KR101615494B1 - Multi-directional dielectric barrier discharge plasma generator - Google Patents

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Abstract

본 발명은 다방향 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기에 관한 것이다. 본 발명의 다방향 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기는 접지로 연결되고 내부에서 발생된 플라즈마를 둘 이상의 외부 방향으로 배출하기 위한 복수 개의 개구부가 구비된 반응기 몸체; 반응기 몸체의 내측면과 마주하도록 반응기 몸체의 내에 구비되는 하나 이상의 전원 전극; 반응기 몸체와 전원 전극 사이에 구비되는 유전체부; 및 전원 전극으로 전원을 공급하기 위한 전원 공급원을 포함하여 대기압에서 플라즈마를 형성한다. 본 발명의 다방향 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기를 이용하면 대기압과 상온에서 플라즈마를 발생하고 피처리물을 처리할 수 있다. 또한 다방향으로 형성된 개구부를 통해 플라즈마가 배출되므로 대면적의 플라즈마를 배출하여 다량의 피처리물을 처리할 수 있다. 또한 대기압에서 플라즈마를 생성하기 때문에 고가의 진공장비를 구비하지 않아도 되어 경제적이다. The present invention relates to a multi-directional dielectric barrier discharge plasma generator. A multi-directional dielectric barrier discharge plasma generator of the present invention includes: a reactor body connected to a ground and having a plurality of openings for discharging plasma generated in the plasma in at least two outward directions; One or more power supply electrodes provided within the reactor body to face the inner surface of the reactor body; A dielectric portion provided between the reactor body and the power supply electrode; And a power source for supplying power to the power electrode, thereby forming a plasma at atmospheric pressure. The multi-directional dielectric barrier discharge plasma generator of the present invention can generate plasma at atmospheric pressure and room temperature and process the object to be treated. Further, since the plasma is discharged through the openings formed in multiple directions, a large amount of plasma can be discharged to treat a large amount of the object to be processed. In addition, since plasma is generated at atmospheric pressure, expensive vacuum equipment is not required, which is economical.

Description

다방향 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기{MULTI-DIRECTIONAL DIELECTRIC BARRIER DISCHARGE PLASMA GENERATOR} MULTI-DIRECTIONAL DIELECTRIC BARRIER DISCHARGE PLASMA GENERATOR [0002]

본 발명은 다방향 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기에 관한 것으로, 보다 상세하게는 유전체 장벽 방전을 이용하여 대기압에서 플라즈마를 발생하는 다방향 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기에 관한 것이다.The present invention relates to a multi-directional dielectric barrier discharge plasma generator, and more particularly, to a multi-directional dielectric barrier discharge plasma generator that generates plasma at atmospheric pressure using a dielectric barrier discharge.

산업적으로 사용되는 플라즈마는 저온 플라즈마와 열 플라즈마로 나눌 수 있는데 저온 플라즈마의 경우 반도체 제조 공정에서 가장 널리 사용되고 있으며, 열 플라즈마는 금속의 절단 등에 응용하고 있다.Plasma used industrially can be divided into low temperature plasma and thermal plasma. Low temperature plasma is most widely used in semiconductor manufacturing process, and thermal plasma is applied to cutting of metal.

열 플라즈마(Thermal plasma)는 주로 아크 방전에 의해 발생시킨 전자, 이온, 중성입자로 구성된 기체로 구성입자가 1,000~20,000℃와 100~2,000m/s를 갖는 고속의 제트 불꽃 형태를 이루고 있다. 이렇게 고온, 고열용량, 고속, 다량의 활성입자를 갖는 열 플라즈마의 특성을 이용하여, 재래식 기술에서는 만들 수 없는 다양하고 효율적인 고온 열원이나 물리 화학 반응기로 사용되어, 여러 산업분야에서 이용 되고 있다. 열 플라즈마의 대표적인 발생법 으로서는 직류 또는 교류 Arc 방전을 발생하는 플라즈마 장치와 고주파(Radio Frequency)자장에 의한 고주파 플라즈마가 주로 이용되고 있다. Thermal plasma is a gas composed of electrons, ions, and neutral particles generated mainly by arc discharge, and the particles are in the form of high-speed jet flame having 1,000 to 20,000 ° C and 100 to 2,000 m / s. By using the characteristics of thermal plasma having such high temperature, high heat capacity, high speed and large amount of active particles, it is used as various high efficiency heat sources and physicochemical reactors which can not be produced by conventional technology, and is used in various industrial fields. As a typical method of generating a thermal plasma, a plasma device generating a DC or AC arc discharge and a high frequency plasma generated by a radio frequency magnetic field are mainly used.

저온 플라즈마는 반도체 제조, 금속 및 세라믹 박막제조, 물질합성 등 다양한 활용성을 가지고 있는데, 대부분 저압에서 생성된다. 대기압 플라즈마는 대기압에서 저온의 플라즈마를 얻음으로써 진공유지, 처리물 장입과 관련된 장비 비용을 줄일 수 있을 뿐만 아니라, 배연가스 처리 및 공기청정과 같이 분야도 더 넓다. 대기압 플라즈마는 펄스 코로나방전과 유전체 장벽방전으로 주로 발생된다. Low - temperature plasma has various applications such as semiconductor manufacturing, metal and ceramic thin film manufacturing, and material synthesis, mostly generated at low pressure. Atmospheric plasma can be used to reduce the cost of equipment related to vacuum maintenance, treatment, etc., by obtaining a low-temperature plasma at atmospheric pressure, as well as fields such as flue gas treatment and air cleaning. Atmospheric plasma is mainly generated by pulse corona discharge and dielectric barrier discharge.

대기압 플라즈마는 기체의 압력을 100Torr부터 대기압(760 Torr)이상 가지 유지하면서 저온 플라즈마를 발생하는 기술을 의미한다. 대기압 플라즈마 시스템은 고가의 진공 장비를 필요로 하지 않기 때문에 경제적이며 펌핑(pumping)없고, 인라인 형태로 공정이 가능하므로 생산성을 극대화할 수 있는 플라즈마 시스템을 개발 할 수 있다. 대기압 플라즈마 시스템을 사용하는 응용분야로는 초고속 에칭&코팅기술, 반도체 패키징, 디스플레이, 물질의 표면 개질 및 코팅 그리고 나노분말 생성, 유해가스 제거 및 산화성 기체의 생성 등 여러 응용분야가 있다.Atmospheric plasma means a technique of generating a low-temperature plasma while keeping the gas pressure from 100 Torr to atmospheric pressure (760 Torr) or more. The atmospheric pressure plasma system is economical because it does not require expensive vacuum equipment, and it is possible to develop a plasma system that can maximize productivity because it is possible to process in-line without pumping. Applications involving atmospheric plasma systems include various applications such as ultra-fast etching and coating techniques, semiconductor packaging, display, surface modification and coating of materials, nanoparticle formation, removal of harmful gases and generation of oxidizing gases.

이 중 유전체 장벽 방전(DBD: Dielectric Barrier Discharge)은 기존의 진공플라즈마에 비해 100~1000배 이상 높은 반응 활성종(radical)의 농도를 구현할 수 있으면서도 온도가 상온~150℃로 낮아서 폴리머, 유리 및 저융점 금속의 표면처리에 적합니다. 유전체 장벽 방전의 특성은 유전체 층을 두 전극 중의 하나, 또는 모두에 설치하는 것이다. 유전체는 방전의 적당한 기능을 부여하는데 중요하다. 방전 전극간의 한 위치에서 이온화가 일어나면 운반된 전하들이 유전체에 축적된다. 이러한 전하에 기인한 전장들은 전극간의 전장을 감소시키고, 수 나노초가 지난 다음 전류의 흐름을 차단한다. 전류의 펄스 지속시간은 압력, 가스의 이온화 특성 및 유전체의 특성에 의존한다. 유전체는 두 가지 기능을 가진다. 유전체는 한 마이크로방전에 의해 전해진 전하량을 제한하고 마이크로 방전이 전극 전체로 퍼지도록 하는 것이다. 이 방식의 가장 큰 특징은 방전공간 상에 국부적으로 전류밀도가 높은 스트리머(streamer)에 의한 마이크로 방전이 존재한다는 것이다. Among them, Dielectric Barrier Discharge (DBD) can achieve a concentration of reactive radicals 100 to 1000 times higher than conventional vacuum plasma, but the temperature is low to room temperature ~ 150 ° C., Suitable for surface treatment of melting point metal. The characteristic of the dielectric barrier discharge is to place the dielectric layer on one or both of the two electrodes. The dielectric is important for imparting proper function of discharge. When ionization takes place at one location between the discharge electrodes, the transported charges accumulate in the dielectric. The electric fields caused by this charge reduce the electric field between the electrodes and block the flow of current after several nanoseconds have elapsed. The pulse duration of the current depends on the pressure, the ionization characteristics of the gas and the nature of the dielectric. The dielectric has two functions. The dielectric is to limit the amount of charge delivered by one microdischarge and cause the microdischarge to spread throughout the electrode. The most significant feature of this method is that there is a microdischarge by a streamer with a high current density locally on the discharge space.

유전체 장벽은 대기압에서 아주 큰 비-평형 조건에서 동작하고, 고 출력 방전을 할 수 있으며 복잡한 펄스 전력 공급기가 없어도 되기 때문에 산업체에서 널리 이용되고 있는데, 오존 발생, 이산화탄소 레이저, 자외선 광원, 오염물질 처리 등에 널리 응용되고 있다. 특히, 유전체 장벽은 물질 표면을 처리하는데 널리 이용되고 있으며 이러한 표면 처리를 통해서 인쇄나 접착 특성이 더 좋은 표면을 만들 수 있다. 유전체 장벽은 대기압과 상온에서 방전 가능하기 때문에 물질 표면 처리의 경우 거의 모든 처리가 유전체 장벽 방전을 통해 이루어지고 있다. 특히 먼지가 많은 환경에서 작동될 때 대기압 근처 또는 그 이상에서 동작하는 것은 진공 장비를 유지하기에 어렵고 예산이 드는 것을 요구하지 않는 장점을 제공한다.Dielectric barriers are widely used in industry because they operate at very high non-equilibrium conditions at atmospheric pressure, are capable of high power discharge and do not require complex pulse power supplies. Ozone generation, CO2 laser, ultraviolet light source, pollutant treatment Widely applied. In particular, dielectric barriers are widely used in the treatment of material surfaces, and these surface treatments can create surfaces with better printing or adhesion properties. Since the dielectric barrier can discharge at atmospheric pressure and at room temperature, almost all of the surface treatment of materials is done through dielectric barrier discharge. Operating near or above atmospheric pressure, especially when operating in dusty environments, offers the advantage of not having to keep vacuum equipment and not requiring a budget.

본 발명의 목적은 유전체 장벽 방전을 통해 발생된 플라즈마를 반응기 몸체의 다방향으로 배출함으로써 대기압에서 피처리물을 처리할 수 있는 다방향 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기를 제공하는데 있다.It is an object of the present invention to provide a multi-directional dielectric barrier discharge plasma generator capable of treating an object to be processed at atmospheric pressure by discharging plasma generated through a dielectric barrier discharge in multiple directions of a reactor body.

상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일면은 다방향 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기에 관한 것이다. 본 발명의 다방향 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기는 접지로 연결되고 내부에서 발생된 플라즈마를 둘 이상의 외부 방향으로 배출하기 위한 복수 개의 개구부가 구비된 반응기 몸체; 반응기 몸체의 내측면과 마주하도록 반응기 몸체의 내에 구비되는 하나 이상의 전원 전극; 반응기 몸체와 전원 전극 사이에 구비되는 유전체부; 및 전원 전극으로 전원을 공급하기 위한 전원 공급원을 포함하여 대기압에서 플라즈마를 형성한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a multi-directional dielectric barrier discharge plasma generator. A multi-directional dielectric barrier discharge plasma generator of the present invention includes: a reactor body connected to a ground and having a plurality of openings for discharging plasma generated in the plasma in at least two outward directions; One or more power supply electrodes provided within the reactor body to face the inner surface of the reactor body; A dielectric portion provided between the reactor body and the power supply electrode; And a power source for supplying power to the power electrode, thereby forming a plasma at atmospheric pressure.

또는 전원 공급원으로부터 하나 이상의 전원 전극으로 전류를 분배하는 전류 분배회로를 포함한다. Or a current distribution circuit that distributes current from one power source to one or more power electrodes.

그리고 유전체부는 박스 형태로 형성되고 전원 전극이 내부에 매설된다.The dielectric portion is formed in a box shape and a power electrode is buried therein.

또는 다방향 대기압 플라즈마 발생기는 상기 전원 전극의 과열을 방지하기 위한 냉각채널을 포함한다. Or the multi-directional atmospheric-pressure plasma generator includes a cooling channel for preventing the power electrode from overheating.

그리고 반응기 몸체는 가스 공급원으로부터 공정가스를 공급받기 위한 가스 주입구와 배기가스를 배출하기 위한 가스 배출구를 포함한다. The reactor body includes a gas inlet for receiving a process gas from a gas source and a gas outlet for discharging the exhaust gas.

본 발명의 다방향 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기를 이용하면 대기압과 상온에서 플라즈마를 발생하고 피처리물을 처리할 수 있다. 또한 다방향으로 형성된 개구부를 통해 플라즈마가 배출되므로 대면적의 플라즈마를 배출하여 다량의 피처리물을 처리할 수 있다. 또한 대기압에서 플라즈마를 생성하기 때문에 고가의 진공장비를 구비하지 않아도 되어 경제적이다. The multi-directional dielectric barrier discharge plasma generator of the present invention can generate plasma at atmospheric pressure and room temperature and process the object to be treated. Further, since the plasma is discharged through the openings formed in multiple directions, a large amount of plasma can be discharged to treat a large amount of the object to be processed. In addition, since plasma is generated at atmospheric pressure, expensive vacuum equipment is not required, which is economical.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 대기압 플라즈마 발생기를 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1의 대기압 플라즈마 발생기의 단면을 도시한 도면이다.
도 3은 전류 분배 회로를 포함하는 대기압 플라즈마 발생기를 도시한 도면이다.
도 4는 독립된 전원 공급원을 포함하는 대기압 플라즈마 발생기를 도시한 도면이다.
도 5는 유전체 박스에 전원 전극이 매설된 대기압 플라즈마 발생기를 도시한 도면이다.
도 6 및 도 7은 냉각 채널을 갖는 대기압 플라즈마 발생기를 도시한 도면이다.
도 8은 대기압 플라즈마 발생기가 구비된 탄소섬유 표면처리 장치의 제1 실시예를 도시한 도면이다.
도 9는 도 8에 도시된 탄소섬유 표면처리 장치의 내부 구성을 도시한 도면이다.
도 10 및 도 11은 이동모듈이 구비된 대기압 플라즈마 발생기의 상, 하부를 도시한 도면이다.
도 12는 대기압 플라즈마 발생기가 구비된 탄소섬유 표면처리 장치의 제2 실시예를 도시한 도면이다. 1 is a perspective view illustrating an atmospheric-pressure plasma generator according to a preferred embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the atmospheric-pressure plasma generator of FIG. 1. FIG.
3 is a diagram showing an atmospheric plasma generator including a current distribution circuit.
4 is a diagram illustrating an atmospheric plasma generator including an independent power source.
5 is a view showing an atmospheric pressure plasma generator in which a power supply electrode is embedded in a dielectric box.
6 and 7 are diagrams showing an atmospheric plasma generator having cooling channels.
8 is a view showing a first embodiment of a carbon fiber surface treatment apparatus equipped with an atmospheric plasma generator.
Fig. 9 is a diagram showing an internal configuration of the carbon fiber surface treatment apparatus shown in Fig. 8. Fig.
10 and 11 are views showing the top and bottom of the atmospheric-pressure plasma generator having the moving module.
12 is a view showing a second embodiment of a carbon fiber surface treatment apparatus provided with an atmospheric plasma generator.

본 발명을 충분히 이해하기 위해서 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상세히 설명하는 실시예로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공 되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어 표현될 수 있다. 각 도면에서 동일한 구성은 동일한 참조부호로 도시한 경우가 있음을 유의하여야 한다. 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 기술은 생략된다.
For a better understanding of the present invention, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The embodiments of the present invention may be modified into various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments described in detail below. The present embodiments are provided to enable those skilled in the art to more fully understand the present invention. Therefore, the shapes and the like of the elements in the drawings can be exaggeratedly expressed to emphasize a clearer description. It should be noted that the same components are denoted by the same reference numerals in the drawings. Detailed descriptions of well-known functions and constructions which may be unnecessarily obscured by the gist of the present invention are omitted.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 대기압 플라즈마 발생기를 도시한 사시도이고, 도 2는 도 1의 대기압 플라즈마 발생기의 단면을 도시한 도면이다. FIG. 1 is a perspective view illustrating an atmospheric-pressure plasma generator according to a preferred embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of the atmospheric-pressure plasma generator of FIG.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 대기압 플라즈마 발생기(100)는 반응기 몸체(102), 제1, 2 전원 전극(112, 114), 제1, 2 유전체판(132, 134) 및 전원 공급원(152)으로 구성된다. 1 and 2, an atmospheric-pressure plasma generator 100 according to the present invention includes a reactor body 102, first and second power supply electrodes 112 and 114, first and second dielectric plates 132 and 134, And a supply source 152.

반응기 몸체(102)는 접지(101)로 연결되며 내부에 플라즈마 방전 공간을 갖는다. 반응기 몸체(102)는 가스 주입구(106)와 가스 배출구(108)가 구비된다. 가스 공급원(107)은 가스 주입구(106)와 연결되어 가스 주입구(106)를 통해 반응기 몸체(102) 내부로 공정 가스를 공급한다. 가스 배출구(108)는 배기 펌프(109)와 연결되고, 가스 배출구(108)를 통해 반응기 몸체(102) 내부의 배기 가스를 외부로 배출한다. 반응기 몸체(102)는 하나 이상의 면에 슬릿 형태의 복수 개의 개구부(104)가 형성된다. 복수 개의 개구부(104)는 반응기 몸체(102)의 일면에 소정의 간격을 갖도록 병렬 배열된다. 반응기 몸체(102) 내부에서 생성된 플라즈마는 복수 개의 개구부(104)를 통해 반응기 몸체(102) 외부로 배출된다. 다시 말해, 반응기 몸체(102) 내부에서 생성된 플라즈마는 개구부(104)를 통해 반응기 몸체(102)의 외부로 배출되어 피처리물을 처리한다. 여기서, 개구부(104)는 플라즈마가 배출되기 위한 구성으로 슬릿 형태, 관통홀 등 다양한 형태로 구성될 수 있다.The reactor body 102 is connected to the ground 101 and has a plasma discharge space therein. The reactor body 102 is provided with a gas inlet 106 and a gas outlet 108. The gas supply source 107 is connected to the gas inlet 106 to supply the process gas into the reactor body 102 through the gas inlet 106. The gas exhaust port 108 is connected to the exhaust pump 109 and exhausts the exhaust gas inside the reactor body 102 through the gas exhaust port 108 to the outside. The reactor body 102 is formed with a plurality of openings 104 in the form of slits on one or more surfaces. The plurality of openings 104 are arranged in parallel on the one surface of the reactor body 102 so as to have a predetermined gap therebetween. The plasma generated inside the reactor body 102 is discharged through the plurality of openings 104 to the outside of the reactor body 102. In other words, the plasma generated inside the reactor body 102 is discharged to the outside of the reactor body 102 through the opening 104 to treat the object. Here, the opening 104 may have various shapes such as a slit shape, a through hole, and the like for discharging the plasma.

제1, 2 전원 전극(112, 114)은 반응기 몸체(102)의 내측면과 소정의 간격으로 이격되면서 반응기 몸체(102)의 내측면과 각각 마주하도록 반응기 몸체(102) 내에 구비된다. 제1, 2 전원 전극(112, 114)은 반응기 몸체(102)의 마주하는 양면에 대응되도록 설치된다. 제1, 2 전원 전극(112, 114)과 마주하는 반응기 몸체(102)에 면에 복수 개의 개구부(104)가 형성되어 반응기 몸체(102) 내부에서 발생된 플라즈마가 개구부(104)를 통해 반응기 몸체(102) 외부로 배출될 수 있도록 한다. 제1, 2 전원 전극(112)은 면 전극 형태로 형성되며, 전원 공급원(152)으로부터 전원을 공급받아 접지로 연결된 반응기 몸체(102)와의 사이에서 플라즈마 방전이 이루어진다. 제1, 2 전원 전극(112, 114)는 스테인리스, 알루미늄, 구리 등의 도체 금속을 사용하여 제작할 수 있다. The first and second power supply electrodes 112 and 114 are provided in the reactor body 102 so as to face the inner surface of the reactor body 102 while being spaced apart from the inner surface of the reactor body 102 by a predetermined distance. The first and second power supply electrodes 112 and 114 are disposed to correspond to opposite surfaces of the reactor body 102. A plurality of openings 104 are formed in the surface of the reactor body 102 facing the first and second power supply electrodes 112 and 114 so that the plasma generated inside the reactor body 102 flows through the openings 104, (102). The first and second power supply electrodes 112 are formed in the shape of a surface electrode, and a plasma discharge is performed between the power supply source 152 and the reactor body 102 connected to the ground. The first and second power supply electrodes 112 and 114 may be formed using a conductive metal such as stainless steel, aluminum, or copper.

제1, 2 유전체판(132, 134)은 각각 제1, 2 전원 전극(112, 114)에 설치되는데, 제1, 2 유전체판(132, 134)은 제1, 2 전원 전극(112 114)과 반응기 몸체(102) 사이에 위치된다. 제1, 2 유전체판(132, 134)과 반응기 몸체(102) 사이에는 플라즈마 방전 영역이 형성된다. 제1, 2 유전체판(132, 134) 역시 제1, 2 전원 전극(112, 114)과 동일한 형태로 사각의 판형으로 형성된다. 제1, 2 유전체판(132, 134)의 형상은 사각 이외에도 원형 또는 다각의 평판 형상을 가질 수 있으며, 유리, 알루미늄, 질화붕소, 탄화규소, 질화규소, 석영, 산화마그네슘 등과 같은 유전체 재료로 제작할 수 있다. The first and second dielectric plates 132 and 134 are respectively disposed on the first and second power supply electrodes 112 and 114. The first and second dielectric plates 132 and 134 are connected to the first and second power supply electrodes 112 and 114, And the reactor body (102). A plasma discharge region is formed between the first and second dielectric plates 132 and 134 and the reactor body 102. The first and second dielectric plates 132 and 134 are formed in a rectangular plate shape in the same shape as the first and second power supply electrodes 112 and 114. The first and second dielectric plates 132 and 134 may have a circular or polygonal plate shape in addition to a rectangular shape and may be formed of a dielectric material such as glass, aluminum, boron nitride, silicon carbide, silicon nitride, quartz, magnesium oxide, have.

전원 공급원(152)은 제1, 2 전원 전극(112, 114)에 연결되어 무선 주파수 전원을 공급한다. 전원 공급원(152)은 임피던스 정합기(154)를 통해 제1, 2 전원 전극(112, 114)과 연결된다. 제1, 2 전원 전극(112, 114)은 하나의 급전 라인(150)으로 연결되고, 전원 공급원(152)은 급전 라인(150)과 전기적으로 연결되어 급전 라인(150)을 통해 제1, 2 전원 전극(112, 114)으로 무선 주파수 전원을 공급한다. The power supply source 152 is connected to the first and second power supply electrodes 112 and 114 to supply radio frequency power. The power supply source 152 is connected to the first and second power supply electrodes 112 and 114 through the impedance matcher 154. The first and second power supply electrodes 112 and 114 are connected to one power supply line 150. The power supply source 152 is electrically connected to the power supply line 150 and is connected to the first and second power supply lines 112 and 114 through the power supply line 150. [ And the radio frequency power is supplied to the power supply electrodes (112, 114).

반응기 몸체(102) 내부에는 전원 공급원(152)으로부터 전력을 공급받은 제1, 2 전원 전극(112, 114)과 접지로 연결된 반응기 몸체(102) 사이에서 방전된 플라즈마가 생성된다. 여기서, 유전체로 구성된 제1, 2 유전체판(132, 134)의 내부 분극현상에 의해 플라즈마 전개가 균일하게 이루어진다. 균일하게 생성된 플라즈마는 복수 개의 개구부(104)를 통해 반응기 몸체(102)의 외부로 배출된다. 본 발명에 따른 대기압 플라즈마 발생기(100)는 양면 또는 다면에 플라즈마가 배출되는 개구부(104)가 구비되어 있어, 다수의 반도체 웨이퍼나 액정 글라스 판과 같은 피처리 기판을 한 번에 플라즈마 처리할 수 있다. In the reactor body 102, discharged plasma is generated between the first and second power supply electrodes 112 and 114 supplied with power from the power supply source 152 and the reactor body 102 connected to the ground. Here, internal polarization of the first and second dielectric plates 132 and 134 made of a dielectric material develops uniformity of the plasma. The uniformly generated plasma is discharged to the outside of the reactor body 102 through the plurality of openings 104. The atmospheric-pressure plasma generator 100 according to the present invention is provided with an opening 104 through which plasma is discharged on both sides or multiple surfaces, so that a target substrate such as a plurality of semiconductor wafers or liquid crystal glass plates can be plasma-processed at one time .

도 3은 전류 분배 회로를 포함하는 대기압 플라즈마 발생기를 도시한 도면이다.3 is a diagram showing an atmospheric plasma generator including a current distribution circuit.

도 3을 참조하면, 대기압 플라즈마 발생기(100c)는 제1, 2 전원 전극(112, 114)으로 전류를 균일하게 분배하기 위한 전류분배회로(155)를 포함한다. 전류분배회로(155)는 임피던스 정합기(154)를 통해 전원 공급원(152)으로부터 공급되는 전류를 제1, 2 전원 전극(112, 114)에 각각 균일하게 분배할 수 있도록 한다. 제1, 2 전원 전극(112, 114)에 공급되는 전류가 균일하게 분배되지 않으면, 제1, 2 전원 전극(112, 114) 각각의 방전 영역에서 발생되는 플라즈마도 균일하게 방전되지 않는다. 그러나, 전류분배회로(155)에 의해 제1, 2 전원 전극(112, 114)으로 균일하게 전류가 분배되면 제1, 2 전원 전극(12, 114)에서 플라즈마가 균일하게 방전되어 양면의 개구부(104)를 통해 배출된다. Referring to FIG. 3, the atmospheric plasma generator 100c includes a current distribution circuit 155 for uniformly distributing current to the first and second power supply electrodes 112 and 114. The current distribution circuit 155 allows the current supplied from the power supply source 152 to be uniformly distributed to the first and second power supply electrodes 112 and 114 via the impedance matcher 154. [ The plasma generated in the discharge regions of the first and second power supply electrodes 112 and 114 is not uniformly discharged unless the current supplied to the first and second power supply electrodes 112 and 114 is uniformly distributed. However, when the current is uniformly distributed to the first and second power supply electrodes 112 and 114 by the current distribution circuit 155, the plasma is uniformly discharged from the first and second power supply electrodes 12 and 114, 104, respectively.

도 4는 독립된 전원 공급원을 포함하는 대기압 플라즈마 발생기를 도시한 도면이다. 4 is a diagram illustrating an atmospheric plasma generator including an independent power source.

도 4를 참조하면, 대기압 플라즈마 발생기(100d)는 제1, 2 전원 전극(112, 114)으로 각각 독립된 전원을 공급하는 제1, 2 전원 공급원(152a, 152b)를 포함한다. 제1, 2 전원 전극(112, 114)은 각각 제1, 2 임피던스 정합기(154a, 154b)를 통해 제1, 2 전원 공급원(152a, 152b)과 연결되어 독립적으로 무선 주파수 전원을 공급받을 수 있다. 여기서, 제1, 2 전원 공급원(152a, 152b)은 동일한 주파수의 전류를 제1, 2 전원 전극(112, 114)으로 공급할 수도 있고, 서로 다른 주파수의 전류를 제1, 2 전원 전극(112, 114)에 공급할 수도 있다. 4, the atmospheric-pressure plasma generator 100d includes first and second power sources 152a and 152b that supply independent power to the first and second power electrodes 112 and 114, respectively. The first and second power supply electrodes 112 and 114 are connected to the first and second power supply sources 152a and 152b through the first and second impedance matching devices 154a and 154b, respectively, have. The first and second power supply sources 152a and 152b may supply currents of the same frequency to the first and second power supply electrodes 112 and 114 and may supply currents of different frequencies to the first and second power supply electrodes 112 and 114. [ 114).

도 5는 유전체 박스에 전원 전극이 매설된 대기압 플라즈마 발생기를 도시한 도면이다. 5 is a view showing an atmospheric pressure plasma generator in which a power supply electrode is embedded in a dielectric box.

도 5를 참조하면, 대기압 플라즈마 발생기(100e)는 박스 형태로 형성된 유전체 박스(160) 내부에 제1, 2 전원 전극(112, 114)을 매설함으로써 형성할 수 있다. 유전체 박스(160)는 상기에 설명한 유전체판과 동일한 기능을 수행한다. Referring to FIG. 5, the atmospheric-pressure plasma generator 100e may be formed by embedding first and second power supply electrodes 112 and 114 in a box-shaped dielectric box 160. The dielectric box 160 performs the same function as the dielectric plate described above.

도 6 및 도 7은 냉각 채널을 갖는 대기압 플라즈마 발생기를 도시한 도면이다. 6 and 7 are diagrams showing an atmospheric plasma generator having cooling channels.

도 6 및 도 7을 참조하면 대기압 플라즈마 발생기(100f, 100g)는 제1, 2 전원 전극(112, 114)이 과열되는 것을 방지하기 위한 냉각채널(172)을 포함한다. 냉각채널(172)은 도 8과 같이 제1, 2 전원 전극(112, 114) 내부에 구비될 수도 있고, 도 9와 같이 유전체 박스(160)에 구비될 수도 있다. 대기압 플라즈마 발생기(100f, 100g)는 냉각수 공급원(170)으로부터 냉각채널(172)을 통해 냉각수를 공급받아 고온의 플라즈마에 의해 제1, 2 전원 전극(112, 114)이 과열되는 것을 미연에 방지할 수 있다.6 and 7, the atmospheric plasma generators 100f and 100g include a cooling channel 172 for preventing the first and second power supply electrodes 112 and 114 from being overheated. The cooling channel 172 may be provided in the first and second power supply electrodes 112 and 114 as shown in FIG. 8 or may be provided in the dielectric box 160 as shown in FIG. The atmospheric-pressure plasma generators 100f and 100g supply cooling water from the cooling water supply source 170 through the cooling channel 172 to prevent the first and second power supply electrodes 112 and 114 from being overheated by the high-temperature plasma .

도 8은 대기압 플라즈마 발생기가 구비된 탄소섬유 표면처리 장치의 제1 실시예를 도시한 도면이고, 도 9는 도 8에 도시된 탄소섬유 표면처리 장치의 내부 구성을 도시한 도면이다. FIG. 8 is a view showing a first embodiment of a carbon fiber surface treatment apparatus provided with an atmospheric pressure plasma generator, and FIG. 9 is a diagram showing an internal configuration of the carbon fiber surface treatment apparatus shown in FIG.

도 8 및 도 9을 참조하면, 탄소섬유 표면처리 장치(200)는 처리실(210)과 처리실(210) 내에 구비되는 복수 개의 대기압 플라즈마 발생기(100)로 구성된다. 8 and 9, the carbon fiber surface treatment apparatus 200 includes a treatment chamber 210 and a plurality of atmospheric plasma generators 100 provided in the treatment chamber 210.

처리실(210)은 내부에 구비된 대기압 플라즈마 발생기(100)를 이용하여 처리실(210) 내부를 경유하는 탄소섬유를 플라즈마 처리한다. 처리실(210)은 일측으로는 탄소섬유(250)가 처리실(210) 내로 유입될 수 있도록 형성된 입구(212)와 처리실(210) 내에서 처리가 완료된 탄소섬유(250)가 처리실(210) 외부로 배출될 수 있도록 형성된 출구(213)를 갖는다. 탄소섬유(250)는 처리실(210)의 입구(212)로 유입되어 처리실(210) 내에서 표면처리된 후 출구(213)를 통해 처리실(210) 외부로 배출된다. 탄소섬유(250)는 처리실 측벽(216)에 설치된 롤러(218)에 의해 지지되면서 처리실(210) 하면을 형성하는 스테이지(220)와 평행을 이루면서 이동한다. 처리실(210)의 천정에는 처리실(210) 내부에서 형성된 불필요한 가스를 배출하기 위한 하나 이상의 배기구(211)가 형성된다.The processing chamber 210 plasma-processes the carbon fibers passing through the inside of the processing chamber 210 using the atmospheric-pressure plasma generator 100 provided therein. The process chamber 210 includes an inlet 212 formed to allow the carbon fibers 250 to flow into the process chamber 210 and a carbon fiber 250 having been processed in the process chamber 210, And has an outlet 213 formed to be discharged. The carbon fibers 250 flow into the inlet 212 of the processing chamber 210 and are surface treated in the processing chamber 210 and then discharged to the outside of the processing chamber 210 through the outlet 213. The carbon fibers 250 move while being parallel to the stage 220 forming the lower surface of the process chamber 210 while being supported by the rollers 218 provided on the process chamber side wall 216. At the ceiling of the processing chamber 210, at least one exhaust port 211 for discharging unnecessary gas formed inside the processing chamber 210 is formed.

복수 개의 대기압 플라즈마 발생기(100)는 처리실(210) 내부의 측벽(216)에 설치된다. 복수 개의 대기압 플라즈마 발생기(100)는 개구부(104)와 탄소섬유(250)와의 상대적 거리를 가변할 수 있는 이동모듈(260)이 각각 설치된다. 본 발명의 일 실시예에서는 복수 개의 대기압 플라즈마 발생기(100)가 탄소섬유(250)를 중심으로 교대적으로 양측으로 배치될 수 있다. A plurality of atmospheric plasma generators 100 are installed in the side walls 216 inside the processing chamber 210. The plurality of atmospheric plasma generators 100 are each provided with a moving module 260 capable of varying the relative distance between the opening 104 and the carbon fibers 250. In an embodiment of the present invention, a plurality of atmospheric pressure plasma generators 100 may be alternately disposed on both sides of the carbon fibers 250.

탄소섬유(250)는 여러 층으로 형성된 대기압 플라즈마 발생기(100) 사이를 통과하면서 지그재그로 이송된다. 먼저, 롤러(218)에 의해 스테이지(220)와 평행하게 이송되는 탄소섬유(250)는 상층에 위치한 대기압 플라즈마 발생기(100)의 개구부(104)에서 분사된 플라즈마에 의해 1차적으로 플라즈마 처리된다. 방향 전환 롤러(219)를 이용하여 처리된 탄소섬유(250)의 진행방향을 아래로 전환하여 1차 진행 방향과 반대방향으로 이동시킨다. 그러면 탄소섬유(250)는 상층에 설치된 대기압 플라즈마 발생기(100)와 하층에 설치된 대기압 플라즈마 발생기(100) 사이에서 이송된다. 그러므로 탄소섬유(250)는 상층의 대기압 플라즈마 발생기(100)와 하층의 대기압 플라즈마 발생기(100)에서 분사되는 플라즈마에 의해 2차적으로 플라즈마 처리된다. 또한 다시 방향 전환 롤러(219)를 이용하여 탄소섬유(250)를 하층으로 이송시킴으로써 3차적으로 플라즈마 처리를 수행한다.The carbon fibers 250 are transported in zigzags as they pass between the atmospheric pressure plasma generators 100 formed of several layers. First, the carbon fibers 250 transported in parallel with the stage 220 by the rollers 218 are primarily subjected to plasma treatment by the plasma injected from the openings 104 of the atmospheric pressure plasma generator 100 located in the upper layer. The direction of the carbon fiber 250 processed by the direction changing roller 219 is changed downward and is moved in the direction opposite to the first advancing direction. The carbon fibers 250 are then transferred between the atmospheric-pressure plasma generator 100 installed in the upper layer and the atmospheric-pressure plasma generator 100 installed in the lower layer. Therefore, the carbon fibers 250 are secondarily subjected to plasma treatment by the plasma emitted from the upper-layer atmospheric-pressure plasma generator 100 and the lower-layer atmospheric plasma generator 100. Further, the carbon fiber 250 is transferred to the lower layer by using the direction changing roller 219, thereby performing the plasma treatment in a tertiary manner.

결과적으로, 여러 번의 플라즈마 처리 공정이 수행되면서 탄소섬유(250)의 표면 처리 효율이 증대된다. 또한 양방향으로 플라즈마를 분사할 수 있는 대기압 플라즈마 발생기(100)를 이용하면 단방향으로 플라즈마를 분사하는 플라즈마 발생기의 설치 대수를 줄일 수 있어 설비 설치 비용을 절감할 수 있다. 또한 대기압 플라즈마 발생기(100)를 적층 구조로 설치하면, 일렬로 탄소섬유(250)를 이동하여 처리하는 시스템에 비해 작은 공간에서도 장치 설치가 가능해진다.As a result, the surface treatment efficiency of the carbon fibers 250 is increased by performing a plurality of plasma treatment processes. Further, by using the atmospheric pressure plasma generator 100 capable of spraying plasma in both directions, the number of the plasma generators for spraying the plasma in one direction can be reduced, and installation cost can be reduced. In addition, when the atmospheric-pressure plasma generator 100 is installed in a laminated structure, it is possible to install the apparatus even in a small space as compared with a system in which the carbon fibers 250 are moved and processed in a line.

도 10 및 도 11은 이동모듈이 구비된 대기압 플라즈마 발생기의 상, 하부를 도시한 도면이다.10 and 11 are views showing the top and bottom of the atmospheric-pressure plasma generator having the moving module.

도 10 및 도 11을 참조하면, 대기압 플라즈마 발생기(100)는 일면과 타면에 복수 개의 개구부(104)가 구비된다. 복수 개의 개구부(104)를 통해 대기압 플라즈마 발생기(100) 내에서 발생되는 플라즈마가 외부로 배출되어 탄소섬유(250)를 처리한다. 대기압 플라즈마 발생기(100)와 탄소섬유(250) 사이의 간격을 조절하기 위한 이동모듈(260)이 구비된다. 이동모듈(260)은 반응기 몸체(102)와 처리실 측벽(216) 사이에 설치되어, 반응기 몸체(102)가 상하로 이동할 수 있도록 한다. 10 and 11, the atmospheric-pressure plasma generator 100 is provided with a plurality of openings 104 on one surface and the other surface. Plasma generated in the atmospheric pressure plasma generator 100 is discharged to the outside through the plurality of openings 104 to treat the carbon fibers 250. A moving module 260 for adjusting the distance between the atmospheric-pressure plasma generator 100 and the carbon fibers 250 is provided. The transfer module 260 is installed between the reactor body 102 and the process chamber side wall 216 to allow the reactor body 102 to move up and down.

이동모듈(260)은 처리실 측벽(216)에 설치되는 베이스(261)와 베이스(261)와 수직을 이루도록 설치된 두 개의 브라켓(262, 263)과 브라켓(262, 263) 사이에 설치되는 하나 이상의 가이드 봉(264)과 가이드 봉(264)에 끼움 결합되어 가이드 봉(264)을 따라 상하로 이동하는 이동 부재(265) 및 반응기 몸체(102)가 장착되는 몸체 장착판(266)으로 구성된다. 또한 브라켓(263)에는 수동으로 회전시켜 이동부재(265)를 상하로 동작할 수 있는 조절핸들(267)이 구비된다.The transfer module 260 includes a base 261 mounted on the treatment chamber side wall 216 and two brackets 262 and 263 installed perpendicularly to the base 261 and one or more guides 262 and 263 installed between the brackets 262 and 263, A moving member 265 fitted to the rod 264 and the guide rod 264 and moving up and down along the guide rod 264 and a body mounting plate 266 on which the reactor body 102 is mounted. Further, the bracket 263 is provided with an adjustment handle 267 which can be manually rotated to move the movable member 265 up and down.

이동모듈(260)은 조절핸들(267)을 회전시키면 이동부재(265)가 가이드 봉(264)을 따라 상하로 이동한다. 그러므로 이동부재(265)에 연결된 반응기 몸체(102) 또한 가이드 봉(264)을 따라 상하로 승,하강한다. 이동모듈(260)에 의해 플라즈마 챔버 몸체(102)가 상하로 이동되면 개구부(104)와 탄소섬유(250) 사이의 거리를 가변적으로 조절할 수 있다. 탄소섬유(250)와 개구부(104) 사이의 거리가 가까울수록 탄소섬유(250)는 분사되는 플라즈마의 영향을 많이 받게 된다. 결과적으로, 이동모듈(260)을 이용하여 대기압 플라즈마 발생기(100)를 승, 하강하면서 탄소섬유(250)와의 사이 간격을 조절함으로써 플라즈마 처리 효율을 조절할 수 있게 된다. When the adjustment module 260 rotates the adjustment handle 267, the moving module 260 moves up and down along the guide rod 264. Therefore, the reactor body 102 connected to the moving member 265 also moves upward and downward along the guide rod 264. When the plasma chamber body 102 is moved up and down by the movement module 260, the distance between the opening 104 and the carbon fibers 250 can be variably controlled. The closer the distance between the carbon fibers 250 and the opening 104 is, the more the carbon fiber 250 is affected by the plasma to be injected. As a result, the plasma processing efficiency can be adjusted by adjusting the interval between the atmospheric plasma generator 100 and the carbon fibers 250 by using the moving module 260.

본 발명에서는 수동으로 조절핸들(267)을 동작하여 대기압 플라즈마 발생기(100)를 승, 하강 시키는 구조를 도시하였으나, 이는 하나의 실시예로써 자동으로 플라즈마 발생기를 승, 하강 시키는 구조를 사용 할 수도 있다. In the present invention, the structure is shown in which the adjustment handle 267 is manually operated to raise and lower the atmospheric plasma generator 100. However, the structure may be such that the plasma generator is automatically raised and lowered in one embodiment .

도 12는 대기압 플라즈마 발생기가 구비된 탄소섬유 표면처리 장치의 제2 실시예를 도시한 도면이다. 12 is a view showing a second embodiment of a carbon fiber surface treatment apparatus provided with an atmospheric plasma generator.

도 12를 참조하면, 탄소섬유 표면처리장치(200a)는 제1 실시예와 동일한 구성으로 구성되고, 복수 개의 대기압 플라즈마 발생기(100)가 탄소섬유(250)를 중심으로 마주하도록 설치된다. 탄소섬유(250)는 양방향에서 플라즈마를 분사하는 대기압 플라즈마 발생기(100)에 의해 표면처리 되므로 처리 효율이 향상된다.
Referring to FIG. 12, the carbon fiber surface treatment apparatus 200a has the same configuration as that of the first embodiment, and a plurality of atmospheric pressure plasma generators 100 are installed to face the carbon fibers 250 at the center. The carbon fiber 250 is surface-treated by the atmospheric-pressure plasma generator 100 which injects the plasma in both directions, thereby improving the treatment efficiency.

이상에서 설명된 본 발명의 다방향 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 잘 알 수 있을 것이다. The embodiments of the multi-directional dielectric barrier discharge plasma generator of the present invention described above are merely illustrative and those skilled in the art will appreciate that various modifications and equivalent embodiments are possible without departing from the scope of the present invention. You will know the point.

그럼으로 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 형태로만 한정되는 것은 아님을 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명은 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 그 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Accordingly, it is to be understood that the present invention is not limited to the above-described embodiments. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims. It is also to be understood that the invention includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

100, 100c, 100d, 100e, 100f, 100g: 대기압 플라즈마 발생기
101: 접지 102: 반응기 몸체
104: 개구부 106: 가스 주입구
107: 가스 공급원 108: 가스 배출구
109: 배기펌프 112, 114: 제1, 2 전원 전극
132, 132a: 제1 유전체판 134, 134a: 제2 유전체판
135: 관통홀 150: 급전라인
152: 전원 공급원 154: 임피던스 정합기
154a, 154b: 제1, 2 임피던스 정합기
152a, 152b: 제1, 2 전원 공급원 155: 전류분배회로
160, 160a: 유전체 박스 170: 냉각수 공급원
172: 냉각 채널 200, 200a: 탄소섬유 표면처리 장치
210: 처리실 211: 배기구
212: 입구 213: 출구
216: 측벽 218: 롤러
219: 방향전환 롤러 220: 스테이지
250: 탄소섬유 260: 이동모듈
261: 베이스 262, 263: 브라켓
264: 가이드 봉 265: 이동부재
266: 몸체 장착판 267: 조절핸들100, 100c, 100d, 100e, 100f, 100g: Atmospheric pressure plasma generator
101: ground 102: reactor body
104: opening 106: gas inlet
107: gas source 108: gas outlet
109: exhaust pump 112, 114: first and second power supply electrodes
132, 132a: first dielectric plate 134, 134a: second dielectric plate
135: Through hole 150: Feed line
152: power source 154: impedance matcher
154a, 154b: first and second impedance matchers
152a, 152b: first and second power supply sources 155: current distribution circuit
160, 160a: Dielectric box 170: Coolant supply source
172: cooling channel 200, 200a: carbon fiber surface treatment device
210: process chamber 211: exhaust port
212: inlet 213: outlet
216: side wall 218: roller
219: direction changing roller 220: stage
250: Carbon fiber 260: Moving module
261: Base 262, 263: Bracket
264: guide rod 265: moving member
266: Body mounting plate 267: Adjustable handle

Claims (5)

접지로 연결되고 마주하는 면에 가스 주입구와 가스 배출구가 구비되며, 내부에서 발생된 플라즈마를 외부로 배출하기 위해 마주하는 면에 복수 개의 개구부가 구비된 반응기 몸체;
상기 반응기 몸체 내에 구비되는 박스 형태의 유전체부;
상기 유전체부 내부에 매설되며 상기 복수 개의 개구부가 구비된 반응기 몸체의 내측면과 마주하도록 반응기 몸체의 내에 구비되는 두 개의 전원 전극;
상기 두 개의 전원 전극을 연결하는 급전라인으로 전원을 공급하기 위한 전원 공급원;
상기 전원 전극의 과열을 방지하기 위해 상기 유전체부에 형성되는 냉각채널; 및
상기 가스 배출구에 연결되어 가스를 배기하는 배기펌프를 포함하여 상기 가스 주입구를 통해 공급된 가스가 상기 유전체부와 상기 반응기 몸체 사이를 지나며 대기압 플라즈마를 발생시키고, 발생된 대기압 플라즈마는 개구부를 통해 상기 반응기 몸체의 양측으로 배출되는 것을 특징으로 하는 다방향 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기.A reactor body having a gas inlet and a gas outlet on a surface facing to the ground and having a plurality of openings on a surface facing the gas inlet and a gas outlet for discharging the generated plasma to the outside;
A box-shaped dielectric portion provided in the reactor body;
Two power supply electrodes embedded in the dielectric portion and provided within the reactor body to face the inner surface of the reactor body having the plurality of openings;
A power supply source for supplying power to a power supply line connecting the two power supply electrodes;
A cooling channel formed in the dielectric portion to prevent overheating of the power supply electrode; And
And an exhaust pump connected to the gas outlet for exhausting gas, wherein gas supplied through the gas inlet passes between the dielectric portion and the reactor body to generate an atmospheric pressure plasma, and the generated atmospheric pressure plasma passes through the opening portion, Wherein the plasma is discharged to both sides of the body. 제1항에 있어서,
전원 공급원으로부터 하나 이상의 전원 전극으로 전류를 분배하는 전류 분배회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 다방향 유전체 장벽 방전 플라즈마 발생기.The method according to claim 1,
And a current distribution circuit that distributes current from a power source to one or more power electrodes. ≪ Desc / Clms Page number 20 > 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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