KR101666621B1 - Ddbd 플라즈마 반응기, 이를 포함하는 정화 장치 및 이를 이용하는 정화 방법 - Google Patents

Ddbd 플라즈마 반응기, 이를 포함하는 정화 장치 및 이를 이용하는 정화 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 DDBD 플라즈마 반응기, 이를 포함하는 정화 장치 및 이를 이용하는 정화 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 DDBD 플라즈마 반응기는, 다수의 관통홀이 형성된 튜브형 전극인 외부 전극; 상기 외부 전극 내부에 위치되는 봉형상의 전극인 내부 전극; 상기 내부 전극의 외주면을 둘러싸는 절연층; 및 상기 외부 전극 및 상기 내부 전극에 전력을 공급하는 전원;을 포함한다.

Description

DDBD 플라즈마 반응기, 이를 포함하는 정화 장치 및 이를 이용하는 정화 방법{DOUBLE DIELECTRIC BARRIER DISCHARGE PLASMA REACTOR, PURIFICATION APPARATUS INCLUDING THE SAME, AND PURIFICATION METHOD USING THE SAME}
본 발명은 DDBD 플라즈마 반응기, 이를 포함하는 정화 장치 및 이를 이용하는 정화 방법에 관한 것이다.
일반적으로 다중이용시설, 식품제조시설, 제약시설, 의료시설 및 공공시설 등에는 실내를 가장 쾌적한 상태로 유지할 수 있는 공조 시스템이 설치되어 있으며, 이러한 공조 시스템은 오염 공기를 인체에 무해한 공기로 정화할 수 있는 공기정화장치를 구비한다.
대한민국 공개특허 제10-2006-0001068호 및 제10-2006-0071691호에는 오염 공기를 정화하는 공기정화장치가 제시되어 있는데, 이러한 종래의 공기정화장치는 슬라이딩 아크 플라즈마(sliding arc plasma)를 이용한 것으로, 오존보다 산화력이 더 강력한 라디컬을 발생시켜 오염 물질을 산화 분해하여 정화한다.
그러나 이와 같은 종래의 공기정화장치는, 아크 방전에 의해 불가피하게 NOx가 생성되는 문제, 생성된 아크 플라즈마 발생영역이 협소하기 때문에 분자/원 결합 에너지가 큰 케톤류 등의 악취 물질들을 탈취하는데 비교적 큰 에너지가 소요되는 문제 및 주기적으로 가변하는 슬라이딩 아크 전류 및 전압을 안정적으로 공급할 수 있는 전원 공급 장치가 구조적으로 매우 복잡하다는 문제를 가진다.
본 발명의 목적은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, DDBD 플라즈마에 의한 연소 정화 및 히드록실 라디컬 산화 정화를 동시에 수행함으로써 세균이나 곰팡이 등과 같은 미생물 및 VOCs 등과 같은 유해 화합물이 포함된 오염 가스를 보다 효과적으로 분해할 수 있는 DDBD 플라즈마 반응기, 이를 포함하는 정화 장치 및 이를 이용하는 정화 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 DDBD 플라즈마 반응기는, 다수의 관통홀이 형성된 튜브형 전극인 외부 전극; 상기 외부 전극 내부에 위치되는 봉형상의 전극인 내부 전극; 상기 내부 전극의 외주면을 둘러싸는 절연층; 및 상기 외부 전극 및 상기 내부 전극에 전력을 공급하는 전원;을 포함할 수 있다.
상기 절연층의 외주면에는 광촉매 물질로 코팅된 제1 광촉매 코팅층이 형성될 수 있다.
상기 외부 전극의 내주면에는 광촉매 물질로 코팅된 제2 광촉매 코팅층이 형성될 수 있다.
상기 광촉매 물질은 TiO2일 수 있다.
본 발명의 다른 실시 예에 따른 오염 가스를 정화하는 정화 장치는, 상기 DDBD 플라즈마 반응기가 다수 배열된 DDBD 플라즈마 반응층; 및 이온성 액체로 함침된 이온성 액체 함침 필터층;을 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 오염 가스를 정화하는 정화 방법은, DDBD 플라즈마 방전을 이용하여 플라즈마 연소 정화 및 히드록실 라디컬 산화 정화를 동시에 수행하는 단계; 및 이온성 액체를 이용하여 오염 물질을 제거하는 단계;를 포함할 수 있다.
상기 이온성 액체는 MeCN(acetonitrile), DMF(dimethyl formamide), DMSO(dimethyl sulfoxide) 및 DES(deep eutectic solvents)로 이루어진 그룹 중에서 선택된 적어도 하나일 수 있다.
본 발명의 DDBD 플라즈마 반응기, 이를 포함하는 정화장치 및 이를 이용한 정화방법에 따르면, DDBD 플라즈마 연소 정화 및 히드록실 라디컬 산화 정화를 동시에 수행함으로써 세균이나 곰팡이 등과 같은 유해 미생물 및 VOCs 등과 같은 유해 화합물이 포함된 오염 가스를 보다 효율적으로 분해할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 오염 가스 정화 장치를 도시한 개략도,
도 2는 본 발명에 따른 DDBD 플라즈마 반응기를 도시한 종단면도,
도 3은 도 2의 A-A'선에 따른 DDBD 플라즈마 반응기의 횡단면도,
도 4는 본 발명에 따른 DDBD 플라즈마 반응기가 카트리지 내에 다수 배열된 DDBD 플라즈마 반응층을 개략적으로 나타낸 평면도,
도 5는 본 발명에 따른 오염 가스 정화 방법을 나타낸 흐름도이다.
본 발명의 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면을 참조하여 후술되는 상세한 설명을 통해 더욱 명확해질 것이다. 명세서 전체에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 또는 "구비"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외한 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함하거나 구비할 수 있다는 것을 의미한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 자세히 설명한다. 도 1은 본 발명에 따른 오염 가스 정화 장치를 도시한 개략도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 오염 가스 정화 장치(10)는 오염 가스를 실시간으로 산화 분해하여 인체에 무해한 가스로 정화하는 장치로서, 전처리기(20), 오존 가스 발생기(30), 혼합기(40), DDBD 플라즈마 반응층(50), 흡착층(60), 이온성 액체 함침 필터층(70), 복합 흡착층(80), 광촉매 반응층(90), 올레핀 탄화수소 공급기(100) 및 송풍기(110)를 포함한다.
전처리기(20)는 전기 집진기, 원심 분리기, 소수성 필터 또는 유수 분리기를 이용하여 구성될 수 있으며, 그의 내부로 유입된 오염 가스에 포함된 분진, 수분 및 유분 등과 같은 액상 또는 고상 오염 물질을 일차적으로 제거하는 역할을 수행한다.
오존 가스 발생기(30)는 DBD(Dielectric Barrier Discharge) 방식의 연면 방전(surface discharge)을 이용한 저농도 오존 가스 발생기 또는 수냉식 고농도 오존 가스 발생기를 이용하여 구성될 수 있으며, 정화 처리될 오염 공기의 처리량에 따라 공기를 원료로 하여 오존 가스를 필요한 양만큼 생성하여 공급한다.
혼합기(40)는 오염 가스와 오존 가스를 혼합하여 접촉시키는 가스-가스 혼합 장치로서, 내부식성 고분자 물질이나 금속으로 이루어진 원통이나 사각 박스로 구성될 수 있다.
도 2는 본 발명에 따른 DDBD 플라즈마 반응기를 도시한 종단면도이고, 도 3은 도 2의 A-A'선에 따른 DDBD 플라즈마 반응기의 횡단면도이다.
도 2 및 3을 참조하면, DDBD(Double Dielectric Barrier Discharge) 플라즈마 반응기(51)는, 다수의 관통홀(through holes)(52)이 형성된 튜브형 외부 전극(53); 외부 전극(53)내에 배치되는 봉 형상의 내부 전극(54); 내부 전극(54)의 외주면에 위치되는 절연층(55); 및 외부 전극(53)과 내부 전극(54)에 전력을 공급하는 전원(56)을 포함하고, 절연층(55)의 외주면에는 광촉매 물질로 코팅된 제1 광촉매 코팅층(57)이 형성되어 있으며, 외부 전극(53)의 내주면에는 광촉매 물질로 코팅된 제2 광촉매 코팅층(58)이 형성되어 있다.
외부 전극(53)은 스테인레스 스틸이나 구리 등의 전도성 금속 플레이트를 이용하여 제조될 수 있는 튜브형 전극으로서, 외부 전극(53)의 내주면에는 TiO2와 같은 광촉매 물질로 코팅된 제2 광촉매 코팅층(58)이 형성되어 있다. 이때, 다수의 관통홀(52)이 차지하는 총면적은 외부 전극(53)의 전체 표면적의 대략 40~60%에 해당하는 면적일 수 있으며, 관통홀(52)의 형상은 원형, 사각형, 육각형, 슬롯(slot) 등으로 구현될 수 있다.
내부 전극(54)은 튜브형 외부 전극(53) 내부에 위치되는 봉 형상의 전극으로서, 스테인레스 스틸이나 구리 등과 같은 전도성 금속으로 이루어져 있다. 내부 전극(54)은 세라믹(특히, 용융 알루미나), 유리 또는 석영 등의 절연 물질로 이루어진 절연층(55)에 의해 둘러싸여 밀봉되어 있으며, 절연층(55)의 외주면에는 TiO2와 같은 광촉매 물질로 코팅된 제1 광촉매 코팅층(57)이 형성되어 있다.
이와 같이 구성된 본 발명의 DDBD 플라즈마 반응기(51)에 따르면, 절연층(55)의 외주면에 코팅된 제1 광촉매 코팅층(57) 및 외부 전극(53)의 내주면에 코팅된 제2 광촉매 코팅층(58) 사이에 플라즈마 생성 공간(59)이 형성되고, 그 공간(59) 내에서 이중 유전체 장벽 방전(DDBD)에 의해 플라즈마가 생성된다.
오염 가스는 다수의 관통홀(52)을 통해 플라즈마 생성 공간(59) 내로 유입되거나 그로부터 유출된다. 플라즈마 생성 공간(59) 내로 유입된 오염 가스는 DDBD 플라즈마에 의한 플라즈마 연소 정화 작용 및 자외선/광촉매에 의해 발생되는 히드록실 라디컬 산화 정화 작용를 통해 정화 처리된다.
구체적으로, 플라즈마 연소 정화 작용은, DDBD 플라즈마 방전에 의해 발생되는 고에너지 전자들이 오염 가스를 이온화시켜 다양한 플라즈마 반응종들(plasma reactive species)(예컨대, O, N, OH, HO2, O3, H2O2 등)을 생성시키고, 이들 반응종들 중 강력한 산화 환원력을 가진 반응종들이 오염 가스 내의 오염 물질을 순간적으로 산화시켜 인체에 무해한 물질로 전환시키는 작용을 말한다.
히드록실 라디컬 산화 정화 작용은, DDBD 플라즈마 방전시 발산되는 특정 대역의 자외선(예컨대, 300~400nm 파장 대역의 UVA 광)이 절연층의 외주면 및 외주 전극의 내주면에 각각 코팅 형성된 제1 및 제2 광촉매 코팅층(57, 58)에 조사되어 광촉매 반응을 일으켜 히드록실 라디컬을 발생시킴으로써 오염 가스에 포함된 포름알데히드(formaldehyde)나 VOCs(Volatile Organic Compounds: 휘발성 유기 화합물) 등과 같은 유해 물질을 인체에 무해한 H2O와 CO2 등으로 분해하는 작용을 말한다.
본 발명에 따른 DDBD 플라즈마 반응기(52)에 따르면, 플라즈마 연소 정화 작용 및 히드록실 라디컬 산화 정화 작용이 플라즈마 생성 공간(59) 내에서 동시에 수행될 수 있기 때문에, 오염 가스의 정화 처리가 보다 효율적으로 수행될 수 있다.
도 4는 본 발명에 따른 DDBD 플라즈마 반응기가 카트리지 내에 다수 배열된 DDBD 플라즈마 반응층을 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 4를 참조하면, DDBD 플라즈마 반응층(50)은 DDBD 플라즈마 반응기(51)가 카트리지(45) 내에 다수 설치되어 구성된다. 서로 이웃하는 2개의 DDBD 플라즈마 반응기(51) 사이에는 오염 공기가 DDBD 플라즈마 반응기(51)를 경유하지 않고 바이패스하여 유동하는 것을 방지하기 위한 우회 방지 파티션(by-pass preventing partition)(46)이 설치될 수 있다.
이러한 우회 방지 파티션(46)에 의해 오염 공기가 DDBD 플라즈마 반응기(51)에 의해 정화 처리되지 않고 바이패스하는 것을 사전에 방지할 수 있기 때문에, 오염 가스의 정화 처리가 보다 효율적으로 이루어질 수 있다.
또한, 다수의 DDBD 플라즈마 반응기(51)가 설치된 카트리지(45)는 하우징(47)에 착탈 가능하게 수납될 수 있기 때문에, DDBD 플라즈마 반응기(51) 각각의 개별적 교체나 유지보수가 간편하다는 이점이 있다.
흡착층(60)은 잔류 오존과 함께 분자량이 큰 VOCs도 흡착할 수 있도록 메조포러즈(mesoporous) 물질로 이루어져 있다.
이온성 액체 함침 필터층(70)은 제올라이트(zeolite) 흡착층을 이온성 액체에 함침시킴으로써 제조되며, 이때, MeCN(acetonitrile), DMF(dimethyl formamide), DMSO(dimethyl sulfoxide) 또는 DES(deep eutectic solvents)가 이온성 액체로서 이용될 수 있다.
이온성 액체 함침 필터층(70)은 전기화학적 분해의 의해 O2 -(superoxide) 라디컬을 생성하고, 이와 동시에 생성된 O2 - 라디컬을 이온성 액체 내에 용해시켜 O2 - 라디컬의 수명을 연장시킬 수 있고, 이에 따라 오염 가스의 정화 처리 효율이 대폭 향상될 수 있다.
복합 흡착층(80)은 이산화망간(MnO2)을 가진 활성탄을 이용하여 제조될 수 있으며, 그 외에도 제올라이트 또는 고농도 실리카를 함유하는 알루미늄 실리케이트 흡착제를 이용하여 제조될 수 있다. 이러한 복합 흡착층(80)은 미처리 오존 가스와 오염 물질을 제거한다.
광촉매 반응층(90)은 자외선 램프(91) 및 광촉매(예컨대, TiO2)로 코팅된 금속망(92)를 포함하여 구성될 수 있고, 광촉매 반응층(90)은 광촉매 반응을 통해 잔존 오존 가스와 오염 물질을 제거한다.
올레핀 탄화수소 공급기(100)는, 오존분해(ozonolysis) 반응을 유도하는 올레핀 계열의 액상 탄화수소를 저장하는 저장조; 및 저장된 탄화수소를 분무하는 분무노즐;을 구비한다. 올레핀 탄화수소 공급기(100)는 올레핀 계열의 액상 탄화수소의 오존 분해 반응을 이용하여 미처리 오존 가스의 대부분을 제거한다. 이때, 피톤치드(phytoncide)와 같은 천연 식물성 올레핀 탄화수소 물질을 이용하면 잔류 오존 제거 효과뿐만 아니라 탈취 효과도 함께 달성할 수 있다.
송풍기(110)는 최종적으로 정화 처리된 가스를 외기로 배출시킨다.
이제, 도 5에 도시된 오염 가스 정화 방법을 참조하여 본 발명에 따른 오염 가스 정화 장치를 이용하여 오염 가스를 정화하는 방법의 가장 바람직한 실시 예를 설명한다.
도 5를 참조하면, 오염 가스 정화 방법은, 오염 가스 전처리 단계(S100), 오염 가스 및 오존 가스를 혼합하는 단계(S200), DDBD 플라즈마 방전를 이용한 플라즈마 연소 정화 및 히드록실 라디컬 산화 정화를 동시 수행하는 단계(S300), 이온성 액체를 이용한 오염 물질 제거 단계(S400) 및 잔존 오염 물질 및 오존 가스를 제거하는 단계(S500)를 포함한다.
오염 가스 전처리 단계(S100)는 오염 가스 내에 함유된 분진, 수분, 유분 등과 같은 액상이나 고상의 오염 물질의 일부를 일차적으로 제거하는 단계를 말한다.
오염 가스 및 오존 가스를 혼합하는 단계(S200)는 전처리 단계(S100)에서 분진, 유분 등과 같은 오염 물질이 제거된 오염 가스 및 오존 가스 발생기(30)에 의해 생성된 오존 가스를 서로 혼합하여 접촉시키는 단계를 말한다.
DDBD 플라즈마를 이용한 플라즈마 연소 정화 및 히드록실 라디컬 산화 정화를 동시 수행하는 단계(S300)는, 상술한 본 발명의 DDBD 플라즈마 반응기(51)를 이용하여 오염 가스를 플라즈마 연소 정화하고 이와 동시에 히드록실 라디컬 산화 정화하는 단계로서, 구체적으로, 오염 가스를 DDBD 플라즈마 반응기(51)의 외부 전극(53)에 다수 형성된 관통홀(52)을 통해 플라즈마 생성 공간(59) 내로 유입시킨 후, 플라즈마 생성 공간(59) 내에서 DDBD 플라즈마 방전에 의해 생성되는 고에너지 전자들이 오염 가스를 이온화시켜 다양한 플라즈마 반응종들을 생성하여 오염 가스 내의 오염 물질을 산화시킴으로써 플라즈마 연소 정화를 수행하고, 이와 동시에 DBDD 플라즈마 방전시 발산되는 특정 대역의 자외선이 절연층(55)의 외주면 및 외부 전극(53)의 내주면에 각각 코팅 형성된 제1 및 제2 광촉매 코팅층(57, 58)에 조사되어 광촉매 반응을 일으켜 히드록실 라디컬을 발생시킴으로써 오염 가스에 포함된 포름알데히드나 VOCs와 같은 유해 물질을 인체에 무해한 H2O와 CO2 등으로 분해시키는 히드록실 라디컬 산화 정화를 수행하는 단계를 말한다.
단계(S300)에서는, 플라즈마 연소 정화 및 히드록실 라디컬 산화 정화를 동시 수행하여 오염 가스를 정화시키기 때문에, 오염 가스의 정화 처리가 보다 효율적으로 수행될 수 있다.
이온성 액체를 이용한 오염 물질 제거 단계(S400)는 이온성 액체, 예컨대 MeCN(acetonitrile), DMF(dimethyl formamide), DMSO(dimethyl sulfoxide) 및/또는 DES(deep eutectic solvents)를 이용하여 전기화학적 분해의 의해 O2 -(superoxide) 라디컬을 생성시키고, 생성된 O2 - 라디컬 및 잔류 오존 가스를 이온성 액체 내에 용해시켜 그 수명을 연장시킬 수 있다. 이에 의해 오염 가스의 정화 처리 효율이 크게 향상될 수 있다.
잔존 오염 물질 및 오존 가스를 제거하는 단계(S500)는, 앞서 설명한 복합 흡착층(80), 광촉매 반응층(90) 및 올레핀 탄화수소 공급기(100)를 이용하여 미처리된 잔존 오염 물질 및 오존 가스를 최종적으로 제거하는 단계를 말한다.
최종적으로 정화 처리된 가스는 송풍기(110)에 의해 외기로 배출된다.
이상, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 본 발명이 그에 한정되는 것은 아니고 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 범위 내에서 수정되거나 변경될 수 있다. 그러므로 본 발명의 범위는 상술한 실시 예에 국한되어 정해져서는 안되고 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 그에 균등한 것들에 의해 정해져야 할 것이다.
10: 오염 가스 정화 장치 20: 전처리기
30: 오존 가스 발생기 40: 혼합기
50: DDBD 플라즈마 반응층 60: 흡착층
70: 이온성 액체 함침 필터층 80: 복합 흡착층
90: 광촉매 반응층 100: 올레핀 탄화수소 공급기
110: 송풍기

Claims (8)

  1. 다수의 관통홀이 형성된 튜브형 전극인 외부 전극;
    상기 외부 전극 내부에 위치되는 봉형상의 전극인 내부 전극;
    상기 내부 전극의 외주면을 둘러싸는 절연층; 및
    상기 외부 전극 및 상기 내부 전극에 전력을 공급하는 전원을 포함하고,
    상기 절연층의 외주면에는 광촉매 물질로 코팅된 제1 광촉매 코팅층이 형성되고,
    상기 외부 전극의 내주면에는 광촉매 물질로 코팅된 제2 광촉매 코팅층이 형성되고,
    상기 광촉매 물질은 TiO2인
    플라즈마 반응기.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 오염 가스를 정화하는 정화 장치로서,
    제 1 항에 따른 플라즈마 반응기가 다수 배열된 플라즈마 반응층; 및
    이온성 액체로 함침된 이온성 액체 함침 필터층;
    을 포함하는 정화 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 이온성 액체는 MeCN(acetonitrile), DMF(dimethyl formamide), DMSO(dimethyl sulfoxide) 및 DES(deep eutectic solvents)로 이루어진 그룹 중에서 선택된 적어도 하나인
    정화 장치.
  7. 삭제
  8. 삭제
KR1020150147370A 2015-10-22 2015-10-22 Ddbd 플라즈마 반응기, 이를 포함하는 정화 장치 및 이를 이용하는 정화 방법 KR101666621B1 (ko)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108260269A (zh) * 2017-12-25 2018-07-06 罗璐 低温等离子发生装置及气体处理系统
CN108246059A (zh) * 2018-03-23 2018-07-06 鼎格环境科技（苏州）有限公司 挥发性有机物耦合净化装置
KR101993636B1 (ko) * 2018-04-30 2019-06-27 이충규 공기 정화 및 탈취장치
KR20200115910A (ko) * 2019-03-29 2020-10-08 유한회사 더프라임솔루션 아킹현상을 방지하는 저온 플라즈마 배출가스 입자상 물질 저감 장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100471107B1 (ko) * 2004-06-08 2005-03-14 한국기계연구원 저온 플라즈마 발생장치의 세라믹 전극봉의 제조방법 및이를 이용한 저 압력손실 및 저 에너지 밀도를 위한 저온플라즈마 발생장치
KR20140009922A (ko) * 2012-07-13 2014-01-23 주식회사 에스피텍 전극상에 도전체 돌출부를 갖는 유전체장벽 방전 방식의 플라즈마 발생 전극 구조체
KR101450699B1 (ko) * 2014-07-29 2014-10-16 신진유지건설 주식회사 하수처리장 슬러지의 악취제거시스템
KR20150111064A (ko) * 2014-03-25 2015-10-05 엘지전자 주식회사 플라즈마 전극장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100471107B1 (ko) * 2004-06-08 2005-03-14 한국기계연구원 저온 플라즈마 발생장치의 세라믹 전극봉의 제조방법 및이를 이용한 저 압력손실 및 저 에너지 밀도를 위한 저온플라즈마 발생장치
KR20140009922A (ko) * 2012-07-13 2014-01-23 주식회사 에스피텍 전극상에 도전체 돌출부를 갖는 유전체장벽 방전 방식의 플라즈마 발생 전극 구조체
KR20150111064A (ko) * 2014-03-25 2015-10-05 엘지전자 주식회사 플라즈마 전극장치
KR101450699B1 (ko) * 2014-07-29 2014-10-16 신진유지건설 주식회사 하수처리장 슬러지의 악취제거시스템

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108260269A (zh) * 2017-12-25 2018-07-06 罗璐 低温等离子发生装置及气体处理系统
CN108246059A (zh) * 2018-03-23 2018-07-06 鼎格环境科技（苏州）有限公司 挥发性有机物耦合净化装置
KR101993636B1 (ko) * 2018-04-30 2019-06-27 이충규 공기 정화 및 탈취장치
KR20200115910A (ko) * 2019-03-29 2020-10-08 유한회사 더프라임솔루션 아킹현상을 방지하는 저온 플라즈마 배출가스 입자상 물질 저감 장치
KR102197144B1 (ko) * 2019-03-29 2021-01-05 유한회사 더프라임솔루션 아킹현상을 방지하는 저온 플라즈마 배출가스 입자상 물질 저감 장치

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