KR101614610B1 - 전자 레인지 및 이를 이용한 조리 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 전자 레인지 및 이를 이용한 조리 방법에 관한 것으로, 본 발명의 실시예에 따른 전자 레인지는 마이크로웨이브를 사용하여 조리가 이루어지는 조리실과, 상기 조리실에 일측에 상기 조리실과 연통하도록 형성된 스터러 수용부와, 상기 조리실로 마이크로웨이브를 방사하는 극초단파 방사부, 그리고 상기 스터러 수용부에 설치되어 회전하면서 상기 조리실의 용적(cavity volume)이나 형상을 가변시키는 스터러를 포함한다.

Description

전자 레인지 및 이를 이용한 조리 방법{MICROWAVE OVEN AND METHOD FOR COOKING FOOD USING THE SAME}

본 발명은 전자 레인지 및 이를 이용한 조리 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 극초단파의 유동과 분산을 효과적으로 구현한 전자 레인지 및 이를 이용한 조리 방법에 관한 것이다.

일반적으로 전자 레인지(microwave oven)는 음식물과 같은 부도체(이하, '조리물'이라 칭함)에 마이크로웨이브(microwave)를 조사(照射)하여 조리물 내부의 분자진동에 의해 단시간 내에 조리물의 심부까지 가열하는 장치이다.

구체적으로, 고전압이 인가되는 마그네트론에서 발생된 마이크로웨이브가 도파관을 통해 조리실 내부의 조리물로 조사되어, 조리물에 함유된 물분자를 진동시켜 열 에너지를 발생시킴으로써, 음식물이 그 내부로부터 가열되어 조리되도록 한다.

그러나, 일반적인 전자 레인지는 조리실의 일측에서 내부로 마이크로웨이브가 방사되므로, 조리실 내부의 마이크로웨이브 필드(Field)가 불균일하게 형성된다. 즉, 전자 레인지는 조리실의 편향된 위치로부터 마이크로웨이브가 방사되므로, 조리실의 내부에 마이크로웨이브가 고르게 방사되지 않아 조리물이 불균일하게 가열되는 문제점이 있다.

본 발명의 실시예는 마이크로웨이브의 파형을 변동시켜 조리실 내부의 조리물을 고르게 가열할 수 있는 전자 레인지를 제공한다.

또한, 본 발명의 실시예는 상기한 전자 레인지를 이용한 조리 방법을 제공한다.

본 발명의 실시예에 따르면, 전자 레인지는 마이크로웨이브를 사용하여 조리가 이루어지는 조리실과, 상기 조리실에 일측에 상기 조리실과 연통하도록 형성된 스터러 수용부와, 상기 조리실로 마이크로웨이브를 방사하는 극초단파 방사부, 그리고 상기 스터러 수용부에 설치되어 회전하면서 상기 조리실의 용적(cavity volume)이나 형상을 가변시키는 스터러를 포함한다.

상기 스터러를 회전 구동시키는 구동 모터를 더 포함할 수 있다.

상기 스터러는 회전하면서 상하 운동하여 상기 조리실의 용적을 가변시킬 수 있다.

상기 스터러 수용부에 결합하여 상기 스터러를 덮는 스터러 커버부를 더 포함할 수 있다. 그리고 상기 스터러와 대향하는 상기 스터러 커버부의 일면에는 상하 방향으로 번갈아 경사지게 형성된 환형의 높낮이 가변 레일이 마련될 수 있다. 상기 스터러 커버부와 대향하는 상기 스터러의 일면에는 상기 높낮이 가변 레일을 따라 이동하면서 상기 스터러를 상하 운동 시키는 돌기바가 형성될 수 있다.

상기 돌기바는 상기 높낮이 가변 레일에 교차하는 방향으로 길이를 가지며, 상기 높낮이 가변 레일이 갖는 환형의 중심에서 방사상으로 복수개 마련될 수 있다.

상기 높낮이 가변 레일은 상기 돌기바의 길이 방향 중앙부에 접촉할 수 있다.

상기 스터러는 상기 조리실의 일측면과 경사진 각도를 갖도록 기울어져 회전하여 상기 조리실의 형상을 가변시킬 수 있다.

상기 스터러는 상기 조리실과 비접촉될 수 있다.

상기 스터러 커버부는 비전도체로 형성될 수 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 전자 레인지를 이용한 조리 방법은 조리실에 조리물을 넣고 조리 시간을 설정하여 조리를 준비하는 단계와, 상기 조리 시간에 따라 상기 조리실로 마이크로웨이브를 조사하는 단계, 그리고 상기 마이크로웨이브가 상기 조리실에 조사될 때 상기 조리실의 용적(cavity volume)이나 형상을 가변시키는 단계를 포함할 수 있다.

상기 조리실의 용적이나 형상은 상기 조리실의 일측에 설치된 스터러가 회전하면서 가변될 수 있다.

상기 스터러가 회전하면서 상하 운동하여 상기 조리실의 용적을 가변시킬 수키는 있다.

상기 스터러가 상기 조리실의 일측면과 경사진 각도를 갖도록 기울어져 회전하여 상기 조리실의 형상을 가변시킬 수 있다.

본 발명의 실시예에 따르면, 전자 레인지 및 이를 이용한 조리 방법은 마이크로웨이브의 파형을 변동시켜 조리실 내부의 조리물을 고르게 가열할 수 있다.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 전자 레인지의 구성도이다.
도 2는 도 1의 스터러를 중심으로 도시한 분해 사시도이다.
도 3의 도 1의 스터러의 평면도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 전자 레인지의 스터러를 중심으로 도시한 단면도이다.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.

또한, 여러 실시예들에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 제1 실시예에서 설명하고, 그 외의 제2 실시예에서는 제1 실시예와 다른 구성에 대해서만 설명하기로 한다.

도면들은 개략적이고 축적에 맞게 도시되지 않았다는 것을 일러둔다. 도면에 있는 부분들의 상대적인 치수 및 비율은 도면에서의 명확성 및 편의를 위해 그 크기에 있어 과장되거나 축소되어 도시되었으며 임의의 치수는 단지 예시적인 것이지 한정적인 것은 아니다. 그리고 둘 이상의 도면에 나타나는 동일한 구조물, 요소 또는 부품에는 동일한 참조 부호가 유사한 특징을 나타내기 위해 사용된다.

본 발명의 실시예는 본 발명의 이상적인 실시예를 구체적으로 나타낸다. 그 결과, 도해의 다양한 변형이 예상된다. 따라서 실시예는 도시한 영역의 특정 형태에 국한되지 않으며, 예를 들면 제조에 의한 형태의 변형도 포함한다.

이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명의 제1 실시예에 따른 전자 레인지(101)를 설명한다.

도 1 내지 도 3에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 전자 레인지(101)는 조리실(200), 극초단파 방사부(300), 및 스터러(500)를 포함한다.

또한, 본 발명의 제1 실시예에 따른 전자 레인지(101)는 구동 모터(600) 및 스터러 커버부(400)를 더 포함할 수 있다.

조리실(200)은 조리물이 수용되는 캐비티(Cavity)를 갖도록 전도체 재질로 형성된 박스 형상의 부재이다.

조리실(200)은 조리물이 출입하기 위한 출입구를 가지며, 조리실(200)의 내부 저면에는 조리물이 놓이는 트레이(tray, 280)가 회동 가능하게 설치된다.

또한, 본 발명의 제1 실시예에서, 조리실(200)의 일측에는 스터러 수용부(250)가 형성된다. 일례로, 스터러 수용부(250)가 형성된 조리실(200)의 일측은 상면일 수 있다.

극초단파 방사부(300)는 조리실(200)의 타측에 설치되어 조리실(200) 내부로 마이크로웨이브를 방사한다. 일례로, 극초단파 방사부(300)가 설치된 조리실(200)의 타측은 조리실(200)의 측면일 수 있다.

극초단파 방사부(300)는 조리실(200)의 타측면에 형성된 복수의 방사홀을 통해 조리실(200)로 방사된다. 이때, 방사홀은 마이크로웨이브의 파장에 대하여 1/4 이상의 폭으로 형성된다. 이는 방사홀의 폭이 마이크로웨이브 파장의 1/4보다 작으면 마이크로웨이브가 방사홀을 통과할 수 없기 때문이다.

구체적으로, 극초단파 방사부(300)는 조리실(200)의 외측에 설치되어 마이크로웨이브를 생성하는 마그네트론(Magnetron, 310)과, 마그네트론(310)과 조리실(200)의 사이에 연통되게 형성되어 마이크로웨이브를 안내하는 웨이브 가이드(360)를 포함한다.

마그네트론(310)은 고압트랜스로부터 고압의 전원을 입력 받아 마이크로웨이브를 생성하게 된다.

스터러(500)는 조리실(200)의 스터러 수용부(250)에 회전 가능하게 설치된다.

또한, 본 발명의 제1 실시예에서, 스터러(500)는 회전하면서 상하 운동을 한다. 즉, 스터러(500)는 회전하면서 상하 운동하여 조리실의 용적(cavity volume)을 가변시킨다.

이와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 전자 레인지(101)에서, 스터러(500)가 조리실(200)의 캐비티(Cavity)를 가변시킴으로써, 극초단파 방사부(300)에서 방사되는 마이크로웨이브의 파장을 변동시키게 된다. 이에, 조리실(200) 내부로 방사되는 마이크로웨이브가 조리실(200) 내부의 조리물에 균일하게 전달될 수 있다.

또한, 스터러(500)는 회전하면서 상하 운동하더라도 조리실(200)과는 비접촉되도록 설치된다.

또한, 스터러(500)는, 일례로, 원판 형상으로 형성될 수 있다.

구동 모터(600)는 스터러(500)를 회전 구동시킨다. 구동 모터(600)의 회전축이 스터러(500)의 중심에 연결되어 스터러(500)를 회전시킨다.

스터러 커버부(400)는 조리실(200)의 스터러 수용부(250)에 결합되어 스터러(500)가 조리실(200)의 중앙부 방향으로 노출되지 않도록 커버한다. 즉, 스터러 커버부(400)는 조리실(200)에 적재되는 조리물과 간섭되지 않도록 스터러(500)를 덮는다.

또한, 본 발명의 제1 실시예에서, 스터러 커버부(400)는 스터러(500)와 대향하는 일면에 상하 방향으로 번갈아 경사지게 형성된 환형의 높낮이 가변 레일(470)을 갖는다. 일례로, 높낮이 가변 레일(470)은 파도 형상과 같이 형성될 수 있다.

그리고 스터러(500)는 스터러 커버부(400)와 대향하는 일면에 스터러 커버부(400)의 높낮이 가변 레일(470)을 따라 이동하는 돌기바(560)를 갖는다. 여기서, 돌기바(560)는 높낮이 가변 레일(470)을 따라 이동하면서 스터러(500)를 상하 운동 시키게 된다.

돌기바(560)는 높낮이 가변 레일(470)에 교차하는 방향으로 길이를 가지며, 높낮이 가변 레일(470)이 갖는 환형의 중심에서 방사상으로 복수개 마련될 수 있다. 이때, 높낮이 가변 레일(470)은 돌기바(560)의 길이 방향 중앙부에 접촉할 수 있다.

스터러 수용부(250)가 조리실(200)의 상면에 형성되고 스터러 커버부(400)가 하방에서 스터러(500)를 커버하면, 스터러(500)가 구동 모터(600)에 의해 회전하면서 스터러(500)는 스터러 수용부(400)의 높낮이 가변 레일(460)에 의해 회전하면서 상하 운동을 하게 된다.

특히, 방사상으로 배열되며 길이를 갖는 복수개의 돌기바(560)가 환형의 높낮이 가변 레일(470)과 접촉하면서 상하 운동을 하므로, 외부에서 충격이 가해지거나 스터러 커버부(400)와 스터러 수용부(250) 간의 결합이 다소 불량한 경우에도 돌기바(560)가 높낮이 가변 레일(470)로부터 탈선하지 않고 지속적으로 스터러(500)를 상하운동 시킬 수 있다.

이와 같이, 스터러(500)는 회전하면서 상하 운동하여 조리실(200)의 캐비티(Cavity)를 용이하게 가변시킬 수 있다. 그리고 조리실(200)의 용적이 변화하면서 조리실(200) 내부로 조사된 마이크로웨이브의 파장을 변동시키고, 이에 조리실(200) 내부로 방사되는 마이크로웨이브가 조리실(200) 내부의 조리물에 균일하게 전달된다.

또한, 스터러 커버부(400)는 비전도체로 형성되어 마이크로웨이브의 파장에 영향을 주지 않으며, 스터러(500)가 접촉하여도 스터러(50)와 조리실(200)을 전기적으로 절연시킬 수 있다.

이와 같은 구성에 의하여, 본 발명의 제1 실시예에 따른 전자 레인지(101)는 조리실(200)의 캐비티(Cavity)를 가변시켜 마이크로웨이브의 파형을 변동시키고, 이에 조리실(200) 내부의 조리물을 고르게 가열할 수 있다.

이하, 본 발명의 제1 실시예에 따른 전자 레인지(101)의 조리 방법을 설명한다.

먼저, 조리실(200)의 내부에 조리하고자 하는 조리물을 넣고 조리 방법 및 조리물의 종류에 따라 조리 시간을 설정하여 조리를 준비한다.

다음, 설정된 조리 시간에 따라 조리실(200)로 마이크로웨이브가 조사된다.

그리고 마이크로웨이브가 조리실(200)에 조사될 때 조리실의 용적(cavity volume)을 가변시킨다. 이때, 조리실(200)의 용적은 조리실(200)의 일측에 설치된 스터러(500)가 회전하면서 가변된다.

구체적으로, 스터러(500)가 회전하면서 상하 운동하여 조리실(200)의 용적을 가변시킬 수 있다.

이와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 전자 레인지(101)를 이용한 조리 방법에 따르면, 스터러(500)을 사용하여 조리실(200)의 캐비티(Cavity)를 가변시켜 마이크로웨이브의 파형을 변동시키고, 이에 조리실(200) 내부의 조리물을 고르게 가열할 수 있게 된다.

이하, 도 4를 참조하여 본 발명의 제2 실시예에 따른 전자 레인지(102)를 설명한다.

도 4에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 전자 레인지(102)는 조리실(200)의 일측 면과 경사진 각도를 갖도록 기울어져 회전하는 스터러(500)를 포함한다.

즉, 본 발명의 제2 실시예에서는 스터러(500)가 회전하면서 상하 운동을 하지 않으며, 대신 조리실(200)의 일측 면과 평행하지 않은 각도(θ)로 경사지게 설치되어 경사진 상태로 회전한다. 이와 같이, 스터러(500)가 기울어져 회전하면서 조리실(200)의 일측면 형상을 가변시켜 스터러(500)에 반사되는 마이크로웨이브의 파형이 변동시킨다.

따라서, 본 발명의 제2 실시예에서는, 스터러 커버부(400)에 높낮이 가변 레일(470)이 형성되지 않고 생략될 수 있다.

또한, 스터러(500)와 스터러 커버부(400)를 제외한 구성은 제1 실시예와 동일하므로 자세한 설명을 생략한다.

본 발명의 제2 실시예에 따르면, 스터러(500)가 조리실(200)의 용적, 즉 캐비티(Cavity)를 가변시키지는 않으나 마이크로웨이브의 파형이 부딪히는 일부 표면에 지속적으로 변화를 주어 마이크로웨이브의 파장을 변동시키게 된다. 이에, 조리실(200) 내부로 방사되는 마이크로웨이브가 조리실(200) 내부의 조리물에 균일하게 전달될 수 있다.

이와 같은 구성에 의하여, 본 발명의 제2 실시예에 따른 전자 레인지(102)도 조리실(200) 내부에서 마이크로웨이브의 파형을 변동시켜 조리실(200) 내부의 조리물을 고르게 가열할 수 있다.

이하, 본 발명의 제2 실시예에 따른 전자 레인지(102)의 조리 방법을 설명한다.

먼저, 조리실(200)의 내부에 조리하고자 하는 조리물을 넣고 조리 방법 및 조리물의 종류에 따라 조리 시간을 설정하여 조리를 준비한다.

다음, 설정된 조리 시간에 따라 조리실(200)로 마이크로웨이브가 조사된다.

그리고 마이크로웨이브가 조리실(200)에 조사될 때 조리실의 형상을 가변시킨다. 이때, 조리실(200)의 용적은 조리실(200)의 일측에 설치된 스터러(500)가 회전하면서 가변된다.

구체적으로, 스터러가 조리실의 일측면과 경사진 각도를 갖도록 기울어져 회전하여 조리실의 형상을 가변시킬 수 있다.

이와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 전자 레인지(102)를 이용한 조리 방법에 따르면, 조리실(200)의 형상을 가변시켜 마이크로웨이브의 파형을 변동시키고, 이에 조리실(200) 내부의 조리물을 고르게 가열할 수 있다.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.

그러므로 이상에서 기술한 실시예는 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명은 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

101, 102: 전자 레인지
200: 조리실 250: 스터러 수용부
280: 트레이 300: 극초단파 방사부
310: 마그네트론 360: 웨이브 가이드
400: 스터러 커버부 470: 높낮이 가변 레일
500: 스터러 560: 돌기바
600: 구동 모터

Claims (13)

1. 마이크로웨이브를 사용하여 조리가 이루어지는 조리실;
   상기 조리실에 일측에 상기 조리실과 연통하도록 형성된 스터러 수용부;
   상기 조리실로 마이크로웨이브를 방사하는 극초단파 방사부;
   상기 스터러 수용부에 설치되어 회전하면서 상하 운동하여 상기 조리실의 용적(cavity volume)이나 형상을 가변시키는 스터러; 및
   상기 스터러 수용부에 결합하여 상기 스터러를 덮는 스터러 커버부
   를 포함하며,
   상기 스터러와 대향하는 상기 스터러 커버부의 일면에는 상하 방향으로 번갈아 경사지게 형성된 환형의 높낮이 가변 레일이 마련되고,
   상기 스터러 커버부와 대향하는 상기 스터러의 일면에는 상기 높낮이 가변 레일을 따라 이동하면서 상기 스터러를 상하 운동 시키는 돌기바가 형성되며,
   상기 돌기바는 상기 높낮이 가변 레일에 교차하는 방향으로 길이를 가지며, 상기 높낮이 가변 레일이 갖는 환형의 중심에서 방사상으로 복수개 마련된 전자 레인지.
2. 제1항에서,
   상기 스터러를 회전 구동시키는 구동 모터를 더 포함하는 전자 레인지.
3. 삭제
4. 삭제
5. 삭제
6. 제1항에서,
   상기 높낮이 가변 레일은 상기 돌기바의 길이 방향 중앙부에 접촉하는 전자 레인지.
7. 삭제
8. 제1항에서,
   상기 스터러는 상기 조리실과 비접촉된 전자 레인지.
9. 제1항에서,
   상기 스터러 커버부는 비전도체로 형성된 전자 레인지.
10. 삭제
11. 삭제
12. 삭제
13. 삭제

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