KR101641132B1 - 샘플 입사광 조절이 가능한 3차원의 구강 스캔 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 입사광을 조절하여 균일한 반사광을 획득하는 구강 스캔 장치로서, 인가된 전류에 따라 광량이 조절되고, 피사체로 광을 조사하는 광원; 피사체로부터 반사된 반사광을 센싱하고 센싱 값을 산출하는 광 디텍터; 광 디텍터로부터 포화된 센싱 값을 전달받아 광원의 광량을 감소시키는 광 드라이버; 및 감소된 광량에 따른 반사광을 센싱한 광 디텍터로부터 센싱 값을 전달받아 피사체의 3차원 이미지를 생성하는 프로세서를 포함한다.
또한 본 발명은 입사광을 조절하여 균일한 반사광을 획득하는 구강 스캔 장치로서, 인가된 전류에 따라 광량이 조절되고, 피사체로 광을 조사하는 광원; 피사체로부터 반사된 반사광을 센싱하고 센싱 값을 산출하는 광 디텍터; 광원과 피사체의 경로상에 마련되고, 광 디텍터로부터 포화된 센싱 값을 전달 받아 상기 피사체로 조사되는 입사광을 감소시키는 필터부; 및 감소된 입사광에 따른 반사광을 센싱한 상기 광 디텍터로부터 센싱 값을 전달받아 피사체의 3차원 이미지를 생성하는 프로세서를 포함한다.
본 발명에 의하면, 반사광의 반사도가 다른 치아의 경우라도 균일한 반사광을 획득할 수 있는 이점이 있다.
또한 본 발명에 의하면, 광원 조절을 위해 광학계를 구동시키지 않기 때문에 구강스캐너의 크기를 줄일 수 있고, 소음 및 진동을 제거할 수 있다.

Description

샘플 입사광 조절이 가능한 3차원의 구강 스캔 장치 {SAMPLE INCIDENT BEAM ADJUSTABLE 3D INTRAORAL SCANNING APPARATUS}

본 발명은 치아의 영상을 정밀하게 획득하기 위한 구강 스캔 장치에 관한 것으로서, 특히 광을 출사하여 획득된 반사광을 정합하여 3차원의 구강 이미지를 생성하는 구강 스캔 장치에 관한 것이다.

3차원 구강 스캔 장치는, 디지털 인상채득 방법을 사용하여 구강 내 입체적 형상을 가지는 피사체를 촬영한다. 현재 인레이, 크라운, 브리지 등의 치과용 보철물의 제작 방법으로서는, 로스트 왁스법(lost wax process)에 의해 금속 재료나 세라믹스 재료를 주조해서 제작하는 방법이 채용되고 있다.

최근에는 로스트 왁스법을 대신하는 치과용 보철물의 제작 방법으로, 광학 3차원 카메라를 이용해서 치아 및 잇몸의 구강 내를 측정한 후, CAD/CAM 시스템을 이용해서 치과용 보철물을 설계 및 제작하는 시스템이 주목받고 있다.

이와 관련, 종래 특허 문헌으로 한국공개특허 제2011-0067976호는 광학계 구동부를 이용하여 광의 위치를 조절하여 피사체에 광을 조사하고, 광센싱부를 이용하여 대상 치아의 3차원 스캐닝 모델을 생성하는 구강 스캔 장치를 개시하고 있다. 광을 이용한 구강 스캔 장치는 구강 이미지를 획득하기 위해서 균일한 반사광을 획득한 후 정합해야 한다. 이를 위해 종래 기술은 균일한 반사광을 획득하기 위해 광학계 구동부를 이동시켜 광의 출사 위치를 제어하는 것을 특징으로 한다.

다만, 위와 같은 종래 기술은 광학계를 이동시켜 치아에 광을 조사하게 되는데 이는 구강스캐너의 크기가 커지고, 소음이 발생할 뿐만 아니라, 진동이 일어날 수 있다. 이를 해결하기 위해 환자들의 구강 내 반사도가 일정한 물질을 스프레이 방식으로 도포를 하는 종래 기술도 있으나, 이는 환자들의 불편함을 가중시키는 문제점이 있다.

한국공개특허 제2011-0067976호

본 발명은 반사도가 일정하지 않은 구강의 스캔시 균일한 반사광을 획득할 수 있도록 입사광을 조절하는 구강 스캔 장치를 제공하고자 한다.

또한 본 발명은 반사광의 포화된 센싱 값을 통해 입사광을 조절하는 구강 스캔 장치를 제공하고자 한다.

또한 본 발명은 반사광의 포화된 센싱 값을 피드백하고, 광원 자체의 세기를 조절하여 입사광의 세기를 조절하는 구강 스캔 장치를 제공하고자 한다.

또한 본 발명은 반사광의 포화된 센싱 값을 피드백하고, 광원에서 치아까지의 광 경로에서 입사광의 세기를 조절하는 구강 스캔 장치를 제공하고자 한다.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 입사광을 조절하여 균일한 반사광을 획득하는 구강 스캔 장치에 있어서, 인가된 전류에 따라 광량이 조절되고, 피사체로 광을 조사하는 광원; 피사체로부터 반사된 반사광을 센싱하고 센싱 값을 산출하는 광 디텍터; 광 디텍터로부터 포화된 센싱 값을 전달받아 광원의 광량을 감소시키는 광 드라이버; 및 감소된 광량에 따른 반사광을 센싱한 광 디텍터로부터 센싱 값을 전달받아 피사체의 3차원 이미지를 생성하는 프로세서를 포함하는 것을 일 특징으로 한다.

바람직하게, 광 드라이버는, 광원으로 인가되는 전류를 제어하여 광원의 광량을 감소시킬 수 있다.

또한 본 발명은, 입사광을 조절하여 균일한 반사광을 획득하는 구강 스캔 장치에 있어서, 인가된 전류에 따라 광량이 조절되고, 피사체로 광을 조사하는 광원; 피사체로부터 반사된 반사광을 센싱하고 센싱 값을 산출하는 광 디텍터; 광원과 피사체의 경로상에 마련되고, 광 디텍터로부터 포화된 센싱 값을 전달 받아 피사체로 조사되는 입사광을 감소시키는 필터부; 및 감소된 입사광에 따른 반사광을 센싱한 광 디텍터로부터 센싱 값을 전달받아 피사체의 3차원 이미지를 생성하는 프로세서를 포함하는 것을 다른 특징으로 한다.

바람직하게, 필터부는, 인가된 전류로 피사체로 조사되는 입사광을 감소시키는 가변 중성 농도 필터; 및 광 디텍터로부터 포화된 센싱 값을 전달받아 가변 중성 농도 필터를 제어하기 위한 전류를 인가하는 필터 드라이버를 포함할 수 있다.

바람직하게, 가변 중성 농도 필터는, 편광 레이어 구조의 필터가 하나 이상 적층되고, 필터 드라이버로부터 인가된 전류에 의해서 횡방향으로 회전되는 각도가 조절될 수 있다.

본 발명에 의하면, 입사광을 조절하여 반사도가 다른 치아의 경우라도 치아의 도포 없이도 균일한 반사광을 획득할 수 있는 이점이 있다.

또한 본 발명에 의하면, 포화된 센싱 값을 이용하여 광원 자체의 세기를 전기적으로 조절하여 균일한 반사광을 획득할 수 있으므로, 광학계의 추가적인 구동수단이 요구되지 않아 구강 스캔 장치의 크기를 줄일 수 있고, 소음 및 진동을 제거할 수 있다.

또한 본 발명에 의하면, 포화된 센싱 값을 이용하여 광원 자체의 세기를 조절하는 대신 광 경로상에서 입사광의 세기를 감소시켜 광학계의 추가적인 구동수단이 요구되지 않아 구강 스캔 장치의 크기를 줄일 수 있고, 소음 및 진동을 제거할 수 있다.

특히 포화된 센싱 값을 이용하는 기술에는 광 드라이버와 필터 드라이버가 사용되는데, 광 드라이버는 광원 자체의 세기를 조절하여 입사광을 감소시킬 수 있고, 필터 드라이버는 광 경로상에서 직접 입사광을 감소시킬 수 있다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른, 광 드라이버가 장착된 구강 스캔 장치를 도시한 모습이다.
도 2a는 본 발명의 실시예에 따른, 광 디텍터의 포화된 센싱 값의 측정 모습이다.
도 2b는 본 발명의 실시예에 따른, 광 디텍터의 광포화 모습이다.
도 2c는 본 발명의 실시예에 따른, 광 드라이버에 의해 광량이 조절된 모습이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른, 필터 드라이버가 장착된 구강 스캔 장치를 도시한 모습이다.

이하, 첨부된 도면들에 기재된 내용들을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 다만, 본 발명이 예시적 실시 예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 각 도면에 제시된 동일 참조부호는 실질적으로 동일한 기능을 수행하는 부재를 나타낸다.

본 발명의 목적 및 효과는 하기의 설명에 의해서 자연스럽게 이해되거나 보다 분명해 질 수 있으며, 하기의 기재만으로 본 발명의 목적 및 효과가 제한되는 것은 아니다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략하기로 한다.

본 발명의 실시예에서는 광 드라이버(50)에 의해 광원(10)의 세기를 조절할 수 있다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 광 드라이버(50)가 장착된 구강 스캔 장치(1)를 도시한 모습이다. 도 1을 참조하면, 구강 스캔 장치(1)는 광원(10), 광 디텍터(30), 광 드라이버(50), 프로세서(90), 패턴 마스크(105), 압전판(103), 빔 스플리터(107) 및 렌즈부(80)로 구성될 수 있다.

광원(10)은 인가된 전류에 따라 광량이 조절된다. 광원(10)은 Red, Green, Blue LED, White LED 및 LD를 사용할 수 있다

광 디텍터(30)는 광원(10)의 출사광이 피사체로 조사되어 반사된 모든 반사광(303)을 센싱하고, 모든 반사광(303)의 센싱 값을 산출한다. 피사체로부터 반사된 반사광(303), 즉 빔 스플리터(107)를 통과한 반사광(303)의 이미지를 촬영할 수 있다. 광 디텍터(30)는 촬영된 이미지를 전기적 신호로 변환시켜 프로세서(90)에 전송할 수 있다. 광 디텍터(30)는 위상 시프트법이나 공간 코드화법으로 대표되는 비접촉 3차원 측정이 가능한 CMOS 이미지 센서를 사용할 수 있다.

광 드라이버(50)는 광 디텍터(30)의 센싱 값의 포화 여부에 따라 광 디텍터(30)로부터 광포화 신호를 인가받아 광원(10)의 세기를 조절한다. 광 드라이버(50)는 인가되는 전류를 제어하여 광원(10)의 광량을 감소시킬 수 있다.

도 2a는 본 발명의 실시예에 따른, 광 디텍터(30)의 포화된 센싱 값의 측정 모습이다. 도 2a를 참조하면, 광 디텍터(30)는 피사체에서 반사되는 반사광(303)을 촬영하여 전기적 신호인 센싱 값으로 변환시킨다. 이때 광량이 한계 값을 넘어가는 경우, 광 디텍터(30)는 포화된 센싱 값을 산출하게 된다.

도 2b는 본 발명의 실시예에 따른, 광 디텍터(30)의 광포화 모습이다. 도 2b를 참조하면, 반사광(303)의 센싱 값을 진폭으로 나타낸 그래프이다. 진폭이 한계 파워를 넘어가게 되는 경우 광포화가 일어나 광 디텍터(30)에서 이미지를 생성할 수 없게 된다. 따라서 광 디텍터(30)에서는 광포화 신호를 광 드라이버(50)에 인가하여 광원(10)의 세기를 조절한다.

도 2c는 본 발명의 실시예에 따른, 광 드라이버(50)에 의해 광량이 조절된 모습이다. 도 2c를 참조하면, 광 드라이버(50)는 도 2b에 나타낸 센싱 값의 진폭을 낮춘다. 광 드라이버(50)는 광원(10)으로 인가되는 전류를 제어하고, 포화된 센싱 값의 진폭을 포화되지 않도록 하여 광 디텍터(30)에서 균일한 반사광을 획득할 수 있다.

프로세서(90)는 광 디텍터(30)에서 촬영된 이미지를 전송받을 수 있다. 프로세서(90)는 무선 전송장치를 포함할 수 있고, 이미지를 무선으로 전송받을 수도 있다. 프로세서(90)는 광 디텍터(30)에서 촬영된 적어도 하나 이상의 이미지를 전송받을 수 있고, 전송받은 이미지를 정합하여 3차원 이미지로 표현할 수 있다.

패턴 마스크(105)는 입사된 평행광을 구조광으로 변환시킬 수 있다. 본 발명의 실시예에 있어 구조광은 입사광(301)이라 한다.

입사광(301)은 인식 대상체에 조사되는 광으로 특정한 패턴을 가지고 있는 빛을 말한다. 입사광(301)은 피사체의 2차원 스캐닝을 하기 위해 패턴 마스크(105)를 통과한 빛을 말한다. 입사광(301)의 패턴을 구성하는 방식은 여러 가지가 있으나, 본 발명에서 사용하는 방식은 패턴 마스크(105)의 이동을 통해 입사광(301)을 형성하는 방법이다. 입사광(301)은 격자 패턴의 균일한 밝기를 가질 수 있다.

패턴 마스크(105)는 투광 라인과 차광 라인이 교대로 반복 배열될 수 있다. 투광 라인과 차광 라인은 세로방향으로 구성될 수 있다. 패턴 마스크(105)는 세로방향으로 일정 간격을 두고 구성되어 레이저 광이 통과하면 광을 패턴 형태로 만들 수 있다.

압전판(103)은 인가된 교류전압으로 표면에 기계적 진동이 발생될 수 있다. 또한 압전판(103)은 표면에 발생된 기계적 진동으로 패턴 마스크(105)를 압전판(103)의 길이 방향으로 이동시킬 수 있다. 길이 방향이란 압전판(103)이 신장된 방향을 말한다. 패턴 마스크(105)는 압전판(103)이 신장된 방향인 길이 방향으로 압전판(103)에 의해 일정 범위 안에서 움직일 수 있다.

압전판(103)은 압전 세라믹스의 압전효과를 이용한 것으로, 그 자체로서는 사용할 수 없고 원하는 방향으로 전계를 인가하면 진동을 일으키는 특성이 있다. 전원부(101)의 전압을 인가받아 구동될 수 있다. 교류는 일반적인 가정용 교류 전압이나 주기 함수를 가지는 펄스 형태의 교류 전압도 포함할 수 있다. 또한 교류 전압의 세기와 인가방향에 따라 압전판(103)의 제어가 가능하며, 높은 토크와 저속을 필요로 하는 본 발명에 사용될 수 있다.

압전판(103)은 인가된 교류 전압으로 표면에 기계적 진동이 발생되는 PZT 세라믹 소자로 제공될 수 있다. PZT(티탄산지르콘납 : Plumbum Ziconate Titanate)는 적절한 압전 특성을 가지며, 압전체 구조에서 에너지 변환 물질로 사용된다.

압전판(103)은 신장된 길이의 판 형상일 수 있으며, 본 실시예에서는 패턴 마스크(105)를 이동시키는 역할을 한다. 탄성체인 세라믹스 소자로 이루어진 압전판(103)은 전계를 인가하면 분극 방향에 따라서 전계와 직각방향으로 기계적인 신장과 수축이 일어난다. 압전판(103)에 교류전압이 인가되면 기계적 진동이 정현파의 형태로 여진될 수 있다. 그 결과 패턴 마스크(105)는 진동을 일으키며 일정 범위 내에서 동일한 주기를 가지고 움직일 수 있다. 본 실시예에서는 100㎛ 주기를 가지고 움직일 수 있다.

따라서 광원(10)이 일정할 때 패턴 마스크(105)가 주기적으로 움직이게 되면 광 디텍터(30)에서는 특정 위치의 이미지를 획득할 수 있다.

빔 스플리터(107)는 빛의 파장과 빛의 세기에 따라 입사광(301)을 나눌 수 있다. 입사한 입사광(301)은 빔 스플리터(107)를 통과하여 렌즈부(80)로 입사될 수 있다. 빔 스플리터(107)는 입사광(301)의 일부는 반사하고, 다른 부분은 투과하는 반사경 또는 기타의 광학 장치로 이루어질 수 있다. 결정의 복굴절성을 이용하여 진동 방향이 서로 직각인 두 출사광을 얻도록 할 수 있다.

렌즈부(80)는 전압으로 초점 거리를 조절할 수 있는 가변 초점 렌즈(801), 입사광(301)의 초점을 모아주는 포커싱 렌즈(803) 및 입사광(301)을 피사체 방향으로 반사시키는 반사 거울(805)을 포함할 수 있다.

렌즈부(80)는 입사광(301)과 피사체 사이에 위치하여, 입사광(301)이 피사체에 도달될 수 있도록 그 경로를 제공하고, 입사광(301)의 초점거리를 조절하여 치아의 이미지 형상을 얻도록 조절될 수 있다

가변 초점 렌즈(801)는 초점거리가 감소된 입사광(301)이 입사될 수 있고, 가변 초점 렌즈(801)는 전압으로 제어될 수 있다. 가변 초점 렌즈(801)는 액체로 구성될 수 있으며, 액체는 전해액으로 구성될 수 있다.

가변 초점 렌즈(801)는 절연성의 액체와 전도성의 액체로 구성될 수 있으며, 인가되는 구동 전압의 세기에 따라 절연성의 액체와 전도성의 액체의 분포가 달라지며 초점 거리를 가변시킬 수 있다. 가변 초점 렌즈(801)는 인가되는 구동 전압의 세기에 따라 전해액으로 이루어진 인터페이스 곡률을 변화시킬 수 있고, 이를 통해 렌즈의 초점거리를 가변 시킬 수 있다.

가변 초점 렌즈(801)는 전도성의 제1 액체층과 절연성의 제2 액체층 및 전압이 인가되는 복수의 전극을 포함할 수 있다. 가변 초점 렌즈(801)는, 복수의 전극에 전압이 인가되면 평행하게 배열된 제1 액체층과 제2 액체층이 조절되어 감소된 초점 거리가 제어될 수 있다. 본 실시예에서는 제1 액체층과 제2 액체층 및 복수의 전극을 포함하나 이에 한정되는 것은 아니다. 추가적으로 복수의 전도성 액체층과 절연성 액체층 및 저항층이 포함될 수 있다.

제1 액체층과 제2 액체층은 가변 초점 렌즈(801)의 표면과 평행하게 배열될 수 있고, 복수의 전극은 가변 초점 렌즈(801)의 둘레에 배열되어 전압이 인가되면 제1 액체층과 제2 액체층의 내부 구성요소의 배열을 조절할 수 있다.

가변 초점 렌즈(801)를 삽입함으로서, 구강 스캔 장치(1)가 더 콤팩트화 되고 기구적인 움직임을 줄일 수 있는 장점이 있다. 이는 제조비용이 높은 기구적인 액추에이터가 필요 없다는 것 외에 무브먼트(Movement: 기구적인 움직임)가 적어져, 구강 스캔 장치(1)에 먼지가 들어가는 것을 감소 시킬 수 있다. 또한, 글라스(Glass) 렌즈보다 훨씬 가벼우며 효율적인 소비전력, 수 ㎳의 빠른 응답속도를 가질 수 있다.

가변 초점 렌즈(801)는 치아를 정밀하게 스캔하기 위해 적절한 전압으로 초점거리를 조절할 수 있다. 가변 초점 렌즈(801)는 치아의 윗면에서 또는 아랫면에서 스캔을 시작할 수 있도록 조절될 수 있다.

반사 거울(805)은 패턴 마스크(105)를 통과한 입사광(301)을 피사체에 반사시킬 수 있다. 반사 거울(805)의 반사 각도는 45°로 할 수 있다.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른, 필터 드라이버(701)가 장착된 구강 스캔 장치(1)를 도시한 모습이다. 도 3을 참조하면, 구강 스캔 장치(1)는 광원(10), 광 디텍터(30), 필터부(70), 프로세서(90), 패턴 마스크(105), 압전판(103), 빔 스플리터(107) 및 렌즈부(80)로 구성될 수 있다.

도 3은 도 1과 구성요소에 있어 광 드라이버(50) 대신 필터부(70)로 대체되는 차이가 있다. 따라서 전술한 바와 같이, 필터부(70)를 제외하고는 동일한 구성이므로, 필터부(70)에 의한 광량 조절에 대해서만 후술한다.

필터부(70)는 광원(10)과 피사체의 경로상에 마련되고, 광 디텍터(30)로부터 포화된 센싱 값을 전달 받아 피사체로 조사되는 입사광(301)을 감소시킬 수 있다.

필터부(70)는, 인가된 전류로 상기 입사광(301)을 조절하는 가변 중성 농도 필터(703) 및 광 디텍터(30)로부터 포화된 센싱 값을 전달받아 가변 중성 농도 필터(703)로 전류를 인가하는 필터 드라이버(701)를 포함할 수 있다.

가변 중성 농도 필터(703)는, 필터 드라이버(701)에 연결되어 있고, 광원(10)의 광량을 직접적으로 조절하여 피사체로 조사되는 입사광(301)을 감소시킬 수 있다. 가변 중성 농도 필터(703)는, 편광 레이어 구조의 필터를 하나 이상 적층할 수 있다. 편광 레이어 구조의 필터는, 필터 드라이버(701)로부터 인가된 전류에 의해서 횡방향으로 회전되는 각도가 조절되어 상기 입사광(301)을 조절할 수 있다.

가변 중성 농도 필터(703)는, 편광 레이저 구조의 필터는 렌즈사이에 편광막이라는 아주 얇은 막을 포함할 수 있고, 반사광선을 차단하면서 자연광선을 통과 시킬 수 있다. 주위 사물로부터 반사되는 광선을 차단하여 사물을 보다 편하고 선명하게 볼 수 있게 해준다. 본 발명의 실시예에서는 광원(10)의 광량을 직접적으로 조절할 수 있다. 인가된 전류에 의해 필터는 회전을 하게 되고, 회전을 하는 각도만큼 투과되는 광량이 조절될 수 있다. 필터는 필터 드라이버(701)에서 인가되는 전류에 의해 회전되는 각도가 결정되고, 결국 입사광(301)이 조절될 수 있다.

필터 드라이버(701)는 전술한 광 드라이버(50)와 마찬가지로, 광 디텍터(30)의 센싱 값의 포화 여부에 따라 광 디텍터(30)로부터 광포화 신호를 인가받을 수 있다. 광 디텍터(30)의 센싱 값이 포화되지 않는 경우, 필터 드라이버(701)는 가변 중성 농도 필터(703)를 제어하지 않고 광원(10)을 통과하게 할 수 있다. 광 디텍터(30)의 센싱 값이 포화되는 경우, 필터 드라이버(701)는 가변 중성 농도 필터(703)로 전류를 인가할 수 있고, 인가되는 전류를 제어하여 광원(10)의 광량을 감소시킬 수 있다.

본 발명의 실시예에 따르면, 필터부(70)와 광 드라이버(50)를 통해 입사광(301)의 세기 조절을 할 수 있다. 광학계의 구동이 요구되지 않고, 포화된 센싱 값으로 균일한 반사광(303)을 얻을 수 있는 구강 스캔 장치(1)의 제공이 가능할 수 있다.

이상에서 대표적인 실시예를 통하여 본 발명을 상세하게 설명하였으나, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 상술한 실시예에 대하여 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 변형이 가능함을 이해할 것이다. 그러므로 본 발명의 권리 범위는 설명한 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 특허청구범위와 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태에 의하여 정해져야 한다.

1 : 구강 스캔 장치
10 : 광원 30 : 광 디텍터
50 : 광 드라이버 70 : 필터부
80 : 렌즈부 90 : 프로세서
101 : 전원부 103 : 압전판
105 : 패턴 마스크 107 : 빔 스플리터
301 : 입사광 303 : 반사광
701 : 필터 드라이버 703 : 가변 중성 농도 필터
801 : 가변 초점 렌즈 803 : 포커싱 렌즈
805 : 반사 거울

Claims (5)

1. 입사광을 조절하여 균일한 반사광을 획득하는 구강 스캔 장치에 있어서,
   인가된 전류에 따라 광량이 조절되고, 피사체로 광을 조사하는 광원;
   상기 피사체로부터 반사된 반사광을 센싱하고 센싱 값을 산출하는 광 디텍터;
   상기 광 디텍터로부터 포화된 센싱 값을 전달받아 상기 광원의 광량을 감소시키는 광 드라이버; 및
   감소된 광량에 따른 반사광을 센싱한 상기 광 디텍터로부터 센싱 값을 전달받아 피사체의 3차원 이미지를 생성하는 프로세서를 포함하는 구강 스캔 장치.
   
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 광 드라이버는,
   상기 광원으로 인가되는 전류를 제어하여 상기 광원의 광량을 감소시키는 것을 특징으로 하는 구강 스캔 장치.
   
3. 입사광을 조절하여 균일한 반사광을 획득하는 구강 스캔 장치에 있어서,
   인가된 전류에 따라 광량이 조절되고, 피사체로 광을 조사하는 광원;
   상기 피사체로부터 반사된 반사광을 센싱하고 센싱 값을 산출하는 광 디텍터;
   상기 광원과 상기 피사체의 경로상에 마련되고, 상기 광 디텍터로부터 포화된 센싱 값을 전달 받아 상기 피사체로 조사되는 입사광을 감소시키는 필터부; 및
   감소된 입사광에 따른 반사광을 센싱한 상기 광 디텍터로부터 센싱 값을 전달받아 피사체의 3차원 이미지를 생성하는 프로세서를 포함하는 구강 스캔 장치.
   
4. 제 3 항에 있어서,
   상기 필터부는,
   인가된 전류로 상기 피사체로 조사되는 입사광을 감소시키는 가변 중성 농도 필터; 및
   상기 광 디텍터로부터 포화된 센싱 값을 전달받아 상기 가변 중성 농도 필터를 제어하기 위한 전류를 인가하는 필터 드라이버를 포함하는 구강 스캔 장치.
   
5. 제 4 항에 있어서,
   상기 가변 중성 농도 필터는,
   편광 레이어 구조의 필터가 하나 이상 적층되고,
   상기 필터는,
   상기 필터 드라이버로부터 인가된 전류에 의해서 횡방향으로 회전되는 각도가 조절되는 것을 특징으로 하는 구강 스캔 장치.

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