KR101596647B1 - Support for display device substrate and method for manufacturing the same - Google Patents

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KR101596647B1
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Abstract

The present invention relates to a support for a display device substrate and a method for manufacturing the same. The support includes a non-crosslinked foaming substrate; and a carbon nanotube layer formed on at least one surface of the foaming substrate. The carbon nanotube layer includes carbon nanotubes which form a network structure.

Description

표시 소자 기판용 지지체 및 이의 제조방법{SUPPORT FOR DISPLAY DEVICE SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a support for a display element substrate,

본 발명은 표시 소자 기판용 지지체 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a support for a display element substrate and a method of manufacturing the same.

탄소나노튜브(Carbon nanotube; 이하 CNT)는 1991년 그 구조가 처음 발견되었으며, 이에 관한 합성과 물성, 그리고 응용에 관한 연구가 활발히 수행되고 있다. 또한, CNT는 전기 방전시 Fe, Ni, Co 등과 같은 전이금속을 첨가하면 생성되는 것이 확인되었으며, 본격적인 연구는 1996년 레이저 증발법에 의해 상당량의 시료를 만들어 내면서부터 시작되었다. 이러한 CNT는 그래파이트(Graphite)면이 나노크기의 직경으로 둥글게 말린 속이 빈 튜브 형태이며, 이때 그래파이트 면이 말리는 각도 및 구조에 따라서 전기적 특성이 도체 또는 반도체 등이 된다. 또한, CNT는 그래파이트 벽의 수에 따라서 단일벽 탄소 나노튜브(Single-walled carbon nanotube; SWCNT), 이중벽 탄소 나노튜브(Double-walled carbon nanotube; DWCNT), 얇은벽 탄소 나노튜브(Thin multi-walled carbon nanotube), 다중벽 탄소 나노튜브(Multi-walled carbon nanotube;MWCNT), 다발형 탄소 나노튜브(Roped carbon nanotube)로 구분한다.Carbon nanotubes (CNTs) were first discovered in 1991, and their synthesis, properties, and applications have been actively studied. In addition, it has been confirmed that CNTs are produced by adding transition metals such as Fe, Ni, and Co during the electric discharge, and full-scale research has been started in 1996 by producing a large amount of samples by the laser evaporation method. The CNT is a hollow tube type in which a graphite surface is rounded to a nano-sized diameter. In this case, the electrical characteristic is a conductor or a semiconductor depending on the angle and structure of the graphite surface. CNTs can be classified into single-walled carbon nanotubes (SWCNTs), double-walled carbon nanotubes (DWCNTs), and thin multi-walled carbon nanotubes (CNTs) depending on the number of graphite walls. nanotubes, multi-walled carbon nanotubes (MWCNTs), and roped carbon nanotubes.

특히, CNT는 기계적 강도 및 탄성도가 뛰어나며, 화학적으로 안정하고, 환경 친화성을 가지고 있으며, 전기적으로 도체 및 반도체성을 가지고 있을 뿐만 아니라 직경이 1nm에서 수십 nm이고 길이가 수 ㎛에서 수십 ㎛로 종횡비가 약 1,000에 이르는 기존의 어떠한 물질보다도 크다. 또한, 비표면적이 매우 커, 향후 차세대 정보전자소재, 고효율 에너지 소재, 고기능성 복합소재, 친환경 소재 등의 분야에서 21세기를 이끌어갈 첨단 신소재로 각광을 받고 있다.In particular, CNTs are excellent in mechanical strength and elasticity, chemically stable, environmentally friendly, electrically conductive and semiconducting, and have diameters ranging from 1 nm to several tens nm and lengths ranging from several microns to tens of microns It is larger than any existing material with an aspect ratio of about 1,000. In addition, the surface area is very high, and it is getting attention as a high-tech new material that will lead the 21st century in the fields of next-generation information and electronic materials, high-efficiency energy materials, high-functional composite materials and environment-

대한민국 등록특허공보 10-1329974에서는 수지, 아임계 또는 초임계 조건에서 표면개질된 탄소나노튜브 및 탄소화합물 등을 포함한 전자파 차폐 조성물을 개시하고 있을 뿐, 이러한 전자파 차폐 조성물을 표시 소자 기판용 지지체로 적용하기 위한 연구는 진행된바 없다.Korean Patent Publication No. 10-1329974 discloses an electromagnetic wave shielding composition containing carbon nanotubes and carbon compounds that have been surface-modified under resin, subcritical or supercritical conditions, and the electromagnetic wave shielding composition is applied to a substrate for a display element substrate There has been no research to be done.

본 발명은 발포 기재; 및 상기 발포 기재의 적어도 일면에 형성된 탄소나노튜브층을 포함하고, 상기 탄소나노튜브층은 네트워크 구조를 이루는 복수의 탄소나노튜브들을 포함하는 표시 소자 기판용 지지체 등을 제공하고자 한다.The present invention relates to a foamed substrate; And a carbon nanotube layer formed on at least one side of the foamed substrate, wherein the carbon nanotube layer includes a plurality of carbon nanotubes having a network structure.

그러나, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 과제에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the technical problem to be solved by the present invention is not limited to the above-mentioned problems, and other matters not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명은 발포 기재; 및 상기 발포 기재의 적어도 일면에 형성된 탄소나노튜브층을 포함하고, 상기 탄소나노튜브층은 네트워크 구조를 이루는 복수의 탄소나노튜브들을 포함하는 표시 소자 기판용 지지체를 제공한다.The present invention relates to a foamed substrate; And a carbon nanotube layer formed on at least one side of the foam substrate, wherein the carbon nanotube layer includes a plurality of carbon nanotubes having a network structure.

상기 발포 기재는 무가교형일 수 있다.The foam substrate may be non-woven.

상기 발포 기재의 발포율은 10배 내지 40배일 수 있다.The expansion ratio of the foamed substrate may be 10 to 40 times.

상기 발포 기재는 제1 열가소성 수지, 발포제 및 발포안정제를 포함하는 조성물로부터 형성될 수 있다.The foam substrate may be formed from a composition comprising a first thermoplastic resin, a foaming agent, and a foam stabilizer.

상기 제1 열가소성 수지는 폴리에틸렌계 수지, 폴리아세탈계 수지, 폴리아크릴레이트계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐계 수지, 폴리페닐렌에테르계 수지, 폴리올레핀계 수지, 폴리아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리아미드이미드계 수지, 폴리아릴설폰계 수지, 폴리에테르이미드계 수지, 폴리에테르설폰계 수지, 폴리페닐렌 설피드계 수지, 폴리불소계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리에테르케톤계 수지, 폴리벤족사졸계 수지, 폴리옥사디아졸계 수지, 폴리벤조티아졸계 수지, 폴리벤지미다졸계 수지, 폴리피리딘계 수지, 폴리트리아졸계 수지, 폴리피로리딘계 수지, 폴리디벤조퓨란계 수지, 폴리설폰계 수지, 폴리우레아계 수지 및 폴리포스파젠계 수지로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다.Wherein the first thermoplastic resin is at least one selected from the group consisting of a polyethylene resin, a polyacetal resin, a polyacrylate resin, a polycarbonate resin, a polystyrene resin, a polyester resin, a polyvinyl resin, a polyphenylene ether resin, , Polyacrylonitrile-butadiene-styrene copolymer resins, polyarylate resins, polyamide resins, polyamideimide resins, polyarylsulfone resins, polyetherimide resins, polyether sulfone resins, polyphenylene Based resins, polyphenylene resins, polyimide resins, polyether ketone resins, polybenzoxazole resins, polyoxadiazole resins, polybenzothiazole resins, polybenzidine resins, polypyridine resins, poly Triazole-based resins, polypyrrolidine-based resins, polydibenzofuran-based resins, polysulfone-based resins, polyurea-based resins, and poly From the group consisting of SPA jengye resin may include one or more selected.

상기 발포제는 아조디카르복실아미드, 아조비스테트라졸디아미노구아니딘, 아조비스테트라졸구아니딘, 5-페닐테트라졸, 비스테트라졸구아니딘, 비스테트라졸피페라진, 비스테트라졸디암모늄, N,N-디니트로소펜타메틸렌테트라민 및 히드라조디카르복실아미드로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다.The foaming agent may be at least one selected from the group consisting of azodicarboxylamide, azobistetrazole diaminoguanidine, azobistetrazole guanidine, 5-phenyltetrazole, bistetrazole guanidine, bistetrazolepiperazine, Nitrosopentamethylenetetramine, and hydrazodicarboxamide. The term " a "

상기 발포안정제의 분자량은 100g/mol 내지 1,000g/mol일 수 있다.The molecular weight of the foam stabilizer may be from 100 g / mol to 1,000 g / mol.

상기 조성물 전체 중량 대비, 상기 발포안정제는 0.1 중량% 내지 5.0 중량% 포함될 수 있다.The foam stabilizer may be included in an amount of 0.1 wt% to 5.0 wt% based on the total weight of the composition.

상기 발포안정제는 글리세롤 모노스테아레이트, 글리세롤 디스테아레이트, 글리세롤 트리스테아레이트, 아연 스테아레이트, 칼슘 스테아레이트 및 마그네슘 스테아레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다.The foam stabilizer may include at least one member selected from the group consisting of glycerol monostearate, glycerol distearate, glycerol tristearate, zinc stearate, calcium stearate, and magnesium stearate.

상기 탄소나노튜브층은 블로운 필름 형태일 수 있다.The carbon nanotube layer may be in the form of a blown film.

상기 탄소나노튜브층은 10㎛ 내지 100㎛의 두께를 가질 수 있다.The carbon nanotube layer may have a thickness of 10 mu m to 100 mu m.

상기 복수의 탄소나노튜브들은 탄소나노튜브 및 분산매를 포함하는 조성물을 아임계 또는 초임계 조건 하에 처리하여 형성될 수 있다.The plurality of carbon nanotubes may be formed by treating a composition comprising carbon nanotubes and a dispersion medium under subcritical or supercritical conditions.

상기 분산매는 물, 지방족 알코올 및 이산화탄소로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다.The dispersion medium may contain at least one selected from the group consisting of water, aliphatic alcohols and carbon dioxide.

상기 탄소나노튜브층은 카본블랙, 흑연, 탄소섬유, 그래핀 및 플러렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 탄소 화합물 및 제2 열가소성 수지를 더 포함할 수 있다.The carbon nanotube layer may further include a carbon compound and at least one second thermoplastic resin selected from the group consisting of carbon black, graphite, carbon fiber, graphene and fullerene.

상기 지지체의 표면 저항은 5 log(Ω/□) 내지 9log(Ω/□)일 수 있다.The surface resistance of the support may be from 5 log (? /?) To 9 log (? /?).

본 발명의 일 구현예로, a) 탄소나노튜브 및 분산매를 포함하는 조성물을 아임계 또는 초임계 조건 하에 처리하여 네트워크 구조를 이루는 복수의 탄소나노튜브들을 제조하는 단계; b) 상기 복수의 탄소나노튜브들을 포함하는 탄소나노튜브층을 제조하는 단계; 및 c) 발포 기재의 적어도 일면에 상기 탄소나노튜브층을 형성하는 단계를 포함하는 표시 소자 기판용 지지체의 제조방법을 제공한다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a carbon nanotube, comprising: a) preparing a plurality of carbon nanotubes having a network structure by treating a composition comprising carbon nanotubes and a dispersion medium under subcritical or supercritical conditions; b) preparing a carbon nanotube layer containing the plurality of carbon nanotubes; And c) forming the carbon nanotube layer on at least one surface of the foaming substrate.

상기 b) 단계에서 탄소나노튜브층의 제조는 취입 성형을 통해 수행될 수 있다.In the step b), the carbon nanotube layer may be produced through blow molding.

본 발명에 따른 표시 소자 기판용 지지체는 발포 기재; 및 상기 발포 기재의 적어도 일면에 형성된 탄소나노튜브층을 포함하고, 상기 탄소나노튜브층은 네트워크 구조를 이루는 복수의 탄소나노튜브들을 포함하는바, 발포 기재 내에 포함된 작은 분자량을 가진 발포안정제의 이동(migration)을 방지하여 백화 현상을 발생시키지 않을 뿐만 아니라, 낮은 표면 저항을 유지할 수 있어 대전 방지 특성이 우수하다. A support for a display element substrate according to the present invention comprises: a foam substrate; And a carbon nanotube layer formed on at least one surface of the foam substrate, wherein the carbon nanotube layer includes a plurality of carbon nanotubes having a network structure, wherein the carbon nanotube layer includes a plurality of carbon nanotubes, migration can be prevented so as not to cause whitening, and low surface resistance can be maintained, thus providing excellent antistatic properties.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 표시 소자 기판용 지지체의 구조를 나타낸 것이다.
도 2는 (a) 실시예 1 및 (b) 비교예 1에서 각각 제조된 탄소나노튜브층 조성물을 주사전자현미경(SEM)(왼쪽 그림) 및 투과전자현미경(TEM)(오른쪽 그림)으로 관찰한 사진이다.
도 3은 (a) 실시예 1 및 (b) 비교예 1에서 각각 제조된 표시 소자 기판용 지지체 표면의 백화 현상 발생 여부를 육안으로 관찰한 사진이다.
1 shows a structure of a support for a display element substrate according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a graph showing the results of (a) observation of the carbon nanotube layer compositions prepared in Example 1 and (b) Comparative Example 1 using a scanning electron microscope (SEM) (left) and a transmission electron microscope It is a photograph.
FIG. 3 is a photograph of the surface of the support for a display element substrate manufactured in (a) Example 1 and (b) Comparative Example 1, respectively, visually observing whether whitening occurred.

본 발명자들은 네트워크 구조를 이루는 복수의 탄소나노튜브들을 포함하는 탄소나노튜브층을 적용하여 표시 소자 기판용 지지체를 제조한 후, 이러한 지지체가 백화 현상을 발생시키지 않으면서, 낮은 표면 저항을 유지함을 확인하고, 본 발명을 완성하였다.The present inventors have found that after a support for a display element substrate is manufactured by applying a carbon nanotube layer including a plurality of carbon nanotubes constituting a network structure, it is confirmed that such a support maintains a low surface resistance without causing whitening And completed the present invention.

이하, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명은 발포 기재; 및 상기 발포 기재의 적어도 일면에 형성된 탄소나노튜브층을 포함하고, 상기 탄소나노튜브층은 네트워크 구조를 이루는 복수의 탄소나노튜브들을 포함하는 표시 소자 기판용 지지체를 제공한다.The present invention relates to a foamed substrate; And a carbon nanotube layer formed on at least one side of the foam substrate, wherein the carbon nanotube layer includes a plurality of carbon nanotubes having a network structure.

먼저, 본 발명에 따른 표시 소자 기판용 지지체는 발포 기재를 포함하고, 상기 발포 기재는 미세한 기포 형상의 발포 셀(cell)을 가지므로, 강도, 형태 안정성 등이 우수한 특징이 있다. First, the support for a display element substrate according to the present invention includes a foam substrate, and the foam substrate has a foam cell in the form of a fine bubble, so that the foam substrate has excellent strength and shape stability.

상기 발포 기재는 상기 탄소나노튜브층과는 달리, 네트워크 구조를 가지지 않는 무가교형(non-crosslinked)인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 이와 같은 무가교형 발포 기재는 발포 기재에 가교제 및 가교조제가 포함되지 않는 것을 특징으로 하는바, 성형성 및 가공성이 우수한 특징이 있다.Unlike the carbon nanotube layer, the foaming substrate is preferably non-crosslinked but not limited to a network structure. Such a nonwoven fabric foamed substrate is characterized in that the foamed substrate does not contain a crosslinking agent and a crosslinking assistant, and is characterized by excellent moldability and processability.

상기 발포 기재의 발포율은 10배 내지 40배인 것이 바람직한데, 상기 발포율이 10배 미만인 경우에는 충격 흡수력이 떨어져 발포 기재로서 역할이 충분하지 못하고, 40배를 초과하는 경우에는 오픈 셀의 형성이 많아져 상부 무게를 지탱하기 어려워지게 되는 문제점이 있다.When the foaming ratio is less than 10 times, the impact absorbing ability is lowered and the foaming base material does not have a sufficient role. On the other hand, when the foaming ratio is more than 40 times, There is a problem that it becomes difficult to support the upper weight.

상기 발포 기재의 두께는 0.1mm 내지 10mm일 수 있다.The thickness of the foamed substrate may be 0.1 mm to 10 mm.

본 명세서 내 사용되는 용어에 해당하는 “발포율”이란 발포 기재의 중량과 수몰법에 의해 구한 체적으로부터 발포 기재의 밀도를 측정한 후, 발포 전 제1 열가소성 수지 밀도와의 비를 통해 계산된다.The "foaming ratio" corresponding to the term used in the present specification is calculated by measuring the density of the foam substrate from the weight of the foam substrate and the volume obtained by the submerging method, and then calculating the ratio of the density to the first thermoplastic resin density before foaming.

구체적으로, 상기 발포 기재는 제1 열가소성 수지, 발포제 및 발포안정제를 포함하는 조성물로부터 형성될 수 있고, 당업계에서 공지된 발포 공정에 의해 발포될 수 있다. 이때, 상기 발포 기재는 무가교형인 것이 바람직한바, 조성물 내 가교제 및 가교조제를 포함하지 않는 것이 바람직하다.Specifically, the foam substrate may be formed from a composition comprising a first thermoplastic resin, a foaming agent, and a foam stabilizer, and may be foamed by a foaming process known in the art. At this time, it is preferable that the foam substrate is non-crosslinked, and it is preferable that the foam substrate does not contain a crosslinking agent and a crosslinking assistant in the composition.

상기 제1 열가소성 수지는 상기 발포 기재를 형성하기 위한 베이스 수지로 사용되는 것으로, 폴리에틸렌계 수지, 폴리아세탈계 수지, 폴리아크릴레이트계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐계 수지, 폴리페닐렌에테르계 수지, 폴리올레핀계 수지, 폴리아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리아미드이미드계 수지, 폴리아릴설폰계 수지, 폴리에테르이미드계 수지, 폴리에테르설폰계 수지, 폴리페닐렌 설피드계 수지, 폴리불소계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리에테르케톤계 수지, 폴리벤족사졸계 수지, 폴리옥사디아졸계 수지, 폴리벤조티아졸계 수지, 폴리벤지미다졸계 수지, 폴리피리딘계 수지, 폴리트리아졸계 수지, 폴리피로리딘계 수지, 폴리디벤조퓨란계 수지, 폴리설폰계 수지, 폴리우레아계 수지 및 폴리포스파젠계 수지로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하고, 폴리에틸렌계 수지를 포함하는 것이 더욱 바람직하나, 이에 한정되지 않는다.The first thermoplastic resin is used as a base resin for forming the foamed substrate and may be a polyethylene resin, a polyacetal resin, a polyacrylate resin, a polycarbonate resin, a polystyrene resin, a polyester resin, a poly Butadiene-styrene copolymer resins, polyarylate resins, polyamide resins, polyamideimide resins, polyarylsulfone resins, polyphenylene ether resins, and polyphenylene ether resins. Based resins, polyimide-based resins, polyimide-based resins, polyimide-based resins, polyether sulfone-based resins, polyether sulfone-based resins, Resin, polybenzimidazole resin, polypyridine resin, polytriazole resin, polypyrrolidine resin, poly Based resin, a dibenzofuran-based resin, a polysulfone-based resin, a polyurea-based resin, and a polyphosphazene-based resin, more preferably a polyethylene resin, but is not limited thereto .

상기 제1 열가소성 수지의 중량평균분자량은 50,000g/mol 내지 1,500,000g/mol일 수 있다. 이때, 제1 열가소성 수지의 중량평균분자량이 50,000g/mol 미만인 경우, 용융 강도 및 기계적 강도가 저하되는 문제점이 있고, 제1 열가소성 수지의 중량평균분자량이 1,500,000g/mol를 초과하는 경우, 점도가 높아 가공이 되지 않거나, 표면 거칠기가 증가하는 용융 균열(melt fracture) 현상으로 최종 제품의 품질이 저하되는 문제점이 있다.The weight average molecular weight of the first thermoplastic resin may be from 50,000 g / mol to 1,500,000 g / mol. If the weight average molecular weight of the first thermoplastic resin is less than 50,000 g / mol, the melt strength and the mechanical strength of the first thermoplastic resin may deteriorate. If the weight average molecular weight of the first thermoplastic resin exceeds 1,500,000 g / mol, There is a problem that the quality of the final product is deteriorated due to a melt fracture phenomenon in which the surface is not processed or the surface roughness is increased.

상기 발포제는 상기 제1 열가소성 수지를 발포시켜 상기 발포 기재의 강도, 형태 안정성 등 물성을 향상시키기 위해 사용되는 것으로, 아조디카르복실아미드, 아조비스테트라졸디아미노구아니딘, 아조비스테트라졸구아니딘, 5-페닐테트라졸, 비스테트라졸구아니딘, 비스테트라졸피페라진, 비스테트라졸디암모늄, N,N-디니트로소펜타메틸렌테트라민 및 히드라조디카르복실아미드로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다.The foaming agent is used for improving physical properties such as strength and form stability of the foamed substrate by foaming the first thermoplastic resin. Examples of the foaming agent include azodicarboxylamide, azobistetrazole diaminoguanidine, azobistetrazole guanidine, 5 It is preferable to include at least one selected from the group consisting of phenyltetrazole, bistetrazole guanidine, bistetrazole piperazine, bistetrazolidiammonium, N, N-dinitrosopentamethylenetetramine and hydrazodicarboxamide But is not limited thereto.

상기 발포안정제는 발포 기재 내에 포함되는 셀을 안정화시키기 위해 본 발명에서 필수적으로 사용되나, 상기 발포안정제는 상기 제1 열가소성 수지와의 분자량 크기의 차이로 인하여, 발포 기재 외부로 이동(migration)이 발생하게 되는 문제점이 있다. 본 발명에서는 복수의 탄소나노튜브들이 네트워크 구조를 이룸으로써, 이러한 문제점을 해결할 수 있다. The foam stabilizer is essentially used in the present invention to stabilize the cell contained in the foam substrate, but the foam stabilizer may migrate to the outside of the foam substrate due to the difference in molecular weight between the foam stabilizer and the first thermoplastic resin There is a problem to be done. In the present invention, a plurality of carbon nanotubes have a network structure to solve this problem.

상기 발포안정제의 분자량은 100g/mol 내지 1,000g/mol일 수 있다. The molecular weight of the foam stabilizer may be from 100 g / mol to 1,000 g / mol.

또한, 상기 조성물 전체 중량 대비, 상기 발포안정제는 0.1 중량% 내지 5.0 중량% 포함될 수 있다. 이때, 발포안정제의 함량이 0.1 중량% 미만인 경우, 셀 안정성 저하로 정상적인 발포 기재가 형성되지 않는 문제점이 있고, 발포안정제의 함량이 5.0 중량%를 초과하는 경우, 이동(migration)에 의한 백화 현상 발생으로 최종 제품의 품질이 저하되는 문제점이 있다.In addition, the foam stabilizer may be included in an amount of 0.1% by weight to 5.0% by weight based on the total weight of the composition. When the content of the foam stabilizer is less than 0.1% by weight, a foam substrate may not be formed normally due to a decrease in cell stability. When the content of the foam stabilizer exceeds 5.0% by weight, The quality of the final product is deteriorated.

구체적으로, 상기 발포안정제는 글리세롤 모노스테아레이트, 글리세롤 디스테아레이트, 글리세롤 트리스테아레이트, 아연 스테아레이트, 칼슘 스테아레이트 및 마그네슘 스테아레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 것이 바람직하고, 글리세롤 모노스테아레이트를 포함하는 것이 더욱 바람직하나, 이에 한정되지 않는다.Specifically, the foam stabilizer preferably contains at least one member selected from the group consisting of glycerol monostearate, glycerol distearate, glycerol tristearate, zinc stearate, calcium stearate and magnesium stearate, and glycerol monostearate More preferably, it includes but is not limited to a rate.

일 예로, 열가소성 수지로 800,000g/mol의 중량평균분자량을 가지는 폴리에틸렌계 수지를 사용하고, 발포안정제로 358.56g/mol의 분자량을 가지는 글리세롤 모노스테아레이트를 2.0 중량% 사용하여 발포 기재를 제조하는 경우, 이들 간의 분자량 차이로 인하여 글리세롤 모노스테아레이트의 이동(migration)이 발생하게 될 수 있다. 이때, 본 발명에서는 탄소나노튜브층 내 복수의 탄소나노튜브들이 네트워크 구조를 이룸으로써, 이러한 문제점을 해결할 수 있다.For example, in the case of using a polyethylene resin having a weight average molecular weight of 800,000 g / mol as a thermoplastic resin and 2.0% by weight of glycerol monostearate having a molecular weight of 358.56 g / mol as a foam stabilizer, , Migration of glycerol monostearate may occur due to the difference in molecular weight between them. At this time, in the present invention, a plurality of carbon nanotubes in the carbon nanotube layer have a network structure to solve this problem.

종래의 표시 소자 기판용 지지체는 발포 기재의 양면에 일반 폴리에틸렌 필름을 양면에 형성한 후, 그 위에 전도성 고분자를 코팅하게 되는데, 이때, 발포 기재의 양면에 각각 2개층이 형성되므로 공정이 복잡해지고 생산원가가 상승하게 되는 문제점이 있다.In the conventional support for a display element substrate, a general polyethylene film is formed on both surfaces of both surfaces of a foam substrate, and then a conductive polymer is coated thereon. At this time, since two layers are formed on both surfaces of the foam substrate, There is a problem that the cost increases.

본 발명에 따른 표시 소자 기판용 지지체는 상기 발포 기재의 적어도 일면에 형성된 탄소나노튜브층을 포함하고, 상기 탄소나노튜브층은 네트워크 구조를 이루는 복수의 탄소나노튜브들을 포함한다.The support for a display device substrate according to the present invention includes a carbon nanotube layer formed on at least one surface of the foam substrate, and the carbon nanotube layer includes a plurality of carbon nanotubes having a network structure.

본 명세서 내에서 사용되는 용어에 해당하는 “네트워크 구조”는 서로 다른 탄소나노튜브들 사이에 하나 이상의 튜브간 접합점을 가지는 구조를 의미하는 것으로, 복수의 탄소나노튜브들이 네트워크 구조를 이룸으로써, 발포 기재 내에 포함된 작은 분자량을 가진 발포안정제가 빠져나가지 못하도록 이동(migration)을 차단할 수 있다.As used herein, the term " network structure " refers to a structure having one or more junction points between different carbon nanotubes, wherein a plurality of carbon nanotubes have a network structure, It is possible to block the migration so that the foam stabilizer having a small molecular weight contained therein can not escape.

상기 탄소나노튜브층은 탄소나노튜브들은 분산성이 증대된 상태로, 복수의 탄소나노튜브들이 서로 결합되어 네트워크 구조를 이루고 있는 것이며, 상기 발포 기재의 적어도 일면에 형성하기 위한 블로운 필름 형태일 수 있다. 탄소나노튜브층 내 탄소나노튜브들의 우수한 분산성으로 인하여 얇은 두께를 유지하며 블로운 필름으로 취입 성형될 수 있다. The carbon nanotube layer may be in the form of a blown film to be formed on at least one surface of the foam substrate. The carbon nanotube layer may include a plurality of carbon nanotubes have. Due to the excellent dispersibility of the carbon nanotubes in the carbon nanotube layer, the thin film can be blown into a blown film.

상기와 같이, 블로운 필름 형태의 탄소나노튜브층은 10㎛ 내지 100㎛의 두께를 가지는 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 이때, 탄소나노튜브층이 상기 범위를 유지함으로써 취입 성형시 과도한 전단(shear)에 의해 블로운 필름이 형성되지 않거나 전도성이 구현되지 않는 문제점을 방지하면서도, 고가의 탄소나노튜브의 사용량을 최소화하여 가격 경쟁력이 우수하도록 얇은 두께를 유지할 수 있는 이점이 있다. 이와 같은 두께는 취입 성형시 와인더의 속도에 의해 조절될 수 있다.As described above, the carbon nanotube layer in the form of a blown film preferably has a thickness of 10 mu m to 100 mu m, but is not limited thereto. In this case, since the carbon nanotube layer is maintained in the above-described range, it is possible to prevent the problem that the blown film is not formed or the conductivity is not realized due to excessive shear during blow molding, It has the advantage of being able to maintain a thin thickness to be competitive. This thickness can be controlled by the speed of the winder during blow molding.

상기 탄소나노튜브층은 복수의 탄소나노튜브들이 네트워크 구조를 이루도록 하기 위해, 탄소나노튜브 및 분산매를 포함하는 조성물을 아임계 또는 초임계 조건 하에 처리하여 형성된 복수의 탄소나노튜브들을 포함할 수 있다.The carbon nanotube layer may include a plurality of carbon nanotubes formed by treating a composition including carbon nanotubes and a dispersion medium under subcritical or supercritical conditions so that a plurality of carbon nanotubes have a network structure.

상기 분산매는 물, 지방족 알코올 및 이산화탄소로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다.The dispersion medium may contain at least one selected from the group consisting of water, aliphatic alcohols and carbon dioxide.

이때, 상기 아임계 또는 초임계 조건은 압력을 50atm 내지 400atm을 유지하되, 상기 아임계 처리시 온도는 50℃ 내지 380℃이고, 상기 초임계 처리시 온도는 350℃ 내지 600℃를 유지하는 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 이로써, 분산성을 높여 복수의 탄소나노튜브들이 네트워크 구조를 이룰 수 있다.At this time, the subcritical or supercritical condition is maintained at a pressure of 50 atm to 400 atm, the temperature during the subcritical treatment is 50 to 380 ° C, and the temperature during the supercritical treatment is maintained at 350 to 600 ° C But is not limited thereto. As a result, a plurality of carbon nanotubes can attain a network structure by increasing dispersibility.

선택적으로, 상기 아임계 또는 초임계 조건에서 산화제를 더 포함하여 처리할 수 있고, 상기 산화제는 산소, 공기, 오존, 질산, 과산화수소 등일 수 있다.Alternatively, the oxidizing agent may be further treated with an oxidizing agent under the subcritical or supercritical conditions, and the oxidizing agent may be oxygen, air, ozone, nitric acid, hydrogen peroxide, and the like.

상기 탄소나노튜브는 단일벽(Single-walled), 이중벽(Double-walled), 얇은 다중벽(Thin multi-walled), 다중벽(Multi-walled) 및 다발형(Roped)으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상일 수 있다. The carbon nanotube may be at least one selected from the group consisting of single-walled, double-walled, thin multi-walled, multi-walled and multi- .

상기 탄소나노튜브층은 카본블랙, 흑연, 탄소섬유, 그래핀 및 플러렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 탄소 화합물 및 제2 열가소성 수지를 더 포함할 수 있다. The carbon nanotube layer may further include a carbon compound and at least one second thermoplastic resin selected from the group consisting of carbon black, graphite, carbon fiber, graphene and fullerene.

상기 탄소 화합물은 아임계 또는 초임계 조건 하에 복수의 탄소나노튜브들이 제조된 후, 추가로 첨가될 수도 있고, 아임계 또는 초임계 조건 하에 복수의 탄소나노튜브들의 제조시, 함께 첨가될 수도 있다. 탄소 화합물의 첨가 후, 취입 성형 등을 통해 탄소나노튜브층으로 제조될 수 있다. The carbon compound may be added after the plurality of carbon nanotubes are prepared under subcritical or supercritical conditions, or may be added together when preparing a plurality of carbon nanotubes under subcritical or supercritical conditions. After the addition of the carbon compound, the carbon nanotube layer can be produced through blow molding or the like.

복수의 탄소나노튜브들 및 상기 탄소 화합물은 1:0.00001 내지 1:100의 중량비, 바람직하게, 1:0.1 내지 1:10의 중량비를 유지함으로써, 상호 혼화성 및 분산성을 높일 수 있다.The plurality of carbon nanotubes and the carbon compound may maintain a weight ratio of 1: 0.00001 to 1: 100, preferably 1: 0.1 to 1:10, thereby enhancing mutual miscibility and dispersibility.

상기 제2 열가소성 수지 역시 아임계 또는 초임계 조건 하에 복수의 탄소나노튜브들이 제조된 후, 추가로 첨가될 수도 있고, 아임계 또는 초임계 조건 하에 복수의 탄소나노튜브들의 제조시, 함께 첨가될 수도 있다. 제2 열가소성 수지의 첨가 후, 취입 성형 등을 통해 탄소나노튜브층으로 제조될 수 있다. 구체적인 제2 열가소성 수지의 종류는 앞서 언급한 제1 열가소성 수지와 같다. The second thermoplastic resin may also be added after the plurality of carbon nanotubes are prepared under subcritical or supercritical conditions and may be added together in the production of a plurality of carbon nanotubes under subcritical or supercritical conditions have. After the addition of the second thermoplastic resin, the carbon nanotube layer can be produced through blow molding or the like. The specific kind of the second thermoplastic resin is the same as the first thermoplastic resin mentioned above.

복수의 탄소나노튜브들 및 상기 제2 열가소성 수지는 1:0.00001 내지 1:100의 중량비, 바람직하게, 1:0.1 내지 1:100의 중량비를 유지함으로써, 상호 혼화성 및 분산성을 높일 수 있다.The plurality of carbon nanotubes and the second thermoplastic resin can maintain mutual miscibility and dispersibility by maintaining a weight ratio of 1: 0.00001 to 1: 100, preferably 1: 0.1 to 1: 100.

상기 탄소 화합물 및 상기 제2 열가소성 수지 외에, 활제 등 공지의 첨가제가 추가로 첨가될 수 있다.In addition to the carbon compound and the second thermoplastic resin, known additives such as a lubricant may be further added.

상기 지지체의 표면 저항은 ESD(Electro-Static Dissipation, 정전분산) 영역인 5 log(Ω/□) 내지 9log(Ω/□)일 수 있고, 6 log(Ω/□) 내지 8log(Ω/□)인 것이 더욱 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 이때, 지지체의 표면 저항이 상기 범위 미만인 경우, 통전으로 인해 표시 소자 부품에 오히려 손상을 주는 문제점이 있고, 지지체의 표면 저항이 상기 범위를 초과하는 경우, 전기적 충격에 대한 대전 방지 특성이 약화되는 문제점이 있다. The surface resistivity of the support may be 5 log (Ω / □) to 9 log (Ω / □), which is an ESD (Electro-Static Dissipation) region, and 6 log (Ω / □) , But is not limited thereto. In this case, when the surface resistance of the support is less than the above range, there is a problem that the component parts of the display element are damaged due to energization, and when the surface resistance of the support exceeds the above range, the antistatic property against the electric shock is weakened .

상기와 같은 표시 소자 기판용 지지체는 액정 표시 소자(Liquid Crystal Display Device, LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 전계방출소자(Field Emission Display, FED), 전자 발광 소자(Electro Luminescent Display, ELD), 음극선관(Cathode Ray Tube, CRT) 등의 기판을 적층 이송하는데 이용될 수 있고, 바람직하게는 액정 표시 소자 기판을 수평으로 적층 이송하는데 이용될 수 있다.The support for a display element substrate may be a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED), an electroluminescent display , ELD, cathode ray tubes (CRT), and the like, and may be preferably used for horizontally stacking the liquid crystal display element substrates.

또한, 본 발명은 a) 탄소나노튜브 및 분산매를 포함하는 조성물을 아임계 또는 초임계 조건 하에 처리하여 네트워크 구조를 이루는 복수의 탄소나노튜브들을 제조하는 단계; b) 상기 복수의 탄소나노튜브들을 포함하는 탄소나노튜브층을 제조하는 단계; 및 c) 발포 기재의 적어도 일면에 상기 탄소나노튜브층을 형성하는 단계를 포함하는 표시 소자 기판용 지지체의 제조방법을 제공한다.Also, the present invention provides a method of manufacturing a carbon nanotube, comprising: a) preparing a plurality of carbon nanotubes having a network structure by treating a composition comprising carbon nanotubes and a dispersion medium under subcritical or supercritical conditions; b) preparing a carbon nanotube layer containing the plurality of carbon nanotubes; And c) forming the carbon nanotube layer on at least one surface of the foaming substrate.

구체적으로, 본 발명에 따른 표시 조사 기판용 지지체는 a) 탄소나노튜브 및 분산매를 포함하는 조성물을 아임계 또는 초임계 조건 하에 처리하여 네트워크 구조를 이루는 복수의 탄소나노튜브들을 제조하는 단계를 포함한다. Specifically, the support substrate for display irradiation substrates according to the present invention comprises a) preparing a plurality of carbon nanotubes having a network structure by treating a composition comprising carbon nanotubes and a dispersion medium under subcritical or supercritical conditions .

구체적인 아임계 또는 초임계 조건 하에 처리 방법은 전술한 바와 같다.The treatment method under specific subcritical or supercritical conditions is as described above.

다음으로, 본 발명에 따른 표시 조사 기판용 지지체는 b) 상기 복수의 탄소나노튜브들을 포함하는 탄소나노튜브층을 제조하는 단계를 포함한다.Next, the support for display irradiation substrates according to the present invention includes a step of producing a carbon nanotube layer containing the plurality of carbon nanotubes.

상기 탄소나노튜브층은 복수의 탄소나노튜브들 자체를 성형하여 제조될 수도 있으나, 복수의 탄소나노튜브들에 탄소 화합물 및 제2 열가소성 수지를 더 첨가한 후 성형하여 제조될 수도 있다. 구체적으로, 상기 탄소나노튜브층의 제조는 취입 성형을 통해 수행될 수 있고, 취입 성형시, 와인더의 속도를 조절함으로써 탄소나노튜브층의 두께를 조절하여 얇은 두께를 유지하는 블로운 형태의 탄소나노튜브층을 제조할 수 있다.The carbon nanotube layer may be manufactured by molding a plurality of carbon nanotubes themselves, but may also be manufactured by further adding a carbon compound and a second thermoplastic resin to a plurality of carbon nanotubes, followed by molding. Specifically, the carbon nanotube layer can be produced through blow molding. In blow molding, the speed of the winder is controlled to adjust the thickness of the carbon nanotube layer to control the thickness of the carbon nanotube layer A nanotube layer can be produced.

이후, 본 발명에 따른 표시 조사 기판용 지지체는 c) 발포 기재의 적어도 일면에 상기 탄소나노튜브층을 형성하는 단계를 포함한다. 구체적으로, 상기 탄소나노튜브층의 형성은 열에 의한 합지를 통해 수행될 수 있다.Thereafter, the support substrate for display irradiation substrates according to the present invention comprises the step of: (c) forming the carbon nanotube layer on at least one surface of the foamed substrate. Specifically, the formation of the carbon nanotube layer can be performed through thermal lamination.

따라서, 본 발명에 따른 표시 소자 기판용 지지체는 발포 기재 내에 포함된 작은 분자량을 가진 발포안정제의 이동(migration)을 방지하여 백화 현상을 발생시키지 않을 뿐만 아니라, 낮은 표면 저항을 유지할 수 있어 대전 방지 특성이 우수하다.Accordingly, the support for a display element substrate according to the present invention prevents migration of a foam stabilizer having a small molecular weight contained in a foamed base material to prevent whitening and low surface resistance, Is excellent.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 하기 실시예에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in order to facilitate understanding of the present invention. However, the following examples are provided only for the purpose of easier understanding of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

[[ 실시예Example ]]

실시예Example 1 One

다중벽 탄소나노튜브(한화케미칼 社 MWCNT) 20g을 증류수 980g과 순환펌프로 혼합하여 전처리조에서 혼합물을 준비하였다. 혼합물을 고압주입 펌프를 통해 15g/min 유속으로 예열조에 투입하였다. 용액은 열교환기를 통해 200~240℃로 예열된 예열조에 투입하였다. 예열된 혼합물은 300℃ 및 230~250atm의 아임계수 상태의 분산성 증대를 위해 반응기에 주입하여 반응기 내에서 아임계 처리되면서, 분산성이 증대되었고, 분산성이 증대된 생성물은 다시 열교환기로 이송되어 200℃로 1차 냉각 후, 다시 냉각장치 통해 약 25℃의 온도로 냉각 후 네트워크 구조를 이루는 복수의 탄소나노튜브들 19.9g을 연속적으로 제조하였다.20 g of multi-wall carbon nanotubes (Hanwha Chemical Co., Ltd. MWCNT) were mixed with 980 g of distilled water and a circulation pump, and the mixture was prepared in a pretreatment tank. The mixture was introduced into the preheater at a flow rate of 15 g / min through a high pressure injection pump. The solution was introduced into a preheated preheated vessel at 200-240 ° C. via a heat exchanger. The preheated mixture is injected into the reactor for increasing the dispersibility of the subcritical state at 300 DEG C and 230 to 250 atm, and is subjected to subcritical treatment in the reactor to increase the dispersibility, and the dispersed product is further transferred to the heat exchanger After first cooling to 200 ° C and cooling to about 25 ° C through a cooling device, 19.9g of a plurality of carbon nanotubes having a network structure were continuously produced.

복수의 탄소나노튜브들 10 중량%, 활제로서 아연 스테아레이트 1 중량% 및 폴리에틸렌 89 중량%를 75L 니더(kneader)에서 150℃에서 30rpm으로 15분간 혼련하였고, 이를 블로운 필름 성형기의 호퍼에 투입하고, 190℃에서 200 rpm의 압출기를 통과한 후, 30rpm의 와인더를 통과하여 20um 두께를 가진 블로운 필름 형태의 탄소나노튜브층을 제조하였다. 10% by weight of a plurality of carbon nanotubes, 1% by weight of zinc stearate as a lubricant, and 89% by weight of polyethylene were kneaded in a 75 L kneader at 150 캜 and 30 rpm for 15 minutes and put in a hopper of a blown film molding machine , Passed through an extruder at 190 ° C at 200 rpm, passed through a winder at 30 rpm to prepare a carbon nanotube layer in the form of a blown film having a thickness of 20 μm.

도 1(a)는 실시예 1의 탄소나노튜브층 조성물을 주사전자현미경(SEM)(왼쪽 그림) 및 투과전자현미경(TEM)(오른쪽 그림)으로 관찰한 사진으로, 탄소나노튜브들은 분산성이 증대된 상태로, 복수의 탄소나노튜브들이 서로 결합되어 네트워크 구조를 이루고 있음을 확인할 수 있었다.FIG. 1 (a) is a photograph of the carbon nanotube layer composition of Example 1 observed with a scanning electron microscope (SEM) (left) and a transmission electron microscope (right) It can be confirmed that a plurality of carbon nanotubes are combined with each other to form a network structure in an increased state.

무가교형 폴리에틸렌 발포 기재(글리세롤 모노스테아레이트 2 중량% 포함, 발포율 30배, 두께 1mm)의 양면에 탄소나노튜브층을 적층한 후, 120℃에서 롤러를 통과시켜 열에 의해 합지시킴으로써, 표시 소자 기판용 지지체를 최종 제조하였다. A carbon nanotube layer was laminated on both sides of a nonwoven fabric type polyethylene foam substrate (containing 2 wt% of glycerol monostearate, a foaming ratio of 30 and a thickness of 1 mm), and then laminated by heat through a roller at 120 캜, Was prepared.

실시예Example 2 2

35rpm의 와인더를 통과하여 10um 두께를 가진 블로운 필름 형태의 탄소나노튜브층을 제조한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 표시 소자 기판용 지지체를 최종 제조하였다.A support for a display element substrate was finally prepared in the same manner as in Example 1, except that a carbon nanotube layer of a blown film type having a thickness of 10 탆 was passed through a winder at 35 rpm.

실시예Example 3 3

20rpm의 와인더를 통과하여 40um 두께를 가진 블로운 필름 형태의 탄소나노튜브층을 제조한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 표시 소자 기판용 지지체를 최종 제조하였다.A support for a display element substrate was finally prepared in the same manner as in Example 1, except that a carbon nanotube layer of a blown film type having a thickness of 40 um was passed through a winder at 20 rpm.

실시예Example 4 4

다중벽 탄소나노튜브의 예열시 열교환기의 온도가 350~370℃인 것과, 초임계수에서 처리를 하되, 온도를 400℃로 처리하여 상호 혼화성을 증대시킨 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 표시 소자 기판용 지지체를 최종 제조하였다.The same procedure as in Example 1 was carried out except that the temperature of the heat exchanger during the preheating of the multi-wall carbon nanotubes was 350 to 370 ° C and that the treatment was carried out at a supercritical water temperature, To prepare a support for a display element substrate.

실시예Example 5 5

복수의 탄소나노튜브들 10 중량% 대신, 복수의 탄소나노튜브들 3 중량% 및 카본블랙 7 중량%를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 표시 소자 기판용 지지체를 최종 제조하였다.A support for a display element substrate was finally prepared in the same manner as in Example 1, except that 3 wt% of a plurality of carbon nanotubes and 7 wt% of carbon black were used instead of 10 wt% of the plurality of carbon nanotubes.

비교예Comparative Example 1 One

다중벽 탄소나노튜브(한화케미칼 社 MWCNT)를 아임계 또는 초임계 조건 하에 별도로 처리하지 않은 채로, 실시예 1과 동일한 방법으로 표시 소자 기판용 지지체를 최종 제조하였다.A support for a display element substrate was finally prepared in the same manner as in Example 1, except that the multi-walled carbon nanotube (Hanwha Chemical Co., Ltd., MWCNT) was not treated separately under subcritical or supercritical conditions.

도 1(b)는 비교예 1의 탄소나노튜브층 조성물을 주사전자현미경(SEM)(왼쪽 그림) 및 투과전자현미경(TEM)(오른쪽 그림)으로 관찰한 사진으로, 탄소나노튜브들은 분산되지 않은 채로, 네트워크 구조를 이루지 못하고 뭉쳐져서 존재함을 확인할 수 있었다.FIG. 1 (b) is a photograph of the carbon nanotube layer composition of Comparative Example 1 observed with a scanning electron microscope (SEM) (left) and a transmission electron microscope (right) I could confirm that there existed the network structure without forming a cluster.

비교예Comparative Example 2 2

다중벽 탄소나노튜브(한화케미칼 社 MWCNT)를 아임계 또는 초임계 조건 하에 별도로 처리하지 않은 채로, 실시예 2과 동일한 방법으로 표시 소자 기판용 지지체를 최종 제조하였다.A support for a display element substrate was finally prepared in the same manner as in Example 2, except that the multi-walled carbon nanotube (Hanwha Chemical Co., Ltd. MWCNT) was not separately treated under subcritical or supercritical conditions.

실험예Experimental Example

(1) 백화 현상 평가(1) Evaluation of bleaching phenomenon

실시예 1~5 및 비교예 1~2에서 제조된 표시 소자 기판용 지지체를 온도 70℃ 및 습도 90%의 항온 항습조에서 240 시간 동안 방치한 후 표면을 육안으로 관찰하여, 백화 현상을 평가하였고, 그 결과를 아래 표 1에 나타내었다.The support for a display element substrate prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 was allowed to stand for 240 hours in a constant temperature and humidity chamber at a temperature of 70 ° C and a humidity of 90% , And the results are shown in Table 1 below.

도 3은 (a) 실시예 1 및 (b) 비교예 1에서 각각 제조된 표시 소자 기판용 지지체 표면의 백화 현상 발생 여부를 육안으로 관찰한 사진이다. FIG. 3 is a photograph of the surface of the support for a display element substrate manufactured in (a) Example 1 and (b) Comparative Example 1, respectively, visually observing whether whitening occurred.

도 3에 나타난 바와 같이, 실시예 1에서 제조된 표시 소자 기판용 지지체는 비교예 1에서 제조된 표시 소자 기판용 지지체와 달리, 아임계 처리로 인해 탄소나노튜브층에서 복수의 탄소나노튜브들이 네트워크 구조를 이루는바, 발포 기재 내 포함된 작은 분자량을 가진 발포안정제의 이동을 방지하여, 백화 현상을 발생시키지 않았음을 확인할 수 있었다. As shown in FIG. 3, the support for a display device substrate prepared in Example 1 was different from the support for a display device substrate prepared in Comparative Example 1, in which a plurality of carbon nanotubes in a carbon nanotube layer , It was confirmed that the migration of the foam stabilizer having a small molecular weight contained in the foamed substrate was prevented and the whitening phenomenon did not occur.

(2) 표면 저항 측정(2) Surface resistance measurement

실시예 1~5 및 비교예 1~2에서 제조된 탄소나노튜브층 및 표시 소자 기판용 지지체 각각에 대하여, 미쯔비시社의 Loresta GP(MCP-T600)를 사용하여 JIG K 7194 /ASTM D991에 따라 표면 저항을 측정하였고, 이를 아래 표 1에 나타내었다.The carbon nanotube layer and the support for a display element substrate prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 were each coated with a surface coating agent according to JIG K 7194 / ASTM D991 using Mitsubishi's Loresta GP (MCP-T600) The resistance was measured and is shown in Table 1 below.

구분division 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 실시예5Example 5 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 탄소나노튜브
처리 조건
Carbon nanotube
Treatment condition
아임계Subcritical 아임계Subcritical 아임계Subcritical 초임계Supercritical 아임계Subcritical 미처리Untreated 미처리Untreated
탄소나노튜브 층 조성
(중량%)
 
Carbon nanotube layer composition
(weight%)
탄소나노튜브Carbon nanotube 1010 1010 1010 1010 33 1010 1010
카본블랙Carbon black 00 00 00 00 77 00 00 활제Lubricant 1One 1One 1One 1One 1One 1One 1One 폴리에틸렌Polyethylene 8989 8989 8989 8989 8989 8989 8989 탄소나노튜브층 두께
(㎛)
Carbon nanotube layer thickness
(탆)
2020 1010 4040 2020 2020 2020 1010
와인더 속도
(rpm))
Winder Speed
(rpm)
3030 3535 2222 3030 3030 3030 3535
백화 현상Whitening 미발생Not occurring 미발생Not occurring 미발생Not occurring 미발생Not occurring 미발생Not occurring 발생Occur 발생Occur 표면저항
(log(Ω/□))
Surface resistance
(log (? /?))
탄소나노튜브층Carbon nanotube layer 77 8.58.5 5.15.1 7.37.3 7.87.8 9.29.2 범위
초과
range
Excess
표시 소자 기판용 지지체A support for a display element substrate 7.17.1 8.38.3 5.35.3 7.67.6 8.28.2 11.511.5 범위
초과
range
Excess

표 1에 나타난 바와 같이, 실시예 1~5에서 제조된 표시 소자 기판용 지지체는 백화 현상을 발생시키지 않았으며, 낮은 표면 저항을 유지할 수 있음을 확인할 수 있었다. As shown in Table 1, it was confirmed that the support for a display element substrate manufactured in Examples 1 to 5 did not cause whitening and was able to maintain a low surface resistance.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.It will be understood by those skilled in the art that the foregoing description of the present invention is for illustrative purposes only and that those of ordinary skill in the art can readily understand that various changes and modifications may be made without departing from the spirit or essential characteristics of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

Claims (17)

발포 기재; 및
상기 발포 기재의 적어도 일면에 형성된 탄소나노튜브층을 포함하고,
상기 발포 기재는 제1 열가소성 수지, 발포제 및 발포안정제를 포함하는 조성물로부터 형성되며,
상기 탄소나노튜브층은 네트워크 구조를 이루는 복수의 탄소나노튜브들을 포함하는
표시 소자 기판용 지지체.
Foamed substrates; And
And a carbon nanotube layer formed on at least one surface of the foamed substrate,
Wherein the foam substrate is formed from a composition comprising a first thermoplastic resin, a foaming agent and a foam stabilizer,
Wherein the carbon nanotube layer includes a plurality of carbon nanotubes having a network structure
Support for display element substrate.
제1항에 있어서,
상기 발포 기재는 무가교형인
표시 소자 기판용 지지체.
The method according to claim 1,
The foamed substrate may be a non-
Support for display element substrate.
제1항에 있어서,
상기 발포 기재의 발포율은 10배 내지 40배인
표시 소자 기판용 지지체.
The method according to claim 1,
The expansion ratio of the foamed substrate is 10 to 40 times
Support for display element substrate.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 열가소성 수지는 폴리에틸렌계 수지, 폴리아세탈계 수지, 폴리아크릴레이트계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐계 수지, 폴리페닐렌에테르계 수지, 폴리올레핀계 수지, 폴리아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리아미드이미드계 수지, 폴리아릴설폰계 수지, 폴리에테르이미드계 수지, 폴리에테르설폰계 수지, 폴리페닐렌 설피드계 수지, 폴리불소계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리에테르케톤계 수지, 폴리벤족사졸계 수지, 폴리옥사디아졸계 수지, 폴리벤조티아졸계 수지, 폴리벤지미다졸계 수지, 폴리피리딘계 수지, 폴리트리아졸계 수지, 폴리피로리딘계 수지, 폴리디벤조퓨란계 수지, 폴리설폰계 수지, 폴리우레아계 수지 및 폴리포스파젠계 수지로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는
표시 소자 기판용 지지체.
The method according to claim 1,
Wherein the first thermoplastic resin is at least one selected from the group consisting of a polyethylene resin, a polyacetal resin, a polyacrylate resin, a polycarbonate resin, a polystyrene resin, a polyester resin, a polyvinyl resin, a polyphenylene ether resin, , Polyacrylonitrile-butadiene-styrene copolymer resins, polyarylate resins, polyamide resins, polyamideimide resins, polyarylsulfone resins, polyetherimide resins, polyether sulfone resins, polyphenylene Based resins, polyphenylene resins, polyimide resins, polyether ketone resins, polybenzoxazole resins, polyoxadiazole resins, polybenzothiazole resins, polybenzidine resins, polypyridine resins, poly Triazole-based resins, polypyrrolidine-based resins, polydibenzofuran-based resins, polysulfone-based resins, polyurea-based resins, and poly From the group consisting of SPA jengye resin comprising one or more selected
Support for display element substrate.
제1항에 있어서,
상기 발포제는 아조디카르복실아미드, 아조비스테트라졸디아미노구아니딘, 아조비스테트라졸구아니딘, 5-페닐테트라졸, 비스테트라졸구아니딘, 비스테트라졸피페라진, 비스테트라졸디암모늄, N,N-디니트로소펜타메틸렌테트라민 및 히드라조디카르복실아미드로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는
표시 소자 기판용 지지체.
The method according to claim 1,
The foaming agent may be at least one selected from the group consisting of azodicarboxylamide, azobistetrazole diaminoguanidine, azobistetrazole guanidine, 5-phenyltetrazole, bistetrazole guanidine, bistetrazolepiperazine, Nitroso pentamethylenetetramine, and hydrazodicarboxamide. ≪ RTI ID = 0.0 >
Support for display element substrate.
제1항에 있어서,
상기 발포안정제의 분자량은 100g/mol 내지 1,000g/mol인
표시 소자 기판용 지지체.
The method according to claim 1,
The molecular weight of the foam stabilizer is preferably from 100 g / mol to 1,000 g / mol
Support for display element substrate.
제1항에 있어서,
상기 조성물 전체 중량 대비, 상기 발포안정제는 0.1 중량% 내지 5.0 중량% 포함된
표시 소자 기판용 지지체.
The method according to claim 1,
Wherein the foam stabilizer is contained in an amount of 0.1 wt% to 5.0 wt%
Support for display element substrate.
제1항에 있어서,
상기 발포안정제는 글리세롤 모노스테아레이트, 글리세롤 디스테아레이트, 글리세롤 트리스테아레이트, 아연 스테아레이트, 칼슘 스테아레이트 및 마그네슘 스테아레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는
표시 소자 기판용 지지체.
The method according to claim 1,
Wherein said foam stabilizer comprises at least one member selected from the group consisting of glycerol monostearate, glycerol distearate, glycerol tristearate, zinc stearate, calcium stearate and magnesium stearate
Support for display element substrate.
제1항에 있어서,
상기 탄소나노튜브층은 블로운 필름 형태인
표시 소자 기판용 지지체.
The method according to claim 1,
The carbon nanotube layer may be in the form of a blown film
Support for display element substrate.
제1항에 있어서,
상기 탄소나노튜브층은 10㎛ 내지 100㎛의 두께를 가지는
표시 소자 기판용 지지체.
The method according to claim 1,
Wherein the carbon nanotube layer has a thickness of 10 mu m to 100 mu m
Support for display element substrate.
제1항에 있어서,
상기 복수의 탄소나노튜브들은 탄소나노튜브 및 분산매를 포함하는 조성물을 아임계 또는 초임계 조건 하에 처리하여 형성된
표시 소자 기판용 지지체.
The method according to claim 1,
The plurality of carbon nanotubes may be formed by treating a composition comprising carbon nanotubes and a dispersion medium under subcritical or supercritical conditions
Support for display element substrate.
제12항에 있어서,
상기 분산매는 물, 지방족 알코올 및 이산화탄소로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는
표시 소자 기판용 지지체.
13. The method of claim 12,
Wherein the dispersion medium comprises at least one selected from the group consisting of water, aliphatic alcohols and carbon dioxide
Support for display element substrate.
제1항에 있어서,
상기 탄소나노튜브층은 카본블랙, 흑연, 탄소섬유, 그래핀 및 플러렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 탄소 화합물 및 제2 열가소성 수지를 더 포함하는
표시 소자 기판용 지지체.
The method according to claim 1,
Wherein the carbon nanotube layer further comprises a carbon compound and at least one second thermoplastic resin selected from the group consisting of carbon black, graphite, carbon fiber, graphene and fullerene
Support for display element substrate.
제1항에 있어서,
상기 지지체의 표면 저항은 5 log(Ω/□) 내지 9log(Ω/□)인
표시 소자 기판용 지지체.
The method according to claim 1,
The surface resistance of the support is 5 log (? /?) To 9 log (? /?)
Support for display element substrate.
a) 탄소나노튜브 및 분산매를 포함하는 조성물을 아임계 또는 초임계 조건 하에 처리하여 네트워크 구조를 이루는 복수의 탄소나노튜브들을 제조하는 단계;
b) 상기 복수의 탄소나노튜브들을 포함하는 탄소나노튜브층을 제조하는 단계; 및
c) 발포 기재의 적어도 일면에 상기 탄소나노튜브층을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 발포 기재는 제1 열가소성 수지, 발포제 및 발포안정제를 포함하는 조성물로부터 형성된
표시 소자 기판용 지지체의 제조방법.
a) preparing a plurality of carbon nanotubes having a network structure by treating a composition comprising carbon nanotubes and a dispersion medium under subcritical or supercritical conditions;
b) preparing a carbon nanotube layer containing the plurality of carbon nanotubes; And
c) forming the carbon nanotube layer on at least one surface of the foaming substrate,
The foamed substrate is formed from a composition comprising a first thermoplastic resin, a foaming agent and a foam stabilizer
A method of manufacturing a support for a display element substrate.
제16항에 있어서,
상기 b) 단계에서 탄소나노튜브층의 제조는 취입 성형을 통해 수행되는
표시 소자 기판용 지지체의 제조방법.
17. The method of claim 16,
In the step b), the carbon nanotube layer is produced by blow molding
A method of manufacturing a support for a display element substrate.
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