KR101633195B1 - Method for making glass sheet - Google Patents

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노리유끼 히오끼
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아반스트레이트 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 종래보다도 글래스 기판의 제조에 필요한 에너지를 삭감할 수 있고, 또한 글래스 기판의 기포질의 악화를 방지한다. 교반 공정에 있어서, 용융 글래스의 점도를 500포아즈 이상 또한 2000포아즈 이하로 함과 함께, 백금 또는 백금 합금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 0.6㎪ 이상 또한 12㎪ 이하로 한다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can reduce the energy required for manufacturing a glass substrate and prevent the deterioration of the bubble quality of the glass substrate. In the stirring step, the viscosity of the molten glass is set to not less than 500 poise and not more than 2000 poise, and the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container made of platinum or platinum alloy is set to not less than 0.6 또한 and not more than 12..

Description

글래스 기판의 제조 방법{METHOD FOR MAKING GLASS SHEET}[0001] METHOD FOR MAKING GLASS SHEET [0002]

본 발명은, 글래스 기판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a glass substrate.

플랫 패널 디스플레이용 글래스 기판은, 일반적으로, 글래스 원료를 가열하여 얻어진 용융 글래스를 글래스 기판에 성형하는 공정을 거쳐 제조된다. 글래스 기판의 제조 공정은, 예를 들어 글래스 원료를 용해하여 용융 글래스를 얻는 공정, 용융 글래스가 내포하는 미소한 기포를 제거하여 청징하는 공정, 용융 글래스를 교반하여 균질화하는 공정 및 용융 글래스를 성형 장치에 공급하는 공정을 포함한다. 글래스 원료를 용해하는 공정 후의 공정에 있어서는, 내화 벽돌에 기인하는 글래스 기판의 결점을 방지함과 함께, 용융 글래스의 온도를 조정하기 위해, 백금 또는 백금 합금제의 관 혹은 조를 포함하는, 백금 또는 백금 합금제의 용기가 사용된다. 글래스 기판의 제조 공정에 있어서, 백금 또는 백금 합금제의 용기를 사용하는 경우, 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압 또는 수소 분압과, 용기의 내측의 용융 글래스 중의 수증기 분압 또는 수소 분압과의 관계가 문제로 된다. 이하, 백금 또는 백금 합금제의 용기를 「백금 용기」라고 약기한다.A glass substrate for a flat panel display is generally manufactured by a process of molding a molten glass obtained by heating a glass raw material into a glass substrate. The manufacturing steps of the glass substrate include, for example, a step of melting glass raw materials to obtain molten glass, a step of purifying minute bubbles contained in the molten glass, a step of homogenizing the molten glass, . In the step after the step of dissolving the glass raw material, in order to prevent the defects of the glass substrate caused by the refractory brick, and to adjust the temperature of the molten glass, platinum or platinum A container made of platinum alloy is used. In the case where a container made of platinum or a platinum alloy is used in the manufacturing process of the glass substrate, the relationship between the partial pressure of steam or the partial pressure of hydrogen in the atmosphere around the container and the partial pressure of steam or the partial pressure of hydrogen in the molten glass inside the container . Hereinafter, a container made of platinum or a platinum alloy is referred to as a " platinum container ".

플랫 디스플레이용 글래스 기판은, 높은 온도 안정성과 낮은 결점 레벨이 요구된다. 이러한 요구에 합치시키기 위해, 글래스 원료의 용융에는, 산소 버너를 사용하는 경우가 많고, 용융 글래스 중의 수소 분압이 상승하기 쉽다. 용융 글래스 중의 수소 분압이 상승하고, 백금 용기의 내측의 수증기 분압이 백금 용기의 외측의 분위기의 수증기 분압보다도 높아지면, 용융 글래스 중의 OH기가 산소와 수소로 해리(解離)된다. 그러면, 수소만이 백금 용기의 벽을 투과하여 백금 용기의 외측으로 이동하고, 백금 용기의 내측에 남겨진 산소가 백금 용기의 내벽면 근방의 용융 글래스 중에 산소 기포를 형성함으로써, 용융 글래스의 기포질(質)을 악화시킨다.A glass substrate for a flat display requires high temperature stability and a low defect level. In order to meet such a demand, an oxygen burner is often used for melting the glass raw material, and the hydrogen partial pressure in the molten glass is likely to rise. When the hydrogen partial pressure in the molten glass rises and the partial pressure of water vapor inside the platinum container becomes higher than the partial pressure of water vapor in the atmosphere outside the platinum container, the OH group in the molten glass dissociates into oxygen and hydrogen. Then, only hydrogen flows through the wall of the platinum container to move to the outside of the platinum container, and the oxygen left inside the platinum container forms oxygen bubbles in the molten glass in the vicinity of the inner wall surface of the platinum container, Quality).

이러한 문제를 방지하는 기술로서, 백금 용기의 외측의 분위기의 수증기 분압을, 백금 용기의 내측의 용융 글래스 중의 수증기 분압보다도 높게 하는 기술이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1). 또한, 청징 공정을, 용융 글래스 중의 기포를 부상 탈포시켜 제거하는 제1 공정과, 용융 글래스 중의 가스 성분을 용융 글래스 중에 흡수시키는 제2 공정으로 나누고, 제1 공정에 있어서의 백금 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을, 제2 공정에 있어서의 백금 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압보다도 낮게 하는 기술이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 2). 이 기술에 따르면, 제조 설비의 장수명화 및 전력 소비의 억제를 도모하면서, 효과적으로 글래스 중의 기포를 억제할 수 있다.As a technique for preventing such a problem, there is known a technique in which the partial pressure of water vapor in the atmosphere outside the platinum container is higher than the partial pressure of water vapor in the molten glass inside the platinum container (for example, Patent Document 1). The cleaning step may be divided into a first step of removing the bubbles in the molten glass by flotation and defoaming and a second step of absorbing the gas component in the molten glass into the molten glass and the atmosphere around the platinum container in the first step Is lower than the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the platinum container in the second step (for example, Patent Document 2). According to this technique, bubbles in the glass can be effectively suppressed while the longevity of the manufacturing equipment and the suppression of the power consumption can be suppressed.

일본 특허 공표 제2001-503008호 공보Japanese Patent Publication No. 2001-503008 일본 특허 제5002731호 공보Japanese Patent No. 5002731

그러나, 글래스 기판의 기포질을 향상시키기 위해, 글래스 기판의 제조 공정에 있어서 백금 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 상승시키면, 백금 용기의 방열량이 증가하고, 용융 글래스를 필요한 온도로 가열하기 위한 에너지가 증가한다.However, in order to improve the bubble quality of the glass substrate, when the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the platinum container is increased in the production process of the glass substrate, the amount of heat dissipation in the platinum container increases and energy for heating the molten glass to a required temperature .

또한, 설비의 주위의 수증기 분압의 조정에는, 설비 주위를 둘러싸고, 그 안에 증기를 공급하는 방법을 취하는 경우가 많지만, 넓은 범위의 수증기 분압을 높게 유지하기 위해서는 다량의 증기가 필요하여, 에너지 절약상, 바람직하지 않다.In order to adjust the partial pressure of water vapor around the equipment, a method of surrounding the equipment and supplying steam therein is often adopted. However, in order to maintain a wide range of steam partial pressure high, a large amount of steam is required, , Which is undesirable.

나아가서는, 안정 생산을 위해서는, 제2 공정의 제조 장치에 있어서도, 데이터 수집, 점검, 보수를 위해, 작업자가 높은 수증기 분압으로 유지된 장치 주위의 스페이스에 정기적으로 출입할 필요가 있다. 장치 주위의 환경은 고온이며, 더욱 높은 수증기 분압으로 유지된 상황은 작업 환경으로서 열악하다. 안전 위생의 견지에서도, 정말로 필요한 개소 이외에서는 수증기 분압을 조금이라도 낮게 하는 것이 좋다.Further, for stable production, even in the manufacturing apparatus of the second process, it is necessary for the operator to regularly enter and exit the space around the apparatus which is maintained at a high steam partial pressure for data collection, inspection, and maintenance. The environment around the apparatus is high temperature, and the situation where the water vapor partial pressure is maintained at a higher level is poor as a working environment. From the standpoint of safety and hygiene, it is better to lower the water vapor partial pressure even if it is really necessary.

따라서, 본 발명은, 종래보다도 글래스 기판의 제조에 필요한 에너지를 삭감하고, 작업 환경을 개선하면서, 또한 글래스 기판의 기포질의 악화를 방지하는 것이 가능한 글래스 기판의 제조 방법을 제공한다.Accordingly, the present invention provides a method of manufacturing a glass substrate which can reduce the energy required for manufacturing glass substrates, improve the working environment, and prevent the deterioration of the bubble quality of the glass substrate.

본 발명의 일 형태는, 청징된 용융 글래스를 백금 또는 백금 합금제의 용기 내에서 스터러(stirrer)의 회전에 의해 교반하여 균질화하는 교반 공정을 갖는 글래스 기판의 제조 방법이다. 이 형태에 따른 제조 방법은, 상기 교반 공정에 있어서, 상기 용융 글래스의 점도를 500포아즈 이상 또한 2000포아즈 이하로 함과 함께, 상기 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 0.6㎪ 이상 또한 6.0㎪ 이하로 한다.One embodiment of the present invention is a method for producing a glass substrate having a stirring step of homogenizing the refined molten glass by stirring in a container made of platinum or platinum alloy by rotation of a stirrer. In the production method according to this aspect, in the stirring step, the viscosity of the molten glass is set to 500 poise or more and 2000 poise or less, and the steam partial pressure of the atmosphere around the container is set to 0.6 to 6.0 Or less.

상기한 형태의 글래스 기판의 제조 방법은, 상기 교반 공정에 있어서, 상기 용기의 주위의 수증기 분압을, 상기 글래스 기판의 β-OH의 값 0.1/㎜당 1.2㎪ 이상으로 해도 된다.In the above-described method of manufacturing a glass substrate, in the stirring step, the partial pressure of water vapor around the container may be set to 1.2 kPa or more per 0.1 mm of the value of? -OH of the glass substrate.

또한, 상기한 형태의 글래스 기판의 제조 방법은, 상기 교반 공정 전에, 글래스 원료를 용해시켜 용융 글래스를 만드는 용해 공정과, 백금 또는 백금 합금제의 용기 내에서, 상기 글래스 원료에 포함되는 청징제가 가스 성분을 방출하는 제1 온도 범위 내의 최고 온도까지 상기 용융 글래스의 온도를 상승시키고, 상기 용융 글래스 중의 기포를 부상시켜 제거하는 제1 탈포 공정과, 백금 또는 백금 합금제의 용기 내에서, 상기 제1 온도 범위의 최고 온도보다도 상기 용융 글래스의 온도를 저하시키고, 상기 용융 글래스 중의 기포를 부상시켜 제거함과 함께, 상기 용융 글래스 중에 가스 성분을 흡수시켜 기포를 축소시키는 제2 탈포 공정과, 상기 제2 탈포 공정 후, 상기 용융 글래스의 온도를 저하시킴으로써 상기 용융 글래스 중에 잔존하는 기포 중의 산소를 상기 용융 글래스에 흡수시켜 기포 직경을 축소시키고, 더욱 상기 용융 글래스의 온도를 저하시킴으로써 상기 기포의 내압을 저하시키고, 상기 기포를 소멸시키는 흡수 공정을 갖고, 상기 교반 공정 후에, 상기 용융 글래스의 온도를 성형에 적합한 온도까지 저하시키는 성형 온도 조정 공정을 갖는다. 그리고, 상기 제1 탈포 공정, 상기 제2 탈포 공정, 상기 흡수 공정 및 상기 성형 온도 조정 공정에 있어서의 상기 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을, 상기 교반 공정에 있어서의 상기 용기의 주위의 수증기 분압보다도 낮게 한다.The method for producing a glass substrate of the above type may further comprise a dissolving step of dissolving the glass raw material before the stirring step to form molten glass and a step of heating the glass cleaner contained in the glass raw material in a vessel made of platinum or platinum alloy A first defoaming step of raising the temperature of the molten glass to a maximum temperature within a first temperature range for releasing the component and floating the bubbles in the molten glass to remove the bubbles; A second degassing step of lowering the temperature of the molten glass above the maximum temperature in the temperature range and floating the bubbles in the molten glass to remove the gaseous components in the molten glass to reduce the bubbles, After the step, the temperature of the molten glass is lowered, so that oxygen in the bubbles remaining in the molten glass Wherein the molten glass is absorbed by the molten glass to reduce the diameter of the molten glass and lower the temperature of the molten glass to lower the internal pressure of the molten glass to thereby extinguish the molten glass. And a molding temperature adjusting step of lowering the temperature to a temperature suitable for molding. The steam partial pressure of the atmosphere around the vessel in the first defoaming step, the second defoaming step, the absorption step, and the forming temperature adjusting step may be controlled so that the steam partial pressure of the atmosphere around the vessel in the stirring step .

또한, 상기한 형태의 글래스 기판의 제조 방법은, 상기 흡수 공정에 있어서, 상기 용기의 주위의 수증기 분압을, 상기 글래스 기판의 β-OH의 값 0.1/㎜당 0.8㎪ 이상으로 해도 된다.Further, in the above-described method of manufacturing a glass substrate, in the absorption step, the partial pressure of water vapor around the vessel may be 0.8 GPa or more per 0.1 mm of the value of? -OH of the glass substrate.

또한, 상기한 형태의 글래스 기판의 제조 방법은, 상기 제2 탈포 공정에 있어서, 상기 용기의 주위의 수증기 분압을, 상기 글래스 기판의 β-OH의 값 0.1/㎜당 0.7㎪ 이상으로 해도 된다.Further, in the method of manufacturing a glass substrate of the above-described type, in the second defoaming step, the partial pressure of water vapor around the container may be set to 0.7 or more per 0.1 mm of the value of? -OH of the glass substrate.

또한, 상기한 형태의 글래스 기판의 제조 방법은, 상기 성형 온도 조정 공정에 있어서, 상기 용기의 주위의 수증기 분압을, 상기 글래스 기판의 β-OH의 값 0.1/㎜당 0.6㎪ 이상으로 해도 된다.Further, in the above-described method of manufacturing a glass substrate, in the forming temperature adjusting step, the partial pressure of water vapor around the container may be set to 0.6 kPa or more per 0.1 mm of the value of? -OH of the glass substrate.

또한, 상기한 형태의 글래스 기판의 제조 방법은, 상기 교반 공정에 있어서, 상기 스터러의 회전 속도를 1rpm 이상 또한 15rpm 이하로 해도 된다.Further, in the above-described method of manufacturing a glass substrate, in the stirring step, the rotational speed of the stirrer may be set to 1 rpm or more and 15 rpm or less.

본 발명의 글래스 기판의 제조 방법에 따르면, 종래보다도 글래스 기판의 제조에 필요한 에너지를 삭감하고, 작업 환경을 개선하면서, 또한 글래스 기판의 기포질의 악화를 방지할 수 있다.According to the manufacturing method of the glass substrate of the present invention, it is possible to reduce the energy required for manufacturing the glass substrate, improve the working environment, and prevent the deterioration of the bubble quality of the glass substrate.

도 1은 본 발명의 실시 형태에 따른 글래스 기판 제조 장치의 개략도이다.
도 2는 도 1의 장치의 일부를 도시하는 개략 평면도이다.
도 3은 본 발명의 실시 형태에 따른 글래스 기판의 제조 방법의 흐름도이다.
도 4는 도 3에 나타내는 각 공정의 용융 글래스의 온도 변화를 나타내는 도면이다.1 is a schematic view of a glass substrate manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic plan view showing a part of the apparatus of Fig.
3 is a flowchart of a method of manufacturing a glass substrate according to an embodiment of the present invention.
Fig. 4 is a diagram showing the temperature change of the molten glass in each step shown in Fig. 3; Fig.

이하, 본 발명의 실시 형태에 따른 글래스 기판 제조 방법에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a glass substrate according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

본 실시 형태에 있어서 제조되는 글래스 기판은, 플랫 패널 디스플레이용 글래스 기판이다. 본 실시 형태의 글래스 기판은, 예를 들어 이하의 조성을 갖는다. 이하에 나타내는 조성의 함유율 표시는, 질량％이다.The glass substrate manufactured in this embodiment is a glass substrate for a flat panel display. The glass substrate of this embodiment has, for example, the following composition. The content of the composition shown below is expressed in mass%.

SiO2:50 내지 70％,SiO 2 : 50 to 70%

Al2O3:0 내지 25％,Al 2 O 3 : 0 to 25%

B2O3:0 내지 15％,B 2 O 3 : 0 to 15%,

MgO:0 내지 10％,MgO: 0 to 10%

CaO:0 내지 20％,CaO: 0 to 20%

SrO:0 내지 20％,SrO: 0 to 20%

BaO:0 내지 15％,BaO: 0 to 15%

RO:5 내지 30％(단, R은 Mg, Ca, Sr 및 Ba로부터 선택되는 적어도 1종이며, 글래스 기판이 함유하는 것임),RO: 5 to 30% (R is at least one selected from Mg, Ca, Sr and Ba, and contained in the glass substrate)

R'2O:0 내지 0.5％(단, R'은 Li, Na 및 K로부터 선택되는 적어도 1종이며, 글래스 기판이 함유하는 것임)R ' 2 O: 0 to 0.5% (provided that R' is at least one kind selected from Li, Na and K, contained in the glass substrate)

를 함유하는 글래스인 것이 바람직하다.Is preferable.

본 실시 형태의 글래스 기판의 제조 방법을 적용하는 경우에는, 글래스 조성물이, 상기 각 성분에 더하여, 질량％ 표시로, SnO2:0.01 내지 1％(바람직하게는 0.01 내지 0.5％), Fe2O3:0 내지 0.2％(바람직하게는 0.01 내지 0.08％)를 함유하고, 환경 부하를 고려하여, As2O3, Sb2O3 및 PbO를 실질적으로 함유하지 않도록 글래스 원료를 조제해도 된다.In the case of applying the glass substrate manufacturing method of this embodiment, the glass composition preferably contains, in mass%, SnO 2 : 0.01 to 1% (preferably 0.01 to 0.5%), Fe 2 O 3 to 0 to 0.2% (preferably 0.01 to 0.08%), and considering the environmental load, the glass raw material may be prepared so as not to contain As 2 O 3 , Sb 2 O 3 and PbO substantially.

도 1은 본 실시 형태의 글래스 기판 제조 장치(100)의 일례를 나타낸 것이다. 글래스 기판 제조 장치(100)는, 용해조(101), 청징조(102), 교반조(103), 성형 장치(104), 도관(105a, 105b, 105c) 및 가습 장치(106)를 갖는다.Fig. 1 shows an example of a glass substrate manufacturing apparatus 100 according to the present embodiment. The glass substrate manufacturing apparatus 100 has a melting vessel 101, a blue vessel 102, a stirring vessel 103, a molding apparatus 104, conduits 105a, 105b and 105c and a humidifier 106. [

용해조(101)는, 벽돌 등의 내화물에 의해 구성되고, 용융 글래스를 수용하는 액조와, 액조 상의 공간인 상부 공간을 구비한다. 상부 공간의 벽면에는, 연료와 산소 등의 가스를 연소하여 화염을 발하는 버너가 설치되어 있다. 액조에는, 전기 가열 장치가 설치되어 있다. 전기 가열 장치는, 액조의 벽면에 형성된 한 쌍 이상의 전극에 의해 구성되고, 전극간에 전압을 가하여 용융 글래스에 통전함으로써, 용융 글래스에 줄 열을 발생시켜, 용융 글래스를 가열한다.The melting tank 101 is made of refractory material such as bricks and has a liquid reservoir for containing the molten glass and an upper space as a space on the liquid reservoir. On the wall surface of the upper space, there is provided a burner for burning a gas such as fuel and oxygen and emitting a flame. The liquid bath is provided with an electric heating device. The electric heating device is constituted by a pair of electrodes formed on a wall surface of a liquid bath, and a voltage is applied between the electrodes to energize the molten glass to generate heat in the molten glass to heat the molten glass.

청징조(102)는, 용융 글래스를 수용하는 백금 또는 백금 합금제의 관상의 용기에 의해 구성되고, 용기 본체에 전류를 흘림으로써, 용기의 온도를 높이고, 용기 중의 용융 글래스를 가열한다. 또한, 도 1에는 명시되어 있지 않지만, 청징조(102)는, 흘리는 전류량을 바꿈으로써, 글래스의 가열량을 조정할 수 있도록, 2개 이상의 부분으로 구성되어도 된다.The blue oven 102 is constituted by a tubular container made of platinum or a platinum alloy containing molten glass, and current is supplied to the container body to raise the temperature of the container and heat the molten glass in the container. Although not shown in Fig. 1, the blue sign 102 may be composed of two or more parts so that the heating amount of the glass can be adjusted by changing the amount of current flowing therethrough.

교반조(103)는, 백금 또는 백금 합금제의 용융 글래스를 수용하는 용기와, 백금 또는 백금 합금제의 회전축과, 회전축에 설치된 백금 또는 백금 합금제의 복수의 교반 날개를 구비한다. 이 회전축과 교반 날개를 스터러라고 한다. 교반조(103) 및 스터러는, 각각 1개 설치해도, 각각 복수를 설치해도 된다.The stirring tank 103 includes a container for containing a molten glass made of platinum or a platinum alloy, a rotating shaft made of platinum or a platinum alloy, and a plurality of stirring blades made of a platinum or platinum alloy provided on the rotating shaft. The rotating shaft and the stirring blade are called stirrers. Each of the stirring tank 103 and the stirrer may be provided, or a plurality of them may be provided.

성형 장치(104)는, 상부에 홈을 갖고, 수직 방향의 단면 형상이 대략 오각형인 내화물제의 성형체를 구비한다. 성형 장치(104)는, 성형체를 넘쳐 나와 성형체의 바닥의 선단에서 합류한 용융 글래스를 하방으로 연신하는 롤러 및 글래스를 소정의 온도로 조정하기 위한 온도 조절 장치를 구비한다. 또한, 본 실시 형태에서는, 성형 장치(104)를 다운드로 방식의 성형 장치로서 기재하였지만, 성형 방법이 달라도 본 발명을 적용하는 것은 가능하다.The molding apparatus 104 is provided with a molded body made of a refractory material having a groove on its upper portion and a cross section in the vertical direction of a substantially pentagonal shape. The molding apparatus 104 includes a roller that overflows the molded body and extends downwardly the molten glass joined at the tip of the bottom of the molded body, and a temperature adjusting device for adjusting the glass to a predetermined temperature. In the present embodiment, the molding apparatus 104 is described as a down-draw molding apparatus, but the present invention can be applied even if the molding method is different.

도관(105a, 105b, 105c)은, 백금 또는 백금 합금제의 관상의 용기이며, 관 가운데를 흐르는 용융 글래스의 온도를 조절하기 위한 온도 조절 기능을 구비하고 있다. 온도 조절의 방법으로서는, 상기 청징조(102)와 마찬가지로, 용기에 통전해도 되고, 용기의 주위에 배치한 히터로 간접적으로 가열해도 되고, 혹은, 수냉, 공냉의 냉각 파이프를 병설해도 된다.The conduits 105a, 105b and 105c are tubular vessels made of platinum or platinum alloy and have a temperature control function for controlling the temperature of the molten glass flowing in the tube. As the temperature control method, the container may be energized, indirectly heated by a heater disposed around the container, or a cooling pipe of water-cooling or air-cooling may be provided in parallel with the blue oven 102.

가습 장치(106)는, 물을 증발시켜 증기를 생성하는 보일러(106a)와, 증기를 공급하는 증기관(106b)으로 구성된다. 도 2는 본 실시 형태의 글래스 기판 제조 장치(100)의 일부의 평면도를 나타낸다. 청징조(102)의 주위에는, 울타리(201, 202)가 설치되어 있다. 도관(105b) 및 교반조(103)의 주위에는, 마찬가지로 울타리(203)가 설치되어 있다. 울타리(203)의 내측에서, 교반층(103)의 주위에는 울타리(204)가 설치되어 있다. 즉, 교반층(103)은 울타리(204) 및 울타리(203)에 의해 이중으로 둘러싸여 있다. 또한, 도관(105c)의 주위에도 울타리(205)가 설치되어 있다. 증기관(106b)은, 개개의 울타리(202 내지 205)의 내측의 분위기에 증기를 공급하도록 분기관을 갖고 있다. 증기관(106b)은, 각각의 분기관에 조절 밸브를 구비하고 있고, 개개의 울타리(202 내지 205)의 분위기에 공급하는 증기의 유량을 조절할 수 있도록 구성되어 있다.The humidification device 106 is composed of a boiler 106a for evaporating water to generate steam and a steam pipe 106b for supplying steam. 2 is a plan view of a part of the glass substrate manufacturing apparatus 100 of the present embodiment. Fences (201, 202) are provided around the blue sign (102). A fence 203 is similarly provided around the conduit 105b and the stirring tank 103. [ On the inner side of the fence (203), a fence (204) is provided around the stirring layer (103). That is, the stirring layer 103 is doubly surrounded by the fence 204 and the fence 203. A fence 205 is also provided around the conduit 105c. The steam pipe 106b has branch pipes for supplying steam to the atmosphere inside the individual fences 202-205. The steam pipe 106b is provided with a control valve in each of the branch pipes and is configured to control the flow rate of the steam supplied to the atmosphere of the individual fences 202 to 205. [

또한, 도 2에서는, 장치의 주위를 울타리로 둘러싸고, 거기에 증기를 공급하는 구조를 기재하였지만, 장치를 울타리로 덮는 대신, 백금 혹은 백금 합금제의 용기의 주위에 배치한 백업 벽돌 혹은 보온재 중에, 직접, 증기를 도입해도 된다. 또한, 백업 벽돌이나 보온재의 사이에 공간을 마련하고, 거기에 증기를 공급해도 된다. 또한, 울타리의 재질에 관해서는, 분위기 온도에 견딜 수 있고, 또한, 수증기의 흐름을 차단할 수 있는 재질이면, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 함석판, 내열성의 커튼 등을 본 실시 형태의 울타리로서 사용할 수 있다.2 shows a structure in which the periphery of the device is enclosed by a fence and steam is supplied thereto. However, instead of covering the device with a fence, in a backup brick or a thermal insulation material disposed around a container made of platinum or platinum alloy, Direct steam may be introduced. Further, a space may be provided between the back-up bricks and the heat insulating material, and steam may be supplied thereto. The material of the fence is not particularly limited as long as it can withstand the atmospheric temperature and can block the flow of steam. For example, a rock plate, a heat-resistant curtain, or the like can be used as the fence of this embodiment.

또한, 본 실시 형태의 글래스 기판 제조 장치(100)는, 도 1에 있어서 T로 나타낸 위치에 온도계(열전대)가 설치되어 있다. 온도계는, 청징조(102), 교반조(103) 및 도관(105a, 105b, 105c)의 외면의 근방에 배치되거나 또는 이들 외면에 접촉함으로써, 이들 용기의 표면의 온도를 측정하고, 그 온도에 기초하여 용기 내부의 용융 글래스의 온도를 구한다. 각 온도계의 사이의 용융 글래스의 온도는, 온도 구배를 추정함으로써 구할 수 있다. 온도계의 설치 장소는, 도 1에 도시되어 있는 것에 한정되지 않고, 온도계를 보다 많은 장소에 설치하면, 용융 글래스의 보다 정확한 온도 변화를 측정할 수 있다. 또한, 용융 글래스의 온도는, 열전대 이외의 센서 등에 의해 측정해도 된다.In the glass substrate manufacturing apparatus 100 of the present embodiment, a thermometer (thermocouple) is provided at a position indicated by T in Fig. The temperature of the surface of these containers is measured by placing the thermometer in the vicinity of the outer surface of the blue sign 102, the stirring tank 103 and the conduits 105a, 105b and 105c or by contacting these outer surfaces, The temperature of the molten glass in the container is obtained on the basis of the temperature of the molten glass. The temperature of the molten glass between the respective thermometers can be obtained by estimating the temperature gradient. The installation position of the thermometer is not limited to that shown in Fig. 1, and a more accurate temperature change of the molten glass can be measured by providing the thermometer at a larger number of places. The temperature of the molten glass may be measured by a sensor other than a thermocouple.

다음으로, 상술한 제조 장치를 사용한 본 실시 형태의 글래스 기판의 제조 방법에 대해 설명한다.Next, a method of manufacturing the glass substrate of the present embodiment using the above-described manufacturing apparatus will be described.

도 3은 본 발명의 실시 형태에 따른 글래스 기판의 제조 방법의 일례의 흐름도이다. 도 4는 각 공정에 있어서의 글래스의 온도 변화를 나타내는 그래프이다.3 is a flowchart of an example of a method of manufacturing a glass substrate according to an embodiment of the present invention. 4 is a graph showing the temperature change of the glass in each step.

도 3에 나타내는 바와 같이, 글래스의 제조 방법은, 용해 공정(S1), 제1 탈포 공정(S2), 제2 탈포 공정(S3), 흡수 공정(S4), 교반 공정(S5), 성형 온도 조정 공정(S6) 및 성형 공정(S7)을 갖는다.As shown in Fig. 3, the production method of the glass includes a melting step (S1), a first defoaming step (S2), a second defoaming step (S3), an absorption step (S4), a stirring step (S5) A step (S6) and a molding step (S7).

용해 공정(S1)은, 용해조(101)에 있어서 글래스 원료를 용해하는 공정이다. 용해조(101)에 투입된 글래스 원료는, 용해조(101)에 있어서 약 1550℃ 이상의 온도로 가열되어 용해되고, 용융 글래스로 되어 용해조(101)로부터 흘러나온다. 용해조(101)로부터 흘러나온 용융 글래스는, 청징에 적합한 온도로 되도록, 도관(105a) 및 청징조(102)의 내부에서 더욱 가열된다.The dissolution step (S1) is a step of dissolving the glass raw material in the dissolution tank (101). The glass raw material put into the melting tank 101 is heated and melted at a temperature of about 1550 DEG C or higher in the melting tank 101 and is made into molten glass and flows out from the melting tank 101. [ The molten glass flowing out of the melting tank 101 is further heated inside the conduits 105a and 102 so as to be at a temperature suitable for refining.

제1 탈포 공정(S2)에서는, 청징제가 용융 글래스 중에서 가스 성분을 방출하고, 이 가스 성분이 글래스 중의 기포 중에 침입하고, 기포를 크게 하여 부상 속도를 빠르게 함으로써, 용융 글래스 중의 기포가 부상 탈포된다. 제1 탈포 공정(S2)은, 주로 청징조(102)의 전반 부분에 있어서 행해진다. 제1 탈포 공정(S2)에서는, 도 4에 나타내는 바와 같이, 용융 글래스가 글래스 기판의 제조 공정에 있어서의 최고 온도 T1까지 가열된다. 용융 글래스의 온도가 높아지면, 기포의 기포 직경이 더욱 확대되는 것과 동시에, 점도가 낮아짐으로써 기포의 부상 속도가 빨라져 기포의 부상 탈포가 촉진된다.In the first defoaming step (S2), the purifying agent releases gas components in the molten glass, the gas components penetrate into the bubbles in the glass, and the bubbles are increased to increase the lifting speed, so that the bubbles in the molten glass are defoamed. The first defoaming step (S2) is performed mainly in the first half of the blue sign (102). In the first defoaming step (S2), as shown in Fig. 4, the molten glass is heated up to the maximum temperature T1 in the production process of the glass substrate. When the temperature of the molten glass is increased, the bubble diameter of the bubble is further enlarged, and the viscosity of the bubble is lowered, so that the rising speed of the bubble is increased and the floating deformation of the bubble is promoted.

청징제를 사용하면, 글래스 원료에 포함되는 가스 성분의 응집에 의한 기포 생성 및 당해 기포의 용융 글래스 밖으로의 방출 작용을 조장함으로써, 용융 글래스의 청징을 촉진할 수 있다. 예를 들어, 본 실시 형태에 있어서는, 산화주석을 청징제로서 사용할 수 있다. 산화주석은, 고온에서, SnO2→SnO＋1/2O2↑의 반응으로 산소를 방출하지만, 이 반응은, 제1 온도 범위에 있어서, 효율적으로 진행시킬 수 있다. 제1 온도 범위는 글래스의 종류에 따라 다르지만, 예를 들어 1600℃ 이상 또한 1740℃ 이하로 할 수 있다. 제1 온도 범위의 하한은, 예를 들어 1600℃ 이상 또한 1650℃ 이하의 범위에서 적절히 선택할 수 있다. 또한, 제1 온도 범위의 상한은, 예를 들어 1650℃ 이상 또한 1740℃ 이하의 범위에서 적절히 선택할 수 있다. 즉, 제1 탈포 공정(S2)은, 글래스 원료에 포함되는 청징제가 가스 성분을 방출하는 제1 온도 범위 내에서 용융 글래스 중의 기포를 부상시켜 제거하는 공정이다. 또한, 도 4에서는, 서서히 용융 글래스의 온도를 높여 가는 온도 이력을 나타냈지만, 용융 글래스의 온도를 단번에 최고 온도 T1까지 높이고, 그 후, 최고 온도 T1로 유지해도 된다.The use of a refining agent promotes refining of the molten glass by promoting the generation of bubbles by agglomeration of the gas components contained in the glass raw material and the releasing action of the bubbles out of the molten glass. For example, in the present embodiment, tin oxide can be used as a fining agent. Tin oxide releases oxygen at a high temperature in the reaction of SnO 2 ? SnO + 1 / 2O 2 ↑, but this reaction can proceed efficiently in the first temperature range. The first temperature range varies depending on the type of glass, but can be set to, for example, 1600 DEG C or higher and 1740 DEG C or lower. The lower limit of the first temperature range can be appropriately selected, for example, in the range of 1600 DEG C or higher and 1650 DEG C or lower. The upper limit of the first temperature range can be appropriately selected, for example, in the range of 1650 DEG C or higher and 1740 DEG C or lower. That is, the first defoaming step (S2) is a step of floating the bubbles in the molten glass within the first temperature range in which the cleaning agent contained in the glass raw material releases a gas component. In Fig. 4, the temperature history showing the temperature of the molten glass gradually is shown. However, the temperature of the molten glass may be increased to the maximum temperature T1 at a time, and then maintained at the maximum temperature T1.

제2 탈포 공정(S3)은, 용융 글래스 중의 기포를 부상시켜 제거하는 제1 탈포 공정(S2) 후, 용융 글래스의 온도를 최고 온도 T1로부터 하강으로 전환하고, 청징제에 의한 가스 성분의 방출을 멈추면서, 아직 글래스 온도가 고온이므로, 기포의 부상에 의한 탈포를 계속하는 공정이다. 제2 탈포 공정(S3)에서는, 청징제로부터의 가스 성분의 방출은 멈추고, 청징제의 가스의 재흡수는 시작되고 있지만, 동시에, 아직 충분히 고온이므로, 기포의 부상 탈포가 계속되고 있다. 즉, 제2 탈포 공정(S3)은, 용융 글래스 중의 기포를 부상시켜 제거함과 함께, 용융 글래스 중에 가스 성분을 흡수시켜 기포를 축소시키는 공정이다. 제2 탈포 공정(S3)은, 예를 들어 용융 글래스의 온도가 최고 온도 T1에 도달한 후, 용융 글래스의 온도가 하강으로 전환된 점으로부터 개시되고, 산화주석의 산소 방출 반응이 활발화되는 제1 온도 범위의 하한의 온도로 저하될 때까지 행해진다. 제2 탈포 공정(S3)은, 주로 청징조(102)의 후반 부분에 있어서 행해진다.In the second defoaming step (S3), the temperature of the molten glass is changed from the maximum temperature T1 to the falling temperature after the first defoaming step (S2) in which the bubbles in the molten glass are removed by floating, and the release of the gas component by the refining agent Since the glass temperature is still high while stopping, it is a step of continuing defoaming by floating of the bubbles. In the second defoaming step (S3), the release of the gas component from the cleaning agent is stopped, and the refining agent gas is resupplyed, but at the same time, the temperature is still sufficiently high so that the floating defoaming of the bubbles continues. That is, the second defoaming step (S3) is a step of removing bubbles in the molten glass by floating and absorbing the gas components in the molten glass to reduce bubbles. The second defoaming step S3 starts from the point where the temperature of the molten glass is switched to the lowering temperature after the temperature of the molten glass reaches the maximum temperature T1, 1 < / RTI > temperature range. The second defoaming step (S3) is performed mainly in the latter half portion of the blue sign (102).

흡수 공정(S4)은, 용융 글래스의 온도를 급속하게 내리고, 청징제가 산소 흡수 반응을 일으키도록 하게 하고, 완전히 부상 탈포하지 않고 남은 소기포 중의 산소를 용융 글래스 중에 흡수함으로써 기포의 직경을 축소시키는 공정이다. 흡수 공정(S4)에서는, 기포의 직경을 축소시킨 후, 용융 글래스의 온도를 더욱 저하시킴으로써 기포의 내압을 저하시키고, 직경이 축소된 기포를 용융 글래스 중에 흡수 소멸시킨다. 흡수 공정(S4)에서는, 최종적으로는 교반에 적합한 온도까지 글래스 온도를 저하시킨다. 즉, 흡수 공정(S4)은, 제2 탈포 공정(S3) 후, 용융 글래스의 온도를 저하시킴으로써 용융 글래스 중에 잔존하는 기포 중의 산소를 용융 글래스에 흡수시켜 기포 직경을 축소시키고, 더욱 용융 글래스의 온도를 저하시킴으로써 기포의 내압을 저하시켜, 기포를 소멸시키는 공정이다. 흡수 공정(S4)은, 주로 도관(105b)에서 행해진다.In the absorption step (S4), the temperature of the molten glass is rapidly lowered, the purifying agent is caused to cause the oxygen absorption reaction, and the oxygen in the small bubbles remaining in the small bubbles is absorbed into the molten glass to be. In the absorption step (S4), after the diameter of the bubbles is reduced, the temperature of the molten glass is further lowered to lower the inner pressure of the bubbles, and the bubbles having a reduced diameter are absorbed and eliminated in the molten glass. In the absorption step (S4), the glass temperature is finally lowered to a temperature suitable for stirring. That is, in the absorption step (S4), after the second defoaming step (S3), the temperature of the molten glass is lowered so that oxygen in the bubbles remaining in the molten glass is absorbed into the molten glass to reduce the bubble diameter, Thereby lowering the internal pressure of the bubbles, thereby destroying the bubbles. The absorption step S4 is performed mainly in the conduit 105b.

교반 공정(S5)은, 흡수 공정(S4) 후, 용융 글래스를 교반조(103)에 있어서 스터러를 사용하여 교반함으로써 균질화하는 공정이다. 교반조(103) 내의 용융 글래스의 점도는, 교반 효율을 높이기 위해서는, 500 내지 2000포아즈의 사이로 유지되는 것이 바람직하다.In the stirring step (S5), after the absorption step (S4), the molten glass is homogenized by stirring in a stirrer (103) using a stirrer. It is preferable that the viscosity of the molten glass in the stirring tank 103 is maintained between 500 and 2000 poise in order to increase stirring efficiency.

성형 온도 조정 공정(S6)은, 교반 공정(S5) 후, 글래스를 판 형상으로 성형하는 성형 장치(104)에 용융 글래스를 공급하는 공정이다. 이 공정에서는, 용융 글래스가 성형에 적합한 온도까지 냉각된 후, 다음 성형 공정(S7)이 행해지는 성형 장치(104)로 이송된다.The shaping temperature adjusting step (S6) is a step of supplying molten glass to a molding apparatus (104) for shaping the glass into a plate shape after the stirring step (S5). In this step, the molten glass is cooled to a temperature suitable for molding, and then transferred to a molding apparatus 104 where the next molding step (S7) is performed.

성형 공정(S7)은, 용융 글래스를 판 형상의 글래스로 성형하는 공정이다. 본 실시 형태에서는, 용융 글래스는, 오버플로우 다운드로법에 의해 연속적으로 판 형상으로 성형된다. 성형된 판 형상의 글래스는, 절단되어 글래스 기판으로 된다.The molding step (S7) is a step of molding the molten glass into a plate-shaped glass. In the present embodiment, the molten glass is continuously formed into a plate shape by an overflow down-draw method. The molded plate-shaped glass is cut into a glass substrate.

본 실시 형태에 있어서는, 제1 탈포 공정(S2)과 제2 탈포 공정(S3)의 경계 X를, 용융 글래스의 온도가 최고 온도 T1에 도달한 후, 하강으로 전환되는 점으로 한다. 즉, 제1 탈포 공정(S2)은, 용융 글래스의 온도가, 산화주석의 산소 방출 반응이 활발화되는 제1 온도 범위의 하한의 온도 또는 그 근방의 온도로 상승하였을 때에 개시되고, 최고 온도 T1에 도달하고, 그 온도로 유지되어 있는 동안에 행해진다. 또한, 제2 탈포 공정(S3)은, 용융 글래스의 온도가 최고 온도 T1에 도달한 후, 하강으로 전환되었을 때에 개시되고, 용융 글래스의 온도가 글래스 기판의 성형에 적합한 온도로 저하될 때까지 행해진다.In the present embodiment, the boundary X between the first defoaming step (S2) and the second defoaming step (S3) is defined as the point where the temperature of the molten glass reaches the maximum temperature T1 and then is switched to the falling state. That is, the first defoaming step (S2) is started when the temperature of the molten glass rises to a temperature at or near the lower limit of the first temperature range in which the oxygen release reaction of tin oxide becomes active, and the maximum temperature T1 And is maintained at that temperature. The second defoaming step S3 is started when the temperature of the molten glass reaches the maximum temperature T1 and then is switched to the falling state and is performed until the temperature of the molten glass is lowered to a temperature suitable for molding the glass substrate All.

따라서, 청징조(102)에 있어서, 용융 글래스를 가열 혹은 최고 온도 T1로 유지하는 데 필요한 전류값을 흘리고 있는 부분이 제1 탈포 공정(S2)에 상당하고, 용융 글래스의 온도가 내려가기 시작하도록 전류량을 조절한 부분으로부터가, 제2 탈포 공정(S3)이라고 나눌 수 있다. 도 2에 도시하는 바와 같이, 본 실시 형태에서는, 제1 탈포 공정(S2)이 행해지는 청징조(102)의 상류측의 전반 부분이 울타리(201)에 의해 둘러싸여 있고, 울타리(201)의 내측의 분위기를 독립적으로 제어할 수 있게 되어 있다.Therefore, in the blue oven 102, a portion in which the current value necessary for heating or holding the molten glass at the maximum temperature T1 is equivalent to the first defoaming step (S2), and the temperature of the molten glass starts to decrease From the portion where the amount of current is adjusted, it can be divided into a second defoaming step (S3). As shown in Fig. 2, in this embodiment, the front half portion on the upstream side of the blue sign 102 on which the first defoaming step S2 is performed is surrounded by the fence 201, and the inside of the fence 201 It is possible to independently control the atmosphere of the atmosphere.

또한, 제2 탈포 공정(S3)과 흡수 공정(S4)의 경계는, 용융 글래스의 온도가 최고 온도 T1로부터 내려가기 시작한 후, 상기 제1 온도 범위의 하한의 온도까지 저하된 점으로 할 수 있다. 즉, 제2 탈포 공정(S3)은, 용융 글래스의 온도가 최고 온도 T1에 도달한 후, 내려가기 시작한 점으로부터 개시되고, 용융 글래스의 온도가 상기 제1 온도 범위의 하한의 온도로 저하될 때까지 행해진다. 본 실시 형태에서는, 글래스 기판 제조 장치(100)에 있어서의 제2 탈포 공정(S3)과 흡수 공정(S4)의 경계는, 예를 들어 청징조(102)와 도관(105b)의 접속 개소 또는 그 근방으로 할 수 있다. 도 2에 도시하는 바와 같이, 제2 탈포 공정(S3)이 행해지는 청징조(102)의 하류측의 후반 부분은 울타리(202)에 의해 둘러싸여 있다. 이에 의해, 증기관(106b)의 분기관에 설치된 조절 밸브를 조절함으로써, 울타리(202)의 내측에 배치된 백금 또는 백금 합금제의 용기인 청징조(102)의 후반 부분의 주위의 분위기를, 독립적으로 제어할 수 있게 되어 있다.The boundary between the second defoaming step (S3) and the absorption step (S4) may be a point where the temperature of the molten glass starts to drop from the maximum temperature T1 and then decreases to the lower limit temperature of the first temperature range . That is, the second defoaming step (S3) starts from the point where the temperature of the molten glass starts to descend after reaching the maximum temperature T1, and when the temperature of the molten glass falls to the lower limit temperature of the first temperature range . In this embodiment, the boundary between the second defoaming step (S3) and the absorption step (S4) in the glass substrate manufacturing apparatus 100 is a boundary between the blue sign 102 and the conduit 105b, It can be close to. As shown in Fig. 2, the rear portion of the downstream side of the blue sign 102 where the second defoaming step (S3) is performed is surrounded by the fence 202. Thereby, the atmosphere around the rear part of the blue sign 102, which is a container made of platinum or a platinum alloy disposed inside the fence 202, can be controlled independently by adjusting the control valve provided in the branch pipe of the steam pipe 106b As shown in Fig.

흡수 공정(S4)과 교반 공정(S5)의 경계는, 용융 글래스의 온도가 글래스의 교반에 적합한 온도로 저하된 점으로 할 수 있다. 즉, 흡수 공정(S4)은, 용융 글래스의 온도가 상기 제1 온도 범위의 하한의 온도로 저하된 후에 개시되고, 용융 글래스의 온도가 글래스의 교반에 적합한 온도로 저하될 때까지 행해진다. 본 실시 형태에서는, 글래스 기판 제조 장치(100)에 있어서의 흡수 공정(S4)과 교반 공정(S5)의 경계는, 도관(105b)의 교반조(103)와의 접속 개소의 근방으로 할 수 있다. 흡수 공정(S4)이 행해지는 도관(105b)의 청징조(102)와의 접속 개소 또는 그 근방으로부터, 도관(105b)의 교반조(103)와의 접속 개소의 근방까지는, 울타리(203)에 의해 둘러싸여 있다. 이에 의해, 증기관(106b)의 분기관에 설치된 조절 밸브를 조절함으로써, 울타리(203)의 내측에 배치된 백금 또는 백금 합금제의 용기인 도관(105b)의 주위의 분위기를, 독립적으로 제어할 수 있게 되어 있다.The boundary between the absorption step (S4) and the stirring step (S5) may be a point where the temperature of the molten glass has dropped to a temperature suitable for stirring the glass. That is, the absorption step (S4) is started after the temperature of the molten glass has fallen to the lower limit temperature of the first temperature range, and the temperature of the molten glass is lowered to a temperature suitable for agitating the glass. In this embodiment, the boundary between the absorption step (S4) and the stirring step (S5) in the glass substrate manufacturing apparatus (100) can be close to the connection point of the conduit (105b) with the stirring tank (103). The vicinity of the connecting portion of the conduit 105b with the stirring vessel 103 is surrounded by the fence 203 from the connection point of the conduit 105b in which the absorption process S4 is performed to the blue vessel 102 or from the vicinity thereof, have. Thereby, the atmosphere around the duct 105b, which is a container made of platinum or a platinum alloy disposed inside the fence 203, can be independently controlled by adjusting the control valve provided in the branch pipe of the steam pipe 106b .

교반 공정(S5)과 성형 온도 공급 공정(S6)의 경계는, 용융 글래스의 온도가 아니라, 설비의 경계와 일치한다. 즉, 교반 공정(S5)과 성형 온도 조정 공정(S6)의 경계는, 도관(105c)의 교반층(103)과의 접속 개소의 근방으로 할 수 있다. 도 2에 도시하는 바와 같이, 교반 공정(S5)이 행해지는 교반조(103) 및 도관(105b, 105c)의 단부는, 울타리(204)에 의해 둘러싸여 있다. 따라서, 증기관(106b)의 분기관에 설치된 조절 밸브를 조절함으로써, 교반 공정(S5)이 행해지는 울타리(204)의 내측의 백금 또는 백금 합금제의 용기인 교반조(103)의 주위의 분위기를 독립적으로 제어할 수 있게 되어 있다. 또한, 울타리(204)는 울타리(203)의 내측에 배치되어 있다. 이에 의해, 울타리(204)의 내측의 분위기의 수증기 분압을 저하되기 어렵게 할 수 있다.The boundary between the stirring step (S5) and the forming temperature supplying step (S6) is not the temperature of the molten glass but coincides with the boundary of the equipment. That is, the boundary between the stirring step (S5) and the forming temperature adjusting step (S6) can be close to the connecting portion of the conduit (105c) with the stirring layer (103). As shown in Fig. 2, the ends of the stirring tank 103 and the conduits 105b and 105c, in which the stirring step (S5) is performed, are surrounded by the fence 204. Therefore, by adjusting the regulating valve provided in the branch pipe of the steam pipe 106b, the atmosphere around the stirring tank 103, which is a container made of platinum or a platinum alloy inside the fence 204 in which the stirring step S5 is performed, And can be independently controlled. In addition, the fence 204 is disposed inside the fence 203. This makes it possible to make the steam partial pressure of the atmosphere inside the fence 204 difficult to lower.

성형 온도 조정 공정(S6)과 성형 공정(S7)의 경계는, 용융 글래스의 온도가 성형에 적합한 온도까지 저하되는 점으로 할 수 있고, 본 실시 형태에서는 도관(105c)의 성형 장치(104)와의 접속 개소의 직전으로 할 수 있다. 성형 온도 조정 공정(S7)이 행해지는 도관(105c)의 교반조(103)와의 접속 개소의 근방으로부터, 도관(105c)의 성형 장치(104)와의 접속 개소의 직전까지는 울타리(205)에 의해 둘러싸여 있다. 따라서, 증기관(106b)의 분기관에 설치된 조절 밸브를 조절함으로써, 성형 온도 조정 공정(S6)이 행해지는 울타리(205)의 내측의 백금 또는 백금 합금제의 용기인 도관(105c)의 주위의 분위기를 독립적으로 제어할 수 있게 되어 있다.The boundary between the molding temperature adjusting step S6 and the molding step S7 can be a point at which the temperature of the molten glass is lowered to a temperature suitable for molding. In this embodiment, This can be done immediately before the connection point. It is surrounded by the fence 205 from the vicinity of the connecting position of the conduit 105c with the stirring tank 103 where the molding temperature adjusting step S7 is performed until immediately before the connecting position of the conduit 105c with the molding apparatus 104 have. Therefore, by adjusting the control valve provided in the branch pipe of the steam pipe 106b, the atmosphere around the duct 105c, which is a container made of platinum or a platinum alloy inside the fence 205 to be subjected to the molding temperature adjusting step (S6) Can be independently controlled.

본 실시 형태에서는, 상기한 제2 탈포 공정(S3)으로부터 성형 온도 조정 공정(S7)까지의 각 공정에 있어서, 백금 또는 백금 합금제의 용기의 주위의 분위기 제어를 행한다. 분위기 제어는, 용융 글래스 중, 특히 용융 글래스와 백금 또는 백금 합금제의 용기의 계면 부근의 영역에 기포가 형성되고, 당해 기포가 글래스 중에 잔존하는 것을 억제하기 위해 행한다. 분위기 제어라 함은, 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압의 제어를 말한다. 구체적으로는, 용기의 주위의 분위기에 공급하는 수증기량을 조절함으로써, 각 공정의 분위기 중 수증기압을 소정의 압력으로 유지한다.In the present embodiment, the atmosphere around the container made of platinum or a platinum alloy is controlled in each step from the second defoaming step (S3) to the forming temperature adjusting step (S7). The atmosphere control is carried out in order to suppress the formation of bubbles in the molten glass, particularly in the region near the interface between the molten glass and the container made of platinum or platinum alloy, and to prevent the bubbles from remaining in the glass. The atmosphere control means the control of the steam partial pressure of the atmosphere around the vessel. Specifically, by regulating the amount of water vapor supplied to the atmosphere around the vessel, the water vapor pressure in the atmosphere of each step is maintained at a predetermined pressure.

공급하는 수증기의 제어는, 증기관(106b)의 분기관에 설치된 조절 밸브에 의한 유량의 조절에 의해 행한다. 이에 의해, 백금 또는 백금 합금제의 용기의 내측의 수소 이온(H＋) 혹은 수소(H2)의 외측으로의 이동에 의한 용융 글래스 중의 수산화물 이온(OH－)으로부터의 O2 발생을 억제하고, 기포가 용융 글래스 중, 특히 용기와의 계면 부근의 영역에 형성되는 것을 억제할 수 있다.The supply of steam is controlled by adjusting the flow rate by a regulating valve provided in the branch of the steam pipe 106b. This suppresses the generation of O 2 from the hydroxide ion (OH - ) in the molten glass due to the movement of hydrogen ions (H + ) or hydrogen (H 2 ) inside the vessel made of platinum or platinum alloy to the outside, It is possible to suppress the formation of bubbles in the molten glass, particularly in the region near the interface with the container.

제1 탈포 공정(S2)은, 탈포를 촉진하기 위해, 온도를 높여, 청징제로부터 산소를 방출시키고 있으므로, 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압이 낮고, 용기 내부에 산소 기포가 생성되어도 문제없다. 반대로, 제1 탈포 공정(S2)에 있어서 용기의 주위의 분위기 중에 수증기량이 많으면, 수증기에 의해 용기로부터 열이 빼앗겨 용융 글래스를 청징에 적합한 온도로 가열하기 위한 전력이 필요 이상으로 많아진다.In the first defoaming step (S2), the temperature is raised to promote defoaming, and oxygen is released from the refining agent, so that the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container is low and oxygen bubbles are generated inside the container. On the other hand, if the amount of water vapor in the atmosphere around the container in the first defoaming step S2 is too high, the power for heating the molten glass to a temperature suitable for refinement is more than necessary because heat is taken from the container by water vapor.

따라서, 본 실시 형태에서는, 제1 탈포 공정(S2)에 있어서의 백금 또는 백금 합금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을, 제2 탈포 공정(S3), 흡수 공정(S4), 교반 공정(S5) 및 성형 온도 조정 공정(S6)의 백금 또는 백금 합금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압보다도 낮게 한다. 구체적으로는, 제1 탈포 공정(S2)이 행해지는 청징조(102)의 전반 부분을 둘러싸는 울타리(201)의 내측에 수증기를 공급하지 않도록 한다. 그로 인해, 제1 탈포 공정(S2)에 있어서, 용기에 대한 수증기의 악영향을 억제할 수 있어, 용기로부터 수증기에 의해 빼앗기는 열이 감소하고, 용융 글래스를 효과적으로 청징할 수 있다. 따라서, 제조 설비의 장수명화 및 전력 소비의 억제를 도모하면서, 글래스 중에 기포가 잔존하는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.Therefore, in this embodiment, the steam partial pressure of the atmosphere around the container made of platinum or platinum alloy in the first defoaming step (S2) is subjected to the second defoaming step (S3), the absorption step (S4), and the stirring step S5) and the molding temperature adjusting step (S6), the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container made of platinum or platinum alloy. Specifically, water vapor is not supplied to the inside of the fence 201 surrounding the first half of the blue sign 102 where the first defoaming step S2 is performed. Thus, in the first defoaming step (S2), adverse effects of water vapor on the container can be suppressed, the heat absorbed by the vapor from the container can be reduced, and the molten glass can be effectively refined. Therefore, it is possible to effectively suppress the remaining of air bubbles in the glass while improving the longevity of the manufacturing equipment and suppressing the power consumption.

본 실시 형태에서는, 또한, 제2 탈포 공정(S3), 흡수 공정(S4) 및 성형 온도 조정 공정(S6)에 있어서의 백금 또는 백금 합금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압이, 교반 공정(S5)에 있어서의 백금 또는 백금 합금제의 용기의 주위의 수증기 분압보다도 낮아지도록 한다. 본 실시 형태에서는, 글래스 기판 제조 장치(100)에 의해 제조된 글래스 기판의 β-OH값을 측정하는 공정을 실시한다.In the present embodiment, the steam partial pressure of the atmosphere around the container made of platinum or platinum alloy in the second defoaming step (S3), the absorption step (S4) and the molding temperature adjusting step (S6) S5 is lower than the partial pressure of water vapor around the container made of platinum or platinum alloy. In this embodiment, a step of measuring the? -OH value of the glass substrate manufactured by the glass substrate manufacturing apparatus 100 is performed.

여기서, β-OH값이라 함은, IR 분광 분석법에 의해 측정되는 글래스 중의 히드록실 함유량의 척도를 말한다. 이 β-OH를 측정함으로써, 글래스 중의 수분량을 추정할 수 있다. β-OH를 측정하는 위치는 임의이며, 조의 상부 또는 저(底)부의 외주부, 상부 또는 저부의 중심부 등 임의이다. β-OH의 측정은, 이하와 같이 하여 행할 수 있다.Here, the? -OH value refers to a measure of the hydroxyl content in the glass as measured by IR spectroscopy. By measuring this? -OH, the moisture content in the glass can be estimated. The position at which the beta -OH is measured is optional, and is arbitrary such as the outer periphery of the upper or lower portion of the bath, the center of the upper or lower portion. The measurement of? -OH can be carried out as follows.

(1)얻어진 글래스에서, 2700 내지 2900㎚의 흡수 스펙트럼을 측정한다.(1) In the obtained glass, an absorption spectrum of 2700 to 2900 nm is measured.

(2)상기한 범위의 투과율의 최솟값을 T1이라고 하고, 2500㎚에서의 투과율을 T0이라고 한다.(2) The minimum value of the transmittance in the above-mentioned range is referred to as T1, and the transmittance at 2500 nm is referred to as T0.

이때, β-OH의 값은, 다음 식에 의해 산출된다.At this time, the value of? -OH is calculated by the following equation.

β－OH＝(1/d)·(log10(T0/T1))? -OH = (1 / d) 占 (log10 (T0 / T1))

단, d는 시료의 두께(㎜)이다.Where d is the thickness of the sample (mm).

교반 공정(S5)에서는, 용융 글래스가 교반되고, 교반조(103)의 백금 또는 백금 합금제의 용기의 벽면에는, 항상 새로운 글래스가 공급되고 있다. 벽면 부근의 글래스가 유동하지 않으면, 글래스 중의 OH기가 수소와 산소로 해리되어 산소가 발생하였다고 해도, 그에 의해 글래스 중의 OH기도 감소하므로, 시간과 함께, 산소의 발생은 억제되어 간다. 그러나, 교반조(103)의 경우, 용기의 벽면에 항상 새로운 글래스가 공급되고 있으므로, 글래스 중 OH기의 농도가 감소하지 않는다. 바꾸어 말하면, 용기 내의 용융 글래스가 스터러에 의해 교반됨으로써, 용기의 벽면 부근의 외측의 용융 글래스와, 용기의 벽면으로부터 떨어진 내측의 용융 글래스가 항상 교체되어 있다. 한편, 교반 공정(S5) 이외의 공정에서는, 용기의 벽면 부근의 용융 글래스의 흐름은 용기의 벽면을 따른 층류이다. 따라서, 교반 공정(S5) 이외의 공정에 있어서, 용기의 벽면 부근의 용융 글래스와 용기의 벽면으로부터 떨어진 용융 글래스의 교체는, 교반 공정(S5)에 비해 상당히 적다. 그로 인해, 교반 공정(S5)에서는, 용기의 벽면 부근의 용융 글래스가 유동하기 어려운 다른 공정에 비해, 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 높게 유지하고, OH기의 해리 반응을 보다 강하게 억제하는 것이 필요하다.In the stirring step (S5), the molten glass is stirred, and fresh glass is always supplied to the wall surface of the container made of platinum or platinum alloy in the stirring tank (103). If the glass in the vicinity of the wall does not flow, even if the OH group in the glass dissociates into hydrogen and oxygen to generate oxygen, thereby reducing the OH group in the glass, the generation of oxygen is suppressed with time. However, in the case of the stirring tank 103, since the fresh glass is always supplied to the wall surface of the container, the concentration of the OH group in the glass does not decrease. In other words, since the molten glass in the container is stirred by the stirrer, the molten glass outside the wall of the container and the molten glass inside the wall away from the wall of the container are always replaced. On the other hand, in the steps other than the stirring step (S5), the flow of the molten glass near the wall surface of the container is laminar flow along the wall surface of the container. Therefore, in the steps other than the stirring step (S5), the replacement of the molten glass near the wall surface of the container and the molten glass remote from the wall surface of the container is significantly less than the stirring step (S5). Thereby, in the stirring step (S5), the water vapor partial pressure of the atmosphere around the vessel is kept higher and the dissociation reaction of the OH group is suppressed more strongly than other steps in which the molten glass near the wall surface of the vessel is difficult to flow need.

또 하나, 교반 공정(S5)에 있어서 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 높게 유지해야 하는 이유로서, 교반조(103)에서는, 용기 내의 용융 글래스 중에서 스터러가 회전하고 있을 수가 있다. 교반층(103)의 백금 또는 백금 합금제의 용기 내의 용융 글래스의 점도는, 500포아즈 내지 2000포아즈 정도이고, 스터러의 회전 속도는, 예를 들어 1rpm 내지 15rpm이다. 이러한 조건에서, 스터러가 회전하고 있을 때, 스터러의 교반 날개의 이면측의 부분에서는, 그 밖의 부분에 비해 용융 글래스에 가해지는 압력이 내려가고, 용융 글래스 중에 용입되어 있는 기체 성분이 발포하기 쉽게 되어 있다. 여기에, 교반조(103)의 용기의 벽면에서 생성된 산소 기포가 인입된 경우, 그 산소 기포 중에, 글래스 중의 N2나 SO2의 가스 성분이 용이하게 인입된다. 기포 중의 가스 성분이 산소만인 경우, 그 후, 글래스 온도가 내려감에 따라, 용이하게 글래스 중에 재흡수된다. 그러나, 기포 중에 N2나 SO2가 인입되면, 이들 가스 성분은 글래스에 재흡수되기 어려우므로, 기포가 재흡수되지 않고 글래스 기판의 결점으로 되는 기포가 남아 버린다.Still another reason for keeping the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container high in the stirring step (S5) is that the stirrer may be rotating in the molten glass in the stirring tank (103). The viscosity of the molten glass in the vessel made of platinum or platinum alloy of the stirring layer 103 is about 500 to about 2000 poise, and the rotation speed of the stirrers is, for example, 1 rpm to 15 rpm. Under such a condition, when the stirrer is rotating, the pressure applied to the molten glass is lowered at the portion on the back side of the stirrer blade of the stirrer, and the gas component injected into the molten glass is expanded It is easy. When oxygen bubbles generated in the wall surface of the container of the stirring tank 103 are introduced, the gas components of N 2 and SO 2 in the glass easily enter into the oxygen bubbles. When the gas component in the bubbles is only oxygen, then, as the glass temperature is lowered, it is easily reabsorbed in the glass. However, when N 2 or SO 2 is drawn into the bubbles, these gas components are difficult to be reabsorbed in the glass, so that the bubbles remain as blemishes in the glass substrate without being reabsorbed.

즉, 교반 공정(S5)은, 다른 공정과 비교하여, 글래스 기판의 결점으로 되는 기포가 발생하기 쉽다. 따라서, 울타리(204)의 내측에 공급되는 수증기의 유량을 비교적 많게 하여, 교반층(103)의 주위의 수증기 분압을 비교적 높게 유지하여, 용융 글래스에 산소 기포가 발생하기 어렵게 할 필요가 있다.That is, in the stirring step (S5), bubbles which are defects of the glass substrate are likely to be generated as compared with other steps. Therefore, it is necessary to make the flow rate of the water vapor supplied to the inside of the fence 204 relatively large, to keep the partial pressure of the water vapor around the stirring layer 103 relatively high, and to prevent oxygen bubbles from being generated in the molten glass.

교반 공정(S5)에서는, 예를 들어 글래스 기판의 β-OH의 값 0.10/㎜당 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 1.2㎪ 이상으로 한다. 이에 의해, 글래스 기판의 결점으로 되는 기포의 발생을 막을 수 있다. 교반 공정(S5)에 있어서, 글래스 기판의 β-OH값 0.10/㎜당 수증기 분압이 1.2㎪보다도 작으면, 기포 결점을 충분히 억제할 수 없다. 예를 들어, 교반 공정(S5)에서는, 글래스 기판의 β-OH의 값이 0.40/㎜인 경우, 용기의 외측의 분위기의 수증기 분압은 (0.4/0.1)×1.2㎪＝4.8㎪ 이상이면 된다. 글래스 기판의 β-OH의 값은, 제조 조건에 따라 다르지만, 예를 들어 0.05/㎜로부터 1/㎜까지의 범위, 혹은 0.1/㎜로부터 0.6/㎜까지의 범위를 취할 수 있다. 따라서, 본 실시 형태에서는, 교반 공정(S5)에 있어서, 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을, 0.6㎪ 이상 또한 12㎪ 이하, 혹은 1.2㎪ 이상 또한 7.2㎪ 이하로 할 수 있다.In the stirring step (S5), for example, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the vessel per 0.10 / mm of? -OH value of the glass substrate is set to 1.2 kPa or more. This makes it possible to prevent the generation of bubbles which are defects of the glass substrate. In the stirring step (S5), when the partial pressure of water vapor per 0.10 / mm of the? -OH value of the glass substrate is smaller than 1.2 kPa, bubble defects can not be sufficiently suppressed. For example, in the stirring step (S5), when the value of? -OH of the glass substrate is 0.40 / mm, the partial pressure of water vapor in the atmosphere outside the vessel may be (0.4 / 0.1) 1.2? The value of? -OH of the glass substrate varies depending on the production conditions, but can range, for example, from 0.05 / mm to 1 / mm or from 0.1 / mm to 0.6 / mm. Therefore, in the present embodiment, in the stirring step (S5), the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the vessel can be set to 0.6 ㎪ or more and 12 ㎪ or less, or 1.2 ㎪ or more and 7.2 ㎪ or less.

제2 탈포 공정(S3)에서는, 용융 글래스 중에 산소를 흡수시키는 반응을 시작하므로, 필요 이상으로 백금 또는 백금 합금제의 용기의 외측의 수증기 분압을 내리고, 용융 글래스 중의 산소의 발생을 촉진할 필요는 없다. 그러나, 제2 탈포 공정(S3)에서는, 용기의 외측의 수증기 분압을 교반 공정(S5)보다도 낮게 함으로써, 용융 글래스 중에 산소 기포가 발생하였다고 해도, 용융 글래스의 온도가 높으므로, 용융 글래스 중으로의 산소의 확산 속도가 높고, 또한, 용융 글래스 중의 청징제가 산소를 흡수하는 여력도 충분히 갖고 있다. 그로 인해, 제2 탈포 공정(S3)에서는, 용기의 외측의 수증기 분압을 교반 공정(S5)만큼 높게 할 필요는 없다.In the second defoaming step (S3), since the reaction for absorbing oxygen is started in the molten glass, it is not necessary to lower the partial pressure of water vapor outside the container made of platinum or platinum alloy and to accelerate the generation of oxygen in the molten glass none. However, in the second degassing step (S3), even if oxygen bubbles are generated in the molten glass by lowering the partial pressure of water vapor outside the container than the stirring step (S5), the temperature of the molten glass is high, And the cleaning agent in the molten glass has sufficient abilities to absorb oxygen. Therefore, in the second defoaming step (S3), the steam partial pressure outside the vessel need not be made as high as the stirring step (S5).

제2 탈포 공정(S3)에서는, 예를 들어 글래스 기판의 β-OH의 값 0.10/㎜당 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 0.7㎪ 이상으로 한다. 이에 의해, 글래스 기판의 결점으로 되는 기포의 발생을 막을 수 있다. 제2 탈포 공정(S3)에 있어서, 글래스 기판의 β-OH값 0.10/㎜당 수증기 분압이 0.7㎪보다도 작으면, 기포 결점을 충분히 억제할 수 없다. 예를 들어, 제2 탈포 공정(S3)에서는, 글래스 기판의 β-OH의 값이 0.40/㎜인 경우, 용기의 외측의 분위기의 수증기 분압은 (0.4/0.1)×0.7㎪＝2.8㎪ 이상이면 된다. 또한, 글래스 기판의 β-OH의 값이 상기한 범위를 취할 수 있는 경우, 제2 탈포 공정(S3)에 있어서의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압은, 0.35㎪ 이상 또한 7㎪ 이하, 혹은 0.7㎪ 이상 또한 4.2㎪ 이하로 할 수 있다.In the second defoaming step (S3), for example, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the vessel per 0.10 / mm of the? -OH value of the glass substrate is set to 0.7 kPa or more. This makes it possible to prevent the generation of bubbles which are defects of the glass substrate. In the second defoaming step (S3), if the partial pressure of water vapor per 0.10 mm of the? -OH value of the glass substrate is less than 0.7 pF, bubble defects can not be sufficiently suppressed. For example, in the second defoaming step (S3), when the value of beta -OH of the glass substrate is 0.40 / mm, the partial pressure of water vapor in the atmosphere outside the container is (0.4 / 0.1) 0.7 do. When the value of beta -OH of the glass substrate can be in the above-mentioned range, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container in the second defoaming step (S3) is not less than 0.35 mm and not more than 7 mm, or not more than 0.7 ㎪ or more and 4.2 ㎪ or less.

흡수 공정(S4)에서는, 용융 글래스의 온도를 내리면서, 청징제의 산소 흡수 반응에 의해, 용융 글래스 중에 산소를 흡수한다. 이 공정에서는, 용융 글래스의 온도가 내려가고, 청징제의 산소 흡수 여력도 작게 되어 있으므로, 용기의 외측의 분위기의 수증기 분압을, 제2 탈포 공정(S3)의 그것과 동등하거나 그것보다도 높게 하여, 물의 분해 반응에 의한 산소 발생을 억제할 필요가 있다.In the absorption step (S4), oxygen is absorbed in the molten glass by the oxygen absorption reaction of the refining agent while lowering the temperature of the molten glass. In this step, the temperature of the molten glass is lowered and the ability of the cleaning agent to absorb oxygen is also reduced. Therefore, the steam partial pressure of the atmosphere outside the vessel is made equal to or higher than that of the second defoaming step (S3) It is necessary to suppress the generation of oxygen by the decomposition reaction of water.

흡수 공정(S4)에서는, 예를 들어 글래스 기판의 β-OH의 값 0.10/㎜당 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 0.8㎪ 이상으로 한다. 이에 의해, 글래스 기판의 결점으로 되는 기포의 발생을 막을 수 있다. 흡수 공정(S4)에 있어서, 글래스 기판의 β-OH값 0.10/㎜당 수증기 분압이 0.8㎪보다도 작으면, 기포 결점을 충분히 억제할 수 없다. 예를 들어, 흡수 공정(S4)에서는, 글래스 기판의 β-OH의 값이 0.40/㎜인 경우, 용기의 외측의 분위기의 수증기 분압은 (0.4/0.1)×0.8㎪＝3.2㎪ 이상이면 된다. 또한, 글래스 기판의 β-OH의 값이 상기한 범위를 취할 수 있는 경우, 흡수 공정(S4)에 있어서의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압은, 0.4㎪ 이상 또한 8㎪ 이하, 혹은 0.8㎪ 이상 또한 4.8㎪ 이하로 할 수 있다.In the absorption step (S4), for example, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the vessel per 0.10 / mm of the? -OH value of the glass substrate is set to 0.8 kPa or more. This makes it possible to prevent the generation of bubbles which are defects of the glass substrate. In the absorption step (S4), if the partial pressure of water vapor per 0.10 / mm of the? -OH value of the glass substrate is smaller than 0.8 kPa, the bubble defect can not be sufficiently suppressed. For example, in the absorption step (S4), when the value of? -OH of the glass substrate is 0.40 / mm, the partial pressure of water vapor in the atmosphere outside the container may be (0.4 / 0.1) x 0.8? When the value of? -OH of the glass substrate can take the above-mentioned range, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container in the absorption step (S4) is 0.4 to 8 psi, or 0.8 psi or more It can also be 4.8 kPa or less.

성형 온도 조정 공정(S6)에서는, 교반 공정(S5)과 달리, 용융 글래스의 흐름이 층류로 된다. 이 공정에서는, 교반 공정(S5)보다도 더욱 용융 글래스의 온도가 저하되고, 용융 글래스 중의 물의 확산 속도가 더욱 작아진다. 그로 인해, 이 공정에서는, 용기의 외측의 분위기의 수증기 분압을, 흡수 공정(S4)의 그것과 동등하거나, 그것보다도 높게 한다. 그러나, 성형 온도 조정 공정(S6)에서는, 용기의 외측의 수증기 분압을 교반 공정(S5)만큼 높게 할 필요는 없다.In the molding temperature adjusting step (S6), unlike the stirring step (S5), the flow of the molten glass becomes laminar flow. In this step, the temperature of the molten glass is lowered further than the stirring step (S5), and the diffusion rate of water in the molten glass is further reduced. Therefore, in this step, the steam partial pressure of the atmosphere outside the vessel is equal to or higher than that of the absorption step (S4). However, in the forming temperature adjusting step (S6), it is not necessary to increase the partial pressure of water vapor outside the vessel as high as the stirring step (S5).

성형 온도 조정 공정(S6)에서는, 예를 들어 글래스 기판의 β-OH의 값 0.10/㎜당 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 0.6㎪ 이상으로 한다. 이에 의해, 글래스 기판의 결점으로 되는 기포의 발생을 막을 수 있다. 성형 온도 조정 공정(S6)에 있어서, 글래스 기판의 β-OH값 0.10/㎜당 수증기 분압이 0.6㎪보다도 작으면, 기포 결점을 충분히 억제할 수 없다. 예를 들어, 성형 온도 조정 공정(S6)에서는, 글래스 기판의 β-OH의 값이 0.40/㎜인 경우, 용기의 외측의 분위기의 수증기 분압은 (0.4/0.1)×0.6㎪＝2.4㎪ 이상이면 된다. 또한, 글래스 기판의 β-OH의 값이 상기한 범위를 취할 수 있는 경우, 성형 온도 조정 공정(S6)에 있어서의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압은, 0.3㎪ 이상 또한 6㎪ 이하, 혹은 0.6㎪ 이상 또한 3.6㎪ 이하로 할 수 있다.In the forming temperature adjusting step (S6), for example, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container per 0.10 / mm of the? -OH value of the glass substrate is set to 0.6 kPa or more. This makes it possible to prevent the generation of bubbles which are defects of the glass substrate. In the molding temperature adjusting step (S6), when the partial pressure of water vapor per 0.10 mm of the? -OH value of the glass substrate is smaller than 0.6 kPa, bubble defects can not be sufficiently suppressed. For example, in the forming temperature adjusting step (S6), when the value of beta -OH of the glass substrate is 0.40 / mm, if the steam partial pressure of the atmosphere outside the container is (0.4 / 0.1) x 0.6? do. When the value of? -OH of the glass substrate can take the above-mentioned range, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container in the molding temperature adjusting step (S6) is not less than 0.3 kPa and not more than 6 kPa or not more than 0.6 ㎪ or more and 3.6. Or less.

이상 설명한 바와 같이, 본 실시 형태에서는, 다른 공정과 비교하여, 산소 기포가 발생하기 쉽고 또한 발생한 기포가 글래스 중에 남기 쉬운 교반 공정(S5)에 착안하여, 교반 공정(S5)에 있어서 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압의 범위를 규정하고 있다. 즉, 가장 글래스 기판의 기포 결함에 영향을 미치는 교반 공정(S5)에 있어서, 기포 결함을 효과적으로 억제하는 데 유효한, 용기의 주위의 수증기 분압의 범위를, 글래스 기판의 β-OH의 값에 기초하여 규정하고 있다.As described above, in this embodiment, in consideration of the stirring step (S5) in which oxygen bubbles are likely to occur and bubbles generated are likely to remain in the glass as compared with other steps, the stirring step (S5) The range of the steam partial pressure of the atmosphere is defined. That is, the range of the partial pressure of steam around the vessel, which is effective for effectively suppressing bubble defects, in the stirring step (S5) affecting the bubble defect of the glass substrate, is determined based on the value of? -OH of the glass substrate Of the total.

따라서, 본 실시 형태의 글래스 기판의 제조 방법에 따르면, 종래보다도 교반 공정(S5)에 있어서의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 저감할 수 있고, 또한 효과적으로 글래스 기판의 기포 결함을 억제할 수 있다. 또한, 교반 공정(S5) 이외의 공정에 대해서는, 교반 공정(S5)보다도 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 저하시킬 수 있다. 따라서, 종래보다도 글래스 기판의 제조에 필요한 에너지를 삭감하고, 작업 환경을 개선할 수 있다.Therefore, according to the manufacturing method of the glass substrate of the present embodiment, it is possible to reduce the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the vessel in the stirring step (S5) as compared with the conventional method, and effectively suppress bubble defects of the glass substrate . In addition to the stirring step (S5), the steam partial pressure of the atmosphere around the vessel can be lower than the stirring step (S5). Therefore, the energy required for manufacturing the glass substrate can be reduced and the working environment can be improved as compared with the conventional technique.

또한, 교반 공정(S5)에 있어서, 스터러의 회전 속도를 1rpm 내지 15rpm으로 규정하고 있다. 이에 의해, 교반에 적합한 점도의 용융 글래스를, 소정의 시간 내에 충분히 교반하여 균질화할 수 있다. 또한, 상기한 바와 같이 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압이 규정되어 있으므로, 스터러의 회전 속도가 상기한 범위이면, 스터러의 교반 날개의 이면측에 있어서 용융 글래스 중에 부압이 발생한 경우라도, 용융 글래스 중의 산소 기포의 발생을 효과적으로 억제하고, 글래스 기판의 기포 결함을 효과적으로 방지할 수 있다.Further, in the stirring step (S5), the rotation speed of the stirrer is set to 1 rpm to 15 rpm. Thereby, the molten glass having a viscosity suitable for stirring can be homogenized by sufficiently stirring within a predetermined time. Since the steam partial pressure of the atmosphere around the vessel is defined as described above, even if negative pressure is generated in the molten glass on the back side of the stirring blades of the stirrer, The generation of oxygen bubbles in the glass can be effectively suppressed and the bubble defect of the glass substrate can be effectively prevented.

또한, 제2 탈포 공정(S3) 이후에 있어서, 백금 또는 백금 합금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을, 단순히 제1 탈포 공정(S2)보다도 높게 유지하는 것이 아니라, 교반 공정(S5)에 있어서, 제2 탈포 공정(S3) 이후의 그 밖의 공정보다도, 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 선택적으로 높게 하고 있다. 바꿔 말하면, 제2 탈포 공정(S3) 이후의 공정 중에서도 특히 기포가 생성되기 쉬운 교반 공정(S5) 이외의 공정에 관해서는, 용기의 외측의 분위기의 수증기 분압을 비교적 낮게 할 수 있다. 그로 인해, 제2 탈포 공정(S3) 이후에 있어서, 종래보다도 수증기의 사용량을 저감할 수 있을 뿐 아니라, 용기로부터 수증기에 의해 빼앗기는 열량을 적게 할 수 있다. 따라서, 본 실시 형태에 따르면, 종래보다도 글래스 기판의 제조에 필요한 에너지를 삭감할 수 있고, 또한 글래스 기판의 기포질의 악화를 방지할 수 있다. 덧붙여 말하면, 제2 탈포 공정(S3) 이후의 용기의 주위의 분위기의 습도를 종래보다도 저하시킬 수 있으므로, 글래스 기판 제조 장치(100)의 유지 보수를 행하는 작업원의 작업 환경을 개선할 수 있다.The steam partial pressure of the atmosphere around the container made of platinum or a platinum alloy after the second defoaming step (S3) is not maintained at a higher level than the first defoaming step (S2) but is carried out in the stirring step (S5) , So that the steam partial pressure of the atmosphere around the vessel is selectively higher than the other steps after the second defoaming step (S3). In other words, among the steps after the second defoaming step (S3), the steam partial pressure of the atmosphere outside the vessel can be made relatively low, especially for the steps other than the stirring step (S5) in which bubbles are likely to be generated. Therefore, after the second defoaming step (S3), the use amount of water vapor can be reduced as compared with the conventional method, and the amount of heat taken away by the water vapor from the container can be reduced. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to reduce the energy required for manufacturing the glass substrate and to prevent the deterioration of the bubble quality of the glass substrate. Incidentally, since the humidity of the atmosphere around the container after the second defoaming step (S3) can be made lower than the conventional one, the working environment of the worker performing the maintenance of the glass substrate manufacturing apparatus 100 can be improved.

이상, 본 실시 형태의 글래스 기판의 제조 방법에 대해 상세하게 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시 형태에 한정되지 않고, 본 발명의 주지를 일탈하지 않는 범위에 있어서, 다양한 개량이나 변경을 해도 된다.Although the method of manufacturing the glass substrate of the present embodiment has been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications and changes may be made without departing from the gist of the present invention.

예를 들어, 상술한 실시 형태에서는, 플랫 패널 디스플레이용 글래스 기판을 제조하는 방법을 예로 들어 설명하였지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 본 발명의 글래스 기판 제조 방법은, 강화 글래스용 기판을 작성하는 경우에도 적용 가능하다. 강화 글래스용 기판의 예로서, 휴대 전화, 디지털 카메라, 휴대 단말기, 태양 전지의 커버 글래스 및 터치 패널 디스플레이의 커버 글래스 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다.For example, in the above-described embodiments, a method of manufacturing a glass substrate for a flat panel display has been described as an example, but the present invention is not limited to this. The glass substrate manufacturing method of the present invention is also applicable to the case of producing a substrate for tempered glass. Examples of substrates for tempered glass include, but are not limited to, cellular phones, digital cameras, portable terminals, cover glasses for solar cells, and cover glasses for touch panel displays.

또한, 상술한 실시 형태에서는, 글래스 기판 제조 장치에 의해 제조된 글래스 기판의 β-OH값을 측정하는 공정을 실시하였다. 그러나, 글래스 기판의 β-OH의 값을 미리 알고 있는 경우에는, 글래스 기판의 β-OH값을 측정하는 공정을 생략할 수 있다.In the above-described embodiment, the step of measuring the? -OH value of the glass substrate produced by the glass substrate manufacturing apparatus was performed. However, when the value of? -OH of the glass substrate is known in advance, the step of measuring the? -OH value of the glass substrate can be omitted.

[실시예][Example]

상술한 실시 형태에서 설명한 글래스 기판 제조 장치를 사용하고, 상술한 실시 형태에서 설명한 글래스 기판의 제조 방법에 의해 글래스 기판을 제조하였다.A glass substrate was manufactured by the glass substrate manufacturing apparatus described in the above-described embodiments and the glass substrate manufacturing method described in the above-mentioned embodiments.

제1 탈포 공정에서는, 백금제의 용기의 주위의 분위기에 수증기를 공급하지 않았다.In the first defoaming step, no steam was supplied to the atmosphere around the container made of platinum.

글래스 기판 제조 장치에 의해 제조된 글래스 기판의 β-OH의 값을 측정한 바, 0.36/㎜였다. 제2 탈포 공정에서는, 글래스 기판의 β-OH의 값 0.10/㎜당 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 2.0㎪로 하고, 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 7.2㎪로 하였다. 흡수 공정에서는, 글래스 기판의 β-OH의 값 0.10/㎜당 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 2.4㎪로 하고, 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 8.8㎪로 하였다. 교반 공정에서는, 글래스 기판의 β-OH의 값 0.10/㎜당 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 2.5㎪로 하고, 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 9.0㎪로 하였다. 성형 온도 조정 공정에서는, 글래스 기판의 β-OH의 값 0.10/㎜당 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 1.25㎪로 하고, 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 4.5㎪로 하였다.The value of? -OH of the glass substrate produced by the glass substrate production apparatus was measured and found to be 0.36 / mm. In the second defoaming step, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container made of platinum per 0.10 / mm of the? -OH value of the glass substrate was set to 2.0 kPa, and the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container made of platinum was set to 7.2 kPa Respectively. In the absorption process, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container made of platinum per 0.10 / mm of the? -OH value of the glass substrate was set to 2.4 kPa, and the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the platinum container was set to 8.8 kPa. In the stirring step, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the vessel made of platinum per 0.10 / mm of the? -OH value of the glass substrate was 2.5 kPa, and the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the vessel made of platinum was 9.0 kPa. In the forming temperature adjusting step, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container made of platinum per 0.10 / mm of the? -OH value of the glass substrate was set to 1.25 kPa, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container made of platinum was set to 4.5 kPa Respectively.

즉, 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압은, 교반 공정이 가장 높고, 흡수 공정이 교반 공정보다도 낮고, 제2 탈포 공정이 흡수 공정보다도 낮고, 성형 온도 조정 공정이 가장 낮아지도록 하였다. 이 조건에서 제조한 글래스 기판에 있어서, 직경이 100㎛ 이상인 기포의 개수를 측정한 바, 0.03개였다. 또한, 기포의 직경은, 가장 긴 직경인 장직경과 가장 짧은 직경인 단직경을 측정하고, 그들의 평균값으로 하였다.That is, the steam partial pressure of the atmosphere around the container made of platinum is such that the stirring step is the highest, the absorption step is lower than the stirring step, the second defoaming step is lower than the absorption step, and the molding temperature adjusting step is the lowest. The number of bubbles having a diameter of 100 mu m or more in the glass substrate manufactured under this condition was measured and found to be 0.03. The diameter of the bubbles was measured as the longest diameter of the longest diameter and the shortest diameter of the shortest diameter, and their average values were measured.

다음으로, 제2 탈포 공정의 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 이하와 같이 변화시켜 글래스 기판을 제조하였다.Next, a glass substrate was produced by changing the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the platinum container of the second defoaming process as follows.

제2 탈포 공정에서는, 글래스 기판의 β-OH의 값 0.10/㎜당 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 0.7㎪로 하고, 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 2.5㎪로 하였다. 흡수 공정에서는, 글래스 기판의 β-OH의 값 0.10/㎜당 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 0.8㎪로 하고, 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 2.9㎪로 하였다. 교반 공정에서는, 글래스 기판의 β-OH의 값 0.10/㎜당 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 1.2㎪로 하고, 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 4.3㎪로 하였다. 성형 온도 조정 공정에서는, 글래스 기판의 β-OH의 값 0.10/㎜당 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 0.6㎪로 하고, 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 2.2㎪로 하였다.In the second defoaming step, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the vessel made of platinum per 0.10 / mm of the? -OH value of the glass substrate was set to 0.7 kPa, and the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the vessel made of platinum was set to 2.5 kPa Respectively. In the absorption process, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the vessel made of platinum per 0.10 / mm of the? -OH value of the glass substrate was set to 0.8 kPa, and the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the vessel made of platinum was set to 2.9 kPa. In the stirring step, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the vessel made of platinum per 0.10 / mm of the? -OH value of the glass substrate was set to 1.2 kPa, and the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the vessel made of platinum was set to 4.3 kPa. In the forming temperature adjusting step, the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container made of platinum per 0.10 / mm of the? -OH value of the glass substrate was set to 0.6 kPa, and the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the platinum container was adjusted to 2.2 kPa Respectively.

즉, 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압은, 교반 공정이 가장 높고, 흡수 공정이 교반 공정보다도 낮고, 제2 탈포 공정이 흡수 공정보다도 낮고, 성형 온도 조정 공정이 가장 낮게 되어 있다. 이 조건에서 제조한 글래스 기판에 있어서, 직경이 100㎛ 이상인 기포의 개수를 측정한 바, 0.03개였다.Namely, the steam partial pressure of the atmosphere around the container made of platinum is the highest in the stirring process, lower than the stirring process, the second defoaming process is lower than the absorption process, and the molding temperature adjusting process is the lowest. The number of bubbles having a diameter of 100 mu m or more in the glass substrate manufactured under this condition was measured and found to be 0.03.

이상과 같이, 교반 공정에 있어서, 글래스 기판의 β-OH의 값 0.1/㎜당 백금제의 용기의 주위의 수증기 분압을 1.2㎪ 이상으로 하고, 교반 공정에 있어서의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 4.3㎪로 함으로써, 기포질을 악화시키는 일 없이, 제2 탈포 공정, 흡수 공정 및 성형 온도 조정 공정에 있어서의 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을, 교반 공정에 있어서의 같은 수증기 분압보다도 저하시킬 수 있었다.As described above, in the stirring step, the partial pressure of water vapor around the vessel made of platinum per 0.1 / mm of the value of? -OH of the glass substrate is set to 1.2 kPa or more and the steam partial pressure of the atmosphere around the vessel in the stirring step It is possible to control the steam partial pressure of the atmosphere around the container made of platinum in the second defoaming step, the absorption step and the molding temperature adjusting step to the same steam partial pressure in the stirring step .

한편, 상기한 각 공정 중 어느 한 공정에 있어서, 상기한 조건보다도 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 저하시킨 바, 기포의 개수는 악화되었다. 즉, 교반 공정, 흡수 공정, 제2 탈포 공정 및 성형 온도 조정 공정에 있어서, 각각 백금제의 용기의 주위의 수증기 분압을, 글래스 기판의 β-OH의 값 0.1/㎜당 1.2㎪ 이상, 0.8㎪ 이상, 0.7㎪ 이상 및 0.6㎪ 이상으로 함으로써, 기포질을 악화시키는 일 없이, 제2 탈포 공정 이후의 교반 공정 이외의 공정에 있어서의 백금제의 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 교반 공정의 그것보다도 저하시킬 수 있었다.On the other hand, when the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container made of platinum was lowered in any of the above steps, the number of bubbles deteriorated. That is, in the stirring step, the absorption step, the second defoaming step, and the forming temperature adjusting step, the steam partial pressures around the containers made of platinum are respectively set to 1.2 to 0.8 pn / Or more and 0.7 kPa or more and 0.6 kPa or more, the steam partial pressure of the atmosphere around the container made of platinum in the process other than the stirring process after the second defoaming process can be prevented .

본 발명의 방법은, 용융 글래스를 성형함으로써 글래스 기판을 제조할 때에 유리하게 이용할 수 있다.The method of the present invention can be advantageously used in manufacturing a glass substrate by molding a molten glass.

101 : 용해조(백금 또는 백금 합금제의 용기)
102 : 청징조(백금 또는 백금 합금제의 용기)
103 : 교반조(백금 또는 백금 합금제의 용기)
105a, 105b, 105c : 도관(백금 또는 백금 합금제의 용기)
S2 : 제1 탈포 공정
S3 : 제2 탈포 공정
S4 : 흡수 공정
S5 : 교반 공정
S6 : 성형 온도 조정 공정101: Melting tank (vessel made of platinum or platinum alloy)
102: Blue sign (container made of platinum or platinum alloy)
103: Stirring tank (vessel made of platinum or platinum alloy)
105a, 105b and 105c: conduits (containers made of platinum or platinum alloy)
S2: First degassing step
S3: Second degassing process
S4: Absorption process
S5: stirring step
S6: Molding temperature adjustment process

Claims (8)

글래스 원료를 용해시켜 용융 글래스를 만드는 용해 공정과,
백금 또는 백금 합금제의 용기 내에서, 상기 글래스 원료에 포함되는 청징제가 가스 성분을 방출하는 제1 온도 범위 내의 최고 온도까지 상기 용융 글래스의 온도를 상승시키고, 상기 용융 글래스 중의 기포를 부상시켜 제거하는 제1 탈포 공정과,
백금 또는 백금 합금제의 용기 내에서, 상기 제1 온도 범위의 최고 온도보다도 상기 용융 글래스의 온도를 저하시키고, 상기 용융 글래스 중의 기포를 부상시켜 제거함과 함께, 상기 용융 글래스 중에 가스 성분을 흡수시켜 기포를 축소시키는 제2 탈포 공정과,
상기 제2 탈포 공정 후, 상기 용융 글래스의 온도를 저하시킴으로써 상기 용융 글래스 중에 잔존하는 기포 중의 산소를 상기 용융 글래스에 흡수시켜 기포 직경을 축소시키고, 상기 용융 글래스의 온도를 저하시킴으로써 상기 기포의 내압을 저하시키고, 상기 기포를 소멸시키는 흡수 공정과,
청징된 용융 글래스를 백금 또는 백금 합금제의 용기 내에서 스터러의 회전에 의해 교반하여 균질화하는 교반 공정과,
상기 용융 글래스의 온도를 저하시키는 성형 온도 조정 공정
을 갖는 글래스 기판의 제조방법으로서,
상기 제1 탈포 공정, 상기 제2 탈포 공정, 상기 흡수 공정 및 상기 성형 온도 조정 공정에 있어서의 상기 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을, 상기 교반 공정에 있어서의 상기 용기의 주위의 수증기 분압보다도 낮게 하고,
상기 교반 공정에 있어서, 상기 용융 글래스의 점도를 500포아즈 이상 또한 2000포아즈 이하로 함과 함께, 상기 용기의 주위의 분위기의 수증기 분압을 0.6㎪ 이상 또한 12㎪ 이하로 하는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는,
글래스 기판의 제조 방법.A melting step of melting the glass raw material to produce molten glass,
In the vessel made of platinum or platinum alloy, the temperature of the molten glass is raised to a maximum temperature within a first temperature range in which the cleaning agent contained in the glass material releases a gas component, and the bubbles in the molten glass are floated and removed A first defoaming step,
In a container made of platinum or platinum alloy, the temperature of the molten glass is lower than the maximum temperature in the first temperature range, the bubble in the molten glass is lifted and removed, and the gas component is absorbed in the molten glass, A second defoaming step of reducing the defoaming step,
The temperature of the molten glass is lowered so that the oxygen in the bubbles remaining in the molten glass is absorbed by the molten glass to reduce the bubble diameter and the temperature of the molten glass is lowered to decrease the internal pressure of the bubble An absorption step for reducing the bubbles,
Stirring the refined molten glass in a container made of platinum or a platinum alloy by stirring with a stirrer to homogenize the molten glass,
A molding temperature adjusting step of lowering the temperature of the molten glass
The method comprising the steps of:
Wherein the steam partial pressure of the atmosphere around the vessel in the first defoaming step, the second defoaming step, the absorption step and the forming temperature adjusting step is set to be lower than the steam partial pressure of the surroundings of the vessel in the stirring step and,
Wherein the viscosity of the molten glass in the stirring step is 500 poise or more and 2000 poise or less and the partial pressure of water vapor in the atmosphere around the container is set to 0.6 to 12 kPa Features,
A method of manufacturing a glass substrate. 제1항에 있어서,
상기 교반 공정에 있어서, 상기 용기의 주위의 수증기 분압을, 상기 글래스 기판의 β-OH의 값 0.1/㎜당 1.2㎪ 이상으로 하는,
글래스 기판의 제조 방법.The method according to claim 1,
In the stirring step, the partial pressure of water vapor around the vessel is set to 1.2 kPa or more per 0.1 / mm of the? -OH value of the glass substrate,
A method of manufacturing a glass substrate. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 흡수 공정에 있어서, 상기 용기의 주위의 수증기 분압을, 상기 글래스 기판의 β-OH의 값 0.1/㎜당 0.8㎪ 이상으로 하는,
글래스 기판의 제조 방법.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein in the absorption step, the partial pressure of water vapor around the vessel is set to 0.8 cm 3 or more per 0.1 mm of the? -OH value of the glass substrate,
A method of manufacturing a glass substrate. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제2 탈포 공정에 있어서, 상기 용기의 주위의 수증기 분압을, 상기 글래스 기판의 β-OH의 값 0.1/㎜당 0.7㎪ 이상으로 하는,
글래스 기판의 제조 방법.3. The method according to claim 1 or 2,
In the second defoaming step, the partial pressure of water vapor around the vessel is set to 0.7 kPa or more per 0.1 / mm of the? -OH value of the glass substrate,
A method of manufacturing a glass substrate. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 성형 온도 조정 공정에 있어서, 상기 용기의 주위의 수증기 분압을, 상기 글래스 기판의 β-OH의 값 0.1/㎜당 0.6㎪ 이상으로 하는,
글래스 기판의 제조 방법.3. The method according to claim 1 or 2,
In the forming temperature adjusting step, the partial pressure of water vapor around the container is set to 0.6 kPa or more per 0.1 mm of the value of? -OH of the glass substrate,
A method of manufacturing a glass substrate. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 교반 공정에 있어서,
상기 스터러의 회전 속도를 1rpm 이상 또한 15rpm 이하로 하는,
글래스 기판의 제조 방법.3. The method according to claim 1 or 2,
In the stirring step,
The rotation speed of the stirrer is set to 1 rpm or more and 15 rpm or less,
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