KR101676534B1 - Thermoplastic Resin comprising Polyimide - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하기 화학식 1의 반복단위를 가지며, 유리전이온도(Tg)가 120℃ 내지 190℃이고, 용융흐름지수(MI)가 1 내지 30g/min인 폴리이미드 또는 그 전구체를 포함하는 열가소성 수지를 제공한다.
[화학식 1]

Figure 112014091300765-pat00030

상기 화학식 1에서 X, Y1, Y2, R1 내지 R3, m 및 n 은 본 명세서 중에서 정의한 바와 동일하다.The present invention relates to a polyimide having a repeating unit represented by the following general formula (1) and having a glass transition temperature (T g ) of 120 to 190 ° C and a melt flow index (MI) of 1 to 30 g / min or a thermoplastic resin Lt; / RTI >
[Chemical Formula 1]
Figure 112014091300765-pat00030

In Formula 1, X, Y 1 , Y 2 , R 1 to R 3 , m and n are the same as defined in the present specification.

Description

폴리이미드를 포함하는 열가소성 수지{Thermoplastic Resin comprising Polyimide}A thermoplastic resin containing polyimide (Thermoplastic Resin comprising Polyimide)

본 발명은 폴리이미드를 포함하는 열가소성 수지 조성물 및 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 압출성형이 가능한 열가소성 수지 조성물에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a thermoplastic resin composition containing polyimide and a method for producing the same, and more particularly to a thermoplastic resin composition capable of extrusion molding.

최근 전자기기의 고성능화, 고기능화, 소형화에 따라 전자기기에 사용되는 전자부품에 대한 소형화 및 경량화의 요구가 증가하고 있다. 또, 전자부품의 소재에 대하여서도, 내열성, 기계적 강도, 전기특성 등의 특성이 더욱 요구되고, 반도체소자 패키지 방법이나 그것들을 실장하는 배선판에도, 고밀도, 고기능, 또 고성능의 것이 요구되고 있다. Background Art [0002] With the recent trend toward higher performance, higher functionality, and miniaturization of electronic devices, there has been an increasing demand for miniaturization and weight reduction of electronic components used in electronic devices. In addition, the materials of electronic parts are required to have more characteristics such as heat resistance, mechanical strength, electrical characteristics and the like, and a semiconductor device packaging method and a wiring board on which the semiconductor device is packaged are required to have high density, high performance and high performance.

폴리이미드는 내열성이 높고, 난연성이며, 전기 절연성이 뛰어나 전기, 전자 용도로 다양하게 사용되고 있다. 일반적으로 폴리이미드는 산 무수물 성분과 다이아민 성분의 중축합 반응에 의해 생성된 전구체 상태의 폴리아믹산(polyamic acid)을 열 이미드화 또는 화학적 이미드화 함으로써 제조된다.Polyimide has high heat resistance, flame retardancy, and excellent electrical insulation, and is widely used for electric and electronic applications. Generally, polyimides are prepared by thermal imidization or chemical imidization of precursor polyamic acid produced by the polycondensation reaction of an acid anhydride component and a diamine component.

폴리이미드는 그 전구체인 폴리아믹산에 비해 신뢰성 및 안정성 측면에서는 우수하지만, 용매에 대한 용해도 및 코팅성은 낮은 단점이 있다. 이에 반해 폴리아믹산의 경우 용해도 및 코팅성은 폴리이미드에 비해 우수하지만, 폴리아믹산 분자내 포함된 카르복시기(-COOH) 또는 아미드 결합(-CONH-) 등이 폴리아믹산의 장기 신뢰성 및 안정성을 저하시키는 문제를 일으킨다.Polyimide is superior in reliability and stability to polyamic acid, which is a precursor thereof, but has a disadvantage of low solubility and coating property to a solvent. On the other hand, polyamic acid has superior solubility and coating properties than polyimide, but the problem that the carboxyl group (-COOH) or amide bond (-CONH-) contained in the polyamic acid molecule lowers the long-term reliability and stability of the polyamic acid Cause.

이에 따라, 폴리아믹산의 우수한 용해도와 코팅성, 그리고 폴리이미드의 우수한 신뢰성을 동시에 충족시킬 수 있는 분자 설계가 필요하다.Accordingly, there is a need for a molecular design capable of simultaneously satisfying both the solubility and coating properties of polyamic acid and the excellent reliability of polyimide.

한국특허공개 제 2007-0031023 호(2007.03.19 공개)Korean Patent Publication No. 2007-0031023 (published on March 19, 2007)

본 발명의 과제는 압출성형에 적합한 용융흐름특성 및 유리전이온도와 함께 우수한 광학적 및 기계적 물성을 갖는 폴리이미드를 포함하는 열가소성 수지를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a thermoplastic resin containing polyimide having excellent optical and mechanical properties together with melt flow characteristics and glass transition temperature suitable for extrusion molding.

본 발명의 다른 과제는, 상기 열가소성 수지를 이용한 압출성형방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an extrusion molding method using the thermoplastic resin.

본 발명의 또 다른 과제는, 상기 열가소성 수지를 이용한 압출성형방법으로 제조된 디스플레이 기판을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a display substrate manufactured by the extrusion molding method using the thermoplastic resin.

본 발명의 또 다른 과제는 상기 열가소성 수지를 이용하여 제조된 3차원 인쇄물을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a three-dimensional printed matter produced using the thermoplastic resin.

본 과제를 해결하기 위하여 본 발명은 하기 화학식 1의 반복단위를 가지며, 유리전이온도(Tg)가 120℃ 내지 190℃이고, 용융흐름지수(MI)가 1 내지 30g/min인 폴리이미드 또는 그 전구체를 포함하는 열가소성 수지를 제공한다.The present invention relates to a polyimide having a repeating unit represented by the following general formula (1) and having a glass transition temperature (T g ) of 120 ° C. to 190 ° C. and a melt flow index (MI) of 1 to 30 g / A thermoplastic resin containing a precursor is provided.

[화학식 1] [Chemical Formula 1]

Figure 112014091300765-pat00001
Figure 112014091300765-pat00001

상기 화학식 1에서, X1 및 X2는 각각 독립적으로 산이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족 4가 유기기이며, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 다이아민으로부터 유도된 방향족 또는 지환족 2가 유기기이며, 그리고 m 및 n은 몰분율을 나타내는 0 내지 1의 수이다.Wherein X 1 and X 2 are each independently an aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid anhydride, Y 1 and Y 2 are each independently an aromatic or alicyclic divalent group derived from a diamine And m and n are numbers from 0 to 1 representing the mole fraction.

상기 화학식 1에서, 상기 X1 및 X2 중 적어도 하나가 분자내 에테르기, 에스터기, 또는 이들의 조합을 포함하는 산이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족의 4가 유기기로서, 산이무수물로부터 유도된 4가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100몰%로 포함되거나, 또는 상기 Y1 및 Y2 중 적어도 하나가 방향족 또는 지환족의 2가 유기기로서, 다이아민으로부터 유도된 2가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100몰%로 포함될 수 있다.In the formula 1, at least one of X 1 and X 2 is an aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid anhydride containing an ether group, an ester group, or a combination thereof in a molecule, Or at least one of Y 1 and Y 2 is an aromatic or alicyclic divalent organic group, in the range of 20 to 100 mol% based on the total mols of the tetravalent organic group, May be included in an amount of 20 to 100 mol% based on the total molar amount.

일 실시예에 있어서, 상기 다이아민이 폴리아민으로부터 유도된 2가 유기기를, 다이아민으로부터 유도된 2가 유기기 총 합계 몰에 대하여 약 0 내지 약 80몰%로 포함될 수 있다.In one embodiment, the divalent organic groups derived from the diaminediphatic polyamines can be included at about 0 to about 80 mole percent, based on the total moles of divalent organic-derived divalent organic groups.

일 실시예에 있어서, 상기 폴리아민이 폴리에테르다이아민일 수 있다.In one embodiment, the polyamine may be a polyether diamine.

일 실시예에 있어서, 상기 폴리아민이 폴리실록산다이아민일 수 있다.In one embodiment, the polyamine may be a polysiloxane diamine.

일 실시예에 있어서, 상기 X1 및 X2 중에서 적어도 하나는, 하기 화학식 3a 또는 3b의 산이무수물로부터 유도된 4가 유기기일 수 있다:In one embodiment, at least one of X 1 and X 2 may be a tetravalent organic group derived from an acid anhydride of formula (3a) or (3b):

[화학식 3a][Chemical Formula 3]

Figure 112014091300765-pat00002
Figure 112014091300765-pat00002

[화학식 3b](3b)

Figure 112014091300765-pat00003
Figure 112014091300765-pat00003

상기 화학식 3a 및 3b에서, R21 및 R22는 각각 독립적으로 단일결합, -O-, -CR23R24-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO-, -SO2-, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 사이클로알킬렌기, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 아릴렌기, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되며, 이때 상기 R23 및 R24는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된다.R 21 and R 22 each independently represent a single bond, -O-, -CR 23 R 24 -, -C (= O) -, -C (= O) O-, -C = O) NH-, -S-, -SO-, -SO 2 -, a monocyclic or polycyclic cycloalkylene group having 6 to 18 carbon atoms, a monocyclic or polycyclic arylene group having 6 to 18 carbon atoms, , Wherein R 23 and R 24 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

또한, 상기 화학식 1에서 X1 및 X2는 하기 화학식 4a 내지 4p의 작용기로 이루어진 군에서 선택되며, 단 상기 X1 및 X2 중에서 적어도 하나는, 하기 화학식 4a 내지 4d의 작용기로 이루어진 군에서 선택되는 4가 유기기인 것일 수 있다:In formula (1), X 1 and X 2 are selected from the group consisting of the functional groups represented by the following formulas (4a) to (4p), provided that at least one of X 1 and X 2 is selected from the group consisting of the functional groups represented by the following formulas Lt; RTI ID = 0.0 >

Figure 112014091300765-pat00004
Figure 112014091300765-pat00004

상기 식에서, R23 및 R24는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된다.Wherein R 23 and R 24 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

또한, 상기 화학식 1에서 Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 하기 화학식 6a 내지 6q의 작용기로 이루어진 군에서 선택되는 2가 유기기인 것일 수 있다.In formula (1), Y 1 and Y 2 may each independently be a divalent organic group selected from the group consisting of functional groups represented by the following formulas (6a) to (6q).

Figure 112014091300765-pat00005
Figure 112014091300765-pat00005

일 실시예에 있어서, 상기 열가소성 수지에 포함되는 폴리이미드는 하기 화학식 8의 폴리이미드 전구체를 화학적 이미드화 하거나 열적 이미드화 하여 제조된 것일 수 있다:In one embodiment, the polyimide contained in the thermoplastic resin may be one prepared by chemically or thermally imidizing a polyimide precursor of Formula 8:

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure 112014091300765-pat00006
Figure 112014091300765-pat00006

상기 화학식 8에서, X1 및 X2는 각각 독립적으로 산이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족 4가 유기기이며, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 다이아민으로부터 유도된 방향족 또는 지환족 2가 유기기이며, 그리고 m 및 n은 몰분율을 나타내는 0 내지 1의 수이다.X 1 and X 2 are each independently an aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid anhydride, Y 1 and Y 2 are each independently an aromatic or alicyclic divalent group derived from a diamine And m and n are numbers from 0 to 1 representing the mole fraction.

일 실시예에 있어서, 상기 열가소성 수지는 폴리이미드 또는 그 전구체를 고형분 총 중량에 대해 약 5 내지 약 50중량%로 포함하는 것일 수 있다.In one embodiment, the thermoplastic resin may comprise polyimide or a precursor thereof in an amount of about 5 to about 50 weight percent based on the total weight of solids.

일 실시예에 있어서, 상기 열가소성 수지는 약 200 내지 약 25,000cP의 고유점도를 갖는 것일 수 있다. In one embodiment, the thermoplastic resin may have an intrinsic viscosity of from about 200 to about 25,000 cP.

본 발명의 다른 과제를 해결하기 위해서, 상기 열가소성 수지를 이용한 압출성형방법이 제공된다. In order to solve the other problems of the present invention, there is provided an extrusion molding method using the thermoplastic resin.

일 실시예에 있어서, 상기 압출성형방법은 약 180 내지 약 350℃ 온도에서 가열 공정이 실시되는 것일 수 있다.In one embodiment, the extrusion molding method may be such that the heating process is performed at a temperature of about 180 to about 350 < 0 > C.

본 발명의 또 다른 과제를 해결하기 위해서, 상기 열가소성 수지를 압출성형하여 제조된 필름이 제공된다. In order to solve still another problem of the present invention, there is provided a film produced by extrusion molding the thermoplastic resin.

상기 필름은 디스플레이기 기판으로 사용될 수 있다. The film can be used as a display substrate.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 열가소성 수지를 이용하여 3차원 인쇄하는 방법 및 3차원 인쇄물이 제공된다. Further, according to the present invention, a method of three-dimensionally printing using the thermoplastic resin and a three-dimensional printed matter are provided.

기타 본 발명의 구현예들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.Other details of the embodiments of the present invention are included in the following detailed description.

본 발명에 따른 폴리이미드 또는 그 전구체를 포함하는 열가소성 수지는 압출성형에 적합한 열적 특성 및 용융 특성을 가질 뿐만 아니라 투명성 및 기계적 특성이 우수하여 압출성형 또는 3차원 인쇄에 의한 성형품 제조에 유용하다. The thermoplastic resin containing the polyimide or a precursor thereof according to the present invention has thermal and melting properties suitable for extrusion molding, as well as excellent transparency and mechanical properties, and is useful for the production of a molded article by extrusion molding or three-dimensional printing.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description.

그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.It is to be understood, however, that the invention is not to be limited to the specific embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 명세서에서 모든 화합물 또는 작용기는 특별한 언급이 없는 한 치환되거나 비치환된 것일 수 있다. 여기서, '치환된'이란 화합물 또는 작용기에 포함된 적어도 하나의 수소가 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 할로겐화알킬기, 탄소수 3 내지 30의 사이클로알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 하이드록시기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 카르복실산기, 알데히드기, 에폭시기, 시아노기, 니트로기, 아미노기, 술폰산기 및 이들의 유도체로 이루어진 군에서 선택되는 치환기로 대체된 것을 의미한다.In the present specification, all the compounds or functional groups may be substituted or unsubstituted, unless otherwise specified. Herein, the term "substituted" means that at least one hydrogen contained in the compound or the functional group is a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkyl group, a cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, Substituted with a substituent selected from the group consisting of an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a carboxylic acid group, an aldehyde group, an epoxy group, a cyano group, a nitro group, an amino group, a sulfonic acid group and derivatives thereof.

또한 본 명세서에서 '이들의 조합'이란 특별한 언급이 없는 한, 둘 이상의 작용기가 단일결합, 이중결합, 삼중결합, 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기(예를 들면, 메틸렌(-CH2-), 에틸렌(-CH2CH2-), 등), 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬렌기(예를들면, 플루오로메틸렌 (-CF2-), 퍼플루오로에틸렌(-CF2CF2-) 등), 탄소수 4 내지 18의 사이클로알킬렌기(예를 들면, 사이클로헥센기 등), 탄소수 6 내지 12의 아릴렌기(예를 들면 페닐렌기 등), N, O, P, S, 또는 Si와 같은 헤테로 원자 또는 이를 포함하는 작용기(구체적으로는, 분자내 카르보닐기(-C=O-), 에테르기(-O-), 에스테르기(-COO-), -S-, -NH- 또는 -N=N- 등을 포함하는 헤테로알킬렌기)와 같은 연결기에 의해 결합되어 있거나, 또는 둘 이상의 작용기가 축합, 연결되어 있는 것을 의미한다.In the present specification, unless otherwise specified, the term "a combination thereof" means a compound wherein at least two functional groups are a single bond, a double bond, a triple bond, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (for example, methylene (-CH 2 -), ethylene (-CH 2 CH 2 -), etc.), a fluoroalkylene group having 1 to 10 carbon atoms (for example, fluoromethylene (-CF 2 -), perfluoroethylene (-CF 2 CF 2 -) and the like) , A cycloalkylene group having 4 to 18 carbon atoms (e.g., cyclohexene group), an arylene group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., phenylene group), a heteroatom such as N, O, P, (-C═O-), an ether group (-O-), an ester group (-COO-), -S-, -NH- or -N = N- Or the like), or that two or more functional groups are condensed and connected to each other.

본 발명은, 하기 화학식 1의 반복단위를 가지며, 유리전이온도(Tg)가 120℃ 내지 190℃이고, 용융흐름지수(MI)가 1 내지 30g/min인 폴리이미드 또는 그 전구체를 포함하는 열가소성 수지를 제공한다.The present invention relates to a thermoplastic resin composition comprising a polyimide having a repeating unit represented by the following general formula (1) and having a glass transition temperature (T g ) of 120 to 190 캜 and a melt flow index (MI) of 1 to 30 g / Resin.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112014091300765-pat00007
Figure 112014091300765-pat00007

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

X1 및 X2는 각각 독립적으로 산이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족 4가 유기기이며, 서로 같거나 다를 수 있다. X 1 and X 2 are each independently an aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid anhydride, and may be the same or different from each other.

Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 다이아민으로부터 유도된 방향족 또는 지환족 2가 유기기이며, 서로 같거나 다를 수 있고,Y 1 and Y 2 are each independently an aromatic or alicyclic divalent organic group derived from a diamine and may be the same or different from each other,

m 및 n은 몰분율을 나타내는 0 내지 1의 수이다. and m and n are numbers from 0 to 1 representing the molar fraction.

구체적으로, 상기 화학식 1에서 X1 및 X2는 각각 독립적으로 테트라카르복실산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족 4가 유기기일 수 있으며, 보다 구체적으로는 하기 화학식 2a 내지 2d의 방향족 4가 유기기, 탄소수 3 내지 12의 사이클로알칸의 구조를 포함하는 지환족 4가 유기기, 하기 화학식 2e의 지환족 4가 유기기, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있다:Specifically, in Formula 1, X 1 and X 2 are each independently an aromatic or alicyclic tetravalent organic group derived from a tetracarboxylic dianhydride, and more specifically, an aromatic tetravalent organic group represented by the following general formulas (2a) to (2d) An alicyclic divalent organic group containing a structure of a cycloalkane having 3 to 12 carbon atoms, an alicyclic divalent organic group represented by the following formula (2e), and combinations thereof:

[화학식 2a](2a)

Figure 112014091300765-pat00008
Figure 112014091300765-pat00008

[화학식 2b](2b)

Figure 112014091300765-pat00009
Figure 112014091300765-pat00009

[화학식 2c][Chemical Formula 2c]

Figure 112014091300765-pat00010
Figure 112014091300765-pat00010

[화학식 2d](2d)

Figure 112014091300765-pat00011
Figure 112014091300765-pat00011

[화학식 2e] [Formula 2e]

Figure 112014091300765-pat00012
Figure 112014091300765-pat00012

상기 화학식 2a 내지 2e에서, R11 내지 R17은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기이고, a1은 0 또는 2의 정수, b1은 0 내지 4의 정수, c1은 0 내지 8의 정수, d1 및 e1은 각각 독립적으로 0 내지 3의 정수, f1 및 g1은 각각 독립적으로 0 내지 9의 정수이며, 그리고 A11 및 A12는 각각 독립적으로 단일결합, -O-, -CR18R19-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO-, -SO2-, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 사이클로알킬렌기(예를 들면, 사이클로헥실렌기 등), 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 아릴렌기(예를 들면, 페닐렌기, 나프탈렌기 등), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되며, 이때 상기 R18 및 R19는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기(예를 들면, 트리플루오로메틸기 등)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것일 수 있다.In Formula 2a through 2e, R 11 to R 17 are each independently a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon alkyl group or a C 1 -C 10, a1 is an integer of 0 or 2, b1 is in the range of 0 to 4 integer, c1 is an integer of 0 to 8, d1 and e1 are each independently an integer of 0 to 3, f1, and g1 is an integer from 0 to 9, each independently, and a 11 and a 12 represents a single bond, each independently, -O- , -CR 18 R 19 -, -C (= O) -, -C (= O) O-, -C (= O) NH-, -S-, -SO-, -SO 2 -, C 6 -C A monocyclic or polycyclic arylene group having 6 to 18 carbon atoms (e.g., a phenylene group, a naphthalene group, etc.), and a monocyclic or polycyclic arylene group having 6 to 18 carbon atoms Wherein R 18 and R 19 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, triple A methyl group, a trifluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a trifluoromethyl group,

또한, 상기와 같은 X1 및 X2 중에서 적어도 하나는 분자내 에테르기, 에스터기 또는 이들의 조합을 포함하는 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지방족 고리의 4가 유기기로서, 구체적으로는 하기 화학식 3a 또는 3b의 산 이무수물로로부터 유도된 4가 유기기일 수 있다:At least one of X 1 and X 2 is a divalent aromatic or alicyclic group derived from an acid dianhydride containing an ether group, an ester group or a combination thereof in the molecule, Can be a tetravalent organic group derived from an acid dianhydride of 3a or 3b:

[화학식 3a][Chemical Formula 3]

Figure 112014091300765-pat00013
Figure 112014091300765-pat00013

[화학식 3b](3b)

Figure 112014091300765-pat00014
Figure 112014091300765-pat00014

상기 화학식 3a 및 3b에서, R21 및 R22는 각각 독립적으로 단일결합, -O-, -CR23R24-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO-, -SO2-, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 사이클로알킬렌기(예를 들면, 사이클로헥실렌기 등), 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 아릴렌기(예를 들면, 페닐렌기, 나프탈렌기 등), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되며, 이때 상기 R23 및 R24는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기(예를 들면, 트리플루오로메틸기 등)로 이루어진 군으로부터 선택된다.R 21 and R 22 each independently represent a single bond, -O-, -CR 23 R 24 -, -C (= O) -, -C (= O) O-, -C = O) NH-, -S-, -SO- , -SO 2 - , the carbon number of 6 or multi-part type of polycyclic cycloalkyl group of 1 to 18 (for example, a cyclohexylene group and the like), having 6 to 18 carbon atoms (For example, phenylene group, naphthalene group and the like), and combinations thereof, wherein R 23 and R 24 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms Alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms (e.g., trifluoromethyl group and the like).

분자내 에테르기, 에스터기 또는 이들의 조합을 포함하는 산 이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지방족 고리의 4가 유기기는 4가 유기기 전체 몰을 기준으로 20몰% 이상 또는 50몰% 이상, 또는 100몰% 이하 포함될 수 있다. 바람직하게는 분자구조내에 에테르기를 포함하는 산 이수물을 포함할 수 있다. The tetravalent organic group of an aromatic or aliphatic ring derived from an acid dianhydride containing an intramolecular ether group, an ester group, or a combination thereof may be present in an amount of 20 mol% or more, or 50 mol% or more, or 100 Mol% or less. Preferably an acid dihydrate containing an ether group in the molecular structure.

보다 구체적으로, 상기 화학식 1에서 X1 및 X2는 하기 화학식 4a 내지 4p의 작용기로 이루어진 군에서 선택되며, 단 상기 X1 및 X2 중에서 적어도 하나는, 하기 화학식 4a 내지 4d의 작용기로 이루어진 군에서 선택되는 4가 유기기일 수 있다:More specifically, X 1 and X 2 in the formula (1) are selected from the group consisting of the functional groups represented by the following formulas (4a) to (4p), provided that at least one of X 1 and X 2 is a functional group Lt; / RTI > may be a tetravalent organic group selected from:

Figure 112014091300765-pat00015
Figure 112014091300765-pat00015

또한, 전술한 화학식 1에 있어서, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 하기 화학식 5a 내지 5d의 방향족 2가 유기기, 하기 화학식 5e의 지환족 2가 유기기, 탄소수 4 내지 18의 사이클로알칸디일기를 포함하는 지환족 2가 유기기 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 2가 유기기일 수 있다:Y 1 and Y 2 each independently represent an aromatic divalent organic group represented by the following general formulas (5a) to (5d), an alicyclic divalent organic group represented by the following general formula (5e), a cycloalkanediyl group having 4 to 18 carbon atoms And a divalent organic group selected from the group consisting of combinations thereof.

[화학식 5a][Chemical Formula 5a]

Figure 112014091300765-pat00016
Figure 112014091300765-pat00016

[화학식 5b][Chemical Formula 5b]

Figure 112014091300765-pat00017
Figure 112014091300765-pat00017

[화학식 5c][Chemical Formula 5c]

Figure 112014091300765-pat00018
Figure 112014091300765-pat00018

[화학식 5d][Chemical Formula 5d]

Figure 112014091300765-pat00019
Figure 112014091300765-pat00019

[화학식 5e][Chemical Formula 5e]

Figure 112014091300765-pat00020
Figure 112014091300765-pat00020

상기 화학식 5a 내지 5e에서, R31 내지 R37은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 것이고, a3, d3 및 e3은 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수, b3은 0 내지 6의 정수, c3은 0 내지 3의 정수, 그리고 f3 및 g3은 각각 독립적으로 0 내지 10의 정수이며, 그리고 A31 및 A32는 각각 독립적으로 단일결합, -O-, -CR38R39-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO-, -SO2-, -O[CH2CH2O]p-, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 사이클로알킬렌기(예를 들면, 사이클로헥실렌기 등), 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 아릴렌기(예를 들면, 페닐렌기, 나프탈렌기 등) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되며, 이때 R38 및 R39는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기(예를 들면, 트리플루오로메틸기 등)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것이고, p는 1 내지 44의 정수이다.In formulas (5a) to (5e), R 31 to R 37 are each independently selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a3, d3 and e3 are each independently 0 4 integer, b3 is the integer 0 to 6, c3 is an integer of 0 to 3, and f3 and g3 is an integer from 0 to 10, each independently, and a 31 and a 32 represents a single bond, -O, each independently -, -CR 38 R 39 -, -C (= O) -, -C (= O) O-, -C (= O) NH-, -S-, -SO-, -SO 2 -, -O (CH 2 CH 2 O) p -, a monocyclic or polycyclic cycloalkylene group having 6 to 18 carbon atoms (such as a cyclohexylene group), a monocyclic or polycyclic arylene group having 6 to 18 carbon atoms for example, phenylene group, naphthalene group and the like) and is selected from the group consisting of, wherein R 38 and R 39 represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and hydrogen atoms, having 1 to 10 carbon atoms, each independently Haloalkyl group will be selected from the group consisting of (e. G., A methyl group such as trifluoromethyl), p is an integer of 1 to 44.

보다 구체적으로, Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 하기 화학식 6a 내지 6q의 작용기로 이루어진 군에서 선택되는 2가 유기기일 수 있다.More specifically, Y 1 and Y 2 may each independently be a divalent organic group selected from the group consisting of the following functional groups represented by the following formulas (6a) to (6q).

Figure 112014091300765-pat00021
Figure 112014091300765-pat00021

또한 상기 Y1 및 Y2 중 적어도 하나가 방향족 또는 지환족 2가 유기기일 경우, 다이아민으로부터 유도된 2가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20몰% 이상 또는 50몰% 이상, 100몰% 이하로 포함될 수 있다. When at least one of Y 1 and Y 2 is an aromatic or alicyclic divalent organic group, it is preferably 20 mol% or more, or 50 mol% or more, and 100 mol% or less, based on the total moles of divalent organic- .

상기 다이아민은 폴리아민을 더 포함할 수 있으며, 구체적으로는, 폴리에테르아민 또는 폴리실록산 다이아민과 같은 폴리아민을 더 포함할 수 있다. 폴리아민은 수지 가열시 유동성 향상에 기여할 수 있다. 상기 폴리아민은, 전체 다이아민의 80몰% 이하, 또는 50몰% 이하, 또는 5~35몰% 또는 5~20몰% 포함될 수 있다. The diamine may further include a polyamine, specifically, a polyamine such as a polyetheramine or a polysiloxane diamine. The polyamine can contribute to the improvement of fluidity when the resin is heated. The polyamine may include 80 mol% or less, or 50 mol% or less, or 5 to 35 mol% or 5 to 20 mol% of the total diamine.

폴리에테르아민은 폴리옥시알킬렌 다이아민이라고도 하며, 그 중에서 바람직한 것은 하기 식으로 나타내어지는 것이지만 이에 한정되는 것은 아니다. Polyether amines are also referred to as polyoxyalkylene diamines, and among them, preferable ones are represented by the following formulas, but are not limited thereto.

NH2[(CH2)2O)]n(CH2)2NH2 NH 2 [(CH 2 ) 2 O]] n (CH 2 ) 2 NH 2

상기 식에서 n은 1 이상의 정수이며, 10 이하일 수 있다. 바람직하게는 1 내지 5 이다. In the above formula, n is an integer of 1 or more, and may be 10 or less. Preferably from 1 to 5.

폴리에테르 아민의 구체적인 예로는 산테크노케미칼(주)제 제파민 (D-230, D-400, D-2000, D-4000, ED-600, ED-900, ED-2000, EDR-148); BASF사제 폴리에테르아민(D-230, D-400, D-2000)을 들 수 있다. Specific examples of the polyetheramine include D-230 (D-400, D-2000, D-4000, ED-600, ED-900, ED-2000, EDR-148) manufactured by San Techno Chemical Co., Ltd.; Polyether amines (D-230, D-400, D-2000) manufactured by BASF.

폴리실록산다이아민은 하기 식으로 나타내어질 수 있다.The polysiloxanediamine may be represented by the following formula.

Figure 112014091300765-pat00022
Figure 112014091300765-pat00022

상기 식에서, R41 내지 R48은 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 페닐기로 이루어진 군에서 선택되고, 그리고 x 및 y는 각각 독립적으로 1 내지 15의 정수이다. Wherein R 41 to R 48 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a phenyl group, and x and y are each independently an integer of 1 to 15.

구체적인 예로는 Shin-Etsu제 폴리실록산다이아민(X-22-9409)이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples thereof include, but are not limited to, polysiloxanediamine (X-22-9409) manufactured by Shin-Etsu.

상기 폴리이미드를 포함하는 열가소성 수지는 하기 화학식 8의 폴리이미드 전구체를 3급 아민의 존재 하에서 130℃ 이상의 온도에서 화학적 이미드화 하거나, 또는 진공 또는 비활성 기체 분위기하에서, 150 내지 380℃의 온도에서 열적 이미드화 하여 제조될 수 있다:The polyimide-containing thermoplastic resin may be prepared by chemically imidizing a polyimide precursor of the following formula (VIII) in the presence of a tertiary amine at a temperature of 130 ° C or higher, or in a vacuum or an inert gas atmosphere at a temperature of 150 to 380 ° C Can be prepared by heating:

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure 112014091300765-pat00023
Figure 112014091300765-pat00023

상기 화학식 8에서, X1, X2, Y1, Y2, m 및 n은 앞서 정의한 바와 동일하다.In Formula 8, X 1 , X 2 , Y 1 , Y 2 , m and n are the same as defined above.

또한 상기 화학식 8의 폴리이미드 전구체는, 산 이무수물 및 다이아민을 중합반응시키는 단계를 포함하는 제조방법에 의해 제조될 수 있다. 이 때 산 이무수물 및 다이아민의 종류는 앞서 화학식 1에 대해 설명한 유기기를 제공할 수 있는 것이면 제한 없이 사용할 수 있으므로 구체적인 설명을 생략한다. The polyimide precursor of Formula 8 may be prepared by a process comprising the step of polymerizing an acid dianhydride and a diamine. The acid dianhydride and the diamine may be used without limitation as long as they can provide the organic group described above with respect to Formula 1, and thus a detailed description thereof will be omitted.

상기와 같은 조성으로부터 제조된 폴리이미드는 에테르기, 에스터기, 또는 이들의 조합을 포함하는 분자구조를 가짐으로써, 높은 분해온도 및 낮은 유리전이온도(Tg)를 가질 수 있다. By having a molecular structure comprising a polyimide ether group, an ester group, or combination thereof made from a composition as described above, it may have a high decomposition temperature and a low glass transition temperature (T g).

본 발명에 따른 화학식 1의 폴리이미드 또는 그 전구체를 포함하는 열가소성 수지는 유리전이온도(Tg)가 120℃ 내지 190℃이고, 용융흐름지수(MI)가 1 내지 30g/min 인 것을 특징으로 한다. 또한 본 발명에 따른 열가소성 수지는 열분해 온도가 310℃ 이상이어서 유리전이온도와 열분해 온도의 차이가 크기 때문에 압출성형과 같은 용융 공정에 유리할 수 있다.The thermoplastic resin containing the polyimide of formula (1) or a precursor thereof according to the present invention is characterized by a glass transition temperature (T g ) of 120 ° C. to 190 ° C. and a melt flow index (MI) of 1 to 30 g / min . In addition, the thermoplastic resin according to the present invention has a thermal decomposition temperature of 310 ° C or higher, which is advantageous for a melting process such as extrusion molding because of a large difference between a glass transition temperature and a thermal decomposition temperature.

상기 산이무수물과 다이아민의 중합 반응은 용액 중합 등 통상의 폴리이미드 전구체의 중합 제조방법에 따라 실시될 수 있으며, 예를 들어, 용액중합 및 용융중합이 있을 수 있다.The polycondensation reaction of the acid dianhydride and the diamine can be carried out according to a usual polymerization method for producing a polyimide precursor such as solution polymerization, for example, solution polymerization and melt polymerization.

이때 상기 중합반응은 무수 조건에서 실시될 수 있으며, 상기 중합반응시 온도는 25 내지 50℃, 바람직하게는 40 내지 45℃일 수 있다.At this time, the polymerization reaction may be carried out under anhydrous conditions, and the temperature during the polymerization reaction may be 25 to 50 ° C, preferably 40 to 45 ° C.

또한 상기 유기용매로는 구체적으로, N,N-디메틸아세트아미드(DMAc), N-메틸피롤리돈(NMP), N,N-디메틸포름아미드(DMF), 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, N,N-디에틸아세트아미드(DEAc), N,N-디메틸메톡시아세트아미드, 디메틸술폭사이드, 피리딘, 디메틸술폰, 헥사메틸포스포아미드, 테트라메틸우레아, N-메틸카프로락탐, 테트라히드로퓨란, m-디옥산, P-디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 비스(2-메톡시에틸)에테르, 1,2-비스(2-메톡시에톡시)에탄, 비스[2-(2-메톡시에톡시)]에테르, 폴리(에틸렌글리콜)메타크릴레이트(PEGMA), 감마-부티로락톤(GBL), 에크아미드(Equamide M100, Idemitsu Kosan Co., Ltd)와 같은 아미드계 용매, 물 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것이 사용될 수 있다.Specific examples of the organic solvent include N, N-dimethylacetamide (DMAc), N-methylpyrrolidone (NMP), N, N-dimethylformamide (DEAc), N, N-dimethylmethoxyacetamide, dimethylsulfoxide, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoramide, tetramethylurea, N-methylcaprolactam Bis (2-methoxyethoxy) ethane, bis [2-methoxyethoxy] ethane, Amide such as poly (ethylene glycol) methacrylate (PEGMA), gamma-butyrolactone (GBL), equamide M100 (Idemitsu Kosan Co., Ltd.) Based solvent, water, and a mixture thereof.

용융중합은 다이아민과 산 이무수물을 촉매 하에 용융 중축합 반응을 시켜 적정한 유동흐름지수(MI)가 될 때까지 수행하여 용융상태의 폴리이미드 전구체 조성물을 얻을 수 있다.The molten polymerisation can be carried out by conducting a melt polycondensation reaction of diamine and acid dianhydride under a catalyst to a suitable flow rate (MI) to obtain a molten polyimide precursor composition.

상기와 같은 제조방법에 의해 제조된 폴리이미드 전구체는 1,000g/mol 내지 500,000g/mol, 바람직하게는 20,000g/mol 내지 500,000g/mol 중량평균 분자량을 갖는 것이 바람직할 수 있다. 폴리이미드 전구체의 중량평균 분자량이 20,000g/mol 미만이면 본 발명에 따른 효과를 얻기 어려울 수 있다.The polyimide precursor produced by the above-described preparation method may have a weight average molecular weight of 1,000 g / mol to 500,000 g / mol, preferably 20,000 g / mol to 500,000 g / mol. If the weight average molecular weight of the polyimide precursor is less than 20,000 g / mol, it may be difficult to obtain the effect of the present invention.

다음으로, 상기 폴리이미드 전구체에 대한 이미드화는 통상 폴리이미드 전구체에 대한 이미드화의 방법에 따라 실시될 수 있다.Next, the imidization to the polyimide precursor may be carried out according to a method of imidization to a polyimide precursor.

구체적으로는 폴리이미드 전구체의 중합 용액 중에 피리딘 또는 트라이에틸아민 등의 3급 아민을 첨가한 후 130℃ 이상의 온도에서 화학적 이미드화가 실시될 수도 있고, 또는 진공 분위기하에 또는 질소 등의 비활성 분위기하에, 150 내지 380℃의 온도에서 열처리하는 열적 이미드화가 실시될 수도 있다. 상기 화학적 이미드화 이후 수득되는 폴리이미드는 가용성으로, 중합 용액을 100℃ 이하로 냉각시키면 중합 용매에 불용성이 되면서 폴리이미드가 침전된다. 그 결과 침전물에 대한 세척만으로 폴리이미드를 용이하게 수득할 수 있다.Specifically, after the addition of a tertiary amine such as pyridine or triethylamine to the polymerization solution of the polyimide precursor, the chemical imidization may be carried out at a temperature of 130 ° C or higher, or in a vacuum atmosphere or an inert atmosphere such as nitrogen, Thermal imidization may be performed in which heat treatment is performed at a temperature of 150 to 380 占 폚. The polyimide obtained after the chemical imidization is soluble, and when the polymerization solution is cooled to 100 캜 or less, the polyimide precipitates while becoming insoluble in the polymerization solvent. As a result, the polyimide can be easily obtained only by washing the precipitate.

상기와 같은 방법으로 제조된 폴리이미드 또는 그 전구체는 열가소성 수지의 고형분 총 중량에 대해 5 내지 50중량%로 포함되는 것이 바람직할 수 있다.It is preferable that the polyimide or the precursor thereof produced by the above process is included in an amount of 5 to 50% by weight based on the total weight of the solid content of the thermoplastic resin.

또 상기 화학이미드화에 의한 폴리이미드 제조에 사용가능한 용매로는 앞서 용매중합에 의한 폴리이미드 전구체 제조시 사용된 유기용매와 동일한 것이 사용될 수 있으며, 구체적으로는 NMP, DMAc, DMF, DEAc, PEGMA, GBL, 에크아미드(Equamide M100, Idemitsu Kosan Co., Ltd)와 같은 아미드계 용매, 물 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 용매를 더 포함할 수 있다.The solvent used for preparing the polyimide by the chemical imidization may be the same as the organic solvent used in the production of the polyimide precursor by the solvent polymerization. Specific examples thereof include NMP, DMAc, DMF, DEAc, PEGMA , GBL, amide-based solvents such as Equamide M100, Idemitsu Kosan Co., Ltd., water, and mixtures thereof.

또한 상기 용매는 열가소성 수지 조성물이 200 내지 25,000cP의 점도를 갖도록 하는 양으로 포함되는 것이 바람직할 수 있다. 유기용매의 함량이 지나치게 적어 열가소성 수지 조성물의 점도가 200cP 미만이거나, 유기용매의 함량이 지나치게 많아 열가소성 수지 조성물의 점도가 25,000cP를 초과할 경우 디스플레이 기판의 제조시 공정성이 저하될 우려가 있다.The solvent may also be included in an amount such that the thermoplastic resin composition has a viscosity of 200 to 25,000 cP. If the viscosity of the thermoplastic resin composition is less than 200 cP or the content of the organic solvent is excessively large because the content of the organic solvent is too small, the viscosity of the thermoplastic resin composition exceeding 25,000 cP may lower the fairness in the production of the display substrate.

다음으로 상기와 같은 방법에 의해 제조된 열가소성 수지는 열전이온도(Tg)와 열분해온도의 차이가 광범위한 열적 특성으로부터 압출 성형에 유리할 수 있다. 상기 열적 특성으로부터 압출성형에 의한 조형물 제조시 광범위한 온도 범위에서의 제어가 가능할 뿐만 아니라 열적으로 안정한 제조공정이 가능하다는 장점이 있다. 상기 열가소성 수지의 압출공정은 150℃ 내지 310℃에서 가능할 수 있으며, 상기 범위에서 우수한 내열성 및 기계적 강도를 가지며, 동시에 높은 투명성과 낮은 위상차를 갖는 성형물을 얻을 수 있다. Next, the thermoplastic resin produced by the above-mentioned method may be advantageous in extrusion molding due to its wide thermal properties such that the difference between the heat transfer temperature (T g ) and the thermal decomposition temperature. From the thermal characteristics, it is possible to control not only a wide temperature range but also a thermally stable manufacturing process in the production of molding by extrusion molding. The step of extruding the thermoplastic resin may be performed at 150 to 310 ° C, and a molded article having excellent heat resistance and mechanical strength within the above range, and having high transparency and low retardation can be obtained.

상기 압출성형은 통상의 방법에 따라 실시할 수 있다. The extrusion molding can be carried out according to a conventional method.

본 발명에 따른 열가소성 수지를 이용한 압출 성형공정에서는 압출헤드에 공급된 열가소성 수지가 Tg와 열분해온도의 사이의 영역에서 가열될 수 있다. 예를 들면, 150℃ 내지 310℃, 바람직하게는 170℃ 내지 290℃에서 용융되어 압출될 수 있다. 용융중합에 의한 열가소성 수지의 경우 압출 헤드에 용융상태로 투입되어 바로 압출공정이 가능할 수 있다.In the extrusion molding step using the thermoplastic resin according to the present invention, the thermoplastic resin supplied to the extrusion head can be heated in the region between T g and the thermal decomposition temperature. For example, it may be melted and extruded at a temperature of 150 to 310 ° C, preferably 170 to 290 ° C. In the case of a thermoplastic resin by melt polymerization, it may be put into a molten state in an extrusion head and the extrusion process may be possible immediately.

본 발명에 따른 열가소성 수지는 상기 용융공정에 있어서, 용융흐름지수(MI)가 1 내지 30g/min의 값을 가짐으로써, 압출에 맞은 최적의 유동흐름지수를 제공할 수 있다. 압출성형을 위해서는 기본적으로 열 흐름성이 우수하여야 한다. 열 흐름성이 낮으면 압축기내에서 흘러내리지 않아 필름성형이 어렵고 그 결과로 공정시간이 길어지고 공정 비용이 증가하는 문제가 있기 때문이다.The thermoplastic resin according to the present invention has a melt flow index (MI) of 1 to 30 g / min in the above-mentioned melting process, so that it is possible to provide an optimum flow flow index suitable for extrusion. For extrusion molding, the heat flow should be excellent. If the heat flow is low, the film does not flow down in the compressor, which makes it difficult to form the film. As a result, the process time becomes longer and the process cost increases.

또한 본 발명에 따른 열가소성 수지는 적절한 용융점도로 용융균열(melt fracture) 등과 같은 성형문제가 발생하지 않으며, 체류시 성형이 균일하며 장기 내구신뢰성, 성형품의 외관 및 열안정성이 우수할 것으로 기대된다. In addition, the thermoplastic resin of the present invention is expected to be free from molding problems such as melt fracture at a proper melting point, to be uniformly molded at the time of retention, to have excellent long-term durability, and to have excellent appearance and thermal stability of a molded article.

또한 상기 열가소성 수지 조성물이 폴리이미드의 전구체를 포함하는 경우, 상기 가열공정시 폴리이미드 전구체에서 이미드화 반응이 일어나게 된다. 상기와 같은 가열공정에 의해 폴리이미드 전구체의 이미드화율은 90% 이상일 수 있으며, 바람직하게는 98% 이상일 수 있다.When the thermoplastic resin composition contains a polyimide precursor, an imidization reaction occurs in the polyimide precursor in the heating step. The imidization rate of the polyimide precursor may be 90% or more, preferably 98% or more, by the heating process as described above.

상기와 같은 압출성형방법을 이용하여 상기 폴리이미드를 포함하는 열가소성 수지 조성물로 필름, 디스플레이 기판 및 3차원 인쇄물 등을 형성할 수 있다.A film, a display substrate, a three-dimensional printed matter, or the like can be formed from the thermoplastic resin composition containing the polyimide by using the extrusion molding method as described above.

압출성형에 의한 필름 또는 디스플레이 기판의 제조방법은 업계에서 필름 압출 성형에 사용하는 방법이면 제한없이 사용가능하다. 예를 들어, 상기 열가소성 수지의 지지체 상의 압출단계; 지지체 상에 도포된 열가소성 수지의 냉각 단계; 상기 형성된 필름상의 박리단계를 포함하는 방법일 수 있다.The method of producing a film or a display substrate by extrusion molding can be used without limitations as long as it is used in film extrusion molding in the industry. For example, the step of extruding the support of the thermoplastic resin; Cooling the thermoplastic resin applied on the support; And a peeling step on the formed film.

이 때 상기 열가소성 수지 조성물은 필름상으로 압출될 수 있으며, 필름상으로 압출된 열가소성 수지 조성물의 두께가 40㎛ 내지 200㎛가 되도록 압출 조건을 제어하여 실시되는 것이 바람직할 수 있다. At this time, the thermoplastic resin composition may be extruded into a film, and it may be preferable to control the extrusion conditions so that the thermoplastic resin composition extruded into a film has a thickness of 40 to 200 占 퐉.

상기와 같은 제조방법에 의해 제조된 디스플레이 기판은 상기한 화학식 1의 폴리이미드 또는 그 전구체를 이용하여 제조된 폴리이미드 필름을 포함함으로써 높은 투명성 및 낮은 위상차와 함께 우수한 내열성, 및 기계적 물성을 나타낸다. 구체적으로, 상기 폴리이미드 필름은 5㎛ 내지 50㎛의 두께에서 550nm의 광 투과율이 80 내지 100%인 것일 수 있다. 또한 상기 폴리이미드 필름은 면방향과 두께방향의 위상차가 80nm 이하, 바람직하게는 0.001 내지 80nm인 것일 수 있다. 또한 상기 폴리이미드 필름은 50 내지 500MPa의 인장강도를 가지며, 4 내지 100%의 파단신율(elongation at break)을 갖는 것일 수 있다. The display substrate produced by the above-mentioned production method exhibits high transparency, low retardation, excellent heat resistance, and mechanical properties by including the polyimide film of Formula 1 or a polyimide film produced using the precursor thereof. Specifically, the polyimide film may have a light transmittance of 550 to 80% at a thickness of 5 to 50 탆. The polyimide film may have a retardation in the plane direction and a thickness direction of 80 nm or less, preferably 0.001 to 80 nm. The polyimide film may have a tensile strength of 50 to 500 MPa and may have an elongation at break of 4 to 100%.

상기와 같은 폴리이미드 필름의 우수한 특성들로 인하여 이를 디스플레이 기판에 적용, 구체적으로는 OLED 또는 LCD, 전자종이, 태양전지와 같이 높은 투명성 및 등방성이 요구되는 플렉서블 디바이스용 디스플레이 기판으로 유용하게 적용할 수 있다.Due to the excellent properties of the polyimide film as described above, it can be applied to a display substrate, specifically, a display substrate for a flexible device requiring high transparency and isotropy such as an OLED, an LCD, an electronic paper, and a solar cell have.

한편, 본 발명에 따른 열가소성 수지는 3차원 인쇄의 모델링 재료로도 사용될 수 있다. 고분자 수지를 이용한 3차원 인쇄는 실질적으로 압출 성형 공정과 유사하며, 따라서 3차원 인쇄물의 제조방법은 업계에서 사용되는 통상의 방법이면 제한 없이 사용될 수 있다. Meanwhile, the thermoplastic resin according to the present invention can also be used as a modeling material for three-dimensional printing. The three-dimensional printing using the polymer resin is substantially similar to the extrusion molding process, so that the method for producing the three-dimensional printed material can be used without limitation as long as it is a conventional method used in the industry.

구체적으로는 열가소성 수지 조성물을 압출 기반 적층식 증착 시스템의 압출 헤드에 공급하는 단계; 압출 헤드 내에 상기 공급된 열가소성 수지 조성물을 압출 헤드에서 용융시키는 단계; 상기 용융된 열가소성 수지 조성물을 압출하는 단계; 및 상기 압출된 열가소성 물질을 냉각하는 단계를 포함하는 압출성형방법일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specifically, the method includes: supplying a thermoplastic resin composition to an extrusion head of an extrusion-based lamination type deposition system; Melting the supplied thermoplastic resin composition in an extrusion head in an extrusion head; Extruding the melted thermoplastic resin composition; And cooling the extruded thermoplastic material, but the present invention is not limited thereto.

상기 압출성형에 의한 조형물 제조시 냉각공정은 열가소성 수지가 압출될 경우, 치수안정성을 부여하기 위해 Tm 이나 Tg 아래에서 냉각하는 것이 필수적이며, 이러한 냉각은 압출물을 물탱크를 통과시키거나, 냉각수 스프레이, 에어쿨링 등의 방법이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.A cooling step in the manufacture sculpture by the extrusion molding is essential to cooling below T m or T g to impart when the thermoplastic resin is extruded, dimensionally stable, this cooling is to the extrudate passed through a water tank or, Cooling water spraying, air cooling, and the like. However, the present invention is not limited thereto.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

후술하는 실시예에서 사용된 약어는 다음과 같다. Abbreviations used in the following examples are as follows.

BPADA: 4,4'-비스페놀 A 이무수물(4,4'-bisphenol A dianhydride)BPADA: 4,4'-bisphenol A dianhydride (4,4'-bisphenol A dianhydride)

MBCHA: 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실아민) (4,4'-methylenebis(cyclohexylamine))MBCHA: 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine) (4,4'-methylenebis (cyclohexylamine))

DMAc: N,N-디메틸아세트아미드(N,N-Dimethylacetamide)
DMAc: N, N-Dimethylacetamide (N, N-dimethylacetamide)

실시예 1Example 1

다이아민 MBCHA 0.035mol 및 폴리(프로필렌글리콜)비스(2-아미노프로필에테르)(Polyetheramine D400, BASF) 0.004mol을 DMAc 20g 및 톨루엔 11.2g에 녹이고 산이무수물 BPADA 0.038mol을 첨가하고 DMAc 20g에 넣어 50℃에서 6시간 교반하여 폴리아믹산 용액을 제조한 후, 170℃에서 6시간 중합하여 폴리이미드 필름 형성용 용액을 제조하였다.0.033 mol of diamine MBCHA and 0.004 mol of poly (propyleneglycol) bis (2-aminopropyl ether) (Polyetheramine D400, BASF) were dissolved in 20 g of DMAc and 11.2 g of toluene, 0.038 mol of acid dianhydride BPADA was added, For 6 hours to prepare a polyamic acid solution and then polymerized at 170 DEG C for 6 hours to prepare a solution for forming a polyimide film.

제조한 폴리이미드 용액을 메탄올 1L에 떨어뜨려 침전시킨 후 200℃에서 2시간 30분 진공건조하여 폴리이미드 고분자 분말을 제조하였다.
The polyimide solution was precipitated by dropping in 1 L of methanol, and then vacuum dried at 200 ° C for 2 hours and 30 minutes to prepare a polyimide polymer powder.

실시예 2Example 2

다이아민 MBCHA 0.035mol 및 폴리(프로필렌글리콜)비스(2-아미노프로필 에테르)(Polyetheramine D230, BASF) 0.004mol을 DMAc 20g 및 톨루엔 11,2g에 녹이고 산이무수물 BPADA(0.038mol)을 첨가하고 DMAc 20g에 넣어 50℃에서 6시간 교반하여 폴리아믹산 용액을 제조한 후, 170℃에서 6시간 중합하여 폴리이미드 필름 형성용 용액을 제조하였다.(0.038 mol) of diamine MBCHA and 0.004 mol of poly (propylene glycol) bis (2-aminopropyl ether) (Polyetheramine D230, BASF) were dissolved in 20 g of DMAc and 11.2 g of toluene, And the mixture was stirred at 50 ° C for 6 hours to prepare a polyamic acid solution and then polymerized at 170 ° C for 6 hours to prepare a solution for forming a polyimide film.

제조한 폴리이미드 용액을 메탄올 1L에 떨어뜨려 침전시킨 후 200℃에서 2시간 30분 진공건조하여 폴리이미드 고분자 분말을 제조하였다.
The polyimide solution was precipitated by dropping in 1 L of methanol, and then vacuum dried at 200 ° C for 2 hours and 30 minutes to prepare a polyimide polymer powder.

실시예 3Example 3

다이아민 MBCHA 0.035mol 및 폴리(프로필렌글리콜)비스(2-아미노프로필 에테르) (Polyetheramine D230, BASF) 0.008mol을 DMAc 20g 및 톨루엔 11,2g에 녹이고 산이무수물 BPADA(0.038mol)을 첨가하고 DMAc 20g에 넣어 50℃에서 6시간 교반하여 폴리아믹산 용액을 제조한 후, 170℃에서 6시간 중합하여 폴리이미드 필름 형성용 용액을 제조하였다.0.038 mol of diamine MBCHA and 0.008 mol of poly (propyleneglycol) bis (2-aminopropyl ether) (Polyetheramine D230, BASF) were dissolved in 20 g of DMAc and 11.2 g of toluene, and the acid dianhydride BPADA (0.038 mol) And the mixture was stirred at 50 ° C for 6 hours to prepare a polyamic acid solution and then polymerized at 170 ° C for 6 hours to prepare a solution for forming a polyimide film.

제조한 폴리이미드 용액을 메탄올 1L에 떨어뜨려 침전시킨 후 200℃에서 2시간 30분 진공건조하여 폴리이미드 고분자 분말을 제조하였다.
The polyimide solution was precipitated by dropping in 1 L of methanol, and then vacuum dried at 200 ° C for 2 hours and 30 minutes to prepare a polyimide polymer powder.

실시예 4Example 4

다이아민 MBCHA 0.027mol 및 폴리(프로필렌글리콜)비스(2-아미노프로필 에테르)(Polyetheramine D230, Basf) 0.012mol을 DMAc 20g 및 톨루엔 11,2g에 녹이고 BPADA(0.038mol)을 첨가하고 DMAc 20g에 넣어 50℃에서 6시간 교반하여 폴리아믹산 용액을 제조한 후, 170℃에서 6시간 중합하여 폴리이미드 필름 형성용 용액을 제조하였다.0.029 mol of diamine MBCHA and 0.012 mol of poly (propyleneglycol) bis (2-aminopropyl ether) (Polyetheramine D230, Basf) were dissolved in 20 g of DMAc and 11.2 g of toluene. BPADA (0.038 mol) C for 6 hours to prepare a polyamic acid solution and then polymerized at 170 DEG C for 6 hours to prepare a solution for forming a polyimide film.

제조한 폴리이미드 용액을 메탄올 1L에 떨어뜨려 침전시킨 후 200℃에서 2시간 30분 진공건조하여 폴리이미드 고분자 분말을 제조하였다.
The polyimide solution was precipitated by dropping in 1 L of methanol, and then vacuum dried at 200 ° C for 2 hours and 30 minutes to prepare a polyimide polymer powder.

실시예 5Example 5

다이아민 MBCHA 0.035mol 및 폴리실록산다이아민 (X-22-9409, Shin-Etsu) 0.00192mol을 DMAc 20g 및 톨루엔 11,2g에 녹이고 산이무수물 BPADA(0.038mol)을 첨가하고 DMAc 20g에 넣어 50℃에서 6시간 교반하여 폴리아믹산 용액을 제조한 후, 170℃에서 6시간 중합하여 폴리이미드 필름 형성용 용액을 제조하였다.(0.038 mol) of diamine MBCHA and 0.00192 mol of polysiloxane diamine (X-22-9409, Shin-Etsu) were dissolved in 20 g of DMAc and 11.2 g of toluene, and acid dianhydride BPADA (0.038 mol) And stirred for a time to prepare a polyamic acid solution. The solution was then polymerized at 170 DEG C for 6 hours to prepare a solution for forming a polyimide film.

제조한 폴리이미드 용액을 메탄올 1L에 떨어뜨려 침전시킨 후 200℃에서 2시간 30분 진공건조하여 폴리이미드 고분자 분말을 제조하였다.
The polyimide solution was precipitated by dropping in 1 L of methanol, and then vacuum dried at 200 ° C for 2 hours and 30 minutes to prepare a polyimide polymer powder.

비교예 1Comparative Example 1

4,4'-메틸렌비스(시클로헥실아민)(MBCHA, 0.05mol)을 DMAc 40g에 녹이고, 제2모노머로서 4,4'-비스페놀 A 이무수물(BPADA, 0.05mol)을 첨가하고 제2용매로서 DMAc 70g에 넣어 50℃에서 6시간 교반하여 폴리아믹산 용액을 제조한 후, 170℃에서 6시간 중합하여 폴리이미드 필름 형성용 용액을 제조하였다.4,4'-methylenebis (cyclohexylamine) (MBCHA, 0.05 mol) was dissolved in 40 g of DMAc, 4,4'-bisphenol A dianhydride (BPADA, 0.05 mol) was added as a second monomer, The mixture was stirred at 50 DEG C for 6 hours to prepare a polyamic acid solution, and then polymerized at 170 DEG C for 6 hours to prepare a solution for forming a polyimide film.

폴리이미드 용액을 메탄올 1L에 떨어뜨려 침전시킨 후 200 ℃에서 2시간 30분동안 진공건조 하여 폴리이미드 고분자 분말을 제조하였다.
The polyimide solution was precipitated by dropping in 1 L of methanol, followed by vacuum drying at 200 캜 for 2 hours and 30 minutes to prepare a polyimide polymer powder.

시험예 1Test Example 1

압출성형에 필요한 용융유동지수(melt flow index)를 측정하기 위하여 실시예 1~5 및 비교예 1에서 제조된 폴리이미드 분말을 이용하여 하기와 같은 방법으로 측정하였다. In order to measure the melt flow index required for extrusion molding, the polyimide powder prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 was measured by the following method.

용융유동지수는 상기 실시예 32~37의 폴리이미드 분말을 250℃에서 3시간 동안 건조하고, MI장비를 예열한 후 건조한 PEI159 분말 5~10g을 측정한 후 호퍼에 도입하였다. 무게 추 10kg을 올린 다음 5분동안 압력을 가하고, 이후 흘러내린 양을 측정하였다. 그 결과를 하기 표 7에 나타내었다.The polyimide powders of Examples 32 to 37 were dried at 250 DEG C for 3 hours, pre-heated at MI, and dried to measure 5 to 10 g of PEI159 powder, which was introduced into the hopper. The weight was increased to 10 kg, then the pressure was applied for 5 minutes, and the flow rate was measured. The results are shown in Table 7 below.

<MI 측정 조건>&Lt; MI measurement condition >

PEI 139: 270~290℃, 10kg 측정이 어려움(300℃, 10kg)PEI 139: 270 ~ 290 ℃, 10kg difficult to measure (300 ℃, 10kg)

PEI 249~254: 270℃, 10kg 측정PEI 249 to 254: Measured at 270 DEG C, 10 kg

PEI 254: MI 노즐 안에서 30분간 방치 후 측정
PEI 254: Measurement after left in MI nozzle for 30 minutes

Tg(℃)T g (° C) CTECTE Td0.1% T d0.1% MI(g/min)MI (g / min) DSCDSC TMATMA 실시예 1Example 1 165165 163163 163163 330330 4.44.4 실시예 2Example 2 179179 173173 148148 345345 2.32.3 실시예 3Example 3 163163 159159 168168 316316 10.010.0 실시예 4Example 4 148148 145145 163163 324324 24.824.8 실시예 5Example 5 169169 170170 145145 333333 4.54.5 비교예 1Comparative Example 1 205205 210210 7070 318318 0.10.1

실험결과, 상기 표 1에 나타난 바와 같이 비교예 1의 경우 300℃에서 0.1g/min의 낮은 열 흐름성을 나타낸다. 이는 비교예 1의 폴리이미드가 리지드한 구조를 가져 유연성이 부족하기 때문이다. 한편, 등방성을 유지하면서 유연성을 개선한 실시예 1~5의 폴리이미드는 현저히 높은 용융유동지수를 나타내었다. 또한 실시예 1~5의 결과로부터 유연성을 개선하기 위한 폴리다이아민계의 다이아민 첨가량에 따라 상기 열흐름성을 제어할 수 있음을 알 수 있다.As a result of the experiment, as shown in Table 1, Comparative Example 1 shows a low heat flow rate of 0.1 g / min at 300 ° C. This is because the polyimide of Comparative Example 1 had a rigid structure and lacked flexibility. On the other hand, the polyimides of Examples 1 to 5 having improved flexibility while maintaining isotropy exhibited a remarkably high melt flow index. From the results of Examples 1 to 5, it can be seen that the heat flowability can be controlled according to the amount of diamine added to improve the flexibility.

이상으로 본 발명 내용의 특정한 부분을 상세히 기술하였는바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서, 이러한 구체적 기술은 단지 바람직한 실시 양태일 뿐이며, 이에 의해 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아닌 점은 명백할 것이다. 따라서 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 청구항들과 그것들의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to specific embodiments thereof, those skilled in the art will appreciate that such specific embodiments are merely preferred embodiments and that the scope of the present invention is not limited thereby. something to do. It is therefore intended that the scope of the invention be defined by the claims appended hereto and their equivalents.

Claims (16)

하기 화학식 1의 반복단위를 가지며, 유리전이온도(Tg)가 120℃ 내지 190℃이고, 용융흐름지수(MI)가 1 내지 30g/min 인 폴리이미드 또는 그 전구체를 포함하는 열가소성 수지:
[화학식 1]
Figure 112016096064680-pat00024

상기 화학식 1에서,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 산이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족 4가 유기기이며,
Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 다이아민으로부터 유도된 지환족 2가 유기기이되, Y1 및 Y2 중 어느 하나가 폴리옥시알킬렌다이아민 또는 폴리실록산다이아민으로부터 유도된 2가 유기기이며, 그리고
m 및 n은 몰분율을 나타내는 0 초과 1 미만의 수이다.
A thermoplastic resin comprising a polyimide having a repeating unit represented by the following formula (1) and having a glass transition temperature (T g ) of 120 to 190 캜 and a melt flow index (MI) of 1 to 30 g /
[Chemical Formula 1]
Figure 112016096064680-pat00024

In Formula 1,
X 1 and X 2 are each independently an aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid anhydride,
Y 1 and Y 2 are each independently be an aliphatic divalent strange organic derived from a diamine, Y 1 and Y either a divalent polyoxyalkylene diamine or the divalent organic group derived from a polysiloxane diamine, And
m and n are numbers that are greater than 0 and less than 1, representing the mole fraction.
제1항에 있어서,
상기 화학식 1에서, 상기 X1 및 X2 중 적어도 하나가 분자내 에테르기, 에스터기 또는 이들의 조합을 포함하는 산이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족의 4가 유기기로서, 산이무수물로부터 유도된 4가 유기기 총 합계 몰에 대하여 20 내지 100몰%로 포함되는 것인 열가소성 수지.
The method according to claim 1,
In the formula (1), at least one of X 1 and X 2 is an aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid anhydride containing an ether group, an ester group or a combination thereof in a molecule, 4 is contained in an amount of 20 to 100 mol% based on the total molar amount of the organic group.
제1항에 있어서,
상기 다이아민이 폴리옥시알킬렌다이아민 또는 폴리실록산다이아민으로부터 유도된 2가 유기기를, 다이아민으로부터 유도된 2가 유기기 총 합계 몰에 대하여 0 초과 80몰% 이하 포함하는 것인 열가소성 수지.
The method according to claim 1,
Wherein the diamine comprises a divalent organic group derived from a polyoxyalkylene diamine or a polysiloxane diamine in an amount of from greater than 0 to 80 mole percent based on the total moles of dicarboxylic-derived divalent organic groups.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 화학식 1에서 X1 및 X2 중에서 적어도 하나는, 하기 화학식 3a 또는 3b의 산이무수물로부터 유도된 4가 유기기인 것인 열가소성 수지:
[화학식 3a]
Figure 112014091300765-pat00025

[화학식 3b]
Figure 112014091300765-pat00026

상기 화학식 3a 및 3b에서,
R21 및 R22는 각각 독립적으로 단일결합, -O-, -CR23R24-, -C(=O)-, -C(=O)O-, -C(=O)NH-, -S-, -SO-, -SO2-, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 사이클로알킬렌기, 탄소수 6 내지 18의 일환식 또는 다환식의 아릴렌기, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되며, 이때 상기 R23 및 R24는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된다.
The method according to claim 1,
Wherein at least one of X 1 and X 2 in the general formula (1) is a tetravalent organic group derived from an acid anhydride of the following general formula (3a) or (3b):
[Chemical Formula 3]
Figure 112014091300765-pat00025

(3b)
Figure 112014091300765-pat00026

In the above formulas (3a) and (3b)
R 21 and R 22 are each independently a single bond, -O-, -CR 23 R 24 -, -C (═O) -, -C (═O) O-, -C S-, -SO-, -SO 2 -, a monocyclic or polycyclic cycloalkylene group having 6 to 18 carbon atoms, a monocyclic or polycyclic arylene group having 6 to 18 carbon atoms, and combinations thereof. And each of R 23 and R 24 is independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
제1항에 있어서,
상기 화학식 1에서 X1 및 X2는 하기 화학식 4a 내지 4p의 작용기로 이루어진 군에서 선택되며, 단 상기 X1 및 X2 중에서 적어도 하나는 하기 화학식 4a 내지 4d의 작용기로 이루어진 군에서 선택되는 4가 유기기인 것인 열가소성 수지:
Figure 112014091300765-pat00027

상기 식에서, 상기 R23 및 R24는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 및 탄소수 1 내지 10의 할로알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된다.
The method according to claim 1,
Wherein X 1 and X 2 are selected from the group consisting of the functional groups represented by the following formulas (4a) to (4p), provided that at least one of X 1 and X 2 is selected from the group consisting of the functional groups represented by the following formulas Thermoplastic resin which is an organic group:
Figure 112014091300765-pat00027

Wherein R 23 and R 24 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a haloalkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
제1항에 있어서,
상기 지환족의 2가 유기기가 하기 화학식 6f 내지 6i의 작용기로 이루어진 군에서 선택되는 열가소성 수지:
Figure 112016096064680-pat00031
The method according to claim 1,
Wherein the alicyclic divalent organic group is selected from the group consisting of functional groups represented by the following formulas (6f) to (6i):
Figure 112016096064680-pat00031
제1항에 있어서,
상기 폴리이미드는 하기 화학식 8의 폴리이미드 전구체를 화학적 이미드화 하거나 열적 이미드화 하여 제조되는 것인 열가소성 수지:
[화학식 8]
Figure 112016096064680-pat00029

상기 화학식 8에서,
X1 및 X2는 각각 독립적으로 산이무수물로부터 유도된 방향족 또는 지환족 4가 유기기이며,
Y1 및 Y2는 각각 독립적으로 다이아민으로부터 유도된 지환족 유기기이되, Y1 및 Y2 중 어느 하나가 폴리옥시알킬렌다이아민 또는 폴리실록산다이아민으로부터 유도된 2가 유기기이며, 그리고
m 및 n은 몰분율을 나타내는 0 초과 1 미만의 수이다.
The method according to claim 1,
Wherein the polyimide is prepared by chemically imidizing or thermally imidizing a polyimide precursor of formula (8): &lt; EMI ID =
[Chemical Formula 8]
Figure 112016096064680-pat00029

In Formula 8,
X 1 and X 2 are each independently an aromatic or alicyclic divalent organic group derived from an acid anhydride,
Y 1 and Y 2 are each independently an aliphatic organic Kii are, Y 1 and Y 2 is any one of polyester derived from a diamine polyoxyalkylene diamine or the divalent organic group derived from a polysiloxane diamine, and
m and n are numbers that are greater than 0 and less than 1, representing the mole fraction.
제1항에 있어서,
상기 폴리이미드 또는 그 전구체를 고형분 총 중량에 대해 5 내지 50중량%로 포함하는 열가소성 수지.
The method according to claim 1,
And a polyimide or a precursor thereof in an amount of 5 to 50% by weight based on the total weight of the solid content.
제1항에 있어서,
200 내지 25,000cP의 고유점도를 갖는 열가소성 수지.
The method according to claim 1,
A thermoplastic resin having an intrinsic viscosity of 200 to 25,000 cP.
제1항에 따른 열가소성 수지를 이용하여 압출성형하는 방법.A method of extrusion molding using the thermoplastic resin according to claim 1. 제1항에 따른 열가소성 수지를 압출성형하여 제조된 필름. A film produced by extrusion molding the thermoplastic resin according to claim 1. 제1항에 따른 열가소성 수지를 압출성형하여 제조된 디스플레이 기판. A display substrate produced by extrusion molding the thermoplastic resin according to claim 1. 제1항에 따른 열가소성 수지를 이용하여 3차원 인쇄하는 방법. A method for three-dimensional printing using the thermoplastic resin according to claim 1. 제1항에 따른 열가소성 수지를 이용하여 제조된 3차원 인쇄물. A three-dimensional printed matter produced using the thermoplastic resin according to claim 1.
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