formed with a waste gas inlet hole 112 and a waste gas discharge hole 114 at a lower portion thereof. The heating housing 110 may further include a heater hole 115 and a heater groove 116. The heating housing 110 includes an inlet unit 120 and a discharge unit 130, Thereby providing a space in which the unit 140 is accommodated. More specifically, the heating housing 110 is formed so that the inflow unit 120 and the discharge unit 130 are disposed on the lower side of the inside of the heating housing 110. Also, the heating housing 110 has a heating unit 140 positioned on the upper side of the heating housing 110 to form a heating region a where heating and decomposition of waste gas proceeds. At this time, the heating region (a) is formed to have a sufficient volume in consideration of the amount of waste gas to be treated and the flow rate of the waste gas so that the waste gas can stay for a time required for heating and decomposition.

상기 폐가스 유입홀(112)은 가열 하우징(110)의 하면의 일측에서 유입 유닛(120)의 하부에 형성된다. 상기 폐가스 유입홀(112)에는 폐가스 유입관(160)이 결합되며, 연소 또는 분해될 폐가스가 유입 유닛(120)으로 유입되는 통로를 형성한다. 한편, 상기 폐가스 유입홀(112)은 가열 하우징(110)의 일측면에 형성될 수 있다. The waste gas inlet hole 112 is formed at a lower portion of the inflow unit 120 at one side of the lower surface of the heating housing 110. A waste gas inlet pipe (160) is coupled to the waste gas inlet hole (112), and a waste gas to be combusted or decomposed is introduced into the inlet unit (120). The waste gas inlet hole 112 may be formed on one side of the heating housing 110.

상기 폐가스 배출홀(114)은 가열 하우징(110)의 하면의 타측에서 배출 유닛(130)의 하부에 형성된다. 상기 폐가스 배출홀(114)에는 폐가스 배출관(170)이 결합되며, 연소 또는 분해된 폐가스가 수조 탱크(200)로 배출되는 통로를 형성한다. 한편, 상기 폐가스 배출홀(114)은 가열 하우징(110)의 타측면에 형성될 수 있다.
The waste gas discharge hole 114 is formed in the lower portion of the discharge unit 130 on the other side of the lower surface of the heating housing 110. A waste gas discharge pipe 170 is connected to the waste gas discharge hole 114 and forms a passage through which the waste gas discharged from the combustion or decomposition is discharged to the water tank 200. The waste gas discharge hole 114 may be formed on the other side of the heating housing 110.

상기 유입 유닛(120)은 상하 방향으로 관통되는 다수의 유입 통로(120a)가 구비되는 블록 형상으로 형성된다. 상기 유입 유닛(120)은 가열 하우징(110)의 내부의 일측에서 가열 영역(a)과 폐가스 유입홀(112) 사이에 위치한다. 상기 유입 유닛(120)은 수평 단면 형상이 가열 하우징(110)의 수평 단면 형상의 절반에 대응되는 형상으로 형성된다. 또한, 상기 유입 유닛(120)은 가열 하우징(110)의 내부의 상측에 가열 영역(a)이 형성되도록 가열 하우징(110)의 높이보다 작은 높이로 형성된다. 상기 유입 유닛(120)은 열전도성과 내부식성이 있는 금속 재질 또는 세라믹 재질로 형성되며, 스테인레스 스틸, 인바(Invar) 합금, 알루미나(Al₂O₃), Al₂TiO₅, SiC, Si₃N₄와 같은 재질로 형성된다. The inflow unit 120 is formed in a block shape having a plurality of inflow passages 120a penetrating in the vertical direction. The inlet unit 120 is located between the heating zone a and the waste gas inlet 112 at one side of the interior of the heating housing 110. The inlet unit 120 has a horizontal cross-sectional shape corresponding to a half of the horizontal cross-sectional shape of the heating housing 110. The inflow unit 120 is formed at a height smaller than the height of the heating housing 110 so that the heating area a is formed on the upper side of the inside of the heating housing 110. The intake unit 120 is formed of a metallic material or ceramic material with thermal conductivity and corrosion resistance, stainless steel, Invar (Invar) alloy, alumina _{_{(Al 2 O 3), Al}} 2 TiO 5, SiC, Si 3 N 4 And the like.

상기 유입 유닛(120)은 소정 높이를 갖는 단위 유입 블록(121)이 적층되어 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 유입 유닛(120)은 도 2에서 보는 바와 같이 18개의 단위 유입 블록(121)이 적층되어 형성될 수 있다. 상기 유입 유닛(120)은 고열에 노출되며 부식성이 있는 폐가스가 유입 통로(120a)를 흐르게 되어 변형과 부식이 진행되므로, 주기적인 보수 또는 교체가 요구된다. 상기 단위 유입 블록(121)은 유입 유닛(120)의 전체에 비하여 상대적으로 무게가 가벼우므로 이동이 용이하며 보수 또는 교체가 용이하다. 또한, 상기 단위 유입 블록(121)은 문제가 있는 단위 유입 블록(121)만을 교체하게 되므로 교체 또는 유지 비용이 절감될 수 있다.The inflow unit 120 may be formed by stacking unit inflow blocks 121 having a predetermined height. For example, the inflow unit 120 may be formed by stacking 18 unit inflow blocks 121 as shown in FIG. The inflow unit 120 is exposed to a high temperature and corrosive waste gas flows through the inflow passage 120a to be deformed and corroded, so that periodic maintenance or replacement is required. Since the unit inflow block 121 is relatively light in weight compared to the entire inflow unit 120, the unit inflow block 121 is easy to move and easy to repair or replace. In addition, since the unit inflow block 121 only needs to replace the unit inflow block 121 having a problem, the replacement or maintenance cost can be reduced.

상기 단위 유입 블록(121)은 제 1 유입 격벽(122)과 제 2 유입 격벽(123)이 교차하여 격자 형상으로 형성되며, 상하로 관통되는 유입 통로(120a)가 격자 형상으로 배치되도록 형성된다. 상기 제 1 유입 격벽(122)과 제 2 유입 격벽(123)은 단위 유입 블록(121)의 높이에 대응되는 높이와 단위 유입 블록(121)의 폭 또는 길이에 대응되는 길이로 형성된다. 또한, 상기 제 1 유입 격벽(122)과 제 2 유입 격벽(123)은 소정 두께로 형성된다. 상기 제 1 유입 격벽(122)과 제 2 유입 격벽(123)은 평면을 기준으로 소정 각도로 교차되도록 형성되며, 바람직하게는 서로 수직으로 교차되도록 형성된다. 이를 위하여, 도 7을 참조하면, 상기 제 1 유입 격벽(122)은 하면에서 상측 방향으로 형성되는 제 1 유입 체결 홈(122a)을 포함하고, 제 2 유입 격벽(123)은 상면에서 하측 방향으로 형성되는 제 2 유입 체결 홈(123a)을 포함하여 형성될 수 있다. 도 6은 제 1 유입 체결 홈(122a)과 제 2 유입 체결 홈(123a)의 형상을 명확하게 도시하고자, 제 2 유입 격벽(123)이 제 1 유입 격벽(122)에 대하여 90도로 회전된 상태를 도시하였다. 상기 제 1 유입 격벽(122)과 제 2 유입 격벽(123)이 수직으로 교차되는 상태에서 제 1 유입 체결 홈(122a)에 제 2 유입 체결 홈(123a)이 삽입되면서 제 1 유입 격벽(122)과 제 2 유입 격벽(123)이 결합된다. 한편, 상기 제 1 유입 격벽(122)은 전체가 하나의 판상으로 형성되고, 제 2 유입 격벽(123)이 소정 길이를 갖는 단위 판상으로 형성되어 제 1 유입 격벽(122) 사이에 위치하도록 형성될 수 있다. The unit inlet block 121 is formed in a lattice shape such that the first inlet barrier 122 and the second inlet barrier 123 intersect and the inlet passages 120a passing through the upper and lower portions are arranged in a lattice form. The first inlet barrier rib 122 and the second inlet barrier rib 123 are formed to have a height corresponding to the height of the unit inlet block 121 and a length corresponding to the width or length of the unit inlet block 121. The first inlet barrier rib 122 and the second inlet barrier rib 123 may have a predetermined thickness. The first inlet barrier rib 122 and the second inlet barrier rib 123 are formed to cross at a predetermined angle with respect to a plane, and are preferably formed to intersect perpendicularly to each other. 7, the first inlet barrier rib 122 includes a first inlet coupling groove 122a formed upward from a lower surface thereof, and a second inlet barrier rib 123 extends from an upper surface to a lower side And a second inflow coupling groove 123a formed therein. 6 shows a state in which the second inlet partition wall 123 is rotated 90 degrees with respect to the first inlet partition wall 122 in order to clearly show the shapes of the first inlet coupling groove 122a and the second inlet coupling groove 123a, Respectively. The second inlet coupling groove 123a is inserted into the first inlet coupling groove 122a while the first inlet barrier rib 122 and the second inlet barrier rib 123 are perpendicular to each other, And the second inlet barrier rib 123 are coupled. The first inlet barrier ribs 122 are formed in a single plate and the second inlet barrier ribs 123 are formed in a unit plate shape having a predetermined length to be positioned between the first inlet barrier ribs 122 .

또한, 상기 제 1 유입 격벽(122)과 제 2 유입 격벽(123)은 서로 결합될 때 어느 하나의 유입 격벽이 다른 하나의 유입 격벽에 비하여 상부로 돌출되도록 결합된다. 예를 들면, 도 4와 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 제 2 유입 격벽(123)이 제 1 유입 격벽(122)의 상부로 돌출되도록 결합된다. 따라서, 상기 제 2 유입 격벽(123)은 제 1 유입 격벽(122)에 대하여 상부로 돌출되어 형성되는 유입 안착 영역(123b)과 하부에 형성되는 유입 안착 홈(123c)이 형성된다. 여기서, 상기 유입 안착 영역(123b)은 제 2 유입 격벽(123)이 제 1 유입 격벽(122)에 대하여 상대적으로 상부가 돌출되도록 결합되어 제 1 유입 격벽(122)에 대하여 상대적으로 형성되는 영역이다. 또한, 상기 유입 안착 홈(123c)는 제 2 유입 격벽(123)이 제 1 유입 격벽(122)에 대하여 상대적으로 상부가 돌출되도록 결합되면서 제 1 유입 격벽(122)에 대하여 상대적으로 하부에 형성되는 홈이다. 따라서, 상기 단위 유입 블록(121)은 상하로 적층되어 결합될 때, 제 1 유입 격벽(122)과 제 2 유입 격벽(123)이 일정한 위치에서 서로 결합되며, 유입 통로(120a)가 상하 방향으로 일정한 형상을 유지하도록 형성된다.When the first inlet barrier rib 122 and the second inlet barrier rib 123 are coupled to each other, one of the inlet barrier ribs is coupled to the upper portion of the other one of the inlet barrier ribs. For example, as shown in FIGS. 4 and 5, the second inlet barrier rib 123 is coupled to the upper portion of the first inlet barrier rib 122. Therefore, the second inlet partition wall 123 is formed with an inlet seating area 123b protruding upward from the first inlet partition wall 122 and an inlet seating groove 123c formed at the lower part. The inlet seating area 123b is a region where the second inlet partition wall 123 is relatively protruded relative to the first inlet partition wall 122 and formed to be relatively protruded relative to the first inlet partition wall 122 . The inlet seating groove 123c is formed at a lower portion relative to the first inlet partition wall 122 while the second inlet partition wall 123 is coupled to the upper portion of the first inlet partition wall 122 so as to protrude relatively Home. Therefore, when the unit inlet block 121 is vertically stacked and coupled, the first inlet partition wall 122 and the second inlet partition wall 123 are coupled to each other at a predetermined position, and the inlet passage 120a is vertically And is formed to maintain a constant shape.

상기 유입 유닛(120)은 가열 하우징(110)의 폐가스 유입홀(112)을 통하여 유입되는 폐가스가 유입 통로(120a)를 통하여 가열 영역(a)으로 흘러가도록 한다. 또한, 상기 유입 유닛(120)은 배출 유닛(130)으로부터 전도되는 열을 이용하여 폐가스가 유입 통로(120a)를 흐르는 동안 가열하여 예열된 상태에서 가열 영역(a)으로 흘러 가도록 한다.The inflow unit 120 allows the waste gas flowing through the waste gas inlet hole 112 of the heating housing 110 to flow to the heating region a through the inflow passage 120a. Also, the inflow unit 120 uses the heat conducted from the discharge unit 130 to heat the waste gas while flowing in the inflow passage 120a to flow into the heating area a in the preheated state.

한편, 상기 유입 유닛(120)은 유입되는 폐가스의 예열 온도를 측정하기 위한 다수의 유입 열전대(125)가 유입 통로(120a)에 위치하도록 형성될 수 있다. 상기 유입 열전대(125)는 유입 통로(120a)의 온도와 폐가스의 예열 온도를 측정하여 스크러버 시스템의 적정한 작동에 필요한 정보를 제공한다.
Meanwhile, the inflow unit 120 may be formed such that a plurality of inflow thermocouples 125 for measuring the preheating temperature of the incoming waste gas are located in the inflow passages 120a. The inlet thermocouple 125 measures the temperature of the inlet passageway 120a and the preheat temperature of the waste gas to provide information necessary for proper operation of the scrubber system.

상기 배출 유닛(130)은 상하 방향으로 관통되는 다수의 배출 통로(130a)가 형성되는 블록 형상으로 형성된다. 상기 배출 유닛(130)은 가열 하우징(110)의 타측에서 가열 영역(a)과 폐가스 배출홀(114) 사이에 위치하도록 형성된다. 또한, 상기 배출 유닛(130)은 수평 단면 형상이 가열 하우징(110)의 수평 단면 형상의 절반에 대응되는 형상으로 형성된다. 상기 배출 유닛(130)은 가열 하우징(110)의 내부에서 배치되는 위치를 제외하고는 유입 유닛(120)과 동일 또는 유사하게 형성된다. 또한, 상기 배출 유닛(130)은 유입 유닛(120)과 일체로 형성될 수 있다. 따라서, 상기 배출 유닛(130)에 대하여 이하에서 필요한 부분을 제외하고 동일 유사한 구성에 대하여는 구체적인 설명을 생략한다. The discharge unit 130 is formed in a block shape having a plurality of discharge passages 130a passing through in the vertical direction. The discharge unit 130 is formed to be positioned between the heating region a and the waste gas discharge hole 114 on the other side of the heating housing 110. In addition, the discharge unit 130 has a horizontal cross-sectional shape corresponding to a half of the horizontal cross-sectional shape of the heat housing 110. The discharge unit 130 is formed to be the same as or similar to the inflow unit 120 except for the position to be disposed inside the heating housing 110. In addition, the discharge unit 130 may be formed integrally with the inflow unit 120. Therefore, a detailed description of the same configuration of the discharge unit 130 will be omitted, except for the parts required below.

상기 배출 유닛(130)은 소정 높이를 갖는 단위 배출 블록(131)이 적층되어 형성될 수 있다. 상기 단위 배출 블록(131)은 제 1 배출 격벽(132)과 제 2 배출 격벽(133)이 교차하여 격자 형상으로 형성되며, 상하로 관통되는 배출 통로(130a)가 형성될 수 있다. 도 6을 참조하면, 상기 제 1 배출 격벽(132)은 하면에서 상측 방향으로 형성되는 제 1 배출 체결 홈(132a)을 포함하고, 제 2 배출 격벽(133)은 상면에서 하측 방향으로 형성되는 제 2 배출 체결 홈(133a)을 포함하여 형성될 수 있다. 상기 제 1 배출 격벽(132)과 제 2 배출 격벽(133)이 수직으로 교차되는 상태에서 제 1 배출 체결 홈(132a)에 제 2 배출 체결 홈(133a)이 삽입되면서 제 1 배출 격벽(132)과 제 2 배출 격벽(133)이 결합된다.The discharge unit 130 may include a unit discharge block 131 having a predetermined height. The unit discharge block 131 may have a lattice shape intersecting the first discharge partition wall 132 and the second discharge partition wall 133 and may have a discharge passage 130a passing through the upper and lower portions. Referring to FIG. 6, the first discharge partition 132 includes a first discharge engagement groove 132a formed upward in the lower surface thereof, and a second discharge partition 133 is formed in a downward direction 2 discharge engaging groove 133a. The second discharge engagement groove 133a is inserted into the first discharge engagement groove 132a while the first discharge barrier rib 132 and the second discharge barrier rib 133 are vertically intersected with each other, And the second discharge partition 133 are coupled to each other.

또한, 상기 제 1 배출 격벽(132)과 제 2 배출 격벽(133)은 서로 결합될 때 어느 하나의 배출 격벽이 다른 하나의 배출 격벽에 비하여 상부로 돌출되도록 결합된다. 예를 들면, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 제 2 배출 격벽(133)이 제 1 배출 격벽(132)의 상부로 돌출되도록 결합된다. 따라서, 상기 제 2 배출 격벽(133)은 제 1 배출 격벽(132)에 대하여 상부로 돌출되어 배출 안착 영역(133b)과 하부에 형성되는 배출 안착 홈(133c)이 형성된다. 따라서, 상기 단위 유입 블록(121)은 상하로 적층되어 결합될 때, 제 1 배출 격벽(132)과 제 2 배출 격벽(133)이 일정한 위치에서 서로 결합되며, 유입 통로(120a)가 상하 방향으로 일정한 형상을 유지하도록 형성된다.In addition, when the first discharge partition wall 132 and the second discharge partition wall 133 are coupled to each other, one discharge partition wall is coupled to the upper portion of the other discharge partition wall. For example, as shown in FIGS. 4 and 5, the second discharge partition 133 is coupled to the upper portion of the first discharge partition 132. Accordingly, the second discharge partition 133 protrudes upward from the first discharge partition 132 to form the discharge seat 133b and the discharge seat 133c. Therefore, when the unit inflow block 121 is vertically stacked and coupled, the first discharge partition wall 132 and the second discharge partition wall 133 are coupled to each other at a predetermined position, and the inflow passage 120a is vertically And is formed to maintain a constant shape.

상기 배출 유닛(130)은 가열 영역(a)에서 연소 처리된 폐가스를 배출 통로(130a)를 통하여 폐가스 배출홀(114)로 흘러가도록 한다. 또한, 상기 배출 유닛(130)은 배출 통로(130a)를 흐르는 폐가스의 열에 의하여 가열되면서 축적되는 열을 유입 유닛(120)으로 전달하여 유입 유닛(120)이 가열되도록 한다.The discharge unit 130 allows the waste gas that has been burned in the heating area (a) to flow to the waste gas discharge hole 114 through the discharge passage 130a. In addition, the discharge unit 130 transfers heat accumulated by the heat of waste gas flowing through the discharge passage 130a to the inflow unit 120 so that the inflow unit 120 is heated.

한편, 상기 배출 유닛(130)은 배출되는 폐가스의 가열 온도를 측정하기 위한 다수의 배출 열전대(135)가 배출 통로(130a)에 위치하도록 형성될 수 있다. 상기 배출 열전대(125)는 배출 통로(130a)의 온도와 폐가스의 배출 온도를 측정하여 스크러버 시스템의 적정한 작동에 필요한 정보를 제공한다.
Meanwhile, the discharge unit 130 may be formed such that a plurality of discharge thermocouples 135 for measuring the heating temperature of the waste gas discharged are located in the discharge passage 130a. The exhaust thermocouple 125 measures the temperature of the discharge passage 130a and the discharge temperature of the waste gas to provide information necessary for proper operation of the scrubber system.

상기 가열 유닛(140)은 가열 영역(a)의 내부로 유입되는 폐가스를 가열하여 연소 또는 분해시킨다. 상기 가열 유닛(140)은 막대 형상으로 이루어지는 복수 개의 발열 히터(141)를 포함하여 형성된다. 또한, 상기 가열 유닛(140)은 가열 영역(a)의 온도를 측정하기 위한 다수의 가열 열전대(142)를 포함하여 형성될 수 있다.The heating unit 140 heats and combusts or decomposes the waste gas introduced into the heating region (a). The heating unit 140 is formed to include a plurality of heating elements 141 having a rod shape. Also, the heating unit 140 may include a plurality of heating thermocouples 142 for measuring the temperature of the heating region (a).

또한, 상기 가열 유닛(140)은 발열 히터(141) 대신에 폐가스를 처리하는 스크러버 시스템에 사용되는 플라즈마 토치(미도시) 또는 버너(미도시)를 포함하여 형성될 수 있다. 상기 플라즈마 토치 또는 버너는 플라즈마 또는 화염을 이용하여 폐가스를 가열하여 분해한다. 상기 플라즈마 토치 또는 버너는 가열 하우징(110)의 측부 또는 상부에 설치되어 가열 영역(a)에 플라즈마 또는 화염을 형성하여 폐가스를 가열한다. 상기 플라즈마 토치 또는 버너는 폐가스를 처리하는 스크러버 시스템에서 일반적으로 사용되는 구성이므로 여기서 구체적인 설명을 생략한다. 한편, 상기 가열 유닛이 플라즈마 토치 또는 버너로 형성되는 경우에, 가열 하우징(110)은 발열 히터(141)를 고정하는데 필요로 하는 히터홀(115)과 히터홈(116)과 같은 구성들을 포함하지 않을 수 있다.
In addition, the heating unit 140 may include a plasma torch (not shown) or a burner (not shown) used in a scrubber system for treating waste gas instead of the heating heater 141. The plasma torch or the burner decomposes by heating the waste gas using a plasma or a flame. The plasma torch or the burner is installed on the side or top of the heating housing 110 to form a plasma or a flame in the heating region a to heat the waste gas. The plasma torch or the burner is a construction commonly used in a scrubber system for treating waste gas, so a detailed description thereof will be omitted. In the case where the heating unit is formed of a plasma torch or a burner, the heating housing 110 does not include the heater holes 115 and the heater grooves 116 required for fixing the heating heater 141 .

상기 발열 히터(141)는 방열 히터(Radiant Heater) 또는 열선이 권취되어 형성되는 열선 히터로 형성될 수 있다. 한편, 상기 발열 히터(141)는 구체적으로 도시하지는 않았지만, 가열 하우징(110)의 외부로 노출되는 전단에 별도의 전기 단자(미도시)가 연결되어 발열에 필요한 전기 에너지를 공급받는다. 또한, 상기 발열 히터(141)는 가열 하우징(110)의 전면과 후면에서 전단과 후단에 각각 전기 단자가 연결되어 전기를 공급받도록 형성될 수 있다. 상기 발열 히터(141)는 복수 개가 가열 하우징(110)의 가열 영역(a)으로 연장되며, 매트릭스 형상을 이루도록 서로 소정 간격으로 이격 배치되어 형성된다. 상기 발열 히터(141)는 처리해야 하는 폐가스의 양과 가열 영역(a)의 부피 및 가열하는 온도에 따라 적정한 개수로 형성된다. 또한, 상기 발열 히터(141)는 바람직하게는 가열 하우징(110)의 전면(또는 후면)에서 후면(또는 전면)으로 연장되도록 형성된다. 이때, 상기 발열 히터(141)는 가열 하우징(110)의 전면에 형성되는 히터홀(115)을 통하여 가열 영역(a)으로 연장되며, 후면의 내측에 형성되는 히터홈(116)에 의하여 단부가 지지된다. 따라서, 상기 발열 히터(141)는 가열 영역(a)에서 폐가스의 흐름 방향에 대하여 수직을 이루도록 배치되며, 폐가스가 원활하게 흘러가면서 표면에 효율적으로 접촉되어 가열되도록 한다. The heating heater 141 may be a radiator heater or a hot wire heater formed by winding a hot wire. Meanwhile, although not shown in detail, the heating heater 141 is connected to a separate electrical terminal (not shown) at a front end exposed to the outside of the heating housing 110 to receive electrical energy required for heat generation. In addition, the heating heater 141 may be formed so that electrical terminals are connected to front and rear ends of the front and rear surfaces of the heating housing 110 to receive electricity. A plurality of the heating heaters 141 extend to the heating region a of the heating housing 110 and are spaced apart from each other at a predetermined interval to form a matrix. The heating heater 141 is formed in an appropriate number according to the amount of waste gas to be treated, the volume of the heating region (a), and the heating temperature. The heating heater 141 is preferably formed to extend from the front surface (or rear surface) of the heating housing 110 to the rear surface (or front surface). At this time, the heating heater 141 is extended to the heating region a through a heater hole 115 formed in the front surface of the heating housing 110, and the end portion is formed by the heater groove 116 formed inside the rear surface . Accordingly, the heating heater 141 is arranged to be perpendicular to the flowing direction of the waste gas in the heating region (a), and efficiently flows on the surface while heating the waste gas flowing smoothly.

상기 가열 유닛(140)은 가열 영역(a)을 500 ~ 1,400℃의 온도로 가열하며 유입되는 폐가스를 가열시킨다. 상기 가열 영역(a)의 온도가 너무 낮으면 폐가스의 가열이 충분하게 진행되지 않아 폐가스의 처리가 불완전하게 된다. 예를 들면, 상기 NF3 가스는 500℃보다 낮은 온도에서는 분해 및 제거 효율(Destruction and Removal of Efficiency)이 충분하지 않다. 또한, 상기 가열 영역(a)의 온도가 너무 높으면 불필요하게 에너지 사용량이 증가되는 문제가 있다.The heating unit 140 heats the heating region (a) to a temperature of 500 to 1,400 ° C and heats the waste gas to be introduced. If the temperature of the heating zone (a) is too low, the heating of the waste gas does not proceed sufficiently and the treatment of the waste gas becomes incomplete. For example, the NF 3 gas is not sufficient to have a destruction and removal efficiency of less than 500 ° C. Further, if the temperature of the heating region (a) is too high, energy consumption is unnecessarily increased.

또한, 상기 가열 유닛(140)은 가열 하우징(110)의 내부에서 별도의 차단벽없이 유입 유닛(120)과 배출 유닛(130)과 하나의 공간에 위치하므로, 유입 유닛(120)과 배출 유닛(130)도 가열한다. 따라서, 상기 유입 유닛(120)은 유입 통로(120a)를 흐르는 폐가스를 소정 온도로 예열할 수 있다. Since the heating unit 140 is located in one space with the inflow unit 120 and the discharge unit 130 without a separate blocking wall inside the heating housing 110, the inflow unit 120 and the discharge unit 130 130 are also heated. Accordingly, the inflow unit 120 can preheat the waste gas flowing through the inflow passage 120a to a predetermined temperature.

상기 가열 열전대(142)는 가열 영역(a)이 적정한 온도를 유지하는데 필요한 가열 영역의 온도를 측정하여 제공한다.
The heating thermocouple 142 measures and provides the temperature of the heating zone necessary for maintaining the proper temperature of the heating zone (a).

상기 분리 격벽(150)은 판상으로 형성되며, 유입 유닛(120)과 배출 유닛(130) 사이의 상면에서 발열 히터(141) 사이의 영역으로 연장되도록 소정 높이로 형성된다. 또한, 상기 분리 격벽(150)은 가열 하우징(110)의 후면과 전면 사이의 거리에 대응되는 폭으로 형성된다. 상기 분리 격벽(150)은 유입 유닛(120)과 배출 유닛(130) 사이의 상면에서 소정 높이까지의 영역을 두 영역으로 분리시킨다. 따라서, 상기 분리 격벽(150)은 가열된 폐가스가 유입 유닛(120) 방향으로 흘러가는 것을 차단한다. 또한, 상기 분리 격벽(150)은 유입 통로(120a)를 통하여 유입되는 폐가스가 가열 영역(a)의 일측에서 타측으로 발열 히터(141)와 접촉하면서 흐르도록 통로를 형성한다. 상기 유입 유닛(120)은 폐가스가 유입되는 압력이 있으므로 가열된 폐가스가 유입 유닛(120)의 상부로 흘러가더라도 유입 통로(120a)로 유입되지 않지만, 유입 통로(120a)를 통하여 유입되는 폐가스의 원활한 흐름이 방해되는 것을 감소시킨다.The partition wall 150 is formed in a plate shape and is formed at a predetermined height so as to extend from the upper surface between the inflow unit 120 and the discharge unit 130 to a region between the heater units 141. The partition 150 is formed to have a width corresponding to the distance between the rear surface and the front surface of the heating housing 110. The separation barrier 150 separates a region up to a predetermined height from the upper surface between the inflow unit 120 and the discharge unit 130 into two regions. Accordingly, the barrier ribs 150 prevent the heated waste gas from flowing toward the inflow unit 120. The partition wall 150 forms a passage through which the waste gas flowing through the inlet passage 120a flows in contact with the heater 141 from one side of the heating region a to the other side. Even if the heated waste gas flows to the upper part of the inflow unit 120, the inflow unit 120 does not flow into the inflow path 120a. However, since the inflow unit 120 has a smooth flow of the waste gas flowing through the inflow path 120a, Reducing flow interruption.

상기 폐가스 유입관(160)은 상부가 개방되고 하부가 밀폐된 통 형상으로 형성된다. 상기 페가스 유입홀(160)은 폐가스 유입홀(112)의 평면 형상에 대응되는 평면 형상을 가지며, 폐가스 유입홀(112)에 결합된다. 상기 폐가스 유입관(160)은 측면에 폐가스 공급홀(161)이 형성되며, 폐가스 공급관(162)이 결합된다. 상기 폐가스 공급관(162)은 제조 공정 라인의 배기 라인(미도시)에 연결되어 배기 라인을 흐르는 폐가스를 폐가스 공급홀을 통하여 폐가스 유입관(160)으로 공급한다. 한편, 상기 폐가스 유입관(160)이 직접 제조 공정 라인의 배기 라인에 연결되도록 형성될 수 있다. The waste gas inlet pipe 160 is formed in a cylindrical shape having an open top and a closed bottom. The purge gas inlet hole 160 has a planar shape corresponding to the planar shape of the waste gas inlet hole 112 and is coupled to the waste gas inlet hole 112. The waste gas inlet pipe 160 has a waste gas supply hole 161 formed on a side surface thereof and a waste gas supply pipe 162 is coupled to the waste gas inlet pipe 160. The waste gas supply pipe 162 is connected to an exhaust line (not shown) of the manufacturing process line, and supplies waste gas flowing through the exhaust line to the waste gas inlet pipe 160 through a waste gas supply hole. The waste gas inlet pipe 160 may be directly connected to the exhaust line of the manufacturing process line.

상기 폐가스 공급관(162)은 제조 공정 라인의 배기 라인에 연결되어 배기 라인을 흐르는 폐가스를 폐가스 공급홀(161)을 통하여 폐가스 유입관(160)으로 공급한다. 한편, 상기 폐가스 유입관(160)이 직접 제조 공정 라인의 배기 라인에 연결되도록 형성될 수 있다.
The waste gas supply pipe 162 is connected to the exhaust line of the manufacturing process line and supplies the waste gas flowing through the exhaust line to the waste gas inlet pipe 160 through the waste gas supply hole 161. The waste gas inlet pipe 160 may be directly connected to the exhaust line of the manufacturing process line.

상기 폐가스 배출관(170) 상부와 하부가 개방된 통 형상으로 형성된다. 상기 폐가스 배출관(170)은 폐가스 배출홀(114)의 평면 형상에 대응되는 평면 형상을 가지며, 상부가 폐가스 배출홀(114)에 결합된다. 또한, 상기 폐가스 배출관(170)은 하부가 수조 탱크(200)에 결합된다. 상기 폐가스 배출관(170)은 배출 유닛(130)을 통과한 연소 또는 분해된 폐가스가 수조 탱크(200)로 흘러가도록 한다.
The upper and lower ends of the waste gas discharge pipe 170 are formed into a cylindrical shape. The waste gas discharge pipe 170 has a planar shape corresponding to the planar shape of the waste gas discharge hole 114, and the upper portion is coupled to the waste gas discharge hole 114. The waste gas discharge pipe 170 is coupled to the water tank 200 at a lower portion thereof. The waste gas discharge pipe 170 allows the combustion or decomposed waste gas passing through the discharge unit 130 to flow into the water tank 200.

상기 외부 하우징(180)은 내부가 중공인 박스 형상으로 형성되며, 가열 하우징(110)의 외부를 감싸도록 형성된다. 특히, 상기 외부 하우징(180)은 내면이 가열 하우징(110)의 외면과 이격되도록 감싼다. 상기 가열 하우징(110)은 가열 영역(a)에 위치하는 가열 유닛(140)에 의하여 가열되면서 온도가 상승된다. 따라서, 상기 외부 하우징(180)은 가열 하우징(110)의 외면이 외부로 노출되는 것을 차단한다.The outer housing 180 is formed in a hollow box shape and is formed to surround the outside of the heating housing 110. In particular, the outer housing 180 surrounds the inner surface of the outer housing 180 so as to be spaced apart from the outer surface of the heating housing 110. The heating housing 110 is heated by the heating unit 140 located in the heating zone a and the temperature rises. Accordingly, the outer housing 180 prevents the outer surface of the heating housing 110 from being exposed to the outside.

상기 외부 하우징(180)은 외부 히터홀(181)을 구비하여 형성된다. 상기 외부 히터홀(181)은 가열 하우징(110)의 히터홀(115)에 대응되는 위치에 형성된다. 상기 외부 히터홀(181)은 가열 유닛(140)이 외부 하우징(180)의 외부로 인출되는 경로를 제공한다. The outer housing 180 is formed with an external heater hole 181. The external heater hole 181 is formed at a position corresponding to the heater hole 115 of the heat housing 110. The external heater hole 181 provides a path through which the heating unit 140 is drawn out of the outer housing 180.

한편, 미설명 부호인 190은 가열 유닛(140)에 전기를 공급하는 단자(미도시)를 보호하기 위한 커버이다.
On the other hand, a reference numeral 190 is a cover for protecting a terminal (not shown) for supplying electricity to the heating unit 140.

상기 수조 탱크(200)는 수조 하우징(210)과 수조 유도관(220)을 포함하여 형성된다. 한편, 상기 수조 탱크(200)는 구체적으로 도시하지는 않았지만, 수조 탱크(200)의 물을 펌핑하여 수처리부(300)로 공급하는 공급 펌프(241) 및 공급 펌프(241)와 수처리부(300)을 연결하여 물을 공급하는 연결 배관(242)을 공급하는 물 공급 모듈(240)이 더 형성될 수 있다. 상기 물 공급 모듈(240)은 스크러버 시스템에서 일반적인 구성이므로 구체적인 설명을 이하에서 생략한다.The water tank (200) includes a water tank housing (210) and a water tank guide pipe (220). The water tank tank 200 includes a supply pump 241 and a supply pump 241 and a water treatment unit 300 for pumping water from the water tank 200 to supply water to the water treatment unit 300, And a water supply module 240 for supplying a connection pipe 242 for supplying water by connecting the water supply module 240 and the water supply module 240. Since the water supply module 240 has a general structure in the scrubber system, a detailed description will be omitted below.

상기 수조 탱크(200)는 가열부(100)의 하부에 위치하며, 상부의 가열부(100)로부터 유입되는 폐가스가 물에 접촉되도록 하여 폐가스에 포함되어 있는 반응 부산물 입자를 포집하고 수용성 유해 가스를 제거한다. 또한, 상기 수조 탱크(200)는 반응 부산물 입자와 수용성 유해 가스가 제거된 폐가스가 수처리부(300)로 흘러가도록 한다. 또한, 상기 수조 탱크(200)는 가열부(100)에서 폐가스가 가열되면서 발생하는 반응 부산물 입자가 낙하되도록 하여 폐가스와 분리되도록 한다. 또한, 상기 수조 탱크(200)는 수처리부(300)의 내부로 분사되는 물을 공급하며, 수처리부(300)로부터 분사된 물을 회수한 후에 필터링하여 수처리부(300)의 내부로 다시 분사될 수 있도록 공급한다.The water tank tank 200 is located at a lower portion of the heating unit 100. The waste gas introduced from the upper heating unit 100 is brought into contact with water to collect reaction by-product particles contained in the waste gas, Remove. In addition, the water tank tank 200 allows the waste by-products, from which reaction by-product particles and water-soluble noxious gas are removed, to flow to the water treatment unit 300. In addition, the water tank tank 200 allows the reaction by-product particles generated while the waste gas is heated in the heating unit 100 to be separated from the waste gas. In addition, the water tank 200 supplies water sprayed into the water treatment unit 300, filters the water sprayed from the water treatment unit 300, and injects the water back into the water treatment unit 300 To be supplied.

상기 수조 하우징(210)은 내부가 중공인 박스 형상으로 형성되며, 상부 일측에 형성되는 수조 유입홀(211)과 상부 타측에 형성되는 수조 배출홀(213)이 형성된다. 상기 수조 하우징(210)은 수처리부(300)에서 사용되는 물을 저장한다. 상기 수조 유입홀(211)에는 가열부(100)의 폐가스 배출관(170)이 연결된다. 상기 수조 유입홀(211)에는 가열부(100)의 폐가스 배출관(170)과 결합되는 수조 유입관(212)이 더 결합될 수 있다. 또한, 상기 수조 배출홀9213)에는 수처리부(300)가 연결된다. 상기 수조 배출홀(213)에는 수처리부(300)와 연결되는 수조 배출관(214)이 더 결합될 수 있다. 상기 수조 탱크(200)는 내부에 일정 수위로 물이 채워지며, 수조 유입홀(211)을 통하여 유입되는 폐가스에 포함되어 있는 반응 부산물 입자, 수용성 가스 성분을 포집한다. 또한, 상기 수조 탱크(200)는 수조 배출홀(213)을 통하여 폐가스가 배출되어 수처리부(300)로 흘러가도록 한다.The water tank housing 210 is formed in a hollow box shape and has a water tank inlet hole 211 formed at one side of the upper part and a water tank outlet hole 213 formed at the other side of the upper part. The water tank housing 210 stores water used in the water treatment unit 300. A waste gas discharge pipe 170 of the heating unit 100 is connected to the water tank inflow hole 211. The water tank inflow pipe 211 coupled to the waste gas discharge pipe 170 of the heating unit 100 may further be coupled to the water tank inflow hole 211. In addition, the water treatment unit 300 is connected to the water tank exhaust hole 9213. A water tank exhaust pipe 214 connected to the water treatment unit 300 may further be coupled to the water tank exhaust hole 213. The water tank tank 200 is filled with water at a predetermined level and collects reaction by-product particles and water-soluble gas components contained in the waste gas flowing through the water tank inflow hole 211. In addition, the water tank 200 discharges the waste gas through the water tank discharge hole 213 and flows to the water treatment unit 300.

한편, 상기 수조 하우징(210)는 가열부(100)가 일측 상부에 장착되며, 연소 또는 분해된 폐가스가 유입되는 다양한 구조로 형성될 수 있다.
Meanwhile, the water tank housing 210 may have various structures in which the heating unit 100 is mounted on one side and the combustion gas or decomposed waste gas flows in.

상기 수조 유도관(220)은 상부에서 하부로 개방된 통 형상이며 수조 유입홀(211)과 수조 배출홀(213)가 내부에 위치하도록 수조 하우징(210)의 상면에 결합되어 형성된다. 상기 수조 유도관(220)은 하단이 수조 하우징(210)의 물 수위(W)보다 낮게 되도록 형성된다. 따라서, 상기 수조 유입홀(211)로 유입된 폐가스는 수조 유도관(220)과 수조 하우징(210) 상부와 물에 의하여 형성되는 공간을 흘러 가면서 물과 직접 접촉된다. 상기 수조 유도관(220)은 수조 유입홀(211)로부터 유입되는 폐가스가 직접 물에 접촉되도록 유도하여 폐가스에 포함되어 있는 반응 부산물 입자 또는 수용성 유해 가스가 보다 효과적으로 물에 포집되도록 한다. 또한, 상기 수조 유도관(220)은 폐가스가 수조 하우징(210)의 내부에서 다른 영역으로 흐르지 않도록 한다.
The water tank guiding pipe 220 is formed to be coupled to the upper surface of the water tank housing 210 such that the water tank inflow hole 211 and the water tank discharge hole 213 are located inside. The water tank guiding pipe 220 is formed such that its lower end is lower than the water level W of the water tank housing 210. Therefore, the waste gas flowing into the water tank inflow hole 211 is directly contacted with water while flowing through the space formed by the water tank guiding pipe 220, the water tank housing 210, and the water. The water tank guiding pipe 220 induces the waste gas introduced from the water tank inflow hole 211 to directly contact the water so that the reaction by-product particles or the water-soluble noxious gas contained in the waste gas are more effectively collected in the water. Also, the water tank guiding pipe 220 prevents the waste gas from flowing inside the water tank housing 210 to another area.

상기 수처리부(300)는 제1 분사 유닛(310) 및 제 2 분사 유닛(320)을 포함하여 형성된다. 상기 수처리부(300)는 하부가 개방되어 수조 탱크(200)의 타측 상부에 형성되는 수조 배출홀(213)에 결합되며, 수조 탱크(200)로부터 유입되는 폐가스에 물을 분사하여 폐가스에 포함되어 있는 반응 부산물 입자 또는 수용성 유해 가스 성분을 추가적으로 포집하여 수조 탱크(200)로 유입되도록 한다. The water treatment unit 300 includes a first injection unit 310 and a second injection unit 320. The water treatment unit 300 is connected to the water tank exhaust hole 213 formed at the upper part of the other side of the water tank tank 200 with the lower part thereof opened and injects water into the waste gas flowing from the water tank tank 200, The reaction by-product particles or water-soluble noxious gas components are additionally captured and introduced into the water tank 200.

한편, 상기 수처리부(300)는 하부가 개방되며, 수조 탱크(200)의 타측 상부에 결합되어 수조 탱크(200)로부터 상승하는 폐가스에 물을 분사하는 다양한 구조로 형성될 수 있다.The water treatment unit 300 may have various structures that are open at the lower part and are connected to the upper part of the other side of the water tank 200 to spray water to the waste gas rising from the water tank 200.

상기 제 1 분사 유닛(310)은 제 1 하우징(311)과 제 1 공급관(312)과 제 1 분사 노즐(313) 및 제 1 포집층(314)을 포함하여 형성된다. 또한, 상기 제 1 분사 유닛(310)은 제 1 지지판(315)를 더 포함하여 형성될 수 있다. 상기 제 1 분사 유닛(310)은 폐가스가 수조 탱크(200)로부터 상승하여 제 1 하우징(311)의 내부로 유입되도록 한다. 또한, 상기 제 1 분사 유닛(310)은 제 1 분사 노즐(313)이 하방으로 물을 분사하여 폐가스에 포함되어 있는 미세한 반응 부산물 입자 또는 수용성 유해 가스 성분을 추가로 제거한다.The first injection unit 310 includes a first housing 311, a first supply pipe 312, a first injection nozzle 313, and a first collecting layer 314. Further, the first injection unit 310 may further include a first support plate 315. The first injection unit 310 causes the waste gas to rise from the water tank 200 and flow into the first housing 311. Also, the first injection unit 310 injects water downward through the first injection nozzle 313 to further remove fine reaction by-product particles or water-soluble noxious gas components contained in the waste gas.

상기 제 1 하우징(311)은 내부가 중공인 원통 형상으로 형성되며. 상부와 하부가 개방되어 형성된다. 상기 제 1 하우징(311)은 하부의 직경이 점진적으로 작아지도록 형성되며, 하부가 수조 탱크(200)의 타측 상부에 형성되는 수조 배출홀(213)에 결합된다.The first housing 311 is formed in a hollow cylindrical shape. And the upper part and the lower part are opened. The first housing 311 is formed so that the diameter of the lower portion gradually decreases and the lower portion of the first housing 311 is coupled to the water tank exhaust hole 213 formed on the other side of the water tank 200.

상기 제 1 공급관(312)은 제 1 하우징(311)의 상부에서 제 1 하우징(311)의 내부로 연장되어 형성되며, 외부로부터 물을 공급받는다. 상기 제 1 공급관(312)은 제 1 하우징(311)의 내부 직경에 따라 Y자 형상과 같이 여러 갈래로 분기되어 형성될 수 있다.The first supply pipe 312 extends from the upper portion of the first housing 311 to the inside of the first housing 311 and receives water from the outside. The first supply pipe 312 may be formed in a plurality of branches such as a Y shape according to the inner diameter of the first housing 311.

상기 제 1 분사 노즐(313)은 제 1 공급관(312)에 결합되며, 제 1 공급관(312)으로 공급되는 물이 하부 방향으로 분사한다. 상기 제 1 분사 노즐(313)은 스크러버 시스템에 사용되는 다양한 분사 노즐로 형성될 수 있다.The first injection nozzle 313 is coupled to the first supply pipe 312 and the water supplied to the first supply pipe 312 is injected in a downward direction. The first injection nozzle 313 may be formed of various injection nozzles used in a scrubber system.

상기 제 1 포집층(314)은 일반적인 반도체 폐가스 처리 스크러버 시스템에 사용되는 폴링(pall ring)이 소정 높이로 적층되어 형성된다. 상기 제 1 포집층(314)은 표면적이 증가되어 분사되는 물이 표면을 따라 하부로 흐르도록 한다. 따라서, 상기 제 1 포집층(314)은 물이 폐가스와 접촉하는 시간을 증가시키게 되며, 물이 폐가스와 접촉하여 폐가스의 미세한 반응 부산물 입자 또는 수용성 유해 가스가 제거되도록 한다. 한편, 상기 제 1 포집층(314)은 텔러렛(tellerette)와 같이 표면적이 증가된 충전물로 형성될 수 있다.The first collecting layer 314 is formed by stacking a pall ring at a predetermined height used in a general semiconductor waste gas treatment scrubber system. The first collection layer 314 is increased in surface area so that the water to be sprayed flows downward along the surface. Thus, the first collecting layer 314 increases the time the water contacts the waste gas and allows the water to contact the waste gas to remove fine reaction by-product particles or water-soluble noxious gas from the waste gas. Meanwhile, the first collecting layer 314 may be formed of a filling material having increased surface area, such as a tellerette.

상기 제 1 지지판(315)은 제 1 하우징(311)의 내부 직경에 대응되는 직경을 갖는 원판 형상으로 형성되며, 폐가스가 흐르는 다수 개의 지지 관통홀(315a)이 형성된다. 상기 제 1 지지판(315)은 제 1 하우징(311)의 하부에 위치한다. 상기 제 1 지지판(315)은 상부에 위치하는 제 1 포집층(314)을 지지한다.
The first support plate 315 is formed in a circular plate shape having a diameter corresponding to the inner diameter of the first housing 311, and a plurality of support through holes 315a through which waste gas flows are formed. The first support plate 315 is positioned below the first housing 311. The first supporting plate 315 supports the first collecting layer 314 located on the upper side.

상기 제 2 분사 유닛(320)은 제 2 하우징(321)과 제 2 분사관(322)과 제 2 포집층(324) 및 제 2 트랩판(326)을 포함하여 형성된다. 또한, 상기 제 2 분사 유닛은 제 2 지지판(325)를 더 포함하여 형성될 수 있다. 한편, 제 2 분사 유닛(320)은 상부에 별도의 상부 캡(327)과 상부 배기관(328)이 더 형성될 수 있다. 상기 상부 캡(327)과 상부 배기관(328)는 일반적인 구성이므로 구체적인 설명을 이하에서 생략한다.The second injection unit 320 includes a second housing 321, a second injection pipe 322, a second collecting layer 324, and a second trap plate 326. The second injection unit may further include a second support plate 325. The second injection unit 320 may further include an upper cap 327 and an upper exhaust pipe 328 at an upper portion thereof. Since the upper cap 327 and the upper exhaust pipe 328 have a general structure, a detailed description will be omitted below.

상기 제 2 분사 유닛(320)은 제 1 분사 유닛(310)의 상부에 장착된다. 또한, 상기 제 2 분사 유닛(320)은 제 2 트랩판(326)과 제 2 포집층(324)의 표면으로 물이 흐르도록 하여 제 1 분사 유닛(310)을 통과하여 상승하는 폐가스에 물을 분사하여 폐가스에 포함되어 있는 반응 부산물 입자와 수용성 유해 가스를 추가적으로 포집한다. The second injection unit 320 is mounted on the upper portion of the first injection unit 310. In addition, the second injection unit 320 allows water to flow to the surfaces of the second trap plate 326 and the second trapping layer 324, and supplies water to the waste gas that rises through the first injection unit 310 And further collects reaction by-product particles and water-soluble noxious gas contained in the waste gas.

상기 제 2 하우징(321)은 내부가 중공인 원통형상으로 형성되며. 상부와 하부가 개방되어 형성된다. 상기 제 2 하우징(321)은 하부가 제 1 분사 유닛(310)의 제 1 하우징(311)의 상부에 결합된다. 한편, 상기 제 2 하우징(321)은 제 1 하우징(311)보다 높은 높이로 형성될 수 있으며, 설치와 분해가 용이하도록 상부와 하부로 분리되는 2개의 하우징으로 형성될 수 있다.The second housing 321 is formed in a hollow cylindrical shape. And the upper part and the lower part are opened. The lower portion of the second housing 321 is coupled to the upper portion of the first housing 311 of the first injection unit 310. Meanwhile, the second housing 321 may be formed to have a height higher than that of the first housing 311, and may be formed as two housings that are separated into an upper portion and a lower portion to facilitate installation and disassembly.

상기 제 2 분사관(322)은 하부에 길이 방향으로 소정 간격으로 형성되는 미세 홀(미도시)을 포함하여 형성된다. 상기 제 2 분사관(322)은 제 2 하우징(321)의 상부에서 제 2 하우징(321)의 내부로 연장되어 형성된다. 상기 제 2 분사관(322)은 제 2 하우징(321)의 내부 직경에 따라 Y자 형상과 같이 여러 갈래로 분기되어 형성될 수 있다. 상기 제 2 분사관(322)은 외부로부터 물을 공급받아 미세 홀을 통하여 하부로 분사한다. The second injection pipe 322 is formed to include a minute hole (not shown) formed at a predetermined interval in a longitudinal direction at a lower portion thereof. The second injection pipe 322 extends from the upper portion of the second housing 321 to the inside of the second housing 321. The second injection pipe 322 may be formed in a plurality of branches such as a Y shape according to the inner diameter of the second housing 321. The second injection pipe 322 receives water from the outside and injects the water through the fine holes.

상기 제 2 포집층(324)은 제 1 포집층(314)와 동일하게 폴링(pall ring)이 소정 높이로 적층되어 형성된다. 다만, 상기 제 2 포집층(324)은 제 1 포집층(314)에 비하여 높은 높이로 형성된다. 따라서, 상기 제 2 포집층(324)은 물과 폐가스가 접촉할 수 있는 시간을 더욱 증대시켜 폐가스 내에 포함되어 있는 반응 부산물 입자와 수용성 유해 가스의 포집 효율을 증가시킨다. 한편, 상기 제 2 포집층(324)은 텔러렛(tellerette)와 같이 표면적이 증가된 충전물로 형성될 수 있다.The second trapping layer 324 is formed by stacking a pall ring at a predetermined height in the same manner as the first trapping layer 314. However, the second collecting layer 324 is formed at a height higher than that of the first collecting layer 314. Accordingly, the second trapping layer 324 further increases the time during which water and waste gas are in contact with each other, thereby increasing the collection efficiency of the reaction by-product particles and the water-soluble noxious gas contained in the waste gas. Meanwhile, the second trapping layer 324 may be formed of a filler having increased surface area, such as a tellerette.

상기 제 2 지지판(325)은 제 2 하우징(321)의 내부 직경에 대응되는 직경을 갖는 원판 형상으로 형성되며, 폐가스가 흐르는 다수 개의 지지 관통홀(325a)이 형성된다. 상기 제 2 지지판(325)은 제 2 하우징(321)의 하부에 위치한다. 상기 제 2 지지판(325)은 상부에 위치하는 제 2 포집층(324)을 지지한다.The second support plate 325 is formed in a circular plate shape having a diameter corresponding to the inner diameter of the second housing 321, and a plurality of support through holes 325a through which waste gas flows are formed. The second support plate 325 is located below the second housing 321. The second support plate 325 supports the second trapping layer 324 located on the upper side.

상기 제 2 트랩판(326)은 제 2 하우징(321)의 내부 직경에 대응되는 직경을 가지는 원판으로 형성되며, 다수 개의 트랩 홀(326a)이 형성된다. 상기 제 2 트랩판(326)은 적어도 1 개가 제 2 분사관(322)의 하부에 소정 간격을 두고 수직 방향으로 서로 이격되어 배치된다. 이때, 상기 제 2 트랩판(326)은 수직 방향으로 배치되는 별도의 제 2 이격바(326b)에 의하여 이격되어 지지될 수 있다. 또한, 상기 제 2 트랩판(326)은 수직 방향을 기준으로 지그재그 형상이 되도록 경사지게 배치된다.The second trap plate 326 is formed of a circular plate having a diameter corresponding to the inner diameter of the second housing 321, and a plurality of trap holes 326a are formed. At least one of the second trap plates 326 is disposed below the second injection pipe 322 at a predetermined interval and spaced apart from each other in the vertical direction. At this time, the second trap plate 326 may be spaced apart by a second separating bar 326b disposed in a vertical direction. Further, the second trap plate 326 is inclined to be zigzag with respect to the vertical direction.

상기 제 2 트랩판(326)은 제 2 포집층(324)으로부터 상승되는 폐가스가 트랩 홀(326a)을 통과하면서 지그재그로 상승하도록 한다. 또한, 상기 제 3 트랩판(326)은 제 2 분사관(322)으로부터 분사되는 물이 표면을 따라 하부로 흐르도록 한다. 따라서, 상기 제 2 트랩판(326)은 물이 폐가스와 접촉하는 시간을 증가시킨다.
The second trap plate 326 allows the waste gas rising from the second trapping layer 324 to rise zigzag while passing through the trap hole 326a. In addition, the third trap plate 326 allows water to be sprayed from the second spray pipe 322 to flow downward along the surface. Accordingly, the second trap plate 326 increases the time for water to contact the waste gas.

다음은 본 발명의 일 실시예에 따른 스크러버 시스템의 작용에 대하여 설명한다. The operation of the scrubber system according to one embodiment of the present invention will be described below.

먼저, 상기 가열 유닛(140)의 발열 히터(141)는 공급되는 전기에 의하여 발열되면서 가열 하우징(110)의 상부에 위치하는 가열 영역(a)을 900℃ 이상의 온도로 유지시킨다. 이때, 상기 가열 영역(a)에 설치되는 가열 열전대(142)를 이용하여 가열 영역(a)의 온도를 체크할 수 있다. 다음으로, 상기 가열 하우징(110)의 하부에 형성되는 폐가스 유입홀(112)을 통하여 유입되는 폐가스는 유입 유닛(120)의 유입 통로(120a)를 통하여 가열 영역(a)으로 흐르게 된다. 이때, 상기 유입 유닛(120)은 발열 히터(141)에 의하여 발생되는 열에 의하여 소정 온도로 가열된 상태이므로. 유입 통로(120a)를 흐르는 폐가스도 소정 온도로 예열된다. 상기 폐가스는 가열 영역(a)으로 유입된 후에 가열 및 가열되면서 분해된다. 상기 폐가스는 연소 또는 분해된 후에 배출 유닛(130)의 배출 통로(130a)를 통하여 흐르게 된다. 이때, 상기 배출 유닛(130)은 폐가스의 열에 의하여 가열되며, 일측에서 접촉하며 상대적으로 온도가 낮은 유입 유닛(120)으로 열을 전도한다. 따라서, 상기 배출 유닛(130)과 함께 유입 유닛(120)도 함께 가열된다. 상기 유입 유닛(120)은 유입 통로(120a)를 통하여 흐르는 폐가스를 소정 온도로 예열한다. 상기 유입 통로(120a)를 흐르면서 예열된 폐가스는 가열 영역(a)에서 보다 효율적으로 연소 또는 분해될 수 있다. 상기 폐가스는 배출 통로(130a)의 하부로 흘러서 가열 하우징(110)의 폐가스 배출홀(114)을 통하여 수조 탱크(200)로 유입된다. 이때, 상기 수조 탱크(200)는 폐가스가 물과 접촉되도록 하여 폐가스의 연소 또는 분해에 따라 발생되는 반응 부산물 입자 또는 수용성 유해 가스를 포집한다. 상기 폐가스는 수조 탱크(200)를 통과하여 수처리부(300)로 유입된다. 상기 수처리부(300)는 유입되는 폐가스에 물을 분사하여 폐가스에 포함되어 있는 반응 부산물 입자 또는 수용성 유해 가스를 추가로 포집한다. 상기 폐가스는 수처리부(300)를 통과하여 반도체 공정 라인의 배기 라인으로 배출된다.First, the heating heater 141 of the heating unit 140 generates heat by supplied electricity, and maintains the heating region a located above the heating housing 110 at a temperature of 900 ° C or higher. At this time, the temperature of the heating region (a) can be checked by using the heating thermocouple 142 installed in the heating region (a). The waste gas flowing through the waste gas inlet hole 112 formed in the lower portion of the heating housing 110 flows into the heating region a through the inlet passage 120a of the inlet unit 120. [ At this time, since the inflow unit 120 is heated to a predetermined temperature by the heat generated by the heating heater 141, The waste gas flowing through the inflow passage 120a is also preheated to a predetermined temperature. The waste gas flows into the heating zone (a) and is decomposed while being heated and heated. The waste gas flows through the discharge passage 130a of the discharge unit 130 after being burned or decomposed. At this time, the discharge unit 130 is heated by the heat of the waste gas, and conveys heat to the inflow unit 120 which is in contact with one side and has a relatively low temperature. Therefore, the inflow unit 120 together with the discharge unit 130 are also heated. The inflow unit 120 preheats the waste gas flowing through the inflow passage 120a to a predetermined temperature. The waste gas that has been preheated while flowing through the inlet passage 120a can be more efficiently burned or decomposed in the heating region (a). The waste gas flows to the lower portion of the discharge passage 130a and flows into the water tank 200 through the waste gas discharge hole 114 of the heating housing 110. [ At this time, the water tank 200 makes the waste gas come into contact with water and collects reaction by-product particles or water-soluble noxious gas generated by the combustion or decomposition of the waste gas. The waste gas passes through the water tank tank 200 and flows into the water treatment unit 300. The water treatment unit 300 additionally collects reaction by-product particles or water-soluble noxious gas contained in the waste gas by injecting water into the waste gas. The waste gas passes through the water treatment section 300 and is discharged to the exhaust line of the semiconductor process line.

100: 가열부
110: 가열 하우징 120: 유입 유닛
130: 배출 유닛 140: 가열 유닛
150: 분리 격벽 160: 폐가스 유입관
170: 폐가스 배출관 180: 외부 하우징
200: 수조 탱크
210: 수조 하우징 220: 수조 유도관
240: 물 공급 모듈
300: 수처리부
310: 제 1 분사 유닛 320: 제 2 분사 유닛100:
110: heating housing 120: inlet unit
130: exhaust unit 140: heating unit
150: Separation barrier 160: Waste gas inlet pipe
170: waste gas discharge pipe 180: outer housing
200: Water tank
210: water tank housing 220: water tank guide pipe
240: water supply module
300:
310: first injection unit 320: second injection unit

Claims

A heating housing having a hollow inside and having a heating area at an upper portion of the interior thereof and having a waste gas inlet hole and a waste gas outlet hole at a lower portion thereof,
An inflow unit having a plurality of inflow passages vertically penetrating and located between the heating area and the waste gas inflow hole inside the heating housing,
An exhaust unit having a plurality of exhaust passages vertically penetrating and located between the heating region and the waste gas discharge hole inside the heating housing,
And a heating unit disposed inside the heating housing and heating the waste gas flowing into the heating region,
Wherein the inflow unit is formed by stacking a plurality of unit inflow blocks having a predetermined height,
Wherein the discharge unit is formed by stacking a plurality of unit discharge blocks each having a predetermined height,
Wherein the unit intake block is coupled in a lattice shape formed by intersecting the first inlet partition wall and the second inlet partition wall, the inlet passage is arranged in a lattice shape,
The unit discharge block is coupled in a lattice shape formed by intersecting the first discharge partition wall and the second discharge partition wall, and the discharge passage is formed to be arranged in a lattice shape,
Wherein the first inlet bulkhead includes a first inlet coupling groove formed upward in a lower surface thereof and the second inlet bulkhead includes a second inlet coupling groove formed in a downward direction from an upper surface thereof, The second inlet bank is vertically crossed while the second inlet coupling groove is inserted into the first inlet coupling groove,
Wherein the first discharge compartment includes a first discharge engagement groove formed upward from a lower surface thereof and the second discharge partition wall includes a second discharge engagement groove formed from a top surface thereof downwardly, And the second discharge blocking wall is formed to be inserted while being inserted into the first discharge engagement groove in a state of vertically intersecting with the second discharge engagement groove.

The method according to claim 1,
The heating unit
A waste gas inlet pipe coupled to the waste gas inlet hole,
A waste gas discharge pipe coupled to the waste gas discharge hole and
And a partition wall which is formed in a plate shape and extends to the heating region between the inlet unit and the discharge unit.

3. The method of claim 2,
The scrubber system
A water tank connected to the waste gas discharge pipe of the heating unit to receive the heated waste gas,
Further comprising a water treatment unit which is opened at a lower portion and is coupled to an upper portion of the other side of the water tank, and discharges water to the waste gas rising from the water tank.

The method according to claim 1,
Wherein the inlet unit and the outlet unit are formed of stainless steel, invar alloy, alumina (Al ₂ O ₃ ), Al ₂ TiO ₅ , SiC or Si ₃ N ₄ .

The method according to claim 1,
Wherein the inflow unit and the discharge unit are formed integrally with one side of the discharge unit and the other side of the inflow unit being in contact with each other.

delete

A heating housing having a hollow inside and having a heating area at an upper portion of the interior thereof and having a waste gas inlet hole and a waste gas outlet hole at a lower portion thereof,
An inflow unit having a plurality of inflow passages vertically penetrating and located between the heating area and the waste gas inflow hole inside the heating housing,
An exhaust unit having a plurality of exhaust passages vertically penetrating and located between the heating region and the waste gas discharge hole inside the heating housing,
And a heating unit disposed inside the heating housing and heating the waste gas flowing into the heating region,
Wherein the inflow unit is formed by stacking a plurality of unit inflow blocks having a predetermined height,
Wherein the discharge unit is formed by stacking a plurality of unit discharge blocks each having a predetermined height,
Wherein the unit intake block is coupled in a lattice shape formed by intersecting the first inlet partition wall and the second inlet partition wall, the inlet passage is arranged in a lattice shape,
The unit discharge block is coupled in a lattice shape formed by intersecting the first discharge partition wall and the second discharge partition wall, and the discharge passage is formed to be arranged in a lattice shape,
The second inlet bulkhead is protruded upward from the first inlet bulkhead to form an inlet seating region and an inlet seating groove is formed at a lower portion of the second inlet bulkhead. ,
The second discharge bulkhead is protruded upward from the first discharge bulkhead, and the second discharge bulkhead protrudes upward with respect to the first discharge bulkhead to form a discharge seat region and a discharge seat groove is formed in the lower portion Wherein the scrubber system is a scrubber system.

10. The method of claim 1 or 9,
Wherein the heating unit is formed to include an exothermic heater.

11. The method of claim 10,
Wherein a plurality of the heat generating heaters are formed so as to extend into the heating region.

10. The method of claim 1 or 9,
Wherein the heating unit is configured to heat the heating region to a temperature of 500-1,400 ° C.