KR101591185B1 - Curable composition - Google Patents
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Abstract
본 출원은, 경화성 조성물 및 그 용도에 관한 것이다. 예시적인 경화성 조성물은, 가공성, 작업성 및 접착성 등이 우수하고, 백탁 및 표면에서의 끈적임 등이 유발되지 않는 경화물을 제공할 수 있다. 상기 경화성 조성물은 또한 투명도, 내습성, 기계적 특성 및 내크랙 특성 등이 우수한 경화물을 제공할 수 있고, 이에 따라, 예를 들어, 다양한 전자 부품에 적용되어 우수한 장기 신뢰성을 나타낼 수 있다. The present application relates to curable compositions and uses thereof. An exemplary curable composition can provide a cured product that is excellent in workability, workability, adhesiveness, etc. and does not cause cloudiness or stickiness on the surface. The curable composition can also provide a cured product having excellent transparency, moisture resistance, mechanical properties and crack resistance, and thus can be applied to various electronic components, for example, to exhibit excellent long-term reliability.
Description
본 출원은, 경화성 조성물 및 그 용도에 관한 것이다.The present application relates to curable compositions and uses thereof.
LED(Light Emitting Diode)는 표시 장치의 광원이나 조명 등 다양한 분야에서 활용되고 있는 소자이다. LED (Light Emitting Diode) is a device used in various fields such as a light source of a display device and illumination.
LED 봉지재로서, 접착성이 높고 역학적인 내구성이 우수한 에폭시 수지가 폭넓게 이용되고 있다. 그러나, 에폭시 수지는 청색 내지 자외선 영역의 광에 대한 투과율이 낮고, 또한 내열성과 내광성이 떨어지는 문제점이 있다. 이에 따라, 예를 들면, 특허문헌 1 내지 3 등에서는, 상기와 같은 문제점의 개량하기 위한 기술을 제안하고 있다. 그러나, 상기 문헌에서 개시하는 봉지재는, 내열성 및 내광성이 충분하지 못하다.As an LED encapsulant, epoxy resin having high adhesiveness and excellent durability is widely used. However, the epoxy resin has a low transmittance to light in the range of blue to ultraviolet rays, and has a problem in that heat resistance and light resistance are inferior. Accordingly, for example, Patent Documents 1 to 3 propose a technique for improving the above problems. However, the encapsulant disclosed in the above document has insufficient heat resistance and light resistance.
저파장 영역에 대해 내광성 및 고온 내열성이 우수한 재료로서, 실리콘 수지가 알려져 있다.A silicone resin is known as a material having excellent light resistance and high temperature heat resistance in a low wavelength region.
본 출원은 경화성 조성물 및 그 용도를 제공한다.The present application provides curable compositions and uses thereof.
예시적인 경화성 조성물은, 수소규소화 반응(hydrosilylation), 예를 들면, 지방족 불포화 결합과 수소 원자의 반응에 의해 경화될 수 있도록 하는 성분들을 포함할 수 있다. 예를 들면, 경화성 조성물은, 지방족 불포화 결합을 포함하는 폴리오가노실록산을 포함할 수 있다.Exemplary curable compositions may include components that enable them to be cured by hydrosilylation, for example, by reaction of aliphatic unsaturated bonds with hydrogen atoms. For example, the curable composition may comprise a polyorganosiloxane comprising an aliphatic unsaturated bond.
본 명세서에서 용어 「M 단위」는, 업계에서 식 (R3SiO1 /2)로 표시되는 경우가 있는 소위 일관능성 실록산 단위를 의미하고, 용어 「D 단위」는 업계에서 식 (R2SiO2 /2)로 표시되는 경우가 있는 소위 이관능성 실록산 단위를 의미하며, 용어 「T 단위」는 업계에서 식 (RSiO3 /2)로 표시되는 경우가 있는 소위 삼관능성 실록산 단위를 의미하고, 용어 「Q 단위」는 식 (SiO4 /2)로 표시되는 경우가 있는 소위 사관능성 실록산 단위를 의미할 수 있다. 상기 R은 규소(Si)에 결합되어 있는 관능기이고, 예를 들면, 수소 원자, 에폭시기 또는 1가 탄화수소기일 수 있다.The term "M unit" in the present specification, expressions in the industry (R 3 SiO 1/2) means the so-called monofunctional siloxane units in the case represented by and, the term "D unit" is expression in the industry (R 2 SiO 2 / 2) so-called transfer means a functional siloxane units in the case represented by and, the term "T unit" means "means a so-called trifunctional siloxane unit in the case of the formula (RSiO 3/2) in the industry, and the term Q unit "may refer to so-called Tetrafunctional siloxane units in the case of the formula (4 SiO / 2). The R is a functional group bonded to silicon (Si), and may be, for example, a hydrogen atom, an epoxy group or a monovalent hydrocarbon group.
지방족 불포화 결합을 포함하는 폴리오가노실록산으로는, 예를 들면, 선형 또는 부분 가교형 폴리오가노실록산(이하, 폴리오가노실록산(A))이 사용될 수 있다. 용어 「선형 구조」는, M 단위와 D 단위로 이루어지는 폴리오가노실록산의 구조를 의미할 수 있고, 용어 「부분 가교 구조」는, D 단위로부터 유래하는 선형 구조가 충분히 길면서, T 또는 Q 단위, 예를 들면, T 단위가 부분적으로 도입되어 있는 폴리오가노실록산의 구조를 의미할 수 있다. 하나의 예시에서 부분 가교 구조의 폴리오가노실록산은, 폴리오가노실록산에 포함되는 전체 D, T 및 Q 단위에 대한 D 단위의 비율(D/(D+T+Q))이 0.7 이상인 폴리오가노실록산을 의미할 수 있다.As the polyorganosiloxane containing an aliphatic unsaturated bond, for example, a linear or partially crosslinked polyorganosiloxane (hereinafter referred to as polyorganosiloxane (A)) may be used. The term "linear structure" may mean a structure of a polyorganosiloxane composed of M units and D units, and the term "partially crosslinked structure" means a structure having a sufficiently long linear structure derived from a D unit and a T or Q unit, For example, it may mean the structure of a polyorganosiloxane in which T units are partially introduced. In one example, the polyorganosiloxane of the partially crosslinked structure is a polyorganosiloxane having a ratio of D units (D / (D + T + Q)) relative to the total D, T and Q units contained in the polyorganosiloxane of 0.7 or more It can mean.
폴리오가노실록산(A)은, 지방족 불포화 결합을 포함하는 관능기, 예를 들면, 알케닐기를 하나 이상 포함할 수 있다. 예를 들면, 폴리오가노실록산(A)은, 폴리오가노실록산(A)에 포함되는 전체 규소 원자(Si)에 대한 상기 지방족 불포화 결합을 포함하는 관능기(Ak), 예를 들면, 알케닐기의 몰비(Ak/Si)가 0.001 내지 0.3 또는 0.002 내지 0.25가 되는 양으로 상기 지방족 불포화 결합을 포함하는 관능기를 포함할 수 있다. 몰비(Ak/Si)를 0.001 또는 0.002 이상으로 조절하여, 반응성을 적절하게 유지하고, 미반응 성분이 경화물의 표면으로 배어나오는 현상을 방지할 수 있다. 또한, 몰비(Ak/Si)를 0.3 또는 0.25 이하로 조절하여, 경화물의 균열 내성을 우수하게 유지할 수 있다.The polyorganosiloxane (A) may contain at least one functional group containing an aliphatic unsaturated bond, for example, an alkenyl group. For example, the polyorganosiloxane (A) has a molar ratio of the functional group (Ak) containing the aliphatic unsaturated bond to all the silicon atoms (Si) contained in the polyorganosiloxane (A), for example, an alkenyl group Ak / Si) is 0.001 to 0.3 or 0.002 to 0.25, based on the total amount of the aliphatic unsaturated bond. By controlling the molar ratio (Ak / Si) to 0.001 or 0.002 or more, it is possible to maintain the reactivity appropriately and prevent the unreacted component from leaking to the surface of the cured product. Further, by adjusting the molar ratio (Ak / Si) to 0.3 or 0.25 or less, the crack resistance of the cured product can be kept excellent.
폴리오가노실록산(A)은, 예를 들면, 하기 화학식 1의 평균 조성식을 가질 수 있다.The polyorganosiloxane (A) may have an average composition formula of, for example, the following formula (1).
[화학식 1][Chemical Formula 1]
(R3SiO1 /2)a(R2SiO2 /2)b(R1SiO3 /2)c(SiO4 /2)d (R 3 SiO 1/2) a (R 2 SiO 2/2) b (R 1 SiO 3/2) c (SiO 4/2) d
화학식 1에서 R1 내지 R3는 각각 독립적으로 에폭시기 또는 1가 탄화수소기이되, R1 내지 R3 중 하나 또는 2개 이상은 알케닐기이며, a, b, c 및 d의 총합(a+b+c+d)은 1이고, a는, 0.00005 내지 0.3이며, b는 0.7 내지 0.9995이고, c는 0 내지 0.2이며, d는 0 내지 0.2이다. In formula (1), R 1 to R 3 are each independently an epoxy group or a monovalent hydrocarbon group, and one or more of R 1 to R 3 is an alkenyl group, and the sum (a + b + c + d) is 1, a is 0.00005 to 0.3, b is 0.7 to 0.9995, c is 0 to 0.2, and d is 0 to 0.2.
본 명세서에서 폴리오가노실록산이 특정 평균 조성식으로 표시된다는 것은, 그 폴리오가노실록산이 그 평균 조성식으로 표시되는 단일의 성분인 경우는 물론 2개 이상의 성분의 혼합물이면서 상기 혼합물 내의 성분의 조성의 평균을 취하면, 그 평균 조성식으로 나타나는 경우도 포함한다.The expression of the polyorganosiloxane in the present specification as a specific average compositional formula means that when the polyorganosiloxane is a single component represented by the average composition formula thereof, it is a mixture of two or more components and averages the composition of the components in the mixture , And the case where the average composition formula is shown.
용어 「에폭시기」는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 3개의 고리 구성 원자를 가지는 고리형 에테르(cyclic ether) 또는 상기 고리형 에테르를 포함하는 화합물로부터 유도된 1가 잔기를 의미할 수 있다. 에폭시기로는 글리시딜기, 에폭시알킬기, 글리시독시알킬기 또는 지환식 에폭시기 등이 예시될 수 있다. 상기에서 지환식 에폭시기는, 지방족 탄화수소 고리 구조를 포함하고, 상기 지방족 탄화수소 고리를 형성하고 있는 2개의 탄소 원자가 또한 에폭시기를 형성하고 있는 구조를 포함하는 화합물로부터 유래되는 1가 잔기를 의미할 수 있다. 지환식 에폭시기로는, 6개 내지 12개의 탄소 원자를 가지는 지환식 에폭시기가 예시될 수 있고, 예를 들면, 3,4-에폭시시클로헥실에틸기 등이 예시될 수 있다.The term " epoxy group ", unless otherwise specified, may mean a monovalent moiety derived from a cyclic ether having three ring constituting atoms or a compound comprising such a cyclic ether. As the epoxy group, a glycidyl group, an epoxy alkyl group, a glycidoxyalkyl group or an alicyclic epoxy group can be exemplified. The alicyclic epoxy group may be a monovalent residue derived from a compound containing a structure containing an aliphatic hydrocarbon ring structure and having a structure in which two carbon atoms forming the aliphatic hydrocarbon ring also form an epoxy group. As the alicyclic epoxy group, an alicyclic epoxy group having 6 to 12 carbon atoms can be exemplified, and for example, 3,4-epoxycyclohexylethyl group and the like can be exemplified.
용어 「1가 탄화수소기」는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 탄소와 수소로 이루어진 화합물 또는 그러한 화합물의 유도체로부터 유도되는 1가 잔기를 의미할 수 있다. 예를 들면, 1가 탄화수소기는, 1개 내지 25개의 탄소 원자를 포함할 수 있다. 1가 탄화수소기로는, 알킬기, 알케닐기, 알키닐기 또는 아릴기 등이 예시될 수 있다. 하나의 예시에서 상기 화학식 1의 1가 탄화수소기는 아릴기가 제외된 1가 탄화수소기 중에서 선택될 수 있다.The term " monovalent hydrocarbon group " may mean a monovalent residue derived from a compound consisting of carbon and hydrogen or a derivative of such a compound, unless otherwise specified. For example, the monovalent hydrocarbon group may contain from 1 to 25 carbon atoms. As the monovalent hydrocarbon group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group can be exemplified. In one example, the monovalent hydrocarbon group of the above formula (1) may be selected from monovalent hydrocarbon groups excluding an aryl group.
용어 「알킬기」는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 의미할 수 있다. 상기 알킬기는 직쇄형, 분지쇄형 또는 고리형일 수 있다. 또한, 상기 알킬기는 임의적으로 하나 이상의 치환기로 치환되어 있을 수 있다.The term "alkyl group", unless otherwise specified, may mean an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 16 carbon atoms, 1 to 12 carbon atoms, 1 to 8 carbon atoms, or 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group may be linear, branched or cyclic. In addition, the alkyl group may be optionally substituted with one or more substituents.
용어 「알케닐기」는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 탄소수 2 내지 20, 탄소수 2 내지 16, 탄소수 2 내지 12, 탄소수 2 내지 8 또는 탄소수 2 내지 4의 알케닐기를 의미할 수 있다. 상기 알케닐기는 직쇄형, 분지쇄형 또는 고리형일 수 있고, 임의적으로 하나 이상의 치환기로 치환되어 있을 수 있다.The term "alkenyl group", unless otherwise specified, may mean an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, 2 to 16 carbon atoms, 2 to 12 carbon atoms, 2 to 8 carbon atoms, or 2 to 4 carbon atoms. The alkenyl group may be linear, branched or cyclic and may optionally be substituted with one or more substituents.
용어 「알키닐기」는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 탄소수 2 내지 20, 탄소수 2 내지 16, 탄소수 2 내지 12, 탄소수 2 내지 8 또는 탄소수 2 내지 4의 알키닐기를 의미할 수 있다. 상기 알키닐기는 직쇄형, 분지쇄형 또는 고리형일 수 있고, 임의적으로 하나 이상의 치환기로 치환되어 있을 수 있다.The term "alkynyl group", unless otherwise specified, may mean an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, 2 to 16 carbon atoms, 2 to 12 carbon atoms, 2 to 8 carbon atoms, or 2 to 4 carbon atoms. The alkynyl group may be linear, branched or cyclic and may optionally be substituted with one or more substituents.
용어 「아릴기」는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 벤젠 고리 또는 2개 이상의 벤젠 고리가 축합 또는 결합된 구조를 포함하는 화합물 또는 그 유도체로부터 유래하는 1가 잔기를 의미할 수 있다. 아릴기의 범위에는 통상적으로 아릴기로 호칭되는 관능기는 물론 소위 아르알킬기(aralkyl group) 또는 아릴알킬기 등도 포함될 수 있다. 아릴기는, 예를 들면, 탄소수 6 내지 25, 탄소수 6 내지 21, 탄소수 6 내지 18 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기일 수 있다. 아릴기로는, 페닐기, 디클로로페닐, 클로로페닐, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 벤질기, 톨릴기, 크실릴기(xylyl group) 또는 나프틸기 등이 예시될 수 있다.The term "aryl group", unless otherwise specified, may mean a monovalent residue derived from a compound or derivative containing a benzene ring or a structure in which two or more benzene rings are condensed or bonded. The range of the aryl group may include a so-called aralkyl group or an arylalkyl group as well as a functional group ordinarily called an aryl group. The aryl group may be, for example, an aryl group having 6 to 25 carbon atoms, 6 to 21 carbon atoms, 6 to 18 carbon atoms, or 6 to 12 carbon atoms. Examples of the aryl group include a phenyl group, dichlorophenyl, chlorophenyl, phenylethyl, phenylpropyl, benzyl, tolyl, xylyl group or naphthyl group.
에폭시기 또는 1가 탄화수소기에 임의적으로 치환되어 있을 수 있는 치환기로는, 염소 또는 불소 등의 할로겐, 글리시딜기, 에폭시알킬기, 글리시독시알킬기 또는 지환식 에폭시기 등의 에폭시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 티올기 또는 1가 탄화수소기 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Examples of the substituent which may optionally be substituted with an epoxy group or monovalent hydrocarbon group include halogen such as chlorine or fluorine, epoxy group such as glycidyl group, epoxy alkyl group, glycidoxyalkyl group or alicyclic epoxy group, acryloyl group, methacryloyl group An isocyanate group, a thiol group, or a monovalent hydrocarbon group, but the present invention is not limited thereto.
화학식 1에서 R1 내지 R3 중 하나 또는 2개 이상은 알케닐기이며, 예를 들면, 상기 기술한 몰비(Ak/Si)를 만족하는 범위 내에서 알케닐기가 존재할 수 있다. 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 알케닐기는 R3의 위치에 존재할 수 있다.In formula (1), at least one of R 1 to R 3 is an alkenyl group, and for example, an alkenyl group may be present within a range satisfying the above-mentioned molar ratio (Ak / Si). For example, an alkenyl group may be present at the position of R < 3 > although not particularly limited.
화학식 1의 평균 조성식에서 a, b, c 및 d는 폴리오가노실록산(A)의 각 실록산 단위의 몰 비율을 나타낸다. 그 총합(a+b+c+d)을 1로 환산하는 경우, a는 0.00005 내지 0.3이고, b는 0.7 내지 0.9995이며, c는 0 내지 0.2 또는 0을 초과하고, 0.2 이하인 수이고, d는 0 내지 0.2일 수 있다.A, b, c and d represent molar ratios of the respective siloxane units of the polyorganosiloxane (A). A is in the range of 0.00005 to 0.3, b is in the range of 0.7 to 0.9995, c is in the range of 0 to 0.2 or more than 0 and not more than 0.2, and d is 0 to 0.2.
화학식 1에서 각 실록산 단위는 예를 들면, (c+d)/(a+b+c+d)가 0 내지 0.2가 되도록 존재할 수 있다. 또한, 폴리오가노실록산(A)이 부분 가교형이라면, b/(b+c+d)는 0.7을 초과하고, 1 미만일 수 있다. 부분 가교 구조라면, b/(b+c+d)는 0.7 내지 0.97 또는 0.65 내지 0.97 일 수 있다. 실록산 단위의 비율을 이와 같이 조절하여 적용 용도에 따라서 적합한 물성을 확보할 수 있다. Each siloxane unit in formula (1) may be present, for example, such that (c + d) / (a + b + c + d) is from 0 to 0.2. Further, when the polyorganosiloxane (A) is a partially crosslinked type, b / (b + c + d) may be more than 0.7 and less than 1. If it is a partially crosslinked structure, b / (b + c + d) may be 0.7 to 0.97 or 0.65 to 0.97. By controlling the ratio of the siloxane unit in this manner, appropriate physical properties can be secured according to the application.
경화성 조성물에서 폴리오가노실록산(A)은, 예를 들면, 고리형 폴리오가노실록산을 포함하는 혼합물의 개환 중합 반응물에 포함되어 있을 수 있다. 상기 반응물은, 예를 들면, 중량평균분자량(Mw)이 800 이하, 750 이하 또는 700 이하인 고리형 화합물, 예를 들면, 고리형 폴리오가노실록산을 포함하되, 그 비율이 7 중량% 이하, 5 중량% 이하 또는 3 중량% 이하일 수 있다. 상기 고리형 화합물의 비율의 하한은, 예를 들면, 0 중량% 또는 1 중량%일 수 있다. 상기 비율로의 조절을 통해 장기 신뢰성 및 균열 내성이 우수한 경화물의 제공이 가능할 수 있다. 용어 「중량평균분자량」은 GPC(Gel Permeation Chromatograph)로 측정된 표준 폴리스티렌에 대한 환산 수치를 의미할 수 있다. 특별히 달리 규정하지 않는 한, 용어 「분자량」은 중량평균분자량을 의미할 수 있다. In the curable composition, the polyorganosiloxane (A) may be included in the ring-opening polymerization reaction of a mixture containing, for example, a cyclic polyorganosiloxane. The reactant includes, for example, a cyclic compound having a weight average molecular weight (Mw) of 800 or less, 750 or less or 700 or less, for example, a cyclic polyorganosiloxane, the proportion being 7 wt% Or less or 3 wt% or less. The lower limit of the proportion of the cyclic compound may be, for example, 0% by weight or 1% by weight. It is possible to provide a cured product having excellent long-term reliability and resistance to cracking by controlling the ratio. The term " weight average molecular weight " may refer to a conversion value for standard polystyrene measured by Gel Permeation Chromatograph (GPC). Unless otherwise specified, the term " molecular weight " can mean weight average molecular weight.
폴리오가노실록산(A) 또는 그를 포함하는 반응물은, 1H NMR로 구해지는 스펙트럼에서 규소 원자에 결합된 알콕시기로부터 유래하는 피크의 면적이 규소에 결합된 지방족 불포화 결합 함유 관능기, 예를 들면, 비닐기와 같은 알케닐기로부터 유래하는 피크의 면적에 대해 0.01 이하, 0.005 이하 또는 0일 수 있다. 상기 범위에서 적절한 점도 특성을 나타내면서, 다른 물성도 우수하게 유지될 수 있다. The polyorganosiloxane (A) or the reactant containing the same is preferably a polyorganosiloxane having an aliphatic unsaturated bond-containing functional group in which the peak area derived from an alkoxy group bonded to a silicon atom in the spectrum obtained by 1 H NMR is bonded to silicon, May be 0.01 or less, 0.005 or less, or 0 based on the area of a peak derived from an alkenyl group such as a vinyl group. Other properties may be maintained while exhibiting appropriate viscosity properties in the above range.
폴리오가노실록산(A) 또는 그를 포함하는 반응물은 KOH 적정에 의해 구해지는 산가(acid value)가 0.02 이하, 0.01 이하 또는 0일 수 있다. 상기 범위에서 적절한 점도 특성을 나타내면서, 다른 물성도 우수하게 유지될 수 있다. The polyorganosiloxane (A) or the reactant containing it may have an acid value of less than 0.02, less than 0.01 or 0, as determined by KOH titration. Other properties may be maintained while exhibiting appropriate viscosity properties in the above range.
폴리오가노실록산(A) 또는 그를 포함하는 중합 반응물은, 25℃에서의 점도가 5 cp 이상, 50 cp 이상, 500 cP 이상, 1,000 cP 이상 이상일 수 있다. 이러한 범위에서 가공성 및 경도 특성 등이 적절하게 유지될 수 있다. 상기 점도의 상한은 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들면, 상기 점도는, 500,000 cP 이하, 400,000 cP 이하, 300,000 cP 이하, 200,000 cP 이하, 100,000 cP 이하, 80,000 cP 이하, 70,000 cP 이하 또는 65,000 cP 이하일 수 있다.The polyorganosiloxane (A) or the polymerization reaction product containing it may have a viscosity of at least 5 cp, at least 50 cp, at least 500 cP, at least 1,000 cP at 25 ° C. In this range, processability and hardness characteristics and the like can be appropriately maintained. For example, the viscosity is not more than 500,000 cP, not more than 400,000 cP, not more than 300,000 cP, not more than 200,000 cP, not more than 100,000 cP, not more than 80,000 cP, not more than 70,000 cP, or not more than 65,000 cP .
폴리오가노실록산(A) 또는 그를 포함하는 중합 반응물은, 분자량이 500 내지 50,000 또는 1,500 내지 30,000일 수 있다. 이러한 범위에서 성형성, 경도 및 강도 특성 등이 적절하게 유지될 수 있다. The polyorganosiloxane (A) or the polymerization reactant containing it may have a molecular weight of 500 to 50,000 or 1,500 to 30,000. Moldability, hardness and strength characteristics and the like can appropriately be maintained in this range.
폴리오가노실록산(A)을 포함하는 중합 반응물은, 예를 들면, 고리형 폴리오가노실록산을 포함하는 혼합물의 개환 중합 반응물일 수 있다. 폴리오가노실록산(A)이 부분 가교 구조인 경우에는, 상기 혼합물은, 예를 들면, 케이지 구조 또는 부분 케이지 구조를 가지거나, 또는 T 단위를 포함하는 폴리오가노실록산을 추가로 포함할 수 있다. 고리형 폴리오가노실록산 화합물로는, 예를 들면, 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 사용할 수 있다.The polymerization reactant comprising the polyorganosiloxane (A) may be, for example, a ring-opening polymerization reaction of a mixture comprising a cyclic polyorganosiloxane. When the polyorganosiloxane (A) is a partially crosslinked structure, the mixture may further include, for example, a polyorganosiloxane having a cage structure or a partial cage structure or containing T units. As the cyclic polyorganosiloxane compound, for example, a compound represented by the following formula (3) can be used.
[화학식 3](3)
화학식 3에서 Rd 및 Re는 각각 독립적으로 에폭시기 또는 1가 탄화수소기이고, o는 3 내지 6이다.In the formula (3), R d and R e are each independently an epoxy group or a monovalent hydrocarbon group, and o is 3 to 6.
고리형 폴리오가노실록산은, 또한 하기 화학식 4의 화합물 및 하기 화학식 5의 화합물을 포함할 수도 있다.The cyclic polyorganosiloxane may also include a compound of the following formula (4) and a compound of the following formula (5).
[화학식 4][Chemical Formula 4]
[화학식 5][Chemical Formula 5]
화학식 4 및 5에서 Rf 및 Rg는 에폭시기 또는 알킬기이고, Rh 및 Ri는 에폭시기 또는 1가 탄화수소기이며, p는 3 내지 6의 수이고, q는 3 내지 6의 수이다.In the formulas (4) and (5), R f and R g are epoxy groups or alkyl groups, R h and R i are epoxy groups or monovalent hydrocarbon groups, p is a number of 3 to 6, and q is a number of 3 to 6.
화학식 3 내지 5에서, Rf 내지 Ri의 구체적인 종류나 o, p 및 q의 구체적인 수치, 그리고 혼합물 내에서의 각 성분의 비율은 목적하는 폴리오가노실록산(A)의 구조에 의해서 정해질 수 있다.In the formulas (3) to (5), the specific types of R f to R i , the specific values of o, p and q, and the ratio of each component in the mixture can be determined by the structure of the desired polyorganosiloxane (A) .
폴리오가노실록산(A)이 부분 가교 구조인 경우에 상기 혼합물은, 케이지 구조의 폴리오가노실록산으로서, 예를 들면, 하기 화학식 6의 평균 조성식을 가지는 화합물 또는 부분 케이지 구조를 가지거나, T 단위를 포함하는 폴리오가노실록산으로서 하기 화학식 7의 평균 조성식을 가지는 화합물을 추가로 포함할 수 있다.When the polyorganosiloxane (A) is a partially crosslinked structure, the mixture is a cage-structured polyorganosiloxane having, for example, a compound having an average composition formula of the following formula (6) or a partial cage structure, As the polyorganosiloxane, a compound having an average composition formula of the following formula (7).
[화학식 6][Chemical Formula 6]
[RjSiO3 /2][R j SiO 3/2]
[화학식 7](7)
[RkRl 2SiO1 /2] p[RmSiO3 /2]q [R k R l 2 SiO 1 /2] p [R m SiO 3/2] q
화학식 6 및 7에서 Rj, Rk 및 Rm은 각각 독립적으로 에폭시기 또는 1가 탄화수소기이고, Rl은 에폭시기 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기이며, p는 1 내지 3이고, q는 1 내지 10 이다. Wherein R 1 , R k and R m are each independently an epoxy group or a monovalent hydrocarbon group, R 1 is an epoxy group or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, p is 1 to 3, q is an integer of 1 to 10, to be.
화학식 6 및 7에서, Rj 내지 Rm의 구체적인 종류나 p 및 q의 구체적인 수치, 그리고 혼합물 내에서의 각 성분의 비율은 목적하는 폴리오가노실록산(A)의 구조에 의해서 정해질 수 있다.In the formulas (6) and (7), the specific kind of R j to R m , the specific values of p and q, and the ratio of each component in the mixture can be determined by the structure of the desired polyorganosiloxane (A).
고리형 폴리오가노실록산을 케이지 구조 및/또는 부분 케이지 구조를 가지거나, T 단위를 포함하는 폴리오가노실록산과 반응시키면, 목적하는 부분 가교 구조를 가지는 폴리오가노실록산을 충분한 분자량으로 합성할 수 있다. 또한, 상기 방식에 의하면 폴리오가노실록산 또는 그를 포함하는 중합 반응물 내에서 규소 원자에 결합하고 있는 알콕시기나 히드록시기와 같은 관능기를 최소화하여, 우수한 물성을 가지는 목적물을 제조할 수 있다.When the cyclic polyorganosiloxane has a cage structure and / or a partial cage structure or is reacted with a polyorganosiloxane containing T units, the polyorganosiloxane having a desired partial crosslinking structure can be synthesized with a sufficient molecular weight. In addition, according to the above method, an object having excellent physical properties can be produced by minimizing a functional group such as an alkoxy group or a hydroxy group bonded to a silicon atom in a polyorganosiloxane or a polymerization reaction containing the same.
하나의 예시에서 상기 혼합물은 하기 화학식 8로 표시되는 화합물을 추가로 포함할 수 있다.In one example, the mixture may further comprise a compound represented by the following formula (8).
[화학식 8][Chemical Formula 8]
(RnRo 2Si)2O(R n R o 2 Si) 2 O
화학식 8에서, Rn 및 Ro는 에폭시기 또는 1가 탄화수소기이다. In the general formula (8), R n and R o are an epoxy group or a monovalent hydrocarbon group.
화학식 8에서 1가 탄화수소기의 구체적인 종류나 혼합물 내에서의 배합 비율은 목적하는 폴리오가노실록산(A)에 따라서 정해질 수 있다.The specific kind of the monovalent hydrocarbon group in formula (8) or the blending ratio in the mixture may be determined according to the desired polyorganosiloxane (A).
상기 혼합물 내의 각 성분의 반응은, 적절한 촉매의 존재 하에서 수행될 수 있다. 따라서, 상기 혼합물은 촉매를 추가로 포함할 수 있다.The reaction of each component in the mixture can be carried out in the presence of a suitable catalyst. Thus, the mixture may further comprise a catalyst.
혼합물의 포함될 수 있는 촉매로는, 예를 들면, 염기 촉매를 들 수 있다. 적절한 염기 촉매로는, KOH, NaOH 또는 CsOH 등과 같은 금속 수산화물; 알칼리 금속 화합물과 실록산을 포함하는 금속 실라롤레이트(metal silanolate) 또는 테트라메틸암모늄 히드록시드(tetramethylammonium hydroxide), 테트라에틸암모늄 히드록시드(tetraethylammonium hydroxide) 또는 테트라프로필암모늄 히드록시드(tetrapropylammonium hydroxide) 등과 같은 4급 암모늄 화합물 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Examples of the catalyst that can be included in the mixture include a base catalyst. Suitable base catalysts include metal hydroxides such as KOH, NaOH or CsOH; Metal silanolates or tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide or tetrapropylammonium hydroxide, which contain an alkali metal compound and a siloxane, and the like, Quaternary ammonium compounds, and the like, but the present invention is not limited thereto.
혼합물 내에서 상기 촉매의 비율은 목적하는 반응성 등을 고려하여 적절히 선택될 수 있고, 예를 들면, 혼합물 내의 반응물의 합계 중량 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 30 중량부 또는 0.03 중량부 내지 5 중량부의 비율로 포함될 수 있다. 본 명세서에서 특별히 달리 규정하지 않는 한, 단위 중량부는 각 성분간의 중량의 비율을 의미한다.The proportion of the catalyst in the mixture may be appropriately selected in consideration of the desired reactivity and the like, for example, 0.01 to 30 parts by weight or 0.03 to 5 parts by weight relative to 100 parts by weight of the total weight of the reactants in the mixture Can be included. Unless specifically stated otherwise herein, unit weight refers to the ratio of weight between components.
하나의 예시에서, 상기 혼합물의 반응은, 용매를 사용하지 않는 무용매 하 또는 적절한 용매의 존재 하에 수행될 수 있다. 용매로는, 상기 혼합물 내의 반응물, 즉 디실록산 또는 폴리실록산 등과 촉매가 적절히 혼합될 수 있고, 반응성에 큰 지장을 주지 않는 것이라면 어떠한 종류도 사용될 수 있다. 용매로는, n-펜탄, i-펜탄, n-헥산, i-헥산, 2,2,4-트리메틸펜탄, 시클로헥산 또는 메틸시클로헥산 등의 지방족 탄화수소계 용매; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 트리메틸벤젠, 에틸 벤젠 또는 메틸에틸 벤젠 등의 방향족계 용매, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 메틸 n-프로필 케톤, 메틸 n-부틸 케톤, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논 또는 아세틸아세톤 등의 케톤계 용매; 테트라히드로푸란, 2-메틸 테트라히드로푸란, 에틸 에테르, n-프로필 에테르, 이소프로필 에테르, 디글라임, 디옥신, 디메틸 디옥신, 에틸렌글리콜 모노 메틸 에테르, 에틸렌글리콜 디메틸 에테르, 에틸렌글리콜디에틸 에테르, 프로필렌글리콜 모노 메틸 에테르 또는 프로필렌글리콜 디메틸 에테르 등의 에테르계 용매; 디에틸 카보네이트, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 에틸 락테이트, 에틸렌글리콜 모노 메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노 메틸 에테르 아세테이트 또는 에틸렌글리콜 디아세테이트 등의 에스테르계 용매; N-메틸 피롤리돈, 포름아미드, N-메틸 포름아미드, N-에틸 포름아미드, N,N-디메틸 아세트아미드 또는 N,N-디에틸아세트아미드 등의 아미드계 용매가 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one example, the reaction of the mixture can be carried out in the absence of a solvent or in the presence of a suitable solvent. As the solvent, any kind can be used as long as the reactants in the mixture, that is, the disiloxane or the polysiloxane, etc., and the catalyst can be properly mixed and the reactivity is not adversely affected. Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbon solvents such as n-pentane, i-pentane, n-hexane, i-hexane, 2,2,4-trimethylpentane, cyclohexane or methylcyclohexane; Aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, trimethylbenzene, ethylbenzene or methylethylbenzene, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, methyl n-propyl ketone, methyl n-butyl ketone, Ketone solvents such as methylcyclohexanone and acetylacetone; Propyl ether, isopropyl ether, diglyme, dioxine, dimethyl dioxin, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, Ether type solvents such as propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol dimethyl ether; Ester solvents such as diethyl carbonate, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate or ethylene glycol diacetate; Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, formamide, N-methylformamide, N-ethylformamide, N, N-dimethylacetamide or N, N-diethylacetamide can be exemplified. But is not limited to.
혼합물의 반응, 예를 들면, 개환 중합 반응은, 예를 들면, 촉매를 첨가하고 수행하며, 예를 들면, 0℃ 내지 150℃ 또는 30℃ 내지 130℃의 범위 내의 반응 온도에서 수행될 수 있다. 또한, 상기 반응 시간은 예를 들면, 1시간 내지 3일의 범위 내에서 조절될 수 있다.The reaction of the mixture, for example, the ring opening polymerization reaction, can be carried out, for example, by adding and carrying out a catalyst, for example, at a reaction temperature in the range of 0 ° C to 150 ° C or 30 ° C to 130 ° C. In addition, the reaction time can be adjusted within a range of, for example, 1 hour to 3 days.
경화성 조성물은, 가교형 폴리오가노실록산(이하, 폴리오가노실록산(B))을 추가로 포함할 수 있다. 용어 「가교형 폴리오가노실록산」은, T 또는 Q 단위를 필수적으로 포함하는 폴리오가노실록산을 의미할 수 있다. 예를 들면, 가교형 폴리오가노실록산은 Q 단위를 필수적으로 포함할 수 있다.The curable composition may further include a crosslinkable polyorganosiloxane (hereinafter, referred to as polyorganosiloxane (B)). The term " cross-linked polyorganosiloxane " may refer to a polyorganosiloxane essentially comprising T or Q units. For example, the crosslinking polyorganosiloxane may essentially comprise a Q unit.
가교형 폴리오가노실록산은, 예를 들면, 하기 화학식 2의 평균 조성식을 가질 수 있다. The crosslinkable polyorganosiloxane may have an average composition formula of, for example, the following formula (2).
[화학식 2](2)
(R4SiO1 /2)e(R5SiO2 /2)f(R6SiO3 /2)g(SiO4 /2)h(OR)x (R 4 SiO 1/2) e (R 5 SiO 2/2) f (R 6 SiO 3/2) g (SiO 4/2) h (OR) x
상기 화학식 2에서 R4 내지 R6는 각각 독립적으로 에폭시기 또는 1가 탄화수소기이되, R4 내지 R6 중 적어도 하나는 알케닐기이며, R은 수소 또는 1가 탄화수소기이고, e, f, g 및 h의 총합(e+f+g+h)은 1이며, e는 0.2 내지 0.8이고, f는 0 내지 0.3이며, g는 0 내지 0.3이고, h는 0.2 내지 0.8이며, x는 0 또는 양의 수이고, h/(g+h)는 0.7 이상이며, x/(g+h)는 0.2 이하 또는 0.15 이하이다.Wherein R 4 to R 6 are each independently an epoxy group or a monovalent hydrocarbon group, at least one of R 4 to R 6 is an alkenyl group, R is hydrogen or a monovalent hydrocarbon group, e, f, g and h is from 0 to 0.3, h is from 0.2 to 0.8, x is 0 or a positive (= 0) H / (g + h) is 0.7 or more, and x / (g + h) is 0.2 or less or 0.15 or less.
화학식 2에서 R4 내지 R6 중 하나 또는 2개 이상은 알케닐기일 수 있다. 하나의 예시에서 알케닐기는, 폴리오가노실록산(B)에 포함되는 전체 규소 원자(Si)에 결합된 관능기의 몰수(R)에 대한 상기 알케닐기의 몰수(Ak)의 비율(Ak/R)이 0.01 내지 0.7 또는 0.01 내지 0.5가 되도록 하는 양으로 존재할 수 있다. 몰비(Ak/R)를 0.01 이상으로 조절하여, 반응성을 적절하게 유지하고, 미반응 성분이 경화물의 표면으로 배어나오는 현상을 방지할 수 있다. 또한, 몰비(Ak/R)를 0.7 이하 또는 0.5 이하로 조절하여, 경화물의 경도, 균열 내성 및 내열충격성 등을 우수하게 유지할 수 있다. In formula (2), at least one of R 4 to R 6 may be an alkenyl group. In one example, the alkenyl group has a ratio (Ak / R) of the molar number (Ak) of the alkenyl group to the molar number (R) of the functional group bonded to the total silicon atoms (Si) included in the polyorganosiloxane (B) 0.01 to 0.7 or 0.01 to 0.5. By adjusting the molar ratio (Ak / R) to 0.01 or more, it is possible to maintain the reactivity appropriately and prevent the unreacted component from leaking out to the surface of the cured product. Further, by controlling the molar ratio (Ak / R) to 0.7 or less or 0.5 or less, the hardness, crack resistance and thermal shock resistance of the cured product can be kept excellent.
화학식 2의 평균 조성식에서 e, f, g 및 h는 각 실록산 단위의 몰 비율을 나타내고, 그 총합을 1로 환산하면, e는 0.2 내지 0.8이며, f는 0 내지 0.3이고, g는 0 내지 0.3이며, h는 0.2 내지 0.8이다. 경화물의 강도, 균열 내성 및 내열충격성을 극대화하기 위하여, 상기에서 (e+f)/(e+f+g+h)는 0.2 내지 0.7이 되도록 조절될 수 있다. 또한, 화학식 2에서 h(h+g)는 0.7 이상이 되도록 조절될 수 있다. 상기에서 h/(h+g)의 상한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 1.0일 수 있다E, f, g and h represent molar ratios of the respective siloxane units. When the sum is converted into 1, e is 0.2 to 0.8, f is 0 to 0.3, g is 0 to 0.3 And h is 0.2 to 0.8. (E + f) / (e + f + g + h) can be adjusted to be 0.2 to 0.7 in order to maximize the strength, crack resistance and thermal shock resistance of the cured product. In the formula (2), h (h + g) can be adjusted to be 0.7 or more. The upper limit of h / (h + g) is not particularly limited, and may be, for example, 1.0
화학식 2에서 x는, 폴리오가노실록산에 포함되어 있는 축합성 관능기, 예를 들면, 히드록시기 또는 알콕시기의 양을 나타낸다. 화학식 2에서 x는 0 또는 양의 수이며, 예를 들면, 상기 폴리오가노실록산(B)의 T 단위 및 Q 단위에 속하는 전체 규소 원자의 몰수(Si) 및 상기 폴리오가노실록산(B)에 포함되는 전체 축합성 관능기의 몰수(OR)의 비율(OR/Si = x/(h+g))이 0.2 이하, 0.15 이하 또는 0.12 이하이 되는 범위에서 결정될 수 있다. 폴리오가노실록산(B)에 대한 Si NMR 스펙트럼에서 T3 및 Q4 단위의 규소 원자로부터 유래하는 피크의 면적(A) 대비 상기 스펙트럼에서 히드록시기 또는 알콕시기 등의 축합성 관능기로부터 유래하는 피크인 T2, Q3 및 Q2 면적(B)의 비율(100 × B/A)은 20% 이하 또는 15 % 이하일 수 있다. 이를 통하여, 경화성 조성물의 각 성분간의 상용성을 유지하여, 경화된 후에 투명도가 우수한 경화물을 형성할 수 있고, 또한 상기 경화물의 내습성 등도 우수하게 유지할 수 있으며, 상기 경화물이 예를 들어 반도체 소자 등에 적용되면, 소자의 장기 신뢰성도 확보할 수 있다.In Formula (2), x represents the amount of a condensing functional group, for example, a hydroxyl group or an alkoxy group contained in the polyorganosiloxane. In formula (2), x is 0 or a positive number. For example, the number of moles (Si) of the total silicon atoms belonging to the T unit and the Q unit of the polyorganosiloxane (B) (OR / Si = x / (h + g)) of the number of moles (OR) of the all-axis synthetic functional groups is 0.2 or less, 0.15 or less or 0.12 or less. The peaks T2 and Q3 derived from a condensing functional group such as a hydroxyl group or an alkoxy group in the above-mentioned spectrum, relative to the area (A) of the peak derived from the silicon atom of T3 and Q4 units in the Si NMR spectrum of the polyorganosiloxane (B) The ratio of the Q2 area (B) (100 x B / A) may be 20% or less or 15% or less. Through this, it is possible to maintain the compatibility of each component of the curable composition, to form a cured product having excellent transparency after curing, and to maintain excellent moisture resistance of the cured product, and the cured product is, for example, When applied to an element or the like, long-term reliability of the element can be secured.
폴리오가노실록산(B)은, 25℃에서의 점도가 5,000 cP 이상 또는 1,000,000 cP 이상일 수 있고, 이에 따라 경화 전의 가공성과 경화 후의 경도 특성 등의 적절하게 유지할 수 있다.The polyorganosiloxane (B) may have a viscosity of 5,000 cP or more, or 1,000,000 cP or more at 25 占 폚, so that the workability before curing and the hardness characteristics after curing can be appropriately maintained.
또한, 폴리오가노실록산(B)은, 예를 들면, 800 내지 20,000 또는 800 내지 10,000의 분자량을 가질 수 있다. 분자량을 800 이상으로 조절하여, 경화 전의 성형성이나, 경화 후의 강도를 효과적으로 유지될 수 있고, 분자량을 20,000 또는 10,000 이하로 조절하여, 점도 등을 적절한 수준으로 유지할 수 있다. Further, the polyorganosiloxane (B) may have a molecular weight of 800 to 20,000 or 800 to 10,000, for example. By controlling the molecular weight to 800 or more, the moldability before curing and the strength after curing can be effectively maintained, and the viscosity and the like can be maintained at an appropriate level by controlling the molecular weight to 20,000 or 10,000 or less.
축합성 관능기를 상기 비율로 포함하는 폴리오가노실록산(B)은, 예를 들면, 산 촉매 하의 적정 조건에서 가수분해 축합 반응을 수행하거나, 및/또는 폴리오가노실록산(B)의 합성 후에 추가적인 농축 반응을 수행하여 제조할 수 있다.The polyorganosiloxane (B) containing the condensing functional group in the above ratio can be obtained, for example, by carrying out a hydrolysis and condensation reaction under appropriate conditions under acid catalyst and / or by performing an additional condensation reaction after synthesis of the polyorganosiloxane (B) . ≪ / RTI >
폴리오가노실록산(B)은, 예를 들면, 폴리오가노실록산(A) 100 중량부 대비 30 중량부 내지 1000 중량부, 30 중량부 내지 900 중량부 30 중량부 내지 800 중량부, 30 중량부 내지 700 중량부, 30 중량부 내지 600 중량부, 30 중량부 내지 500 중량부, 30 중량부 내지 400 중량부, 30 중량부 내지 300 중량부, 30 중량부 내지 200 중량부, 30 중량부 내지 100 중량부, 30 중량부 내지 90 중량부, 30 중량부 내지 80 중량부 또는 30 중량부 내지 70 중량부 또는 30 중량부 내지 60 중량부의 비율로 포함될 수 있다. 본 명세서에서 단위 중량부는 특별히 달리 규정하지 않는 한, 각 성분간의 중량의 비율을 의미한다. 폴리오가노실록산(B)의 비율을 30 중량부 이상으로 하여, 경화된 후에 충분한 기계적 특성을 확보할 수 있고, 100 중량부 이하로 하여 내크랙성 등을 우수하게 유지할 수 있다. The polyorganosiloxane (B) is, for example, 30 parts by weight to 1000 parts by weight, 30 parts by weight to 900 parts by weight, 30 parts by weight to 800 parts by weight, 30 parts by weight to 700 parts by weight, 30 parts by weight to 600 parts by weight, 30 parts by weight to 500 parts by weight, 30 parts by weight to 400 parts by weight, 30 parts by weight to 300 parts by weight, 30 parts by weight to 200 parts by weight, 30 parts by weight to 100 parts by weight , 30 parts by weight to 90 parts by weight, 30 parts by weight to 80 parts by weight or 30 parts by weight to 70 parts by weight or 30 parts by weight to 60 parts by weight. Unless otherwise specified, the unit weight portion in the present specification means the weight ratio between the respective components. When the proportion of the polyorganosiloxane (B) is 30 parts by weight or more, sufficient mechanical properties can be ensured after curing, and 100 parts by weight or less of the polyorganosiloxane (B) can maintain excellent crack resistance and the like.
경화성 조성물은, 또한 규소 원자에 결합하고 있는 수소 원자를 포함하는 규소 화합물(규소 화합물(C))을 추가로 포함할 수 있다. 규소 화합물(C)은, 수소 원자를 1개 이상 또는 2개 이상 가질 수 있다.The curable composition may further include a silicon compound (silicon compound (C)) containing a hydrogen atom bonded to a silicon atom. The silicon compound (C) may have one or more hydrogen atoms or two or more hydrogen atoms.
규소 화합물(C)은, 지방족 불포화 결합 함유 관능기와 반응하여 조성물을 가교시키는 가교제로서 작용할 수 있다. 예를 들면, 규소 화합물(C)의 수소 원자 및 폴리오가노실록산(A) 또는 폴리오가노실록산(B)의 알케닐기가 부가 반응하여, 가교 및 경화가 진행될 수 있다. The silicon compound (C) can act as a crosslinking agent for crosslinking the composition by reacting with an aliphatic unsaturated bond-containing functional group. For example, the hydrogen atom of the silicon compound (C) and the alkenyl group of the polyorganosiloxane (A) or the polyorganosiloxane (B) may undergo addition reaction to proceed crosslinking and curing.
규소 화합물(C)로는, 분자 중에 규소 원자에 결합한 수소 원자(Si-H)를 포함하는 것이라면, 다양한 종류가 사용될 수 있다. 규소 화합물(C)은, 예를 들면, 선형, 분지형, 고리형 또는 가교형의 폴리오가노실록산일 수 있다. 규소 화합물(C)은 규소 원자가 2개 내지 1000개, 바람직하게는 3내지 300개인 화합물일 수 있다. As the silicon compound (C), various kinds may be used as far as they contain hydrogen atoms (Si-H) bonded to silicon atoms in the molecule. The silicon compound (C) may be, for example, a linear, branched, cyclic or crosslinked polyorganosiloxane. The silicon compound (C) may be a compound having 2 to 1000 silicon atoms, preferably 3 to 300 silicon atoms.
규소 화합물(C)로는, 예를 들면, 하기 화학식 9의 화합물을 사용할 수 있다.As the silicon compound (C), for example, a compound represented by the following formula (9) can be used.
[화학식 9][Chemical Formula 9]
R3SiO(HRSiO)r(R2SiO)sOSiR3 R 3 SiO (HRSiO) r (R 2 SiO) s OSiR 3
화학식 9에서 R은 각각 독립적으로 수소, 에폭시기 또는 1가의 탄화수소기이고, r는 0 내지 100의 범위 내의 수이며, s는 0 내지 100의 범위 내의 수이다. 단 상기에서 r 및 s는 동시에 0은 아니다.R in the formula (9) is independently hydrogen, an epoxy group or a monovalent hydrocarbon group, r is a number in the range of 0 to 100, and s is a number in the range of 0 to 100. However, r and s are not 0 at the same time.
하나의 예시에서 규소 화합물(C)에 포함되는 전체 규소 원자의 몰수(Si)에 대한 규소 원자 결합 수소 원자의 몰수(H)의 비율(H/Si)은 0.2 내지 0.99또는 0.3 내지 0.98일 수 있다. 몰비(H/Si)를 0.2 또는 0.3 이상으로 조절하여, 조성물의 경화성을 우수하게 유지하고, 또한, 0.99 또는 0.98 이하로 조절하여, 균열 내성 및 내열충격성 등을 우수하게 유지할 수 있다. In one example, the ratio (H / Si) of the number of moles (H) of silicon atom-bonded hydrogen atoms to the number of moles (Si) of the total silicon atoms contained in the silicon compound (C) may be 0.2 to 0.99 or 0.3 to 0.98 . It is possible to control the molar ratio (H / Si) to 0.2 or 0.3 or more to maintain excellent curability of the composition, and to adjust to 0.99 or 0.98 or less to maintain excellent crack resistance and thermal shock resistance.
규소 화합물(C)은, 25℃에서의 점도가 0.1 cP 내지 100,000 cP, 0.1 cP 내지 10,000 cP, 0.1 cP 내지 1,000 cP 또는 0.1 cP 내지 300 cP일 수 있다. 상기 점도를 가지면, 조성물의 가공성 및 경화물의 경도 특성 등의 우수하게 유지할 수 있다.The silicon compound (C) may have a viscosity of 0.1 cP to 100,000 cP, 0.1 cP to 10,000 cP, 0.1 cP to 1,000 cP or 0.1 cP to 300 cP at 25 캜. With such a viscosity, the workability of the composition and the hardness characteristics of the cured product can be kept excellent.
규소 화합물(C)은, 예를 들면, 2,000 미만, 1,000 미만 또는 800 미만의 분자량을 가질 수 있다. 분자량이 1,000 이상이면, 경화물의 강도가 떨어질 우려가 있다. 분자량의 하한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 250일 수 있다. 화합물(C)의 경우, 분자량은 중량평균분자량이거나, 혹은 화합물의 통상적인 분자량을 의미할 수 있다.The silicon compound (C) may have a molecular weight of, for example, less than 2,000, less than 1,000 or less than 800. If the molecular weight is 1,000 or more, the strength of the cured product may be lowered. The lower limit of the molecular weight is not particularly limited, and may be 250, for example. In the case of the compound (C), the molecular weight may be a weight average molecular weight or may mean a conventional molecular weight of a compound.
화합물(C)을 제조하는 방법은 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 폴리오가노실록산의 제조에 통상적으로 공지된 방식을 적용하거나, 혹은 폴리오가노실록산(A)에 준하는 방식을 적용하여 제조할 수 있다.The method for producing the compound (C) is not particularly limited, and for example, it can be prepared by applying a conventionally known method to the production of a polyorganosiloxane, or by applying a method similar to the polyorganosiloxane (A) .
규소 화합물(C)의 함량은, 경화성 조성물에 포함되는 전체 지방족 불포화 결합 함유 관능기, 예를 들면, 폴리오가노실록산(A) 및/또는 (B)에 포함되는 알케닐기와 같은 지방적 불포화 결합 함유 관능기(Ak) 전체에 대한 화합물(C)에 포함되는 규소 원자에 결합한 수소 원자(H)의 몰비(H/Ak)가 0.5 내지 3.0 또는 0.7 내지 2가 되는 범위에서 선택될 수 있다. 이러한 몰비(H/Ak)로 배합함으로써, 경화 전에 우수한 가공성과 작업성을 나타내고, 경화되어 뛰어난 균열 내성, 경도 특성, 내열 충격성 및 접착성을 나타내며, 가혹 조건에서의 백탁이나, 표면의 끈적임 등을 유발하지 않는 조성물을 제공할 수 있다The content of the silicon compound (C) is not particularly limited so long as the content of the aliphatic unsaturated bond-containing functional group contained in the curable composition, for example, the functional group containing a lipophilic unsaturated bond such as an alkenyl group contained in the polyorganosiloxane (A) and / (H / Ak) of the hydrogen atoms (H) bonded to the silicon atoms contained in the compound (C) to the total amount of the organopolysiloxane (A-Ak) is from 0.5 to 3.0 or from 0.7 to 2. By blending at such a molar ratio (H / Ak), excellent workability and workability are exhibited before curing, and the cured product exhibits excellent crack resistance, hardness characteristics, thermal shock resistance and adhesiveness and exhibits opacity and surface stickiness in harsh conditions Lt; RTI ID = 0.0 >
경화성 조성물은, 또한, 지방족 불포화 결합을 가지는 관능기, 예를 들면, 알케닐기와 에폭시기를 포함하는 폴리오가노실록산(이하, 폴리오가노실록산(D))을 추가로 포함할 수 있다. The curable composition may further contain a functional group having an aliphatic unsaturated bond, for example, a polyorganosiloxane (hereinafter referred to as a polyorganosiloxane (D)) containing an alkenyl group and an epoxy group.
폴리오가노실록산(D)은, 예를 들면, 접착력을 향상시키기 위한 접착 부여제로서 사용될 수 있다. The polyorganosiloxane (D) can be used, for example, as an adhesion-imparting agent for improving the adhesion.
하나의 예시로서, 폴리오가노실록산(D)은, 하기 화학식 10의 평균 조성식으로 표시될 수 있다.As one example, the polyorganosiloxane (D) can be represented by an average composition formula of the following formula (10).
[화학식 10][Chemical formula 10]
(R14 3SiO1 /2)a(R14 2SiO2 /2)b(R14SiO3 /2)c(SiO4 /2)d (R 14 3 SiO 1/2 ) a (R 14 2 SiO 2/2) b (R 14 SiO 3/2) c (SiO 4/2) d
화학식 14에서, R14은 각각 독립적으로 에폭시기 또는 1가 탄화수소기이되, R14 중 적어도 하나는 알케닐기이고, R14 중 적어도 하나는 에폭시기이며, (a+b+c+d)를 1로 환산한 때에 a는 0 내지 0.7이며, b는 0 내지 0.5이고, c는 0 내지 0.8이며, d는 0 내지 0.2이되, (c+d)/(a+b+c+d)는 0.2 내지 0.7이며, c/(d+d)는 0.8 이상이다.In formula (14), R 14 is each independently an epoxy group or a monovalent hydrocarbon group, at least one of R 14 is an alkenyl group, at least one of R 14 is an epoxy group, and (a + b + c + d) B is 0 to 0.5, c is 0 to 0.8, and d is 0 to 0.2, wherein (c + d) / (a + b + c + d) is 0.2 to 0.7 , and c / (d + d) is 0.8 or more.
화학식 10에서 R14 중 적어도 하나 또는 2개 이상은 알케닐기일 수 있다. 하나의 예시에서 알케닐기는, 폴리오가노실록산(D)에 포함되는 전체 규소 원자(Si)에 대한 알케닐기(Ak)의 몰비(Ak/Si)가 0.05 내지 0.35 또는 0.05 내지 0.3이 되도록 하는 양으로 존재할 수 있다. 이러한 몰비(Ak/Si)에서 다른 화합물과 우수한 반응성을 나타내고, 경화 후 실리콘 수지와 공유 결합을 형성하여 접착 강도가 우수하고, 내충격성 등의 물성이 우수한 경화물을 제공할 수 있다.At least one or two or more of R < 14 > in formula (10) may be an alkenyl group. In one example, the alkenyl group is an alkenyl group in an amount such that the molar ratio (Ak / Si) of the alkenyl group (Ak) to the total silicon atoms (Si) contained in the polyorganosiloxane (D) is 0.05 to 0.35 or 0.05 to 0.3 Can exist. It is possible to provide a cured product which exhibits excellent reactivity with other compounds at such a molar ratio (Ak / Si), forms covalent bonds with the silicone resin after curing, exhibits excellent bonding strength, and has excellent physical properties such as impact resistance.
화학식 10에서 R14 중 적어도 하나는 또한 에폭시기일 수 있다. 이에 의해서 경화물의 강도 및 내스크래치성이 적절하게 유지되고, 우수한 접착성이 발휘될 수 있다. 에폭시기는, 예를 들면, 폴리오가노실록산(D)에 포함되는 전체 규소 원자(Si)에 대한 상기 에폭시기(Ep)의 몰비(Ep/Si)가 0.1 이상 또는 0.2 이상이 되는 양으로 존재할 수 있다. 이러한 몰비(Ep/Si)에서 경화물의 가교 구조를 적절하게 유지하고, 내열성 및 접착성 등의 특성도 우수하게 유지할 수 있다. 상기 몰비(Ep/Si)의 상한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 1.0일 수 있다.At least one of R < 14 > in formula (10) may also be an epoxy group. As a result, the strength and scratch resistance of the cured product can be appropriately maintained, and excellent adhesiveness can be exhibited. The epoxy group may be present in such an amount that the molar ratio (Ep / Si) of the epoxy group (Ep) to the total silicon atoms (Si) contained in the polyorganosiloxane (D) is 0.1 or more or 0.2 or more. In such a molar ratio (Ep / Si), the cross-linking structure of the cured product can be appropriately maintained, and properties such as heat resistance and adhesiveness can be kept excellent. The upper limit of the mole ratio (Ep / Si) is not particularly limited, and may be, for example, 1.0.
화학식 10의 평균 조성식에서 a, b, c 및 d는 각 실록산 단위의 몰 비율을 나타내고, 그 총합을 1로 환산하면, a는 0 내지 0.7이며, b은 0 내지 0.5이고, c는 0 내지 0.8이며, d는 0 내지 0.2일 수 있다. 상기에서 c 및 d는 동시에 0이 아닐 수 있다. 경화물의 강도, 균열 내성 및 내열충격성을 극대화하고, 기재와의 접착력이 우수한 경화물을 제공하기 위하여, (c+d)/(a+b+c+d)는 0.3 내지 0.7이며, c/(c+d)는 0.8 이상의 범위로 조절할 수 있다. 상기에서 c/(c+d)의 상한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 1.0일 수 있다.A, b, c and d are molar ratios of the respective siloxane units, a is 0 to 0.7, b is 0 to 0.5, and c is 0 to 0.8 And d may be from 0 to 0.2. In the above, c and d may not be 0 at the same time. (C + d) / (a + b + c + d) is 0.3 to 0.7, and c / c + d) can be adjusted to a range of 0.8 or more. The upper limit of c / (c + d) is not particularly limited, and may be 1.0, for example.
폴리오가노실록산(D)은, 25℃에서의 점도가 100 cP 이상 또는 100000 cP 이상일 수 있고, 이에 따라 경화 전의 가공성과 경화 후의 경도 특성 등의 적절하게 유지할 수 있다.The polyorganosiloxane (D) may have a viscosity of 100 cP or more, or 100000 cP or more at 25 占 폚, so that the workability before curing and the hardness characteristics after curing can be appropriately maintained.
폴리오가노실록산(D)은, 예를 들면, 1,000 이상 또는 1,500 이상의 분자량을 가질 수 있다. 분자량을 1,000 또는 1,500 이상으로 조절하여, 경화 전 우수한 가공성 및 작업성을 가지고, 내크랙성, 내열충격성 및 기재와의 접착 특성이 우수한 경화물을 제공할 수 있다. 상기 분자량의 상한은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 20,000일 수 있다. The polyorganosiloxane (D) may have a molecular weight of, for example, 1,000 or more or 1,500 or more. By controlling the molecular weight to 1,000 or 1,500 or more, it is possible to provide a cured product having excellent workability and workability before curing and excellent in crack resistance, thermal shock resistance and adhesive property to a substrate. The upper limit of the molecular weight is not particularly limited, and may be, for example, 20,000.
폴리오가노실록산(D)은, 예를 들면, 통상적으로 공지되어 있는 폴리오가노실록산의 제조 방법을 적용하거나, 또는 상기 폴리오가노실록산(A)의 제조와 유사한 방식을 적용할 수 있다.The polyorganosiloxane (D) can be applied, for example, to a commonly known process for producing a polyorganosiloxane, or to a process similar to the production of the polyorganosiloxane (A).
폴리오가노실록산(D)은, 예를 들면, 경화성 조성물에 포함되는 다른 화합물, 예를 들면, 상기 폴리오가노실록산(A), 폴리오가노실록산(B) 및/또는 규소 화합물(C)의 합계 중량 100 중량부에 대하여, 0.2 내지 10 중량부 또는 0.5 내지 5 중량부의 비율로 조성물에 포함될 수 있다. 이러한 비율의 범위 내에서 접착성 및 투명도를 우수하게 유지할 수 있다.The polyorganosiloxane (D) can be obtained, for example, by adding the other components contained in the curable composition such as the polyorganosiloxane (A), the polyorganosiloxane (B) and / or the silicon compound (C) May be included in the composition in a proportion of 0.2 to 10 parts by weight, or 0.5 to 5 parts by weight, based on the weight of the composition. Adhesion and transparency can be kept excellent within such a range.
경화성 조성물은, 히드로실릴화 촉매를 추가로 포함할 수 있다. 히드로실릴화 촉매는, 수소규소화 반응을 촉진시키기 위해 사용될 수 있다. 히드로실릴화 촉매로는, 이 분야에서 공지된 통상의 성분을 모두 사용할 수 있다. 이와 같은 촉매의 예로는, 백금, 팔라듐 또는 로듐계 촉매 등을 들 수 있다. 본 출원에서는, 촉매 효율 등을 고려하여, 백금계 촉매를 사용할 수 있고, 이러한 촉매의 예로는 염화 백금산, 사염화 백금, 백금의 올레핀 착체, 백금의 알케닐 실록산 착체 또는 백금의 카보닐 착체 등을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The curable composition may further comprise a hydrosilylation catalyst. The hydrosilylation catalyst may be used to promote the hydrogen silylation reaction. As the hydrosilylation catalyst, any of common components known in the art can be used. Examples of such catalysts include platinum, palladium or rhodium catalysts. In the present application, a platinum-based catalyst can be used in consideration of catalytic efficiency and the like. Examples of such catalysts include chloroplatinic acid, platinum tetrachloride, an olefin complex of platinum, an alkenylsiloxane complex of platinum or a carbonyl complex of platinum. But is not limited thereto.
히드로실릴화 촉매의 함량은, 소위 촉매량, 즉 촉매로서 작용할 수 있는 양으로 포함되는 한 특별히 제한되지 않는다. 통상적으로, 백금, 팔라듐 또는 로듐의 원자량을 기준으로 0.1 ppm 내지 200 ppm, 바람직하게는 0.2 ppm 내지 100 ppm의 양으로 사용할 수 있다.The content of the hydrosilylation catalyst is not particularly limited as long as it is contained in the so-called catalytic amount, that is, the amount that can act as a catalyst. Usually, it may be used in an amount of 0.1 ppm to 200 ppm, preferably 0.2 ppm to 100 ppm, based on the atomic weight of platinum, palladium or rhodium.
경화성 조성물은 또한, 각종 기재에 대한 접착성의 추가적인 향상의 관점에서, 폴리오가노실록산(D)과 함께 또는 단독으로 접착성 부여제를 추가로 포함할 수 있다. 접착성 부여제는 조성물 또는 경화물에 자기 접착성을 개선할 수 있는 성분으로서, 특히 금속 및 유기 수지에 대한 자기 접착성을 개선할 수 있다. The curable composition may further include an adhesion-imparting agent, either alone or in combination with the polyorganosiloxane (D), from the viewpoint of further improvement in adhesiveness to various substrates. The adhesive property-imparting agent can improve the self-adhesiveness to metal and organic resin as a component capable of improving the self-adhesiveness of the composition or the cured product.
접착성 부여제로는, 비닐기 등의 알케닐기, (메타)아크릴로일옥시기, 히드로실릴기(SiH기), 에폭시기, 알콕시기, 알콕시실릴기, 카르보닐기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상 또는 2종 이상의 관능기를 가지는 실란; 또는 2 내지 30 또는 4 내지 20개의 규소 원자를 가지는 환상 또는 직쇄상 실록산 등의 유기 규소 화합물 등이 예시될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 본 출원에서는 상기와 같은 접착성 부여제의 일종 또는 이종 이상을 추가로 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the adhesion-imparting agent include at least one kind selected from the group consisting of an alkenyl group such as vinyl group, a (meth) acryloyloxy group, a hydrosilyl group (SiH group), an epoxy group, an alkoxy group, an alkoxysilyl group, a carbonyl group, Or silanes having two or more functional groups; Or an organosilicon compound such as cyclic or linear siloxane having 2 to 30 or 4 to 20 silicon atoms, but the present invention is not limited thereto. In the present application, one kind or more than two types of adhesion-imparting agents as described above may be further mixed and used.
접착성 부여제가 조성물에 포함될 경우, 예를 들면, 경화성 조성물에 포함되는 다른 화합물, 예를 들면, 상기 폴리오가노실록산(A), 폴리오가노실록산(B) 및/또는 규소 화합물(C)의 합계 중량 100 중량부에 대하여, 0.1 중량부 내지 20 중량부의 비율로 포함될 수 있으나, 상기 함량은 목적하는 접착성 개선 효과 등을 고려하여 적절히 변경될 수 있다.When the adhesive property-imparting agent is included in the composition, for example, the total weight of the other compounds contained in the curable composition, for example, the above-mentioned polyorganosiloxane (A), the polyorganosiloxane (B) and / May be contained in an amount of 0.1 part by weight to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin. However, the content may be appropriately changed in consideration of the desired adhesiveness improving effect and the like.
경화성 조성물은, 필요에 따라서, 2-메틸-3-부틴-2-올, 2-페닐-3-1-부틴-2올, 3-메틸-3-펜텐-1-인, 3,5-디메틸-3-헥센-1-인, 1,3,5,7-테트라메틸-1,3,5,7-테트라헥세닐시클로테트라실록산 또는 에티닐시클로헥산 등의 반응 억제제; 실리카, 알루미나, 지르코니아 또는 티타니아 등의 무기 충전제; 에폭시기 및/또는 알콕시실릴기를 가지는 탄소 관능성 실란, 그의 부분 가수분해 축합물 또는 실록산 화합물; 폴리에테르 등과 병용될 수 있는 연무상 실리카 등의 요변성 부여제; 필러; 형광체; 은, 구리 또는 알루미늄 등의 금속 분말이나, 각종 카본 소재 등과 같은 도전성 부여제; 안료 또는 염료 등의 색조 조정제 등의 첨가제를 일종 또는 이종 이상을 추가로 포함할 수 있다.The curable composition may contain, if necessary, 2-methyl-3-butyne-2-ol, 2-phenyl-3-1- 3-hexen-1-yne, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetrahexenylcyclotetrasiloxane or ethynylcyclohexane; Inorganic fillers such as silica, alumina, zirconia or titania; A carbon functional silane having an epoxy group and / or an alkoxysilyl group, a partial hydrolysis condensation product thereof, or a siloxane compound; A thixotropy imparting agent such as pyrogenic silica which can be used in combination with polyether and the like; filler; A phosphor; Silver, a metal powder such as copper or aluminum, or a conductivity imparting agent such as various carbon materials; A coloring agent such as a pigment or a dye, and the like.
본 출원은, 또한 반도체 소자, 예를 들면, 광반도체 소자에 관한 것이다. 예시적인 반도체 소자는, 상기 경화성 조성물의 경화물을 포함하는 봉지재에 의해 봉지된 것일 수 있다. 봉지재로 봉지되는 반도체 소자로는, 다이오드, 트랜지스터, 사이리스터, 포토커플러, CCD, 고체상 화상 픽업 소자, 일체식 IC, 혼성 IC, LSI, VLSI 및 LED(Light Emitting Diode) 등이 예시될 수 있다. 하나의 예시에서 상기 반도체 소자는, 발광 다이오드일 수 있다. The present application also relates to semiconductor devices, for example, optical semiconductor devices. Exemplary semiconductor devices may be encapsulated by an encapsulant comprising a cured product of the curable composition. Examples of the semiconductor device sealed with the encapsulation material include a diode, a transistor, a thyristor, a photocoupler, a CCD, a solid-state image pickup element, a monolithic IC, a hybrid IC, an LSI, a VLSI and an LED (Light Emitting Diode). In one example, the semiconductor element may be a light emitting diode.
발광 다이오드로는, 예를 들면, 기판 상에 반도체 재료를 적층하여 형성한 발광 다이오드 등이 예시될 수 있다. 상기 반도체 재료로는, GaAs, GaP, GaAlAs, GaAsP, AlGaInP, GaN, InN, AlN, InGaAlN 또는 SiC 등이 예시될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 상기 기판으로는, 사파이어, 스핀넬, SiC, Si, ZnO 또는 GaN 단결정 등이 예시될 수 있다. As the light emitting diode, for example, a light emitting diode formed by laminating a semiconductor material on a substrate can be exemplified. Examples of the semiconductor material include, but are not limited to, GaAs, GaP, GaAlAs, GaAsP, AlGaInP, GaN, InN, AlN, InGaAlN or SiC. As the substrate, sapphire, spinel, SiC, Si, ZnO, or GaN single crystal may be exemplified.
발광 다이오드의 제조 시에는 필요에 따라서, 기판과 반도체 재료의 사이에 버퍼층을 형성할 수도 있다. 버퍼층으로서는, GaN 또는 AlN 등이 사용될 수 있다. 기판상으로의 반도체 재료의 적층 방법은, 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, MOCVD법, HDVPE법 또는 액상성장법 등을 사용할 수 있다. 또한, 발광 다이오드의 구조는, 예를 들면, MIS 접합, PN 접합, PIN 접합을 가지는 모노접합, 헤테로접합, 이중 헤테로 접합 등일 수 있다. 또한, 단일 또는 다중양자우물구조로 상기 발광 다이오드를 형성할 수 있다.In manufacturing the light emitting diode, a buffer layer may be formed between the substrate and the semiconductor material, if necessary. As the buffer layer, GaN or AlN or the like can be used. The method for laminating the semiconductor material on the substrate is not particularly limited, and for example, MOCVD, HDVPE, or liquid phase growth can be used. Further, the structure of the light emitting diode may be, for example, a mono junction having a MIS junction, a PN junction, a PIN junction, a heterojunction, a double heterojunction, or the like. In addition, the light emitting diode can be formed with a single or multiple quantum well structure.
하나의 예시에서, 상기 발광 다이오드의 발광 파장은, 예를 들면, 250 nm 내지 550 nm, 300 nm 내지 500 nm 또는 330 nm 내지 470 nm일 수 있다. 상기 발광 파장은, 주발광 피크 파장을 의미할 수 있다. 발광 다이오드의 발광파장을 상기 범위로 설정함으로써, 보다 긴 수명으로, 에너지 효율이 높고, 색재현성이 높은 백색 발광 다이오드를 얻을 수 있다. In one example, the emission wavelength of the light emitting diode may be, for example, 250 nm to 550 nm, 300 nm to 500 nm, or 330 nm to 470 nm. The emission wavelength may mean the main emission peak wavelength. By setting the emission wavelength of the light emitting diode to the above range, a white light emitting diode having a longer lifetime, high energy efficiency and high color reproducibility can be obtained.
발광 다이오드는, 상기 조성물을 사용하여 봉지될 수 있다. 발광 다이오드의 봉지는 상기 조성물만으로 수행될 수 있고, 경우에 따라서는 다른 봉지재가 상기 조성물과 병용될 수 있다. 2종의 봉지재를 병용하는 경우, 상기 조성물을 사용한 봉지 후에, 그 주위를 다른 봉지재로 봉지할 수도 있고, 다른 봉지재로 먼저 봉지한 후, 그 주위를 상기 조성물로 봉지할 수도 있다. 다른 봉지재로는, 에폭시 수지, 실리콘 수지, 아크릴 수지, 우레아 수지, 이미드 수지 또는 유리 등을 들 수 있다.The light emitting diode may be encapsulated using the above composition. Encapsulation of the light emitting diode can be carried out only with the above composition, and in some cases other encapsulant can be used in combination with the composition. In the case of using two types of sealing materials together, after sealing with the composition, the surroundings may be sealed with another sealing material, or the sealing material may be first sealed with another sealing material, and then the periphery thereof may be sealed with the composition. Examples of other sealing materials include epoxy resins, silicone resins, acrylic resins, urea resins, imide resins, and glass.
경화성 조성물로 발광 다이오드를 봉지하는 방법으로는, 예를 들면, 몰드형 거푸집에 상기 조성물을 미리 주입하고, 거기에 발광 다이오드가 고정된 리드프레임 등을 침지시키고, 조성물을 경화시키는 방법, 발광 다이오드를 삽입한 거푸집 중에 조성물을 주입하고, 경화시키는 방법 등을 사용할 수 있다. 조성물을 주입하는 방법으로는, 디스펜서에 의한 주입, 트랜스퍼 성형 또는 사출성형 등이 예시될 수 있다. 또한, 그 외의 봉지 방법으로서는, 조성물을 발광 다이오드 상에 적하, 공판인쇄, 스크린 인쇄 또는 마스크를 매개로 도포하고, 경화시키는 방법, 저부에 발광 다이오드를 배치한 컵 등에 조성물을 디스펜서 등에 의해 주입하고, 경화시키는 방법 등이 사용될 수 있다. Examples of the method for encapsulating the light emitting diode with the curable composition include a method in which the composition is previously injected into a molded mold, the lead frame or the like having the light emitting diode fixed thereto is immersed in the mold and the composition is cured, A method in which a composition is injected into a mold and cured is used. As a method of injecting the composition, injection by a dispenser, transfer molding, injection molding, or the like can be exemplified. Examples of other sealing methods include a method in which a composition is dropped on a light emitting diode, applied by screen printing, screen printing or a mask to cure the composition, or a cup in which a light emitting diode is disposed on the bottom, And a method of curing can be used.
경화성 조성물은, 필요에 따라서, 발광 다이오드를 리드 단자나 패키지에 고정하는 다이본드재나, 발광 다이오드 상의 부동화(passivation)막 또는 패키지 기판 등으로도 이용될 수 있다.The curable composition may also be used as a die bond material for fixing the light emitting diode to the lead terminal or the package, a passivation film on the light emitting diode or a package substrate, if necessary.
상기 조성물의 경화가 필요한 경우, 경화 방법은 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 60℃ 내지 200℃의 온도에서 10분 내지 5시간 동안 상기 조성물을 유지하여 수행하거나, 적정 온도 및 시간에서의 2단계 이상의 과정을 거쳐 단계적인 경화 공정을 진행할 수도 있다.When curing of the composition is required, the curing method is not particularly limited and may be carried out by, for example, holding the composition at a temperature of 60 to 200 DEG C for 10 minutes to 5 hours, The stepwise curing process may be performed through the above process.
봉지재의 형상은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 포탄형의 렌즈 형상, 판상 또는 박막상 등으로 구성할 수 있다. The shape of the encapsulant is not particularly limited and can be, for example, a lens-like lens shape, a plate shape or a thin film shape.
또한, 종래의 공지에 방법에 따라 발광 다이오드의 추가적인 성능 향상을 도모할 수 있다. 성능 향상의 방법으로서는, 예를 들면, 발광 다이오드 배면에 광의 반사층 또는 집광층을 설치하는 방법, 보색 착색부를 저부에 형성하는 방법, 주발광 피크보다 단파장의 광을 흡수하는 층을 발광 다이오드 상에 설치하는 방법, 발광 다이오드를 봉지한 후 추가로 경질 재료로 몰딩하는 방법, 발광 다이오드를 관통홀에 삽입하여 고정하는 방법, 발광 다이오드를 플립칩 접속 등에 의해서 리드 부재 등과 접속하여 기판 방향으로부터 광을 취출하는 방법 등을 들 수 있다.Further, it is possible to further improve the performance of the light emitting diode according to a conventionally known method. As a method of improving the performance, for example, a method of providing a reflective layer or a condensed layer of light on the back surface of a light emitting diode, a method of forming a complementary coloring portion on the bottom portion, a method of providing a layer absorbing light having a shorter wavelength than the main emission peak on a light emitting diode A method in which a light emitting diode is encapsulated and then further molded with a hard material, a method in which a light emitting diode is inserted and fixed in a through hole, a method in which a light emitting diode is connected to a lead member or the like by flip chip connection or the like, And the like.
상기 광반도체, 예를 들면, 발광 다이오드는, 예를 들면, 액정표시장치(LCD; Liquid Crystal Display)의 백라이트, 조명, 각종 센서, 프린터, 복사기 등의 광원, 차량용 계기 광원, 신호등, 표시등, 표시장치, 면상발광체의 광원, 디스플레이, 장식 또는 각종 라이트 등에 효과적으로 적용될 수 있다.The optical semiconductor, for example, a light emitting diode can be used as a light source such as a backlight of a liquid crystal display (LCD), an illumination, various sensors, a printer, a copying machine, a vehicle instrument light source, A display device, a light source of a planar light-emitting body, a display, a decoration, or various lights.
예시적인 경화성 조성물은, 가공성, 작업성 및 접착성 등이 우수하고, 백탁 및 표면에서의 끈적임 등이 유발되지 않는 경화물을 제공할 수 있다. 상기 경화성 조성물은 또한 투명도, 내습성, 기계적 특성 및 내크랙 특성 등이 우수한 경화물을 제공할 수 있고, 이에 따라, 예를 들어, 다양한 전자 부품에 적용되어 우수한 장기 신뢰성을 나타낼 수 있다.An exemplary curable composition can provide a cured product that is excellent in workability, workability, adhesiveness, etc. and does not cause cloudiness or stickiness on the surface. The curable composition can also provide a cured product having excellent transparency, moisture resistance, mechanical properties and crack resistance, and thus can be applied to various electronic components, for example, to exhibit excellent long-term reliability.
이하 실시예 및 비교예를 통하여 상기 경화성 조성물을 보다 상세히 설명하나, 상기 경화성 조성물의 범위가 하기 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다. 이하에서 부호 OR은 알콕시기를 나타내며, 부호 Vi는 비닐기를 나타내고, 부호 Me는 메틸기를 나타내며, 부호 Ep는 3-글리시독시프로필기를 나타낸다.
Hereinafter, the curable composition will be described in more detail by way of examples and comparative examples, but the scope of the curable composition is not limited by the following examples. In the following, OR represents an alkoxy group, the symbol Vi represents a vinyl group, the symbol Me represents a methyl group, and the symbol Ep represents a 3-glycidoxypropyl group.
1. One. NMRNMR 분석 analysis
폴리오가노실록산 내의 알콕시기(OR)의 양은 NMR 분석에 의해 평가하였다. 구체적으로는 29Si NMR(Bruker 300 MHz SSNMR/ 4mm MAS probe)을 통해서 폴리오가노실록산의 T 단위 및 Q 단위의 규소 원자에서 유래하는 피크의 적분치를 기준으로 한 비율로 알콕시기(OR)의 양을 평가하였다.
The amount of alkoxy group (OR) in the polyorganosiloxane was evaluated by NMR analysis. Specifically, the amount of the alkoxy group (OR) is calculated from the ratio of the T unit of the polyorganosiloxane and the integral value of the peak derived from the silicon atom of the Q unit through 29 Si NMR (Bruker 300 MHz SSNMR / 4 mm MAS probe) Respectively.
2. 2. 광투과도Light transmittance 측정 Measure
실시예 및 비교예의 경화성물의 광투과도는 하기의 방식으로 평가하였다. 경화성 조성물을 약 1 mm의 간격으로 떨어져 있는 두 장의 유리판의 사이에 주입하고, 150℃에서 1시간 동안 유지하여 경화시켜, 두께가 1 mm인 판상의 시편을 제조한다. 그 후, 상온에서 UV-VIS 스펙트로미터(spectrometer)를 사용하여 450 nm 파장에 대한 상기 시편의 두께 방향의 광투과율을 측정하여 하기 기준에 따라 평가한다The light transmittances of the curable materials of Examples and Comparative Examples were evaluated in the following manner. The curable composition is injected between two sheets of glass at intervals of about 1 mm and held at 150 占 폚 for 1 hour to cure, thereby preparing a plate-like specimen having a thickness of 1 mm. Thereafter, the light transmittance in the thickness direction of the specimen was measured at a wavelength of 450 nm using a UV-VIS spectrometer at room temperature, and evaluated according to the following criteria
<광 투과도 평가 기준>≪ Light transmittance evaluation standard &
A: 광투과도가 98% 이상인 경우A: When the light transmittance is 98% or more
B: 광투과도가 95% 이상이고, 또한 98% 미만인 경우B: When the light transmittance is 95% or more and less than 98%
C: 광 투과도가 95% 미만인 경우
C: When the light transmittance is less than 95%
3. 소자 특성 평가3. Evaluation of device characteristics
폴리프탈아미드(PPA)로 제조된 7030 LED 패키지를 사용하여 소자 특성을 평가한다. 구체적으로, 폴리프탈아미드 컵 내에 경화성 조성물을 디스펜싱하고, 70℃에서 30분 동안 유지한 후, 다시 150℃에서 4 시간 동안 유지하여 경화시켜, 표면 실장형 LED를 제조한다. 그 후, 하기 제시된 방법에 따라서 테스트를 진행한다.
The device characteristics are evaluated using a 7030 LED package made of polyphthalamide (PPA). Specifically, the curable composition is dispensed in a polyphthalamide cup, maintained at 70 占 폚 for 30 minutes, and then held at 150 占 폚 for 4 hours to cure the surface-mounted LED. Thereafter, the test is carried out according to the following method.
(1) (One) 열충격Thermal shock 테스트 Test
LED를 -40℃에서 30분 동안 유지하고, 다시 85℃에서 30분 동안 유지하는 것을 한 사이클로 하여 상기를 200회, 즉 200 사이클 반복한 후에 실온에서 유지하고, 박리 상태를 조사하여 내열 충격성을 평가한다. 평가 시에는 동일 경화성 조성물로 제조된 20개의 LED에 대하여 각각 상기와 같은 시험을 하고, 박리된 LED의 수를 하기 표 1에 기재하였다(박리된 LED의 수/총 LED의 수(20)).
The LED was maintained at -40 占 폚 for 30 minutes and then maintained at 85 占 폚 for 30 minutes. The LED was repeated 200 times, that is, 200 times, and maintained at room temperature. The peeled state was examined to evaluate the thermal shock resistance do. At the time of evaluation, 20 LEDs made from the same curable composition were subjected to the same tests as above, and the number of peeled LEDs is shown in Table 1 (number of peeled LEDs / number of total LEDs (20)).
(2) 장기 신뢰성 테스트(2) Long-term reliability test
LED를 85℃ 및 85%의 상대 습도의 조건에서 유지한 상태로 30 mA의 전류를 흘리면서 500 시간 동안 동작시킨다. 이어서 동작 전의 초기 휘도 대비 동작 후의 휘도 감소율을 측정하고 하기 기준으로 평가한다.The LED is operated for 500 hours while maintaining a current of 85 mA and a relative humidity of 85% and a current of 30 mA. Next, the luminance reduction rate after the operation relative to the initial luminance is measured and evaluated as the following criteria.
<평가 기준><Evaluation Criteria>
A: 초기 휘도 대비 휘도 감소율이 8% 이하인 경우A: When the luminance reduction ratio with respect to the initial luminance is 8% or less
B: 초기 휘도 대비 휘도 감소율이 10% 이하인 경우B: When the luminance reduction ratio with respect to the initial luminance is 10% or less
C: 초기 휘도 대비 휘도의 감소율이 10%를 초과하는 경우
C: When the reduction rate of the luminance relative to the initial luminance exceeds 10%
4. 표면 끈적임 평가4. Evaluation of surface stickiness
실시예 및 비교예의 경화성 조성물을 몰드에 주입하고, 150℃에서 약 1 시간 동안 유지하여 경화시킨 후에 표면을 손으로 접촉하여 다음 기준에 따라서 표면 끈적임 특성을 평가하였다.The curable compositions of the examples and comparative examples were poured into a mold and held at 150 DEG C for about 1 hour to cure, and then the surface was hand-contacted to evaluate the surface stickiness characteristics according to the following criteria.
<평가 기준><Evaluation Criteria>
A: 표면에서 끈적임이 느껴지지 않음A: I do not feel sticky on the surface
B: 표면에서 끈적임이 느껴짐
B: I feel sticky on the surface.
제조예Manufacturing example 1: One: 폴리오가노실록산(B)의Of the polyorganosiloxane (B) 제조 Produce
실시예 및 비교예에서 사용된 알케닐기를 가지는 가교형 폴리오가노실록산(에폭시기를 가지는 성분 제외)은, 디비닐테트라메틸디실록산, 테트라메톡시실란 등의 모노머를 메탄설폭산, 물 및 이소프로필 알코올을 포함하는 반응기에서 축합 반응시킨 후에 세척 후에 KOH를 투입하여 90중량%까지 농축시키고, 70℃에서 10시간 동안 딘스탁 반응시키고, 중화 및 세척(washing) 공정을 수행하여 축합성 관능기의 비율을 조절하여 제조하였다.
The crosslinked polyorganosiloxane having an alkenyl group (except for the component having an epoxy group) used in Examples and Comparative Examples was prepared by reacting monomers such as divinyltetramethyldisiloxane and tetramethoxysilane with methanesulfonic acid, water and isopropyl alcohol , KOH was added to the reaction mixture to concentrate the reaction mixture to 90 wt%, and the resulting mixture was subjected to a Dean-Stark reaction at 70 ° C for 10 hours, followed by neutralization and washing to adjust the proportion of condensation functional groups .
실시예Example 1. One.
각각 하기의 화학식 A 내지 D로 표시되는 화합물을 혼합하여, 히드로실릴화 반응에 의해 경화할 수 있는 경화성 조성물을 제조하였다 (배합량: 화학식 A: 110 g, 화학식 B: 60 g, 화학식 C: 10 g, 화학식 D: 4 g. 이어서 상기 조성물에 Pt(0)의 함량이 10 ppm이 되는 양으로 촉매(Platinum(0)-1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane)를 배합하고, 균일하게 혼합하여 경화성 조성물을 제조하였다.(C): 110 g of the compound of the formula (A), 60 g of the compound of the formula (B), 10 g of the compound of the formula (C), and the mixture of the compounds of the formulas A to D were mixed to prepare a curable composition which can be cured by the hydrosilylation reaction. (D): 4 g. Then, a catalyst (Platinum (0) -1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane) was added in an amount such that the content of Pt (0) , And uniformly mixed to prepare a curable composition.
[화학식 A](A)
(ViMe2SiO1 /2)2(Me2SiO2 /2)800 (ViMe 2 SiO 1/2) 2 (Me 2 SiO 2/2) 800
[화학식 B][Chemical Formula B]
(ViMe2SiO1 /2)(Me3SiO1 /2)4(SiO4 /2)10(OR)1.4 (ViMe 2 SiO 1/2) (Me 3 SiO 1/2) 4 (SiO 4/2) 10 (OR) 1.4
[화학식 C]≪ RTI ID = 0.0 &
(Me3SiO1 /2)2(HMeSiO2 /2)30 (Me 3 SiO 1/2) 2 (HMeSiO 2/2) 30
[화학식 D][Chemical Formula D]
(ViMe2SiO1 /2)2(EpSiO3 /2)2(Me2SiO2 /2)10
(ViMe 2 SiO 1/2) 2 (EpSiO 3/2) 2 (Me 2 SiO 2/2) 10
실시예Example 2. 2.
화학식 B의 화합물 하기 화학식 E의 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방식으로 경화성 조성물을 제조하였다.Compound of Formula B A curable composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound of Formula E was used.
[화학식 E](E)
(ViMe2SiO1 /2)(Me3SiO1 /2)4(SiO4 /2)10(OR)
(ViMe 2 SiO 1/2) (Me 3 SiO 1/2) 4 (SiO 4/2) 10 (OR)
실시예Example 3. 3.
화학식 B의 화합물 대신 하기 화학식 F의 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방식으로 경화성 조성물을 제조하였다.A curable composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound of the formula (F) was used instead of the compound of the formula (B).
[화학식 F][Chemical Formula F]
(ViMe2SiO1 /2)(Me3SiO1 /2)4(SiO4 /2)10(OR)0.8
(ViMe 2 SiO 1/2) (Me 3 SiO 1/2) 4 (SiO 4/2) 10 (OR) 0.8
비교예Comparative Example 1. One.
화학식 B의 화합물 대신 하기 화학식 G의 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방식으로 경화성 조성물을 제조하였다.The curable composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound of the formula (G) was used in place of the compound of the formula (B).
[화학식 G][Formula G]
(ViMe2SiO1 /2)(Me3SiO1 /2)4(SiO4 /2)10(OR)2.2
(ViMe 2 SiO 1/2) (Me 3 SiO 1/2) 4 (SiO 4/2) 10 (OR) 2.2
비교예Comparative Example 2. 2.
화학식 A의 화합물의 함량을 110 g, 화학식 E의 화합물의 함량을 20 g, 화학식 C의 화합물의 함량을 6 g, 화학식 D의 화합물의 함량을 4 g으로 한 것을 제외하고는 실시예 2와 동일하게 경화성 조성물을 제조하였다.
Same as Example 2 except that the content of the compound of the formula A was 110 g, the content of the compound of the formula E was 20 g, the content of the compound of the formula C was 6 g and the content of the compound of the formula D was 4 g Lt; / RTI > curable composition.
비교예Comparative Example 3. 3.
화학식 A의 화합물의 함량을 50 g, 화학식 E의 화합물의 함량을 550 g, 화학식 C의 화합물의 함량을 16 g, 화학식 D의 화합물의 함량을 4 g으로 한 것을 제외하고는 실시예 2와 동일하게 경화성 조성물을 제조하였다.
Same as Example 2 except that the content of the compound of the formula A was 50 g, the content of the compound of the formula E was 550 g, the content of the compound of the formula C was 16 g and the content of the compound of the formula D was 4 g Lt; / RTI > curable composition.
비교예Comparative Example 4. 4.
화학식 B의 화합물 대신 하기 화학식 H의 화합물 60 g을 화학식 A의 화합물 110 g, 화학식 C의 화합물 14 g 및 화학식 D의 화합물 4 g과 배합한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방식으로 경화성 조성물을 제조하였다.A curable composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 60 g of the compound of the formula (H) was compounded with 110 g of the compound of the formula (A), 14 g of the compound of the formula (C) and 4 g of the compound of the formula (D) .
[화학식 H][Formula H] <
(ViMe2SiO1 /2)4(Me3SiO1 /2)(SiO4 /2)10(OR)3
(ViMe 2 SiO 1/2) 4 (Me 3 SiO 1/2) (SiO 4/2) 10 (OR) 3
실시예 및 비교예에 대하여 측정한 물성을 하기 표 1에 정리하여 기재하였다.The physical properties measured for Examples and Comparative Examples are summarized in Table 1 below.
Claims (15)
상기 폴리오가노실록산(B)는 상기 폴리오가노실록산(A) 100 중량부 대비 30 중량부 내지 1000 중량부의 비율로 포함되는 경화성 조성물:
[화학식 1]
(R3SiO1/2)a(R2SiO2/2)b(R1SiO3/2)c(SiO4/2)d
상기 화학식 1에서 R1 내지 R3는 각각 독립적으로 에폭시기 또는 1가 탄화수소기이되, R1 내지 R3 중 하나 또는 2개 이상은 알케닐기이며, a, b, c 및 d의 총합(a+b+c+d)은 1이고, a는, 0.00005 내지 0.3이며, b는 0.7 내지 0.9995이고, c는 0 내지 0.2이며, d는 0 내지 0.2이다:
[화학식 2]
(R4SiO1/2)e(R5SiO2/2)f(R6SiO3/2)g(SiO4/2)h(OR)x
상기 화학식 2에서 R4 내지 R6는 각각 독립적으로 에폭시기 또는 1가 탄화수소기이되, R4 내지 R6 중 적어도 하나는 알케닐기이며, R은 수소 또는 1가 탄화수소기이고, e, f, g 및 h의 총합(e+f+g+h)은 1이며, e는 0.2 내지 0.8이고, f는 0 내지 0.3이며, g는 0 내지 0.3이고, h는 0.2 내지 0.8이며, x는 0 또는 양의 수이고, h/(g+h)는 0.7 이상이며, x/(g+h)는 0.2 이하이다.(A) a linear or partially crosslinked polyorganosiloxane having an average composition formula of the following formula (1) and containing an aliphatic unsaturated bond; And (B) a polyorganosiloxane having an average composition formula of the following formula (2)
Wherein the polyorganosiloxane (B) is contained in a proportion of 30 parts by weight to 1000 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyorganosiloxane (A)
[Chemical Formula 1]
(R 3 SiO 1/2 ) a (R 2 SiO 2/2 ) b (R 1 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d
Wherein R 1 to R 3 are each independently an epoxy group or a monovalent hydrocarbon group, one or more of R 1 to R 3 is an alkenyl group, and the sum of a, b, c and d (a + b c is 0 to 0.2, and d is 0 to 0.2; and < RTI ID = 0.0 >
(2)
(R 4 SiO 1/2 ) e (R 5 SiO 2/2 ) f (R 6 SiO 3/2 ) g (SiO 4/2 ) h (OR) x
Wherein R 4 to R 6 are each independently an epoxy group or a monovalent hydrocarbon group, at least one of R 4 to R 6 is an alkenyl group, R is hydrogen or a monovalent hydrocarbon group, e, f, g and h is from 0 to 0.3, h is from 0.2 to 0.8, x is 0 or a positive (= 0) H / (g + h) is 0.7 or more, and x / (g + h) is 0.2 or less.
[화학식 9]
R3SiO(HRSiO)r(R2SiO)sOSiR3
화학식 9에서 R은 각각 독립적으로 수소, 에폭시기 또는 1가의 탄화수소기이고, r는 0 내지 100 범위 내의 수이며, s는 0 내지 100 범위 내의 수이다.The curable composition according to claim 7, wherein the silicon compound (C)
[Chemical Formula 9]
R 3 SiO (HRSiO) r (R 2 SiO) s OSiR 3
R in the formula (9) is independently hydrogen, an epoxy group or a monovalent hydrocarbon group, r is a number within a range of 0 to 100, and s is a number within a range of 0 to 100.
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