KR101627567B1 - Dust Collection Cover For Bottom Surface Polishing Device To Prevent Dust From Flying - Google Patents

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Abstract

Disclosed is a dust collection cover for a bottom surface polishing device to prevent scattering of dust, comprising: a body part whose top and side surfaces are closed, and bottom surface is opened; an inner wall which is formed inside the body part to be coupled to a side wall of the body part, and divides a space part formed inside the body part into a first space part and a second space part; and a dust discharge port which communicates with the second space part, and communicates with a dust collector through a hose. In regards to this, the inner wall includes a top inner wall surface formed inside the body part to be horizontally extended from the side wall of the body part, and a side inner wall surface vertically extended from the top inner wall surface. In addition, the first space part is formed by being surrounded by the top surface wall and a part of the side wall of the body part, and the top inner wall surface and the side inner wall surface. Also, the second space part is formed by being surrounded by the part of the side wall of the body part, and the top inner wall surface and the side inner wall surface. Since the dust collection cover for a bottom surface polishing device in accordance with the present invention divides a space inside the dust cover into the first space part and the second space part by forming the dust cover in a double wall structure, the amount of scattered dust is reduced during polishing work. Thus, dust can be absorbed by a small dust collector, and an anti-scattering effect may be improved.

Description

분진 비산방지를 위한 바닥면 연마장치용 집진커버{Dust Collection Cover For Bottom Surface Polishing Device To Prevent Dust From Flying}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dust collecting cover for a bottom surface polishing apparatus for preventing scattering of dust,

본 발명은 분진 비산방지를 위한 바닥면 연마장치용 집진커버에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 집진커버를 이중벽 구조로 형성하여 집진커버 내부의 공간을 제1 공간부와 제2 공간부로 구획함으로써 연마작업시에 비산되는 분진의 양을 적게 하여 비산방지 효과를 향상시킨 분진 비산방지를 위한 바닥면 연마장치용 집진커버에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dust collecting cover for a bottom surface polishing apparatus for preventing dust scattering, and more particularly, to a dust collecting cover for a bottom surface polishing apparatus, To a dust collecting cover for a bottom surface polishing apparatus for preventing scattering of dust which improves the scattering prevention effect by reducing the amount of dust scattered during operation.

시멘트, 콘크리트 또는 대리석으로 된 바닥면은 최초 건설공사시에 그리고 그후에는 보수공사시에 연마를 하여야 한다. 이러한 연마작업을 위하여 시멘트 폴리싱 머신(Cement Polishing Machine; CPM)이라 불리우는 바닥면 연마장치가 사용된다. 이러한 시멘트 폴리싱 머신 이외에도 한 손으로 잡고 작업을 수행할 수 있는 핸드 그라인더도 바닥 연마작업 또는 벽면 연마작업에 사용된다. Cement, concrete or marble floors should be polished at the time of initial construction and thereafter at the time of repair. For this polishing operation, a bottom surface polishing apparatus called a cement polishing machine (CPM) is used. In addition to these cement polishing machines, hand grinders capable of holding with one hand are also used for floor grinding or wall grinding.

이와 같은 바닥면 연마장치는 연마작업을 할 때 발생하는 분진이 연마장치 외부로 비산되는 것을 방지하기 위하여 일반적으로 집진커버를 구비하고 있다. 도 1에는 통상적인 바닥면 연마장치의 사시도가 도시되어 있다. 그리고 지금까지 일반적으로 적용되어온 집진커버의 구조가 채용된 바닥면 연마장치의 개략적 구성이 도 2 및 도 3에 도시되어 있다.Such a bottom surface polishing apparatus generally includes a dust cover to prevent dust generated during a polishing operation from being scattered to the outside of the polishing apparatus. 1 is a perspective view of a conventional bottom surface polishing apparatus. A schematic configuration of a bottom surface polishing apparatus employing a structure of dust collecting cover which has been generally applied so far is shown in Figs. 2 and 3. Fig.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 바닥면 연마장치(10)는 모터(200)의 구동력을 전달받아 회전하는 회전축(210)에 연결된 회전판(300)을 포함한다. 회전판(300)에는 회전판(300)보다 작은 크기를 가지는 복수개의 연마 회전판(400)이 회전가능하게 결합되어 있다. 연마 회전판(400)의 표면에는 복수개의 연마편(410)이 설치되어 있으며, 연마편(410)의 표면에는 복수개의 연마팁(412)이 장착되어 있다. 바닥면 연마장치(10)는 또한 손잡이(500) 및 그것의 작동제어를 위한 제어부(600)를 포함한다. 1 to 3, the bottom surface polishing apparatus 10 includes a rotating plate 300 connected to a rotating shaft 210 that receives a driving force of the motor 200 and rotates. A plurality of polishing rotary plates 400 having a size smaller than that of the rotary plate 300 are rotatably coupled to the rotary plate 300. A plurality of polishing pieces 410 are provided on the surface of the polishing rotary plate 400 and a plurality of polishing tips 412 are mounted on the surface of the polishing piece 410. The bottom surface polishing apparatus 10 also includes a handle 500 and a control unit 600 for controlling the operation thereof.

한편, 바닥면 연마장치(10)는 연마작업에 의하여 발생하는 분진이 연마장치(10)의 외부로 비산하는 것을 방지하기 위하여 집진커버(100')를 포함한다. 이러한 집진커버(100')는 일반적으로 상면과 측면은 폐쇄되고 하면은 개방된 원통형 파이프 형상을 가진다. 이러한 집진커버(100')의 상면 또는 측면에는 집진커버(100')에 의하여 둘러싸인 내부 공간부와 연통하고 또한 호스(700)를 통하여 집진기(800)와 연통하는 분진 배출구(110')가 마련되어 있다. On the other hand, the bottom surface polishing apparatus 10 includes a dust cover 100 'to prevent dust generated by the polishing operation from scattering to the outside of the polishing apparatus 10. The dust cover 100 'generally has an upper and a side closed and a lower open cylindrical pipe shape. A dust outlet 110 'communicating with the inner space surrounded by the dust cover 100' and communicating with the dust collector 800 through the hose 700 is provided on the upper surface or the side surface of the dust cover 100 ' .

바닥면 연마장치(10)에 의한 연마작업은 다음과 같이 수행된다. 즉, 모터(200)의 작동에 의하여 회전축(210)이 회전하게 되고, 이에 따라 회전판(300)도 회전하게 된다. 그러면, 연마 회전판(400)은 회전판(300)의 회전에 따라 회전판(300)과 함께 회전함과 더불어 그것 자체가 회전판(300)에 대하여 상대적으로 회전할 수 있기 때문에 회전판(300)에 대하여 상대적으로 회전하게 된다. 이러한 과정에 의하여 연마편(410)에 장착된 연마팁(412)은 바닥면과 접촉하여 연마를 수행하게 된다. The polishing operation by the bottom surface polishing apparatus 10 is performed as follows. That is, the rotation shaft 210 rotates by the operation of the motor 200, and accordingly, the rotation plate 300 also rotates. Since the polishing rotary plate 400 rotates together with the rotary plate 300 in accordance with the rotation of the rotary plate 300 and can rotate relative to the rotary plate 300, . By this process, the polishing tip 412 mounted on the polishing piece 410 comes into contact with the bottom surface to perform polishing.

연마장치(10)에 의한 연마작업 수행시에는 바닥면으로부터 분진이 발생하여 비산하게 되는데, 집진커버(100')는 이와 같이 비산한 분진을 집진커버(100') 내부에 머무르게 함으로써 연마장치(10) 외부로 분진이 비산하지 않게 하는 역할을 한다. 집진커버(100') 내부에서 비산한 먼지는 집진기(800)에 의한 흡입작용으로 집진커버(100')의 상면 또는 측면에 마련된 분진 배출구(110')를 통하여 그리고 호스(700)를 통하여 집진기로 흡입됨으로써 집진커버(100') 내부로부터 제거된다. Dust is generated and scattered from the bottom surface when performing the polishing operation by the polishing apparatus 10. The dust cover 100 'is formed by keeping the scattered dust in the dust cover 100' ) It prevents the dust from scattering to the outside. The dust scattered in the dust cover 100 'is sucked by the dust collector 800 through the dust outlet 110' provided on the upper surface or the side surface of the dust cover 100 'and through the hose 700 to the dust collector And is removed from the inside of the dust cover 100 '.

이러한 통상적인 구조의 집진커버가 구비된 연마장치는 특허등록 제0143857호, 특허등록 제10-0235858호(1999. 09. 28. 등록), 특허등록 제10-0382944호(2003. 04. 22. 등록), 특허공개 제10-2007-0090322호(2007. 09. 06. 공개), 특허등록 제10-0831038호(2008. 05. 14. 등록), 특허등록 제10-0792778호(2008. 01. 02. 등록), 특허공개 제10-2010-0123073호(2010. 11. 24. 공개), 특허공개 제10-2014-0102977호(2014. 08. 25. 공개), 실용신안공개 제20-2011-0004186호(2011. 04. 27. 공개) 등에 개시되어 있다. The polishing apparatus having the dust cover of the conventional structure is disclosed in Patent Registration No. 0143857, Patent Registration No. 10-0235858 (Registered on September 28, 1999), Patent Registration No. 10-0382944 (Apr. Patent Registration No. 10-2007-0090322 (Published on Mar. 06, 2007), Patent Registration No. 10-0831038 (Registered on 2008. 05. 14.), Patent Registration No. 10-0792778 (Dec. 2008 (Registered trademark) 02. Registered Patent Application No. 10-2010-0123073 (Published Nov. 24, 2010), Patent Publication No. 10-2014-0102977 (Published Apr. 25, 201) 2011-0004186 (published on Apr. 27, 2011).

그런데, 상기와 같은 통상의 집진커버(100') 구조에 의하면, 집진커버(100') 내부에서 비산된 분진을 집진기(800)가 즉각적으로 흡입하여야 하므로 집진기(800)의 용량이 크지 않으면 비산방지 효과가 떨어진다는 문제점이 있었다. 또한, 연마되는 바닥면이 시멘트와 같은 석재가 아니라 에폭시 또는 우레탄 등의 소재로 된 바닥재가 깔린 바닥면에 대하여 연마에 의하여 그러한 바닥재를 파쇄하고 바닥면을 평탄하게 한 다음에 다시 바닥재를 깔려고 하는 경우에, 연마에 의하여 파쇄된 바닥재의 파편이 분진 배출구(110')를 막거나 호스(700) 또는 집진기(800)의 흡입구를 막는 현상이 발생할 수 있다는 문제점이 있었다. According to the structure of the dust collecting cover 100 'as described above, since the dust collector 800 must immediately suck the dust scattered in the dust cover 100', if the dust collector 800 is not large in capacity, There was a problem that the effect was poor. Further, when the ground surface to be polished is not made of stone such as cement but is made of abrasive material such as epoxy or urethane to crush such floor material, flattenes the floor surface, and then tries to launder the floor material again There is a problem that the debris of the floor material broken by the grinding may block the dust exhaust port 110 'or block the suction port of the hose 700 or the dust collector 800.

이에, 본 발명은 상기한 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출되었다. 따라서, 본 발명의 목적은 연마작업시에 비산되는 분진의 양을 적게함으로써 소형 집진기로도 분진 흡입을 가능하게 하고 또한 비산방지 효과를 향상시킨 분진 비산방지를 위한 바닥면 연마장치용 집진커버를 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above problems of the prior art. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a dust collecting cover for a bottom surface polishing apparatus for preventing dust scattering, which enables dust suction even with a small dust collector by reducing the amount of dust scattered during polishing operation, .

또한 본 발명의 목적은 에폭시 또는 우레탄 등의 소재로 된 바닥재가 깔린 바닥면에 대한 연마작업시에 파쇄된 바닥재의 파편이 분진 배출구, 호스 또는 집진기의 흡입구를 막는 현상이 발생할 염려가 없는 분진 비산방지를 위한 바닥면 연마장치용 집진커버를 제공하는 것이다. It is another object of the present invention to provide a dust-scattering prevention apparatus and a dust-collecting apparatus, which are capable of preventing the debris of shattered flooring from obstructing the intake port of a dust exhaust port, a hose or a dust collector during a polishing operation on a floor having flooring made of epoxy or urethane, And to provide a dust-collecting cover for a bottom surface polishing apparatus.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 분진 비산방지를 위한 바닥면 연마장치용 집진커버는 상면과 측면은 폐쇄되고 하면은 개방된 몸체부; 상기 몸체부 내부에서 상기 몸체부의 측면벽에 결합하여 형성되어 상기 몸체부 내부에 형성된 공간부를 제1 공간부와 제2 공간부로 구획하는 내벽; 및 상기 제2 공간부와 연통되고 또한 호스를 통하여 집진기와 연통되는 분진 배출구를 포함한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a dust collecting cover for a bottom polishing apparatus for preventing dust scattering, the dust collecting apparatus comprising: An inner wall formed in the body part and coupled to a side wall of the body part to divide a space part formed in the body part into a first space part and a second space part; And a dust outlet communicating with the second space portion and communicating with the dust collector through a hose.

상기에서, 상기 내벽은 상기 몸체부 내부에 상기 몸체부의 측면벽으로부터 수평으로 연장되어 형성되는 내벽 상면과 상기 내벽 상면으로부터 수직으로 연장되는 내벽 측면을 포함한다. 상기 제1 공간부는 상기 몸체부의 상기 상면벽 및 상기 측면벽의 일부 그리고 상기 내벽 상면 및 상기 내벽 측면에 의하여 둘러싸여 형성되는 것이고, 상기 제2 공간부는 상기 몸체부의 상기 측면벽의 일부 그리고 상기 내벽 상면 및 상기 내벽 측면에 의하여 둘러싸여 형성되는 것이다.The inner wall may include an inner wall upper surface formed horizontally from the side wall of the body portion in the body portion and an inner wall surface extending vertically from the upper surface of the inner wall. Wherein the first space portion is formed by a portion of the upper surface wall and the side wall of the body portion and the inner wall upper surface and the inner wall side surface and the second space portion is formed by a portion of the side wall of the body portion, And is surrounded by the inner wall surface.

상기 몸체부의 측면벽 및 상기 내벽 측면은 원통형 파이프 형상을 가지는 것이고, 상기 몸체부의 상면벽은 원형 형상을 가지는 것이며, 상기 내벽 상면은 원형 띠형상을 가지는 것이 바람직하다.It is preferable that the side wall and the inner wall side of the body portion have a cylindrical pipe shape, the upper surface wall of the body portion has a circular shape, and the upper surface of the inner wall has a circular band shape.

상기 몸체부의 측면벽의 개방된 말단부와 상기 내벽 측면의 개방된 말단부는 수직적 위치의 측면에서 서로 일치하는 것이 바람직하다.Preferably, the open end of the side wall of the body portion and the open end of the inner wall side coincide with each other in terms of a vertical position.

상기 집진커버는 상기 몸체부의 측면벽 하단부의 외면에 결합하는 것으로서, 상기 몸체부의 측면벽의 말단부보다 아래로 더욱 연장되어 설치되는 원통형 파이프 형상의 비산방지 커버를 더 포함하고, 상기 비산방지 커버는 상기 연마장치가 사용될 때 바닥면에 접촉하는 것이 바람직하다. The dust-collecting cover further includes a cylindrical pipe-shaped dust-shielding cover coupled to the outer surface of the lower end of the side wall of the body part and extending further downward than a distal end of the side wall of the body part. It is preferred that the polishing apparatus is in contact with the bottom surface when used.

본 발명에 따른 분진 비산방지를 위한 바닥면 연마장치용 집진커버는 집진커버를 이중벽 구조로 형성하여 집진커버 내부의 공간을 제1 공간부와 제2 공간부로 구획함으로써 연마작업시에 비산되는 분진의 양을 적게 하여 소형 집진기로도 분진 흡입을 가능하게 하고 또한 비산방지 효과를 향상시킨다. 또한 본 발명의 바닥면 연마장치용 집진커버는 에폭시 또는 우레탄 등의 소재로 된 바닥재가 깔린 바닥면에 대한 연마작업시에 파쇄된 바닥재의 파편이 분진 배출구, 호스 또는 집진기의 흡입구를 막는 현상이 발생할 염려가 없다. A dust collecting cover for a bottom surface polishing apparatus for preventing dust scattering according to the present invention is characterized in that a dust collecting cover is formed in a double wall structure to divide a space inside the dust collecting cover into a first space portion and a second space portion, By reducing the amount, dust can be sucked even with a small dust collector, and the scattering prevention effect is improved. Further, the dust collecting cover for the bottom surface polishing apparatus of the present invention may cause the debris of the shattered flooring to block the suction port of the dust outlet, the hose, or the dust collector during the polishing operation for the floor including the floor material made of epoxy or urethane. There is no worry.

도 1은 통상적인 바닥면 연마장치의 사시도를 도시한 도면이다.
도 2는 통상적인 집진커버의 구조가 채용된 바닥면 연마장치의 개략적 구성을 나타낸 도면이다.
도 3은 도 2의 바닥면 연마장치를 하부에서 바라본 저면도이다.
도 4는 본 발명의 한 실시예에 따른 바닥면 연마장치의 개략적 구성을 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 한 실시예에 따른 집진커버에 대한 측단면도이다.
도 6은 본 발명의 한 실시예에 따른 집진커버에 대한 저면도이다. 1 is a perspective view of a conventional bottom surface polishing apparatus.
Fig. 2 is a view showing a schematic configuration of a bottom surface polishing apparatus employing a structure of a conventional dust cover.
3 is a bottom view of the bottom surface polishing apparatus of FIG. 2 as seen from the bottom.
4 is a schematic view of a bottom surface polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a side cross-sectional view of a dust-collecting cover according to an embodiment of the present invention.
6 is a bottom view of a dust collecting cover according to an embodiment of the present invention.

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 바닥면 연마장치(10)는 모터(200)의 구동력을 전달받아 회전하는 회전축(210)에 연결된 회전판(300)을 포함한다. 회전판(300)에는 회전판(300)보다 작은 크기를 가지는 복수개의 연마 회전판(400)이 회전가능하게 결합되어 있다. 연마 회전판(400)의 표면에는 복수개의 연마편(410)이 설치되어 있으며, 연마편(410)의 표면에는 복수개의 연마팁(412)이 장착되어 있다. 바닥면 연마장치(10)는 또한 손잡이(500) 및 그것의 작동제어를 위한 제어부(600)를 포함한다. 이러한 구성은 종래기술에 따른 바닥면 연마장치와 실질적으로 동일하다. Referring to FIG. 4, the bottom surface polishing apparatus 10 according to the present invention includes a rotating plate 300 connected to a rotating shaft 210 that receives a driving force of the motor 200 and rotates. A plurality of polishing rotary plates 400 having a size smaller than that of the rotary plate 300 are rotatably coupled to the rotary plate 300. A plurality of polishing pieces 410 are provided on the surface of the polishing rotary plate 400 and a plurality of polishing tips 412 are mounted on the surface of the polishing piece 410. The bottom surface polishing apparatus 10 also includes a handle 500 and a control unit 600 for controlling the operation thereof. This configuration is substantially the same as the bottom surface polishing apparatus according to the prior art.

한편, 본 발명에 따른 바닥면 연마장치(10)가 종래기술에 따른 바닥면 연마장치와 다른 점은 연마작업에 의하여 발생하는 분진을 연마장치(10)의 외부로 비산하는 것을 방지하기 위하여 집진커버(100)의 구조에 있다. The bottom surface polishing apparatus 10 according to the present invention is different from the bottom surface polishing apparatus according to the prior art in that a dust collecting cover 10 is provided to prevent dust generated by a polishing operation from being scattered to the outside of the polishing apparatus 10, (100).

도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 바닥면 연마장치용 집진커버(100)는 몸체부(110)와 내벽(120)으로 이루어진 이중벽 구조를 가진다는 점이다. 5 and 6, the dust cover 100 for a bottom surface polishing apparatus according to the present invention has a double wall structure composed of a body 110 and an inner wall 120.

구체적으로, 몸체부(110)는 상면과 측면은 폐쇄되고 하면은 개방된 형상을 가진다. 특히 몸체부(110)의 측면벽(114)은 원통형 파이프 형상을 가지고 몸체부(110)의 상면벽(112)은 원형 형상을 가진다. 이때, 원통형 파이프 형상 및 원형 형상은 완벽한 원통형 및 원형으로 형성되는 것이 바람직하지만, 약간 타원형으로 형성되더라도 무방하다. 이러한 몸체부(110)에 의하여 연마장치(10)의 내부 공간부(130)는 외부 공간으로부터 구획된다. Specifically, the body 110 has a top and a side closed and a bottom open. Particularly, the side wall 114 of the body 110 has a cylindrical pipe shape and the upper surface wall 112 of the body 110 has a circular shape. At this time, it is preferable that the cylindrical pipe shape and the circular shape are formed into a perfect cylindrical shape and a circular shape, but they may be formed into a slightly elliptical shape. The internal space 130 of the polishing apparatus 10 is partitioned from the external space by the body 110.

내벽(120)은 내벽 상면(122)과 내벽 측면(124)으로 구분된다. 내벽 상면(122)은 몸체부(110) 내부에서 몸체부(110)의 측면벽(114)으로부터 수평으로 연장되어 형성된다. 따라서, 내벽 상면(122)은 원형 띠형상을 가지게 된다. 이때, 측면벽(114)으로부터 수평으로 연장되어 형성된다 함은 수평을 이루도록 형성되는 것이 제조의 측면에서 바람직하지만, 반드시 수학적 관점에서 완벽하게 수평을 이루도록 형성될 필요는 없고 어느 정도의 기울기로 경사지게 형성되더라도 무방하며, 대체적으로 수평을 이루는 것이면 족하다는 의미로 이해될 수 있다.The inner wall 120 is divided into an inner wall upper surface 122 and an inner wall side surface 124. The inner wall upper surface 122 extends horizontally from the side wall 114 of the body portion 110 inside the body portion 110. Accordingly, the inner wall upper surface 122 has a circular band shape. At this time, it is preferable that the side wall 114 is horizontally extended from the side wall 114. However, it is not necessarily formed to be perfectly horizontal from a mathematical point of view, but is formed to be inclined at a certain slope It can be understood as meaning that if it is horizontal in general, it is enough.

내벽 측면(124)은 내벽 상면(122)으로부터 수직으로 연장되어 형성된다. 따라서, 내벽 측면(124)은 원통형 파이프 형상을 가지게 된다. 이때, 내벽 측면(124)이 내벽 상면(122)으로부터 수직으로 연장되어 형성된다 함은 제조의 측면 및 공간 활용의 측면에서 내벽 측면(124)이 수직하게 형성되는 것이 바람직하지만, 반드시 수학적 관점에서 완벽하게 수직을 이룰 필요는 없고 어느 정도의 기울기로 경사지게 형성되더라도 무방하며, 대체적으로 수직을 이루는 것이면 족하다는 의미로 이해될 수 있다. The inner wall side 124 is formed extending vertically from the inner wall upper surface 122. Thus, the inner wall side 124 has a cylindrical pipe shape. The inner wall surface 124 is formed to extend vertically from the inner wall surface 122. It is preferable that the inner wall surface 124 is formed vertically in terms of the side and space utilization of the manufacturing process. It is not necessary to form a vertical direction and it may be formed to be inclined at a certain degree of inclination.

본 발명의 집진커버(100)에서 몸체부(110)의 측면벽(114)의 개방된 말단부, 즉 하부 말단부와 내벽 측면(124)의 개방된 말단부, 즉 하부 말단부는 도면에 도시된 바와 같이, 수직적 위치의 측면에서 서로 일치하는 것이 바람직하다. 만약 내벽 측면(124)의 개방된 말단부가 몸체부(110)의 측면벽(114)의 개방된 말단부보다 너무 높은 위치에 배치되는 구조를 가진다면 아래에서 설명하는 바와 같은 기능을 충분히 달성하는데 미흡할 수 있고, 만약 내벽 측면(124)의 개방된 말단부가 몸체부(110)의 측면벽(114)의 개방된 말단부보다 너무 낮은 위치에 배치되는 구조를 가진다면 내벽 측면(124)의 개방된 말단부와 지면 사이의 틈이 너무 작으므로 집진기(800)에 의한 흡입작용이 원활하게 수행되지 않을 수 있다. The open end of the side wall 114 of the body portion 110 in the dust cover 100 of the present invention, i.e., the open end portion of the lower end portion and the inner wall side 124, i.e., the lower end portion, It is preferable that they coincide with each other in terms of the vertical position. If the open distal end of the inner wall side 124 is disposed at a position too high above the open distal end of the side wall 114 of the body portion 110, And if the open distal end of the inner wall side 124 is positioned too low relative to the open distal end of the side wall 114 of the body portion 110, The gap between the sheets is too small, so that the suction action by the dust collector 800 may not be performed smoothly.

한편, 본 발명의 집진커버(100)는 비산방지 커버(140)를 포함한다. 비산방지 커버(140)는 몸체부(110)의 측면벽(114) 하단부의 외면에 결합하는 것으로서, 몸체부(110)의 측면벽(114)의 말단부보다 아래로 더욱 연장되어 설치되는 원통형 파이프 형상을 가진다. 비산방지 커버(140)는 연마장치(10)가 사용될 때 바닥면에 접촉한다. 따라서, 집진커버(100)의 몸체부(110)의 측면벽(114) 말단부 및 내벽 측면(124) 말단부는 연마장치(10)가 사용될 때 바닥면으로부터 약간 떠있는 상태로 위치하게 된다. Meanwhile, the dust-collecting cover 100 of the present invention includes the scatter-preventing cover 140. The shatterproof cover 140 is attached to the outer surface of the lower end portion of the side wall 114 of the body portion 110 and has a cylindrical pipe shape that extends further downward than the distal end portion of the side wall 114 of the body portion 110 . The anti-scattering cover 140 contacts the bottom surface when the polishing apparatus 10 is used. The distal end of the side wall 114 and the end of the inner wall side 124 of the body portion 110 of the dust cover 100 are positioned slightly floating from the bottom surface when the polishing apparatus 10 is used.

본 발명의 집진커버(100)는 이와 같이 몸체부(110) 및 내벽(120)에 의한 이중벽 구조를 가지기 때문에 집진커버(100)의 몸체부(110) 내부의 공간부(130)는 내벽(120)에 의하여 제1 공간부(132)와 제2 공간부(134)로 구획된다. 구체적으로, 제1 공간부(132)는 몸체부(110)의 상면벽(112) 및 측면벽(114)의 상부 일부 그리고 내벽 상면(122) 및 내벽 측면(124)에 의하여 둘러싸여 형성된다. 제2 공간부(134)는 몸체부(110)의 측면벽(114)의 일부 그리고 내벽 상면(122) 및 내벽 측면(124)에 의하여 둘러싸여 형성된다. 제2 공간부(134)는 제1 공간부(132)에 비하여 부피가 훨씬 작게 형성되는데, 아래에서 설명하는 바와 같이, 제1 공간부(132)에서는 비산된 분진이 그것의 자중에 의하여 바닥면에 가라앉게 하는데 방해를 주지 않으면서도 제2 공간부(134) 및 제2 공간부 근처에서는 비산된 분진이 집진기(800)의 흡입작용에 의하여 분진 배출구(118) 및 호스(700)를 통하여 흡입될 수 있도록 적당한 크기를 가지는 것이 바람직하다. 집진기(800)의 흡입능력에 비하여 제2 공간부(134)의 폭이 너무 좁은 경우에는, 제2 공간부(134) 및 제2 공간부 근처에서 비산된 분진을 흡입할 뿐만 아니라 바닥면에 가라앉은 분진도 집진기(800)에 의하여 흡입됨으로써 오히려 분진의 비산을 발생시키므로 바람직하지 않다. Since the dust collecting cover 100 of the present invention has a double wall structure of the body 110 and the inner wall 120 as described above, the space 130 inside the body 110 of the dust collecting cover 100 is formed by the inner wall 120 The first space portion 132 and the second space portion 134 are divided by the first space portion 132 and the second space portion 134, respectively. Specifically, the first space portion 132 is formed by the upper portion of the top wall 112 and the side wall 114 of the body portion 110 and by the inner wall top surface 122 and the inner wall side surface 124. The second space portion 134 is formed by a part of the side wall 114 of the body portion 110 and by the inner wall upper surface 122 and the inner wall side surface 124. The second space portion 134 is formed to have a much smaller volume than the first space portion 132. As described below, in the first space portion 132, The scattered dust near the second space portion 134 and the second space portion is sucked through the dust outlet 118 and the hose 700 by the suction action of the dust collector 800 without disturbing It is preferable to have a suitable size. When the width of the second space portion 134 is too narrow as compared with the suction capacity of the dust collector 800, not only the dust scattered near the second space portion 134 and the second space portion is sucked but also the bottom surface Dust that is seated is also undesirable because it is absorbed by the dust collector 800 and rather causes scattering of dust.

이제, 본 발명의 집진커버(100)가 적용된 바닥면 연마장치(10)가 작동할 때 어떻게 분진의 비산방지 효과가 향상되는지에 대하여 종래기술과 비교하여 설명하면 다음과 같다. A description will now be made of how dust scattering prevention effect is improved when the bottom surface polishing apparatus 10 to which the dust cover 100 of the present invention is applied is compared with the prior art.

종래기술의 바닥면 연마장치(10)와 마찬가지로, 모터(200)의 작동에 의하여 회전축(210)이 회전하게 되고, 이에 따라 회전판(300)도 회전하게 된다. 그러면, 연마 회전판(400)은 회전판(300)의 회전에 따라 회전판(300)과 함께 회전함과 더불어 그것 자체가 회전판(300)에 대하여 상대적으로 회전할 수 있기 때문에 회전판(300)에 대하여 상대적으로 회전하게 된다. 이러한 과정에 의하여 연마편(410)에 장착된 연마팁(412)은 바닥면과 접촉하여 연마를 수행하게 된다.The rotating shaft 210 is rotated by the operation of the motor 200 and the rotating plate 300 is also rotated by the operation of the motor 200, similarly to the bottom surface polishing apparatus 10 of the related art. Since the polishing rotary plate 400 rotates together with the rotary plate 300 in accordance with the rotation of the rotary plate 300 and can rotate relative to the rotary plate 300, . By this process, the polishing tip 412 mounted on the polishing piece 410 comes into contact with the bottom surface to perform polishing.

연마장치(10)에 의한 연마작업 수행시에는 바닥면으로부터 분진이 발생하여 비산하게 되는데, 도 2에 도시한 종래기술에 따른 집진커버(100')를 사용하게 되면, 집진커버(100') 내부에 구획된 단일의 공간은 분진 배출구(110')와 호스(700)를 통하여 흡입작용을 하는 집진기(800)와 직접적으로 연통하기 때문에, 연마작업시에 발생한 상당량의 분진은 바닥면에 가라앉지 못하고 집진기(800)에 의하여 흡입된다. 이때, 집진기(800)의 용량이 크지 못하면 단일의 공간 내에서 비산한 분진은 집진기(800)에 의하여 흡입되지도 못하고 또한 바닥면에 가라앉지도 못하는 상태로 유지될 수 있다. 이러한 상태에서 작업자가 연마장치(10)를 이동시키게 되면 단일의 공간 내에 머무는 분진은 연마장치(10)의 하부 틈새를 통하여 연마장치(10)의 외부로 노출되어 비산하게 된다. 따라서, 종래기술에 따른 집진커버(100')를 사용하게 되면, 용량이 큰 집진기(800)를 사용하여야 원하는 정도의 분진 비산방지 효과를 얻을 수 있게 된다. Dust is generated and scattered from the bottom surface when performing the polishing operation by the polishing apparatus 10. When the dust collecting cover 100 'according to the related art shown in FIG. 2 is used, the dust collecting cover 100' A large amount of dust generated during the polishing operation does not sink to the bottom surface because the single space partitioned by the dust outlet 110 'and the hose 700 directly communicates with the dust collector 800 that performs suction through the dust outlet 110' Is sucked by the dust collector (800). At this time, if the capacity of the dust collector 800 is not large, the dust scattered in the single space can not be sucked by the dust collector 800 and can not be settled on the bottom surface. In this state, when the operator moves the grinding apparatus 10, the dust staying in the single space is exposed to the outside of the grinding apparatus 10 through the lower gap of the grinding apparatus 10 and scattered. Therefore, when the dust cover 100 'according to the related art is used, a dust particle scattering prevention effect of a desired degree can be obtained by using a dust collector 800 having a large capacity.

반면에, 본 발명에 따른 집진커버(100)를 사용하게 되면, 집진커버(100)의 몸체부(110) 내부의 공간부(130)는 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 구획된 2개의 공간, 즉 제1 공간부(132)와 제2 공간부(134)로 구획되어 존재하게 된다. 본 발명에 따른 집진커버(100)에서는, 제2 공간부(134)는 분진 배출구(118)와 호스(700)를 통하여 흡입작용을 하는 집진기(800)와 직접적으로 연통하지만, 제1 공간부(132)는 내벽(120)에 의하여 차단되어 집진기(800)와 직접적으로 연통하지 않는다. 따라서, 제1 공간부(132)에서는 흡입력이 거의 작용하지 않기 때문에, 연마장치(10)의 연마작업에 의하여 제1 공간부(132)에서 발생한 분진은 제1 공간부(132)에서는 주로 바닥면에 가라앉게 된다. 5 and 6, when the dust cover 100 according to the present invention is used, the space portion 130 inside the body portion 110 of the dust cover 100 is divided into the divided portions 2 That is, the first space 132 and the second space 134 are present. In the dust cover 100 according to the present invention, the second space portion 134 directly communicates with the dust outlet 800 through the dust outlet 118 and the hose 700, but the first space portion 132 are blocked by the inner wall 120 and do not directly communicate with the dust collector 800. Therefore, the dust generated in the first space portion 132 by the polishing operation of the polishing apparatus 10 hardly flows into the first space portion 132 in the first space portion 132 because the suction force hardly acts in the first space portion 132. Therefore, .

제1 공간부(132)에서 발생한 분진 중 제1 공간부(132)에 가라앉지 않고 비산중인 분진은 작업자가 연마장치(10)를 서서히 이동시킴에 따라 제1 공간부(132)로부터 집진커버(100)의 하부 틈새를 통하여 제2 공간부(134)로 이동하게 되고, 제2 공간부(134) 또는 제2 공간부(134) 근처에서 분진은 분진 배출구(118) 및 호스(700)를 통하여 집진기(800)로 흡입된다. The dust that does not sink into the first space portion 132 of the dust generated in the first space portion 132 and is scattered is discharged from the first space portion 132 to the dust collecting cover The dust is moved to the second space portion 134 through the lower gap of the second space portion 134 or the second space portion 134 and the dust is discharged through the dust outlet port 118 and the hose 700 And is sucked into the dust collector 800.

본 발명의 집진커버(100)를 사용하게 되면, 제1 공간부(132)에서 비산된 분진이 가라앉도록 함으로써 비산 분진의 발생량을 종래기술에 비하여 획기적으로 줄일 수 있고, 또한 그렇게 발생량이 줄어든 분진은 제2 공간부(134)에서 집진기(800)에 의하여 흡입됨으로써 연마장치(10)의 외부로 비산하지 않게 된다. 그러므로, 본 발명의 집진커버(100)는 적은 용량의 집진기를 사용하더라도 비산 분진의 흡입이 충분히 이루어질 수 있고, 또한 비산 방지효과가 종래기술에 비하여 더욱 좋게 된다. The use of the dust cover 100 of the present invention allows the scattered dust to sink in the first space portion 132, thereby dramatically reducing the generation amount of scattered dust compared to the prior art, Is not sucked to the outside of the polishing apparatus (10) by being sucked by the dust collector (800) in the second space portion (134). Therefore, even if a dust collector of a small capacity is used, the dust cover 100 of the present invention can sufficiently absorb dust, and the scattering prevention effect becomes even better than in the prior art.

또한, 종래기술에 따른 집진커버(100')를 사용하게 되면, 집진커버(100') 내에 형성된 단일의 공간이 분진 배출구(110')와 호스(700)를 통하여 흡입작용을 하는 집진기(800)와 직접적으로 연통하기 때문에, 연마되는 바닥면이 시멘트와 같은 석재가 아니라 에폭시 또는 우레탄 등의 소재로 된 바닥재가 깔린 바닥면에 대하여 연마에 의하여 그러한 바닥재를 파쇄하고 바닥면을 평탄하게 한 다음에 다시 바닥재를 깔려고 하는 경우에, 연마에 의하여 파쇄된 바닥재의 파편이 배출구(110')를 막거나 호스(700) 또는 집진기(800)의 흡입구를 막는 현상이 발생할 수 있다는 문제점이 있었다. 종래기술에 따른 집진커버(100')를 위하여 사용하는 집진기(800)로는 매우 높은 용량의 집진기가 사용되어야 하므로, 이러한 현상을 막을 수 없다. In addition, when the dust cover 100 'according to the related art is used, a single space formed in the dust cover 100' is sucked through the dust outlet 110 'and the hose 700, , The ground surface to be polished is not made of stone such as cement but is ground by flooring made of a material such as epoxy or urethane and is ground by polishing so as to flatten the floor surface, There is a problem in that when the flooring is to be laid, fragments of the flooring shredded by polishing may block the discharge port 110 'or block the suction port of the hose 700 or the dust collector 800. Since the dust collector 800 used for the dust cover 100 'according to the related art requires a very high-capacity dust collector, this phenomenon can not be prevented.

그러나, 본 발명에 따른 집진커버(100)를 사용하게 되면, 집진커버(100) 내부의 공간부(130)는 제1 공간부(132)와 제2 공간부(134)로 구획되고, 제2 공간부(134)는 분진 배출구(118) 및 호스(700)를 통하여 집진기(800)와 직접적으로 연통되지만, 제1 공간부(132)는 집진기(800)와 직접적으로 연통되지 않기 때문에, 파쇄된 바닥재의 파편이 집진기(800)의 흡입작용에 의하여 분진 배출구(118), 호스(700) 또는 집진기(800)의 흡입구를 막은 현상이 발생하지 않게 된다. 본 발명에 따른 집진커버(100)는 이러한 구조적 특성에 의하여 그러한 현상이 발생하는 것을 방지할 수 있을 뿐만 아니라 사용하는 집진기(800)로는 적은 용량의 집진기가 사용될 수 있으므로, 집진기의 낮은 성능에 의하여서도 그러한 현상 발생이 방지될 수 있다. However, when the dust cover 100 according to the present invention is used, the space 130 inside the dust cover 100 is partitioned into the first space 132 and the second space 134, The space portion 134 is in direct communication with the dust collector 800 through the dust outlet 118 and the hose 700 but since the first space portion 132 is not in direct communication with the dust collector 800, The debris of the floor material does not block the suction port of the dust outlet 118, the hose 700 or the dust collector 800 due to the suction action of the dust collector 800. The dust collecting cover 100 according to the present invention can prevent such a phenomenon from occurring due to such structural characteristics, and a small capacity dust collector can be used for the dust collector 800 to be used. Therefore, The occurrence of such a phenomenon can be prevented.

10: 바닥면 연마장치 100,100': 집진커버
110: 몸체부 112: 상면벽
114: 측면벽 116: 회전축 관통공
118,110': 분진 배출구 120: 내벽
122: 내벽 상면 124: 내벽 측면
130: 내부 공간부 132: 제1 공간부
134: 제2 공간부 140: 비산방지 커버
200: 모터 210: 회전축
300: 회전판 400: 연마 회전판
410: 연마편 412: 연마팁
500: 손잡이 600: 제어부
700: 호스 800: 집진기10: bottom surface polishing apparatus 100, 100 ': dust collecting cover
110: body portion 112: upper wall
114: side wall 116: rotating shaft penetrating hole
118, 110 ': dust outlet 120: inner wall
122: inner wall upper surface 124: inner wall side
130: inner space part 132: first space part
134: second space portion 140: shatterproof cover
200: motor 210:
300: a rotating plate 400: a polishing rotating plate
410: Polishing piece 412: Polishing tip
500: handle 600:
700: Hose 800: Dust collector

Claims (4)

상면과 측면은 폐쇄되고 하면은 개방된 몸체부;
상기 몸체부 내부에서 상기 몸체부의 측면벽에 결합하여 형성되어 상기 몸체부 내부에 형성된 공간부를 제1 공간부와 제2 공간부로 구획하는 내벽; 및 상기 제2 공간부와 연통되고 또한 호스를 통하여 집진기와 연통되며 상기 몸체부의 측면벽에 형성되는 분진 배출구를 포함하고,
상기 내벽은 상기 몸체부 내부에 상기 몸체부의 측면벽으로부터 수평으로 연장되어 형성되는 내벽 상면과 상기 내벽 상면으로부터 수직으로 연장되는 내벽 측면을 포함하며,
상기 제1 공간부는 상기 몸체부의 상면벽 및 측면벽 일부 그리고 상기 내벽 상면 및 상기 내벽 측면에 의하여 둘러싸여 형성되는 것이고, 상기 제2 공간부는 상기 몸체부의 측면벽 일부 그리고 상기 내벽 상면 및 상기 내벽 측면에 의하여 둘러싸여 형성되는 것이며,
상기 몸체부의 측면벽 및 상기 내벽 측면은 원통형 파이프 형상으로 형성되는 것이고,
상기 몸체부의 측면벽의 개방된 말단부와 상기 내벽 측면의 개방된 말단부 사이에 형성되는 원형띠 형상의 개방부는 상기 제1 공간부와 상기 제2 공간부를 소통시키는 것임을 특징으로 하는 분진 비산방지를 위한 바닥면 연마장치용 집진커버.The upper surface and the side surface being closed and the lower surface being opened;
An inner wall formed in the body part and coupled to a side wall of the body part to divide the space part formed in the body part into a first space part and a second space part; And a dust outlet communicating with the second space portion and communicating with the dust collector through a hose and formed in a side wall of the body portion,
The inner wall includes an inner wall upper surface formed horizontally from the side wall of the body portion in the body portion and an inner wall side extending vertically from the upper surface of the inner wall,
Wherein the first space portion is formed by being enclosed by an upper surface wall portion and a side wall portion of the body portion, a top surface of the inner wall, and a side surface of the inner wall, and the second space portion is formed by a portion of a side wall of the main body portion, And is formed to be surrounded,
The side wall of the body portion and the inner wall side surface are formed in the shape of a cylindrical pipe,
Wherein a circular band-shaped opening formed between an open distal end of the side wall of the body and an open distal end of the inner wall side communicates the first space and the second space. Dust cover for cotton abrasive device. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 몸체부의 측면벽의 개방된 말단부와 상기 내벽 측면의 개방된 말단부는 수직적 위치의 측면에서 서로 일치하는 것임을 특징으로 하는 바닥면 연마장치용 집진커버.The method according to claim 1,
Wherein an open distal end of the side wall of the body and an open distal end of the inner wall side coincide with each other at a side of a vertical position. 제1항 및 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 집진커버는 상기 몸체부의 측면벽 하단부의 외면에 결합하는 것으로서, 상기 몸체부의 측면벽의 말단부보다 아래로 더욱 연장되어 설치되는 원통형 파이프 형상의 비산방지 커버를 더 포함하고, 상기 비산방지 커버는 상기 연마장치가 사용될 때 바닥면에 접촉하는 것임을 특징으로 하는 바닥면 연마장치용 집진커버.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The dust-collecting cover further includes a cylindrical pipe-shaped dust-shielding cover coupled to the outer surface of the lower end of the side wall of the body part and extending further downward than a distal end of the side wall of the body part. Wherein the bottom surface is in contact with the bottom surface when the polishing apparatus is used.
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