KR101588269B1 - Gas distributor - Google Patents

Gas distributor Download PDF

Info

Publication number
KR101588269B1
KR101588269B1 KR1020140100409A KR20140100409A KR101588269B1 KR 101588269 B1 KR101588269 B1 KR 101588269B1 KR 1020140100409 A KR1020140100409 A KR 1020140100409A KR 20140100409 A KR20140100409 A KR 20140100409A KR 101588269 B1 KR101588269 B1 KR 101588269B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
nozzle
flow path
gas distributor
unit
nozzle member
Prior art date
Application number
KR1020140100409A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
고부진
Original Assignee
(주)동원파츠
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)동원파츠 filed Critical (주)동원파츠
Priority to KR1020140100409A priority Critical patent/KR101588269B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101588269B1 publication Critical patent/KR101588269B1/en

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45563—Gas nozzles
    • C23C16/45565—Shower nozzles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45563—Gas nozzles
    • C23C16/45572—Cooled nozzles

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

The present invention relates to a gas distributor used in a manufacturing process and the like of a semiconductor device or a liquid crystal display device. One pair of nozzle members (110, 120) configure a unit nozzle part (N). A nozzle hole (h1) is formed on a bonded surface on which the pair of nozzle members are bonded to each other. The unit nozzle part (N) comprises at least two nozzle assemblies (100) which are assembled in parallel.

Description

가스 디스트리뷰터{Gas distributor}Gas distributor

본 발명은 반도체 디바이스 또는 액정표시장치의 제조공정 등에 사용되는 가스 디스트리뷰터에 관한 것이다.
The present invention relates to a gas distributor used for manufacturing a semiconductor device or a liquid crystal display device.

일반적으로 반도체 디바이스 또는 액정표시장치는 반도체 기판인 웨이퍼 또는 유리기판 상에 사진, 식각, 확산, 화학기상증착, 이온주입, 금속증착 등의 일련의 공정을 선택적이고 반복적으로 수행하여 제조가 이루어진다.Generally, a semiconductor device or a liquid crystal display device is manufactured by selectively and repeatedly performing a series of processes such as photolithography, etching, diffusion, chemical vapor deposition, ion implantation, and metal deposition on a wafer or glass substrate as a semiconductor substrate.

특히 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition; CVD) 공정에서는 챔버 내에 로딩된 기판 상에 증착용 소스 가스를 분사하여 기판 표면에 미세한 박막층을 형성하게 되며, 이때 제품의 품질에 가장 큰 영향을 미치는 것은 증착 균일도를 확보하는 것이다.Particularly, in a chemical vapor deposition (CVD) process, a thin film layer is formed on the surface of a substrate by spraying a vapor source gas on a substrate loaded in the chamber. In this case, .

따라서 CVD 공정에서는 소스 가스를 기판 표면상에 균일하게 확산시키는 것이 매우 중요하며, 이를 위하여 다양한 구조의 가스 디스트리뷰터(또는 '샤워 헤드'로도 지칭함)가 제시되어 있다.Therefore, it is very important to uniformly diffuse the source gas on the surface of the substrate in the CVD process, and a gas distributor (or a showerhead) having various structures is proposed for this purpose.

도 1은 종래기술에 따른 가스 디스트리뷰터의 단면 구성도이다.1 is a cross-sectional view of a gas distributor according to the prior art.

도 1을 참고하면, 종래기술의 가스 디스트리뷰터(10)는, 전체적으로 일정 두께의 플레이트로써, 제1공정가스 유로(11)와, 제2공정가스 유로(12)가 형성되어 각 유로를 따라서 공정가스가 따로 공급되어 챔버 내에 공급이 이루어진다. 도면부호 13은 냉각수가 흐르게 되는 냉각유로이다.Referring to FIG. 1, a gas distributor 10 of the related art has a plate having a predetermined thickness as a whole, in which a first process gas flow path 11 and a second process gas flow path 12 are formed, Is supplied separately to be supplied into the chamber. Reference numeral 13 denotes a cooling passage through which cooling water flows.

이러한 종래기술의 가스 디스트리뷰터의 제조는 일정 두께 플레이트에 홀 또는 유로 형태에 따라서 다양한 가공 공정을 거쳐서 제작이 이루어진다.Such prior art gas distributors are manufactured through various processing steps depending on the shape of holes or channels on a plate of constant thickness.

예를 들어, 제1공정가스 유로(11)는 플레이트의 수평 방향으로 건 드릴(Gun drill)을 사용하여 300mm 이상의 원형 홀을 천공하여 제1유로(11a)를 가공하며, 다시 플레이트의 수직 방향으로 와이어 방전 가공(Wire electric discharge machining)을 진행하여 제1유로(11a)와 연통되게 제2유로(11b)(통상 1mm 내외)를 가공하게 된다.For example, the first process gas flow path 11 is formed by drilling a circular hole having a length of 300 mm or more by using a gun drill in the horizontal direction of the plate, processing the first flow path 11a, Wire electric discharge machining is performed to process the second flow path 11b (usually about 1 mm or so) so as to communicate with the first flow path 11a.

한편 제2공정가스 유로(12)(통상 2mm 내외)는 플레이트의 수직 방향으로 방전 가공(Electric discharge machining)을 진행하여 가공이 이루어진다.On the other hand, the second process gas flow path 12 (usually about 2 mm) is processed by electric discharge machining in the vertical direction of the plate.

냉각유로(13)는 건 드릴(Gun drill)을 사용하여 가공이 이루어진다.The cooling channel 13 is machined using a gun drill.

이와 같이 종래기술의 이종의 공정가스를 공급하기 위한 가스 디스트리뷰터는 일정 두께의 플레이트에 가공하고자하는 유로의 위치, 형상 및 사이즈를 고려하여 건 드릴(Gun drill) 공정, 와이어 방전 가공(Wire electric discharge machining) 및 방전 가공(Electric discharge machining)과 같은 여러 가공장치를 거쳐서 가공 작업이 이루어짐으로써 제작과정이 복잡하고 제작비용이 상승하는 문제점이 있다.As described above, the gas distributor for supplying the heterogeneous process gas of the prior art is a gas drill process, a wire electric discharge machining process, and a wire electric discharge machining process in consideration of the position, shape, ), And electric discharge machining, so that the manufacturing process is complicated and the production cost is increased.

또한 플레이트 내부에 대한 유로 가공은 제한된 가공 작업만이 가능하며, 특히 건 드릴 가공, 방전 가공, 및 와이어 방전 가공은 직선 형태의 홀 가공만이 가능하여 가스 흐름을 고려하여 유로 형태의 변경이 필요하더라도 가공의 한계로 인하여 형상의 변경에 어려움이 있다. In addition, only limited machining work can be performed on the inside of the plate. Especially, in the case of gun drilling, discharge machining, and wire discharge machining, it is only possible to perform straight hole machining. There is a difficulty in changing the shape due to the limit of processing.

예를 들어, 제1유로(11a)와 제2유로(11b)는 각각 건 드릴 공정과, 와이어 방전 가공에 의해 이루어지며, 이때 두 유로의 경계면은 직각 형태를 가질 수 밖에 없으며, 따라서 직각의 경계면(도면부호 A)에서 난류가 형성되어 가스 흐름의 저항이 크게 발생되는 문제점이 있다.For example, the first flow path 11a and the second flow path 11b are formed by a gun drilling process and a wire discharge process, respectively. At this time, the interface between the two flow paths has a rectangular shape, There is a problem that turbulence is generated in the gas flow (A) and the resistance of the gas flow is largely generated.

또한 유로를 따라서 흐르는 공정가스 컨트롤의 중요한 인자인 유량, 유압 및 유속을 변경하기 위하여 유로 형상의 변경이 필요하더라도 위에서 설명한 일반 가공 공정에서는 홀 크기만의 변경이 가능하여 공정가스 컨트롤에 많은 제한이 발생되는 문제점이 있다.In addition, even if the flow shape, which is an important factor of the process gas control flowing along the flow path, is changed, it is possible to change only the hole size in the general processing process described above, .

다음으로 와이어 방전 가공은 가공의 특성 상, 플레이트를 관통하여 가공이 이루어짐으로써 불필요한 가공이 발생되는 문제점이 있다. Next, in the wire electric discharge machining, there is a problem in that unnecessary machining occurs because machining is performed through the plate due to the characteristics of machining.

예를 들어, 제2유로(11b)는 유로 폭이 통상 1mm 내외의 작은 홀 가공이 요구되어 와이어 방전 가공에 의해 이루어지며, 이때 가공 특성 상 제1유로(11a) 상부까지 완전히 관통되어 홀(도면부호 B)이 형성된다. 그러나 이러한 불필요한 홀은 제1공정가스 유로와 제2공정가스 유로가 서로 연통되는 구조로써 두 공정가스가 원하지 않는 반응 부산물을 형성하여 공정 불량을 야기할 수 있다.
For example, the second flow path 11b is formed by wire electric discharge machining in which a small hole having a flow path width of about 1 mm is required, and at this time, through the first flow path 11a, Reference numeral B) is formed. However, such unnecessary holes may cause the first process gas flow path and the second process gas flow path to communicate with each other, and thus, the two process gases may form undesired reaction by-products, resulting in a process failure.

등록특허공보 제10-1138210호(공고일자: 2012.05.10)
Patent Registration No. 10-1138210 (Publication Date: May 10, 2012)

본 발명은 이러한 종래기술의 문제점을 개선하기 위한 것으로써, 공정가스 토출을 위한 유로 형상의 설계 자유도를 높이며, 제작이 용이한 가스 디스트리뷰터를 제공하고자 한다.
An object of the present invention is to provide a gas distributor which improves the degree of freedom of design of a flow path for discharging process gas and is easy to manufacture.

이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 가스 디스트리뷰터는, 서로 접합이 이루어지는 접합면 상에 노즐공이 형성되는 한 쌍의 노즐부재가 단위 노즐부를 구성하고, 상기 단위 노즐부가 2개 이상 병렬로 조립되는 노즐 조립체를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a gas distributor comprising: a pair of nozzle members each having a nozzle hole formed on a joint surface to be joined to each other to form a unit nozzle portion; Assembly.

바람직하게는 본 발명에 있어서, 상기 단위 노즐부는 노즐부재의 접합면에 서로 계합되어 조립이 이루어지는 제1계합부재가 형성됨을 특징으로 한다.Preferably, in the present invention, the unit nozzle portion is formed with a first engaging member which is engaged with the joining surface of the nozzle member to be assembled.

바람직하게는 본 발명에 있어서, 상기 단위 노즐부는 이웃하는 단위 노즐부와 서로 계합되어 조립이 이루어지는 제2계합부재가 형성됨을 특징으로 한다.Preferably, in the present invention, the unit nozzle portion is formed with a second engaging member that is assembled by being engaged with the neighboring unit nozzle portion.

바람직하게는 본 발명에 있어서, 상기 단위 노즐부 사이에는 관통 형성되는 제2노즐공이 형성됨을 특징으로 한다.Preferably, in the present invention, a second nozzle hole is formed through the unit nozzle portion.

바람직하게는 본 발명에 있어서, 상기 노즐공은 상기 노즐부재의 길이 방향으로 형성되는 제1유로와, 상기 제1유로에서 연장되어 접합면을 따라서 상기 제1유로보다 폭이 좁게 형성되어 일측 단부에서 가스의 토출이 이루어지는 제2유로;를 포함하며, 보다 바람직하게는, 상기 제2유로는 상기 제1유로보다는 폭이 작고 상기 제2유로보다는 폭이 큰 버퍼유로;를 포함한다.Preferably, in the present invention, the nozzle hole includes a first flow path formed in the longitudinal direction of the nozzle member, and a second flow path extending from the first flow path and formed to be narrower than the first flow path along the joint surface, And a second flow path through which the gas is discharged. More preferably, the second flow path includes a buffer flow passage having a width smaller than that of the first flow passage and a width larger than that of the second flow passage.

바람직하게는 본 발명에 있어서, 상기 노즐부재는 길이 방향으로 관통 형성되는 냉각유로가 형성됨을 특징으로 한다.Preferably, in the present invention, the nozzle member is formed with a cooling passage formed in a longitudinal direction thereof.

바람직하게는 본 발명에 있어서, 상기 노즐 조립체는 테두리와 조립되는 지그를 더 포함하며, 보다 바람직하게는, 상기 지그는 상기 노즐부재에 길이 방향으로 관통 형성되는 냉각유로와 연통되는 냉각수 공급튜브를 더 포함한다.
Preferably, in the present invention, the nozzle assembly further includes a jig to be assembled with a rim, and more preferably, the jig includes a cooling water supply tube communicating with a cooling passage formed in a longitudinal direction of the nozzle member .

본 발명에 따른 가스 디스트리뷰터는, 노즐공으로 기능하게 되는 요홈을 가공하여 마련된 노즐부재를 접합하여 단위 노즐부를 구성하며, 이 단위 노즐부를 병렬로 조립하여 노즐 조립체를 제작함으로써, 공정가스 토출을 위한 유로 형상의 설계 자유도를 높이며, 제작이 용이한 효과가 있다.
A gas distributor according to the present invention is a gas distributor that forms a unit nozzle portion by joining a nozzle member formed by processing a recess to function as a nozzle hole and assembles the unit nozzle portion in parallel to form a nozzle assembly, The degree of freedom of design of the apparatus is increased, and the manufacturing is easy.

도 1은 종래기술에 따른 가스 디스트리뷰터의 단면 구성도,
도 2는 본 발명에 따른 가스 디스트리뷰터의 분해 사시도,
도 3은 본 발명에 따른 가스 디스트리뷰터의 사시도,
도 4는 본 발명에 따른 가스 디스트리뷰터의 평면도,
도 5는 도 4의 A-A 선의 단면도,
도 6은 본 발명에 따른 가스 디스트리뷰터에 있어서, 일반 노즐부재의 조립 상태와 분해된 상태를 예시하여 보여주는 도면,
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 가스 디스트리뷰터의 단면 구성도,
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 가스 디스트리뷰터의 단면 구성도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a sectional view of a gas distributor according to the prior art,
2 is an exploded perspective view of a gas distributor according to the present invention,
3 is a perspective view of a gas distributor according to the present invention,
4 is a top view of a gas distributor according to the present invention,
5 is a sectional view taken along the line AA in Fig. 4,
6 is a view illustrating an assembled state and a disassembled state of a general nozzle member in a gas distributor according to the present invention,
7 is a cross-sectional view of a gas distributor according to another embodiment of the present invention.
8 is a cross-sectional view of a gas distributor according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에서 제시되는 특정한 구조 내지 기능적 설명들은 단지 본 발명의 개념에 따른 실시예를 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로, 본 발명의 개념에 따른 실시예들은 다양한 형태로 실시될 수 있다. 또한 본 명세서에 설명된 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어서는 아니 되며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경물, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The specific structure or functional description presented in the embodiment of the present invention is merely illustrative for the purpose of illustrating an embodiment according to the concept of the present invention, and embodiments according to the concept of the present invention can be implemented in various forms. And should not be construed as limited to the embodiments described herein, but should be understood to include all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention.

한편, 본 발명에서 제1 및/또는 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소들과 구별하는 목적으로만, 예컨대 본 발명의 개념에 따른 권리 범위로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 제1구성요소는 제2구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2구성요소는 제1구성요소로도 명명될 수 있다.Meanwhile, in the present invention, the terms first and / or second etc. may be used to describe various components, but the components are not limited to the terms. The terms may be referred to as a second element only for the purpose of distinguishing one element from another, for example, to the extent that it does not depart from the scope of the invention in accordance with the concept of the present invention, Similarly, the second component may also be referred to as the first component.

어떠한 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어"있다거나 "접속되어"있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떠한 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어"있다거나 또는 "직접 접촉되어"있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하기 위한 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 인접하는"과 "~에 직접 인접하는"등의 표현도 마찬가지로 해석되어야 한다.It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, but it should be understood that there may be other elements in between something to do. On the other hand, when it is mentioned that an element is "directly connected" or "directly contacted" to another element, it should be understood that there are no other elements in between. Other expressions for describing the relationship between components, such as "between" and "between" or "adjacent to" and "directly adjacent to" should also be interpreted.

본 명세서에서 사용하는 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서 "포함한다" 또는 "가지다"등의 용어는 실시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. It will be further understood that the terms " comprises ", or "having ", and the like in the specification are intended to specify the presence of stated features, integers, But do not preclude the presence or addition of steps, operations, elements, parts, or combinations thereof.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2 내지 도 4를 참고하면, 본 발명의 가스 디스트리뷰터(1)는 서로 접합이 이루어지는 접합면 상에 노즐공이 형성되는 한 쌍의 노즐부재(110)(120)가 단위 노즐부(N)를 구성하며, 이러한 단위 노즐부가 2개 이상 병렬로 조립되는 노즐 조립체(100)를 포함한다.2 to 4, the gas distributor 1 of the present invention includes a pair of nozzle members 110 and 120, each having a nozzle hole formed on a joint surface where the nozzle members 110 and 120 are joined to each other, And a nozzle assembly 100 in which two or more unit nozzle portions are assembled in parallel.

이하 단위 노즐부(N)를 구성하는 한 쌍의 노즐부재(110)(120)는 편의상 제1노즐부재(110)와 제2노즐부재(120)라고 칭하여 설명한다.Hereinafter, a pair of nozzle members 110 and 120 constituting the unit nozzle unit N will be referred to as a first nozzle member 110 and a second nozzle member 120 for convenience's sake.

한 쌍의 제1노즐부재(110)와 제2노즐부재(120)는 단위 노즐부(N)를 구성하며, 단위 노즐부(N)들이 다시 조립되어 노즐 조립체(100)를 구성한다.A pair of the first nozzle member 110 and the second nozzle member 120 constitute a unit nozzle portion N and the unit nozzle portions N are assembled again to constitute the nozzle assembly 100.

각 노즐부재는 전체적으로 선형의 스틱(stick)으로써 적어도 일면에 요홈이 형성되며, 이때 요홈이 형성되는 면은 제1노즐부재(110)와 제2노즐부재(120)의 접합면에 해당한다.Each nozzle member is formed as a generally linear stick with at least one groove on its surface, and the surface on which the groove is formed corresponds to the joint surface of the first nozzle member 110 and the second nozzle member 120.

제1노즐부재(110)와 제2노즐부재(120)가 접합되어 접합면 상에 형성된 각 노즐부재의 요홈은 단위 노즐부(N)의 노즐공을 형성한다. The first nozzle member 110 and the second nozzle member 120 are joined to each other and the groove of each nozzle member formed on the bonding surface forms a nozzle hole of the unit nozzle portion N. [

가스 디스트리뷰터(1)는 노즐 조립체(100)가 삽입되어 조립이 이루어지는 고리 형상의 지그(200)를 포함하며, 이때 노즐 조립체(100)는 지그(200) 내경과 동일한 크기를 갖는다. 본 실시예에서 가스 디스트리뷰터(1)는 원형을 예시하고 있으나, 사각 또는 임의 다각형일 수 있다.The gas distributor 1 includes an annular jig 200 into which the nozzle assembly 100 is inserted and assembled. The nozzle assembly 100 has the same size as the inner diameter of the jig 200. In the present embodiment, the gas distributor 1 exemplifies a circular shape, but it may be a square or an arbitrary polygon.

바람직하게는 지그(200) 내주면에 노즐부재에 형성된 냉각유로와 연통되는 복수의 냉각수 공급홀(201)이 형성되며, 각 냉각수 공급홀(201)은 지그(200) 상부에 형성된 배관 조립구(202)와 연통된다. 배관 조립구(202)는 냉각수 공급튜브(210)가 조립되어 냉각수는 냉각수 공급튜브(210)를 통해 노즐부재 내부를 따라서 순환이 이루어질 수 있다.A plurality of cooling water supply holes 201 are formed in the inner circumferential surface of the jig 200 so as to communicate with the cooling channel formed in the nozzle member, . The piping assembly 202 is assembled with the cooling water supply tube 210 so that the cooling water can circulate along the inside of the nozzle member through the cooling water supply tube 210.

도 3에 예시된 것과 같이, 가스 디스트리뷰터(1)는 단위 노즐부(N)인 제1노즐부재(110)와 제2노즐부재(120)의 접합면 사이에서 길이 방향으로 관통하면서 하방으로 연통되는 노즐공(h1)(이하, '제1노즐공'이라 함)의 개구부는 지그(200) 상단에 노출되게 마련되며, 또한 두 단위 노즐부(N) 사이에는 수직하게 관통 형성되는 노즐공(h2)(이하, '제2노즐공'이라 함)이 추가로 형성될 수 있다.As illustrated in FIG. 3, the gas distributor 1 penetrates in the longitudinal direction between the joint surfaces of the first nozzle member 110, which is the unit nozzle portion N, and the second nozzle member 120, The opening of the nozzle hole h1 (hereinafter, referred to as a 'first nozzle hole') is exposed at the upper end of the jig 200, and a nozzle hole h2 ) (Hereinafter referred to as "second nozzle hole") may be additionally formed.

제1노즐공(h1)과 제2노즐공(h2)의 개구부는 각각 다른 공정가스 유로로 사용되어 각 공정가스 저장챔버와 연결되며, 따라서 각 공정가스는 챔버 내에 공급되는 과정에서 서로 섞이지 않으면서 공급이 이루어질 수 있다.
The openings of the first nozzle hole h1 and the second nozzle hole h2 are respectively used as different process gas flow paths and are connected to the respective process gas storage chambers so that the process gases are not mixed with each other in the process of being supplied into the chamber Supply can be made.

도 5를 참고하면, 제1노즐부재(110)와 제2노즐부재(120)는 접합면이 브레이징 처리되어 일체로 접합이 이루어질 수 있으며, 단위 노즐부 역시도 브레이징 처리되어 일체로 접합이 이루어질 수 있다.5, the joint surfaces of the first nozzle member 110 and the second nozzle member 120 may be brazed to integrally join together, and the unit nozzle portion may also be brazed to be integrally joined .

바람직하게는 각 노즐부재는 길이 방향으로 관통 형성된 냉각유로(h3)가 형성되어 냉각수의 순환이 이루어질 수 있으며, 냉각유로(h3)는 노즐조립체를 고정하게 되는 지그의 냉각수 공급홀(201)(도 2 참고)과 연통된다.
Preferably, each nozzle member is formed with a cooling passage h3 formed in a longitudinal direction so as to circulate the cooling water. The cooling passage h3 is connected to the cooling water supply hole 201 of the jig 2).

도 6을 참고하면, 제2노즐부재(120)는 선형의 스틱 형상의 몸체부에 일면에 길이 방향으로 곡면의 제1요홈(121)이 형성되며, 제1요홈(121)과 수직하게 연결되어 하측 단부까지 연장 형성되는 장공의 제2요홈(122)이 형성된다.Referring to FIG. 6, the second nozzle member 120 has a curved first groove 121 formed on one side of the linear stick-shaped body, and is perpendicular to the first groove 121 And a second groove 122 of a long hole formed to extend to the lower end is formed.

제1노즐부재(110)는 제2노즐부재(120)와의 접합면과 대칭되는 요홈 구조가 형성되어, 두 노즐부재의 접합에 의해 제1요홈(121)은 공정가스의 공급이 이루어지는 제1유로로 기능하게 되며, 제2요홈(122)은 제1요홈(121)을 통해 공급된 공정가스가 하방으로 분사가 이루어지는 제2유로로써 기능하게 된다. 제2유로의 폭(2d)은 제1유로의 폭(2r)보다는 좁다.The first nozzle member 110 is formed with a concave structure symmetrical with the joining surface with the second nozzle member 120 and the first groove 121 is formed by joining the two nozzle members to the first nozzle member 110, And the second groove 122 functions as a second flow path in which the process gas supplied through the first groove 121 is injected downward. The width 2d of the second flow path is narrower than the width 2r of the first flow path.

바람직하게는 노즐부재, 또는 단위 노즐부는 서로 계합되어 조립이 가능한 복수의 계합부재가 마련될 수 있다.Preferably, the nozzle member or the unit nozzle portion may be provided with a plurality of engaging members that can be engaged with each other.

예를 들어, 제2노즐부재(120)는 바깥 면에 돌출 형성된 리브(123)가 형성될 수 있으며, 제1노즐부재(110)는 이와 대응되어 리브(123)의 삽입이 이루어지는 리브요홈(111)이 형성되어 두 개의 단위 노즐부(N)는 리브요홈(111)과 끼움 고정되는 리브(123)를 브레이징 처리하여 일체로 접합이 이루어질 수 있으며, 리브(123) 사이의 공간은 제2노즐공(h2)으로 기능한다.For example, the second nozzle member 120 may be formed with a rib 123 protruding from the outer surface thereof. The first nozzle member 110 may have rib grooves 111 The two unit nozzles N may be integrally joined by brazing the ribs 123 to be fitted with the rib grooves 111 and the space between the ribs 123 may be integrally formed with the second nozzle holes (h2).

또한 제2노즐부재(120)는 접합면에 장공의 조립요홈(124)(125)이 마련될 수 있으며, 이와 대응되어 제1노즐부재(110)는 접합면에 조립돌기가 형성되어 접합이 이루어질 수 있다.
In addition, the second nozzle member 120 may be provided with an assembly groove 124 (125) having a long hole on the joint surface, and the assembly of the first nozzle member 110 is formed with an assembly protrusion on the joint surface, .

이와 같이 본 발명의 가스 디스트리뷰터는 공정가스가 흐르게 되는 노즐공이 한 쌍으로 접합되는 노즐부재의 접합면 상에 마련되어, 노즐공의 가공이 용이하며 복잡한 유로 형상의 가공이 가능하다.As described above, the gas distributor of the present invention is provided on the joint surface of the nozzle member to which the nozzle holes to which the process gas flows are joined in a pair, so that the nozzle hole can be easily processed and complicated flow path shape processing is possible.

도 7에 예시된 것과 같이, 본 발명은 제1유로(121a)와 제2유로(122a)의 경계면(C)에 대한 곡면 가공이 노즐부재의 표면에 대한 기계적인 절삭 가공만으로 이루어질 수 있어서 가공 작업이 용이하게 이루어질 수 있으며, 따라서 공정가스 흐름상의 난류 발생을 방지할 수 있다.7, curved machining of the boundary surface C between the first flow path 121a and the second flow path 122a can be performed only by a mechanical cutting operation on the surface of the nozzle member, Can be made easily, and thus the occurrence of turbulence on the process gas flow can be prevented.

다른 예로써, 도 8을 참고하면, 노즐부재의 표면에 대한 기계적인 절삭 가공만으로 제2유로(122a)에 일정 크기의 버퍼유로(h11)(h12)를 형성할 수 있으며, 종래에는 유로의 사이즈 변경만이 가능한 반면에, 본 발명은 유로의 폭과 함께 유로의 체적에 대한 변경이 가능하여 유로 형상의 설계 자유도를 높을 수 있어서 공정가스의 컨트롤 인자인 유량, 유압, 및 유속에 대한 독립적인 제어가 가능하다.
As another example, referring to FIG. 8, it is possible to form buffer flow paths h11 and h12 of a predetermined size in the second flow path 122a by only mechanical machining on the surface of the nozzle member, The present invention can change the volume of the flow path along with the width of the flow path so that the degree of freedom of design of the flow path can be increased and independent control of the flow rate, Is possible.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the inventions. It will be apparent to those of ordinary skill in the art.

1 : 가스 디스트리뷰터 100 : 노즐 조립체
110 : 제1노즐부재 120 : 제2노즐부재
200 : 지그 201 : 냉각수 공급홀
202 : 배관 조립구 210 : 냉각수 공급튜브
h1 : 제1노즐공 h2 : 제2노즐공
h3 : 냉각유로 N : 단위 노즐부1: gas distributor 100: nozzle assembly
110: first nozzle member 120: second nozzle member
200: Jig 201: Cooling water supply hole
202: Piping assembly 210: Cooling water supply tube
h1: first nozzle hole h2: second nozzle hole
h3: cooling channel N: unit nozzle portion

Claims (9)

서로 접합이 이루어지는 접합면 상의 요홈에 의해 노즐공이 형성되는 한 쌍의 대칭구조를 가지는 노즐부재가 단위 노즐부를 구성하고, 상기 단위 노즐부가 2개 이상 병렬로 조립되는 노즐 조립체를 포함하는 가스 디스트리뷰터.Wherein the nozzle member having a pair of symmetrical structure in which a nozzle hole is formed by a groove on a joint surface to be joined to each other constitutes a unit nozzle portion and two or more unit nozzle portions are assembled in parallel. 제1항에 있어서, 상기 단위 노즐부는 노즐부재의 접합면에 서로 계합되어 조립이 이루어지는 제1계합부재가 형성됨을 특징으로 하는 가스 디스트리뷰터.The gas distributor according to claim 1, wherein the unit nozzle portion is formed with a first engaging member which is engaged with the joint surface of the nozzle member. 제1항에 있어서, 상기 단위 노즐부는 이웃하는 단위 노즐부와 서로 계합되어 조립이 이루어지는 제2계합부재가 형성됨을 특징으로 하는 가스 디스트리뷰터.2. The gas distributor according to claim 1, wherein the unit nozzle portion is formed with a second engaging member which is assembled with the neighboring unit nozzle portion. 제1항에 있어서, 상기 단위 노즐부 사이에는 관통 형성되는 제2노즐공이 형성됨을 특징으로 하는 가스 디스트리뷰터.The gas distributor according to claim 1, wherein a second nozzle hole is formed through the unit nozzle portion. 제1항에 있어서, 상기 노즐공은 상기 노즐부재의 길이 방향으로 평행하게 형성되는 제1유로와, 상기 제1유로에서 연장되어 접합면을 따라서 상기 제1유로보다 폭이 좁게 형성되어 일측 단부에서 가스의 토출이 이루어지는 제2유로;를 포함하되, 상기 제1유로와 제2유로는 상기 노즐부재 각각에 대칭으로 형성됨을 특징으로 하는 가스 디스트리뷰터.2. The ink cartridge according to claim 1, wherein the nozzle hole is formed in parallel with the longitudinal direction of the nozzle member, and a first flow path extending from the first flow path and formed to be narrower than the first flow path along the joint surface, And a second flow path through which the gas is discharged, wherein the first flow path and the second flow path are formed symmetrically with respect to each of the nozzle members. 제5항에 있어서, 상기 제2유로는 상기 제1유로보다는 폭이 작고 상기 제2유로보다는 폭이 큰 버퍼유로;를 포함하는 가스 디스트리뷰터.The gas distributor according to claim 5, wherein the second flow path has a width smaller than the first flow path and a width larger than the second flow path. 제1항에 있어서, 상기 노즐부재는 길이 방향으로 관통 형성되는 냉각유로가 상기 노즐공과 평행하게 형성됨을 특징으로 하는 가스 디스트리뷰터.The gas distributor according to claim 1, wherein the nozzle member is formed so that a cooling passage formed in a longitudinal direction thereof is parallel to the nozzle hole. 제1항에 있어서, 상기 노즐 조립체는 테두리와 조립되는 지그를 더 포함하는 가스 디스트리뷰터.The gas distributor of claim 1, wherein the nozzle assembly further comprises a jig to be assembled with a rim. 제8항에 있어서, 상기 지그는 상기 노즐부재에 길이 방향으로 관통 형성되고 상기 노즐공과 평행하게 형성되는 냉각유로와 연통되는 냉각수 공급튜브를 더 포함하는 가스 디스트리뷰터.
The gas distributor according to claim 8, wherein the jig further comprises a cooling water supply tube communicating with a cooling passage formed in the nozzle member in the longitudinal direction and formed in parallel with the nozzle hole.
KR1020140100409A 2014-08-05 2014-08-05 Gas distributor KR101588269B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140100409A KR101588269B1 (en) 2014-08-05 2014-08-05 Gas distributor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140100409A KR101588269B1 (en) 2014-08-05 2014-08-05 Gas distributor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101588269B1 true KR101588269B1 (en) 2016-01-28

Family

ID=55309874

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140100409A KR101588269B1 (en) 2014-08-05 2014-08-05 Gas distributor

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101588269B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101817254B1 (en) 2016-09-23 2018-01-10 주식회사 동원파츠 Gas distributor and manufacturing method of the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090131384A (en) * 2008-06-18 2009-12-29 주식회사 아이피에스 Top plate and apparatus for depositing thin film on wafer using the same
KR20110054833A (en) * 2009-11-18 2011-05-25 주식회사 아토 Shower-head assembly and thin film deposition apparatus and method having the same
KR101138210B1 (en) 2010-08-12 2012-05-10 주식회사 동원파츠 Gas Distributor Plate and method for manufacturing the same
KR20140067983A (en) * 2011-05-26 2014-06-05 인터몰레큘러 인코퍼레이티드 Apparatus and method for combinatorial gas distribution through a multi-zoned showerhead

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090131384A (en) * 2008-06-18 2009-12-29 주식회사 아이피에스 Top plate and apparatus for depositing thin film on wafer using the same
KR20110054833A (en) * 2009-11-18 2011-05-25 주식회사 아토 Shower-head assembly and thin film deposition apparatus and method having the same
KR101138210B1 (en) 2010-08-12 2012-05-10 주식회사 동원파츠 Gas Distributor Plate and method for manufacturing the same
KR20140067983A (en) * 2011-05-26 2014-06-05 인터몰레큘러 인코퍼레이티드 Apparatus and method for combinatorial gas distribution through a multi-zoned showerhead

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101817254B1 (en) 2016-09-23 2018-01-10 주식회사 동원파츠 Gas distributor and manufacturing method of the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6818782B2 (en) Gas distribution shower head for semiconductor processing
KR101817254B1 (en) Gas distributor and manufacturing method of the same
KR102511464B1 (en) Anti-transient showerhead
US8757517B2 (en) Showerhead with flow directing plates and radial mode changer
US20190160584A1 (en) Center pipe for plasma torch, electrode, and plasma torch
US20110073038A1 (en) Gas distribution plate and apparatus using the same
US10986721B2 (en) Replacement part unit for plasma torch, electrode, insulating guide, and nozzle
TW201346065A (en) Gas showerhead, method for making the same and thin film growth reactor
KR101588265B1 (en) Nozzle member, and method for manufacturing of a gas distributor utilizing the same
KR20100091895A (en) Intermediate piece for the connection of a storage container to a static mixer
KR101670383B1 (en) Purge gas injection plate and apparatus for removing fume with same
JP2009163949A (en) Static eliminator and discharge electrode unit incorporated therein
KR101588269B1 (en) Gas distributor
TW201546320A (en) Apparatus for regulating gas flow in a deposition chamber, depositon chamber, and methods of depositing a material uniformly over a substrate
US20200080592A1 (en) Throttle unit and a static pressure bearing device equipped with the throttle unit, and a method of manufacturing a grooved block
US10161040B2 (en) Shower head for electronic device having dispersion pins fabrication and shower head assembly
JP4971376B2 (en) Gas injection module
JP6650808B2 (en) Holding device
KR20220051236A (en) THERMALLY CONTROLLED Chandelier Showerhead
US10312113B2 (en) Flow passage structure, intake and exhaust member, and processing apparatus
KR101819613B1 (en) Device for spraying fluid
JP4445557B2 (en) Vacuum valve
KR20020066086A (en) Gas distribution apparatus of semiconductor eqipment
KR101720121B1 (en) Nozzle unit and coating apparatus using thereof
US10737345B2 (en) Pipe joint, fluid control device, fluid control unit, semiconductor fabrication apparatus and method of forming pipe joint

Legal Events

Date Code Title Description
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190115

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200107

Year of fee payment: 5