KR101578747B1 - 미세 다공막 열처리를 위한 적외선 발생 장치 - Google Patents

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Abstract

낮은 수축율 및 높은 기공율을 가지면서 다공막 전체에 걸쳐서 기공이 균일하게 형성되는 미세 다공막의 열처리를 위한 적외선 발생 장치를 제시한다. 그 장치는 적외선 발광 유닛을 내재하고 내면에 포물경 형태의 반사막이 형성된 커버 및 발광 유닛의 반대편에 부착되고 광투과율이 높은 재질로 이루어진 광도파부로 이루어진 램프 또는 복수개의 적외선 발광 유닛이 장착된 발광 모듈에 장착되어 적외선을 집광시켜 휘도를 높이는 프리즘 형상을 가지거나 또는 프리즘 시트가 부착된 광도파부로 이루어진 램프를 포함한다.

Description

미세 다공막 열처리를 위한 적외선 발생 장치{Apparatus of generating infra-red for heat treatment of microporous membrane}
본 발명은 미세 다공막 열처리를 위한 적외선 발생 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 미세 다공막을 균일하게 열처리하기 위하여 면광원을 구현하는 램프가 장착된 적외선 발생 장치에 관한 것이다.
미세 다공막은 정밀한 여과막, 전지용 분리막, 콘덴서용 분리막 등에 사용된다. 그 중에서 리튬이온 전지용 분리막으로 사용하는 경우, 기계적인 강도 및 전해질의 투과도와 같이 일반적으로 요구되는 특성이 좋아야 한다. 전지용 분리막은 낮은 수축률 및 높은 기공률을 가지기 위하여 열처리 공정을 거친다. 열처리는 온풍, 열풍, 저습풍, 적외선, 전자선 등의 조사 등에 의해 행해지나, 최근에는 적외선의 활용이 증가하는 추세이다. 적외선을 다공막에 조사하여 열처리를 하면, 결정화가 일어나고 이를 연신함에 따라 기공이 형성된다. 이러한 열처리는 다공막 전체에서 균일하게 일어나야 하며, 이를 위한 적외선 조사 방식이 중요해지고 있다.
한편, 다공막의 균일한 열처리를 위해서는 상기 적외선이 다공막에 균일하게 조사되어야 할 필요가 있다. 국내공개특허 제2012-0091028호는 미세 다공막의 건조를 위하여, 적외선 등을 적용하는 방법이 제시되어 있다. 하지만, 상기 특허는 미세 다공막의 균일한 열처리를 위한 적외선 조사 방식 및 이에 따른 열처리 방식 등이 구체적으로 제시되어 있지 않다. 다공막을 균일하게 열처리하기 위하여, 적외선에 의한 광원은 면광원을 사용하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 적외선 면광원을 이용하여 다공막을 균일하게 열처리는 방법이 요구되고 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 낮은 수축율 및 높은 기공율을 가지면서 다공막 전체에 걸쳐서 기공이 균일하게 형성되는 미세 다공막의 열처리를 위한 적외선 발생 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 과제를 해결하기 위한 미세 다공막의 열처리를 위한 적외선 발생 장치의 하나의 예는 상온 롤에 접촉되면서 지나가는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치에 있어서, 상기 적외선 발생 장치는 적외선을 발생시키는 발광 유닛 및 상기 발광 유닛을 내재하고 내면에 포물경 형태의 반사막이 형성된 커버를 포함한다. 또한, 상기 반사막이 형성된 커버의 입구에 장착되며, 상기 적외선을 방출하는 면이 프리즘을 이루는 제1 광도파부를 포함한다.
본 발명의 하나의 장치에 있어서, 상기 적외선 발광 유닛은 상기 커버로 이루어진 광간의 중심에서 상기 제1 광도파부의 반대 방향으로 편중되어 있는 것이 좋다. 상기 커버의 일측에는 상면에 냉각팬이 설치된 챔버가 부착되어 있을 수 있으며, 상기 냉각팬은 챔버에 형성된 통풍구를 통하여 외부의 공기를 상기 챔버와 상기 커버 사이의 공간에 주입시켜 상기 커버를 냉각시킬 수 있다. 또한, 상기 제1 광도파부의 측벽에는 상기 적외선의 방출을 막는 차광층을 포함할 수 있고, 상기 차광층이 상기 측벽에서 차지하는 면적은 조절될 수 있다.
본 발명의 과제를 해결하기 위한 미세 다공막의 열처리를 위한 적외선 발생 장치의 다른 예는 상온 롤에 접촉되면서 지나가는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치에 있어서, 상기 적외선 발생 장치는 적외선을 발생시키는 복수개의 적외선 발광 유닛이 장착된 커버 및 상기 커버의 입구에 장착되며 상기 적외선을 방출하는 면이 프리즘을 이루는 제2 광도파부를 포함한다.
본 발명의 다른 장치에 있어서, 상기 커버의 일측에는 상면에 냉각팬이 설치된 챔버가 부착되어 있을 수 있으며, 상기 냉각팬은 챔버에 형성된 통풍구를 통하여 외부의 공기를 상기 챔버와 상기 커버 사이의 공간에 주입시켜 상기 커버를 냉각시킬 수 있다. 또한, 상기 제2 광도파부의 측벽에는 상기 적외선의 방출을 막는 차광층을 포함할 수 있고, 상기 차광층이 상기 측벽에서 차지하는 면적은 조절될 수 있다.
본 발명의 과제를 해결하기 위한 미세 다공막의 열처리를 위한 적외선 발생 장치의 또 다른 예는 상온 롤에 접촉되면서 지나가는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치에 있어서, 상기 적외선 발생 장치는 적외선을 발생시키는 복수개의 적외선 발광 유닛이 장착된 커버 및 상기 커버의 입구에 장착되며, 상기 적외선을 방출하는 면이 프리즘을 이루는 프리즘 시트를 포함한다. 또한, 상기 프리즘 시트에 부착된 제3 광도파부를 포함한다.
본 발명의 또 다른 장치에 있어서, 상기 커버의 일측에는 상면에 냉각팬이 설치된 챔버가 부착되어 있을 수 있으며, 상기 냉각팬은 챔버에 형성된 통풍구를 통하여 외부의 공기를 상기 챔버와 상기 커버 사이의 공간에 주입시켜 상기 커버를 냉각시킬 수 있다. 또한, 상기 제3 광도파부의 측벽에는 상기 적외선의 방출을 막는 차광층을 포함할 수 있고, 상기 차광층이 상기 측벽에서 차지하는 면적은 조절될 수 있다. 이때, 상기 상온 롤을 바라보는 상기 제3 광도파부의 면은 편평하거나 곡면을 이룰 수 있다.
본 발명의 미세 다공막의 열처리를 위한 적외선 발생 장치에 의하면, 광도파부가 부착된 램프(lamp)에 의해 적외선 면광원을 구현함으로써 미세다공막은 낮은 수축율 및 높은 기공율을 가지면서 전체에 걸쳐서 기공이 균일하게 형성될 수 있다. 또한, 적외선을 발생시키는 램프를 하나의 발광 유닛으로 이루어진 적외선 램프 및 복수개의 발광 유닛으로 이루어진 적외선 램프로 구분하여 사용 환경에 따라 적절하게 조합할 수 있다.
도 1은 본 발명에 의한 적외선 발생 장치를 구비한 미세 다공막 열처리 장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2a는 본 발명의 적외선 발생 장치에 적용되는 하나의 사례인 제1 적외선 램프를 x축 방향으로 나타내는 단면도이다.
도 2b는 도 2a의 제1 적외선 램프를 y축 방향으로 표현한 단면도이다.
도 3a는 본 발명의 적외선 발생 장치에 적용되는 다른 사례인 제2 적외선 램프를 x축 방향으로 나타내는 단면도이다.
도 3b는 도 3a의 제2 적외선 램프를 y축 방향으로 표현한 단면도이다.
도 4a는 본 발명의 적외선 발생 장치에 적용되는 또 다른 사례인 제3 적외선 램프를 x축 방향으로 나타내는 단면도이다.
도 4b는 도 4a의 제3 적외선 램프를 y축 방향으로 표현한 단면도이다.
이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다음에서 설명되는 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예는 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이다.
본 발명의 실시예는 광도파부가 부착된 램프(lamp)에 의해 적외선 면광원을 구현함으로써, 낮은 수축율 및 높은 기공율을 가지면서 다공막 전체에 걸쳐서 기공이 균일하게 형성되는 미세 다공막의 열처리를 위한 램프를 제시한다. 이를 위해, 면광원을 발생하는 램프의 구조에 대하여 상세하게 살펴보고, 상기 면광원을 이용하여 미세 다공막을 열처리하는 과정을 구체적으로 설명하기로 한다. 여기서, 면광원이란 표면이 균일하게 빛나며 두께가 없는 광원으로, 면광원은 미세 다공막이 균일하게 열처리되도록 유도한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 의한 적외선 발생 장치를 구비한 미세 다공막 열처리 장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 의한 열처리 장치는 소정의 간격만큼 공간적으로 떨어진 적외선 발생 장치(40) 및 상온 롤(10)을 포함한다. 미세 다공막(30)은 공급 롤(20)로부터 공급 받아 상온 롤(10) 상에서 열처리를 하고, 열처리된 미세 다공막(30)은 권취 롤(22)에 의해 권취된다. 미세 다공막(30)은 내부에 미세한 기공들이 형성된 것으로, 여과막, 전지용 분리막, 콘덴서용 분리막 등에 사용된다. 상기 적외선은 700nm 내지 2500nm 파장 대역에 해당하며, 특히 800nm 내지 1500nm 대역에 해당하는 파장의 적외선이 바람직하다. 적외선 발생 장치(40)에 의한 열의 공급은 열대류방식이 아닌 빛 에너지에 의한 열이 직접 미세 다공막(30)에 전달된다.
설명의 편의를 위하여, 열처리 전의 미세 다공막(30)은 결정화 전 미세 다공막(30)이고, 열처리 후의 미세 다공막(31)은 결정화된 미세 다공막(31)으로 구분한다. 결정화된 미세 다공막(31)은 추후에 연신 공정 등을 거쳐 기공이 형성된다. 미세 다공막(30)은 결정화 전 미세 다공막(30) 및 결정화된 미세 다공막(31)을 통칭하여 표현될 수 있다.
상온 롤(10)은 원통 형태가 바람직하며, 도시되지는 않았지만 둘레에는 별도의 열흡수층 및 열전도층이 형성될 수 있다. 상온 롤(10)의 온도는 100℃ 내지 150℃의 온도를 유지하기 위하여, 열매통로(12)를 통하여 열매가 공급될 수 있다. 상온 롤(10)은 열충격 및 부식 등에 강한 스테인레스강과 같은 금속을 사용할 수 있다. 미세 다공막(30)은 상온 롤(10)에 접촉되면서 이동한다. 미세 다공막(30)이 열처리되는 과정에서, 상온 롤(10)은 미세 다공막(30)이 이송되는 방향으로 회전하는 것이 바람직하다. 미세 다공막(30)은 열처리를 거치면, 바람직하게는 내부에 무배향의 결정화가 일어난다.
적외선 발생 장치(40)로부터 조사되는 적외선에 의해 미세 다공막(30)이 열처리되는 영역(a)은 상온 롤(10)의 일부를 차지한다. 열처리 영역(a)이란 본 발명의 범주 내에서 미세 다공막(30)의 열처리가 충분하게 일어나도록 하는 부분이며, 이는 사전에 설정될 수 있다. 열처리 영역(a)은 적외선 발생 장치(40)의 특성 및 적외선 발생 장치(40)와 상온 롤(10) 사이의 거리, 상온 롤(10)의 크기 등에 의해 결정될 수 있다. 열처리의 균일성을 확보하기 위하여, 적외선 발생 장치(40)는 상온 롤(10)로부터 균일한 간격을 유지하는 것이 좋다.
본 발명의 실시예의 적외선 발생 장치(40)는 면광원을 형성하기 위한 것으로, 적어도 하나의 적외선 발광 유닛을 사용한다. 본 발명의 실시예에서는 하나의 발광 유닛으로 이루어진 적외선 램프 및 복수개의 발광 유닛으로 이루어진 적외선 램프로 구분하여 면광원을 형성하는 적외선 발생 장치(40)를 설명하기로 한다. 하나의 발광 유닛에 의한 적외선 발생 장치(40)는 하나의 발광 유닛을 장착한 적외선 램프가 일정한 간격으로 배치되어 열처리 영역(a)에 부합할 수 있다. 복수개의 발광 유닛에 의한 적외선 발생 장치(40)는 복수개의 발광 유닛이 열처리 영역(a)에 대응될 수 있다.
도 2a는 본 발명의 실시예의 적외선 발생 장치(40)에 적용되는 하나의 사례인 제1 적외선 램프(40a)를 나타내는 x축 방향의 단면도이고, 도 2b는 도 2a의 y축 방향의 단면도이다. 여기서, 적외선 발생 장치(40)는 복수개의 제1 적외선 램프(40a)가 일정한 간격을 두고 배치된 것이다. 또한, 제1 적외선 램프(40a)의 개수는 열처리 영역(a)의 크기, 상온 롤(10)과의 거리 등을 고려하여 사전에 정해질 수 있다.
도 2a 및 도 2b에 의하면, 제1 적외선 램프(40a)는 적외선 발광 유닛(46) 및 발광 유닛(46)을 내재하고 내면에 반사막(45)이 도포된 포물경 형태의 커버(44)를 포함한다. 챔버(41)는 커버(44)를 내재한다. 챔버(41)의 상면에는 냉각팬(42)이 설치될 수 있다. 냉각팬(42)은 외부의 공기를 통풍구(43)를 통하여 챔버(41)와 커버(44) 사이의 공간에 주입하여, 커버(44)를 냉각시킨다. 발광 유닛(46)은 전원을 공급하고 신호처리를 하는 별도의 회로기판(도시되지 않음)에 탑재된다. 발광 유닛(46)은 다양한 종류가 가능하나, 바람직하게는 적어도 하나의 적외선 발광 다이오드로 구성되는 것이 좋다.
반사막(45)은 반사율이 높은 재질로서, Al, Cu, Au, Pt, Pd, Rh, Ni, W, Mo, Cr, Ti로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나의 층 또는 그들의 복합층일 수 있다. 적절하게는, Ag 또는 Al 중의 어느 하나 또는 Ag 합금 또는 Al 합금으로 한다. 반사막(45)이 도포된 커버(44)는 적외선의 집광을 높이기 위한 포물경 형상이 좋다. 발광 유닛(46)은 커버(44)로 이루어진 공간의 중심에서 냉각팬(42) 방향으로 편중되어 커버(44) 내에 위치한다. 편중된 발광 유닛(46)은 반사막(45)으로부터 반사된 적외선이 제1 광도파부(47)로 집광이 되어 빛의 손실을 막도록 유도한다. 즉, 발광 유닛(46)은 커버(44)에 의해 이루어진 공간의 중심에서 제1 광도파부(47)의 반대 방향으로 편중되어 있다.
반사막이 형성된 커버(44)의 개방된 입구에는 제1 광도파부(47)가 장착된다. 제1 광도파부(47)는 유리나 PMMA와 같이 광투과율이 높은 투명재질로 이루어질 수 있다. 제1 광도파부(47)는 본 발명의 범주 내에서 투명한 재질이면 모두 가능하다. 광도파란 적외선을 상기 투명매질 내에 가두어 놓고 매질의 축방향으로 전파시키는 것으로, 적외선은 투명재질과 공기 사이에서 부분적인 전반사가 일어난다. 제1 광도파부(47)에서 적외선이 방출되는 면은 삼각형 단면의 패턴의 프리즘(49)을 이룬다. 프리즘(49)은 방출되는 적외선의 직진성 및 휘도를 높이고, 반사막(45)으로부터의 적외선이 면광원을 형성하도록 한다.
제1 광도파부(47)의 측벽에는 전체 또는 부분적으로 적외선이 유출되지 않도록 차광층(48)을 더 부가할 수 있다. 차광층(48)은 제1 광도파부(47)로부터 방출되는 적외선이 상온 롤(10)을 향하도록 하는 지향성을 부여한다. 지향성을 높이면, 제1 광도파부(47)의 적외선이 불필요하게 소모되는 것을 방지할 수 있다. 차광층(48)은 적외선의 반사를 유도함으로써, 제1 광도파부(47)에서의 면광원을 보다 효율적으로 형성할 수 있다. 차광층(48)은 적외선을 반사하여 차광 특성이 있는 물질을 포함한다. 상기 차광성 물질은 반사율이 높은 재질로서, Al, Cu, Au, Pt, Pd, Rh, Ni, W, Mo, Cr, Ti로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나의 층 또는 그들의 복합층일 수 있다. 차광층(48)이 측벽에 차지하는 면적을 조절함으로써, 방출되는 적외선의 영역의 크기, 적외선의 강도(intensity)를 적절하게 제어할 수 있다.
도 3a는 본 발명의 실시예의 적외선 발생 장치(40)에 적용되는 하나의 사례인 제2 적외선 램프(40b)를 나타내는 x축 방향의 단면도이고, 도 3b는 도 3a의 y축 방향의 단면도이다. 여기서, 적외선 발생 장치(40)는 복수개의 발광 유닛이 탑재된 것이다.
도 3a 및 도 3b에 따르면, 제2 적외선 램프(40b)는 복수개의 발광 유닛(54)이 장착되고, 내면에 반사막(56)이 도포된 커버(55)를 포함한다. 복수개의 발광 유닛(54)은 통 형태인 커버(55)에 도시된 바와 같이 탑재된다. 커버(55)의 일측에는 상면에 냉각팬(52)이 설치된 챔버(51)가 부착되어 있다. 냉각팬(52)은 외부의 공기를 통풍구(53)를 통하여 챔버(40)와 커버(55) 사이의 공간에 주입하여, 커버(55)를 냉각시킨다. 커버(55)의 개방된 입구에는 제2 광도파부(57)가 장착된다. 제2 광도파부(57)는 커버(55)로부터 적외선이 방출되는 입구와 동일하거나 넓은 폭을 가지는 것이 바람직하다. 반사막(56)은 제1 적외선 램프(40a)에서 설명한 반사막(45)과 동일한 재질을 사용할 수 있다.
제2 광도파부(57)는 유리나 PMMA와 같이 광투과율이 높은 투명재질로 이루어질 수 있다. 제2 광도파부(57)는 본 발명의 범주 내에서 투명한 재질이면 모두 가능하다. 광도파란 적외선을 상기 투명매질 내에 가두어 놓고 매질의 축방향으로 전파시키는 것으로, 적외선은 투명재질과 공기 사이에서 부분적인 전반사가 일어난다. 제2 광도파부(57)에서 적외선이 방출되는 면은 삼각형 단면의 패턴의 프리즘(59)을 이룬다. 프리즘(59)은 방출되는 적외선의 직진성 및 휘도를 높이고, 커버(55)로부터의 적외선이 면광원을 형성하도록 한다. 제2 광도파부(57)의 측벽에는 제1 적외선 램프(40a)에서 설명한 차광층(48)과 동일한 기능 및 역할을 하는 차광층(58)이 부착될 수 있다.
도 4a는 본 발명의 실시예의 적외선 발생 장치(40)에 적용되는 하나의 사례인 제3 적외선 램프(40c)를 나타내는 x축 방향의 단면도이고, 도 4b는 도 4a의 y축 방향의 단면도이다. 여기서, 적외선 발생 장치(40)는 복수개의 발광 유닛이 탑재된 것이다. 제3 적외선 램프(40c)는 프리즘 시트(60)와 접촉된 제3 광도파부(62)를 제외하고, 제2 적외선 램프(40b)와 동일하다.
도 4a 및 도 4b에 의하면, 제3 적외선 램프(40c)에 있어서, 커버(55)의 일측에는 커버(55)에서 방출되는 적외선을 집광시켜 휘도를 높이는 프리즘 시트(60)가 부착된다. 프리즘 시트(60)는 적외선이 방출되는 면에 삼각형 단면의 패턴이 형성되어 있다. 집광된 적외선은 제3 광도파부(62)를 통하여 면광원을 형성하여 외부로 방출된다. 프리즘 시트(60)는 커버(55)로부터 적외선이 방출되는 입구와 동일하거나 넓은 폭을 가지는 것이 바람직하다. 프리즘 시트(60)와 접하는 제3 광도파부(62)는 프리즘 시트(60)에 부합하는 형상을 가진다. 한편, 제3 광도파부(62)의 측벽에는 제1 적외선 램프(40a)에서 설명한 차광층(48)과 동일한 기능 및 역할을 하는 차광층(61)이 형성될 수 있다.
제3 광도파부(62)에서, 상온 롤(10)을 향하는 면은 편평할 수도 있고 굽어질 수도 있다. 상기 면이 곡면(63)을 이루면, 제3 광도파부(62)로부터 방출되는 적외선의 지향각이 커진다. 지향각이 커지면, 상기 적외선이 조사되는 영역이 넓어진다. 곡면(63)은 구면, 비구면 또는 그들의 조합 중에서 적절하게 선택할 수 있다. 본 발명의 실시예는 제1 내지 제3 적외선 램프(40a, 40b, 40c)를 서로 조합하여, 적외선 발생 장치(40)를 구현할 수 있다. 구체적으로, 열처리 영역(a)의 양측에는 제1 적외선 램프(40a)를 배치하고, 그 사이에는 제2 및 제3 적외선 램프(40b, 40c)를 설치할 수 있다.
이상, 본 발명은 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다. 예를 들어, 본 발명의 제2 및 제3 적외선 램프(40b, 40c)는 상온 롤(10)의 형상에 따라 굽어진 모양을 가질 수 있다.
10; 상온 롤 12; 열매통로
20; 공급 롤 22; 권취 롤
30; 미세 다공막 40; 적외선 발생 장치
40a, 40b, 40c; 제1 내지 제3 적외선 램프
41, 51; 챔버
42, 52; 냉각팬
43, 53; 통풍구
44, 55; 챔버
46, 54; 발광 유닛
47, 57, 62; 제1 내지 제3 광도파부
48, 58, 61; 차광층
49, 59 : 프리즘
60; 프리즘 시트

Claims (13)

  1. 상온 롤에 접촉되면서 지나가는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치에 있어서,
    상기 적외선 발생 장치는,
    적외선을 발생시키는 발광 유닛;
    상기 발광 유닛을 내재하고, 내면에 포물경 형태의 반사막이 형성된 커버; 및
    상기 반사막이 형성된 커버의 입구에 장착되며, 상기 적외선을 방출하는 면이 프리즘을 이루는 제1 광도파부를 포함하고,
    상기 적외선 발광 유닛은 상기 커버에 의해 이루어진 공간의 중심에서 상기 제1 광도파부의 반대 방향으로 편중되어 있는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 상기 커버의 일측에는 상면에 냉각팬이 설치된 챔버가 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 냉각팬은 챔버에 형성된 통풍구를 통하여 외부의 공기를 상기 챔버와 상기 커버 사이의 공간에 주입시켜 상기 커버를 냉각시키는 것을 특징으로 하는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제1 광도파부의 측벽에는 상기 적외선의 방출을 막는 차광층을 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 차광층이 상기 측벽에서 차지하는 면적은 조절될 수 있는 것을 특징으로 하는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치.
  7. 상온 롤에 접촉되면서 지나가는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치에 있어서,
    상기 적외선 발생 장치는,
    적외선을 발생시키는 복수개의 적외선 발광 유닛이 장착된 커버; 및
    상기 커버의 입구에 장착되며, 상기 적외선을 방출하는 면이 프리즘을 이루는 제2 광도파부를 포함하고,
    상기 제2 광도파부의 측벽에는 상기 적외선의 방출을 막는 차광층을 포함하는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 커버의 일측에는 상면에 냉각팬이 설치된 챔버가 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치.
  9. 삭제
  10. 상온 롤에 접촉되면서 지나가는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치에 있어서,
    상기 적외선 발생 장치는,
    적외선을 발생시키는 복수개의 적외선 발광 유닛이 장착된 커버;
    상기 커버의 입구에 장착되며, 상기 적외선을 방출하는 면이 프리즘을 이루는 프리즘 시트; 및
    상기 프리즘 시트에 부착된 제3 광도파부를 포함하고,
    상기 제3 광도파부의 측벽에는 상기 적외선의 방출을 막는 차광층을 포함하는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 커버의 일측에는 상면에 냉각팬이 설치된 챔버가 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치.
  12. 삭제
  13. 제10항에 있어서, 상기 상온 롤을 바라보는 상기 제3 광도파부의 면은 편평하거나 곡면을 이루는 것을 특징으로 하는 미세 다공막을 열처리하기 위한 적외선 발생 장치.
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JP2003190749A (ja) 2001-12-26 2003-07-08 Nitto Denko Corp ポリテトラフルオロエチレン多孔質膜複合材の製造方法
JP2007214078A (ja) * 2006-02-13 2007-08-23 Seiko Epson Corp 光源装置、およびプロジェクタ
JP2010170859A (ja) * 2009-01-23 2010-08-05 Seiko Epson Corp ランプユニットおよびプロジェクター

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