KR101547621B1 - Silicon carbide structures for plasma processing device and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
본 발명은 플라즈마 처리장치의 실리콘 카바이드 구조물 및 그 제조방법에 관한 것으로, a) 그라파이트 원판의 표면에 SiC를 증착하여 SiC 베이스 구조물을 형성하는 단계와, b) 상기 그라파이트 원판을 제거하여 SiC 베이스 구조물을 분리하는 단계와, c) 상기 SiC 베이스 구조물의 전면에 SiC를 코팅하여 실리콘 카바이드 구조물을 획득하는 단계를 포함한다. 본 발명은 그라파이트판에 SiC를 화학기상 증착법으로 1차 증착하고, 그라파이트판과 SiC층을 분리하여, SiC 베이스 구조물을 제조한 후, SiC 베이스 구조물의 전면을 다시 SiC로 증착하여 양면이 동일 또는 유사한 결정 크기를 갖도록 함으로써, 플라즈마에 노출되는 면에 무관하게 수명이 단축됨을 방지할 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to a silicon carbide structure of a plasma processing apparatus and a method of manufacturing the same, comprising the steps of: a) depositing SiC on the surface of a graphite disk to form a SiC base structure; b) removing the graphite disk to remove the SiC base structure And c) coating SiC on the entire surface of the SiC base structure to obtain a silicon carbide structure. In the present invention, SiC is first deposited on a graphite plate by a chemical vapor deposition method, the graphite plate and the SiC layer are separated from each other, a SiC base structure is manufactured, and then the entire surface of the SiC base structure is again deposited with SiC, By having a crystal size, it is possible to prevent the lifetime from being shortened irrespective of the surface exposed to the plasma.
Description
본 발명은 플라즈마 처리장치의 실리콘 카바이드 구조물 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 실리콘 카바이드 구조물의 수명을 연장시킬 수 있는 플라즈마 처리장치의 실리콘 카바이드 구조물 및 그 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a silicon carbide structure of a plasma processing apparatus and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a silicon carbide structure of a plasma processing apparatus capable of extending the life of a silicon carbide structure and a manufacturing method thereof.
일반적으로, 반도체 제조공정에서 사용되는 건식식각장치는, 기체상의 식각가스를 사용하는 플라즈마식각 등이 있다. 이는 식각가스를 반응용기내로 인입시키고, 이온화시킨 후, 웨이퍼 표면으로 가속시켜 웨이퍼 표면의 최상층을 물리적, 화학적으로 제거하며, 식각의 조절이 용이하고, 생산성이 높으며, 수십 nm 수준의 미세 패턴형성이 가능하여 널리 사용되고 있다.2. Description of the Related Art In general, a dry etching apparatus used in a semiconductor manufacturing process includes plasma etching using a gaseous etching gas. This is because the etching gas is introduced into the reaction vessel, ionized and then accelerated to the wafer surface to physically and chemically remove the uppermost layer of the wafer surface. The etching is easily controlled, the productivity is high, And is widely used.
플라즈마 식각에서의 균일한 식각을 위하여 고려되어야 할 변수(parameter)들로는 식각할 층의 두께와 밀도, 식각가스의 에너지 및 온도, 포토레지스트의 접착성과 웨이퍼 표면의 상태 및 식각가스의 균일성 등을 들 수 있다. 특히, 식각가스를 이온화시키고, 이온화된 식각가스를 웨이퍼 표면으로 가속시켜 식각을 수행하는 원동력이 되는 고주파(RF: Radio frequency)의 조절은 중요한 변수가 될 수 있으며, 또한 실제 식각과정에서 직접적으로 그리고 용이하게 조절할 수 있는 변수로 고려된다.Parameters to be considered for uniform etching in plasma etching include the thickness and density of the layer to be etched, the energy and temperature of the etching gas, the adhesion of the photoresist, the state of the wafer surface and the uniformity of the etching gas . In particular, the control of radio frequency (RF), which is the driving force for ionizing the etching gas and accelerating the ionized etching gas to the wafer surface, can be an important parameter, It is considered as a variable that can be easily adjusted.
그러나, 실제로 식각이 이루어지는 웨이퍼를 기준으로 볼 때, 웨이퍼 표면 전체에 대한 균일한 에너지 분포를 갖도록 하는 고른 고주파의 적용은 필수적이며, 이러한 고주파의 적용시의 균일한 에너지 분포의 적용은 고주파의 출력의 조절만으로는 달성될 수 없으며, 이를 해결하기 위하여는 고주파를 웨이퍼에 인가하는데 사용되는 고주파 전극으로서의 스테이지와 애노우드의 형태 및 실질적으로 웨이퍼를 고정시키는 기능을 하는 포커스링 등에 의하여 크게 좌우된다.
However, it is necessary to apply a uniform high-frequency wave to the wafer surface to obtain a uniform energy distribution over the entire surface of the wafer, and the application of a uniform energy distribution in the application of such a high- And it is highly dependent on the stage as the high-frequency electrode used for applying the high frequency to the wafer, the shape of the anode, and the focus ring functioning to substantially fix the wafer in order to solve this problem.
종래에는 이와 같이 플라즈마 처리장치 내에 설치되는 구조물들의 수명을 연장시키기 위하여 Si재질 대신 SiC 재질의 포커스링이나 전극을 제조하는 방법에 대한 연구가 진행되었다. Conventionally, a method of manufacturing a focus ring or an electrode made of SiC material instead of a Si material has been studied in order to prolong the lifetime of structures installed in the plasma processing apparatus.
본 발명의 출원인의 등록특허 10-1178184가 대표적인 예라 할 수 있다.
A representative example is the registered patent 10-1178184 of the applicant of the present invention.
상기 등록특허 10-1178184호에 기재된 바에 따르면, 그라파이트 원판의 전체에 SiC를 증착하여 SiC 코팅층을 형성하고, 절단을 통해 플라즈마 처리장치에 사용되는 SiC 소재의 구조물을 획득하는 방법이 기재되어 있다.
According to the method described in the above-mentioned Patent No. 10-1188184, a method of depositing SiC on the entire graphite plate to form a SiC coating layer and to obtain a structure of a SiC material to be used in the plasma processing apparatus through cutting is described.
그러나 이와 같이 제조된 SiC 소재의 구조물은 상기 그라파이트 원판에 접하는 면인 기재면과 그 기재면의 반대면인 성장면의 차이에 의해 수명에 큰 차이를 보인다.
However, the structure of the SiC material produced in this manner shows a great difference in the lifetime due to the difference between the substrate surface, which is the surface in contact with the graphite disk, and the growth surface, which is the surface opposite to the substrate surface.
도 1은 종래와 같이 제조된 SiC 구조물의 성장면과 기재면의 결정크기를 비교한 사진이다.FIG. 1 is a photograph showing a comparison of the crystal size of the substrate surface and the growth surface of the SiC structure manufactured in the conventional manner.
도 1을 참조하면 이러한 성장면의 결정 크기가 기재면의 결정 크기에 비해 더 큰 것을 알 수 있으며, 결정 크기의 차이에 의해 식각 경향에 차이가 발생하게 된다.
Referring to FIG. 1, it can be seen that the crystal size of the growth surface is larger than the crystal size of the substrate surface, and a difference in the etching tendency occurs due to the difference in crystal size.
도 2는 종래와 같이 제조된 SiC 구조물의 성장면과 기재면의 식각 경향의 차이를 비교한 도면이다.FIG. 2 is a graph comparing the difference in etching tendency between the growth surface and the substrate surface of a conventional SiC structure.
도 2를 참조하면 SiC 구조물의 성장면은 일부에서 깊이가 깊은 그루브 형상으로 식각이 일어나는 경향이 있으며, 기재면은 상대적으로 식각이 균일하게 일어나는 경향이 있다.
Referring to FIG. 2, the growth surface of the SiC structure tends to be etched in a deep groove shape, and the substrate surface tends to have a relatively uniform etch.
이처럼 기재면과 성장면의 차이에 의하여 SiC 구조물이 플라즈마 처리장치에 설치될 때 성장면이 플라즈마에 노출되는 방향으로 설치되는 경우, 위의 식각경향의 차이에 의해 기재면이 노출될 때에 비해 상대적으로 수명이 단축되는 문제점이 있었다.
When the SiC structure is installed in the plasma processing apparatus due to the difference between the substrate surface and the growth surface, when the growth surface is installed in the direction in which the growth surface is exposed to the plasma, There is a problem that the life is shortened.
상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 적어도 기재면과 성장면의 결정 크기의 차를 최소화하여 플라즈마 처리장치의 SiC 구조물의 방향성과 무관하게 수명의 단축을 방지할 수 있는 플라즈마 처리장치의 실리콘 카바이드 구조물 및 그 제조방법을 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems and provides a plasma processing method capable of minimizing a difference in crystal size between at least a substrate surface and a growth surface to prevent shortening of the lifetime regardless of the orientation of the SiC structure of the plasma processing apparatus. A silicon carbide structure of the device and a method of manufacturing the same.
아울러 본 발명이 해결하고자 하는 과제는, SiC 구조물의 제조에 소요되는 시간을 단축하여 생산성을 향상시킬 수 있는 플라즈마 처리장치의 실리콘 카바이드 구조물 및 그 제조방법을 제공함에 있다.
Another object of the present invention is to provide a silicon carbide structure of a plasma processing apparatus capable of shortening the time required for manufacturing an SiC structure and improving productivity, and a method of manufacturing the same.
상기와 같은 과제를 달성하기 위한 본 발명 플라즈마 처리장치의 SiC 구조물은, 기재면과 성장면이 구분되는 0.05 내지 0.1mm 두께의 SiC 베이스 구조물과, 상기 SiC 베이스 구조물의 상면과 저면에 각각 증착된 SiC 코팅층을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a plasma processing apparatus comprising: a SiC base structure having a thickness of 0.05 to 0.1 mm in which a base surface and a growth surface are distinguished from each other; and a SiC base structure deposited on the upper and lower surfaces of the SiC base structure, Coating layer.
또한 본 발명 플라즈마 처리장치의 SiC 구조물 제조방법은, a) 그라파이트 원판의 표면에 SiC를 증착하여 SiC 베이스 구조물을 형성하는 단계와, b) 상기 그라파이트 원판을 제거하여 SiC 베이스 구조물을 분리하는 단계와, c) 상기 SiC 베이스 구조물의 전면에 SiC를 코팅하여 실리콘 카바이드 구조물을 획득하는 단계를 포함한다.
The method for manufacturing a SiC structure of a plasma processing apparatus according to the present invention includes the steps of: a) depositing SiC on the surface of a graphite disk to form a SiC base structure; b) removing the graphite disk to separate the SiC base structure; c) coating SiC on the entire surface of the SiC base structure to obtain a silicon carbide structure.
본 발명은, 그라파이트판에 SiC를 화학기상 증착법으로 1차 증착하고, 그라파이트판과 SiC층을 분리하여, SiC 베이스 구조물을 제조한 후, SiC 베이스 구조물의 전면을 다시 SiC로 증착하여 양면이 동일 또는 유사한 결정 크기를 갖도록 함으로써, 플라즈마에 노출되는 면에 무관하게 수명이 단축됨을 방지할 수 있는 효과가 있다.In the present invention, SiC is first deposited on a graphite plate by chemical vapor deposition, the graphite plate and the SiC layer are separated, a SiC base structure is manufactured, and then the entire surface of the SiC base structure is again deposited with SiC, By having a similar crystal size, it is possible to prevent the lifetime from becoming short regardless of the surface exposed to the plasma.
또한 본 발명은 SiC 구조물을 제조할 때 SiC 베이스 구조물을 먼저 제작하고, 양면에 SiC 코팅층을 성장시킴으로써 종래의 일방향 성장에 비하여 원하는 두께의 SiC 구조물을 보다 빠르게 제조할 수 있어, 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
The present invention also relates to a method of manufacturing a SiC structure and a method of manufacturing a SiC structure by growing a SiC base layer on both sides and growing a SiC coating layer on both sides of the SiC structure, It is effective.
도 1은 종래의 제조방법으로 제조된 SiC 구조물의 성장면과 기재면의 결정크기를 비교한 사진이다.
도 2는 종래의 제조방법으로 제조된 SiC 구조물의 성장면과 기재면의 식각 경향을 비교한 도면이다.
도 3 내지 도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 실리콘 카바이드 구조물의 제조공정 수순 단면도이다.FIG. 1 is a photograph showing the crystal size of a substrate surface compared with the growth surface of a SiC structure manufactured by a conventional manufacturing method.
FIG. 2 is a graph comparing the growth tendency of the substrate surface and the growth surface of the SiC structure manufactured by the conventional manufacturing method.
3 to 6 are cross-sectional views illustrating a process of manufacturing a silicon carbide structure according to a preferred embodiment of the present invention.
이하, 본 발명 플라즈마 처리장치의 SiC 구조물 제조방법에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
Hereinafter, a method for manufacturing a SiC structure of a plasma processing apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3 내지 도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 처리장치의 SiC 구조물 제조방법에 따른 제조공정 수순 단면도이다.3 to 6 are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a plasma processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
도 3 내지 도 6을 각각 참조하면 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 처리장치의 SiC 구조물 제조방법은, 그라파이트 원판(10)을 준비하는 단계(도 3)와, 상기 그라파이트 원판(10)의 양면에 SiC를 증착하여 SiC 베이스 구조물(20)을 형성하는 단계(도 4)와, 상기 SiC 베이스 구조물(20)을 상기 그라파이트 원판(10)으로부터 분리하는 단계(도 5)와, 상기 분리된 SiC 베이스 구조물(20)의 전면에 SiC를 증착하여 SiC 코팅층(30)을 형성하는 단계(도 6)를 포함한다.
3 to 6, a method of manufacturing a SiC structure of a plasma processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention includes a step of preparing a graphite disk 10 (FIG. 3), a step of forming both surfaces of the graphite disk 10 (FIG. 5) of separating the
이하, 상기와 같이 구성되는 본 발명의 바람직한 실시예의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.
Hereinafter, the configuration and operation of the preferred embodiment of the present invention will be described in more detail.
먼저, 도 3에 도시한 바와 같이 증착의 베이스 기재로서 그라파이트 원판(10)을 준비한다. 상기 그라파이트 원판(10)은 표면의 조도가 낮은 것으로 한다.First, as shown in Fig. 3, a
그 다음, 도 4에 도시한 바와 같이 상기 그라파이트 원판(10)의 전체면에 화학기상증착법(CVD)으로 SiC를 증착하여 SiC 베이스 구조물(20)을 형성한다.
Then, as shown in FIG. 4, SiC is deposited on the entire surface of the
이때 상기 SiC 베이스 구조물(20)은 상기 그라파이트 원판(10)의 상면과 저면에 증착되며, 각각 그라파이트 원판(10)에 접하는 면인 기재면(21)과 기재면(21)의 반대편 면인 성장면(22)으로 구분된다.At this time, the
이때 상기 SiC 베이스 구조물(20)의 증착 두께가 얇을수록 상기 기재면(21)과 성장면(22)의 결정 크기의 차이가 적으며, 그 증착 두께가 두꺼울수록 상기 기재면(21)과 성장면(22)의 결정 크기의 차이가 크게 나타난다.At this time, the smaller the deposition thickness of the
통상 SiC 구조물의 최종 두께는 2mm인 것이 보통이며, 종래와 같이 2mm의 SiC 구조물을 증착하는 경우에 그 두께에 의해 기재면(21)과 성장면(22)의 결정 크기에 큰 차이가 발생하게 된다. Generally, the final thickness of the SiC structure is usually 2 mm, and when a SiC structure of 2 mm is deposited as in the conventional case, there is a large difference in crystal size between the
상기 SiC 베이스 구조물(20)의 두께를 0.05 내지 0.1mm 정도로 증착하는 경우에는 기재면(21)과 성장면(22)의 결정 크기의 차가 거의 나타나지 않으며, 0.1 내지 1mm의 두께에서도 기재면(21)과 성장면(22)의 결정 크기의 차가 크지 않다. When the thickness of the
상기 0.05mm를 최소값으로 설명한 것은 SiC 베이스 구조물(20)을 그라파이트 원판(10)으로 분리하거나 취급할 때의 최소 두께로 이해될 수 있다.
The minimum value of 0.05 mm can be understood as the minimum thickness when separating or handling the
본 발명에서는 상기 SiC 베이스 구조물(20)의 두께가 0.05 내지 0.1mm의 두께로 증착하는 것으로 한다.
In the present invention, the
그 다음, 도 5에 도시한 바와 같이 상기 그라파이트 원판(10)으로부터 SiC 베이스 구조물(20)을 분리한다. 이때 상기 도 4에서 가로방향으로 그라파이트 원판(10)을 절단하여 노출되는 그라파이트 원판(10)을 물리적으로 연마하여 제거하거나, 화학적으로 산화시켜 제거하는 방법을 사용할 수 있다. Then, the
이와 같은 방법을 통해 한 쌍의 SiC 베이스 구조물(20)을 얻을 수 있으며, 그 SiC 베이스 구조물(20)의 기재면(21)과 성장면(22)의 결정차이는 거의 발생하지 않게 된다.
A pair of
그 다음, 도 6에 도시한 바와 같이 상기 SiC 베이스 구조물(20)의 전면에 SiC를 증착하여 SiC 코팅층(30)을 형성한다.Then, as shown in FIG. 6, SiC is deposited on the entire surface of the
이때 SiC 코팅층(30)은 SiC 베이스 구조물(20)의 상면과 저면에서 각각 성장하게 되며, 상면과 저면에서 각각 성장되는 SiC 코팅층(30)의 성장두께는 일방으로 성장하는 종래의 방법에 비하여 성장두께가 절반 이하가 된다. At this time, the
따라서 상기 SiC 코팅층(30)의 기재면(31)과 성장면(32)의 결정차이가 상대적으로 감소하게 된다. Therefore, the crystal difference between the
예를 들어 최종 SiC 구조물의 두께를 2mm로 하였을 때, 상기 SiC 베이스 구조물(20)의 두께를 0.1mm로 형성한 경우 상기 SiC 베이스 구조물(20)의 상면과 저면에 각각 증착되는 SiC 코팅층(30)의 두께는 0.95mm가 되며, 이는 SiC 구조물의 제조에 소요되는 시간을 단축하여 생산성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 SiC 코팅층(30)의 기재면(31)과 증착면(32)의 결정 크기의 차이를 줄일 수 있다.
For example, when the thickness of the final SiC structure is 2 mm and the thickness of the
상기 SiC 코팅층(30)의 증착면(32)은 본 발명에 따른 SiC 구조물의 표면이 되며, 방향성을 가지지 않기 때문에 어느 면이건 플라즈마에 노출되어도 동일한 정도의 식각률과 식각 양상을 나타내게 된다.
Since the
전술한 바와 같이 본 발명에 대하여 바람직한 실시예를 들어 상세히 설명하였지만, 본 발명은 전술한 실시예들에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명에 속한다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, And this also belongs to the present invention.
10:그라파이트 원판 20:SiC 베이스 구조물
21:기재면 22:성장면
30:SiC 코팅층 31:기재면
32:성장면10: graphite disc 20: SiC base structure
21: Base material side 22: Growth side
30: SiC coating layer 31: substrate surface
32: Growth side
Claims (5)
상기 SiC 베이스 구조물의 상면과 저면에 증착된 SiC 코팅층들을 포함하되, 상기 SiC 코팅층들 각각은 기재면이 상기 SiC 베이스 구조물에 접하며, 성장면이 바깥쪽을 향하고,
상기 SiC 베이스 구조물과 상기 SiC 코팅층들의 두께의 합은 2mm인 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치의 실리콘카바이드 구조물.
A SiC base structure having a thickness of 0.05 to 0.1 mm, the base surface and the growth surface being distinguished; And
And SiC coating layers deposited on the upper and lower surfaces of the SiC base structure, wherein each of the SiC coating layers has a base surface contacting the SiC base structure, a growth surface facing outward,
Wherein the sum of the thicknesses of the SiC base structure and the SiC coating layers is 2 mm.
b) 상기 그라파이트 원판을 제거하여 SiC 베이스 구조물을 분리하는 단계; 및
c) 상기 SiC 베이스 구조물의 상면과 저면에 SiC를 코팅하여, 상기 SiC 베이스 구조물의 상면과 저면에 기재면이 접하며 성장면이 바깥쪽을 향하는 SiC 코팅층들을 형성하여 실리콘 카바이드 구조물을 획득하는 단계를 포함하는 플라즈마 처리장치의 실리콘 카바이드 구조물 제조방법.
a) depositing SiC on a graphite disk to form a 0.05 to 0.1 mm thick SiC base structure;
b) removing the graphite disc to separate the SiC base structure; And
c) coating the upper and lower surfaces of the SiC base structure with SiC to form SiC coating layers with the substrate surface contacting the upper and lower surfaces of the SiC base structure facing outward to obtain a silicon carbide structure Of the silicon carbide structure.
상기 SiC 코팅층들 각각은,
상기 SiC 베이스 구조물의 두께와의 합이 2mm가 되도록 상기 SiC 베이스 구조물의 상면과 저면에서 성장되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치의 실리콘 카바이드 구조물 제조방법.
The method of claim 3,
Each of the SiC coating layers comprises
And the thickness of the SiC base structure is 2 mm. The method for manufacturing a silicon carbide structure according to claim 1, wherein the SiC base structure is grown on the upper surface and the lower surface of the SiC base structure.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102035931B1 (en) | 2018-04-24 | 2019-10-24 | 주식회사 케이엔제이 | Manufacturing method for SiC plate |
KR20230120297A (en) | 2022-02-09 | 2023-08-17 | (주)그린파워 | Focus ring with heat dissipation function for plasma processing apparatus and manufacturing method thereof |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101941232B1 (en) * | 2016-12-20 | 2019-01-22 | 주식회사 티씨케이 | Part for semiconductor manufactoring, part for semiconductor manufactoring including complex coating layer and method of manufacturning the same |
KR102012068B1 (en) * | 2016-12-20 | 2019-08-19 | 주식회사 티씨케이 | MANUFACTORING METHOD OF SiC FOCUS RING WITH THIN FILM FOR SEPARATING AND SLIT FURROW AND BASE MATERIAL THEREOF |
KR20230105984A (en) | 2022-01-05 | 2023-07-12 | (주)그린파워 | Manufacturing method of focus-ring for plasma processing apparatus |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013139622A (en) * | 2011-12-29 | 2013-07-18 | Tokai Carbon Korea Co Ltd | Silicon carbide structure and method for producing the same |
-
2013
- 2013-10-17 KR KR1020130124065A patent/KR101547621B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013139622A (en) * | 2011-12-29 | 2013-07-18 | Tokai Carbon Korea Co Ltd | Silicon carbide structure and method for producing the same |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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