KR101615673B1 - Gas supply cabinet - Google Patents

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KR101615673B1
KR101615673B1 KR1020150140251A KR20150140251A KR101615673B1 KR 101615673 B1 KR101615673 B1 KR 101615673B1 KR 1020150140251 A KR1020150140251 A KR 1020150140251A KR 20150140251 A KR20150140251 A KR 20150140251A KR 101615673 B1 KR101615673 B1 KR 101615673B1
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KR1020150140251A
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김윤태
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에스비엠 주식회사
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Abstract

The present invention relates to a gas supply cabinet. The gas supply cabinet includes: a gas container in which process gas is stored and which has a side connected to a cylinder gas adaptor (CGA); a CGA line which is connected to the cylinder gas adaptor and through which the process gas in the gas container flows; a process line which is connected to the CGA line and supplied to a predetermined process; a purge line which is connected between the CGA line and the process line and purges the CGA line and the process line by using N_2 gas; and a vacuum CGA generator (VCG) which is provided on the purge line adjacent to the CGA line and the process line and which keeps an inside of the CGA line in vacuum based on a flowing rate of the N_2 gas through the purge line.

Description

가스 공급 캐비닛{Gas supply cabinet}Gas supply cabinet

본 발명은, 가스 공급 캐비닛에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 베큠 라인인 G-N2 라인이 없다 하더라도 퍼지 라인(N2 Purge)만으로 CGA 라인을 진공으로 형성시킬 수 있어 배관이나 주변 장치의 부식 및 작업자의 안전을 위협하는 등의 잠재적 위험성으로부터 탈피하여 사용 안정성을 높일 수 있으며, 종래보다 질소가스의 사용량 및 퍼지 시간을 감소시킬 수 있을 뿐 아니라, 시스템이 단순화되어 운전과 제어가 용이한 가스 공급 캐비닛에 관한 것이다.The present invention relates to a gas supply cabinet, and more particularly, it is possible to form a CGA line under vacuum only by a purge line (N2 Purge) even if there is no G-N2 line as a bypass line, It is possible to reduce the amount of nitrogen gas to be used and purge time as compared with the conventional system and to simplify the system and to operate the gas supply cabinet which is easy to operate and control .

반도체를 비롯하여 평판디스플레이 등을 제조하는 제조공정에는 대량의 공정가스가 사용된다.BACKGROUND OF THE INVENTION [0002] A large amount of process gas is used in manufacturing processes for manufacturing semiconductors, flat panel displays and the like.

이때의 공정가스는 기판 상에 특정한 박막을 증착하거나 특정 박막을 제거하기 위하여 사용될 수 있다. 이러한 공정가스의 공급에는 가스 공급 캐비닛이 이용되고 있다.The process gas may be used to deposit a specific thin film on a substrate or to remove a specific thin film. A gas supply cabinet is used for supplying the process gas.

한편, 공정을 진행하다 보면 공정 라인 상에 사용되지 못한 공정가스가 잔존되어 있을 수 있다.On the other hand, in the course of the process, unused process gases may remain on the process line.

특히, 가스 공급 캐비닛의 공급 라인 상에 공정가스가 잔존될 소지가 높은데, 이처럼 공정가스가 잔존될 경우, 배관이나 주변 장치가 부식될 우려가 있고 또한 이로 인해 불순물이 공정으로 흘러들어갈 소지가 높다.Particularly, there is a high possibility that the process gas remains on the supply line of the gas supply cabinet. If such process gas remains, the piping or peripheral device may be corroded and the impurities may flow into the process.

따라서 공정 라인에 대해 퍼지(purge)를 진행한다. 퍼지는 공정 라인 상에 잔존 가능한 가스를 배출(vent, 배기)시켜 라인을 정화시키는 것을 일컫는데, 퍼지 시 캐리어 가스(carrier gas)로 잘 활용되는 질소가스(N2)를 사용하는 것이 일반적이다.Thus purging the process line. It is common to purify lines by venting residual gases on the purging process line. It is common to use nitrogen gas (N2), which is well utilized as a carrier gas during purge.

반도체나 평판디스플레이 제조공정에서 질소가스로 퍼지하는 기술에 대한 발명이 대한민국특허청 출원번호 제20-2007-0012684호(선행기술 1) 등에 개시되어 있으며, 도 1을 참조하면, 종래의 가스 공급 캐비닛의 공정도가 도시된다.BACKGROUND ART [0002] An invention relating to a technique of purging with nitrogen gas in a semiconductor or flat panel display manufacturing process is disclosed in Korean Patent Application No. 20-2007-0012684 (prior art 1), and referring to Fig. 1, a conventional gas supply cabinet A process diagram is shown.

종래의 가스 공급 캐비닛은 가스 용기(11), CGA 라인(13), 공정 라인(14), 퍼지 라인(15), 그리고 베큠 라인인 G-N2 라인(18)을 포함한다.A conventional gas supply cabinet includes a gas vessel 11, a CGA line 13, a process line 14, a purge line 15, and a G-N2 line 18, which is a vacuum line.

가스 용기(11)는 반도체 제조공정에 사용되는 공정가스가 내부에 저장되는 용기로서, 가스 용기(11)의 일측에는 실린더 가스 어댑터(CGA, Cylinder Gas Adaptor, 12)가 연결된다.The gas container 11 is a container in which a process gas used in a semiconductor manufacturing process is stored. A cylinder gas adapter (CGA) 12 is connected to one side of the gas container 11.

CGA 라인(13)은 실린더 가스 어댑터(CGA, 12)와 연결되는 라인으로서, 가스 용기(11) 내의 공정가스가 유동되는 라인이며, 공정 라인(14)은 CGA 라인(13)과 연결되는 라인으로서, 공정가스를 미리 결정된 공정으로 공급하는 라인이다. The CGA line 13 is a line connected to the cylinder gas adapter CGA 12 and is a line through which the process gas in the gas container 11 flows and the process line 14 is a line connected to the CGA line 13 , And a line for supplying the process gas to a predetermined process.

퍼지 라인(15)은 질소가스(N2)를 이용하여 공정 라인(14)을 퍼지(purge)하는 라인이다.Purge line 15 is a line that purifies process line 14 using nitrogen gas N2.

G-N2 라인(18)은 CGA 라인(13)에 정체되어 있는 가스를 배출시키기 위해 CGA 라인의 진공을 유도하는 라인이다. The G-N2 line 18 is a line that induces a vacuum in the CGA line to discharge the stagnant gas to the CGA line 13.

이와 같이 형성된 가스 공급 캐비닛은 공정 라인(14)을 통해 공정가스를 공급하고, 퍼지 시에는 퍼지 라인(15)에 고순도의 질소 가스를 주입하여 공정 라인(14)을 퍼지시키며, CGA 라인 상의 정체 가스를 배출시키기 위해 베큠 라인인 G-N2 라인에 질소를 주입하여 CGA 라인에 진공을 형성시킴으로써 CGA 라인 상에 정체되어 있는 가스를 배출시키도록 구동된다.The gas supply cabinet thus formed feeds the process gas through the process line 14 and purges the process line 14 by injecting a high purity nitrogen gas into the purge line 15 during purge, Nitrogen is injected into the G-N2 line, which is a vacuum line, to generate a vacuum in the CGA line, thereby driving the gas stagnating on the CGA line to be discharged.

그런데, 이와 같은 종래기술의 경우에는 다음과 같은 많은 문제점을 야기한다.However, in the case of such a conventional technique, the following problems arise.

첫째, 베큠 라인인 G-N2 라인이 구비되지 않으면, 퍼지 라인(N2 Purge)만으로는 CGA 라인에 잔존하는 가스를 배출시키지 못하는 문제점이 있다.First, if the G-N2 line is not provided, there is a problem that only the purge line (N2 purge) can not discharge the gas remaining in the CGA line.

둘째, CGA 라인의 진공 형성을 위해서는 베큠 라인이 요구되어 배관 구조가 복잡해질 수밖에 없는 문제점이 있다.Second, in order to form a vacuum of the CGA line, a pipeline is required, which complicates piping structure.

셋째, 질소가스가 과다 사용되는 문제점이 있다.Third, there is a problem that nitrogen gas is used excessively.

넷째, 전체 퍼지 시간이 지연되는 문제점이 있다.Fourth, there is a problem that the entire purge time is delayed.

다섯째, 시스템이 복잡하여 운전이 어렵고, 제어가 힘들어지는 문제점이 있다.Fifth, there is a problem that the system is complicated and difficult to operate and control becomes difficult.

따라서 구조적인 개선을 통해 상기한 문제점을 해결할 새로운 형태의 가스 공급 캐비닛이 요청된다 하겠다.Therefore, a new type of gas supply cabinet for solving the above problems through structural improvement is required.

대한민국특허청 출원번호 제20-2007-0012684호Korea Patent Office Application No. 20-2007-0012684 대한민국특허청 출원번호 제10-1999-0057897호Korea Patent Office Application No. 10-1999-0057897 대한민국특허청 출원번호 제10-2002-0036439호Korea Patent Office Application No. 10-2002-0036439 대한민국특허청 출원번호 제10-2004-7020186호Korea Patent Office Application No. 10-2004-7020186 대한민국특허청 출원번호 제10-2010-7024497호Korea Patent Office Application No. 10-2010-7024497

본 발명의 목적은, 베큠 라인인 G-N2 라인이 없다 하더라도 퍼지 라인(N2 Purge)만으로 CGA 라인을 진공으로 형성시킬 수 있어 배관이나 주변 장치의 부식 및 작업자의 안전을 위협하는 등의 잠재적 위험성으로부터 탈피하여 사용 안정성을 높일 수 있으며, 종래보다 질소가스의 사용량 및 퍼지 시간을 감소시킬 수 있을 뿐 아니라, 시스템이 단순화되어 운전과 제어가 용이한 가스 공급 캐비닛을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an apparatus and a method for forming a CGA line in a vacuum by using only a purge line (N2 Purge), even if there is no G-N2 line, It is possible to increase the stability of use and to reduce the amount of nitrogen gas to be consumed and purge time, and to simplify the system and to provide a gas supply cabinet which is easy to operate and control.

상기 목적은, 공정에서 요구되는 공정가스가 내부에 저장되며, 일측에 실린더 가스 어댑터(CGA, Cylinder Gas Adaptor)가 연결되는 가스 용기; 상기 실린더 가스 어댑터와 연결되고 상기 가스 용기 내의 공정가스가 유동되는 CGA 라인; 상기 CGA 라인과 연결되고 상기 공정가스를 미리 결정된 공정으로 공급하는 공정 라인; 상기 CGA 라인과 상기 공정 라인에 상호간 연결되고, 질소가스(N2)를 이용하여 상기 CGA 라인과 상기 공정 라인을 퍼지(purge)하는 퍼지 라인; 및 상기 CGA 라인과 상기 공정 라인에 이웃된 상기 퍼지 라인에 마련되며, 상기 퍼지 라인을 따라 흐르는 상기 질소가스의 속도에 기초하여 상기 CGA 라인의 내부를 진공으로 유지시키는 진공 발생기(VCG, Vacuum CGA Generator)를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 캐비닛에 의해 달성된다.The object of the present invention is achieved by a gas container comprising: a gas container in which a process gas required in a process is stored and a cylinder gas adapter (CGA) is connected to one side; A CGA line connected to the cylinder gas adapter and through which the process gas in the gas container flows; A process line coupled to the CGA line and supplying the process gas to a predetermined process; A purge line interconnected to the CGA line and the process line, the purge line purge the CGA line and the process line using nitrogen gas (N2); And a vacuum generator (VCG), provided in the purge line adjacent to the CGA line and the process line, for maintaining the inside of the CGA line under vacuum based on the speed of the nitrogen gas flowing along the purge line, The gas supply cabinet according to claim 1,

상기 진공 발생기는, 상기 CGA 라인, 상기 공정 라인 및 상기 퍼지 라인이 상호 교차되는 영역에서 상기 퍼지 라인에 마련되는 벤투리 튜브를 포함할 수 있다.The vacuum generator may include a venturi tube provided in the purge line in a region where the CGA line, the process line, and the purge line cross each other.

상기 벤투리 튜브는 상기 퍼지 라인에 착탈 가능하게 결합되는 착탈형 벤투리 튜브일 수 있다.The venturi tube may be a detachable venturi tube detachably coupled to the purge line.

상기 착탈형 벤투리 튜브는, 상기 질소가스가 흐르는 방향을 따라 입구 영역보다 출구 영역의 단면적이 점진적으로 작아지게 형성되는 깔대기형 튜브 바디; 및 상기 깔대기형 튜브 바디의 입구 영역의 단부에서 반경 방향 외측으로 연장되어 상기 퍼지 라인의 단부에 결합되는 결합 플랜지를 포함할 수 있다.Wherein the detachable venturi tube has a funnel-shaped tube body formed such that the cross-sectional area of the outlet region is gradually smaller than the inlet region along the direction in which the nitrogen gas flows; And a coupling flange extending radially outwardly at an end of the inlet region of the funnel-shaped tube body and coupled to an end of the purge line.

상기 벤투리 튜브는 상기 퍼지 라인에 일체로 마련되는 일체형 벤투리 튜브일 수도 있다.The venturi tube may be an integral venturi tube integrally provided in the purge line.

본 발명에 따르면, 베큠 라인인 G-N2 라인이 없다 하더라도 퍼지 라인(N2 Purge)만으로 CGA 라인을 진공으로 형성시킬 수 있어 배관이나 주변 장치의 부식 및 작업자의 안전을 위협하는 등의 잠재적 위험성으로부터 탈피하여 사용 안정성을 높일 수 있으며, 종래보다 질소가스의 사용량 및 퍼지 시간을 감소시킬 수 있을 뿐 아니라, 시스템이 단순화되어 운전과 제어가 용이해질 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, it is possible to form a CGA line under vacuum only by a purge line (N2 Purge) even if there is no G-N2 line, which is a maintenance line, thereby avoiding potential risks such as corrosion of pipes and peripheral devices, The use stability can be improved, the amount of nitrogen gas used and the purge time can be reduced, and the system can be simplified and operation and control can be facilitated.

도 1은 종래기술에 따른 가스 공급 캐비닛의 구성도,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 공급 캐비닛의 구성도,
도 3은 도 2에 베큠 라인이 더 구비되는 상태를 도시한 도면,
도 4는 도 2에 도시된 진공 발생기 영역의 확대 구조도,
도 5은 착탈형 벤투리 튜브 영역의 단면 구조도,
도 6는 도 5의 분해도이다.1 is a schematic view of a gas supply cabinet according to the prior art;
2 is a structural view of a gas supply cabinet according to an embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a view showing a state in which a check line is further provided in FIG. 2;
Fig. 4 is an enlarged structure view of the vacuum generator region shown in Fig. 2,
5 is a sectional structure view of a detachable venturi tube region,
6 is an exploded view of Fig.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 공급 캐비닛의 구성도, 도 3은 도 2에 베큠 라인이 더 구비되는 상태를 도시한 도면, 도 4는 도 2에 도시된 진공 발생기 영역의 확대 구조도, 도 5은 착탈형 벤투리 튜브 영역의 단면 구조도, 그리고 도 6는 도 5의 분해도이다.FIG. 2 is a configuration diagram of a gas supply cabinet according to an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a view showing a state in which a check line is further provided in FIG. 2. FIG. Fig. 5 is a sectional structure view of a detachable venturi tube region, and Fig. 6 is an exploded view of Fig.

이들 도면을 참조하면, 본 실시예에 따른 가스 공급 캐비닛은 베큠 라인인 G-N2 라인이 없다 하더라도 퍼지 라인(N2 Purge)만으로 CGA 라인(130)을 진공으로 형성시킬 수 있어 배관이나 주변 장치의 부식 및 작업자의 안전을 위협하는 등의 잠재적 위험성으로부터 탈피하여 사용 안정성을 높일 수 있도록 한 것으로서, 가스 용기(110), CGA 라인(130), 공정 라인(140), 퍼지 라인(150), 그리고 진공 발생기(VCG, Vacuum CGA Generator, 160)를 포함할 수 있다.Referring to these drawings, the gas supply cabinet according to the present embodiment can form the CGA line 130 in a vacuum only by the purge line (N2 purge) even if there is no G-N2 line, which is a bypass line, A CGA line 130, a process line 140, a purge line 150, and a vacuum generator 150. The gas container 110 is connected to the CGR line 130, (VCG, Vacuum CGA Generator, 160).

가스 용기(110)는 공정가스, 예컨대 반도체를 비롯하여 평판디스플레이 등을 제조하는 제조공정에 사용되는 공정가스가 내부에 저장되는 용기이다. 이때의 공정가스는 기상 혹은 액상일 수 있다.The gas container 110 is a container in which a process gas, for example, a semiconductor, as well as a process gas used in a manufacturing process for manufacturing a flat panel display or the like, is stored. The process gas at this time may be gas or liquid.

본 실시예의 경우, 1개의 가스 용기(110)가 적용되고 있으나 가스 용기(110)의 개수는 2개 이상일 수도 있는데, 이럴 때는 서로 다른 공정가스를 공정(process)으로 공급할 수 있다.In this embodiment, one gas container 110 is applied, but the number of the gas containers 110 may be two or more, in which case different process gases may be supplied in a process.

가스 용기(110)의 일측, 즉 내부에 저장된 공정가스가 배출되는 배출구 영역에는 실린더 가스 어댑터(CGA, Cylinder Gas Adaptor, 120)가 연결된다.A cylinder gas adapter (CGA) 120 is connected to one side of the gas container 110, that is, an outlet area through which the process gas stored therein is discharged.

CGA 라인(130)은 실린더 가스 어댑터(CGA, 120)와 연결되는 라인으로서, 가스 용기(110) 내의 공정가스가 유동되는 라인을 이룬다. CGA 라인(130)에는 공정가스를 필터링하는 필터가 개재될 수 있다.The CGA line 130 is a line connecting with the cylinder gas adapter (CGA) 120, which forms a line through which the process gas in the gas container 110 flows. The CGA line 130 may include a filter for filtering the process gas.

공정 라인(140)은 CGA 라인(130)과 연결되는 라인으로서, 공정가스를 미리 결정된 공정으로 공급한다. 즉 CGA 라인(130)을 따라 흐르는 공정가스는 주변 밸브들의 동작에 기초하여 공정 라인(140)을 통해 제조공정으로 향한다.The process line 140 is a line connected to the CGA line 130 and supplies the process gas to a predetermined process. The process gas flowing along the CGA line 130 is directed to the manufacturing process through the process line 140 based on the operation of the peripheral valves.

퍼지 라인(150)은 CGA 라인(130)과 공정 라인(140)에 상호간 연결되고, 질소가스(N2)를 이용하여 CGA 라인(130)과 상기 공정 라인(140)을 퍼지(purge)하는 라인이다.The purge line 150 is connected to the CGA line 130 and the process line 140 and is a line that purge the CGA line 130 and the process line 140 using nitrogen gas N2 .

앞서 기술한 것처럼 퍼지는 CGA 라인(130)과 공정 라인(140) 상에 잔존 가능한 공정가스를 배출(vent, 배기)시켜 CGA 라인(130)과 공정 라인(140)을 정화시키는 것을 의미한다. 이처럼 CGA 라인(130)과 공정 라인(140)이 정화되어야만 잔존 가스로 인해 배관이나 주변 장치가 부식되는 현상을 줄일 수 있으며, 가스 용기(110) 교체를 위하여 가스 용기(110)로부터 CGA 라인(130)을 분리할 때 일어날 수 있는 작업자의 안전 사고도 방지할 수 있게 된다.Means to purge the CGA line 130 and the process line 140 by venting the process gas remaining on the CGA line 130 and the process line 140 as described above. As described above, the CGA line 130 and the process line 140 need to be cleaned to reduce the corrosion of piping and peripheral devices due to the residual gas. In order to replace the gas container 110, the CGA line 130 It is possible to prevent a safety accident of a worker that may occur when the worker is separated.

참고로, 도 1을 참조하면, CGA 라인(130), 공정 라인(140) 및 퍼지 라인(150) 상에는 다양한 종류의 밸브(PV1,LV1), 커넥터, 체크밸브(CV1,CV2) 등이 부속되는데, 이들에 대해서는 도면부호 표시 및 설명을 생략한다.1, various types of valves PV1 and LV1, connectors, check valves CV1 and CV2, and the like are attached to the CGA line 130, the process line 140, and the purge line 150 , So that the reference numerals are not shown or described.

한편, 진공 발생기(VCG, Vacuum CGA Generator, 160)는 CGA 라인(130)과 공정 라인(140)에 이웃된 퍼지 라인(150)에 마련되며, 퍼지 라인(150)을 따라 흐르는 질소가스의 속도에 기초하여 CGA 라인(130)의 내부를 진공으로 형성시키는 역할을 한다.Meanwhile, a vacuum generator (VCG) 160 is provided in the purge line 150 adjacent to the CGA line 130 and the process line 140 and is connected to the purge line 150 at a rate of nitrogen gas flowing along the purge line 150 Thereby forming the inside of the CGA line 130 in a vacuum.

주로 도 4 내지 도 6을 참조하면, 본 실시예에서 진공 발생기(160)는 CGA 라인(130), 공정 라인(140) 및 퍼지 라인(150)이 상호 교차되는 영역에서 퍼지 라인(150)에 마련되는 벤투리 튜브(170)를 포함할 수 있다.4 through 6, the vacuum generator 160 is provided in the purge line 150 in the region where the CGA line 130, the process line 140, and the purge line 150 intersect with each other. And the venturi tube 170 may be provided.

또한 진공 발생기(160)는 CGA 라인(130), 공정 라인(140) 및 퍼지 라인(150)이 상호 교차되는 영역에 연결되는 더미 라인(161)과, 더미 라인(161)에 마련되는 게이지(162)를 더 포함할 수 있다.The vacuum generator 160 also includes a dummy line 161 connected to the intersection of the CGA line 130, the process line 140 and the purge line 150 and a gauge 162 ).

본 실시예에서 벤투리 튜브(170)는 퍼지 라인(150)에 착탈 가능하게 결합되는 벤투리 튜브(170)로 적용된다.In this embodiment, the venturi tube 170 is applied to the venturi tube 170 detachably coupled to the purge line 150.

이러한 벤투리 튜브(170)는 질소가스가 흐르는 방향을 따라 입구 영역보다 출구 영역의 단면적이 점진적으로 작아지게 형성되는 깔대기형 튜브 바디(171)와, 깔대기형 튜브 바디(171)의 입구 영역의 단부에서 반경 방향 외측으로 연장되어 퍼지 라인(150)의 단부에 결합되는 결합 플랜지(172)를 포함할 수 있다.The venturi tube 170 has a funnel-shaped tube body 171 formed so that the cross-sectional area of the outlet region is gradually smaller than the inlet region along the direction of flow of the nitrogen gas, and the end portion of the inlet region of the funnel- And a coupling flange 172 extending radially outwardly from the flange 150 and coupled to an end of the purge line 150.

이와 같은 형태의 착탈형 벤투리 튜브(170)를 CGA 라인(130), 공정 라인(140) 및 퍼지 라인(150)이 상호 교차되는 영역에서 퍼지 라인(150)에 적용할 경우, 깔대기형 튜브 바디(171)의 구조적인 특징에 의해 급속히 빠른 질소가스의 흐름을 형성할 수 있게 되며, 이로 인해 CGA 라인(130) 상에 정체되거나 잔존 가능한 가스가 빨려나갈 수 있어 CGA 라인(130)을 진공으로 형성시킬 수 있게 된다.When the detachable venturi tube 170 of this type is applied to the purge line 150 in the area where the CGA line 130, the processing line 140 and the purge line 150 cross each other, the funnel- 171 can rapidly form a flow of nitrogen gas which can suck up stagnant or remaining gas on the CGA line 130 to form the CGA line 130 in a vacuum .

다시 말해, 벤투리 튜브(170)의 출구 영역의 단면적이 점진적으로 작아지게 형성됨으로써, 고압으로 유입되는 질소가스가 좁은 출구 영역으로 배출되면서, 급속한 가스의 흐름을 형성하게 되고, 이로 인하여 CGA 라인(150) 상에 정체되어 있는 잔류가스가 질소가스의 흐름에 편승하여 급속히 빨려 나가게 된다.In other words, since the cross-sectional area of the exit region of the venturi tube 170 is formed to gradually decrease, the nitrogen gas introduced at a high pressure is discharged to the narrow outlet region, thereby forming a rapid gas flow, 150 is sucked in the flow of nitrogen gas and sucked rapidly.

따라서 퍼지 라인(150)으로 질소가스를 공급하는 것만으로도 벤투리 원리에 의해 CGA 라인(130) 상의 잔류 가스를 완전히 제거할 수 있으며, 이로 인해 잔류 가스로 인한 위험성을 근본적으로 제거할 수 있다.Therefore, it is possible to completely remove the residual gas on the CGA line 130 by the Venturi principle by merely supplying the nitrogen gas to the purge line 150, thereby substantially eliminating the risk due to the residual gas.

본 실시예에서는 착탈가능하게 형성된 벤투리 튜브(170)가 적용되는 것으로 도시되어 있으나, 벤투리 튜브(170)는 퍼지 라인(150)에 일체형으로 형성되거나, 필요에 따라 커넥터 타입에 결합된 형태로 변형되어 퍼지 라인(150)에 적용되는 것도 가능할 것이다.Although the detachable venturi tube 170 is shown as being applied in the present embodiment, the venturi tube 170 may be formed integrally with the purge line 150 or may be integrally formed with the connector type It is also possible to apply it to the purge line 150 in a modified manner.

이와 같은 구조의 벤투리 튜브(170)가 적용될 경우, 종전의 G-N2 라인(18, 도 1 참조)이 구비될 필요가 없어지는 이점이 있다. When the venturi tube 170 having such a structure is applied, there is an advantage that the conventional G-N2 line 18 (see Fig. 1) need not be provided.

다만, G-N2 라인은 도 2에 도시된 바와 같이 퍼지 이후에도 배관 내에 잔류될 수 있는 N2 조차도 진공화시킬 필요가 있을 경우, 선택적으로 구비될 수 있다. However, the G-N2 line may be optionally provided when it is necessary to evacuate even N2 that may remain in the piping after purging, as shown in Fig.

더미 라인(161)은 CGA 라인(130), 공정 라인(140) 및 퍼지 라인(150)이 상호 교차되는 영역에 연결되며, 더미 라인(161)에는 게이지(162)가 마련된다. 이러한 게이지(162)의 눈금을 확인하면서 질소가스를 공급하면서 퍼지를 수행하면 되는데, 예컨대 정해진 압력 이하로 게이지(162)의 눈금이 떨어지면 질소가스의 공급을 중단시켜 퍼지 작업을 종료하고, CGA 라인(130)을 가스 용기(110)로부터 분리하는 작업을 수행하면 된다.The dummy line 161 is connected to the area where the CGA line 130, the process line 140 and the purge line 150 intersect each other and the dummy line 161 is provided with a gauge 162. For example, if the scale of the gauge 162 falls below a predetermined pressure, the supply of the nitrogen gas is stopped to terminate the purge operation, and the CGA line ( 130 from the gas container 110 may be performed.

이처럼 게이지(162)를 확인하면서 질소가스 퍼지(N2 Purge)만으로도 CGA 라인(130)을 진공으로 형성할 수 있기 때문에 종래보다 질소가스의 사용량을 현저히 감소시킬 수 있다. 뿐만 아니라 퍼지 시간 역시 감소시킬 수 있다.Since the CGA line 130 can be formed in a vacuum only by the nitrogen gas purge (N2 purge) while checking the gauge 162, the amount of nitrogen gas used can be significantly reduced as compared with the conventional case. In addition, the purge time can also be reduced.

이상 설명한 바와 같은 구조와 작용을 갖는 본 실시예에 따르면, 베큠 라인이 없다 하더라도 질소가스 퍼지(N2 Purge)로 CGA 라인(130)을 진공으로 형성시킬 수 있어 배관이나 주변 장치를 부식시키는 등 잠재적 위험성으로부터 탈피하여 안정성을 높일 수 있으며, 종래보다 질소가스의 사용량을 줄일 수 있으면서도 퍼지 시간은 감소시킬 수 있고, 나아가 시스템이 단순화되어 운전과 제어가 용이해질 수 있게 된다.According to the present embodiment having the structure and operation as described above, it is possible to form the CGA line 130 in a vacuum with nitrogen gas purge (N2 purge) even if there is no line, The purge time can be reduced and the system can be further simplified and operation and control can be facilitated.

본 발명의 효과에 대해 좀 더 부연하면 다음과 같다.The effect of the present invention will be further described as follows.

본 발명의 경우, 질소가스 퍼지(N2 Purge)만으로도 CGA 라인(130)을 진공으로 형성할 수 있어 안정성이 높아질 수 있다.In the case of the present invention, the CGA line 130 can be formed in a vacuum only by the nitrogen gas purge (N2 purge), so that the stability can be enhanced.

또한 도 2에 도시된 것처럼 G-N2 라인은 굳이 사용하지 않아도 되기 때문에배관 구조는 더욱 간단해질 수 있다.Also, since the G-N2 line is not required to be used as shown in Fig. 2, the piping structure can be further simplified.

질소가스 퍼지(N2 Purge)만으로도 CGA 라인(130)을 진공으로 형성할 수 있기 때문에 질소가스의 사용량을 현저히 감소시킬 수 있을 뿐만 아니라 퍼지 시간 역시 감소시킬 수 있다.Since the CGA line 130 can be formed in a vacuum only by the nitrogen gas purge (N2 purge), the amount of nitrogen gas used can be significantly reduced, and the purge time can also be reduced.

특히, 도 2처럼 전체적인 시스템이 간소화될 수 있어서 운전이 쉽고 제어가 용이해질 수 있으며, 기존 사용중인 제품에도 즉시 또는 간단한 라인 수정만으로도 적용이 가능하다.In particular, as shown in FIG. 2, the overall system can be simplified, so that operation is easy and control can be facilitated.

그리고 진공 발생기(160)를 간단히 장착할 수 있어 설치 및 유지보수가 매우 간단하다.Further, since the vacuum generator 160 can be easily mounted, the installation and maintenance are very simple.

이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. It is therefore intended that such modifications or alterations be within the scope of the claims appended hereto.

110 : 가스 용기 120 : 실린더 가스 어댑터(CGA)
130 : CGA 라인 140 : 공정 라인
150 : 퍼지 라인 160 : 진공 발생기
170 : 벤투리 튜브 171 : 깔대기형 튜브 바디
172 : 결합 플랜지 180 : G-N2 라인110: gas container 120: cylinder gas adapter (CGA)
130: CGA line 140: process line
150: purge line 160: vacuum generator
170: Venturi tube 171: funnel-shaped tube body
172: Coupling flange 180: G-N2 line

Claims (5)

공정에서 요구되는 공정가스가 내부에 저장되며, 일측에 실린더 가스 어댑터(CGA, Cylinder Gas Adaptor)가 연결되는 가스 용기;
상기 실린더 가스 어댑터와 연결되고 상기 가스 용기 내의 공정가스가 유동되는 CGA 라인;
상기 CGA 라인과 연결되고 상기 공정가스를 미리 결정된 공정으로 공급하는 공정 라인;
상기 CGA 라인과 상기 공정 라인에 상호간 연결되고, 질소가스(N2)를 이용하여 상기 CGA 라인과 상기 공정 라인을 퍼지(purge)하는 퍼지 라인; 및
상기 CGA 라인과 상기 공정 라인에 이웃된 상기 퍼지 라인에 마련되며, 상기 퍼지 라인을 따라 흐르는 상기 질소가스의 속도에 기초하여 상기 CGA 라인의 내부를 진공으로 형성시키는 진공 발생기(VCG, Vacuum CGA Generator)를 포함함으로써, 상기 퍼지 라인으로 상기 질소가스(N2)를 공급하여 상기 공정 라인을 퍼지하는 퍼지 공정의 수행 시 자동적으로 상기 진공발생기에 의해 상기 CGA 라인의 진공 상태가 확보되며,
상기 진공 발생기는,
상기 CGA 라인, 상기 공정 라인 및 상기 퍼지 라인이 상호 교차되는 영역에서 상기 퍼지 라인에 마련되는 벤투리 튜브를 포함하며,
상기 벤투리 튜브는,
상기 질소가스가 흐르는 방향을 따라 입구 영역보다 출구 영역의 단면적이 점진적으로 작아지게 형성되는 깔대기형 튜브 바디; 및
상기 깔대기형 튜브 바디의 입구 영역의 단부에서 반경 방향 외측으로 연장되는 결합 플랜지를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 캐비닛.
A gas container in which a process gas required in the process is stored, and a cylinder gas adapter (CGA, Cylinder Gas Adapter) is connected to one side;
A CGA line connected to the cylinder gas adapter and through which the process gas in the gas container flows;
A process line coupled to the CGA line and supplying the process gas to a predetermined process;
A purge line interconnected to the CGA line and the process line, the purge line purge the CGA line and the process line using nitrogen gas (N2); And
A vacuum generator (VCG) provided in the purge line adjacent to the CGA line and the process line, the vacuum generator generating a vacuum inside the CGA line based on the speed of the nitrogen gas flowing along the purge line; The vacuum state of the CGA line is automatically secured by the vacuum generator during the purging process of purging the process line by supplying the nitrogen gas N2 to the purge line,
The vacuum generator includes:
And a venturi tube provided in the purge line in a region where the CGA line, the process line, and the purge line cross each other,
In the venturi tube,
The funnel-shaped tube body being formed such that the cross-sectional area of the outlet region is gradually smaller than the inlet region along the flow direction of the nitrogen gas; And
And a coupling flange extending radially outward at an end of the inlet region of the funnel-shaped tube body.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 벤투리 튜브는 상기 퍼지 라인에 착탈 가능하게 결합되는 착탈형 벤투리 튜브인 것을 특징으로 하는 가스 공급 캐비닛.
The method according to claim 1,
Wherein the venturi tube is a detachable venturi tube detachably coupled to the purge line.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 벤투리 튜브는 상기 퍼지 라인에 일체로 마련되는 일체형 벤투리 튜브인 것을 특징으로 하는 가스 공급 캐비닛.The method according to claim 1,
Wherein the venturi tube is an integral venturi tube integrally provided in the purge line.
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