KR101677157B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 고정 드럼; 상기 고정 드럼의 외주면의 적어도 일부분을 따라 유연성 기판을 이송시키는 기판 이송 장치; 상기 고정 드럼의 외주면의 일부분에 설치되는 제 1 개구부; 상기 제 1 개구부에 제 1 가스를 공급하는 제 1 가스 공급 장치; 상기 고정 드럼의 외주면의 타부분에 설치되는 제 2 개구부; 상기 제 2 개구부에 제 2 가스를 공급하는 제 2 가스 공급 장치; 상기 고정 드럼의 외주면의 다른 타부분에 설치되는 제 3 개구부; 상기 제 3 개구부에 제 3 가스를 공급하는 제 3 가스 공급 장치; 및 상기 기판 이송 장치에 의해 이송 중인 상기 유연성 기판에 상기 제 1 가스, 상기 제 2 가스 및 상기 제 3 가스 중 어느 하나가 도달될 수 있도록 상기 제 1 개구부, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부 중 어느 하나를 개방하고, 나머지를 폐쇄할 수 있는 적어도 하나의 관통홀이 형성되고, 상기 유연성 기판과 상기 고정 드럼 사이에 회전이 가능하게 설치되는 회전 드럼;을 포함할 수 있다.
Description
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 고정 드럼과 회전 드럼을 이용하여 유연성 기판에 원자층을 증착시킬 수 있는 롤투롤 방식의 기판 처리 장치에 관한 것이다.
반도체집적기술의 발달로 인하여 고순도, 고품질의 박막을 증착 시키는 공정은 반도체 제조공정 중에서 중요한 부분을 차지하게 되었다. 박막형성의 대표적인 방법으로 화학 증착(Chemical Vapour Deposition, CVD)법과 물리 증착(Physical Vapour Deposition, PVD)법이 있다. 스퍼터링(sputtering)법 등의 물리 증착법은 형성된 박막의 단차피복성(step coverage)이 나쁘기 때문에 요철이 있는 표면에 균일한 두께의 막을 형성하는 데에는 사용할 수 없다.
화학 증착법은 가열된 기판의 표면 위에서 기체상태의 물질들이 반응하고, 그 반응으로 생성된 화합물이 기판 표면에 증착되는 방법이다. 화학 증착법은 물리 증착법에 비하여 단차 피복성이 좋고, 박막이 증착되는 기판의 손상이 적고, 박막의 증착 비용이 적게 들며, 박막을 대량 생산할 수 있기 때문에 많이 적용되고 있다.
그러나, 최근 반도체 소자의 집적도가 서브 마이크론(sub-micron) 단위로까지 향상됨에 따라, 종래 방식의 화학 증착법 만으로는 웨이퍼 기판에서 서브 마이크론 단위의 균일한 두께를 얻거나, 우수한 단차피복성(step coverage)을 얻는데 한계에 이르고 있으며, 웨이퍼 기판에 서브 마이크론 크기의 콘택홀(contact hole), 비아(via) 또는 도랑(trench)과 같은 단차가 존재하는 경우에 위치에 상관없이 일정한 조성을 가지는 물질막을 얻는데도 어려움을 겪게 되었다.
따라서, 종래의 모든 공정 기체들을 동시에 주입하는 화학 증착법과 다르게 원하는 박막을 얻는데 필요한 두 가지 이상의 공정 기체들을 기상에서 만나지 않도록 시간에 따라 순차적으로 분할하여 공급하되, 이들 공급 주기를 주기적으로 반복하여 박막을 형성하는 시분할 방식의 원자층 증착(atomic layer deposition) 방식이 새로운 박막 형성 방법으로 적용되고 있다.
이외에도, 두 가지 이상의 공정 기체들을 기상에서 만나지 않도록 공간을 달리하여 공급하되, 기판이 서로 다른 공간으로 이동되게 하는 공간분할 방식의 원자층 증착도 적용되고 있다.
그러나, 이러한 종래의 시분할 방식의 원자층 증착 방식을 적용한 원자층 증착 설비는, 통상적으로 기판이 이동하지 않고 고정되기 때문에 연속적인 공정을 수행할 수 없어서 증착 속도가 느리고 생산성이 크게 떨어지는 문제점이 있었다.
또한, 종래의 공간분할 방식의 원자층 증착 방식을 적용한 원자층 증착 설비는, 기판이 움직이면서 주변의 가스도 함께 이동되기 때문에 균일한 반응 온도나 균일한 가스 조성비 등 반응 환경을 균일하게 유지하는 것이 어려워서 가공의 정밀도가 크게 떨어지는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 고정 드럼에 회전 드럼을 이동시켜서 이종의 가스들을 교대로 공급하면서 유연성 기판을 움직일 수 있게 하여 증착 속도를 향상시켜서 생산성이 크게 향상시킬 수 있고, 유연성 기판의 이동 속도와 회전 드럼의 이동 속도를 조절하여 가스 공급 사이클 횟수를 자유롭게 조정할 수 있으며, 이를 통해서 제품의 성능을 향상시키고, 저가격으로 고품질의 제품을 대량 생산할 수 있게 하는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 기판 처리 장치는, 고정 드럼; 상기 고정 드럼의 외주면의 적어도 일부분을 따라 유연성 기판을 이송시키는 기판 이송 장치; 상기 고정 드럼의 외주면의 일부분에 설치되는 제 1 개구부; 상기 제 1 개구부에 제 1 가스를 공급하는 제 1 가스 공급 장치; 상기 고정 드럼의 외주면의 타부분에 설치되는 제 2 개구부; 상기 제 2 개구부에 제 2 가스를 공급하는 제 2 가스 공급 장치; 상기 고정 드럼의 외주면의 다른 타부분에 설치되는 제 3 개구부; 상기 제 3 개구부에 제 3 가스를 공급하는 제 3 가스 공급 장치; 및 상기 기판 이송 장치에 의해 이송 중인 상기 유연성 기판에 상기 제 1 가스, 상기 제 2 가스 및 상기 제 3 가스 중 어느 하나가 도달될 수 있도록 상기 제 1 개구부, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부 중 어느 하나를 개방하고, 나머지를 폐쇄할 수 있는 적어도 하나의 관통홀이 형성되고, 상기 유연성 기판과 상기 고정 드럼 사이에 회전이 가능하게 설치되는 회전 드럼;을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 유연성 기판에 원자층을 증착할 수 있도록, 상기 제 1 가스는, 소스 가스 성분을 포함하고, 상기 제 2 가스는, 퍼지 가스 성분을 포함하며, 상기 제 3 가스는, 반응 가스 성분을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 1 개구부와, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부는, 상기 고정 드럼의 외주면에 축방향으로 서로 평행하게 형성되는 복수개의 완전 개방 슬릿형 줄홈부 또는 부분 개방 슬릿형 줄홈부일 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 1 개구부와, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부는, 상기 고정 드럼의 외주면에 상기 제 1 개구부, 상기 제 2 개구부, 상기 제 3 개구, 상기 제 2 개구부를 1개 세트로 하여 순서에 따라 반복되게 형성될 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 1 가스 공급 장치는, 상기 제 1 개구부에서 상기 고정 드럼의 전방으로 연결되게 형성되는 복수개의 제 1 가스 분배 라인; 상기 제 1 가스 분배 라인들과 연결되고, 상기 고정 드럼의 전면에 설치되며, 내부에 제 1 가스 공급 공간이 형성되는 제 1 가스 공급실; 및 상기 제 1 가스 공급실의 상기 제 1 가스 공급 공간에 상기 제 1 가스를 공급하는 제 1 가스 공급관;을 포함하고, 상기 제 2 가스 공급 장치는, 상기 제 2 개구부에서 상기 고정 드럼의 내부 공간으로 연결되게 형성되는 복수개의 제 2 가스 분배 라인; 상기 제 2 가스 분배 라인들과 연결되고, 상기 고정 드럼의 내부에 설치되며, 제 2 가스 공급 공간이 형성되는 제 2 가스 공급실; 및 상기 제 2 가스 공급실의 상기 제 2 가스 공급 공간에 상기 제 2 가스를 공급하는 제 2 가스 공급관;을 포함하며, 상기 제 3 가스 공급 장치는, 상기 제 3 개구부에서 상기 고정 드럼의 후방으로 연결되게 형성되는 복수개의 제 3 가스 분배 라인; 상기 제 3 가스 분배 라인들과 연결되고, 상기 고정 드럼의 후면에 설치되며, 내부에 제 3 가스 공급 공간이 형성되는 제 3 가스 공급실; 및 상기 제 3 가스 공급실의 상기 제 3 가스 공급 공간에 상기 제 3 가스를 공급하는 제 3 가스 공급관;을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 회전 드럼은, 상기 관통홀이 상기 제 1 개구부, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부를 지나면서 상기 제 1 개구부, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부 중 어느 하나를 개방시킬 수 있도록 상기 관통홀은, 상기 제 1 개구부, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부와 대응되는 형상으로 형성될 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 관통홀은 상기 유연성 기판과 가까울수록 그 폭이 확장되는 확폭형 관통홀일 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 상기 유연성 기판에 도달한 상기 제 1 가스, 상기 제 2 가스 및 상기 제 3 가스 중 어느 하나가 외부로 배출될 수 있도록 상기 유연성 기판의 둘레를 감싸는 형상으로 형성되는 배기 포트;를 더 포함하고, 상기 제 1 가스, 상기 제 2 가스 및 상기 제 3 가스가 상기 유연성 기판의 측면을 따라 상기 배기 포트로 배출될 수 있도록 상기 회전 드럼의 상기 관통홀의 홀폭 길이는 상기 유연성 기판의 기판폭 길이 이상일 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 고정 드럼은 금속 재질이고, 상기 회전 드럼은 수지 재질일 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 기판 이송 장치는, 상기 유연성 기판의 측면을 지지할 수 있도록 상기 유연성 기판의 양측면을 따라 형성되는 링형상의 회전 림(rim)을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 1 개구부, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부는, 상기 고정 드럼의 외주면 상부에 형성되고, 상기 기판 이송 장치는, 상기 유연성 기판을 상기 고정 드럼의 외주면 상부를 따라 이송하며, 상기 고정 드럼의 외주면 하방에 설치되고, 상기 회전 드럼 또는 상기 고정 드럼을 세정하는 세정 장치;를 더 포함할 수 있다.
한편, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 기판 처리 장치는, 고정 드럼; 상기 고정 드럼의 외주면의 적어도 일부분을 따라 유연성 기판을 이송시키는 기판 이송 장치; 상기 고정 드럼의 외주면의 일부분에 설치되는 제 1 개구부; 상기 제 1 개구부에 제 1 가스를 공급하는 제 1 가스 공급 장치; 상기 고정 드럼의 외주면의 타부분에 설치되는 제 2 개구부; 상기 제 2 개구부에 진공압을 형성하는 진공압 형성 장치; 상기 고정 드럼의 외주면의 다른 타부분에 설치되는 제 3 개구부; 상기 제 3 개구부에 제 3 가스를 공급하는 제 3 가스 공급 장치; 및 상기 기판 이송 장치에 의해 이송 중인 상기 유연성 기판에 상기 제 1 가스 및 상기 제 2 가스 중 어느 하나가 도달되고, 상기 제 1 가스 및 상기 제 2 가스 중 어느 하나가 진공 흡입될 수 있도록 상기 제 1 개구부, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부 중 어느 하나를 개방하고, 나머지를 폐쇄할 수 있는 적어도 하나의 관통홀이 형성되고, 상기 유연성 기판과 상기 고정 드럼 사이에 회전이 가능하게 설치되는 회전 드럼;을 포함할 수 있다.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 이종의 가스들을 교대로 공급하면서 유연성 기판을 움직일 수 있게 하여 증착 속도를 향상시켜서 생산성이 크게 향상시킬 수 있고, 유연성 기판의 이동 속도와 회전 드럼의 이동 속도를 조절하여 가스 공급 사이클 횟수를 자유롭게 조정할 수 있으며, 이를 통해서 제품의 성능을 향상시키고, 저가격으로 고품질의 제품을 대량 생산할 수 있는 효과를 갖는 것이다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1의 기판 처리 장치를 나타내는 정단면도이다.
도 3은 도 2의 기판 처리 장치의 고정 드럼 및 회전 드럼을 확대하여 나타내는 단면도이다.
도 4는 도 1의 기판 처리 장치의 회전 드럼을 나타내는 사시도이다.
도 5는 도 1의 기판 처리 장치의 고정 드럼을 나타내는 사시도이다.
도 6은 도 1의 기판 처리 장치를 나타내는 측단면도이다.
도 7은 도 1의 기판 처리 장치를 나타내는 부분 평단면도이다.
도 8은 도 7의 기판 처리 장치를 개념적으로 나타내는 평단면도이다.
도 2는 도 1의 기판 처리 장치를 나타내는 정단면도이다.
도 3은 도 2의 기판 처리 장치의 고정 드럼 및 회전 드럼을 확대하여 나타내는 단면도이다.
도 4는 도 1의 기판 처리 장치의 회전 드럼을 나타내는 사시도이다.
도 5는 도 1의 기판 처리 장치의 고정 드럼을 나타내는 사시도이다.
도 6은 도 1의 기판 처리 장치를 나타내는 측단면도이다.
도 7은 도 1의 기판 처리 장치를 나타내는 부분 평단면도이다.
도 8은 도 7의 기판 처리 장치를 개념적으로 나타내는 평단면도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 여러 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.
본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려 이들 실시예들은 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. 또한, 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이다.
명세서 전체에 걸쳐서, 막, 영역 또는 기판과 같은 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "상에", "연결되어", "적층되어" 또는 "커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 상기 하나의 구성요소가 직접적으로 다른 구성요소 "상에", "연결되어", "적층되어" 또는 "커플링되어" 접촉하거나, 그 사이에 개재되는 또 다른 구성요소들이 존재할 수 있다고 해석될 수 있다. 반면에, 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "직접적으로 상에", "직접 연결되어", 또는 "직접 커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 그 사이에 개재되는 다른 구성요소들이 존재하지 않는다고 해석된다. 동일한 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는"은 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.
본 명세서에서 제 1, 제 2 등의 용어가 다양한 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안됨은 자명하다. 이들 용어는 하나의 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 다른 영역, 층 또는 부분과 구별하기 위하여만 사용된다. 따라서, 이하 상술할 제 1 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분은 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제 2 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 지칭할 수 있다.
또한, "상의" 또는 "위의" 및 "하의" 또는 "아래의"와 같은 상대적인 용어들은 도면들에서 도해되는 것처럼 다른 요소들에 대한 어떤 요소들의 관계를 기술하기 위해 여기에서 사용될 수 있다. 상대적 용어들은 도면들에서 묘사되는 방향에 추가하여 소자의 다른 방향들을 포함하는 것을 의도한다고 이해될 수 있다. 예를 들어, 도면들에서 소자가 뒤집어 진다면, 다른 요소들의 상부의 면 상에 존재하는 것으로 묘사되는 요소들은 상기 다른 요소들의 하부의 면 상에 방향을 가지게 된다. 그러므로, 예로써 든 "상의"라는 용어는, 도면의 특정한 방향에 의존하여 "하의" 및 "상의" 방향 모두를 포함할 수 있다. 소자가 다른 방향으로 향한다면(다른 방향에 대하여 90도 회전), 본 명세서에 사용되는 상대적인 설명들은 이에 따라 해석될 수 있다.
본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.
이하, 본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들을 개략적으로 도시하는 도면들을 참조하여 설명한다. 도면들에 있어서, 예를 들면, 제조 기술 및/또는 공차(tolerance)에 따라, 도시된 형상의 변형들이 예상될 수 있다. 따라서, 본 발명 사상의 실시예는 본 명세서에 도시된 영역의 특정 형상에 제한된 것으로 해석되어서는 아니 되며, 예를 들면 제조상 초래되는 형상의 변화를 포함하여야 한다.
도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)를 나타내는 사시도이고, 도 2는 도 1의 기판 처리 장치(100)를 나타내는 정단면도이고, 도 3은 도 2의 기판 처리 장치(100)의 고정 드럼(20) 및 회전 드럼(50)을 확대하여 나타내는 단면도이다.
먼저, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는, 챔버(10)와, 고정 드럼(20)과, 기판 이송 장치(30)와, 제 1 개구부(OP1)와, 제 1 가스 공급 장치(41)와, 제 2 개구부(OP2)와, 제 2 가스 공급 장치(42)와, 제 3 개구부(OP3)와, 제 3 가스 공급 장치(43) 및 회전 드럼(50)을 포함할 수 있다.
예컨대, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 챔버(10)는, 내부에 진공 환경 또는 가공 환경을 조성할 수 있도록 각종 진공 펌프나 가스 공급 장치나 온도 제어 장치 등이 설치될 수 있는 챔버이다.
이러한, 상기 챔버(10)는 상술된 상기 구성들의 일부분 또는 전체를 수용할 수 있는 수용 공간이 형성될 수 있다.
더욱 구체적으로 예를 들면, 상기 챔버(10)는 내부에 유연성 기판(1)을 안내할 수 있는 안내롤(R)이나 상기 유연성 기판(1)이 유출입될 수 있도록 각종의 게이트가 설치될 수 있다. 또한, 상기 챔버(10)는, 외부에서 내부로 기류가 형성되도록 외부 기압 보다 낮은 기압의 내부 압력이 형성될 수 있다.
여기서, 상기 유연성 기판(1)은, 예컨대, 플랙시블한 기판 베이스에 도전층이 형성되는 플랙시블 인쇄 회로 기판(FPCB: Flexible Printed Circuit Board)이나, 도전성 필름이나, 각종 테이프 등 박막 증착 또는 원자층 증착이 필요한 모든 대상물이 적용될 수 있다.
이외에도, 상기 챔버(10)는 도시하지 않았지만, 플라즈마 환경을 위한 각종 전극들이 설치되거나, 각종 가스 공급 장치 또는 가스 배출 장치들이 설치될 수 있다. 그러나, 이러한 상기 챔버(10)는 상술된 내용이나 도면에 반드시 국한되지 않고, 매우 다양한 형태 및 종류의 모든 챔버가 적용될 수 있다.
도 5는 도 1의 기판 처리 장치(100)의 고정 드럼(20)을 나타내는 사시도이고, 도 6은 도 1의 기판 처리 장치(100)를 나타내는 측단면도이고, 도 7은 도 1의 기판 처리 장치(100)를 나타내는 부분 평단면도이고, 도 8은 도 7의 기판 처리 장치(100)를 개념적으로 나타내는 평단면도이다.
또한, 도 5 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 고정 드럼(20)은, 그 축방향이 전방과 후방을 향하도록 상기 챔버(10)의 내부에 설치되는 원통 형상의 구조체로서, 내부에 빈공간이 형성될 수 있고, 외주면의 상부에는 상기 제 1 개구부(OP1), 상기 제 2 개구부(OP2), 상기 제 3 개구부, 상기 제 2 개구부가 1개의 세트로 하여 다수회의 사이클이 반복될 수 있도록 순서에 따라 반복되게 형성될 수 있다.
예컨대, 상기 고정 드럼(20)의 외주면의 상부에는, 제 1 개구부(OP1)-제 2 개구부(OP2)-제 3 개구부(OP3)-제 2 개구부-제 1 개구부(OP1)-제 2 개구부(OP2)-제 3 개구부(OP3)-제 2 개구부-의 순서로 상기 개구부들이 반복되어 배치될 수 있다.
또한, 도 5 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 고정 드럼(20)은 상기 회전 드럼(50)의 회전축 역할을 할 수 있다. 따라서, 상기 고정 드럼(20)을 회전축으로 하여 상기 회전 드럼(50)이 상기 고정 드럼(20)을 중심으로 회전될 수 있다.
또한, 상기 고정 드럼(20)은, 내마모도나 내구성 등 기계적인 성능이 우수한 알루미늄, 구리, 크롬, 철, 아연, 니켈, 금, 은, 백금, 티타늄 등의 성분을 포함하는 금속 재질이 적용될 수 있다. 그러나, 이러한 상기 고정 드럼(20)은 이에 반드시 국한되지 않고, 각종 플라스틱이나 합성 수지가 적용될 수 있다.
또한, 예컨대, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 기판 이송 장치(30)는, 상기 고정 드럼(20)의 외주면의 적어도 일부분, 예를 들면, 도면에서는 상기 고정 드럼(20)의 외주면의 상부를 따라 유연성 기판(1)을 이송시키는 장치로서, 상기 유연성 기판(1)의 양측면을 지지할 수 있도록 상기 유연성 기판의 양측면을 따라 형성되는 링형상의 회전 림(31)(rim)을 포함할 수 있다.
여기서, 도 1 및 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 회전 림(31) 또는 상기 회전 드럼(50)은 밸트(B)나 풀리(P) 등의 동력 전달 장치 및 각종 모터나 실린더를 이용하여 상기 회전 림(31)을 회전시키는 림 회전 장치와 연결될 수 있다.
그러나, 상기 기판 이송 장치(30)는, 상술된 회전 림(31)에 반드시 국한되지 않고, 상기 유연성 기판(1)을 이송시키는 매우 다양한 형태 및 종류의 이송 롤러나 기타 이송 장치들이 적용될 수 있다.
또한, 도시하지 않았지만, 상기 기판 이송 장치(30)는, 상기 유연성 기판(1)과 접촉되어 상기 유연성 기판(1)과 마찰되면서 상기 유연성 기판(1)을 미끄럼 이송시키는 상기 회전 드럼(50)이 적용되는 것도 가능하다. 즉, 상기 회전 드럼(50)을 상기 기판 이송 장치(30)로 이용하는 것도 가능하다.
따라서, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 챔버(10)의 내부로 인입된 상기 유연성 기판(1)은, 상기 안내롤(R)에 의해 상기 고정 드럼(20) 방향으로 안내될 수 있고, 상기 고정 드럼(20) 방향으로 안내된 상기 유연성 기판(1)은, 상기 기판 이송 장치(30)의 상기 회전 림(31)에 의해 그 측면이 안내되어 상기 고정 드럼(20)의 외주 방향을 따라 상기 회전 드럼(50)과 일정한 간격으로 이격되게 이송될 수 있다.
여기서, 만약 상기 회전 림(31)이 생략된 경우, 상기 유연성 기판(1)은 상기 회전 드럼(50)과 미끄럼 접촉되어 이송되는 것도 가능하다.
또한, 예컨대, 도 5 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 개구부(OP1)는, 상기 고정 드럼(20)의 외주면의 일부분에 설치되고, 상기 제 2 개구부는, 상기 제 1 개구부(OP1)와 이웃되는 위치에 상기 고정 드럼(20)의 외주면의 타부분에 설치되며, 상기 제 3 개구부(OP3)는, 상기 고정 드럼(20)의 외주면의 다른 타부분에 설치될 수 있다.
더욱 구체적으로 예를 들면, 도 5 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 개구부(OP1)와, 상기 제 2 개구부(OP2) 및 상기 제 3 개구부(OP3)는, 상기 고정 드럼(20)의 외주면에 축방향으로 서로 평행하게 형성되는 복수개의 완전 개방 슬릿형 줄홈부(S1)일 수 있다.
그러나, 상기 제 1 개구부(OP1)와, 상기 제 2 개구부(OP2) 및 상기 제 3 개구부(OP3)는, 도 5에 도시된 바와 같이, 차단부에 의해 부분적으로 차단되는 부분 개방 슬릿형 줄홈부(S2)인 것도 가능하다.
이외에도, 상기 제 1 개구부(OP1)와, 상기 제 2 개구부(OP2) 및 상기 제 3 개구부(OP3)의 형상은, 도면에 예시된 직선 슬릿형 이외에도 예컨대, 지그재그 슬릿형이나 점선 슬릿형이나, 빗살무늬 슬릿형이나, 격자무늬 슬릿형이나, 파형무늬 슬릿형이나, 타공판 형상 등 매우 다양한 형태로 형성될 수 있다.
또한, 예컨대, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 가스 공급 장치(41)는, 상기 제 1 개구부(OP1)에 제 1 가스(G1)를 공급하는 장치이고, 상기 제 2 가스 공급 장치(42)는, 상기 제 2 개구부(OP2)에 제 2 가스(G2)를 공급하는 장치이며, 상기 제 3 가스 공급 장치(43)는, 상기 제 3 개구부(OP3)에 제 3 가스(G3)를 공급하는 장치일 수 있다.
여기서, 예컨대, 상기 유연성 기판(1)에 원자층을 증착할 수 있도록, 상기 제 1 가스(G1)는, 소스 가스 성분을 포함하고, 상기 제 2 가스(G2)는, 퍼지 가스 성분을 포함하며, 상기 제 3 가스(G3)는, 반응 가스 성분을 포함할 수 있다.
더욱 구체적으로 예를 들면, 상기 소스 가스는 무기 금속 화합물 또는 유기 금속 재료 등 원자층을 이루는 성분을 포함하는 가스일 수 있고, 상기 퍼지 가스는, 아르곤(Ar), 헬륨(He), 네온(Ne), 제논(Xe) 등 원자층에 잔류하는 상기 소스 가스나 상기 반응 가스를 제거할 수 있는 불활성가스를 포함하는 가스일 수 있고, 상기 반응 가스는, 질소(N2), 암모니아(NH3), 일산화질소(NO), 이산화질소(NO2), 아산화질소(N2O), 산소(O2), 오존(O3) 등 반응을 촉진시킬 수 있는 가스일 수 있다.
또한, 예컨대, 도 5 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 가스 공급 장치(41)는, 상기 제 1 개구부(OP1)에서 상기 고정 드럼(20)의 전방으로 연결되게 형성되는 복수개의 제 1 가스 분배 라인(41-1)과, 상기 제 1 가스 분배 라인(41-1)들과 연결되고, 상기 고정 드럼(20)의 전면에 설치되며, 내부에 제 1 가스 공급 공간이 형성되는 제 1 가스 공급실(41-2) 및 상기 제 1 가스 공급실(41-2)의 상기 제 1 가스 공급 공간에 상기 제 1 가스(G1)를 공급하는 제 1 가스 공급관(41-3)을 포함할 수 있다.
또한, 도 5 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 제 2 가스 공급 장치(42)는, 상기 제 2 개구부(OP2)에서 상기 고정 드럼(20)의 내부 공간으로 연결되게 형성되는 복수개의 제 2 가스 분배 라인(42-1)과, 상기 제 2 가스 분배 라인(42-1)들과 연결되고, 상기 고정 드럼(20)의 내부에 설치되며, 제 2 가스 공급 공간이 형성되는 제 2 가스 공급실(42-2) 및 상기 제 2 가스 공급실(42-2)의 상기 제 2 가스 공급 공간에 상기 제 2 가스(G2)를 공급하는 제 2 가스 공급관(42-3)을 포함할 수 있다.
또한, 도 5 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 제 3 가스 공급 장치(43)는, 상기 제 3 개구부(OP3)에서 상기 고정 드럼(20)의 후방으로 연결되게 형성되는 복수개의 제 3 가스 분배 라인(43-1)과, 상기 제 3 가스 분배 라인(43-1)들과 연결되고, 상기 고정 드럼(20)의 후면에 설치되며, 내부에 제 3 가스 공급 공간이 형성되는 제 3 가스 공급실(43-2) 및 상기 제 3 가스 공급실(43-2)의 상기 제 3 가스 공급 공간에 상기 제 3 가스(G3)를 공급하는 제 3 가스 공급관(43-3)을 포함할 수 있다.
여기서, 도 5 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 가스 분배 라인(41-1)은 상기 고정 드럼(20)의 전단부에 형성될 수 있고, 상기 제 2 가스 분배 라인(42-1)은 상기 고정 드럼(20)의 중간부에 형성될 수 있으며, 상기 제 3 가스 분배 라인(43-1)은 상기 고정 드럼(20)의 후단부에 형성되는 실시예가 예시되었으나, 상술된 가스 분배 라인들은 반드시 그 위치가 상술된 내용에 국한되지 않고, 예컨대, 높이를 달리하여 상기 제 1 가스 분배 라인(41-1)과, 상기 제 2 가스 분배 라인(42-1) 및 상기 제 3 가스 분배 라인(43-1)이 높이를 달리하여 상기 고정 드럼(20)의 전단부에만 형성될 수 있는 등 매우 다양한 형태 및 위치에 설치되는 것이 가능하다.
따라서, 도 3 및 도 5 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 가스(G1)는, 상기 제 1 가스 공급관(41-3)을 통해서 상기 고정 드럼(20)의 전방으로부터 인입되어 상기 제 1 가스 공급실(41-2)에서 각각의 상기 제 1 가스 분배 라인(41-1)을 따라 분배되고, 분배된 상기 제 1 가스(G1)는, 상기 제 1 개구부(OP1)를 통해서 상기 유연성 기판(1) 방향으로 분사될 수 있다.
아울러, 상기 제 2 가스(G2)는, 상기 제 2 가스 공급관(42-3)을 통해서 상기 고정 드럼(20)의 내부로 인입되어 상기 제 2 가스 공급실(42-2)에서 각각의 상기 제 2 가스 분배 라인(42-1)을 따라 분배되고, 분배된 상기 제 2 가스(G2)는, 상기 제 2 개구부(OP2)를 통해서 상기 유연성 기판(1) 방향으로 분사될 수 있다.
아울러, 상기 제 3 가스(G3)는, 상기 제 3 가스 공급관(43-3)을 통해서 상기 고정 드럼(20)의 후방으로부터 인입되어 상기 제 3 가스 공급실(43-2)에서 각각의 상기 제 3 가스 분배 라인(43-1)을 따라 분배되고, 분배된 상기 제 3 가스(G3)는, 상기 제 3 개구부(OP3)를 통해서 상기 유연성 기판(1) 방향으로 분사될 수 있다.
따라서, 별도의 개폐 밸브 등을 이용하여 각각의 가스를 시간에 따라 단속할 필요 없이 상기 제 1 개구부(OP1)와, 상기 제 2 개구부(OP2) 및 상기 제 3 개구부(OP3)에 각각 상기 제 1 가스(G1)와, 상기 제 2 가스(G2) 및 상기 제 3 가스(G3)를 연속적으로 공급할 수 있다. 그러므로, 가스의 흐름에 대한 밸브의 정밀한 제어가 불필요하여 장비를 단순화할 수 있고, 이를 통해서 제품의 단가를 낮추고, 생산성을 증대시킬 수 있다.
도 4는 도 1의 기판 처리 장치(100)의 회전 드럼(50)을 나타내는 사시도이다.
한편, 도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 회전 드럼(50)은, 상기 기판 이송 장치(30)에 의해 이송 중인 상기 유연성 기판(1)에 상기 제 1 가스(G1), 상기 제 2 가스(G2) 및 상기 제 3 가스(G3) 중 어느 하나가 도달될 수 있도록 상기 제 1 개구부(OP1), 상기 제 2 개구부(OP2) 및 상기 제 3 개구부(OP3) 중 어느 하나를 개방하고, 나머지를 폐쇄할 수 있는 적어도 하나의 관통홀(H)이 형성되고, 상기 유연성 기판(1)과 상기 고정 드럼(20) 사이에 회전이 가능하게 설치되는 회전형 통체일 수 있다.
예컨대, 상기 회전 드럼(50)은, 상기 관통홀(H)이 상기 제 1 개구부(OP1), 상기 제 2 개구부(OP2) 및 상기 제 3 개구부(OP3)를 지나면서 상기 제 1 개구부(OP1), 상기 제 2 개구부(OP2) 및 상기 제 3 개구부(OP3) 중 어느 하나를 개방시킬 수 있도록 상기 관통홀(H)은, 상기 제 1 개구부(OP1), 상기 제 2 개구부(OP2) 및 상기 제 3 개구부(OP3)와 대응되는 형상으로 직선형으로 길게 형성되는 것으로서, 이외에도, 상기 제 1 개구부(OP1), 상기 제 2 개구부(OP2) 및 상기 제 3 개구부(OP3)의 형상에 따라, 지그재그형이나 점선형이나, 빗살무늬형이나, 격자무늬형이나, 파형무늬형이나, 타공판 형상 등 매우 다양한 형태로 형성될 수 있다.
또한, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 관통홀(H)을 통과한 가스들이 상기 유연성 기판(1)의 표면과 더 넓은 면적으로 접촉될 수 있도록 상기 관통홀(H)은 상기 유연성 기판(1)과 가까울수록 그 폭이 확장되는 확폭형 관통홀일 수 있다.
여기서, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 확폭형 관통홀은 경사면을 갖는 것이 예시되었으나, 이외에도 둥근면이나 오목면을 갖는 경사면이 형성되거나, 수직면이 형성되는 등 매우 다양한 형태의 관통홀이 형성될 수 있다.
또한, 상기 회전 드럼(50)은, 밀착도나 밀봉성이 우수한 엔지니어링 플라스틱이나, 고무, 실리콘, 우레탄 등의 플라스틱 또는 합성 수지 재질이 적용될 수 있다. 그러나, 이러한 상기 회전 드럼(50)은 이에 반드시 국한되지 않고, 각종 금속 재질이 적용될 수 있다.
따라서, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 회전 드럼(50)이 연속적으로 회전되는 동안, 상기 관통홀(H)의 위치가 상기 제 1 개구부(OP1)의 상방에 도달되면, 상기 회전 드럼(50)은 상기 관통홀(H)을 이용하여 상기 제 1 개구부(OP1)를 개방하고, 나머지 상기 제 2 개구부(OP2) 및 상기 제 3 개구부(OP3)를 폐쇄하여, 상기 유연성 기판(1)에 상기 제 1 가스(G1)만이 공급될 수 있다.
이어서, 상기 회전 드럼(50)이 계속 회전되어, 상기 관통홀(H)의 위치가 상기 제 2 개구부(OP2)의 상방에 도달되면, 상기 회전 드럼(50)은 상기 관통홀(H)을 이용하여 상기 제 2 개구부(OP2)를 개방하고, 나머지 상기 제 3 개구부(OP3) 및 상기 제 2 개구부(OP2)를 폐쇄하여, 상기 유연성 기판(1)에 상기 제 2 가스(G2)만이 공급될 수 있다.
이어서, 상기 회전 드럼(50)이 계속 회전되어, 상기 관통홀(H)의 위치가 상기 제 3 개구부(OP3)의 상방에 도달되면, 상기 회전 드럼(50)은 상기 관통홀(H)을 이용하여 상기 제 3 개구부(OP3)를 개방하고, 나머지 상기 제 1 개구부(OP1) 및 상기 제 2 개구부(OP2)를 폐쇄함으로써 상기 유연성 기판(1)에 상기 제 3 가스(G3)만이 공급될 수 있다.
한편, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는, 상기 유연성 기판(1)에 도달한 상기 제 1 가스(G1), 상기 제 2 가스(G2) 및 상기 제 3 가스(G3) 중 어느 하나가 외부로 배출될 수 있도록 상기 유연성 기판(1)의 둘레를 감싸는 형상으로 형성되는 배기 포트(60)를 더 포함할 수 있다.
또한, 예컨대, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 가스(G1), 상기 제 2 가스(G2) 및 상기 제 3 가스(G3)가 상기 유연성 기판(1)의 측면을 따라 상기 배기 포트(60)로 배출될 수 있도록 상기 회전 드럼(50)의 상기 관통홀(H)의 홀폭 길이(W2)는 상기 유연성 기판(1)의 기판폭 길이(W1) 이상일 수 있다.
따라서, 상기 유연성 기판(1)에 도달한 상기 제 1 가스(G1)는, 상기 관통홀(H)의 전방부 및 후방부를 통해 상기 유연성 기판(1)의 측면을 따라 상기 배기 포트(60)로 배출될 수 있고, 이어서, 상기 유연성 기판(1)에 도달한 상기 제 2 가스(G2)는, 상기 관통홀(H)의 전방부 및 후방부를 통해 상기 유연성 기판(1)의 측면을 따라 상기 배기 포트(60)로 배출될 수 있으며, 상기 유연성 기판(1)에 도달한 상기 제 3 가스(G3) 역시, 상기 관통홀(H)의 전방부 및 후방부를 통해 상기 유연성 기판(1)의 측면을 따라 상기 배기 포트(60)로 배출될 수 있다.
또한, 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는, 상기 제 1 개구부(OP1), 상기 제 2 개구부(OP2) 및 상기 제 3 개구부(OP3)가 상기 고정 드럼(20)의 외주면 상부에 형성되고, 상기 기판 이송 장치(30)가 상기 유연성 기판(1)을 상기 고정 드럼(20)의 외주면 상부를 따라 이송하며, 상기 고정 드럼(20)의 외주면 하방에 설치되고, 상기 회전 드럼(50) 또는 상기 고정 드럼(20)을 세정하는 세정 장치(70)를 더 포함할 수 있다.
따라서, 상기 회전 드럼(50)은 일정한 속도로 회전되면서, 상기 유연성 기판(1)에 순차적으로 제 1 가스(소스 가스)-제 2 가스(퍼지 가스)-제 3 가스(반응 가스)-제 2 가스(퍼지 가스)-제 1 가스(소스 가스)의 순서로 사이클을 반복하면서 원자층을 증착시킬 수 있다. 여기서, 상기 유연성 기판(1)의 이송 속도가 느리면 느릴수록 또한, 상기 회전 드럼(50)의 속도가 빠르면 빠를수록 반복되는 사이클의 개수를 원하는 만큼 증대시킬 수 있다. 이는 정해진 사이클만 반복할 수 있는 공간 분할 방식의 원자층 증착 설비와는 다른 장점으로 작용될 수 있고, 아울러, 정밀한 가스 제어가 어려운 시분할 방식과 달리 매우 단순한 회전 드럼 방식을 적용시켜서 별도의 밸브 제어와 같은 시분할 제어가 불필요하여 또 다른 장점으로 작용될 수 있다.
그러므로, 상기 고정 드럼(20)에 상기 회전 드럼(50)을 회전 이동시켜서 이종의 가스들을 교대로 공급하면서 상기 유연성 기판(1)을 움직일 수 있게 하여 증착 속도를 향상시켜서 생산성이 크게 향상시킬 수 있고, 상기 유연성 기판(1)의 이동 속도와 상기 회전 드럼(50)의 이동 속도를 조절하여 가스 공급 사이클 횟수를 자유롭게 조정할 수 있으며, 이를 통해서 제품의 성능을 향상시키고, 저가격으로 고품질의 제품을 대량 생산할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
한편, 본 발명의 일부 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 고정 드럼(20)과, 상기 고정 드럼(20)의 외주면의 적어도 일부분을 따라 유연성 기판(1)을 이송시키는 기판 이송 장치(30)와, 상기 고정 드럼(20)의 외주면의 일부분에 설치되는 제 1 개구부(OP1)와, 상기 제 1 개구부(OP1)에 제 1 가스(G1)를 공급하는 제 1 가스 공급 장치(41)와, 상기 고정 드럼(20)의 외주면의 타부분에 설치되는 제 2 개구부(OP2)와, 상기 제 2 개구부(OP2)에 진공압을 형성하는 진공압 형성 장치(미도시)와, 상기 고정 드럼(20)의 외주면의 다른 타부분에 설치되는 제 3 개구부(OP3)와, 상기 제 3 개구부(OP3)에 제 3 가스(G3)를 공급하는 제 3 가스 공급 장치(43) 및 상기 기판 이송 장치(30)에 의해 이송 중인 상기 유연성 기판(1)에 상기 제 1 가스(G1) 및 상기 제 2 가스(G2) 중 어느 하나가 도달되고, 상기 제 1 가스(G1) 및 상기 제 2 가스(G2) 중 어느 하나가 진공 흡입될 수 있도록 상기 제 1 개구부(OP1), 상기 제 2 개구부(OP2) 및 상기 제 3 개구부(OP3) 중 어느 하나를 개방하고, 나머지를 폐쇄할 수 있는 적어도 하나의 관통홀(H)이 형성되고, 상기 유연성 기판(1)과 상기 고정 드럼(20) 사이에 회전이 가능하게 설치되는 회전 드럼(50)을 포함할 수 있다.
여기서, 상기 진공압 형성 장치(미도시)를 제외한 나머지 구성은 상술된 본 발명의 일부 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)의 구성과 동일할 수 있다. 따라서, 상세한 설명은 생략한다.
또한, 상기 진공압 형성 장치는, 도 1 내지 도 8에 도시된 상기 제 2 가스 공급 장치(42)에서 상기 제 2 가스(G2)인 퍼지 가스를 공급하지 않는 대신, 진공압을 이용하여 상기 제 1 가스(G1) 또는 상기 제 3 가스(G3)를 진공 흡입할 수 있는 구성일 수 있다. 따라서, 본 발명의 일부 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 퍼지 가스를 공급하여 원자층에 잔류하는 소스 가스나 반응 가스를 제거하는 대신, 진공압을 이용하여 원자층에 잔류하는 소스 가스나 반응 가스를 제거할 수 있다. 이를 위하여, 도시하지 않았지만, 상기 진공압 형성 장치는 진공 펌프가 연결될 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
Claims (12)
- 고정 드럼;
상기 고정 드럼의 외주면의 적어도 일부분을 따라 유연성 기판을 이송시키는 기판 이송 장치;
상기 고정 드럼의 외주면의 일부분에 설치되는 제 1 개구부;
상기 제 1 개구부에 제 1 가스를 공급하는 제 1 가스 공급 장치;
상기 고정 드럼의 외주면의 타부분에 설치되는 제 2 개구부;
상기 제 2 개구부에 제 2 가스를 공급하는 제 2 가스 공급 장치;
상기 고정 드럼의 외주면의 다른 타부분에 설치되는 제 3 개구부;
상기 제 3 개구부에 제 3 가스를 공급하는 제 3 가스 공급 장치; 및
상기 기판 이송 장치에 의해 이송 중인 상기 유연성 기판에 상기 제 1 가스, 상기 제 2 가스 및 상기 제 3 가스 중 어느 하나가 도달될 수 있도록 상기 제 1 개구부, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부 중 어느 하나를 개방하고, 나머지를 폐쇄할 수 있는 적어도 하나의 관통홀이 형성되고, 상기 유연성 기판과 상기 고정 드럼 사이에 회전이 가능하게 설치되는 회전 드럼;
을 포함하고,
상기 제 1 가스 공급 장치는,
상기 제 1 개구부에서 상기 고정 드럼의 전방으로 연결되게 형성되는 복수개의 제 1 가스 분배 라인;
상기 제 1 가스 분배 라인들과 연결되고, 상기 고정 드럼의 전면에 설치되며, 내부에 제 1 가스 공급 공간이 형성되는 제 1 가스 공급실; 및
상기 제 1 가스 공급실의 상기 제 1 가스 공급 공간에 상기 제 1 가스를 공급하는 제 1 가스 공급관;을 포함하고,
상기 제 2 가스 공급 장치는,
상기 제 2 개구부에서 상기 고정 드럼의 내부 공간으로 연결되게 형성되는 복수개의 제 2 가스 분배 라인;
상기 제 2 가스 분배 라인들과 연결되고, 상기 고정 드럼의 내부에 설치되며, 제 2 가스 공급 공간이 형성되는 제 2 가스 공급실; 및
상기 제 2 가스 공급실의 상기 제 2 가스 공급 공간에 상기 제 2 가스를 공급하는 제 2 가스 공급관;을 포함하며,
상기 제 3 가스 공급 장치는,
상기 제 3 개구부에서 상기 고정 드럼의 후방으로 연결되게 형성되는 복수개의 제 3 가스 분배 라인;
상기 제 3 가스 분배 라인들과 연결되고, 상기 고정 드럼의 후면에 설치되며, 내부에 제 3 가스 공급 공간이 형성되는 제 3 가스 공급실; 및
상기 제 3 가스 공급실의 상기 제 3 가스 공급 공간에 상기 제 3 가스를 공급하는 제 3 가스 공급관;
을 포함하는, 기판 처리 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 유연성 기판에 원자층을 증착할 수 있도록, 상기 제 1 가스는, 소스 가스 성분을 포함하고, 상기 제 2 가스는, 퍼지 가스 성분을 포함하며, 상기 제 3 가스는, 반응 가스 성분을 포함하는, 기판 처리 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 개구부와, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부는, 상기 고정 드럼의 외주면에 축방향으로 서로 평행하게 형성되는 복수개의 완전 개방 슬릿형 줄홈부 또는 부분 개방 슬릿형 줄홈부인, 기판 처리 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 개구부와, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부는, 상기 고정 드럼의 외주면에 상기 제 1 개구부, 상기 제 2 개구부, 상기 제 3 개구, 상기 제 2 개구부를 1개 세트로 하여 순서에 따라 반복되게 형성되는, 기판 처리 장치. - 삭제
- 제 1 항에 있어서,
상기 회전 드럼은, 상기 관통홀이 상기 제 1 개구부, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부를 지나면서 상기 제 1 개구부, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부 중 어느 하나를 개방시킬 수 있도록 상기 관통홀은, 상기 제 1 개구부, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부와 대응되는 형상으로 형성되는, 기판 처리 장치. - 제 6 항에 있어서,
상기 관통홀은 상기 유연성 기판과 가까울수록 그 폭이 확장되는 확폭형 관통홀인, 기판 처리 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 유연성 기판에 도달한 상기 제 1 가스, 상기 제 2 가스 및 상기 제 3 가스 중 어느 하나가 외부로 배출될 수 있도록 상기 유연성 기판의 둘레를 감싸는 형상으로 형성되는 배기 포트;를 더 포함하고,
상기 제 1 가스, 상기 제 2 가스 및 상기 제 3 가스가 상기 유연성 기판의 측면을 따라 상기 배기 포트로 배출될 수 있도록 상기 회전 드럼의 상기 관통홀의 홀폭 길이는 상기 유연성 기판의 기판폭 길이 이상인, 기판 처리 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 고정 드럼은 금속 재질이고, 상기 회전 드럼은 수지 재질인, 기판 처리 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 기판 이송 장치는,
상기 유연성 기판의 측면을 지지할 수 있도록 상기 유연성 기판의 양측면을 따라 형성되는 링형상의 회전 림(rim)을 포함하는, 기판 처리 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 개구부, 상기 제 2 개구부 및 상기 제 3 개구부는, 상기 고정 드럼의 외주면 상부에 형성되고,
상기 기판 이송 장치는, 상기 유연성 기판을 상기 고정 드럼의 외주면 상부를 따라 이송하며,
상기 고정 드럼의 외주면 하방에 설치되고, 상기 회전 드럼 또는 상기 고정 드럼을 세정하는 세정 장치;를 더 포함하는, 기판 처리 장치. - 삭제
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Citations (4)
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|---|---|---|---|---|
| US20070163494A1 (en) * | 2005-12-28 | 2007-07-19 | Tokie Jeffrey H | Rotatable aperture mask assembly and deposition system |
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-
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