KR101678100B1 - Source supply device and substrate processing apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 내부에 공간을 형성하며 적어도 일 방향으로 개방되는 원료 분사관과, 상기 원료 분사관의 출구부로부터 이격되며 상기 원료 분사관의 입구부를 감싸도록 형성되는 블록과, 내부에 원료가 통과되는 공간을 가지며 적어도 일부가 상기 블록의 내부를 관통하여 장착되고 상기 블록의 내부에서 상기 원료 분사관의 일측에 연결되는 원료 공급관과, 상기 원료 분사관의 내부에 가스를 공급하도록 상기 블록의 내부를 관통하여 장착되며, 내부에 가스가 통과되는 공간을 가지는 가스 유입관과, 내부에 원료가 기화되는 공간을 가지며 상기 블록의 외측으로 이격되어 상기 원료 분사관의 출구부에 연결되는 챔버와, 상기 챔버의 적어도 일부를 감싸는 히팅블록을 포함하는 원료 공급기 및 이에 적용되는 기판 처리 장치로서, 원료 막힘을 억제 또는 방지 가능하도록 구조가 개선된 원료 공급기 및 이에 적용되는 기판 처리 장치가 제시된다.The present invention relates to a raw material spraying apparatus comprising a raw material spraying tube which forms an internal space and is opened in at least one direction, a block spaced from an outlet of the raw material spraying tube and enclosing an inlet of the raw material spraying tube, At least a part of which is inserted through the inside of the block and connected to one side of the raw material spray pipe inside the block, and a raw material supply pipe which penetrates the inside of the block to supply gas into the raw material spray pipe A chamber connected to the outlet of the raw material spray pipe and having a space for vaporizing the raw material therein and being spaced apart from the block, A raw material feeder including a heating block at least partially enclosing and a substrate processing apparatus applied thereto, The substrate processing device of the structure is improved and hence the raw material feeder is provided so as to apply not possible.

Description

원료 공급기 및 기판 처리 장치{Source supply device and substrate processing apparatus}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a raw material supply apparatus and a substrate processing apparatus,

본 발명은 원료 공급기 및 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 원료 막힘을 억제 또는 방지 가능한 원료 공급기 및 이를 구비하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a raw material feeder and a substrate processing apparatus, and more particularly, to a raw material feeder capable of suppressing or preventing clogging of a raw material and a substrate processing apparatus having the same.

액상 원료를 기화시켜 기판 상에 박막을 증착하는 장치에는 예컨대 대한민국 공개특허공보 제10-2011-0129133호 및 대한민국 공개특허공보 제10-2010-0067936호 등에 제시되고 있는 바와 같이, 액체 상태의 원료를 가열하여 기화시키는 기화기가 구비된다.As disclosed in, for example, Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2011-0129133 and Korean Patent Laid-Open No. 10-2010-0067936, an apparatus for vaporizing a liquid raw material and depositing a thin film on a substrate includes a liquid raw material And a vaporizer which is heated and vaporized.

한편, 종래의 기화기는 액상 원료를 분사하는 관의 토출구가 히팅블록으로 둘러싸인 챔버 내부로 돌출되거나 또는 챔버의 내부에 직접 노출되는 구조였다. 이에, 기판에 박막을 증착하는 공정을 진행하는 동안 액상의 원료가 토출구 부근에서 열분해 또는 변질되며 토출구를 막거나 좁히는 등의 경우가 있어, 공정이 중단되는 등의 문제점이 있었다.On the other hand, in the conventional vaporizer, the discharge port of the tube for spraying the liquid raw material was protruded into the chamber surrounded by the heating block or directly exposed to the inside of the chamber. Therefore, during the process of depositing the thin film on the substrate, the raw material of the liquid phase may be pyrolyzed or deteriorated near the discharge port, closing or narrowing the discharge port, and the process is interrupted.

또한, 종래의 기화기는 액상 원료의 유량을 정밀 제어하도록 구비되는 제어밸브의 압전변환기와 다이어프램을 공압 피스톤으로 눌러 액상 원료의 이동 경로를 차단하는 구조였다. 따라서, 박막 증착 공정이 완료되어 액상 원료의 이동 경로를 차단하는 과정에서 다이어프램에는 4㎏f/㎠ 내지 7㎏f/㎠의 압력이 순간적으로 가해지게 되어, 공정을 반복 실시하는 동안 다이어프램이 손상되는 경우가 있었으며, 이에 액상 원료의 유량을 정밀하게 제어하지 못하는 등의 문제점이 있었다.In addition, the conventional vaporizer has a structure in which the piezoelectric transducer of the control valve and the diaphragm, which are provided to precisely control the flow rate of the liquid raw material, are pneumatically operated to block the flow path of the liquid raw material. Therefore, in the course of completing the thin film deposition process and blocking the flow path of the liquid raw material, the pressure of 4 kgf / cm 2 to 7 kgf / cm 2 is instantaneously applied to the diaphragm, and the diaphragm is damaged There is a problem that the flow rate of the liquid raw material can not be precisely controlled.

KRKR 10-2011-012913310-2011-0129133 AA KRKR 10-2010-006793610-2010-0067936 AA

본 발명은 원료의 막힘을 억제 또는 방지 가능한 원료 공급기를 제공한다.The present invention provides a raw material feeder capable of preventing or preventing clogging of raw materials.

본 발명은 원료의 유량 제어 및 공급 차단을 독립적으로 제어 가능한 원료 공급기를 제공한다.The present invention provides a raw material feeder capable of independently controlling the flow rate of raw material and the supply interruption.

본 발명은 기판을 처리하는 챔버의 내부로 기화된 원료를 안정적으로 공급 및 분사 가능한 기판 처리 장치를 제공한다.The present invention provides a substrate processing apparatus capable of stably supplying and injecting a vaporized raw material into a chamber for processing a substrate.

본 발명의 실시 형태에 따른 원료 공급기는 내부에 공간을 형성하며, 적어도 일 방향으로 개방되는 원료 분사관; 상기 원료 분사관의 출구부로부터 이격되며, 상기 원료 분사관의 입구부를 감싸도록 형성되는 블록; 내부에 원료가 통과되는 공간을 가지며, 적어도 일부가 상기 블록의 내부를 관통하여 장착되고, 상기 블록의 내부에서 상기 원료 분사관의 일측에 연결되는 원료 공급관; 및 상기 원료 분사관의 내부에 가스를 공급하도록 상기 블록의 내부를 관통하여 장착되며, 내부에 가스가 통과되는 공간을 가지는 가스 유입관;을 포함한다.A raw material feeder according to an embodiment of the present invention includes a raw material spraying tube which forms a space therein and is opened in at least one direction; A block spaced apart from an outlet of the raw material discharge pipe and surrounding the inlet of the raw material discharge pipe; A raw material supply pipe having a space through which a raw material passes, at least a part of which is inserted through the inside of the block and connected to one side of the raw material injection pipe inside the block; And a gas inlet pipe mounted through the inside of the block so as to supply gas into the raw material spray pipe and having a space through which gas is passed.

상기 원료 분사관의 외주면과 연결되는 상기 블록의 일측 외부면의 적어도 일부에 접촉하여 배치되는 단열부재;를 포함할 수 있다.And a heat insulating member disposed in contact with at least a part of one outer surface of the block connected to the outer circumferential surface of the raw material spray tube.

상기 원료의 유량을 조절 가능하도록 상기 블록의 외측에서 상기 원료 공급관의 일측에 장착되는 제어밸브; 및 상기 원료의 공급을 차단 가능하도록 상기 블록의 외측에서 상기 원료 공급관의 타측에 장착되는 차단밸브;를 포함할 수 있다.A control valve mounted on one side of the raw material supply pipe outside the block so as to adjust the flow rate of the raw material; And a shut-off valve mounted on the other side of the raw material supply pipe outside the block so as to block the supply of the raw material.

상기 원료 분사관은 일 방향으로 연장되어 형성되고, 상기 원료 분사관의 입구부는 상기 가스 유입관에 연결될 수 있다.The raw material spray pipe may extend in one direction, and an inlet of the raw material spray pipe may be connected to the gas inflow pipe.

상기 원료 분사관의 내부 너비는 상기 원료 분사관의 입구부 너비보다 크게 형성될 수 있다.The inner width of the raw material spray pipe may be larger than the width of the inlet portion of the raw material spray pipe.

상기 블록은 내부에 공간을 가지는 외피형 구조의 블록 및 내부가 채워지는 일체형 구조의 블록 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The block may include any one of an enclosed structure block having an internal space and an integrally structured block filled therein.

상기 원료 공급관은 상기 원료 분사관의 입구부 부근에서 상기 원료 분사관의 상기 일측에 연결되되, 상기 원료 분사관의 입구부보다 낮은 위치에서 상기 원료 분사관에 교차하는 방향으로 연결될 수 있다.The raw material supply pipe may be connected to the one side of the raw material discharge pipe near the inlet of the raw material discharge pipe and may be connected to the raw material discharge pipe at a lower position than the inlet part of the raw material discharge pipe.

내부에 원료가 기화되는 공간을 가지며, 상기 블록의 외측으로 이격되어 상기 원료 분사관의 출구부에 연결되는 챔버; 및 상기 챔버의 적어도 일부를 감싸는 히팅블록;을 더 포함할 수 있다.A chamber having a space for vaporizing the raw material therein and connected to an outlet of the raw material spray pipe, the chamber being spaced apart from the block; And a heating block surrounding at least a portion of the chamber.

상기 챔버 및 블록의 사이에 설치되는 단열부재는 상기 챔버 및 블록 각각의 서로 마주보는 면을 감싸도록 배치될 수 있다.And a heat insulating member provided between the chamber and the block may be disposed so as to surround the facing surfaces of the chambers and the blocks, respectively.

상기 원료 분사관의 출구부는 상기 원료 분사관의 출구부가 관통 연결되는 상기 챔버의 일측 내부면과 동일면 상에 개방될 수 있다.The outlet of the raw material discharge pipe may be opened on the same plane as the one internal surface of the chamber through which the outlet of the raw material discharge pipe is connected.

상기 원료 공급관은 상기 원료 분사관의 출구부로부터 5㎜ 내지 10㎜의 범위로 이격되도록 상기 원료 분사관의 상기 일측에 연결될 수 있다.The raw material supply pipe may be connected to one side of the raw material discharge pipe so as to be spaced apart from the outlet of the raw material discharge pipe by 5 mm to 10 mm.

본 발명의 실시 형태에 따른 기판 처리 장치는 내부에 기판을 처리하는 공간이 형성되는 기판 처리 챔버; 상기 기판 처리 챔버 내부에 배치되는 기판 지지대; 상기 기판 지지대와 대향 배치되며, 상기 기판 지지대를 향하여 유체를 분사 가능하도록 형성되는 유체 분사기; 및 상기 기판 처리 챔버의 외측에서 상기 유체 분사기에 연결되며, 내부에 원료가 기화되는 공간이 형성되는 기화부 및 상기 기화부로부터 이격되는 위치에서 상기 기화부의 내부에 상기 원료를 분사 가능하도록 상기 기화부에 연결되는 분사부를 구비하는 원료 공급기;를 포함한다.A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes: a substrate processing chamber in which a space for processing a substrate is formed; A substrate support disposed within the substrate processing chamber; A fluid ejector disposed opposite the substrate support and configured to eject fluid toward the substrate support; A vaporizer connected to the fluid injector outside the substrate processing chamber, the vaporizer having a space therein for vaporizing the raw material; and a vaporizer for vaporizing the raw material into the vaporizer at a position spaced apart from the vaporizer, And a feeder connected to the feeder.

상기 원료 공급기는, 상기 기화부 및 분사부의 사이에서 상기 기화부 및 분사부 각각의 서로 마주보는 면을 감싸도록 배치되는 단열부재;를 포함할 수 있다.The raw material feeder may include a heat insulating member disposed between the vaporizing part and the jetting part so as to surround the facing surfaces of the vaporizing part and the jetting part, respectively.

상기 기화부는, 내부에 원료가 기화되는 공간을 가지는 챔버 및 상기 챔버의 내부로 열을 공급 가능하도록 상기 챔버의 적어도 일부를 감싸는 히팅블록;을 포함하고, 상기 히팅블록은 상기 챔버를 감싸도록 형성되되, 상기 단열부재와 접촉하는 상기 챔버의 일측을 제외한 나머지의 적어도 일부를 감싸도록 형성될 수 있다.The vaporizing unit includes a chamber having a space for vaporizing a raw material therein and a heating block surrounding at least a part of the chamber so as to supply heat into the chamber, wherein the heating block is formed to surround the chamber And at least a part of the remaining part of the chamber, which is in contact with the heat insulating member, except for one side of the chamber.

상기 분사부는, 상기 챔버의 외측에서 상기 챔버를 향하는 방향으로 연장되고, 출구부가 상기 챔버와 연통하는 원료 분사관; 상기 챔버의 외측으로 이격되어 상기 원료 분사관의 입구부를 감싸도록 형성되며, 상기 원료 분사관의 외주면과 연결되는 일측 외부면이 상기 단열부재와 접촉하는 블록; 및 내부에 원료가 통과되는 공간을 가지며, 적어도 일부가 상기 블록의 내부를 관통하여 상기 블록의 내부에서 상기 원료 분사관의 일측에 연결되는 원료 공급관;을 포함할 수 있다.Wherein the jetting portion includes a raw material spraying pipe extending in a direction from the outside of the chamber toward the chamber and having an outlet communicating with the chamber; A block spaced outside the chamber and surrounding the inlet of the raw material spray pipe, the block having one outer surface connected to the outer circumferential surface of the raw material spray pipe to contact the heat insulating member; And a raw material supply pipe having a space through which the raw material passes, at least a part of which passes through the inside of the block and is connected to one side of the raw material spray pipe inside the block.

상기 분사부는, 상기 원료의 유량 조절과 상기 원료의 공급 차단을 독립적으로 제어 가능하도록 상기 블록의 외측에서 상기 원료 공급관의 복수의 위치에 각각 장착되는 복수개의 밸브;를 더 포함할 수 있다.The injection unit may further include a plurality of valves mounted at a plurality of positions of the raw material supply pipe on the outside of the block so as to independently control the flow rate of the raw material and the interruption of the supply of the raw material.

상기 분사부는, 내부에 가스가 통과되는 공간을 가지며, 상기 블록의 내부를 관통하여 상기 원료 분사관의 입구부에 연결되는 가스 유입관; 상기 가스 유입관의 내부 압력을 측정 가능하도록 상기 블록에 장착되는 센서; 및 상기 원료 공급기의 외측에서 상기 가스 유입관에 연결되며, 상기 센서에서 측정되는 상기 내부 압력을 이용하여 가스의 공급을 제어하는 가스 공급원;을 더 포함할 수 있다.A gas inflow pipe having a space through which a gas passes, and connected to an inlet of the raw material spray pipe through an inside of the block; A sensor mounted on the block for measuring an internal pressure of the gas inlet pipe; And a gas supply source connected to the gas inlet pipe at the outside of the raw material feeder and controlling the supply of the gas using the internal pressure measured by the sensor.

상기 원료 분사관의 입구부 너비는 상기 분사관의 내부 너비보다 작게 형성되며, 상기 원료 분사관의 출구부는 상기 원료 분사관의 출구부가 관통 연결되는 상기 챔버의 일측 내부면과 동일면 상에 개방될 수 있다.The inlet portion width of the raw material spray pipe is formed to be smaller than the inside width of the spray pipe and the outlet portion of the raw material spray pipe can be opened on the same surface as the one inner surface of the chamber through which the outlet portion of the raw material spray pipe is connected have.

상기 원료 공급관은 상기 원료 분사관보다 낮은 위치에서 상기 원료 분사관에 교차하는 방향으로 연결되되, 상기 원료 분사관의 출구부로부터 5㎜ 내지 10㎜의 범위로 이격되도록 연결될 수 있다.The raw material supply pipe is connected in a direction crossing the raw material discharge pipe at a lower position than the raw material discharge pipe, and may be connected to be spaced from the outlet part of the raw material discharge pipe in a range of 5 mm to 10 mm.

본 발명의 실시 형태에 따르면 액상 원료가 기화되는 챔버 내의 열이 상기의 챔버에 액상 원료를 분사하는 원료 공급관의 출구부로 직접 전달되는 것을 억제 또는 방지하도록 구조가 개선되어, 액상 원료를 기화시키는 과정에서의 원료 공급관의 출구부 원료 막힘을 억제 또는 방지할 수 있다.According to the embodiment of the present invention, the structure is improved so as to prevent or prevent the heat in the chamber from which the liquid raw material is vaporized from being directly transferred to the outlet of the raw material supply pipe injecting the liquid raw material into the chamber, It is possible to suppress or prevent the clogging of the raw material at the outlet of the raw material supply pipe.

또한, 본 발명의 실시 형태에 따르면 액상 원료가 기화되는 상기의 챔버 내로 액상 원료가 공급되는 동안 공급되는 액상 원료의 유량 제어 및 공급 차단을 각각 독립적으로 제어 가능하도록 액상 원료의 공급을 차단하는 차단밸브를 별도로 더 구비하는 방식으로 그 구조가 개선되어, 액상 원료의 유량을 제어하는 제어밸브의 손상을 억제 또는 방지할 수 있다. 이때, 액상 원료의 공급을 차단하는 밸브를 상시 닫힘 방식의 공압 밸브 구조로 구비할 수 있고, 이에 전체 설비 전원의 비상 차단 시에 별도의 밸브 제어 없이 액상 원료의 공급을 신속하게 차단할 수 있다.According to the embodiment of the present invention, the flow rate control and supply interruption of the liquid raw material supplied while the liquid raw material is supplied into the chamber in which the liquid raw material is vaporized can be independently controlled, So that the damage of the control valve for controlling the flow rate of the liquid raw material can be suppressed or prevented. At this time, the valve for shutting off the supply of the liquid raw material can be provided as the normally closed type pneumatic valve structure, so that the supply of the liquid raw material can be quickly blocked without any additional valve control when the entire facility power is cut off.

예컨대 액상 원료를 기화시켜 기판 상에 박막을 증착하는 기판 처리 장치에 적용되는 경우, 상기한 바와 같이 액상 원료를 안정적으로 기화시킬 수 있음에 따라, 기판 처리 장치의 챔버 내부로 기화된 원료를 안정적으로 공급 및 분사 가능하여 기판 처리 공정의 생산성을 향상시킬 수 있다.For example, when the present invention is applied to a substrate processing apparatus for vaporizing a liquid raw material and depositing a thin film on a substrate, since the liquid raw material can be stably vaporized as described above, the vaporized raw material can be stably And the productivity of the substrate processing process can be improved.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면.
도 2 및 도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기를 설명하기 위한 도면.1 is a view for explaining a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention;
2 and 3 are views for explaining a raw material feeder according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 실시 예를 더욱 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니며, 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이다. 단지 본 발명의 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위하여 제공되는 것이다. 본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여, 도면은 과장되거나 확대될 수 있으며, 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be embodied in various forms. It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description of the present invention are exemplary and explanatory and are intended to provide further explanation of the invention as claimed. For the purpose of illustrating embodiments of the present invention, the drawings may be exaggerated or enlarged, and the same reference numbers refer to the same elements throughout the drawings.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 도시한 개략도이고, 도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 기화기를 도시한 개략도이다.FIG. 1 is a schematic view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic view showing a vaporizer according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 내부에 원료가 담기는 원료 저장부(10), 원료 저장부(10)에 연결되는 유량 조절부(20), 유량 조절부(20)에 연결되는 원료 공급기(300), 내부에 기판을 처리 가능한 공간이 형성되는 기판 처리 챔버(40), 기판(S)을 지지 가능하도록 기판 처리 챔버(40)의 내부에 배치되는 기판 지지대(60), 기판 처리 챔버(40)의 내부에서 기판 지지대(60)와 대향 배치되며, 원료 공급기(300)로부터 유체를 공급받아 기판 지지대(60)를 향하여 이를 분사 가능하도록 형성되는 유체 분사기(50), 기판 처리 챔버(40)의 외측에서 유체 분사기(50)에 연결되는 반응가스 공급부, 기판 처리 챔버(40)의 외측에서 유체 분사기(50)에 연결되는 퍼지가스 공급부를 포함한다.Referring to FIG. 1, a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a raw material storage unit 10 in which a raw material is contained, a flow control unit 20 connected to the raw material storage unit 10, a flow control unit A substrate processing chamber 40 in which a space capable of processing a substrate is formed, a substrate support 40 disposed in the interior of the substrate processing chamber 40 to support the substrate S A fluid injector 50 disposed to face the substrate support 60 in the interior of the substrate processing chamber 40 and adapted to receive fluid from the feeder 300 and to inject the fluid from the feeder 300 toward the substrate support 60, A reactive gas supply connected to the fluid injector 50 outside the substrate processing chamber 40 and a purge gas supply connected to the fluid injector 50 outside the substrate processing chamber 40.

원료(1)는 액상 원료 예컨대 액상의 TEMAZr Source 및 TEOS 등을 포함할 수 있으며, 이 외에도 기판 상에 형성하고자 하는 다양한 박막에 대응하는 각종 원료를 더 포함할 수 있다. 한편, 원료는 유량 조절부(20) 및 원료 공급기(300) 등과 원료 저장부(10)의 사이를 연결하는 공급라인들의 내부 세정이 가능한 세정 원료를 더 포함할 수 있으며, 이때, 세정 원료는 핵산 및 에탄올 등을 포함할 수 있다.The raw material 1 may include a liquid raw material such as a TEMAZr source in liquid form and TEOS, and may further include various raw materials corresponding to various thin films to be formed on the substrate. The raw material may further include a cleaning raw material capable of internal cleaning of the supply lines connecting the flow control unit 20 and the raw material supply unit 300 and the raw material storage unit 10. In this case, And ethanol.

원료 저장부(10) 예컨대 캐니스터(Canister)는 내부에 공간을 가지는 용기의 형상으로 형성된다. 원료 저장부(10)의 하부에는 제1 공급라인(11) 및 제2 공급라인(13)이 각각 연결될 수 있고, 도면으로 도시하지는 않았으나, 원료 저장부(10)의 상부에는 푸시가스 공급라인(미도시)이 연결될 수 있다. 이때, 제1 공급라인(11) 및 제2 공급라인(13)에는 각각 제1밸브(12) 및 제2밸브(14)가 구비되고, 이에 각각의 공급라인은 그 내부 개도가 조절될 수 있다.The raw material storage portion 10, such as a canister, is formed in the shape of a container having a space therein. The first supply line 11 and the second supply line 13 can be connected to the lower part of the raw material storage part 10 and the push gas supply line Not shown) can be connected. At this time, the first supply line 11 and the second supply line 13 are provided with the first valve 12 and the second valve 14, respectively, so that the inner opening of each supply line can be adjusted .

원료 저장부(10)는 적어도 하나 이상 구비될 수 있으며, 제1 공급라인(11)에서 원료 등을 공급받아 이를 내부에 임시 저장하였다가, 기판을 처리하는 공정이 진행되는 동안 내부에 저장된 원료를 원료 공급기(300)로 일정하게 공급하는 버퍼의 역할을 할 수 있다. 이를 위하여, 원료 저장부(10)의 내부에는 푸시가스가 주입되며, 주입되는 푸시가스에 의하여 원료 저장부(10) 내부의 원료를 밀어내는 방식으로 원료 공급기(300)에 원료를 일정하게 공급 가능하다. 이때, 상기의 푸시가스는 불활성 가스 예컨대 네온 가스, 아르곤 가스 및 헬륨 가스일 수 있다.The raw material storage unit 10 may be provided with at least one or more raw materials, and the raw materials may be temporarily stored in the first supply line 11, and the raw materials stored therein may be stored And serves as a buffer for uniformly feeding the raw material to the raw material feeder 300. For this, a push gas is injected into the raw material storage part 10 and the raw material is uniformly supplied to the raw material supply device 300 by pushing the raw material inside the raw material storage part 10 by the injected push gas Do. At this time, the push gas may be inert gas such as neon gas, argon gas and helium gas.

원료 저장부(10) 내부의 원료는 푸시가스의 주입에 의하여 제2 공급라인(13)의 내부로 유입되고, 제2 공급라인(13)에 연결되는 유량 조절부(LMFC)를 통과하며 목적하는 유량 및 압력으로 제어되어 원료 공급기(300)로 공급된다.The raw material in the raw material storage part 10 flows into the second supply line 13 by the injection of the push gas and passes through the LMFC connected to the second supply line 13, And is supplied to the raw material feeder 300 under the control of the flow rate and the pressure.

유량 조절부(20)는 원료 공급기(300)와 원료 저장부(10)의 사이를 연결하여 장착되고, 원료 공급기(300)로 공급되는 원료의 유량을 정밀하게 측정 및 제어하는 역할을 한다. 유량 조절부(20)와 원료 공급기(300)의 사이에는 제3 공급라인(21)이 연결되며, 제3 공급라인(21)에는 제3밸브(22)가 장착되고, 이에 공급라인은 그 내부 개도가 조절될 수 있다. 제3 공급라인(21)의 단부에는 원료 공급기(300)의 후술하는 원료 공급관(340)이 연결된다.
The flow rate regulator 20 is mounted between the feeder 300 and the feedstock storage 10 to precisely measure and control the flow rate of the feedstock fed to the feedstock feeder 300. A third supply line 21 is connected between the flow rate regulator 20 and the feeder 300 and a third valve 22 is connected to the third supply line 21, The opening degree can be adjusted. A raw material supply pipe 340, which will be described later, of the raw material supply device 300 is connected to an end of the third supply line 21.

본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기(300)는 후술하는 기판 처리 챔버(40)의 외측에서 유량 조절기(20)와 후술하는 유체 분사기(50)의 사이를 연결하여 장착되며, 유량 조절기(20)로부터 액상 원료를 공급받아 이를 내부에서 기화시키고, 이어 유체 분사기(50)의 내부로 공급하는 역할을 한다.The raw material feeder 300 according to the embodiment of the present invention is installed by connecting the flow controller 20 and the fluid injector 50 described later from outside the substrate processing chamber 40 to be described later, And supplies the liquid raw material to the inside of the fluid injector 50.

이를 위하여, 원료 공급기(300)는 내부에 원료가 기화되는 공간이 형성되는 기화부 및 상기의 기화부로부터 이격되는 위치에서 기화부의 내부에 원료를 분사 가능하도록 상기의 기화부에 연결되는 분사부를 포함하고, 또한, 기화부 및 분사부의 사이에서 기화부 및 분사부 각각의 서로 마주보는 면을 감싸도록 배치되는 단열부재(350)를 더 포함할 수 있다.To this end, the raw material feeder 300 includes a vaporizing portion in which a space for vaporizing the raw material is formed, and a jetting portion connected to the vaporizing portion so as to inject the raw material into the vaporizing portion at a position spaced apart from the vaporizing portion And a heat insulating member 350 disposed between the vaporizing part and the jetting part so as to surround the facing surfaces of the vaporizing part and the jetting part, respectively.

여기서, 상기의 기화부는 내부에 원료가 기화되는 공간을 가지는 챔버(310), 챔버(310)의 내부로 소정의 열을 공급 가능하도록 챔버(310)의 적어도 일부를 감싸 형성되되 단열부재(350)와 접촉하는 챔버(310)의 일측을 제외한 나머지의 적어도 일부를 감싸 형성되는 히팅블록(370)을 포함할 수 있다.The vaporizing unit includes a chamber 310 having a space for vaporizing the raw material therein, at least a portion of the chamber 310 so as to supply a predetermined heat to the inside of the chamber 310, And a heating block 370 surrounding at least a portion of the chamber 310 except for one side of the chamber 310.

또한, 상기의 분사부는 챔버(310)의 외측에서 챔버(310)를 향하는 방향으로 연장되고 출구부(322)가 챔버(310)와 연통하는 원료 분사관(320), 챔버(310)의 외측으로 이격되어 원료 분사관(320)의 입구부(321)를 감싸도록 형성되며 원료 분사관(320)의 외주면과 연결되는 일측 외부면이 단열부재(350)와 접촉하는 블록(330), 내부에 원료가 통과되는 공간을 가지며 적어도 일부가 블록(330)의 내부를 관통하여 블록(330)의 내부에서 원료 분사관(320)의 일측에 연결되는 원료 공급관(340), 원료의 유량 조절과 원료의 공급 차단을 독립적으로 제어 가능하도록 블록(330)의 외측에서 원료 공급관(340)의 복수의 위치에 각각 장착되는 복수개의 밸브(360a, 360b), 내부에 가스가 통과되는 공간을 가지며 블록(330)의 내부를 관통하여 원료 분사관(320)의 입구부에 연결되는 가스 유입관(380), 가스 유입관(380)의 내부 압력을 측정 가능하도록 블록(330)에 장착되는 센서(390), 블록(330)의 외측에서 가스 유입관(380)에 연결되며 센서(390)에서 측정되는 가스 유입관(380)의 내부 압력을 이용하여 가스의 공급을 제어하는 가스 공급원(380a)을 포함할 수 있다.The jetting portion includes a raw material spraying pipe 320 extending from the outside of the chamber 310 toward the chamber 310 and having an outlet portion 322 communicating with the chamber 310, A block 330 that is formed to surround the inlet portion 321 of the raw material spray pipe 320 and is spaced apart and has one outer surface connected to the outer circumferential surface of the raw material spray pipe 320 to contact with the heat insulating member 350, A raw material supply pipe 340 having a space through which the raw material spray pipe 320 passes, at least a part of which passes through the inside of the block 330 and is connected to one side of the raw material spray pipe 320 inside the block 330, A plurality of valves 360a and 360b mounted at a plurality of positions of the raw material supply pipe 340 outside the block 330 so as to independently control the cutoff of the block 330, A gas inlet pipe 380 connected to the inlet of the raw material spray pipe 320 through the inside thereof, A sensor 390 mounted on the block 330 so as to measure the internal pressure of the gas inlet pipe 380, a gas inlet 380 connected to the gas inlet pipe 380 outside the block 330, And a gas source 380a that controls the supply of the gas using the internal pressure of the pipe 380. [

한편, 액상의 원료를 기화가 용이한 출구 압력, 밀도 및 액적의 크기로 제어하며 기화부에 공급하도록, 원료 공급관(340)의 출구부는 내부의 너비 예컨대 내경이 상대적으로 좁게 형성되어야 한다. 이에, 원료 공급관(340)의 출구부가 소정의 온도 이상으로 과열되는 경우, 원료 공급관(340)을 통과하는 원료가 열분해 또는 변질되며 원료 공급관(340)의 출구부에 고착되어 그 내부를 쉽게 막을 수 있다. 이를 방지하도록, 원료 공급관(340)의 출구부 온도는 원료의 열분해 및 변질이 억제 또는 방지되는 소정의 온도 범위 내에서 항시 제어되어야 한다. 이에, 본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기(300)는 하기와 같은 기술적인 특징을 가짐으로써, 원료 공급관(340)의 출구부 과열을 억제 또는 방지 가능하다. 원료 공급관(340)의 출구부 과열을 억제 또는 방지 가능한 원료 공급기(300)의 기술적인 특징은 다음과 같다.On the other hand, the outlet of the raw material supply pipe 340 should be formed so that the inside width, for example, the inside diameter is relatively narrow, so that the liquid raw material is controlled to the outlet pressure, the density and the liquid droplet size, When the outlet of the raw material supply pipe 340 is overheated, the raw material passing through the raw material supply pipe 340 is thermally decomposed or deteriorated and is fixed to the outlet of the raw material supply pipe 340, have. In order to prevent this, the outlet temperature of the raw material supply pipe 340 must be always controlled within a predetermined temperature range in which pyrolysis and deterioration of the raw material are suppressed or prevented. Accordingly, the material supply device 300 according to the embodiment of the present invention has the following technical features, so that it is possible to suppress or prevent the overheating of the outlet portion of the material supply pipe 340. Technical characteristics of the raw material feeder 300 capable of suppressing or preventing the overheating of the outlet of the raw material supply pipe 340 are as follows.

상기한 바와 같이 원료 공급기(300)는 기화부가 분사부로부터 이격되어 연결됨에 따라 기화부로 공급되는 열이 분사부로 전달 예컨대 전도되는 것이 억제 또는 방지될 수 있다. 또한, 기화부와 분사부의 사이에 단열부재(350)가 배치됨에 따라, 기화부로 공급되는 열이 분사부로 직접 복사되거나 기화부와 분사부의 사이의 대류에 의해 간접 전달되는 것을 억제 또는 방지 가능하다. 또한, 분사부의 구조가 원료 공급관(340)에 대하여 상대적으로 열용량 및 체적이 큰 블록(330)으로 원료 공급관(340)의 출구부를 감싸는 구조임에 따라 기화부의 열이 원료 공급관(340)으로 전달되더라도 이를 블록(300)을 이용하여 외부로 발산 함으로써 원료 공급관(340)의 온도 상승을 억제 또는 방지 가능하다.As described above, the raw material feeder 300 can suppress or prevent the heat supplied to the vaporizing portion from being transmitted to the spraying portion, for example, conducted, as the vaporizing portion is spaced apart from the spraying portion. Further, since the heat insulating member 350 is disposed between the vaporizing portion and the jetting portion, it is possible to suppress or prevent the heat supplied to the vaporizing portion from being directly copied to the jetting portion or indirectly transferred by the convection between the vaporizing portion and the jetting portion. In addition, even if the heat of the vaporization portion is transferred to the raw material supply pipe 340 due to the structure of the injection portion that surrounds the outlet portion of the raw material supply pipe 340 with the block 330 having a relatively large heat capacity and volume relative to the raw material supply pipe 340 The temperature of the raw material supply pipe 340 can be suppressed or prevented by diverging it to the outside by using the block 300. [

이로부터 원료 공급기(300)는 원료 공급관(340)의 출구부 막힘을 억제 또는 방지할 수 있다. 즉, 원료 공급관(340) 및 원료 분사관(320)이 과열되는 것을 억제 또는 방지하여 원료 공급관(340)의 출구부 온도를 목적하는 온도 범위로 제어할 수 있고, 이에, 원료가 원료 공급관(340)의 부근에서 열분해되거나 변질되며 원료 공급관(340)의 출구부에 고착되는 것을 억제 또는 방지할 수 있다.
From this, the raw material feeder 300 can suppress or prevent the clogging of the outlet of the raw material supply pipe 340. That is, the temperature of the outlet of the raw material supply pipe 340 can be controlled to a desired temperature range by suppressing or preventing the overheat of the raw material supply pipe 340 and the raw material discharge pipe 320, ) And adhered to the outlet of the raw material supply pipe 340 can be suppressed or prevented.

하기에서는 도 1에 도시되고 있는 기판 처리 장치의 나머지 구성부들을 먼저 설명한 후에, 본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기(300)의 세부 구성부들을 더욱 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the remaining components of the substrate processing apparatus shown in FIG. 1 will be described first, and then the detailed components of the raw material feeder 300 according to the embodiment of the present invention will be described more specifically.

기판 처리 챔버(40)는 내부에 기판을 처리하는 공간을 가지는 다양한 형상의 용기일 수 있다. 또한, 도면으로 도시하지는 않았으나, 기판 처리 장치(40)에는 기판(S)이 출입하는 출입구, 기판 처리 챔버 내부의 압력을 조절하는 압력 조절수단 및 기판 처리 챔버의 내부를 배기시키는 배기수단 등이 형성될 수 있다. 물론, 기판 처리 챔버(40)의 구성 및 방식은 다양하게 변경될 수 있다.The substrate processing chamber 40 may be a container of various shapes having a space for processing the substrate therein. Although not shown in the drawing, the substrate processing apparatus 40 is provided with an inlet / outlet for the substrate S, a pressure regulating means for regulating the pressure inside the substrate processing chamber, and an exhausting means for exhausting the inside of the substrate processing chamber . Of course, the configuration and manner of the substrate processing chamber 40 can be variously changed.

유체 분사기(50)는 예컨대 기판 처리 챔버(40)의 내부 상측에 배치될 수 있고, 기판 처리 챔버(40)의 내부 하측을 바라보는 일면에는 샤워 헤드가 구비될 수 있다. 유체 분사기(50)의 상측 단부는 기판 처리 챔버(40)의 외측으로 돌출되며, 돌출된 유체 분사기(50)의 상측 단부에는 원료 공급기(300) 및 후술하는 반응가스 공급부 및 퍼지가스 공급부가 각각 연결될 수 있다.The fluid injector 50 may be disposed, for example, inside the substrate processing chamber 40, and a showerhead may be provided on one side of the substrate processing chamber 40 facing the inner lower side thereof. The upper end of the fluid injector 50 protrudes to the outside of the substrate processing chamber 40 and the upper end of the protruding fluid injector 50 is connected to the raw material feeder 300 and a reactive gas supply unit and a purge gas supply unit .

기판 지지대(60)는 예컨대 기판 처리 챔버(40)의 내부 하측에 배치되되, 유체 분사기(50)와 대향되도록 배치될 수 있다. 기판 처리 챔버(40)의 내부 상측을 바라보는 기판 지지대(60)의 상부면에는 기판이 안착 가능한 소정의 지지면이 형성될 수 있고, 상기의 지지면에는 진공척 또는 정전척 등이 구비될 수 있다. 또한, 기판 지지대(60)의 지지면에는 가열수단(미도시)이 구비될 수 있으며, 가열수단을 이용하여 기판(S)을 목적하는 온도로 제어 가능하다.The substrate support 60 may be disposed, for example, below the interior of the substrate processing chamber 40, but opposite the fluid ejector 50. A predetermined supporting surface on which the substrate can be mounted may be formed on the upper surface of the substrate support 60 facing the upper side of the substrate processing chamber 40 and a vacuum chuck or an electrostatic chuck may be provided on the supporting surface have. Further, a heating means (not shown) may be provided on the support surface of the substrate support 60, and the substrate S can be controlled to a desired temperature using a heating means.

반응가스 공급부는 내부에 반응가스가 저장되는 소정 공간이 형성되는 반응가스 저장부(71), 반응가스 저장부(71)와 유체 분사기(50)의 상측 단부 사이를 연결하도록 장착되는 반응가스 공급라인(72) 및 반응가스 공급라인(72)에 장착되어 이의 내부 개도를 조절하는 반응가스 공급조절밸브(73)를 구비한다. 이때, 반응가스는 기판 처리 공정에 대응하여 다양하게 선택되며, 예컨대 기판 상에 ZrO2 박막을 형성하는 경우, 반응가스로 오존(O3) 등이 선택될 수 있다. 퍼지가스 공급부는 내부에 퍼지가스가 저장되는 소정 공간이 형성되는 퍼지가스 저장부(81), 퍼지가스 저장부(81)와 유체 분사기(50)의 상측 단부 사이를 연결하도록 장착되는 퍼지가스 공급라인(82) 및 퍼지가스 공급라인(82)에 장착되어 내부 개도를 제어하는 퍼지가스 공급조절밸브(83) 등을 구비한다. 이때, 퍼지가스는 예컨대 아르곤 가스 등을 포함할 수 있다.
The reaction gas supply part includes a reaction gas storage part 71 in which a predetermined space for storing a reaction gas is formed, a reaction gas supply part 71 connected to a reaction gas storage part 71 and a top end of the fluid injector 50, And a reaction gas supply control valve 73 mounted on the reaction gas supply line 72 and regulating the inner opening of the reaction gas supply line 72. At this time, the reaction gas is variously selected in accordance with the substrate processing process. For example, when a ZrO 2 thin film is formed on a substrate, ozone (O 3 ) or the like may be selected as a reaction gas. The purge gas supply part includes a purge gas storage part 81 in which a predetermined space for storing the purge gas is formed, a purge gas supply part 81 connected to connect the purge gas storage part 81 and the upper end of the fluid injector 50, A purge gas supply control valve 83 mounted on the purge gas supply line 82 and controlling the opening of the purge gas supply line 82, and the like. At this time, the purge gas may include, for example, argon gas or the like.

이하에서는 도 1 내지 도 3을 참조하여, 원료 공급기(300)의 세부 구성부들을 상세하게 설명하며, 이때, 이의 실시 예로서 원료 공급기(300)가 기판 상에 소정의 박막을 화학 증착하는 기판 처리 장치에 적용되는 경우를 기준으로 하여 설명한다. 물론, 본 발명의 실시 예에서는 원료 공급기(300)가 적용되는 장치로서 상기한 바와 같이 기판 상에 박막을 형성하는 기판 처리 장치를 예시하나, 원료 공급기(300)는 이 외에도 기화된 각종 원료를 공급받는 다양한 장치들에도 적용될 수 있다.Hereinafter, the detailed constituent parts of the raw material feeder 300 will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 3. At this time, in this embodiment, the raw material feeder 300 processes the substrate processed by chemical vapor deposition The present invention will be described on the basis of a case where the present invention is applied to an apparatus. Of course, in the embodiment of the present invention, a substrate processing apparatus for forming a thin film on a substrate as described above is illustrated as an apparatus to which the source feeder 300 is applied, but the source feeder 300 may also supply various vaporized materials But can also be applied to a variety of receiving devices.

챔버(310)는 내부에 원료가 기화되는 소정 크기의 공간을 가지는 예컨대 원통 형상으로 형성될 수 있으며, 그 내부면에는 원료와의 접촉에 의한 부식 또는 마찰을 방지 가능하도록 소정의 금속 라이너(미도시)가 구비될 수 있다. 챔버(310)는 블록(330)의 외측으로 이격된 위치에서 원료 분사관(320)의 출구부(322)에 연결될 수 있다. 챔버(310)의 외측 하부에서 챔버(310)를 관통하여 제4 공급라인(312)이 연결될 수 있으며, 제4 공급라인(312)의 일측에는 제4밸브(313)가 구비되고, 제4 공급라인(312)의 단부는 유체 분사기(50)에 연결될 수 있다.The chamber 310 may be formed, for example, in the shape of a cylinder having a predetermined size of space in which the raw material is vaporized. A predetermined metal liner (not shown) may be provided on the inner surface of the chamber 310 to prevent corrosion or friction due to contact with the raw material. May be provided. The chamber 310 may be connected to the outlet 322 of the raw material spray pipe 320 at a position spaced outside the block 330. A fourth supply line 312 may be connected through the chamber 310 at a lower outer side of the chamber 310 and a fourth valve 313 may be provided at one side of the fourth supply line 312, The end of the line 312 may be connected to the fluid injector 50.

챔버(310)의 외주면에는 히팅블록(370)이 구비될 수 있으며, 히팅블록(370)은 챔버(310)의 내부로 열을 공급 가능한 다양한 구성 및 방식일 수 있다. 예컨대 히팅블록(370)은 인가되는 전원에 의하여 열을 발생시키는 전열선이 내부에 구비되는 중공형의 블록일 수 있다.A heating block 370 may be provided on the outer circumferential surface of the chamber 310 and a heating block 370 may be configured and arranged to supply heat to the inside of the chamber 310. For example, the heating block 370 may be a hollow block having a heating wire for generating heat by an applied power source.

원료 분사관(320)은 내부에 공간이 형성되며, 적어도 일 방향으로 개방되는 중공형의 원통체 형상으로 제작될 수 있다. 원료 분사관(320)은 챔버(310)의 외측에서 챔버(310)를 향하여 예컨대 일 방향으로 소정 길이 연장되며, 원료 분사관의 출구부(322)는 챔버(310)를 관통하여 장착되고, 원료 분사관의 입구부(321)는 가스 유입관(380)을 관통하여 장착될 수 있다. 이때, 원료 분사관(320)의 입구부 부근의 일측에는 원료 공급관(340)이 연결될 수 있다.The raw material spray pipe 320 may be formed in a hollow cylindrical shape having a space formed therein and opened in at least one direction. The raw material dispensing tube 320 is extended from the outside of the chamber 310 toward the chamber 310 by a predetermined length in one direction and the outlet 322 of the raw material dispensing tube is mounted through the chamber 310, The inlet portion 321 of the injection pipe can be mounted through the gas inlet pipe 380. At this time, a raw material supply pipe 340 may be connected to one side near the inlet of the raw material discharge pipe 320.

원료 분사관(320)은 원료를 챔버(310)보다 미리 공급받아 원료의 액적을 목적하는 입도로 제어함과 함께 원료(1)를 가스(2) 예컨대 캐리어 가스와 고르게 혼합하여, 원료와 가스의 혼합 유체(3)를 소정의 유속 및 유량으로 챔버(310)의 내부로 공급하는 역할을 한다. The raw material spraying pipe 320 is supplied with the raw material in advance from the chamber 310 to control the droplet of the raw material to a desired particle size and to mix the raw material 1 with the gas 2 such as carrier gas, And serves to supply the mixed fluid (3) to the inside of the chamber (310) at a predetermined flow rate and flow rate.

이를 위하여, 원료 분사관(320)의 내부 너비 예컨대 내경은 원료 분사관의 입구부(321) 너비 및 원료 공급관(340)의 내부 너비보다 크게 형성될 수 있다. 이에 원료 분사관의 입구부(321) 및 원료 공급관(340)을 각각 통과하여 원료 분사관(320)의 내부로 분사되는 가스(2) 및 원료(1)가 원료 분사관(320)의 내부에서 확산되며 원활하게 혼합되어 챔버(310)의 내부로 공급될 수 있다.For this, the inner width, for example, the inner diameter of the material spray tube 320 may be formed to be larger than the width of the inlet portion 321 of the material spray tube and the inner width of the material supply tube 340. The gas 2 and the raw material 1 injected into the raw material spray pipe 320 through the inlet part 321 and the raw material supply pipe 340 of the raw material spray pipe respectively pass through the inside of the raw material spray pipe 320 And may be smoothly mixed and supplied to the inside of the chamber 310.

이처럼 본 발명의 실시 예에서는 원료와 가스가 챔버(310)로 공급되기 직전에 원료 분사관(320)의 내부에서 혼합되며, 이에 원료의 액적을 목적하는 입도로 조절하기 용이하게 조절 가능하다. 이로부터 원료는 챔버(310)의 내부에서 원활하게 기화될 수 있다.As described above, in the embodiment of the present invention, the raw material and the gas are mixed in the raw material spray pipe 320 just before being supplied to the chamber 310, and the droplet of the raw material can be easily adjusted to the desired particle size. From this, the raw material can be vaporized smoothly inside the chamber 310.

또한, 상술한 구조 즉, 원료 분사관(320)의 입구부 부근에 원료 공급관(340)이 연결되는 구조에서 나타나는 바와 같이 원료 분사관(320)은 원료 공급관(340)이 챔버(310)의 내부에 직접 노출되는 것을 방지하는 역할을 한다. 따라서, 챔버(310) 내부의 열이 원료 공급관(340)까지 전달되는 동안 원료 분사관(320)을 거치며 원료 분사관(320)을 감싸는 블록(330)으로 전달되어 소산되고, 이에 원료 공급관(340)의 출구부 온도가 종래보다 낮아질 수 있으며, 특히, 원료가 열분해 또는 변질되는 온도 미만의 온도 범위까지 낮아질 수 있다.As shown in the structure in which the raw material supply pipe 340 is connected to the vicinity of the inlet of the raw material supply pipe 320, the raw material supply pipe 340 is connected to the inside of the chamber 310 As shown in FIG. Accordingly, while the heat inside the chamber 310 is transferred to the raw material supply pipe 340, the raw material is delivered to the block 330 surrounding the raw material discharge pipe 320 through the raw material discharge pipe 320 and dissipated, ) May be lower than the conventional one, and in particular, the temperature may be lowered to a temperature range below the temperature at which the raw material is pyrolyzed or deteriorated.

한편, 챔버(310)의 내부에서 원료 분사관(320)으로의 열 전달을 억제하도록, 원료 분사관의 출구부(322)는 원료 분사관의 출구부(322)가 관통 연결되는 챔버의 일측 내부면(311)과 동일면 상에 개방되는 구조로 형성될 수 있다. 즉, 엄밀하게는 원료 분사관의 출구부(322)는 챔버(310)의 내부와 연결되되, 챔버(310)를 관통하여 그 내부로 돌출되거나 연장되지 않는다.The outlet 322 of the raw material spray pipe is connected to the inside of the chamber through which the outlet 322 of the raw material spray pipe is connected so as to suppress the heat transfer from the inside of the chamber 310 to the raw material spray pipe 320 And may be formed on the same surface as the surface 311. That is, strictly speaking, the outlet 322 of the raw material dispensing tube is connected to the inside of the chamber 310 but does not protrude or extend into the chamber 310 through the chamber 310.

이처럼 원료 분사관의 출구부(322)가 챔버(310)의 상술한 일측 내부면(311)과 동일면 상에 개방됨에 따라, 챔버(310)의 내부면에 대한 원료 분사관(320)의 노출 면적을 최소화 할 수 있고, 이에 원료 분사관(320)으로의 열전달이 더욱 감소될 수 있다.The outlet portion 322 of the raw material spray tube is opened on the same surface as the one side internal surface 311 of the chamber 310 so that the exposed area of the raw material spray tube 320 with respect to the inner surface of the chamber 310 So that the heat transfer to the raw material spray pipe 320 can be further reduced.

블록(330)은 소정의 체적 및 표면적을 가지는 다양한 형상의 다면체 블록일 수 있으며, 예컨대 수직 방향으로의 단면 형상이 육각형이고, 수평 방향으로의 단면 형상이 사각형인 다면체 블록일 수 있다. 블록(330)은 챔버(310)의 외측에서 원료 분사관의 출구부(322)로부터 이격되어 원료 분사관의 입구부(321)를 감싸도록 형성될 수 있다. 블록(330)은 원료 분사관(320) 및 원료 공급관(340) 등을 안정적으로 지지함과 함께 원료 분사관(320) 및 이에 연결된 원료 공급관(340)으로부터 열을 전달받아 외부로 원활하게 발산시키는 역할을 한다. 이를 위하여 블록(330)은 원료의 기화 온도 범위에서 그 형상 및 물성을 유지 가능하며, 원료 공급관(340)의 온도 증가를 억제 또는 방지 가능한 소정의 열용량을 가지는 다양한 금속(metal) 재질로 제작될 수 있다.The block 330 may be a polyhedron block of various shapes having a predetermined volume and surface area, and may be, for example, a polyhedron block having a hexagon shape in the vertical direction and a rectangular shape in the horizontal direction. The block 330 may be formed so as to surround the inlet portion 321 of the raw material spray pipe from the outlet portion 322 of the raw material discharge pipe outside the chamber 310. The block 330 stably supports the raw material discharge pipe 320 and the raw material supply pipe 340 and receives heat from the raw material discharge pipe 320 and the raw material supply pipe 340 connected thereto to smoothly radiate heat to the outside It plays a role. For this purpose, the block 330 can be made of various metal materials having a predetermined heat capacity that can maintain its shape and physical properties within the vaporization temperature range of the raw material and can suppress or prevent the temperature increase of the raw material supply pipe 340 have.

또한, 블록(330)은 상기의 역할들을 수행 가능한 체적 및 표면적을 가지는 것을 만족하는 다양한 형상의 다면체 블록으로 형성되되, 열을 외부로 발산하기 용이하도록 그 내부에 공간을 가지는 외피형 구조의 블록 및 내부가 채워지는 일체형 구조의 블록 중 어느 하나를 포함할 수 있다.In addition, the block 330 may be formed of a polyhedron block having various shapes satisfying the volume and surface area capable of performing the above-mentioned functions, a block of an envelope structure having a space therein to facilitate dissipation of heat to the outside, And may include any one of the blocks of the integral structure filled in the inside.

본 발명의 실시 예에서는 내부가 소정의 금속으로 가득 채워지며, 금속 재질의 내부를 관통하여 원료 분사관(320), 원료 공급관(340) 및 가스 유입관(380)이 형성되는 블록(330)을 예시한다. 이에, 원료 분사관(320), 원료 공급관(340) 및 가스 유입관(380)의 열이 블록(330)의 내부로 원활하게 전달되어 블록(330)의 외측면을 통하여 외부로 신속하게 발산될 수 있다.In the embodiment of the present invention, the block 330 is filled with a predetermined metal and penetrates the inside of the metal material to form the raw material spray pipe 320, the raw material supply pipe 340 and the gas inflow pipe 380 For example. The heat of the raw material spray pipe 320, the raw material supply pipe 340 and the gas inflow pipe 380 is smoothly transferred to the inside of the block 330 and is quickly diverted to the outside through the outer surface of the block 330 .

물론, 블록(330)은 외피형 구조의 블록일 수 있으며, 이때, 블록의 내부는 가스 유입관(380)으로부터 캐리어 가스를 공급받거나, 혹은 별도의 냉각용 가스를 공급받아 내부의 원료 분사관(320), 원료 공급관(340) 및 가스 유입관(380)을 냉각시킬 수 있다.Of course, the block 330 may be an envelope-type block. In this case, the inside of the block may be supplied with a carrier gas from the gas inlet pipe 380, or may be supplied with a separate cooling gas, 320, the raw material supply pipe 340, and the gas inlet pipe 380.

원료 공급관(340)은 내부에 원료(1)가 통과되는 공간을 가지며, 적어도 일부가 블록(330)의 내부를 관통하여 장착되고, 블록(330)의 내부에서 원료 분사관(320)의 일측에 연결될 수 있다. 원료 공급관(340)의 입구부는 블록(330)의 외측에서 제3 공급라인(21)에 연결될 수 있고, 원료 공급관(340)의 출구부는 블록(330)의 내부에서 원료 분사관(320)에 연결될 수 있다.The raw material supply pipe 340 has a space through which the raw material 1 passes and at least a part of the raw material supply pipe 340 is inserted through the inside of the block 330 and is inserted into one side of the raw material injection pipe 320 inside the block 330 Can be connected. The inlet of the raw material supply pipe 340 may be connected to the third supply line 21 outside the block 330 and the outlet of the raw material supply pipe 340 may be connected to the raw material discharge pipe 320 inside the block 330 .

한편, 원료 공급관(340)은 원료 분사관(320)의 입구부 부근에서 원료 분사관(320)의 일측에 연결되되, 원료 분사관의 입구부(321)보다 낮은 위치에서 원료 분사관(320)에 교차하는 방향으로 연결될 수 있다. 이에, 원료 분사관(320)의 내부로 분사되는 원료(1)는 원료 분사관의 입구부(321) 부근에서 원료 분사관의 입구부를 탈출하며 가속되는 높은 운동 상태의 가스(2) 예컨대 캐리어 가스와 서로 교차하는 방향으로 충돌하게 된다. 이로부터 원료(1)의 액적이 목적하는 크기만큼 미세하게 나뉠 수 있고, 미립 상태의 원료(1)를 챔버(310)의 내부로 공급 가능하다.The raw material supply pipe 340 is connected to one side of the raw material discharge pipe 320 near the inlet of the raw material discharge pipe 320 and is connected to the raw material discharge pipe 320 at a position lower than the inlet part 321 of the raw material discharge pipe 320, As shown in FIG. Thus, the raw material 1 injected into the raw material spray pipe 320 escapes from the inlet portion of the raw material spray pipe in the vicinity of the inlet portion 321 of the raw material spray pipe, In the direction intersecting with each other. From this, the droplet of the raw material 1 can be finely divided by a desired size, and the raw material 1 in a fine state can be supplied into the chamber 310.

또한, 원료 공급관(340)은 원료 분사관의 출구부(322)로부터 5㎜ 내지 10㎜ 범위로 이격되도록 원료 분사관(320)의 일측에 연결될 수 있다.The raw material supply pipe 340 may be connected to one side of the raw material discharge pipe 320 so as to be spaced apart from the outlet 322 of the raw material discharge pipe by 5 mm to 10 mm.

상술한 수치의 임계적 의미는 다음과 같다. 예컨대 원료 공급관(340)의 출구부와 원료 분사관의 출구부(322) 사이의 이격 거리(L)가 5㎜ 미만일 경우, 이격으로 인한 단열 효과가 미미하여 원료 공급관(340)의 온도가 목적하는 온도보다 높은 온도로 상승됨에 따라 원료 공급관(340)의 출구부 온도를 목적하는 온도로 제어하기 힘들다. 또한, 원료 공급관(340)의 출구부와 원료 분사관의 출구부(322) 사이의 이격 거리(L)가 10㎜를 초과하는 경우, 이격으로 인한 단열 효과가 증가할 수는 있으나, 원료 공급관의 입구부(321) 하측에서 미립화된 액적의 원료(1)가 챔버(310)의 내부로 공급되기 전에 원료 분사관(320)의 내부를 통과하면서 서로 충돌하며 그 크기의 미립 정도가 변화하게 예컨대 커지게 되어 목적하는 액적의 크기로 제어하기 어렵다. 따라서, 원료의 기화 효율이 떨어질 수 있다.The critical meaning of the above-mentioned numerical values is as follows. For example, when the distance L between the outlet of the raw material supply pipe 340 and the outlet 322 of the raw material discharge pipe is less than 5 mm, the adiabatic effect due to the separation is insignificant, It is difficult to control the outlet temperature of the raw material supply pipe 340 to a desired temperature as it is raised to a higher temperature. If the distance L between the outlet of the raw material supply pipe 340 and the outlet 322 of the raw material discharge pipe exceeds 10 mm, the adiabatic effect due to the separation may increase. However, The raw material 1 of droplets that are atomized at the lower part of the inlet part 321 collides with each other while passing through the inside of the raw material spraying tube 320 before being supplied into the chamber 310, It is difficult to control the size of the desired droplet. Therefore, the vaporization efficiency of the raw material may be lowered.

이처럼, 이격으로 인한 단열 효과를 목적하는 정도로 가질 수 있으면서, 이와 함께 원료 분사관(320) 내에서의 원료의 액적을 원하는 크기로 제어 가능하도록, 원료 공급관(340)은 원료 분사관의 출구부(322)로부터 5㎜ 내지 10㎜ 범위로 이격되도록 원료 분사관(320)의 일측에 연결될 수 있다.The raw material supply pipe 340 is connected to the outlet of the raw material spray pipe 320 so that the droplet of the raw material in the raw material spray pipe 320 can be controlled to a desired size, 322 by a distance of 5 mm to 10 mm.

예컨대 원료 공급관(340)의 출구부와 원료 분사관의 출구부(322) 사이의 이격 거리(L)가 5㎜로 제어되는 경우, 원료 공급관(340)의 출구부 온도는 종래의 80% 수준으로 떨어지게 되며, 이격 거리(L)가 10㎜로 제어되는 경우, 원료 공급관(340)의 출구부 온도는 종래의 50% 수준까지 떨어지게 된다. 이때, 비교 대상이 되는 종래의 경우는, 원료 공급기의 구조를 제외한 원료를 기화시키는 공정의 모든 공정 조건을 동일하게 제어하는 상태에서, 원료 공급관(340)의 출구부가 원료 분사관(320)의 출구부에 바로 연결되는 경우이다.For example, when the distance L between the outlet of the raw material supply pipe 340 and the outlet 322 of the raw material discharge pipe is controlled to 5 mm, the outlet temperature of the raw material supply pipe 340 is 80% When the separation distance L is controlled to be 10 mm, the outlet temperature of the raw material supply pipe 340 drops to 50% of the conventional value. At this time, in the conventional case to be compared, the outlet portion of the raw material supply pipe 340 is connected to the outlet of the raw material discharge pipe 320 in the state of controlling all the process conditions of the step of vaporizing the raw material except for the structure of the raw material supply device, It is the case that it is connected directly to the department.

한편, 원료 공급관(340)의 출구부를 제외한 나머지는 그 위치가 특정되지 않고 블록(330)의 내부에서 자유롭게 연장될 수 있는데, 이때, 적어도 일측 및 타측이 블록(330)의 외측으로 돌출될 수 있으며, 돌출된 일측 및 타측 각각에 제어밸브(360a) 및 차단밸브(360b)가 장착될 수 있다.The remaining portion of the raw material supply pipe 340 except for the outlet portion may be freely extended in the inside of the block 330 without specifying its position. At this time, at least one side and the other side may protrude to the outside of the block 330 A control valve 360a and a shutoff valve 360b may be mounted on the protruding one side and the other side, respectively.

단열부재(350)는 원료 분사관(320)의 외주면과 연결되는 블록(330)의 일측 외부면 및 챔버(310)의 일측 외부면의 적어도 일부에 접촉하여 이를 감싸도록 배치될 수 있다. 본 발명의 실시 예에서는 블록(300)과 챔버(310)의 서로 마주보는 면 각각을 모두 감싸도록 단열부재(350)가 형성되며, 이때, 도면으로 도시하지는 않았으나, 블록(300)과 챔버(310)의 서로 마주보는 면 각각의 모서리 부분까지 전부 감싸도록 단열부재(350)가 형성될 수 있다. 이에 따라 블록(300)과 챔버(310)의 서로 마주보는 면 각각은 외기와의 접촉이 차단될 수 있어, 이들 면 사이에서 외기를 매개로 하는 복사 및 대류에 의한 열전달이 차단될 수 있다. 한편, 단열부재(350)는 실리콘 고무를 재질로서 포함할 수 있으며, 이 외에도 다양한 단열재 예컨대 유리 섬유 등을 재질로서 포함할 수 있다.The heat insulating member 350 may be arranged to contact and enclose at least a part of one outer surface of the block 330 connected to the outer circumferential surface of the raw material spray pipe 320 and one outer surface of the chamber 310. In the embodiment of the present invention, the heat insulating member 350 is formed to enclose each of the opposing surfaces of the block 300 and the chamber 310. At this time, the block 300 and the chamber 310 The heat insulating member 350 may be formed so as to entirely cover the corner portions of the opposing surfaces of the heat dissipating member 300. [ Accordingly, each of the facing surfaces of the block 300 and the chamber 310 can be cut off from the outside air, and heat transfer due to radiation and convection through the outside air can be blocked between these surfaces. On the other hand, the heat insulating member 350 may include silicon rubber as a material, and may include various heat insulating materials such as glass fiber as a material.

제어밸브(360a)는 원료(1)의 유량을 정밀하게 조절 가능하도록 블록(330)의 외측에서 원료 공급관(340)의 일측에 장착될 수 있다. 제어밸브(360a)는 그 구성부로서, 내부에 원료 공급관(340)의 일측과 연통하는 공간을 가지는 제어밸브몸체(361a), 일면이 원료 공급관(340)의 개방된 일측과 서로 마주보도록 제어밸브몸체(361a)의 내부에 장착되는 신축부재(362a) 및 신축부재(362a)의 타면에 접촉되도록 제어밸브몸체(361a)의 내부에 장착되고 전압의 가변 정도에 대응하여 인장되거나 압축되며 신축부재(362a)의 가압 정도를 제어하는 가압부재(363a)를 포함한다. 이때, 신축부재(362a)는 다이어프램일 수 있고, 가압부재(363a)는 압전(piezo)소자일 수 있다.The control valve 360a may be mounted on one side of the raw material supply pipe 340 outside the block 330 so as to precisely control the flow rate of the raw material 1. [ The control valve 360a includes a control valve body 361a having a space communicating with one side of the raw material supply pipe 340 therein and a control valve body 361b having one side opposed to an open side of the raw material supply pipe 340, The elastic member 362a mounted inside the body 361a and the control valve body 361a to be brought into contact with the other surface of the elastic member 362a and being tensioned or compressed corresponding to the variable degree of the voltage, And a pressing member 363a for controlling the pressing degree of the pressing member 362a. At this time, the stretching member 362a may be a diaphragm, and the pressing member 363a may be a piezo element.

제어밸브몸체(361a)는 블록(330)의 외측으로 노출된 원료 공급관(340)의 일측을 감싸도록 블록(330)에 장착되며, 이때, 원료 공급관(340)의 일측은 제어밸브몸체(361a)의 내부를 향하여 개방될 수 있다. 신축부재(362a)는 원료 공급관(340)의 개방된 일측 근방에서 제어밸브몸체(361a)의 둘레를 따라 연장되는 막의 형상으로, 가압부재(363a)의 누름 정도에 따라 원료 공급관(340)의 개방된 일측 내벽에 접촉 및 이격되며 원료 공급관(340)의 일측에서의 원료 이동을 제어 가능하다. 이때, 제어밸브(360a)의 가압부재(363a)는 수 마이크로 미터 정도의 이동 거리 내에서 움직임이 정밀하게 제어되는데, 따라서, 제어밸브(360a)로 원료 공급관(340)을 차단하게 될 경우, 가압부재(363a) 및 신축부재(362a)가 손상될 수 있으며, 이에 제어밸브(360a)가 동작함에 있어 그 민감도가 저하될 수 있다. 따라서, 원료의 공급을 차단하는 밸브로서 차단밸브(360b)가 원료 공급관(340)의 타측에 구비될 수 있다.The control valve body 361a is mounted on the block 330 so as to surround one side of the raw material supply pipe 340 exposed to the outside of the block 330. One side of the raw material supply pipe 340 is connected to the control valve body 361a, As shown in Fig. The elastic member 362a is in the form of a membrane extending along the periphery of the control valve body 361a in the vicinity of the opened one side of the raw material supply pipe 340 and the opening of the raw material supply pipe 340 in accordance with the pressing degree of the pressure member 363a And is capable of controlling the movement of the raw material on one side of the raw material supply pipe (340). At this time, the movement of the pressing member 363a of the control valve 360a is precisely controlled within a movement distance of about several micrometers. Therefore, when the control valve 360a cuts off the material supply pipe 340, The member 363a and the elastic member 362a may be damaged, so that the sensitivity of the control valve 360a may deteriorate. Therefore, the shutoff valve 360b may be provided on the other side of the raw material supply pipe 340 as a valve for shutting off the supply of the raw material.

차단밸브(360b)는 원료(1)의 공급을 차단하도록 블록(330)의 외측에서 원료 공급관(340)의 타측에 장착될 수 있다. 차단밸브(360b)는 예컨대 상시 닫힘 방식의 공압 밸브일 수 있으며, 이의 세부 구조는 본 발명의 실시 예에서 특별히 한정하지 않는다. 이때, 차단밸브(360b)가 상시 닫힘 방식의 공압 밸브로 형성됨에 따라, 공정이 불규칙하게 중단되어 전체 설비로 전원 공급이 중단되더라도, 신속하게 이에 반응하여 원료(1)의 공급을 차단 가능하다.The shutoff valve 360b may be mounted on the other side of the raw material supply pipe 340 outside the block 330 to block the supply of the raw material 1. [ The shutoff valve 360b may be, for example, a normally closed type pneumatic valve, and its detailed structure is not particularly limited in the embodiment of the present invention. At this time, since the shutoff valve 360b is formed as the normally closed type air valve, the supply of the raw material 1 can be quickly cut off in response to the interruption of the process irregularly and the power supply to the entire facility is interrupted.

예컨대 차단밸브(360b)는 그 구성부로서, 내부에 원료 공급관(340)의 타측과 연통하는 공간을 가지는 차단밸브몸체(361b), 상측 단부가 차단밸브몸체(361b)의 단면 형상을 따라 형성되고 하측 단부가 원료 공급관(340)의 개방된 타측에 삽입되어 원료 공급관(340)의 내부를 차단 가능하도록 형성되며 원료 공급관(340)의 개방된 타측에 대하여 전후진 가능하도록 차단밸브몸체(361b)의 내부에 장착되는 차단블록(362b) 및 공압의 인가 여부에 대응하여 차단블록(362b)을 전후진시키도록 차단밸브몸체(361a)의 내부에 형성되는 차단블록 구동부재(363b)를 포함할 수 있다.For example, the shutoff valve 360b is constituted by a shutoff valve body 361b having a space communicating with the other side of the raw material supply pipe 340 and an upper end formed along the sectional shape of the shutoff valve body 361b The lower end of the shutoff valve body 361b is inserted into the opened other side of the raw material supply pipe 340 so as to be able to shut off the inside of the raw material supply pipe 340 and can be moved back and forth with respect to the opened side of the raw material supply pipe 340 And a blocking block driving member 363b formed inside the shut-off valve body 361a to move the blocking block 362b forward and rearward in response to whether or not air pressure is applied .

차단밸브몸체(361b)는 중공형의 원통 형상으로 형성되며, 블록(330)의 외측에서 원료 공급관(340)의 개방된 타측을 커버하도록 장착되고, 그 내부에 차단블록(362b)이 전후진 가능하게 장착된다. 차단블록(362b)는 차단밸브몸체(361b) 내부를 가로지르는 판 형상으로 형성되는 상측 단부와, 원료 공급관(340)의 개방된 타측의 내부로 삽입되어 원료 공급관(340)의 내부를 차단 가능한 블록의 형상으로 형성되는 하측 단부 및 상측 단부와 하측 단부를 연결하는 연결부를 가지는 구조로 형성된다. 차단블록(362b)의 상측 단부에 의하여 차단밸브몸체(361b)의 내부가 상측 영역 및 하측 영역으로 구분될 수 있다. 이때, 차단밸브몸체(361b)의 상측 영역에는 차단블록 구동부재(363b) 예컨대 스프링 부재가 배치된다. 차단밸브몸체(361b)의 하부를 관통하여 하측 영역에 연결되는 개구를 통하여 소정의 가스가 공급되는 경우, 도 2에 도시된 바와 같이, 원료 공급관(340)의 개방된 타측으로 진입하여 원료 공급관(340)의 내부를 막고 있던 차단블록(362b)이 상승하며, 원료 공급관(340)을 개방시키게 된다. 차단밸브몸체(361b)의 하부를 관통하여 하측 영역에 연결되는 개구를 통하여 소정의 가스가 배기되는 경우, 도면으로 도시하지는 않았으나, 차단블록 구동부재(363b)의 탄성력에 의하여 원료 공급관(340)의 개방된 타측으로 차단블록(362b)이 진입하게 되고, 이에 원료 공급관(340)을 차단할 수 있다. 이를 위하여 차단밸브몸체(361b)의 하부를 관통하여 하측 영역에 연결되는 개구에는 소정의 밸브 작동용 가스 공급원(미도시)이 구비될 수 있다.The shutoff valve body 361b is formed in a hollow cylindrical shape and is mounted to cover the other open side of the raw material supply pipe 340 from the outside of the block 330 and a blocking block 362b Respectively. The blocking block 362b has an upper end portion formed in a plate shape transverse to the inside of the shut-off valve body 361b and an upper end portion inserted into the opened other side of the raw material supply pipe 340 to block the inside of the raw material supply pipe 340 And a connecting portion connecting the upper end portion and the lower end portion. The interior of the shut-off valve body 361b may be divided into an upper region and a lower region by the upper end of the blocking block 362b. At this time, a block block driving member 363b such as a spring member is disposed in an upper region of the shutoff valve body 361b. When the predetermined gas is supplied through the opening portion connected to the lower region through the lower portion of the shut-off valve body 361b, as shown in FIG. 2, the raw material supply pipe 340 enters the opened other side of the raw material supply pipe 340, The blocking block 362b, which has closed the inside of the raw material supply pipe 340, rises and opens the raw material supply pipe 340. When a predetermined gas is exhausted through an opening connected to the lower region through the lower portion of the shut-off valve body 361b, although not shown in the figure, the elastic force of the blocking block driving member 363b The blocking block 362b enters the open side and the raw material supply pipe 340 can be shut off. For this purpose, a predetermined valve operation gas supply source (not shown) may be provided in the opening which is connected to the lower region through the lower portion of the shutoff valve body 361b.

히팅블록(370)은 챔버(310)의 적어도 일부를 감싸 형성되는데, 이때, 원료 분사관(320)의 출구부(322)가 관통하여 연결되는 챔버(310)의 일측을 제외한 나머지의 적어도 일부를 감싸도록 형성될 수 있다. 본 발명의 실시 예에서는 도 2에 도시된 바와 같이, 챔버(310)의 상부측 및 하부측을 제외한 챔버(310)의 외주면을 감싸는 히팅블록(370)을 예시한다. 이에 챔버(310) 내부 중심위치로 열을 균일하게 공급 가능하다.The heating block 370 is formed to surround at least a part of the chamber 310. At this time, at least a part of the remaining portion of the chamber 310 except for one side of the chamber 310 through which the outlet portion 322 of the raw- As shown in FIG. 2, a heating block 370 surrounding the outer circumferential surface of the chamber 310 except for the upper side and the lower side of the chamber 310 is illustrated in the embodiment of the present invention. Thus, the heat can be uniformly supplied to the central position in the chamber 310.

가스 유입관(380)은 내부에 가스가 통과되는 공간을 가지며, 소정 길이 연장 형성되는 관으로서, 원료 분사관(320)의 내부에 가스(2) 예컨대 불활성 가스를 공급하도록 블록(330)의 내부를 관통하여 장착되며, 일측 단부가 원료 분사관(320)의 상측에 배치되어 원료 분사관의 입구부에 연결된다. 가스 유입관(380)의 타측 단부는 블록(330)의 외측으로 연장되어, 블록(330)의 외측에 배치되는 가스 공급원(380a)에 연결되며, 이때, 가스 유입관(380)의 타측 단부와 블록(330)의 사이에는 캐리어가스 공급제어밸브(380b)가 장착될 수 있다. 가스 공급원(380a) 내부에 저장되는 가스(2) 즉, 캐리어 가스는 예컨대 아르곤 가스 및 질소 가스 등의 불활성 가스이며, 원료 분사관(320)의 내부에서 원료(1)와 충돌하여 원료의 액적 입도를 제어함과 함께 이후 챔버(310)의 내부에서 기화되는 원료와 함께 이동하며, 기화된 원료를 기판 처리 챔버의 내부까지 안정적으로 이동시키는 역할을 한다.The gas inlet pipe 380 is a tube having a space through which gas passes and has a predetermined length. The gas inlet pipe 380 is connected to the inside of the block 330 to supply a gas 2, for example, an inert gas, And one end portion is disposed on the upper side of the raw material spray pipe 320 and connected to the inlet portion of the raw material spray pipe. The other end of the gas inlet pipe 380 extends to the outside of the block 330 and is connected to a gas supply source 380a disposed outside the block 330. At this time, the other end of the gas inlet pipe 380 Between the block 330, a carrier gas supply control valve 380b may be mounted. The gas 2 stored in the gas supply source 380a is an inert gas such as argon gas and nitrogen gas and collides with the raw material 1 inside the raw material spray pipe 320, And then moves together with the material to be vaporized in the chamber 310 and stably moves the vaporized material to the inside of the substrate processing chamber.

이때, 가스 유입관(380)의 내부 압력을 측정 가능하도록 블록(330)에는 압력 센서(390)가 장착되어 가스 유입관(380)의 내부와 전기적으로 연결되고, 압력 센서(390)로부터 측정되는 캐리어 가스의 압력은 캐리어가스 공급제어밸브(380b)의 제어 및 원료를 기화시키는 과정에서 원료 분사관(320) 내부의 상태가 정상 상태인지를 확인하는 것에 각각 활용될 수 있다. 즉, 압력 센서(390)에서 측정되는 압력 값이 변화하는 경우, 원료 분사관의 입구부(321) 또는 원료 공급관(340)의 출구부에 원료 등이 고착되어 그 내경이 변한 것으로 판단하여, 챔버(310) 내로 일정량의 원료(1)와 가스(2)가 공급되도록 원료의 공급 경로와 캐리어 가스의 공급 경로상에 마련된 각 구성부들을 제어하여 원료의 공급량 및 가스의 공급량을 제어할 수 있고, 기판을 처리하는 전체 공정이 완료된 후, 기판 처리 장치 또는 원료 공급기의 점검을 실시할 수 있다.
The pressure sensor 390 is mounted on the block 330 to be able to measure the internal pressure of the gas inlet pipe 380 and is electrically connected to the inside of the gas inlet pipe 380, The pressure of the carrier gas may be utilized for controlling the carrier gas supply control valve 380b and checking whether the inside of the raw material spray pipe 320 is in a normal state in the course of vaporizing the raw material. That is, when the pressure value measured by the pressure sensor 390 changes, it is determined that the raw material or the like is fixed to the inlet portion 321 of the raw material spray tube or the outlet portion of the raw material supply tube 340, The supply amount of the raw material and the supply amount of the gas can be controlled by controlling the constituent parts provided on the supply path of the raw material and the supply path of the carrier gas so that a predetermined amount of the raw material 1 and the gas 2 are supplied into the carrier 310, After the entire process of processing the substrate is completed, the substrate processing apparatus or the raw material feeder can be checked.

하기에서는 본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기(300)의 작동 과정을 설명함과 함께, 원료 공급기(300)를 이용한 원료(1)의 기화 과정을 설명한다.Hereinafter, the operation of the raw material feeder 300 according to the embodiment of the present invention will be described, and the process of vaporizing the raw material 1 using the raw material feeder 300 will be described.

먼저, 원료(1)를 준비한다. 이때, 원료는 기판 상에 증착하고자하는 물질을 함유하는 원료일 수 있으며, 예컨대 액상의 TEMAZr source일 수 있다. 한편, 준비된 원료는 예컨대 130℃ 내지 170℃의 온도에서 기화될 수 있고, 200℃ 내지 250℃의 온도에서 열분해될 수 있으며, 140℃ 내지 150℃의 온도에서 소정 시간 정체되는 경우 변질 될 수 있다.First, the raw material 1 is prepared. In this case, the raw material may be a raw material containing a substance to be deposited on the substrate, for example, a TEMAZr source in a liquid state. On the other hand, the prepared raw material can be vaporized at a temperature of, for example, 130 ° C to 170 ° C, pyrolyzed at a temperature of 200 ° C to 250 ° C, and deteriorated if it stagnates at a temperature of 140 ° C to 150 ° C for a predetermined time.

다음으로, 히팅블록(370)에 전원을 공급하여, 챔버(310)의 내부를 130℃ 내지 150℃의 온도로 제어한다.Next, power is supplied to the heating block 370 to control the temperature of the inside of the chamber 310 to 130 占 폚 to 150 占 폚.

이때, 본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기(300)는 원료 공급관(340)의 출구부가 원료 분사관(320)을 통하여 챔버(310)와 간접적으로 연결되는 구조이고, 열이 원료 분사관(320)을 통하여 원료 공급관(340)으로 전달되는 동안, 블록(330)에 의하여 열이 발산되기 때문에, 원료 공급관(340)의 출구부 온도가 50℃ 내지 70℃의 온도로 제어될 수 있다.The raw material supply device 300 according to the embodiment of the present invention has a structure in which the outlet of the raw material supply pipe 340 is indirectly connected to the chamber 310 through the raw material injection pipe 320, The temperature of the outlet of the raw material supply pipe 340 can be controlled to a temperature of 50 ° C to 70 ° C since the heat is dissipated by the block 330 while being transferred to the raw material supply pipe 340 through the pipe 330.

이는 본 발명의 실시 예에서는 원료 공급관(340)의 출구부가 블록(330)의 내부에 위치하며, 또한 블록(330)과 챔버(310)가 단열부재(350)에 의하여 서로 이격됨에 따라, 원료가 챔버(310)로 유입되기 직전까지 원료의 열분해 및 변질을 일으키는 온도 이하로 안정적으로 제어될 수 있음을 의미한다. 이에, 액상 원료의 기화가 진행되는 동안 원료의 고착이 방지될 수 있어, 기판을 처리하는 공정이 안정적으로 진행될 수 있다.This is because in the embodiment of the present invention, the outlet of the raw material supply pipe 340 is located inside the block 330 and the block 330 and the chamber 310 are separated from each other by the heat insulating member 350, It can be stably controlled to a temperature below the temperature at which pyrolysis and deterioration of the raw material occur until just before entering the chamber 310. Thus, sticking of the raw material can be prevented during vaporization of the liquid raw material, and the process of processing the substrate can be stably performed.

이어서, 차단밸브(360b)를 개방하고, 다음으로 제어밸브(360a)를 이용하여 원료의 유량을 조절하면서 예컨대 22℃ 내지 25℃의 온도로 제어되는 액상의 원료(1)를 원료 공급관(340)으로 공급시킨다. 이때, 예컨대 상온의 가스(2) 즉, 캐리어 가스를 가스 유입관(380)으로 공급시킨다. 공급되는 캐리어 가스의 공급량은 원료의 유량 제어에 대응하여 다양하게 선택 적용될 수 있으며, 원료의 공급량 및 캐리어 가스의 유량 제어에는 공지의 기술이 적용될 수 있어, 각각을 특별하게 예시하지 않는다.Next, the shutoff valve 360b is opened, and then the liquid raw material 1 controlled at a temperature of, for example, 22 ° C to 25 ° C is supplied to the raw material supply pipe 340 while controlling the flow rate of the raw material by using the control valve 360a. . At this time, for example, a gas 2 at normal temperature, that is, a carrier gas is supplied to the gas inlet pipe 380. The supply amount of the supplied carrier gas can be variously selected in accordance with the flow rate control of the raw material, and a well-known technique can be applied to the supply amount of the raw material and the flow rate control of the carrier gas.

원료 분사관(320)의 내부로 분사되는 원료(1)는 가스(2)와 충돌하며 그 액적의 입도가 작아지게 되며, 가스(2)에 의해 넓게 분산되는 상태로 챔버(310)의 내부로 운반될 수 있다.The raw material 1 injected into the raw material spraying tube 320 collides with the gas 2 and the particle size of the droplet becomes small and the inside of the chamber 310 in a state of being widely dispersed by the gas 2 Lt; / RTI >

한편, 본 발명의 실시 예에서는 원료 분사관의 입구부(321)와 원료 공급관(340)의 출구부가 서로 교차하는 방향으로 배치됨에 따라 각각에서 분사되는 원료 및 가스 또한 교차하는 방향으로 충돌하고 이에 의하여 액적이 미세하게 작아진 원료는 챔버(310)의 내부에서 보다 적은 열량으로 기화될 수 있다.
Meanwhile, in the embodiment of the present invention, the inlet portion 321 of the raw material spray pipe and the outlet portion of the raw material supply pipe 340 are arranged in directions crossing each other, so that the raw material and gas injected from each other also collide in the crossing direction The raw material in which the droplet is finely small can be vaporized with a smaller amount of heat inside the chamber 310.

상기한 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기(300)는 액상 원료가 기화되는 챔버 내의 열이 상기의 챔버에 액상 원료를 분사하는 원료 공급관의 출구부로 직접 전달되는 것을 억제 또는 방지하도록 구조가 개선되는 기술적인 특징을 제시한다.As described above, the raw material feeder 300 according to the embodiment of the present invention is configured such that the heat in the chamber in which the liquid raw material is vaporized is prevented or prevented from being directly transmitted to the outlet of the raw material supply pipe for spraying the liquid raw material into the chamber. And the technical characteristics that improve it.

이로부터, 액상 원료(1)를 기화시키는 과정에서의 원료 공급관(340)의 출구부 원료 막힘을 억제 또는 방지할 수 있다. 즉, 원료 공급관(340)의 출구부가 원료 분사관(320)을 통하여 챔버(310)에 간접적으로 연결되고, 원료 공급관(340)의 출구부와 원료 분사관(320)의 연결 부위를 블록(330) 및 단열부재(350)가 감싸는 구조로 개선됨에 따라, 챔버(310) 내의 열이 연료 공급관(340)의 출구부로 전달되는 것을 억제 또는 방지하다. 이에 액상 원료가 챔버(310) 내에서 기화되기 전에 원료 공급관(340)의 출구부 부근에서 열분해 되거나 변질되며 원료 공급관(340)의 출구부에 고착되는 것을 억제하거나 방지할 수 있어, 원료 공급관(340)의 출구부 원료 막힘을 억제 또는 방지할 수 있다.From this, it is possible to suppress or prevent the clogging of the raw material of the outlet portion of the raw material supply pipe 340 in the process of vaporizing the liquid raw material (1). That is, the outlet of the raw material supply pipe 340 is indirectly connected to the chamber 310 through the raw material discharge pipe 320, and the connection part between the outlet of the raw material supply pipe 340 and the raw material discharge pipe 320 is connected to the block 330 The heat in the chamber 310 is prevented or prevented from being transmitted to the outlet of the fuel supply pipe 340. As a result, It is possible to suppress or prevent the liquid raw material from being pyrolyzed or deteriorated near the outlet of the raw material supply pipe 340 and adhered to the outlet portion of the raw material supply pipe 340 before the liquid raw material is vaporized in the chamber 310, ) Can be suppressed or prevented.

또한, 본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기(300)는 액상 원료가 기화되는 상기의 챔버(310) 내로 액상 원료가 공급되는 동안, 공급되는 액상 원료의 유량 제어와 공급 차단을 독립적으로 제어 가능하도록, 액상 원료의 공급을 차단하는 밸브를 별도로 구비하는 기술적인 특징을 제시한다.In addition, the raw material feeder 300 according to the embodiment of the present invention can control the flow rate of the supplied liquid raw material and the supply cutoff independently while the liquid raw material is supplied into the chamber 310 in which the liquid raw material is vaporized , And a valve for shutting off the supply of the liquid raw material is separately provided.

이로부터, 액상 원료의 유량을 제어하는 제어밸브(610a)의 손상을 억제 또는 방지할 수 있다. 즉, 액상 원료의 유량 제어는 상대적으로 정밀하게 제어되어야 하며, 액상 원료의 공급 차단은 상대적으로 신속하게 제어되어야 함에 따라, 상기의 두 기능을 서로 다른 밸브에서 각각 제어하도록 구조를 개선하여, 이로부터 유량을 제어하는 밸브의 손상을 억제 또는 방지할 수 있다. 또한, 상기의 두 기능을 서로 다른 밸브에서 각각 제어하도록 구조가 개선됨에 따라, 액상 원료의 공급을 차단하는 밸브를 상시 닫힘 방식의 공압 밸브 구조로 구비할 수 있고, 이에 전체 설비 전원의 비상 차단되는 경우에도 액상 원료의 공급을 신속하게 차단할 수 있다.From this, damage to the control valve 610a for controlling the flow rate of the liquid raw material can be suppressed or prevented. That is, the control of the flow rate of the liquid raw material should be relatively precisely controlled, and the supply interruption of the liquid raw material should be controlled relatively quickly, so that the structure is improved so that the two functions are controlled by different valves, The damage of the valve controlling the flow rate can be suppressed or prevented. In addition, since the above two functions are controlled by different valves, the valve for shutting off the supply of the liquid raw material can be provided as a normally closed type pneumatic valve structure, The supply of the liquid raw material can be cut off promptly.

따라서, 본 발명의 실시 예에 따른 기화기가 적용되는 기판 처리 장치는 기판 처리 장치의 챔버 내부로 기화된 원료를 안정적으로 공급 및 분사 가능하고, 이에 기판 처리 공정의 생산성을 향상시킬 수 있다.
Therefore, the substrate processing apparatus to which the vaporizer according to the embodiment of the present invention is applied can stably supply and inject the vaporized raw material into the chamber of the substrate processing apparatus, thereby improving the productivity of the substrate processing process.

본 발명의 상기 실시 예는 본 발명의 설명을 위한 것이며, 제한을 위한 것이 아님을 주지해야 한다. 본 발명은 후술하는 특허청구범위 및 이와 균등한 기술적인 사상의 범위 내에서 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 본 발명이 해당하는 기술 분야에서의 업자는 본 발명의 기술적인 사상의 범위 내에서 다양한 실시 예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.It should be noted that the above-described embodiments of the present invention are intended to be illustrative of the present invention and not intended to be limiting. It will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention as defined by the appended claims and their equivalents. It will be appreciated that embodiments are possible.

300: 원료 공급기 310: 챔버
320: 원료 분사관 330: 블록
340: 원료 공급관 350: 단열부재
370: 히터블록 380: 가스 유입관300: Feeder 310: Chamber
320: Raw material distributing pipe 330: Block
340: raw material supply pipe 350: insulating member
370: heater block 380: gas inlet pipe

Claims (19)

내부에 공간을 형성하며, 일 방향으로 연장되고, 적어도 일 방향으로 개방되는 원료 분사관;
상기 원료 분사관의 출구부로부터 이격되며, 상기 원료 분사관의 입구부를 감싸도록 형성되는 블록;
내부에 원료가 통과되는 공간을 가지며, 적어도 일부가 상기 블록의 내부를 관통하여 장착되고, 상기 블록의 내부에서 상기 원료 분사관의 일측에 연결되며, 상기 원료 분사관의 입구부 부근의 상기 원료 분사관의 입구부보다 낮은 위치에서 상기 원료 분사관에 교차하는 방향으로 연결되는 원료 공급관; 및
상기 원료 분사관의 내부에 가스를 공급하도록 상기 블록의 내부를 관통하여 장착되며, 상기 원료 분사관의 입구부에 연결되고, 내부에 가스가 통과되는 공간을 가지는 가스 유입관;을 포함하는 원료 공급기.A raw material spraying tube which forms a space therein and which extends in one direction and opens in at least one direction;
A block spaced apart from an outlet of the raw material discharge pipe and surrounding the inlet of the raw material discharge pipe;
At least a part of which is inserted through the inside of the block and is connected to one side of the raw material spray pipe inside the block, and the raw material spray near the inlet part of the raw material spray pipe, A raw material supply pipe connected to the raw material spray pipe in a direction crossing the raw material spray pipe at a position lower than an inlet portion of the capillary; And
And a gas inlet pipe which is installed through the inside of the block so as to supply gas into the raw material spray pipe and connected to an inlet of the raw material spray pipe and has a space through which gas is passed, . 청구항 1에 있어서,
상기 원료 분사관의 외주면과 연결되는 상기 블록의 일측 외부면의 적어도 일부에 접촉하여 배치되는 단열부재;를 포함하는 원료 공급기.The method according to claim 1,
And a heat insulating member disposed in contact with at least a part of one outer surface of the block connected to the outer circumferential surface of the raw material spray pipe. 청구항 1에 있어서,
상기 원료의 유량을 조절 가능하도록 상기 블록의 외측에서 상기 원료 공급관의 일측에 장착되는 제어밸브; 및
상기 원료의 공급을 차단 가능하도록 상기 블록의 외측에서 상기 원료 공급관의 타측에 장착되는 차단밸브;를 포함하는 원료 공급기.The method according to claim 1,
A control valve mounted on one side of the raw material supply pipe outside the block so as to adjust the flow rate of the raw material; And
And a shut-off valve mounted on the other side of the raw material supply pipe outside the block so as to block supply of the raw material. 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 원료 분사관의 내부 너비는 상기 원료 분사관의 입구부 너비보다 크게 형성되는 원료 공급기.The method according to claim 1,
Wherein an inner width of the raw material spray tube is formed larger than a width of an inlet portion of the raw material spray tube. 청구항 1에 있어서,
상기 블록은 내부에 공간을 가지는 외피형 구조의 블록 및 내부가 채워지는 일체형 구조의 블록 중 어느 하나를 포함하는 원료 공급기.The method according to claim 1,
Wherein the block includes any one of a block of an envelope structure having a space therein and an integrally structured block filled inside. 삭제delete 청구항 1 내지 청구항 3, 청구항 5 및 청구항 6 중 어느 하나의 항에 있어서,
내부에 원료가 기화되는 공간을 가지며, 상기 블록의 외측으로 이격되어 상기 원료 분사관의 출구부에 연결되는 챔버; 및
상기 챔버의 적어도 일부를 감싸는 히팅블록;을 더 포함하는 원료 공급기.The method according to any one of claims 1 to 3, claim 5 and claim 6,
A chamber having a space for vaporizing the raw material therein and connected to an outlet of the raw material spray pipe, the chamber being spaced apart from the block; And
And a heating block surrounding at least a portion of the chamber. 청구항 8에 있어서,
상기 챔버 및 블록의 사이에 설치되는 단열부재는 상기 챔버 및 블록 각각의 서로 마주보는 면을 감싸도록 배치되는 원료 공급기.The method of claim 8,
And a heat insulating member provided between the chamber and the block is disposed so as to surround opposed surfaces of the chambers and the blocks, respectively. 청구항 8에 있어서,
상기 원료 분사관의 출구부는 상기 원료 분사관의 출구부가 관통 연결되는 상기 챔버의 일측 내부면과 동일면 상에 개방되는 원료 공급기.The method of claim 8,
Wherein the outlet of the raw material discharge pipe is opened on the same plane as the one internal surface of the chamber through which the outlet portion of the raw material discharge pipe is connected. 청구항 10에 있어서,
상기 원료 공급관은 상기 원료 분사관의 출구부로부터 5㎜ 내지 10㎜의 범위로 이격되도록 상기 원료 분사관의 상기 일측에 연결되는 원료 공급기.The method of claim 10,
Wherein the raw material supply pipe is connected to the one side of the raw material spray pipe so as to be spaced apart from the outlet of the raw material discharge pipe by 5 mm to 10 mm. 내부에 기판을 처리하는 공간이 형성되는 기판 처리 챔버;
상기 기판 처리 챔버의 내부에 배치되는 기판 지지대;
상기 기판 지지대와 대향 배치되며, 상기 기판 지지대를 향하여 유체를 분사 가능하도록 형성되는 유체 분사기; 및
상기 기판 처리 챔버의 외측에서 상기 유체 분사기에 연결되며, 내부에 원료가 기화되는 공간이 형성되는 기화부 및 상기 기화부로부터 이격되는 위치에서 상기 기화부의 내부에 상기 원료를 분사 가능하도록 상기 기화부에 연결되는 분사부를 구비하는 원료 공급기;를 포함하고,
상기 기화부는, 내부에 원료가 기화되는 공간을 가지는 챔버;를 포함하며,
상기 분사부는,
상기 챔버의 외측에서 상기 챔버를 향하는 방향으로 연장되고, 출구부가 상기 챔버와 연통하는 원료 분사관;
내부에 원료가 통과되는 공간을 가지고, 상기 원료 분사관의 일측에 연결되며, 상기 원료 분사관의 입구부 부근의 상기 원료 분사관의 입구부보다 낮은 위치에서 상기 원료 분사관에 교차하는 방향으로 연결되는 원료 공급관; 및
내부에 가스가 통과되는 공간을 가지며, 상기 원료 분사관의 입구부에 연결되는 가스 유입관;을 포함하는 기판 처리 장치.A substrate processing chamber in which a space for processing a substrate is formed;
A substrate support disposed within the substrate processing chamber;
A fluid ejector disposed opposite the substrate support and configured to eject fluid toward the substrate support; And
A vaporizer connected to the fluid injector outside the substrate processing chamber, the vaporizer having a space therein for vaporizing the raw material; and a gas supply unit connected to the vaporizer to inject the raw material into the vaporizer at a position spaced apart from the vaporizer. And a raw material feeder having a spraying part connected thereto,
Wherein the vaporizing portion includes a chamber having a space in which a raw material is vaporized,
The injection unit
A raw material distributing pipe extending from the outside of the chamber toward the chamber and having an outlet communicating with the chamber;
And is connected to one side of the raw material spray pipe and is connected to the raw material spray pipe in a direction crossing the raw material spray pipe at a position lower than an inlet portion of the raw material spray pipe near the inlet of the raw material spray pipe, Raw material supply pipe; And
And a gas inlet pipe having a space through which gas is allowed to pass, the gas inlet pipe being connected to an inlet of the raw material spray pipe. 청구항 12에 있어서,
상기 원료 공급기는,
상기 기화부 및 분사부의 사이에서 상기 기화부 및 분사부 각각의 서로 마주보는 면을 감싸도록 배치되는 단열부재;를 더 포함하는 기판 처리 장치.The method of claim 12,
The raw material feeder includes:
And a heat insulating member disposed between the vaporizing part and the jetting part so as to surround the facing surfaces of the vaporizing part and the jetting part, respectively. 청구항 13에 있어서,
상기 기화부는,
상기 챔버의 내부로 열을 공급 가능하도록 상기 챔버의 적어도 일부를 감싸는 히팅블록;을 포함하고,
상기 히팅블록은 상기 챔버를 감싸도록 형성되되, 상기 단열부재와 접촉하는 상기 챔버의 일측을 제외한 나머지의 적어도 일부를 감싸도록 형성되는 기판 처리 장치.14. The method of claim 13,
Wherein the vaporizing unit comprises:
And a heating block surrounding at least a portion of the chamber to enable supply of heat to the interior of the chamber,
Wherein the heating block is formed so as to surround the chamber and is configured to surround at least a part of the chamber excluding the one side of the chamber which is in contact with the heat insulating member. 청구항 14에 있어서,
상기 분사부는,
상기 챔버의 외측으로 이격되어 상기 원료 분사관의 입구부를 감싸도록 형성되며, 상기 원료 분사관의 외주면과 연결되는 일측 외부면이 상기 단열부재와 접촉하는 블록;을 포함하고,
상기 원료 공급관은 적어도 일부가 상기 블록의 내부를 관통하여 상기 블록의 내부에서 상기 원료 분사관의 일측에 연결되는 기판 처리 장치.15. The method of claim 14,
The injection unit
And a block spaced outside the chamber so as to surround an inlet of the raw material spray pipe and having one outer surface connected to an outer circumferential surface of the raw material spray pipe in contact with the heat insulating member,
Wherein at least a portion of the material feed pipe passes through the inside of the block and is connected to one side of the raw material spray pipe inside the block. 청구항 15에 있어서,
상기 분사부는,
상기 원료의 유량 조절과 상기 원료의 공급 차단을 독립적으로 제어 가능하도록 상기 블록의 외측에서 상기 원료 공급관의 복수의 위치에 각각 장착되는 복수개의 밸브;를 더 포함하는 기판 처리 장치.16. The method of claim 15,
The injection unit
And a plurality of valves respectively mounted at a plurality of positions of the raw material supply pipe outside the block so as to independently control the flow rate of the raw material and the supply interruption of the raw material. 청구항 15에 있어서,
상기 분사부는,
상기 가스 유입관의 내부 압력을 측정 가능하도록 상기 블록에 장착되는 센서; 및
상기 원료 공급기의 외측에서 상기 가스 유입관에 연결되며, 상기 센서에서 측정되는 상기 내부 압력을 이용하여 가스의 공급을 제어하는 가스 공급원;을 더 포함하고,
상기 가스 유입관은 상기 블록의 내부를 관통하여 상기 원료 분사관의 입구부에 연결되는 기판 처리 장치.16. The method of claim 15,
The injection unit
A sensor mounted on the block for measuring an internal pressure of the gas inlet pipe; And
And a gas supply source connected to the gas inlet pipe outside the raw material feeder and controlling supply of the gas using the internal pressure measured by the sensor,
Wherein the gas inflow pipe passes through the inside of the block and is connected to an inlet of the raw material spray pipe. 청구항 17에 있어서,
상기 원료 분사관의 입구부 너비는 상기 분사관의 내부 너비보다 작게 형성되며,
상기 원료 분사관의 출구부는 상기 원료 분사관의 출구부가 관통 연결되는 상기 챔버의 일측 내부면과 동일면 상에 개방되는 기판 처리 장치.18. The method of claim 17,
Wherein an inlet width of the raw material spray pipe is smaller than an inside width of the spray pipe,
Wherein the outlet of the raw material discharge pipe is opened on the same plane as the one internal surface of the chamber through which the outlet of the raw material discharge pipe is connected. 청구항 18에 있어서,
상기 원료 공급관은 상기 원료 분사관보다 낮은 위치에서 상기 원료 분사관에 교차하는 방향으로 연결되되, 상기 원료 분사관의 출구부로부터 5㎜ 내지 10㎜의 범위로 이격되도록 연결되는 기판 처리 장치.19. The method of claim 18,
Wherein the raw material supply pipe is connected in a direction crossing the raw material discharge pipe at a position lower than the raw material discharge pipe and spaced from the outlet part of the raw material discharge pipe in a range of 5 mm to 10 mm.
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