KR101688974B1 - Curable resin composition for inkjet printing, solder resist using the same and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체; 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물; 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물; 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물;및 광개시제;를 포함하고, 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 전체 조성물에 대해 3 중량% 내지 20 중량%인 잉크젯용 경화성 수지 조성물에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a nanosilica dispersion comprising silica particles having a surface-treated siloxane compound and an acrylic monomer; An alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and containing at least 2 ethylenically unsaturated groups; An aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms and containing at least 3 ethylenically unsaturated groups; A polyfunctional aliphatic acrylate compound and a photoinitiator, wherein the content of the nanosilica dispersion is 3 wt% to 20 wt% with respect to the total composition.
The present invention also relates to a solder resist using the curable resin composition for inkjet and a method of manufacturing the solder resist.

Description

잉크젯용 경화성 수지 조성물, 이를 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법{CURABLE RESIN COMPOSITION FOR INKJET PRINTING, SOLDER RESIST USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a curable resin composition for an inkjet, a solder resist using the composition, and a method of manufacturing the same. BACKGROUND ART < RTI ID = 0.0 >

본 발명은 잉크젯용 경화성 수지 조성물, 이를 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 낮은 점도를 가지면서, 우수한 저장안정성, 무전해 도금성 및 기계적 물성을 나타낼 수 있는 잉크젯용 경화성 수지 조성물 및 이를 이용한 솔더레지스트, 그리고 공정이 간략화되고, 생산성이 향상되며, 설비의 유지비를 줄일 수 있는 솔더레지스트 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a curable resin composition for an ink jet, a solder resist using the same, and a method of manufacturing the same. More specifically, the present invention relates to a curable resin composition for an ink jet, which can exhibit excellent storage stability, electroless plating and mechanical properties while having a low viscosity, a solder resist using the composition, and a process, To a solder resist manufacturing method capable of reducing maintenance cost.

솔더(solder)라는 용어는 '납땜'을 말하며, 레지스트(resist)라는 용어는 인쇄회로기판 제조 공정에서 '어떤 처리나 반응이 미치지 않도록 보호하는 피막'을 의미한다. 따라서, 솔더 레지스트는 '인쇄회로기판의 회로 패턴을 덮어 부품의 실장 시에 이루어지는 납땜에 의해 원하지 않는 접속을 방지하는 피막'을 의미하며, 인쇄회로기판의 회로패턴을 보호하는 보호재 및 회로간의 절연성을 부여하는 역할을 담당한다.The term "solder" refers to "soldering," and the term "resist" refers to a film that protects the printed circuit board from "any treatment or reaction" during the manufacturing process. Therefore, the solder resist means 'a film which covers a circuit pattern of a printed circuit board and prevents unwanted connection by soldering when the component is mounted', and it has a function of protecting the circuit pattern of the printed circuit board and the insulation between the circuit It is the role that gives.

인쇄회로기판의 회로 패턴은 기판에 입혀진 동박을 부식하여 만들어지므로 원리적으로는 절연 피복이 없는 나선이라고 할 수 있다. 이로 인하여, 전자부품을 인쇄회로기판상에 실장 시에 인쇄회로기판 표면이 녹은 납에 노출되어 원하지 않는 접속(solder bridge)이 발생할 수 있다. 이는 전자기기가 정상적으로 동작하지 못하게 하는 중대한 결함으로 이어지게 된다.The circuit pattern of the printed circuit board is formed by corroding the copper foil on the substrate, so that it can be said to be a spiral without insulation coating in principle. As a result, solder bridges may occur when electronic components are mounted on a printed circuit board, and the printed circuit board surface is exposed to molten lead. This leads to a serious defect that prevents the electronic device from operating normally.

이러한 불량을 방지하기 위하여 나선인 회로 패턴을 피복할 목적으로 부품의 납땜에 필요한 랜드(land) 주변을 제외한 다른 부분을 차폐하는 피막을 솔더 레지스트라 한다. 솔더 레지스트는 차폐의 의미를 적용하여 솔더 마스크(solder mask)라고도 한다. In order to prevent such defects, a film that shields other parts except the periphery of a land necessary for soldering the parts is referred to as a solder resist for the purpose of covering a spiral circuit pattern. The solder resist is also referred to as a solder mask by applying the meaning of shielding.

종래 인쇄회로기판의 솔더 레지스트 패턴 형성방법은, 노광단계 및 현상단계를 포함하여 많은 단계의 공정을 거쳐야 하기 때문에 생산성이 저하되는 한계가 있었다. 또한, 솔더 레지스트로서 요구되는 내열성, 내약품성 등의 물성을 확보하기 위해 에폭시 수지 등의 바인더 수지를 포함하여 조성물의 점도가 높아지는 한계도 있었다. Conventionally, a method of forming a solder resist pattern on a printed circuit board has a limitation in productivity because it must undergo many steps including an exposure step and a development step. Further, in order to ensure the physical properties such as heat resistance and chemical resistance required as the solder resist, the viscosity of the composition including the binder resin such as epoxy resin has been limited.

이러한 문제점을 해결하기 위하여, 노광 및 현상 공정을 거칠 필요가 없도록 잉크젯 프린터를 이용하는 방법이 제안되었으나, 잉크젯용 잉크로서 사용하기 위해서는 일정 수준 이하로 점도를 낮추어야만 하는 한계가 있고, 점도 저하를 달성하였다고 해도, 반대로 솔더 레지스트로서 요구되는 내열성, 내약품성 등의 물성이나 잉크젯용 잉크로서 요구되는 저장안정성이나 무전해 도금성이 저하될 수 있기 때문에, 인쇄 배선판의 솔더 레지스트로서 상기 잉크젯 방식은 아이디어 영역에 한계가 있어, 잉크젯 프린터에서 사용할 수 있는 실용적인 솔더 레지스트 잉크는 존재하지 않았다.In order to solve such a problem, a method using an inkjet printer has been proposed so as not to undergo exposure and development processes. However, in order to use the ink as an inkjet ink, the viscosity has to be lowered below a certain level, The solder resist of the printed wiring board can not be used as the inkjet method because the physical properties such as heat resistance and chemical resistance required as the solder resist and the storage stability and electroless plating property required for the inkjet ink may be reduced. And there was no practical solder resist ink usable in an ink jet printer.

이에, 낮은 점도를 가지면서, 우수한 저장안정성, 무전해 도금성 및 기계적 물성을 나타낼 수 있는 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 개발이 요구되고 있다.Accordingly, development of a curable resin composition for an ink jet capable of exhibiting excellent storage stability, electroless plating and mechanical properties while having a low viscosity is desired.

본 발명은 낮은 점도를 가지면서, 우수한 저장안정성, 무전해 도금성 및 기계적 물성을 나타낼 수 있는 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다. An object of the present invention is to provide a curable resin composition for an ink jet which has low viscosity and can exhibit excellent storage stability, electroless plating property and mechanical properties.

또한, 본 발명은 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 이용한 솔더레지스트를 제공하기 위한 것이다.Further, the present invention is to provide a solder resist using the inkjet curable resin composition.

또한, 본 발명은 공정이 간략화되고, 생산성이 향상되며, 설비의 유지비를 줄일 수 있는 솔더레지스트 제조방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention also provides a solder resist manufacturing method which can simplify the process, improve the productivity, and reduce the maintenance cost of equipment.

본 명세서에서는, 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체; 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물; 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물; 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물;및 광개시제;를 포함하고, 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 전체 조성물에 대해 3 중량% 내지 20 중량%인 잉크젯용 경화성 수지 조성물이 제공된다. In the present specification, a nanosilica dispersion containing silica particles treated with a siloxane compound on the surface and an acrylic monomer; An alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and containing at least 2 ethylenically unsaturated groups; An aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms and containing at least 3 ethylenically unsaturated groups; A polyfunctional aliphatic acrylate compound, and a photoinitiator, wherein the content of the nanosilica dispersion is 3 wt% to 20 wt% with respect to the total composition.

본 명세서에서는 또한, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 솔더레지스트가 제공된다.In this specification, there is also provided a solder resist comprising a cured product of the ink-jet curable resin composition.

본 명세서에서는 또한, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 잉크젯 프린터로 기재 상에 도포하는 단계; 및 상기 도포된 수지 조성물을 경화하는 단계;를 포함하는, 솔더레지스트의 제조방법이 제공된다.The present invention also relates to a method of manufacturing a curable resin composition for inkjet, comprising the steps of: applying the above inkjet curable resin composition onto a substrate with an inkjet printer; And a step of curing the applied resin composition.

이하 발명의 구체적인 구현예에 따른 잉크젯용 경화성 수지 조성물, 이를 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법에 대하여 보다 상세하게 설명하기로 한다.
Hereinafter, a curable resin composition for an inkjet according to a specific embodiment of the present invention, a solder resist using the same, and a method for producing the same will be described in detail.

본 명세서에서, '(메타)아크릴로일기'는 아크릴로일기 및 메타크릴로일기를 모두 포함하는 의미이다. 또한, 본 명세서에서, '(메타)아크릴로일옥시기'는 아크릴로일옥시기 및 메타크릴로일옥시기를 모두 포함하는 의미이다. 또한, 본 명세서에서, '(메타)아크릴로일옥시알킬기'는 아크릴로일옥시알킬기 및 메타크릴로일옥시알킬기를 모두 포함하는 의미이다.
In the present specification, the term "(meth) acryloyl group" is meant to include both an acryloyl group and a methacryloyl group. In the present specification, the term "(meth) acryloyloxy group" is meant to include both an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group. In the present specification, the term "(meth) acryloyloxyalkyl group" is meant to include both an acryloyloxyalkyl group and a methacryloyloxyalkyl group.

발명의 일 구현예에 따르면, 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체; 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물; 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물; 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물;및 광개시제;를 포함하고, 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 전체 조성물에 대해 3 중량% 내지 20 중량%인 잉크젯용 경화성 수지 조성물이 제공될 수 있다. According to an embodiment of the present invention, there is provided a nanosilica dispersion comprising silica particles treated with a siloxane compound on the surface and an acrylic monomer; An alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and containing at least 2 ethylenically unsaturated groups; An aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms and containing at least 3 ethylenically unsaturated groups; A polyfunctional aliphatic acrylate compound, and a photoinitiator, wherein the content of the nanosilica dispersion is 3 wt% to 20 wt% with respect to the total composition.

본 발명자들은 상기 일 구현예의 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 이용하면, 에폭시 수지 등의 바인더 수지를 포함하지 않아 낮은 점도를 가지면서, 에폭시 수지 등의 바인더 수지를 포함한 경우와 대등한 수준의 우수한 내열성, 내약품성 등의 기계적 물성을 나타낼 수 있고, 우수한 저장안정성과 무전해 도금성을 나타낼 수 있는 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 제공할 수 있다는 점을 실험을 통해 확인하고 발명을 완성하였다.The present inventors have found that the use of the curable resin composition for inkjet according to one embodiment of the present invention does not include a binder resin such as an epoxy resin and has a low viscosity and exhibits excellent heat resistance and heat resistance comparable to the case of containing a binder resin such as an epoxy resin, It is possible to provide a curable resin composition for an ink jet which can exhibit mechanical properties such as chemical resistance and excellent storage stability and electroless plating property.

구체적으로, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체를 포함할 수 있다. 상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체를 포함함에 따라, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 저장안정성과 무전해 도금성이 향상될 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 저장안정성은 오랜 시간의 흐름 내지 고온의 조건에서도 잉크 입자의 입경, 잉크 조성물의 점도, 외관의 변화가 없이 품질이 유지되는 것을 의미한다. 상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체를 포함한 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 고온 토출이 진행되는 45℃의 온도에서 5주 이상의 안정성을 확보할 수 있고, 상온에서 3개월이 지나도 안정성이 유지되는 등 우수한 저장안정성을 나타낼 수 있다. 또한, 상기 무전해 도금은 전기적 특성이 아닌 촉매로 순수화학 반응에 의해 도금 하는 방식으로서, 상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체를 포함한 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 표면 경화성의 향상 및 수축율 저하에 따른 밀착력 향상으로인해 우수한 무전해도금성을 가질 수 있다. 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물이 우수한 무전해도금성을 가짐에 따라, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 표면에 금속 처리를 통해 내열성, 내마모성, 내약품성이 향상될 수 있다.Specifically, the curable resin composition for inkjet may include a nanosilica dispersion containing silica particles having a surface-treated siloxane compound and an acrylic monomer. The storage stability and electroless plating ability of the inkjet curable resin composition can be improved by including the nanosilica dispersion containing the silica particles and the acrylic monomer having the surface treated siloxane compound. More specifically, the storage stability means that the quality is maintained without changing the particle diameter of the ink particles, the viscosity of the ink composition, and the appearance even under long-term or high-temperature conditions. The curable resin composition for inkjet, which comprises the nanosilica dispersion containing the silica particles and the acrylic monomer treated with the siloxane compound on the surface thereof, can secure stability for 5 weeks or more at a temperature of 45 ° C at which high temperature discharge proceeds, The stability can be maintained even after a few months. In addition, the electroless plating is a method of plating by a pure chemical reaction with a catalyst rather than an electrical property, and a curable resin composition for an ink jet including a nanosilica dispersion containing silica particles and an acrylic monomer having the siloxane compound treated on the surface thereof It is possible to obtain excellent electroless plating due to improvement of surface hardenability and improvement of adhesion due to reduction of shrinkage ratio. Since the inkjet curable resin composition has excellent electroless plating ability, heat resistance, abrasion resistance, and chemical resistance can be improved through metal treatment on the surface of the inkjet curable resin composition.

상기 나노실리카 분산체는 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 나노실리카 분산체에는 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자를 포함하는 분산질이 아크릴계 단량체를 포함하는 분산매 상에 분산되어 있을 수 있다. 상기 분산질은 분산계에 있어서 분산매 중에 미립상으로 되어 산재하는 물질을 의미한다. 이에 따라, 상기 나노실리카 분산체와 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물에 포함된 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물; 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물; 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물 간의 혼화성을 향상시킬 수 있다.The nanosilica dispersion may include silica particles having a surface-treated siloxane compound and an acrylic monomer. Specifically, the nanosilica dispersion may be such that a dispersion containing silica particles having a surface-treated siloxane compound dispersed therein is dispersed on a dispersion medium containing an acrylic monomer. The dispersion quality means a material dispersed in the dispersion medium in the dispersion medium into a particulate phase. Accordingly, the nano silica dispersion and the alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and containing at least two ethylenic unsaturated groups contained in the inkjet curable resin composition; An aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms and containing at least 3 ethylenically unsaturated groups; The miscibility between the polyfunctional aliphatic acrylate compound can be improved.

상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자는 상기 실록산 화합물이 실록산 결합을 매개로 표면에 결합된 실리카 입자를 포함할 수 있다. 상기 실록산 화합물은 규소원자와 산소원자가 교대로 공유결합하는 실록산 결합을 통해 사슬식 구조를 형성하고 있는 화합물을 의미한다. The silica particles treated with the siloxane compound on the surface may include silica particles in which the siloxane compound is bonded to the surface via a siloxane bond. The siloxane compound means a compound that forms a chain structure through a siloxane bond in which silicon atoms and oxygen atoms are covalently bonded alternately.

구체적으로, 상기 실록산 화합물이 실록산 결합을 매개로 표면에 결합된 실리카 입자는 하기 화학식1의 화합물을 포함할 수 있다.Specifically, the silica particles in which the siloxane compound is bound to the surface via a siloxane bond may include a compound represented by the following formula (1).

[화학식1][Chemical Formula 1]

Figure 112014098701251-pat00001
Figure 112014098701251-pat00001

상기 화학식 1에서, R1는 수소 또는 메틸기이며, R2는 수소 또는 메틸기이며, R3는 수소 또는 메틸기 또는 히드록시기이며, q는 1 내지 20의 정수이고, a는 1이상의 정수이고, Silica는 실리카 입자를 의미한다.Wherein R 1 is hydrogen or a methyl group, R 2 is hydrogen or a methyl group, R 3 is hydrogen or a methyl group or a hydroxy group, q is an integer of 1 to 20, a is an integer of 1 or more, Particles.

보다 구체적으로, 상기 화학식1에서 q는 2 내지 10의 정수이고, a는 5 내지 10의 정수이고, 실리카 입자는 이산화 규소(SiO2) 화합물일 수 있다.More specifically, in Formula 1, q is an integer of 2 to 10, a is an integer of 5 to 10, and the silica particles may be a silicon dioxide (SiO 2 ) compound.

상기 나노 실리카 분산체에 포함된 아크릴계 단량체는 단관능 아크릴레이트 화합물, 2관능 아크릴레이트 화합물 및 3관능 아크릴레이트 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함할 수 있다. 즉, 상기 나노 실리카 분산체에 포함된 아크릴계 단량체는 단관능 아크릴레이트 화합물, 2관능 아크릴레이트 화합물, 3관능 아크릴레이트 화합물 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 포함할 수 있다.The acrylic monomer contained in the nanosilica dispersion may include at least one compound selected from the group consisting of a monofunctional acrylate compound, a bifunctional acrylate compound and a trifunctional acrylate compound. That is, the acrylic monomer contained in the nanosilica dispersion may include a monofunctional acrylate compound, a bifunctional acrylate compound, a trifunctional acrylate compound, or a mixture of two or more thereof.

구체적으로, 상기 단관능 아크릴레이트 화합물은 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 1개 치환된 탄소수 1 내지 10의 헤테로 고리 화합물을 포함할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 1개 치환된 탄소수 1 내지 10의 헤테로 고리 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나 예를 들어, (메타)아크릴로일옥시알킬기가 1개 치환된 탄소수 5 내지 9의 헤테로 고리 화합물 등을 사용할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일옥시알킬기가 1개 치환된 탄소수 5 내지 9의 헤테로 고리 화합물의 구체적인 예로는, 트리메틸올프로판 포말 아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specifically, the monofunctional acrylate compound is preferably a monofunctional acrylate compound in which one functional group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group and a (meth) 10 < / RTI > heterocyclic compounds. Examples of the heterocyclic compound having 1 to 10 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of the (meth) acryloyl group, the (meth) acryloyloxy group and the (meth) acryloyloxy group are substituted are greatly limited For example, a heterocyclic compound having 5 to 9 carbon atoms in which one (meth) acryloyloxyalkyl group is substituted, and the like can be used. Specific examples of the heterocyclic compound having 5 to 9 carbon atoms in which one (meth) acryloyloxyalkyl group is substituted include trimethylolpropane foam acrylate and the like.

또한, 상기 2관능 아크릴레이트 화합물은 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물; 및 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 에테르 화합물;로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함할 수 있다.The bifunctional acrylate compound is preferably a compound having 1 to 10 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group and a (meth) acryloyloxy group is substituted with two Aliphatic compounds; And an aliphatic ether compound having 1 to 10 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group and a (meth) acryloyloxy group is substituted, ≪ / RTI >

상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나 예를 들어, (메타)아크릴로일옥시기가 2개 치환된 탄소수 5 내지 9의 직쇄 또는 분지쇄의 탄화수소 화합물을 사용할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일옥시기가 2개 치환된 탄소수 5 내지 9의 탄화수소 화합물의 구체적인 예로는, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트 등을 들 수 있다.The examples of the aliphatic compound having 1 to 10 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of the (meth) acryloyl group, the (meth) acryloyloxy group and the (meth) acryloyloxy group are substituted are greatly limited Alternatively, for example, a linear or branched hydrocarbon compound having 5 to 9 carbon atoms in which two (meth) acryloyloxy groups are substituted can be used. Specific examples of the hydrocarbon compound having 5 to 9 carbon atoms in which the (meth) acryloyloxy group is substituted with 2 are, for example, 1,6-hexanediol diacrylate.

상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 에테르 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나 예를 들어, (메타)아크릴로일옥시기가 2개 치환된 탄소수 5 내지 10의 지방족 에테르 화합물 등을 사용할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일옥시기가 2개 치환된 탄소수 5 내지 10의 지방족 에테르 화합물의 구체적인 예로는, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of aliphatic ether compounds having 1 to 10 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of (meth) acryloyl group, (meth) acryloyloxy group and (meth) acryloyloxy group are substituted are greatly limited For example, an aliphatic ether compound having 5 to 10 carbon atoms in which two (meth) acryloyloxy groups are substituted, and the like can be used. Specific examples of the aliphatic ether compound having 5 to 10 carbon atoms in which the (meth) acryloyloxy group is substituted with two groups include tripropylene glycol diacrylate and the like.

상기 3관능 아크릴레이트 화합물은 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물; 및 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 1 내지 20의 지방족 에테르 화합물;로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함할 수 있다.The trifunctional acrylate compound is an aliphatic (meth) acrylate having 1 to 10 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group and a compound; And an aliphatic ether compound having 1 to 20 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group and a (meth) acryloyloxy group is substituted, ≪ / RTI >

상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나 예를 들어, (메타)아크릴로일옥시기가 3개 치환된 탄소수 5 내지 9의 직쇄 또는 분지쇄의 탄화수소 화합물을 사용할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일옥시기가 3개 치환된 탄소수 5 내지 9의 탄화수소 화합물의 구체적인 예로는, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of aliphatic compounds having 1 to 10 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of (meth) acryloyl group, (meth) acryloyloxy group and (meth) acryloyloxy group are substituted are very limited For example, a linear or branched hydrocarbon compound having 5 to 9 carbon atoms in which three (meth) acryloyloxy groups are substituted can be used. Specific examples of the hydrocarbon compound having 5 to 9 carbon atoms in which the above (meth) acryloyloxy group is substituted are trimethylolpropane triacrylate and the like.

상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 1 내지 20의 지방족 에테르 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나 예를 들어, (메타)아크릴로일옥시기가 3개 치환된 탄소수 5 내지 15의 지방족 에테르 화합물 등을 사용할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일옥시기가 3개 치환된 탄소수 5 내지 15의 지방족 에테르 화합물의 구체적인 예로는, 에톡시레이티드 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the aliphatic ether compound having 1 to 20 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of the (meth) acryloyl group, the (meth) acryloyloxy group and the (meth) acryloyloxy group are substituted are greatly limited For example, an aliphatic ether compound having 5 to 15 carbon atoms in which three (meth) acryloyloxy groups are substituted, and the like can be used. Specific examples of the aliphatic ether compound having 5 to 15 carbon atoms in which the above (meth) acryloyloxy group is substituted are ethoxylated trimethylolpropane triacrylate and the like.

상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자의 입경은 5 ㎚ 내지 100 ㎚, 또는 10 ㎚ 내지 50 ㎚, 또는 15 ㎚ 내지 30 ㎚, 또는 18 ㎚ 내지 25 ㎚일 수 있다. 상기 입경은 실리카 입자의 지름을 의미한다. The particle size of the silica particles treated with the siloxane compound on the surface may be 5 nm to 100 nm, or 10 nm to 50 nm, or 15 nm to 30 nm, or 18 nm to 25 nm. The particle diameter means the diameter of the silica particles.

상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자의 함량이 상기 나노 실리카 분산체에 대해 40 중량% 내지 70 중량%, 또는 45 중량% 내지 60 중량%, 또는 48 중량% 내지 55 중량%일 수 있다.The content of the silica particles treated on the surface of the siloxane compound may be 40 wt% to 70 wt%, or 45 wt% to 60 wt%, or 48 wt% to 55 wt% with respect to the nanosilica dispersion.

상기 나노 실리카 분산체는 25℃에서 150 mPa·s 내지 3,500 mPa·s, 또는 160 mPa·s 내지 3,400 mPa·s, 또는 170 mPa·s 내지 3,350 mPa·s 의 동역학점도(dynamic viscosity)를 가질 수 있다. 상기 동역학점도(dynamic viscosity)는 유동상태의 물질이 운동방향에 거슬려 저항하는 끈끈한 정도를 나타내는 절대적인 크기를 의미한다. 이에 따라, 상기 동역학점도가 작을 수록, 유체의 유동성이 향상되어 잘 흐를 수 있다. 상기 동역학점도를 측정하는 방법의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, NV방법 또는 P/K방법 등을 사용할 수 있다. 상기 동역학점도가 3,500 mPa·s를 초과하여 지나치게 커지면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물내에서 상기 나노 실리카 분산체의 혼화성이 감소할 수 있다. The nanosilica dispersion may have a kinematic viscosity at 25 DEG C of from 150 mPa.s to 3,500 mPa.s or from 160 mPa.s to 3,400 mPa.s or from 170 mPa.s to 3,350 mPa.s have. The dynamic viscosity refers to an absolute size indicating a degree of stickiness of a material in a fluid state against a motion direction. Accordingly, the smaller the kinetic viscosity, the better fluidity of the fluid can be. Examples of the method of measuring the kinetic viscosity are not limited to a wide range, but the NV method or the P / K method can be used. If the kinetic viscosity is excessively larger than 3,500 mPa · s, miscibility of the nanosilica dispersion in the inkjet curable resin composition may be reduced.

또한, 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 전체 조성물에 대해 3 중량% 내지 20 중량%, 또는 4 중량% 내지 12 중량%일 수 있다. 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 전체 조성물에 대해 3 중량% 미만이면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 저장안정성 및 무전해 도금성이 감소할 수 있다. 또한, 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 전체 조성물에 대해 20중량% 초과이면, 점도가 상승하고, 기포가 발생하여 여과가 불가능하고, 토출성이 불안정해질 수 있다.In addition, the content of the nanosilica dispersion may be 3 wt% to 20 wt%, or 4 wt% to 12 wt% with respect to the total composition. If the content of the nano silica dispersion is less than 3% by weight based on the total composition, the storage stability and electroless plating ability of the curable resin composition for inkjet may be reduced. In addition, when the content of the nano silica dispersion is more than 20% by weight with respect to the total composition, the viscosity increases and bubbles are generated to make filtration impossible, and dischargeability may become unstable.

한편, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 및 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물을 포함할 수 있다.On the other hand, the curable resin composition for inkjet may contain an aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms and containing an alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and 2 or more ethylenically unsaturated groups and 3 or more ethylenically unsaturated groups.

상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 및 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물은 높은 유리전이온도를 나타내어 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 내열성을 향상시킬 수 있고, 내약품성 내지 내마모성이 우수하여 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 기계적 물성 향상에도 기여할 수 있다.The aromatic compounds having 1 to 10 carbon atoms and containing at least two ethylenically unsaturated groups and containing at least 3 alicyclic groups and at least three ethylenically unsaturated groups exhibit a high glass transition temperature to improve the heat resistance of the inkjet curable resin composition And is excellent in chemical resistance and abrasion resistance, thereby contributing to improvement of the mechanical properties of the ink-jet curable resin composition.

상기 에틸렌계 불포화기는 탄소와 탄소간 이중결합을 포함하고 있는 작용기 내지 원자단을 의미하며, 에틸렌계 불포화기의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기, (메타)아크릴로일옥시알킬기 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.The ethylenic unsaturated group means a functional group or an atomic group containing a carbon-carbon double bond. Examples of the ethylenic unsaturated group include, but are not limited to, (meth) acryloyl group, (meth) acryloyl group, A (meth) acryloyloxyalkyl group, or a mixture thereof may be used.

상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물은, (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 이상 치환된 탄소수 6 내지 15의 다중고리 화합물을 포함할 수 있다. 상기 탄소수 6 내지 15의 다중고리 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 노르보난(norbornane, Bicyclo[2,2,1]heptane), 노르보넨(norbornene, Bicyclo[2.2.1]hept-2-ene), 노르피난(norpinane, Bicyclo[3,1,1]heptane), 노르피넨(norpinene, Bicyclo[3,1,1]hept-2-ene), 노르보난 유도체, 노르보넨 유도체, 노르피난 유도체 또는 노르피넨 유도체 등을 포함할 수 있다. 상기 유도체(derivative)는 화합물 중의 수소원자 또는 특정 원자단이 다른 원자 또는 원자단에 의하여 치환된 화합물을 의미한다.The alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and containing at least two ethylenically unsaturated groups may be at least one selected from the group consisting of (meth) acryloyl groups, (meth) acryloyloxy groups and (meth) acryloyloxyalkyl groups Cyclic compound having 6 to 15 carbon atoms in which at least two functional groups are substituted. Examples of the polycyclic compound having 6 to 15 carbon atoms are not particularly limited, but examples thereof include norbornane (Bicyclo [2,2,1] heptane), norbornene (Bicyclo [2.2.1] hept- 2-ene, norpinane, Bicyclo [3,1,1] heptane, norpinene, Bicyclo [3,1,1] hept-2-ene), norbornane derivatives, norbornene derivatives, A refractory derivative or a norpinene derivative, and the like. The derivative means a compound in which a hydrogen atom or a specific atomic group in the compound is substituted by another atom or atomic group.

구체적으로, 상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 이상 치환된 탄소수 6 내지 15의 다중고리 화합물은 하기 화학식 2의 화합물을 포함할 수 있다.Specifically, a multicyclic compound having 6 to 15 carbon atoms in which at least one functional group selected from the group consisting of (meth) acryloyl group, (meth) acryloyloxy group and (meth) acryloyloxy group is substituted, May comprise a compound of formula (2).

[화학식2] (2)

Figure 112014098701251-pat00002
Figure 112014098701251-pat00002

상기 화학식 2에서,In Formula 2,

R5, R6, R7, R8 및 R9 중 적어도 2개는 하기 화학식 3의 작용기이며,At least two of R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are functional groups represented by the following formula (3)

나머지는 수소, 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이고, And the rest is hydrogen or a straight or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,

[화학식3](3)

Figure 112014098701251-pat00003
Figure 112014098701251-pat00003

상기 화학식3에서,In Formula 3,

A는 직접 결합 또는 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이고, A is a direct bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms,

X는 직접 결합 또는 산소이고, X is a direct bond or oxygen,

R11, R12 및 R13은 각각 수소, 메틸기, 에틸기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기이다.R 11 , R 12 and R 13 are each a functional group selected from the group consisting of hydrogen, a methyl group and an ethyl group.

보다 구체적으로, 상기 화학식 2의 화합물은 상기 화학식 2의 R5, R6 중 적어도 하나가 상기 화학식 3의 작용기이고, 상기 화학식 2의 R7, R8, R9 중 적어도 하나가 상기 화학식 3의 작용기인 화합물을 포함할 수 있다. More specifically, the compound of formula (2) is a compound of formula (2) wherein R 5 , R 6 At least one of R < 7 >, R < 8 >, R < 8 & R 9 Lt; / RTI > is a functional group of formula (3).

한편, 상기 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물은 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 이상 치환된 탄소수 2 내지 5의 헤테로 방향족 화합물을 포함할 수 있다. 상기 헤테로 방향족 화합물은 헤테로 원자를 포함하는 고리모양의 화합물로서 방향족의 성질을 가진 것을 의미한다. On the other hand, the aromatic compound having from 1 to 10 carbon atoms and containing at least three ethylenically unsaturated groups may be at least one selected from the group consisting of (meth) acryloyl groups, (meth) acryloyloxy groups and (meth) acryloyloxyalkyl groups And a heteroaromatic compound having 2 to 5 carbon atoms in which at least three functional groups are substituted. The heteroaromatic compound is an annular compound containing a heteroatom, which means that it has aromatic properties.

구체적으로, 상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개이상 치환된 탄소수 2 내지 5의 헤테로 방향족 화합물은 하기 화학식 4의 화합물을 포함할 수 있다.Specifically, a heteroaromatic compound having 2 to 5 carbon atoms in which at least one functional group selected from the group consisting of (meth) acryloyl group, (meth) acryloyloxy group and (meth) acryloyloxy group is substituted, Lt; / RTI > may comprise a compound of formula (4).

[화학식4] [Chemical Formula 4]

Figure 112014098701251-pat00004
Figure 112014098701251-pat00004

상기 화학식4에서,In Formula 4,

Y1, Y2 및 Y3 중 적어도 하나는 질소이고 나머지는 탄소이며,At least one of Y 1 , Y 2 and Y 3 is nitrogen and the others are carbon,

R21, R22 및 R23은 각각 하기 화학식 3의 작용기이며,R 21 , R 22 and R 23 are each a functional group represented by the following formula (3)

[화학식3](3)

Figure 112014098701251-pat00005
Figure 112014098701251-pat00005

상기 화학식3에서,In Formula 3,

A는 직접 결합 또는 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이고, A is a direct bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms,

X는 직접 결합 또는 산소이고, X is a direct bond or oxygen,

R11, R12 및 R13은 각각 수소, 메틸기, 에틸기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기이다.R 11 , R 12 and R 13 are each a functional group selected from the group consisting of hydrogen, a methyl group and an ethyl group.

상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물의 유리전이온도는 150℃ 내지 220℃일 수 있고, 상기 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물의 유리전이온도는 250℃ 내지 300℃일 수 있다. 상기 유리전이온도는 상기 2개의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 또는 상기 3개의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물을 300℃에서 5분간 어닐링(Annealing)하고, 상온으로 냉각시킨 후, 승온 속도 10℃/min로 다시 스캔(2nd Scan)하여 측정할 수 있다. 상기 2개의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 또는 상기 3개의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물의 유리전이온도가 지나치게 낮으면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물이 충분한 내열성을 확보하기 어려울 수 있다.The glass transition temperature of the alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and containing at least two ethylenically unsaturated groups may be 150 to 220 캜, and the glass transition of the aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms including the ethylenically unsaturated group of 3 or more The temperature may be between 250 [deg.] C and 300 [deg.] C. The glass transition temperature is determined by annealing the alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms containing the two ethylenically unsaturated groups or the aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms containing the 3 ethylenically unsaturated groups at 300 DEG C for 5 minutes , And then cooled to room temperature, and then subjected to a second scan at a heating rate of 10 ° C / min. If the glass transition temperature of the alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms containing the two ethylenically unsaturated groups or the aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms containing the 3 ethylenically unsaturated groups is too low, It may be difficult to ensure sufficient heat resistance.

상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 은 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 기준으로 20중량% 내지 50중량%, 또는 25 중량% 내지 40 중량%의 함량으로 포함될 수 있다. 또한, 상기 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물은 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 기준으로 5중량% 내지 20중량%, 또는 7 중량% 내지 15중량% 의 함량으로 포함될 수 있다.The alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and containing at least two ethylenically unsaturated groups may be contained in an amount of 20% by weight to 50% by weight or 25% by weight to 40% by weight based on the inkjet curable resin composition. The aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms containing at least 3 ethylenically unsaturated groups may be contained in an amount of 5 to 20% by weight or 7 to 15% by weight based on the inkjet curable resin composition .

상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 및 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물 간의 중량비가 2:1 내지 10:1, 또는 2.2:1 내지 5:1, 또는 2.5:1 내지 4:1, 또는 2.8:1 내지 3.5:1일 수 있다. 상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 및 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물 간의 중량비가 2:1 미만이면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경화속도가 감소할 수 있고, 상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 및 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물 간의 중량비가 10:1 초과이면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도가 지나치게 증가할 수 있다.A weight ratio of an alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and at least 2 ethylenically unsaturated groups and an aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms containing 3 or more ethylenically unsaturated groups is 2: 1 to 10: 1, or 2.2: 1 to 5 : 1, or 2.5: 1 to 4: 1, or 2.8: 1 to 3.5: 1. When the weight ratio between the alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and 2 to 10 carbon atoms and the aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms containing 3 or more ethylenically unsaturated groups is less than 2: 1, the curing If the weight ratio between the alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and 2 to 10 ethylenically unsaturated groups and the aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms containing 3 or more ethylenically unsaturated groups is more than 10: The viscosity of the curable resin composition for inkjet can be excessively increased.

또한, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물을 포함할 수 있다. 또한, 상기 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물은 2관능 지방족 아크릴레이트 화합물 또는 4관능 지방족 아크릴레이트 화합물을 포함할 수 있다. The curable resin composition for inkjet may include a polyfunctional aliphatic acrylate compound. In addition, the polyfunctional aliphatic acrylate compound may include a bifunctional aliphatic acrylate compound or a tetrafunctional aliphatic acrylate compound.

상기 2관능 지방족 아크릴레이트 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물을 사용할 수 있다.Examples of the bifunctional aliphatic acrylate compound include, but are not limited to, for example, a (meth) acryloyloxy group, a (meth) acryloyloxy group and a An aliphatic compound having 1 to 10 carbon atoms in which two functional groups are substituted can be used.

상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나 예를 들어, (메타)아크릴로일옥시기가 2개 치환된 탄소수 5 내지 9의 직쇄 또는 분지쇄의 탄화수소 화합물을 사용할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일옥시기가 2개 치환된 탄소수 5 내지 9의 탄화수소 화합물의 구체적인 예로는, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the aliphatic compound having 1 to 10 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of the (meth) acryloyl group, the (meth) acryloyloxy group and the (meth) acryloyloxy group are substituted are very limited For example, a linear or branched hydrocarbon compound having 5 to 9 carbon atoms in which two (meth) acryloyloxy groups are substituted can be used. Specific examples of the hydrocarbon compound having 5 to 9 carbon atoms in which the (meth) acryloyloxy group is substituted with 2 are, for example, 1,6-hexanediol diacrylate.

상기 4관능 지방족 아크릴레이트 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 4개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물을 사용할 수 있다.Examples of the tetrafunctional aliphatic acrylate compound include, but are not limited to, a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group and a (meth) acryloyloxyalkyl group. An aliphatic compound having 1 to 10 carbon atoms substituted with four functional groups can be used.

상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 4개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나 예를 들어, (메타)아크릴로일옥시기가 4개 치환된 탄소수 3 내지 7의 직쇄 또는 분지쇄의 탄화수소 화합물을 사용할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일옥시기가 4개 치환된 탄소수 3 내지 7의 탄화수소 화합물의 구체적인 예로는, 펜타세리트리톨 테트라아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of aliphatic compounds having 1 to 10 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of (meth) acryloyl group, (meth) acryloyloxy group and (meth) acryloyloxy group are substituted are greatly limited For example, a linear or branched hydrocarbon compound having 3 to 7 carbon atoms in which (meth) acryloyloxy groups are substituted can be used. Specific examples of the hydrocarbon compound having 3 to 7 carbon atoms in which the above (meth) acryloyloxy group is substituted are pentaceritriol tetraacrylate and the like.

상기 2관능 지방족 아크릴레이트 화합물 및 4관능 지방족 아크릴레이트 화합물의 중량비가 0.5:1 내지 1.5:1, 또는 0.7:1 내지 1.3:1, 또는 0.9:1 내지 1.1:1일 수 있다. 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물이 상기 2관능 지방족 아크릴레이트 화합물 및 4관능 지방족 아크릴레이트 화합물의 중량비를 상술한 특정 범위로 가짐에 따라, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물이 낮은 점도를 가지면서, 우수한 내열성, 내약품성 및 기계적 물성을 나타낼 수 있다.The weight ratio of the bifunctional aliphatic acrylate compound and the tetrafunctional aliphatic acrylate compound may be 0.5: 1 to 1.5: 1, or 0.7: 1 to 1.3: 1, or 0.9: 1 to 1.1: 1. The curable resin composition for inkjet has a weight ratio of the bifunctional aliphatic acrylate compound and the tetrafunctional aliphatic acrylate compound within the specific range described above and therefore the inkjet curable resin composition has a low viscosity and excellent heat resistance, Chemical and mechanical properties.

상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 광개시제를 포함할 수 있다. 상기 광개시제는 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경화성을 향상시키기 위해 열 또는 활성 에너지선 조사에 의해 라디칼을 발생시키는 역할을 할 수 있다. 상기 광개시제의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 벤조인과 그 알킬에테르류, 아세토페논류, 안트라퀴논류, 티오크산톤류, 케탈류, 벤조페논류, α-아미노아세토페논류, 아실포스핀옥사이드류 및 옥심에스테르류로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 상기 광개시제는 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 기준으로 0.1중량% 내지 20 중량%, 또는 5 중량% 내지 10중량% 의 함량으로 포함될 수 있다.The curable resin composition for inkjet may include a photoinitiator. The photoinitiator may serve to generate radicals by irradiation with heat or active energy ray to improve the curability of the curable resin composition for inkjet. Examples of the photoinitiator include, but are not limited to, benzoin and its alkyl ethers, acetophenones, anthraquinones, thioxanthones, ketals, benzophenones,? -Aminoacetophenones, Phosphine oxides, oxime esters, and the like. The photoinitiator may be contained in an amount of 0.1 wt% to 20 wt%, or 5 wt% to 10 wt% based on the inkjet curable resin composition.

한편, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 전체 잉크젯용 경화성 수지 조성물 중량의 10중량% 내지 95중량%의 함량으로 유기 용매를 더 포함할 수 있다.The inkjet curable resin composition may further include an organic solvent in an amount of 10% by weight to 95% by weight based on the weight of the entire inkjet curable resin composition.

상기 유기 용매의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 카르비톨, 메틸카르비톨, 부틸카르비톨, 프로필렌글리콜모노메틸에테르,디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 락트산부틸, 셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 카르비톨아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 탄산프로필렌 등의 에스테르류; 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소류; 석유 에테르, 석유 나프타, 용매 나프타 등의 석유계 용제를 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the organic solvent include, but are not limited to, ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and tetramethylbenzene; Methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol diethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, etc. Of glycol ethers; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate, butyl lactate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate and propylene carbonate; Aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; Petroleum ether such as petroleum ether, petroleum naphtha and solvent naphtha may be used alone or in combination of two or more.

상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 안료, 분산제, 산화방지제, 광중합 촉진제, 표면 조절제 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 포함하는 첨가제를 더 포함할 수 있다. 상기 안료는 유기 또는 무기안료를 모두 포함할 수 있고, 상기 무기 안료의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 산화코발트, 산화알루미늄, 이산화티타늄, 황화아연, 황산비스무트 등을 사용할 수 있고, 상기 유기안료의 예 또한 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 안트라퀴논계, 페릴렌계, 디스아조계, 이소인돌린계, 프탈로시아닌계 등을 사용할 수 있다. 상기 안료는 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 기준으로 1중량% 내지 20 중량%, 또는 10 중량% 내지 15 중량% 의 함량으로 포함될 수 있다.The inkjet curable resin composition may further comprise additives including a pigment, a dispersant, an antioxidant, a photopolymerization accelerator, a surface modifier, or a mixture of two or more thereof. Examples of the inorganic pigments include cobalt oxide, aluminum oxide, titanium dioxide, zinc sulfide, bismuth sulfate, and the like. Examples of the inorganic pigments include, but are not limited to, Examples of the organic pigments are not particularly limited, and for example, an anthraquinone type, a perylene type, a disazo type, an isoindoline type, a phthalocyanine type and the like can be used. The pigment may be contained in an amount of 1 wt% to 20 wt%, or 10 wt% to 15 wt% based on the inkjet curable resin composition.

상기 분산제는 통상 사용되는 다양한 분산제를 제한없이 사용할 수 있고, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 기준으로 0.1중량% 내지 5 중량%, 또는 1 중량% 내지 2 중량% 의 함량으로 포함될 수 있다.The dispersing agent may be used in a variety of commonly used dispersing agents without limitation, and may be contained in an amount of 0.1 wt% to 5 wt%, or 1 wt% to 2 wt% based on the inkjet curable resin composition.

상기 광중합 촉진제는 중합 반응을 촉진하며, 구체적인 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, N,N-디메틸아미노벤조산에틸에스테르, N,N-디메틸아미노벤조산이소아밀에스테르, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 트리에틸아민, 트리에탄올아민 등의 제3급 아민류 등을 사용할 수 있다. 상기 광중합 촉진제는 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 기준으로 0.1중량% 내지 5 중량%, 또는 0.5 중량% 내지 2 중량% 의 함량으로 포함될 수 있다.The photopolymerization accelerator accelerates the polymerization reaction and is not particularly limited. For example, N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, pentyl-4-dimethylamino Tertiary amines such as benzoate, triethylamine and triethanolamine, and the like can be used. The photopolymerization accelerator may be contained in an amount of 0.1 wt% to 5 wt%, or 0.5 wt% to 2 wt% based on the inkjet curable resin composition.

상술한 성분을 배합하여 얻어진 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은, 교반기 또는 분산기, 예를 들면 롤밀, 샌드밀, 볼밀, 비드밀 또는 아트라이터와 같은 분산기를 사용하여 균일해질 때까지 혼합ㆍ분산하여 조정할 수 있다.The ink-jetting curable resin composition obtained by blending the above components can be mixed and dispersed by using a dispersing machine such as a stirrer or a dispersing machine such as a roll mill, a sand mill, a ball mill, a bead mill or an attritor until uniform have.

상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도가 25℃에서 100mpa·s이하, 또는 30 mpa·s 내지 60 mpa·s이고, 45℃에서 20 mpa·s이하, 또는 7 mpa·s 내지 15mpa·s일 수 있다. 상기 초기 점도란, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 제조완료 직후의 점도를 의미한다. 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도가 일정 수준 이하로 낮아져야만 잉크젯 프린터로 도포하는 것이 가능하다. 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도가 25℃에서 100mpa·s초과이거나, 40℃에서 20mpa·s초과이면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도가 상승함에 따라 잉크젯 도포성이 저하되거나, 도막 특성이 저하될 수 있다.The initial viscosity of the ink-jet curable resin composition may be 100 mPa s or less at 25 ° C, or 30 mPa s to 60 mPa s, at 45 ° C at 20 mPa s or less, or 7 mPa s to 15 mpa.multidot.s have. The initial viscosity refers to the viscosity immediately after the completion of the production of the ink-jet curable resin composition. The initial viscosity of the inkjet curable resin composition must be lowered to a certain level or less to be applied by an inkjet printer. If the initial viscosity of the ink-jet curable resin composition is more than 100 mPa · s at 25 ° C. or more than 20 mPa · s at 40 ° C., the viscosity of the ink-jet curable resin composition may increase, Can be degraded.

또한, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 45℃ 온도에서 점도 변화율은 10% 이하, 또는 1% 내지 10%, 또는 1.5% 내지 7%, 또는 1.8% 내지 6%일 수 있다. 상기 점도 변화율은 하기 수학식 1를 통해 구할 수 있다.The viscosity change rate of the ink-jet curable resin composition at 45 ° C may be 10% or less, or 1% to 10%, or 1.5% to 7%, or 1.8% to 6%. The viscosity change rate can be obtained by the following equation (1).

[수학식1][Equation 1]

점도 변화율(%)= (|45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도 - 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도|) / 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도 X 100Viscosity change rate (%) = (viscosity of ink-jet curable resin composition after storage at 45 占 폚 for 5 weeks-initial viscosity of ink-jet curable resin composition at 45 占 폚) / initial viscosity of ink-jet curable resin composition X100

상기 수학식1에서, '|45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도 - 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도|'는 45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도와 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도의 차이값의 절대값을 의미한다.The viscosity of the ink-jet curable resin composition after storage for 5 weeks at a temperature of 45 ° C, the initial viscosity of the ink-jet curable resin composition at a temperature of 45 ° C was maintained at 45 ° C for 5 weeks, Means the absolute value of the difference between the initial viscosity of the curable resin composition for ink-jet at a temperature of 45 캜 and the viscosity of the curable resin composition for inkjet.

상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 45℃ 온도에서 장기간 보관할 경우, 초기 점도를 기준으로 증가하거나 감소하는 변화가 발생할 수 있다. 상기 점도 변화율이 지나치게 증가하면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 온도에 대한 안정성이 감소하여 고온 토출에 따른 잉크젯 사용이 어려울 수 있다.
When the curable resin composition for inkjet is stored at a temperature of 45 ° C for a long period of time, an increase or decrease may occur based on the initial viscosity. If the viscosity change rate is excessively increased, stability with respect to the temperature of the curable resin composition for ink jet is decreased, and it may be difficult to use the ink jet according to high temperature discharge.

한편, 발명의 다른 구현예에 따르면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 솔더레지스트가 제공될 수 있다.According to another embodiment of the present invention, a solder resist containing a cured product of the ink-jet curable resin composition may be provided.

상기 솔더레지스트는 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체; 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물; 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물; 및 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물;로 이루어진 군에서 선택된 2종 이상의 화합물 간의 가교 결합을 포함할 수 있다. Wherein the solder resist comprises: a nanosilica dispersion containing silica particles and an acrylic monomer having a surface treated with a siloxane compound; An alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and containing at least 2 ethylenically unsaturated groups; An aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms and containing at least 3 ethylenically unsaturated groups; And a polyfunctional aliphatic acrylate compound; and a cross-linking between two or more compounds selected from the group consisting of a polyfunctional aliphatic acrylate compound and a polyfunctional aliphatic acrylate compound.

상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 및 상기 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물 간의 중량비가 2:1 내지 10:1, 또는 2:1 내지 5:1일 수 있다.
The weight ratio of the alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms containing at least two ethylenically unsaturated groups and the aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms containing at least 3 ethylenically unsaturated groups is 2: 1 to 10: 1, or 2: 5: 1.

한편, 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상기 일 구현예의 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 잉크젯 프린터로 기재 상에 도포하는 단계; 및 상기 도포된 수지 조성물을 경화하는 단계;를 포함하는, 솔더레지스트의 제조방법이 제공될 수 있다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing an inkjet curable resin composition, And a step of curing the applied resin composition.

상술한 바와 같이, 상기 솔더레지스트의 제조방법은 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 이용하여, 알칼리 현상형 솔더 레지스트와 같은 복잡한 공정을 필요로 하지 않고, 잉크젯 프린터를 이용하여 특정 부분에 특정 양만큼 도포함으로써, 공정이 간략화되고, 생산성이 향상되며, 설비의 유지비 등도 감소시킬 수 있다.As described above, the method of manufacturing the solder resist does not require a complicated process such as an alkaline developing type solder resist by using the inkjet curable resin composition, but is applied to a specific portion by a specific amount using an inkjet printer , The process can be simplified, the productivity can be improved, and the maintenance cost of the equipment can be reduced.

상기 잉크젯 프린터로서는, 온디맨드 또는 피에조 방식의 잉크젯 프린터가 사용될 수 있고, 바람직하게는 피에조 방식의 잉크젯 프린터가 사용될 수 있다. 상기 피에조 방식이란, 특정 방향으로 압력을 가하면 결정체(수정, 전기석 등)의 표면에서 전기가 발생하는 성질을 이용하는 방식을 의미한다. As the ink jet printer, an on-demand or piezo ink jet printer may be used, and preferably a piezoelectric ink jet printer may be used. The above-mentioned piezo system means a system which utilizes the property of generating electricity on the surface of a crystal (crystal, tourmaline, etc.) when pressure is applied in a specific direction.

상기 기재로는 회로 형성된 인쇄 배선판 등을 사용할 수 있다. As the substrate, a printed wiring board or the like formed with a circuit can be used.

한편, 상기 도포된 수지 조성물을 경화하는 단계는, 광경화단계; 및 열경화단계;를 포함할 수 있다.On the other hand, the step of curing the applied resin composition includes a photo-curing step; And a heat curing step.

상기 광경화단계는 150 mJ/㎠ 내지 250 mJ/㎠, 또는 180 mJ/㎠ 내지 220 mJ/㎠의 노광량을 가질 수 있다. 광원으로는 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프 또는 메탈할라이드 램프 등을 사용할 수 있다.The photo-curing step may have an exposure dose of 150 mJ / cm2 to 250 mJ / cm2, or 180 mJ / cm2 to 220 mJ / cm2. As the light source, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a xenon lamp or a metal halide lamp can be used.

상기 열경화단계는 100℃ 내지 200℃, 또는 140℃ 내지 160℃에서 30분 내지 90분, 또는 40분 내지 70분간 진행될 수 있다. 또한, 상기 열경화단계는 열풍 순환식 건조로에서 진행될 수 있다. 상기 열경화단계를 통해 내열성이 우수한 경화물을 포함하는 레지스트 패턴을 얻을 수 있다.The thermosetting step may be performed at 100 ° C to 200 ° C, or 140 ° C to 160 ° C for 30 minutes to 90 minutes, or 40 minutes to 70 minutes. In addition, the thermosetting step may be performed in a hot air circulating type drying furnace. Through the above-mentioned thermosetting step, a resist pattern containing a cured product having excellent heat resistance can be obtained.

본 발명에 따르면, 낮은 점도를 가지면서, 우수한 저장안정성, 무전해 도금성 및 기계적 물성을 나타낼 수 있는 잉크젯용 경화성 수지 조성물 및 이를 이용한 솔더레지스트, 그리고 공정이 간략화되고, 생산성이 향상되며, 설비의 유지비를 줄일 수 있는 솔더레지스트 제조방법이 제공될 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a curable resin composition for an ink jet which can exhibit excellent storage stability, electroless plating property and mechanical properties while having a low viscosity, a solder resist using the same, and a process, A solder resist manufacturing method capable of reducing maintenance cost can be provided.

발명을 하기의 실시예에서 보다 상세하게 설명한다. 단, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.
The invention will be described in more detail in the following examples. However, the following examples are illustrative of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

<< 실시예Example 1 내지 2 및  1 to 2 and 비교예Comparative Example 1 내지 2:  1 to 2: 잉크젯용For Inkjet 경화성 수지 조성물 및  Curable resin composition and 솔더레지스트의Solder resist 제조> Manufacturing>

(1) 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 제조(1) Preparation of curable resin composition for inkjet

하기 표 1에 나타난 함량으로 반응물을 교반기를 이용하여 2,000rpm의 속도로 45℃에서 1.5시간 동안 혼합하고, 안료 및 분산제를 추가하여 입경이 0.2㎛인 지르코니아 비드를 사용하여 3시간 동안 분산시켰다. 이후, 산화방지제, 광중합 촉진제, 표면 조절제 등의 첨가제를 투입하고, 1 ㎛의 필터로 여과하여 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 제조하였다.The reactants were mixed at a rate of 2,000 rpm at a temperature of 45 ° C for 1.5 hours using a stirrer in the contents shown in Table 1 below, and dispersed for 3 hours using zirconia beads having a particle size of 0.2 μm by adding a pigment and a dispersant. Then, an additive such as an antioxidant, a photopolymerization accelerator, and a surface conditioner was added thereto, followed by filtration through a 1 占 퐉 filter to prepare a curable resin composition for an ink jet.

(2) 솔더레지스트의 제조(2) Manufacture of solder resist

상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 압전방식(piezoelectric type)의 프린트헤드에 적용하여 회로 형성된 인쇄 배선판 1.6T FR-4(150 ㎜X 95㎜)상에 솔더 레지스트 패턴으로 도포하였다. 그리고, 상기 인쇄 배선판 상에 도포된 솔더레지스트 용액에 대하여 수은램프를 이용하여 200mJ/㎠로 자외선을 조사하면서 광경화를 진행하였다. 상기 광경화 이후, 열풍 순환식 건조로에서 150℃ 온도에서 60분간 열경화를 진행하여 솔더레지스트를 제조하였다.
The ink-jet curable resin composition was applied to a piezoelectric type printhead and coated on a printed wiring board 1.6T FR-4 (150 mm x 95 mm) with a solder resist pattern. Then, the solder resist solution applied on the printed wiring board was irradiated with ultraviolet rays at a dose of 200 mJ / cm 2 using a mercury lamp, and photo-curing was performed. After the photo-curing, the solder resist was prepared by conducting thermal curing at a temperature of 150 ° C for 60 minutes in a hot air circulating type drying furnace.

<< 실험예Experimental Example :  : 실시예Example  And 비교예에서In the comparative example 얻어진  Obtained 잉크젯용For Inkjet 경화성 수지 조성물 및  Curable resin composition and 솔더레지스트의Solder resist 물성 측정> Measurement of physical properties>

상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 잉크젯용 경화성 수지 조성물 및 솔더레지스트의 물성을 하기 방법으로 측정하였으며, 그 결과를 표1 에 나타내었다.
The physical properties of the ink-jet curable resin composition and the solder resist obtained in the above Examples and Comparative Examples were measured by the following methods, and the results are shown in Table 1.

1. 저장안정성1. Storage stability

1-1. 입경(㎛)1-1. Particle size (탆)

상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 45℃ 온도에서 5주간 보관한 후, Malvern사의 입도분석기 MS3000을 사용하여 레이저 회절법에 따라(용매로 Ethyl alcohol사용) 상기 솔더레지스트 조성물에 포함된 입자의 최대 입경을 측정하였다.
The curable resin composition for inkjet was stored at 45 캜 for 5 weeks, and then the maximum particle diameter of the particles contained in the solder resist composition was measured according to laser diffraction (using ethyl alcohol as a solvent) using a particle size analyzer MS3000 manufactured by Malvern Respectively.

1-2. 점도 변화율(%)1-2. Viscosity change rate (%)

상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 45℃ 온도에서 초기 및 5주간 보관한 후의 비중을 비중계를 사용하여 측정하고, 동점도는 캐논 펜스케형 점도계를 사용하여 측정하여, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도를 측정하였다.The specific gravity of the ink-jet curable resin composition after storage for 45 days at an initial temperature of 45 ° C for 5 weeks was measured using a densitometer, and the kinematic viscosity was measured using a Canon Pen Scue viscometer to measure the viscosity of the inkjet curable resin composition Respectively.

상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도를 기준으로 점도 변화율을 측정하였다. 상기 점도 변화율은 하기 [수학식1]을 통해 구할 수 있다.The viscosity change rate was measured based on the initial viscosity of the ink-jet curable resin composition. The viscosity change rate can be obtained through the following equation (1).

[수학식1][Equation 1]

점도 변화율(%)= (|45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도 - 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도|) / 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도 X 100Viscosity change rate (%) = (viscosity of ink-jet curable resin composition after storage at 45 占 폚 for 5 weeks-initial viscosity of ink-jet curable resin composition at 45 占 폚) / initial viscosity of ink-jet curable resin composition X100

상기 수학식1에서, '|45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도 - 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도|'는 45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도와 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도의 차이값의 절대값을 의미한다.The viscosity of the ink-jet curable resin composition after storage for 5 weeks at a temperature of 45 ° C, the initial viscosity of the ink-jet curable resin composition at a temperature of 45 ° C was maintained at 45 ° C for 5 weeks, Means the absolute value of the difference between the initial viscosity of the curable resin composition for ink-jet at a temperature of 45 캜 and the viscosity of the curable resin composition for inkjet.

1-3. 침전 및 분리여부1-3. Precipitation and separation

상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 45℃ 온도에서 5주간 보관한 후, 육안으로 침전 및 분리여부를 관찰하였다.After the curable resin composition for ink jet was stored at 45 캜 for 5 weeks, it was visually observed whether it was precipitated or separated.

OK: 침전 및 분리가 관찰되지 않음OK: no precipitation and separation observed

NG: 침전 및 분리가 관찰됨
NG: precipitation and separation observed

2. 접착력2. Adhesion

ASTM D3359의 시험 방법에 따라 상기 솔더레지스트의 접착력을 측정하였다.
The adhesive force of the solder resist was measured according to the test method of ASTM D3359.

3. 연필 경도(H)3. Pencil hardness (H)

JIS K-5600-5의 시험 방법에 따라 상기 솔더레지스트의 연필 경도를 측정하였다
The pencil hardness of the solder resist was measured according to the test method of JIS K-5600-5

4. 내약품성4. Chemical resistance

JIS-C-5016시험 방법에 따라, 상기 솔더레지스트를 10 vol%의 염산에 10분간 침지한 후의 도막 상태를 평가하였다.According to the JIS-C-5016 test method, the state of the coating film after the solder resist was immersed in 10 vol% hydrochloric acid for 10 minutes was evaluated.

4-1. 내용제성4-1. Solvent resistance

JIS-C-5016시험 방법에 따라, 상기 솔더레지스트를 이소 프로필 알코올에 5분간 침지한 후 다음 기준 하에 도막 상태를 평가하였다.According to the JIS-C-5016 test method, the solder resist was immersed in isopropyl alcohol for 5 minutes, and the state of the film under the following criteria was evaluated.

OK: 솔더레지스트 상에 부풀음, 변색, 벗겨짐이 없음OK: No swelling, discoloration, peeling on solder resist

NG: 솔더레지스트 상에 부풀음, 변색, 벗겨짐이 관찰됨NG: Swelling, discoloration, and peeling were observed on the solder resist.

4-2. 내산성4-2. Acid resistance

JIS-C-5016시험 방법에 따라, 상기 솔더레지스트를 2N의 염산에 5분간 침지한 후 다음 기준 하에 도막 상태를 평가하였다.According to the JIS-C-5016 test method, the solder resist was immersed in 2N hydrochloric acid for 5 minutes, and the state of the film under the following criteria was evaluated.

OK: 솔더레지스트 상에 부풀음, 변색, 벗겨짐이 없음OK: No swelling, discoloration, peeling on solder resist

NG: 솔더레지스트 상에 부풀음, 변색, 벗겨짐이 관찰됨NG: Swelling, discoloration, and peeling were observed on the solder resist.

4-3. 내알카리성4-3. My alkalinity

JIS-C-5016시험 방법에 따라, 상기 솔더레지스트를 2N의 수산화 나트륨에 5분간 침지한 후 다음 기준 하에 도막 상태를 평가하였다.According to the JIS-C-5016 test method, the solder resist was immersed in 2N sodium hydroxide for 5 minutes, and the state of the coating film was evaluated under the following criteria.

OK: 솔더레지스트 상에 부풀음, 변색, 벗겨짐이 없음OK: No swelling, discoloration, peeling on solder resist

NG: 솔더레지스트 상에 부풀음, 변색, 벗겨짐이 관찰됨
NG: Swelling, discoloration, and peeling were observed on the solder resist.

5. 내열성5. Heat resistance

JSTD-003 의 시험 방법에 따라, 상기 솔더레지스트를 260 ℃의 땜납조에 5초간 침지한 후, 스카치 테이프에 의한 필링 시험을 행하여 다음 기준 하에 도막 상태를 평가하였다.According to the test method of JSTD-003, the solder resist was immersed in a solder bath of 260 deg. C for 5 seconds, and then subjected to a peeling test using a scotch tape to evaluate the film state under the following criteria.

OK: 솔더레지스트가 스카치 테이프에 의해 떨어져 나오지 않음OK: Solder resist does not come off by Scotch tape

NG: 솔더레지스트가 스카치 테이프에 의해 떨어져 나옴
NG: Solder resist comes off by Scotch tape

6. 6. 무전해Electroless 도금성Plating property

콘베이어 속도 2.5m/min로 무전해 니켈 도금욕 및 무전해 금도금욕을 사용하여 상기 솔더레지스트를 니켈 3.745 ㎛, 금 0.056 ㎛ 로 도금하고, 테이프 필링에 의해 경화 도막의 박리의 유무나 도금의 스며듦의 유무를 평가하였다.Using the electroless nickel plating bath and the electroless gold plating bath at a conveyer speed of 2.5 m / min, the solder resist was plated with nickel 3.745 mu m and gold 0.056 mu m, and the peeling of the cured coating film or the permeation of plating Respectively.

OK: 솔더레지스트가 박리되거나 도금의 스며듦이 없음OK: Solder resist does not peel off or plunge.

NG: 솔더레지스트가 박리되거나 도금의 스며듦이 있음 NG: Solder resist peeling off or plated

상기 실시예 및 비교예의 솔더레지스트의 조성과 실험예의 결과를 하기 표1 및 2에 기재하였다.
The compositions of the solder res of the above Examples and Comparative Examples and the results of the experimental examples are shown in Tables 1 and 2 below.

실시예 및 비교예의 솔더레지스트 조성 및 실험예 결과(단위 : 중량%)Composition of solder resist in Examples and Comparative Examples and Results of Experimental Example (unit:% by weight) 구분division 실시예1Example 1 실시예2Example 2 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 트리스(2-하이드록시에틸) 아이소시아누레이트 트리메타크릴레이트(THEICTA)Tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate trimethacrylate (THEICTA) 1010 1010 1010 1010 트리사이클로데칸디메탄올 디아크릴레이트(TCDDA)Tricyclodecane dimethanol diacrylate (TCDDA) 3030 3030 3030 3030 펜타세리트리톨 테트라아크릴레이트(PETRA)Pentacyceritol tetraacrylate (PETRA) 1010 1010 1010 1010 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(HDDA)1,6-hexanediol diacrylate (HDDA) 1010 1010 -- 1010 디프로필렌 글리콜 디아크릴레이트(DPGDA)Dipropylene glycol diacrylate (DPGDA) -- -- 2020 -- 4-하이드록시부틸아크릴레이트(4HBA)4-hydroxybutyl acrylate (4HBA) 2020 2020 2020 2020 나노 실리카 분산체Nano silica dispersion 55 1010 -- 2.52.5 초기 점도(mpa·s)Initial viscosity (mPa · s) 12.412.4 14.514.5 28.128.1 19.319.3 저장안정성Storage stability 입경(㎛)Particle size (탆) 0.180.18 0.170.17 0.640.64 0.380.38 점도 변화율(%)Viscosity change rate (%) 55 22 2020 1212 침전 및 분리여부Precipitation and separation OKOK OKOK NGNG NGNG 접착력Adhesion 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 100/100100/100 연필경도Pencil hardness 6H6H 7H7H 5H5H 5H5H 내약품성Chemical resistance OKOK OKOK OKOK OKOK 내열성Heat resistance OKOK OKOK OKOK OKOK 무전해 도금성Electroless plating property OKOK OKOK NGNG NGNG

상기 표1에 나타난 바와 같이, 실시예 1 내지 2의 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경우, 각각 5중량%, 10중량%의 나노 실리카 분산체를 포함함에 따라, 45℃ 온도에서 5주간 보관한 후에도 입경이 0.2 ㎛ 미만으로 낮게 유지될 수 있고, 점도 변화율이 10% 미만이며, 침전 및 분리가 일어나지 않는 등 우수한 저장안정성을 나타냄을 확인할 수 있었다. 반면, 비교예 1내지 2의 경우에는, 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 충분하지 않아, 45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 입경이 0.3 ㎛ 초과이며, 점도 변화율이 10% 초과이고, 침전 및 분리가 일어나는 등 저장안정성이 충분히 확보되지 않음을 확인할 수 있다.  As shown in Table 1, the curable resin composition for inkjet according to Examples 1 and 2 contained 5 wt% and 10 wt% of the nanosilica dispersions, respectively, and therefore, even after storage at 45 ° C for 5 weeks, Can be kept as low as less than 0.2 μm, and the rate of change in viscosity is less than 10%, and precipitation and separation do not occur, indicating excellent storage stability. On the other hand, in the case of Comparative Examples 1 and 2, the content of the nanosilica dispersion was not sufficient, and after storage for 5 weeks at 45 ° C, the particle size exceeded 0.3 μm, the viscosity change rate exceeded 10% It can be confirmed that the storage stability is not sufficiently secured.

또한, 실시예 1 내지 2의 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경우, 각각 5중량%, 10중량%의 나노 실리카 분산체를 포함함에 따라, 우수한 무전해 도금성을 나타낸 반면 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 충분하지 않은 비교예 1 내지 2의 경우 무전해도금성이 충분히 확보되지 않음을 확인할 수 있다.In addition, in the case of the ink-jet curable resin compositions of Examples 1 and 2, excellent electroless plating performance was exhibited due to the inclusion of 5 wt% and 10 wt% of the nanosilica dispersion, respectively, while the content of the nanosilica dispersion was It can be confirmed that the electroless plating ability is not sufficiently secured in Comparative Examples 1 and 2 which are not sufficient.

또한, 실시예 1 내지 2의 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경우, 각각 5중량%, 10중량%의 나노 실리카 분산체를 포함하더라도, 접착력, 연필경도, 내약품성 및 내열성 등의 기계적물성은 비교예와 동등한 수준에서 구현함을 확인할 수 있다.In addition, in the case of the ink-jet curable resin compositions of Examples 1 and 2, the mechanical properties such as adhesive force, pencil hardness, chemical resistance and heat resistance were comparable to those of Comparative Examples It can be seen that this is implemented at an equivalent level.

이에 따라, 상기 실시예 1 내지 2의 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 특정 함량의 나노 실리카 분산체를 포함하여, 우수한 저장안정성을 나타냄에 따라 오랜기간 보관이 가능할 뿐 아니라, 고온 토출시에도 안정성을 확보할 수 있다. 또한, 우수한 무전해 도금성을 가질 수 있어, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 표면에 금속 처리를 통해 내열성, 내마모성, 내약품성이 향상될 수 있다.Thus, the curable resin composition for inkjet according to Examples 1 and 2 contains a specific amount of nanosilica dispersion and exhibits excellent storage stability, so that it can be stored for a long period of time, . In addition, it can have excellent electroless plating properties, and heat resistance, abrasion resistance, and chemical resistance can be improved through metal treatment on the surface of the ink-jet curable resin composition.

Claims (25)

실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체;
2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물;
3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물; 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물; 및
광개시제;를 포함하고,
상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자는 하기 화학식1의 화합물을 포함하고,
상기 나노 실리카 분산체의 함량이 전체 조성물에 대해 3 중량% 내지 20 중량%인, 잉크젯용 경화성 수지 조성물:
[화학식1]
Figure 112016068377787-pat00011

상기 화학식 1에서,
R1는 수소 또는 메틸기이며,
R2는 수소 또는 메틸기이며,
R3는 수소 또는 메틸기 또는 히드록시기이며,
q는 1 내지 20의 정수이고,
a는 1이상의 정수이고,
Silica는 실리카 입자를 의미한다.
A nanosilica dispersion containing silica particles and an acrylic monomer having a siloxane compound surface-treated;
An alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and containing at least 2 ethylenically unsaturated groups;
An aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms and containing at least 3 ethylenically unsaturated groups; Polyfunctional aliphatic acrylate compounds; And
A photoinitiator,
Wherein the silica particles treated with the siloxane compound on the surface thereof comprise a compound represented by the following formula (1)
Wherein the content of the nano-silica dispersion is 3 wt% to 20 wt% with respect to the total composition.
[Chemical Formula 1]
Figure 112016068377787-pat00011

In Formula 1,
R 1 is hydrogen or a methyl group,
R 2 is hydrogen or a methyl group,
R 3 is hydrogen or a methyl group or a hydroxy group,
q is an integer of 1 to 20,
a is an integer of 1 or more,
Silica means silica particles.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 나노 실리카 분산체에 포함된 아크릴계 단량체는 단관능 아크릴레이트 화합물, 2관능 아크릴레이트 화합물 및 3관능 아크릴레이트 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the acrylic monomer contained in the nanosilica dispersion comprises at least one compound selected from the group consisting of a monofunctional acrylate compound, a bifunctional acrylate compound and a trifunctional acrylate compound.
제4항에 있어서,
상기 단관능 아크릴레이트 화합물은 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 1개 치환된 탄소수 1 내지 10의 헤테로 고리 화합물을 포함하고,
상기 2관능 아크릴레이트 화합물은 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물; 및 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 에테르 화합물;로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하고,
상기 3관능 아크릴레이트 화합물은 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물; 및 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 1 내지 20의 지방족 에테르 화합물;로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
5. The method of claim 4,
The monofunctional acrylate compound is a (meth) acryloyl group having 1 to 10 carbon atoms substituted with one functional group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group and a Ring compounds,
The bifunctional acrylate compound is an aliphatic compound having 1 to 10 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group and a (meth) acryloyloxy group is substituted. compound; And an aliphatic ether compound having 1 to 10 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group and a (meth) acryloyloxy group is substituted, , &Lt; / RTI &gt;
The trifunctional acrylate compound is an aliphatic (meth) acrylate having 1 to 10 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group and a compound; And an aliphatic ether compound having 1 to 20 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group and a (meth) acryloyloxy group is substituted, And at least one compound selected from the group consisting of the following compounds.
제1항에 있어서,
상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자의 입경이 5 ㎚ 내지 100 ㎚인, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the silica particles treated with the siloxane compound have a particle diameter of 5 nm to 100 nm.
제1항에 있어서,
상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자의 함량이 상기 나노 실리카 분산체에 대해 40 중량% 내지 70 중량%인, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the content of the silica particles treated on the surface of the siloxane compound is 40% by weight to 70% by weight with respect to the dispersion of the nano silica.
제1항에 있어서,
상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 및 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물 간의 중량비가 2:1 내지 10:1인, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the weight ratio between the alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and the aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms containing 3 or more ethylenically unsaturated groups is 2: 1 to 10: 1, and the curable resin composition for inkjet .
제1항에 있어서,
상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물은,
(메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 6 내지 15의 다중고리 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
The alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and containing at least two ethylenically unsaturated groups,
(Meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group, and a (meth) acryloyloxy group. .
제9항에 있어서,
상기 탄소수 6 내지 15의 다중고리 화합물은 노르보난(norbornane, Bicyclo[2,2,1]heptane), 노르보넨(norbornene, Bicyclo[2.2.1]hept-2-ene), 노르피난(norpinane, Bicyclo[3,1,1]heptane), 노르피넨(norpinene, Bicyclo[3,1,1]hept-2-ene), 노르보난 유도체, 노르보넨 유도체, 노르피난 유도체 및 노르피넨 유도체로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
10. The method of claim 9,
The polycyclic compound having 6 to 15 carbon atoms may be selected from the group consisting of norbornane (Bicyclo [2,2,1] heptane), norbornene, Bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, norpinane, [3,1,1] heptane), norpinene, Bicyclo [3,1,1] hept-2-ene, norbornane derivatives, norbornene derivatives, nophenan derivatives and nopinene derivatives A curable resin composition for inkjet, comprising at least one compound.
제9항에 있어서,
상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 6 내지 15의 다중고리 화합물은 하기 화학식 2의 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물:
[화학식2]
Figure 112014098701251-pat00007

상기 화학식 2에서,
R5, R6, R7, R8 및 R9 중 적어도 2개는 하기 화학식 3의 작용기이며,
나머지는 수소, 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이고,
[화학식3]
Figure 112014098701251-pat00008

상기 화학식3에서,
A는 직접 결합 또는 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이고,
X는 직접 결합 또는 산소이고,
R11, R12 및 R13은 각각 수소, 메틸기, 에틸기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기이다.
10. The method of claim 9,
The polycyclic compound having 6 to 15 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of the (meth) acryloyl group, the (meth) acryloyloxy group and the (meth) acryloyloxy group is substituted is represented by the following formula A curable resin composition for inkjet comprising:
(2)
Figure 112014098701251-pat00007

In Formula 2,
At least two of R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are functional groups represented by the following formula (3)
And the rest is hydrogen or a straight or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
(3)
Figure 112014098701251-pat00008

In Formula 3,
A is a direct bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms,
X is a direct bond or oxygen,
R 11 , R 12 and R 13 are each a functional group selected from the group consisting of hydrogen, a methyl group and an ethyl group.
제11항에 있어서,
상기 화학식 2의 화합물은 상기 화학식 2의 R5, R6 중 적어도 하나가 상기 화학식 3의 작용기이고, 상기 화학식 2의 R7, R8, R9 중 적어도 하나가 상기 화학식 3의 작용기인 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
12. The method of claim 11,
The compound of formula (2) is a compound of formula (2) wherein R 5 , R 6 At least one of R &lt; 7 &gt;, R &lt; 8 &gt;, R &lt; 8 & R 9 Wherein at least one of the functional groups is a functional group of the above formula (3).
제1항에 있어서,
상기 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물은,
(메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 2 내지 5의 헤테로 방향족 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
The aromatic compound having from 1 to 10 carbon atoms and containing at least three ethylenically unsaturated groups,
(Meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group, and a (meth) acryloyloxy group, which is substituted with at least one functional group selected from the group consisting of .
제13항에 있어서,
상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 2 내지 5의 헤테로 방향족 화합물은 하기 화학식 4의 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물:
[화학식4]
Figure 112014098701251-pat00009

상기 화학식4에서,
Y1, Y2 및 Y3 중 적어도 하나는 질소이고 나머지는 탄소이며,
R21, R22 및 R23은 각각 하기 화학식 3의 작용기이며,
[화학식3]
Figure 112014098701251-pat00010

상기 화학식3에서,
A는 직접 결합 또는 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이고,
X는 직접 결합 또는 산소이고,
R11, R12 및 R13은 각각 수소, 메틸기, 에틸기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기이다.
14. The method of claim 13,
The heteroaromatic compound having 2 to 5 carbon atoms in which one functional group selected from the group consisting of the (meth) acryloyl group, the (meth) acryloyloxy group and the (meth) acryloyloxy group is substituted is represented by the following formula A curable resin composition for inkjet comprising:
[Chemical Formula 4]
Figure 112014098701251-pat00009

In Formula 4,
At least one of Y 1 , Y 2 and Y 3 is nitrogen and the others are carbon,
R 21 , R 22 and R 23 are each a functional group represented by the following formula (3)
(3)
Figure 112014098701251-pat00010

In Formula 3,
A is a direct bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms,
X is a direct bond or oxygen,
R 11 , R 12 and R 13 are each a functional group selected from the group consisting of hydrogen, a methyl group and an ethyl group.
제1항에 있어서,
상기 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물은 2관능 지방족 아크릴레이트 화합물 또는 4관능 지방족 아크릴레이트 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the polyfunctional aliphatic acrylate compound comprises a bifunctional aliphatic acrylate compound or a tetrafunctional aliphatic acrylate compound.
제15항에 있어서,
상기 2관능 지방족 아크릴레이트 화합물 및 4관능 지방족 아크릴레이트 화합물의 중량비가 0.5:1 내지 1.5:1인, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
16. The method of claim 15,
Wherein the weight ratio of the bifunctional aliphatic acrylate compound and the tetrafunctional aliphatic acrylate compound is 0.5: 1 to 1.5: 1.
제1항에 있어서,
안료, 분산제, 산화방지제, 광중합 촉진제 및 표면 조절제로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 첨가제를 더 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
At least one additive selected from the group consisting of a pigment, a dispersant, an antioxidant, a photopolymerization accelerator, and a surface modifier.
제1항에 있어서,
상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도가 45℃에서 10 mpa·s 내지 20 mpa·s인, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the initial viscosity of the ink-jet curable resin composition is from 10 to 20 mPa · s at 45 캜.
제1항에 있어서,
하기 수학식 1에 따른 45℃에서의 점도 변화율이 10% 이하인, 잉크젯용 경화성 수지 조성물:
[수학식1]
점도 변화율(%)= (|45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도 - 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도|) / 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도 X 100
상기 수학식1에서, '|45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도 - 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도|'는 45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도와 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도의 차이값의 절대값을 의미한다.
The method according to claim 1,
A curable resin composition for inkjet, wherein the viscosity change ratio at 45 캜 according to the following formula (1) is 10% or less:
[Equation 1]
Viscosity change rate (%) = (viscosity of ink-jet curable resin composition after storage at 45 占 폚 for 5 weeks-initial viscosity of ink-jet curable resin composition at 45 占 폚) / initial viscosity of ink-jet curable resin composition X100
The viscosity of the ink-jet curable resin composition after storage for 5 weeks at a temperature of 45 ° C, the initial viscosity of the ink-jet curable resin composition at a temperature of 45 ° C was maintained at 45 ° C for 5 weeks, Means the absolute value of the difference between the initial viscosity of the curable resin composition for ink-jet at a temperature of 45 캜 and the viscosity of the curable resin composition for inkjet.
제1항의 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경화물을 포함하는, 솔더레지스트.
A solder resist comprising the cured product of the ink-jet curable resin composition of claim 1.
제20항에 있어서,
상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체; 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물; 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물; 및 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물;로 이루어진 군에서 선택된 2종 이상의 화합물 간의 가교 결합을 포함하는, 솔더 레지스트.
21. The method of claim 20,
A nanosilica dispersion containing silica particles and an acrylic monomer having the siloxane compound treated on the surface thereof; An alicyclic compound having 4 to 20 carbon atoms and containing at least 2 ethylenically unsaturated groups; An aromatic compound having 1 to 10 carbon atoms and containing at least 3 ethylenically unsaturated groups; And a polyfunctional aliphatic acrylate compound; and a cross-linking between two or more compounds selected from the group consisting of a polyfunctional aliphatic acrylate compound and a polyfunctional aliphatic acrylate compound.
제1항의 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 잉크젯 프린터로 기재 상에 도포하는 단계; 및
상기 도포된 수지 조성물을 경화하는 단계;를 포함하는, 솔더레지스트의 제조방법.
Applying the ink-jet curable resin composition of claim 1 onto a substrate with an inkjet printer; And
And curing the applied resin composition.
제 22항에 있어서,
상기 도포된 수지 조성물을 경화하는 단계는,
광경화단계; 및 열경화단계;를 포함하는, 솔더레지스트의 제조방법.
23. The method of claim 22,
Wherein the step of curing the applied resin composition comprises:
Photocuring step; And a thermosetting step.
제 23항에 있어서,
상기 광경화단계는 150 mJ/㎠ 내지 250 mJ/㎠의 노광량을 갖는, 솔더레지스트의 제조방법.
24. The method of claim 23,
Wherein the photo-curing step has an exposure dose of 150 mJ / cm2 to 250 mJ / cm2.
제 23항에 있어서,
상기 열경화단계는 100℃ 내지 200℃에서 30분 내지 90분간 진행되는, 솔더레지스트의 제조방법.
24. The method of claim 23,
Wherein the thermosetting step is performed at 100 占 폚 to 200 占 폚 for 30 minutes to 90 minutes.
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