KR101640558B1 - Heating apparatus of linear type vacuum effusion cell - Google Patents

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Abstract

본 발명은 복수의 노즐에서 나오는 박막 형성용 물질의 증발율을 구간별로 서로 일정하게 유지시키거나 의도적으로 서로 다르게 조절할 수 있도록 한 선형 진공 증발원의 가열 장치를 제공하는 것이 그 기술적 과제이다. 이를 위해, 본 발명의 선형 진공 증발원의 가열 장치는, 양측으로 길다란 형상의 선형 도가니와, 상기 선형 도가니의 상면에 그 길이 방향을 따라 간격을 두고 구비되는 복수의 노즐을 포함한 선형 진공 증발원의 가열 장치로, 상기 선형 도가니의 측면을 그 길이 방향으로 복수의 구간으로 구분하여 상기 복수의 구간에 각각 위치되는 복수의 히터; 상기 복수의 구간에 각각 위치되어 상기 복수의 노즐 중 상기 복수의 구간 각각에 놓인 하나 이상의 노즐에서 나오는 박막 형성용 물질의 증발율을 검출하는 복수의 센서; 및 상기 복수의 센서에서 검출되는 각각의 증발율이 서로 일정하게 유지되거나 서로 다르게 되도록 상기 복수의 히터를 제어하는 제어부를 포함한다.It is a technical object of the present invention to provide a heating apparatus for a linear vacuum evaporation source in which evaporation rates of materials for forming thin films from a plurality of nozzles can be constantly maintained or may be intentionally different from each other. To this end, the heating apparatus for a linear vacuum evaporation source of the present invention comprises a linear crucible having an elongated shape on both sides and a plurality of nozzles provided on an upper surface of the linear crucible with a gap therebetween in the longitudinal direction, A plurality of heaters located in the plurality of sections, each of the heaters being divided into a plurality of sections in a longitudinal direction of the side surface of the linear crucible; A plurality of sensors each located in the plurality of sections and detecting the evaporation rate of the thin film forming material from at least one of the plurality of nozzles lying in each of the plurality of sections; And a controller for controlling the plurality of heaters so that the respective evaporation rates detected by the plurality of sensors are kept constant or different from each other.

Description

선형 진공 증발원의 가열장치{Heating apparatus of linear type vacuum effusion cell}Technical Field The present invention relates to a heating apparatus for a linear vacuum evaporation source,

본 발명은 기판 상에 박막을 형성하기 위해 사용되는 진공 증발원에 관한 것이다.The present invention relates to a vacuum evaporation source used for forming a thin film on a substrate.

일반적으로, 진공 증발원은 고진공의 챔버 내에 배치된 기판상에 소정의 박막을 형성하기 위하여 박막 형성용 물질을 가열하여 증발시키는 것으로, 반도체 제조 공정에서 웨이퍼 표면에 특정 물질로 이루어진 박막을 형성하거나, 대형 평판 디스플레이 장치의 제조 공정에서 유리 기판 등의 표면에 원하는 물질의 박막을 형성하는 데 사용되고 있다.In general, a vacuum evaporation source is a device for heating and evaporating a thin film forming material to form a predetermined thin film on a substrate disposed in a chamber of high vacuum, thereby forming a thin film made of a specific material on the wafer surface in a semiconductor manufacturing process, And is used to form a thin film of a desired substance on the surface of a glass substrate or the like in a manufacturing process of a flat panel display device.

이러한 진공 증발원은 박막 형성용 물질이 담기는 도가니와, 도가니를 가열하는 히터를 포함한다. 특히, 진공 증발원은 도가니의 형상에 따라 원통형과 선형으로 구분된다.Such a vacuum evaporation source includes a crucible containing a thin film forming material and a heater for heating the crucible. In particular, the vacuum evaporation source is divided into a cylindrical shape and a linear shape depending on the shape of the crucible.

도 1은 종래의 선형 진공 증발원을 개략적으로 나타낸 사시도이다.1 is a perspective view schematically showing a conventional linear vacuum evaporation source.

종래의 선형 진공 증발원은, 도 1에 도시된 바와 같이, 박막 형성용 물질이 담기며 양측으로 길다란 형상을 가지는 선형 도가니(10)와, 선형 도가니(10)를 가열하기 위해 선형 도가니(10)의 외부 측면을 감싸며 단일 구조물로 이루어진 히터(30)와, 그리고 선형 도가니(10)의 상면에 그 길이 방향을 따라 간격을 두어 구비되어 가열된 박막 형성용 물질을 분사시키는 복수의 노즐(20)을 포함한다. 따라서, 히터(30)에 의해 가열된 박막 형성용 물질은 복수의 노즐(20)을 통해 분사되어 기판(미도시)에 증착된다.1, a conventional linear vacuum evaporation source includes a linear crucible 10 containing a thin film forming material and having an elongated shape on both sides, and a linear crucible 10 for heating a linear crucible 10 to heat the linear crucible 10 And a plurality of nozzles 20 provided on the upper surface of the linear crucible 10 at intervals along the longitudinal direction to inject the heated thin film forming material do. Therefore, the thin film forming material heated by the heater 30 is injected through the plurality of nozzles 20 and is deposited on the substrate (not shown).

하지만, 선형 도가니(10)의 측면을 그 길이 방향으로 복수의 구간으로 구분할 경우, 히터(30)에 의해 가열되는 동안 초기에는 박막 형성용 물질이 복수의 노즐(20)을 통해서 구간별로 균일하게 분사되다가 장시간 분사시키게 되면 유기물 같은 경우 각 노즐(20)에 남아 있는 양이 달라지거나 남아있는 물질의 형태에 따라 복수의 노즐(20)을 통해서 나오는 양이 구간별로 시간에 따라 달라져, 박막 형성용 물질이 불균일하게 기판에 증착되는 문제가 있다.However, when the side surface of the linear crucible 10 is divided into a plurality of sections in the longitudinal direction thereof, the thin film forming material is uniformly injected through the plurality of nozzles 20 during the heating period by the heater 30, The amount of the material remaining in each nozzle 20 varies depending on the shape of the remaining material, and the amount of the material discharged through the plurality of nozzles 20 varies with time according to the shape of the remaining material, There is a problem that the film is deposited unevenly on the substrate.

본 발명의 기술적 과제는, 복수의 노즐에서 나오는 박막 형성용 물질의 증발율을 구간별로 서로 일정하게 유지시키거나 의도적으로 서로 다르게 조절할 수 있도록 한 선형 진공 증발원의 가열 장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a heating apparatus for a linear vacuum evaporation source in which evaporation rates of thin film forming materials from a plurality of nozzles can be constantly maintained or can be controlled intentionally.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 선형 진공 증발원의 가열 장치는, 양측으로 길다란 형상의 선형 도가니와, 상기 선형 도가니의 상면에 그 길이 방향을 따라 간격을 두고 구비되는 복수의 노즐을 포함한 선형 진공 증발원의 가열 장치로, 상기 선형 도가니의 측면을 그 길이 방향으로 복수의 구간으로 구분하여 상기 복수의 구간에 각각 위치되는 복수의 히터; 상기 복수의 구간에 각각 위치되어 상기 복수의 노즐 중 상기 복수의 구간 각각에 놓인 하나 이상의 노즐에서 나오는 박막 형성용 물질의 증발율을 검출하는 복수의 센서; 및 상기 복수의 센서에서 검출되는 각각의 증발율이 서로 일정하게 유지되거나 서로 다르게 되도록 상기 복수의 히터를 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 복수의 구간은, 상기 선형 도가니의 측면 중 상부에 해당하는 복수의 상부 구간; 및 상기 선형 도가니의 측면 중 하부에 해당하는 복수의 하부 구간을 더 포함하고, 상기 복수의 히터는, 상기 복수의 상부 구간에 각각 위치되는 상부 히터; 및 상기 복수의 하부 구간에 각각 위치되는 하부 히터를 포함하고, 상기 각각의 상부 히터와 상기 각각의 하부 히터는, 서로 분리되며 상기 제어부를 통해 개별 제어된다.In order to achieve the above object, a heating apparatus for a linear vacuum evaporation source according to an embodiment of the present invention includes a linear crucible having an elongated shape on both sides, a plurality of nozzles provided on an upper surface of the linear crucible, A plurality of heaters respectively disposed in the plurality of sections such that a side surface of the linear crucible is divided into a plurality of sections in a longitudinal direction of the linear crucible; A plurality of sensors each located in the plurality of sections and detecting the evaporation rate of the thin film forming material from at least one of the plurality of nozzles lying in each of the plurality of sections; And a controller for controlling the plurality of heaters so that the respective evaporation rates detected by the plurality of sensors are kept constant or different from each other, wherein the plurality of sections include a plurality of sections corresponding to the upper part of the side of the linear crucible Upper section; And a plurality of lower sections corresponding to a lower one of the side surfaces of the linear crucible, wherein the plurality of heaters include upper heaters positioned respectively in the plurality of upper sections; And a lower heater positioned in each of the plurality of lower sections, wherein the upper heater and the lower heater are separated from each other and individually controlled through the control section.

상기 복수의 상부 구간 각각에 2개 이상의 노즐이 위치될 경우, 상기 복수의 센서 각각은, 상기 2개 이상의 노즐을 일괄적으로 검출할 수 있다.When two or more nozzles are positioned in each of the plurality of upper sections, each of the plurality of sensors can collectively detect the two or more nozzles.

상기 복수의 상부 구간은 제1 및 제2 구간을 포함하고, 상기 복수의 상부 히터는, 상기 제1 구간에 위치되는 제1 히터; 및 상기 제2 구간에 위치되는 제2 히터를 포함하고, 상기 복수의 센서는, 상기 제1 구간에 위치되는 제1 센서; 및 상기 제2 구간에 위치되는 제2 센서를 포함할 수 있고, 이 경우 상기 제어부는, 상기 복수의 센서에서 검출되는 각각의 증발율을 서로 일정하게 유지하기 위해, 상기 제1 센서에서 검출된 증발율이 상기 제2 센서에서 검출된 증발율 보다 상대적으로 낮으면, 상기 제1 히터의 온도를 상기 제2 히터의 온도에 비해 상대적으로 높게 제어할 수 있다.Wherein the plurality of upper sections include first and second sections, the plurality of upper heaters include: a first heater positioned in the first section; And a second heater positioned in the second section, wherein the plurality of sensors includes: a first sensor positioned in the first section; And a second sensor positioned in the second section. In this case, in order to keep the respective evaporation rates detected by the plurality of sensors constant, the evaporation rate detected by the first sensor is The temperature of the first heater can be controlled to be relatively higher than the temperature of the second heater when the evaporation rate is relatively lower than the evaporation rate detected by the second sensor.

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이상에서와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 선형 진공 증발원의 가열 장치는 다음과 같은 효과를 가질 수 있다.As described above, the heating apparatus of the linear vacuum evaporation source according to the embodiment of the present invention can have the following effects.

본 발명의 실시예에 의하면, 선형 도가니의 측면을 그 길이 방향으로 복수의 구간으로 구분하여, 복수의 히터와, 복수의 센서와, 그리고 제어부를 포함하는 기술구성을 제공하므로, 복수의 노즐에서 나오는 박막 형성용 물질의 증발율을 구간별로 서로 일정하게 유지시킬 수도 있고 의도적으로 서로 다르게 조절할 수도 있다.According to the embodiment of the present invention, since the side surface of the linear crucible is divided into a plurality of sections in the longitudinal direction thereof, and a technical configuration including a plurality of heaters, a plurality of sensors, and a control section is provided, The evaporation rate of the thin film forming material may be kept constant from one section to another or may be intentionally controlled to be different from each other.

도 1은 종래의 선형 진공 증발원을 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 진공 증발원의 가열 장치가 선형 진공 증발원에 적용된 상태를 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 3은 도 1의 선형 진공 증발원의 가열 장치를 나타낸 블록도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 선형 진공 증발원의 가열 장치가 선형 진공 증발원에 적용된 상태를 개략적으로 나타낸 사시도이다.1 is a perspective view schematically showing a conventional linear vacuum evaporation source.
FIG. 2 is a perspective view schematically showing a state in which a heating apparatus for a linear vacuum evaporation source according to an embodiment of the present invention is applied to a linear vacuum evaporation source. FIG.
3 is a block diagram showing a heating apparatus of the linear vacuum evaporation source of FIG.
4 is a perspective view schematically showing a state in which a heating apparatus for a linear vacuum evaporation source according to another embodiment of the present invention is applied to a linear vacuum evaporation source.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be readily apparent to those skilled in the art to which the present invention pertains. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 선형 진공 증발원의 가열 장치가 선형 진공 증발원에 적용된 상태를 개략적으로 나타낸 사시도이고, 도 3은 도 1의 선형 진공 증발원의 가열 장치를 나타낸 블록도이다.FIG. 2 is a perspective view schematically showing a state in which a heating apparatus for a linear vacuum evaporation source according to an embodiment of the present invention is applied to a linear vacuum evaporation source, and FIG. 3 is a block diagram showing a heating apparatus for the linear vacuum evaporation source in FIG.

본 발명의 일 실시예에 따른 선형 진공 증발원의 가열 장치는, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 양측으로 길다란 형상의 선형 도가니(10)와, 선형 도가니(10)의 상면에 그 길이 방향을 따라 간격을 두고 구비되는 복수의 노즐(20)을 포함한 선형 진공 증발원의 가열 장치로, 복수의 히터(110)와, 복수의 센서(120)와, 그리고 제어부(130)를 포함한다. 이하, 도 2 및 도 3을 계속 참조하여, 각 구성요소에 대해 상세히 설명한다.As shown in FIGS. 2 and 3, the heating apparatus for a linear vacuum evaporation source according to an embodiment of the present invention includes a linear crucible 10 having an elongated shape on both sides, A plurality of sensors 120 and a control unit 130. The heating unit 110 includes a plurality of nozzles 20 spaced apart from one another at a predetermined interval. Hereinafter, each component will be described in detail with continued reference to Figs. 2 and 3. Fig.

복수의 히터(110)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 선형 도가니(10)의 측면을 그 길이 방향으로 복수의 구간(P)으로 구분하여 이 복수의 구간(P)에 각각 위치된다. 예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, 복수의 히터(110) 각각은 와이어 타입(wire type)의 히터일 수 있으며, 와이어 타입의 경우 상하 방향으로 여러 번 벤딩(bending)되어 이루어질 수 있다.2, the plurality of heaters 110 are respectively located in the plurality of sections P by dividing the side surface of the linear crucible 10 into a plurality of sections P in the longitudinal direction thereof. For example, as shown in FIG. 2, each of the plurality of heaters 110 may be a wire type heater, and in the case of a wire type, the heaters 110 may be bent several times in the vertical direction.

나아가, 도 2에 도시된 바와 같이, 복수의 구간(P)이 제1, 제2, 제3 및 제4 구간(P1)(P2)(P3)(P4)을 포함할 경우, 상기 복수의 히터(110)는 제1 구간(P1)에 위치되는 제1 히터(111), 제2 구간(P2)에 위치되는 제2 히터(112), 제3 구간(P3)에 위치되는 제3 히터(113), 그리고 제4 구간(P4)에 위치되는 제4 히터(114)를 포함할 수 있다. 따라서, 제1, 제2, 제3 및 제4 히터(111)(112)(113)(114)를 통해 구간 별로 온도를 다르게 부여할 수 있다.
2, when the plurality of sections P include the first, second, third and fourth sections P1, P2, P3, and P4, the plurality of heaters P, The first heater 111 is positioned in the first section P1, the second heater 112 is positioned in the second section P2, the third heater 113 is positioned in the third section P3, ), And a fourth heater 114 positioned in the fourth section P4. Therefore, the temperature can be differently provided for each section through the first, second, third, and fourth heaters 111, 112, 113, 114.

복수의 센서(120)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 복수의 구간(P)에 각각 위치되어 복수의 노즐(20) 중 복수의 구간(P) 각각에 놓인 하나 이상의 노즐에서 나오는 박막 형성용 물질의 증발율을 검출한다. 다시 말해, 각 센서(120)에 의해 모니터되는 노즐의 수는 하나 이상일 수 있다. 특히, 복수의 구간(P) 각각에 2개 이상의 노즐이 위치될 경우, 복수의 센서(120) 각각은, 2개 이상의 노즐을 일괄적으로 검출할 수 있다.As shown in Fig. 2, the plurality of sensors 120 are disposed in a plurality of sections P, respectively, for thin film formation from one or more nozzles laid on each of a plurality of sections P of the plurality of nozzles 20. [ The evaporation rate of the substance is detected. In other words, the number of nozzles monitored by each sensor 120 may be more than one. In particular, when two or more nozzles are positioned in each of the plurality of sections P, each of the plurality of sensors 120 can collectively detect two or more nozzles at a time.

나아가, 도 2에 도시된 바와 같이, 복수의 구간(P)이 제1, 제2, 제3 및 제4 구간(P1)(P2)(P3)(P4)을 포함할 경우, 상기 복수의 센서(120)는 제1 구간(P1)에 위치되는 제1 센서(121), 제2 구간(P2)에 위치되는 제2 센서(122), 제3 구간(P3)에 위치되는 제3 센서(123), 그리고 제4 구간(P4)에 위치되는 제4 센서(124)를 포함할 수 있다. 따라서, 제1, 제2, 제3 및 제4 센서(121)(122)(123)(124)를 통해 구간 별로 박막 형성용 물질의 증발율을 검출할 수 있다.
2, when a plurality of intervals P include first, second, third and fourth sections P1, P2, P3, and P4, the plurality of sensors P, The first sensor 121 positioned in the first section P1, the second sensor 122 positioned in the second section P2, the third sensor 123 positioned in the third section P3, ), And a fourth sensor 124 located in the fourth section P4. Therefore, the evaporation rate of the thin film forming material can be detected for each section through the first, second, third and fourth sensors 121, 122, 123 and 124.

제어부(130)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 복수의 센서(120)에서 검출되는 각각의 증발율이 서로 일정하게 유지되거나 의도적으로 서로 다르게 조절되도록 복수의 히터(110)를 개별적으로 제어한다.As shown in FIG. 3, the controller 130 controls the plurality of heaters 110 so that the respective evaporation rates detected by the plurality of sensors 120 are maintained constant or intentionally different from each other.

예를 들어, 제어부(130)는 복수의 센서(120)에서 검출되는 각각의 증발율을 서로 일정하게 유지하기 위해, 제1 센서(121)에서 검출된 증발율이 나머지 제2, 제3 및 제4 센서(122)(123)(124)에서 검출된 증발율 보다 상대적으로 낮으면, 제1 히터(111)의 온도를 나머지 제2, 제3 및 제4 히터(112)(113)(114)의 온도에 비해 상대적으로 높게 제어할 수 있다. 따라서, 이러한 방식으로 제1, 제2, 제3 및 제4 히터(111)(112)(113)(114)가 개별적으로 제어되면 복수의 노즐(20)에서 나오는 박막 형성용 물질의 증발율이 구간별로 일정하게 유지될 수 있다. 나아가, 해당 구간의 해당 히터의 온도가 높으면 해당 구간의 증발율이 높아지는 원리를 이용하여, 제1, 제2, 제3 및 제4 센서(121)(122)(123)(124)에서 검출되는 각각의 증발율을 서로 다르게 조절할 수도 있다.
For example, in order to keep the respective evaporation rates detected by the plurality of sensors 120 constant, the control unit 130 may control the evaporation rate detected by the first sensor 121 to be the second, Third, and fourth heaters 112, 113, and 114 if the evaporation rate of the first heater 111 is relatively lower than the evaporation rate of the second heater 122, Can be controlled relatively higher. Therefore, when the first, second, third, and fourth heaters 111, 112, 113, and 114 are individually controlled in this manner, the rate of evaporation of the thin film forming material from the plurality of nozzles 20, Can be kept constantly. Further, when the temperature of the corresponding heater in the corresponding section is high, the evaporation rate of the corresponding section is increased, and the evaporation rate of each section detected by the first, second, third and fourth sensors 121, 122, 123, And the evaporation rate of the evaporator can be adjusted differently.

이하, 도 4를 참조하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 선형 진공 증발원의 가열 장치에 대해 설명한다.Hereinafter, a heating apparatus for a linear vacuum evaporation source according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 선형 진공 증발원의 가열 장치가 선형 진공 증발원에 적용된 상태를 개략적으로 나타낸 사시도이다.4 is a perspective view schematically showing a state in which a heating apparatus for a linear vacuum evaporation source according to another embodiment of the present invention is applied to a linear vacuum evaporation source.

본 발명의 다른 실시예에 따른 선형 진공 증발원의 가열 장치는, 도 4에 도시된 바와 같이, 복수의 히터(200)를 제어하고는 상술한 본 발명의 일 실시예와 동일하므로 이하에서는 복수의 히터(200) 위주로 설명하기로 한다.As shown in FIG. 4, a heating apparatus for a linear vacuum evaporation source according to another embodiment of the present invention controls a plurality of heaters 200, which is the same as one embodiment of the present invention described above. (200) will be mainly described.

복수의 구간이, 선형 도가니(10)의 측면 중 상부에 해당하는 복수의 상부 구간(P10)과 선형 도가니(10)의 측면 중 하부에 해당하는 복수의 하부 구간(P20)을 포함할 경우, 복수의 히터(200)는, 복수의 상부 구간(P10)에 각각 위치되는 복수의 상부 히터(210)와 복수의 하부 구간(P20)에 각각 위치되는 복수의 하부 히터(220)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 복수의 상부 구간(P10)이 제1, 제2, 제3 및 제4 상부 구간(P11)(P12)(P13)(P14)을 포함할 경우, 복수의 상부 히터(210)는 제1, 제2, 제3 및 제4 상부 구간(P11)(P12)(P13)(P14)에 각각 제1, 제2, 제3 및 제4 상부 히터(211)(212)(213)(214)를 포함하고, 복수의 하부 히터(220)는 복수의 하부 구간(P20)에 각각 제1, 제2, 제3 및 제4 하부 히터(221)(222)(223)(224)를 포함할 수 있다.When the plurality of sections include a plurality of upper sections P10 corresponding to upper portions of the side surfaces of the linear crucible 10 and a plurality of lower sections P20 corresponding to lower portions of the side surfaces of the linear crucible 10, The heater 200 may include a plurality of upper heaters 210 positioned in the plurality of upper sections P10 and a plurality of lower heaters 220 positioned in the plurality of lower sections P20. For example, when the plurality of upper sections P10 include the first, second, third and fourth upper sections P11, P12, P13 and P14, the plurality of upper heaters 210 Second, third, and fourth upper heaters 211, 212, and 213 (hereinafter referred to as "first, second, third, and fourth upper sections P11, P12, P13, 214, and a plurality of lower heaters 220 include first, second, third and fourth lower heaters 221, 222, 223, and 224, respectively, in a plurality of lower sections P20 can do.

따라서, 복수의 히터(200)가 복수의 상부 구간(P10)과 복수의 하부 구간(P20)으로 더욱 분할된 구성을 가지므로 구간 별 온도의 제어가 더욱 정밀하게 이루어져 박막 형성용 물질의 증발율을 보다 일정하게 유지할 수 있다.
Therefore, since the plurality of heaters 200 are further divided into the plurality of the upper sections P10 and the plurality of the lower sections P20, the temperature control for each section is performed more precisely, It can be kept constant.

이상에서와 같이, 본 발명의 실시예들에 따른 선형 진공 증발원의 가열 장치는 다음과 같은 효과를 가질 수 있다.As described above, the heating apparatus of the linear vacuum evaporation source according to the embodiments of the present invention can have the following effects.

본 발명의 실시예들에 의하면, 선형 도가니(10)의 측면을 그 길이 방향으로 복수의 구간(P)으로 구분하여, 복수의 히터(110)와, 복수의 센서(120)와, 그리고 제어부(130)를 포함하는 기술구성을 제공하므로, 복수의 노즐(20)에서 나오는 박막 형성용 물질의 증발율을 구간별로 서로 일정하게 유지시킬 수도 있고 의도적으로 서로 다르게 조절할 수도 있다.According to the embodiments of the present invention, the side surface of the linear crucible 10 is divided into a plurality of sections P in the longitudinal direction thereof, and a plurality of heaters 110, a plurality of sensors 120, The evaporation rate of the thin film forming material from the plurality of nozzles 20 may be maintained constant or may be intentionally different from each other.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, Of the right.

10: 선형 도가니 P: 복수의 구간
P1: 제1 구간 P2: 제2 구간
P3: 제3 구간 P4: 제4 구간
20: 복수의 노즐 110, 200: 복수의 히터
111: 제1 히터 112: 제2 히터
113: 제3 히터 114: 제4 히터
120: 복수의 센서 121: 제1 센서
122: 제2 센서 123: 제3 센서
124: 제4 센서 130: 제어부10: Linear crucible P: Multiple sections
P1: first section P2: second section
P3: third section P4: fourth section
20: a plurality of nozzles 110, 200: a plurality of heaters
111: first heater 112: second heater
113: third heater 114: fourth heater
120: plural sensors 121: first sensor
122: second sensor 123: third sensor
124: fourth sensor 130:

Claims (4)

양측으로 길다란 형상의 선형 도가니와, 상기 선형 도가니의 상면에 그 길이 방향을 따라 간격을 두고 구비되는 복수의 노즐을 포함한 선형 진공 증발원의 가열 장치로,
상기 선형 도가니의 측면을 그 길이 방향으로 복수의 구간으로 구분하여 상기 복수의 구간에 각각 위치되는 복수의 히터;
상기 복수의 구간에 각각 위치되어 상기 복수의 노즐 중 상기 복수의 구간 각각에 놓인 하나 이상의 노즐에서 나오는 박막 형성용 물질의 증발율을 검출하는 복수의 센서; 및
상기 복수의 센서에서 검출되는 각각의 증발율이 서로 일정하게 유지되거나 서로 다르게 되도록 상기 복수의 히터를 제어하는 제어부를 포함하고,
상기 복수의 구간은,
상기 선형 도가니의 측면 중 상부에 해당하는 복수의 상부 구간; 및
상기 선형 도가니의 측면 중 하부에 해당하는 복수의 하부 구간을 더 포함하고,
상기 복수의 히터는,
상기 복수의 상부 구간에 각각 위치되는 상부 히터; 및
상기 복수의 하부 구간에 각각 위치되는 하부 히터를 포함하고,
상기 각각의 상부 히터와 상기 각각의 하부 히터는, 서로 분리되며 상기 제어부를 통해 개별 제어되는
선형 진공 증발원의 가열 장치.There is provided a heating apparatus for a linear vacuum evaporation source including a linear crucible having an elongated shape on both sides and a plurality of nozzles provided on an upper surface of the linear crucible with an interval therebetween in the longitudinal direction,
A plurality of heaters positioned in the plurality of sections such that a side surface of the linear crucible is divided into a plurality of sections in a longitudinal direction thereof;
A plurality of sensors each located in the plurality of sections and detecting the evaporation rate of the thin film forming material from at least one of the plurality of nozzles lying in each of the plurality of sections; And
And a controller for controlling the plurality of heaters so that the respective evaporation rates detected by the plurality of sensors are kept constant or different from each other,
The plurality of sections may include:
A plurality of upper sections corresponding to upper portions of the side surfaces of the linear crucible; And
Further comprising a plurality of lower sections corresponding to the lower one of the side surfaces of the linear crucible,
Wherein the plurality of heaters comprise:
An upper heater positioned in each of the plurality of upper sections; And
And a lower heater positioned in each of the plurality of lower sections,
Wherein each of the upper heater and each of the lower heaters are separated from each other and are individually controlled through the control unit
Heating device for a linear vacuum evaporation source. 제1항에서,
상기 복수의 상부 구간 각각에 2개 이상의 노즐이 위치될 경우,
상기 복수의 센서 각각은,
상기 2개 이상의 노즐을 일괄적으로 검출하는
선형 진공 증발원의 가열 장치.The method of claim 1,
When two or more nozzles are positioned in each of the plurality of upper sections,
Wherein each of the plurality of sensors comprises:
Wherein at least two nozzles are collectively detected
Heating device for a linear vacuum evaporation source. 제1항에서,
상기 복수의 상부 구간은 제1 및 제2 구간을 포함하고,
상기 복수의 상부 히터는, 상기 제1 구간에 위치되는 제1 히터; 및 상기 제2 구간에 위치되는 제2 히터를 포함하고,
상기 복수의 센서는, 상기 제1 구간에 위치되는 제1 센서; 및 상기 제2 구간에 위치되는 제2 센서를 포함하고,
상기 제어부는,
상기 복수의 센서에서 검출되는 각각의 증발율을 서로 일정하게 유지하기 위해, 상기 제1 센서에서 검출된 증발율이 상기 제2 센서에서 검출된 증발율 보다 상대적으로 낮으면, 상기 제1 히터의 온도를 상기 제2 히터의 온도에 비해 상대적으로 높게 제어하는
선형 진공 증발원의 가열 장치.The method of claim 1,
Wherein the plurality of upper sections include first and second sections,
The plurality of upper heaters may include: a first heater positioned in the first section; And a second heater positioned in the second section,
The plurality of sensors may include: a first sensor positioned in the first section; And a second sensor positioned in the second section,
Wherein,
If the evaporation rate detected by the first sensor is relatively lower than the evaporation rate detected by the second sensor so as to keep the respective evaporation rates detected by the plurality of sensors constant, 2 relative to the temperature of the heater
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