KR101546413B1 - Apparatus for cleaning filtration membrane block and Method for cleaning the same - Google Patents

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KR101546413B1
KR101546413B1 KR1020140182508A KR20140182508A KR101546413B1 KR 101546413 B1 KR101546413 B1 KR 101546413B1 KR 1020140182508 A KR1020140182508 A KR 1020140182508A KR 20140182508 A KR20140182508 A KR 20140182508A KR 101546413 B1 KR101546413 B1 KR 101546413B1
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filtration membrane
membrane block
flat
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injection
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장재영
김성호
현병로
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주식회사 퓨어엔비텍
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Abstract

The present invention relates to an apparatus for washing a filtration membrane block and a washing method thereof and, more specifically, to an apparatus for washing the filtration membrane block made up of a plurality of submerged flat membranes and a washing method thereof. The present invention comprises: a filtration membrane block where a plurality of submerged flat membranes are arranged; a spray part which is located on an upper part of the filtration membrane block and sprays high pressure water between the submerged flat membranes; and a cylinder part which is connected to an upper part of the spray part and transports the spray part vertically.

Description

여과막 블록 세척장치 및 그의 세척방법{Apparatus for cleaning filtration membrane block and Method for cleaning the same}FIELD OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a filtration membrane block cleaning apparatus,

본 발명은 여과막 블록 세척장치 및 그의 세척방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 다수의 침지형 평막으로 구성된 여과막 블록을 세척하기 위한 여과막 블록 세척장치 및 그의 세척방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a filtration membrane block cleaning apparatus and a cleaning method thereof, and more particularly, to a filtration membrane block cleaning apparatus and a cleaning method thereof for cleaning a filtration membrane block composed of a plurality of submerged flat membranes.

전 세계적으로 물에 대한 관심은 점점 높아지고 있다. UN 연구 보고서에 의하면 2025년에는 전세계 인구의 3분의 1이 물부족 문제로 고통을 받을 것이라고 경고하였다.Worldwide, interest in water is increasing. The UN study reports that in 2025 a third of the world's population will suffer from water shortages.

이와 같은 이유로 지구의 수자원의 효율적인 이용을 위해 정수기술의 연구개발이 활발히 진행되고 있다. 특히 정밀 여과막이나 한외 여과막을 이용하여 하천수, 지하수, 및 하수 처리수로부터 공업용수나 수도물을 정수하거나, 역삼투막을 이용하여 해수담수화를 위한 분리법이 많이 각광을 받고 있다.For this reason, research and development of water purification technology is actively being carried out for efficient use of water resources of the earth. Particularly, a separation method for seawater desalination using a microfiltration membrane or an ultrafiltration membrane has been popular for purifying industrial water or tap water from river water, ground water, and sewage water or using reverse osmosis membrane for seawater desalination.

그러나, 원수를 대상으로 막 여과를 계속하면, 여과수의 양에 따라 막 표면이나 막 세공 내에 미생물 유래 단백질 등의 이물질이 증가하여 여과막의 수명을 단축시키거나, 처리수가 제대로 여과되지 않는다는 문제점이 있다.However, if the membrane filtration is continued with the raw water, there is a problem that foreign substances such as proteins derived from microorganisms increase in the membrane surface and membrane pores depending on the amount of filtrate, shortening the service life of the filtration membrane or preventing the treated water from being properly filtered.

이를 극복하기 위해 종래의 선행기술문헌에 기재된 특허문헌은, 분리막보다 고경도의 입자를 함유하는 원수를 무기 응집제와 혼합 교반한 후에 분리막으로 여과를 행하는 분리막 모듈의 세정방법에 있어서, 공기 세정시의 고경도 입자에 의한 막 표면의 찰과를 효율적으로 저감하고, 연속해서 여과 공정에 제공되는 경우에는 막 표면의 고경도 입자를 포함하는 응집 플록 유래의 케이크 여과 저항을 억제하여 장기간에 걸친 낮은 막 여과 차압에서의 안정적인 운전을 가능하게 하기 위해서, 먼저 (a) 여과 종료 후에 분리막 모듈 내의 막 1차측의 물을 계외로 배출하고, 이어서 (b) 분리막 모듈 내의 막 1차측을 킬레이트제를 포함하는 물로 일정 시간 채운 후, (c) 분리막 모듈 내의 막 1차측의 킬레이트제를 포함하는 물을 계외로 배출하고, 마지막으로 (d) 역압 세정수를 분리막 모듈의 막 2차측으로부터 막 1차측으로 송액하는 역압 세정을 실시하면서 분리막 모듈 내의 역압 세정 배수를 배출하는, 분리막 모듈의 세정방법에 대해 개시하고 있다.In order to overcome this, the conventional patent document described in the prior art documents is a method of cleaning a separation membrane module in which raw water containing particles having a higher hardness than a separation membrane is mixed and stirred with an inorganic flocculant and then filtered with a separation membrane, It is possible to effectively reduce the scratch on the surface of the membrane due to the high hardness particles and to suppress the cake filtration resistance derived from the cohesive flocs including the hardness particles on the surface of the membrane when the filtration process is continuously provided, (A) after completion of the filtration, the water on the membrane primary side in the separation membrane module is discharged to the outside of the system, and then (b) the primary side of the membrane in the separation membrane module is diluted with water containing chelating agent (C) water containing the chelating agent on the membrane primary side in the membrane module is discharged to the outside of the system, and finally (d) Discloses a cleaning method of a separation membrane module that discharges backwash water in a separation membrane module while performing reverse pressure cleaning in which pressure washing water is fed from the membrane secondary side of the separation membrane module to the membrane primary side.

그러나 종래에는, 서로 다른 단계별 오염 정도에 따라 그에 적합한 세척공정을 수행하는 분리막 모듈의 세척기술에 대해서 개시된 바 없다.
However, in the prior art, there has not been disclosed a cleaning technique of a membrane module that performs a washing process suitable for different stages of contamination degree.

특허문헌 1: 대한민국 공개특허공보 제2014-0033154호Patent Document 1: Korean Patent Laid-Open Publication No. 2014-0033154

본 발명은 상술한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은, 단계별 오염 정도에 따라 해당 오염단계에 적합하도록 여과막에 고착된 이물질을 효율적으로 제거할 수 있는 여과막 블록 세척장치 및 그의 세척방법을 제공하는 것이다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been conceived to solve the problems of the prior art as described above, and it is an object of the present invention to provide a filtration membrane module capable of efficiently removing foreign substances fixed to a filtration membrane And a cleaning method thereof.

이를 위해 본 발명에 따르는 여과막 블록 세척장치는, 다수의 침지형 평막이 배열된 여과막 블록; 상기 여과막 블록의 상부에 구비되고, 상기 침지형 평막 사이에 고압수를 분사하는 분사부; 및 상기 분사부의 상부에 연결되고, 상기 분사부를 상하 이동시키는 실린더부; 를 포함한다.To this end, the filtration membrane block cleaning apparatus according to the present invention comprises: a filtration membrane block having a plurality of submerged flat membranes arranged; A jetting portion provided on the filtration membrane block for jetting high pressure water between the submerged flat membranes; A cylinder portion connected to an upper portion of the injection portion and moving the injection portion up and down; .

그리고 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 여과막 블록을 하방으로부터 지지하면서 이송하는 컨베이어부를 더 포함한다.And a conveyor unit for conveying the filtration membrane block while supporting the filtration membrane block from below, according to an embodiment of the present invention.

또한, 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 여과막 블록은, 상기 침지형 평막이 10 내지 20개가 구비된다.Also, according to an embodiment of the present invention, the filtration membrane block has 10 to 20 dip plates.

한편, 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 분사부는, 상부가 상기 실린더부의 하부에 연결되는 분사모듈; 상기 분사모듈의 하부에 배열되어 연결된 다수의 분사노즐; 및 상기 분사모듈의 일측에 연결되고, 상기 분사노즐과 연통되어 고압수를 상기 분사노즐로 공급하는 수압밸브; 를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the injection unit includes a spray module having an upper portion connected to a lower portion of the cylinder portion; A plurality of spray nozzles arranged at a lower portion of the spray module; A water pressure valve connected to one side of the injection module and communicating with the injection nozzle to supply high pressure water to the injection nozzle; .

그리고 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 분사노즐은 9 내지 19개 구비되고, 상기 수압밸브에서 공급되는 고압의 세척수를 상기 침지형 평막 사이에 하방으로 분사한다.According to an embodiment of the present invention, 9 to 19 injection nozzles are provided, and the high-pressure washing water supplied from the water pressure valve is sprayed downward between the submerged flat membranes.

또한, 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 실린더부는, 프레임구조로 형성된 본체; 상기 본체의 상부 중앙에 고정 연결되고, 상기 분사부가 하부에 연결된 실린더; 상기 본체의 일측에 구비되고, 상기 실린더 내부의 공압을 조절하는 공압밸브; 상기 실린더와 상기 공압밸브의 공기 유통로 사이에 구비되고, 공압밸브에 의해 유입되는 공기의 습기를 제거하기 위한 레귤레이터; 및 상기 실린더의 외측에 적어도 하나 구비되고, 상기 실린더의 상하 이동을 안내하는 가이드; 를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the cylinder portion may include a main body formed in a frame structure; A cylinder fixedly connected to the upper center of the body and connected to the lower portion of the injection portion; A pneumatic valve provided at one side of the main body, the pneumatic valve controlling the pneumatic pressure inside the cylinder; A regulator provided between the cylinder and the air passage of the pneumatic valve for removing moisture from the air introduced by the pneumatic valve; And a guide provided at least one outside the cylinder, the guide guiding the upward and downward movement of the cylinder; .

한편, 이를 위해 본 발명에 따르는 여과막 블록 세척장치는, 다수의 침지형 평막이 배열된 여과막 블록; 상기 여과막 블록의 상부에 구비되고, 상기 침지형 평막 사이에 적어도 하나의 홀을 구비한 평판형 날을 삽입하는 삽입부; 및 상기 삽입부의 상부에 연결되고, 상기 분사부를 상하 이동시키는 실린더부; 를 포함한다.To this end, the filtration membrane block cleaning apparatus according to the present invention comprises: a filtration membrane block having a plurality of submerged flat membranes arranged; An insertion portion provided on the filtration membrane block for inserting a flat blade having at least one hole between the submerged flat membranes; A cylinder connected to an upper portion of the insertion portion and vertically moving the injection portion; .

그리고 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 여과막 블록을 하방으로부터 지지하면서 이송하는 컨베이어부를 더 포함한다.And a conveyor unit for conveying the filtration membrane block while supporting the filtration membrane block from below, according to an embodiment of the present invention.

또한, 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 여과막 블록은, 상기 침지형 평막이 10 내지 20개가 구비된다.Also, according to an embodiment of the present invention, the filtration membrane block has 10 to 20 dip plates.

한편, 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 삽입부는, 상부가 상기 실린더부의 하부에 연결되는 삽입모듈; 상기 분사모듈의 하부에 배열된 다수의 평판형 날; 및 상기 평판형 날의 상하이동을 안내하는 평판형 날 가이드를 포함하고, 상기 평판형 날은 상기 침지형 평막 사이에 부분으로 삽입되거나, 전체로 삽입되는 구조이다.According to an embodiment of the present invention, the inserting unit includes: an insertion module having an upper portion connected to a lower portion of the cylinder portion; A plurality of planar blades arranged at a lower portion of the injection module; And a planar blade guide for guiding upward and downward movement of the planar blade, wherein the planar blade is inserted into a part between the submerged flat films or inserted into the whole.

그리고 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 평판형 날은 9 내지 19개 구비되고, 상기 평판형 날의 두께는, 상기 침지형 평막 사이의 간격 이하이다.According to an embodiment of the present invention, 9 to 19 of the planar blades are provided, and the thickness of the planar blades is equal to or less than a distance between the planar blades.

이를 위해 본 발명에 따르는 여과막 블록 세척장치는, 다수의 침지형 평막이 배열된 여과막 블록; 상기 여과막 블록의 상부에 구비되고, 상기 침지형 평막 사이에 평판형 날을 삽입하며, 상기 평판형 날의 양측에 구비된 다수의 노즐로 고압수를 분사하는 삽입 분사부; 및 상기 삽입 분사부의 상부에 연결되고, 상기 분사부를 상하 이동시키는 실린더부; 를 포함한다.To this end, the filtration membrane block cleaning apparatus according to the present invention comprises: a filtration membrane block having a plurality of submerged flat membranes arranged; An injection spraying part provided on the filtration membrane block for injecting a high pressure water into a plurality of nozzles provided on both sides of the flat blade and inserting a flat blade between the submerged flat membranes; And a cylinder portion connected to an upper portion of the insertion injection portion and moving the injection portion up and down; .

그리고 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 여과막 블록을 하방으로부터 지지하면서 이송하는 컨베이어부를 더 포함한다.And a conveyor unit for conveying the filtration membrane block while supporting the filtration membrane block from below, according to an embodiment of the present invention.

또한, 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 여과막 블록은, 상기 침지형 평막이 10 내지 20개가 구비된다.Also, according to an embodiment of the present invention, the filtration membrane block has 10 to 20 dip plates.

한편, 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 삽입부는, 상부가 상기 실린더부의 하부에 연결되는 삽입 분사모듈; 상기 삽입 분사모듈의 하부에 배열된 다수의 평막형 삽입 분사날; 및 상기 평판형 삽입 분사날의 상하 이동을 안내하는 평판형 삽입 분사날 가이드; 를 포함하고, 상기 평판형 삽입 분사날은 상기 침지형 평막 사이에 부분으로 삽입되거나 전체로 삽입되는 구조이다.According to an embodiment of the present invention, the insertion portion may include an insertion injection module having an upper portion connected to a lower portion of the cylinder portion; A plurality of flat spray inserts arranged at a lower portion of the insert injection module; And a flat insertion-type injection blade guide for guiding the up-and-down movement of the flat-type insertion injection blades; And the flat insertion-type injection blades are partly inserted or entirely inserted between the submerged flat membranes.

그리고 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 삽입 분사날은, 상부면과 하부면에 길이방향으로 형성된 다수의 요철홈을 각각 구비한 내부판; 및 상기 내부판이 삽입되고, 측면에 다수의 노즐이 형성된 케이스; 를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the insert injection blades include: an inner plate having a plurality of recessed and recessed grooves formed in a longitudinal direction on an upper surface and a lower surface, respectively; A case having the inner plate inserted therein and having a plurality of nozzles formed on a side thereof; .

이를 위해 본 발명에 따르는 여과막 블록 세척방법은, 다수의 침지형 평막이 배열된 여과막 블록의 제1 내지 제4 단계 오염 정도에 따라 세척하는, 여과막 블록 세척방법에 있어서, 상기 여과막 블록이 제1 단계 오염에 해당하면, 상기 다수의 침지형 평막 사이에 고압수를 분사하여 이물질을 제거하는 단계; 상기 여과막 블록이 2 내지 제3 단계 중 어느 하나의 오염에 해당하면, 상기 침지형 평막 사이에 평막형 날을 삽입하고, 상기 평판형 날의 양측에 구비된 다수의 노즐로 고압수를 분사함으로써 이물질을 제거하는 단계; 및 상기 여과막 블록이 제4 단계 오염에 해당한다고 판단하면, 상기 다수의 침지형 평막 사이에, 적어도 하나의 홀을 구비한 평막형 날을 삽입하고, 상기 평판형 날의 삽입압에 의해 고착된 이물질을 제거하는 단계; 를 포함한다.To this end, the filtration membrane block cleaning method according to the present invention is a filtration membrane block cleaning method for cleaning according to the first to fourth step contamination degree of a filtration membrane block having a plurality of submerged flat membranes arranged therein, The method comprising: spraying high pressure water between the plurality of submerged flat membranes to remove foreign matter; If the filtration membrane block is contaminated by any one of the second to third steps, a flat-film-like blade is inserted between the submerged flat membranes, and high-pressure water is sprayed from a plurality of nozzles provided on both sides of the flat- Removing; And a step of inserting a flat-film-like blade having at least one hole between the plurality of submerged flat membranes, if it is determined that the filtration membrane block corresponds to the fourth stage contamination, Removing; .

또한, 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 제1 단계 오염은, 상기 침지형 평막의 표면이 황갈색이고, 유기오염만 진행된 상태로 협잡물 및 상기 침지형 평막 사이에 고형화된 이물질 발생이 미비한 상태이다.According to an embodiment of the present invention, the first stage contamination is a state where the surface of the submerged flat membrane is yellowish brown and organic contaminants are only advanced, and no foreign matter is solidified between the submerged membrane and the submerged flat membrane.

한편, 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 제2 단계 오염은, 상기 침지형 평막의 표면이 황갈색이고, 유기물이 표면에 부착된 상태로 협잡물 및 분리막 사이에 고형화된 이물질이 일정량 발생한 상태이다.Meanwhile, according to an embodiment of the present invention, the second-stage contamination is a state in which a certain amount of foreign matter solidified between the contaminants and the separator in a state where the surface of the submerged flat membrane is yellowish brown and the organic matter is attached to the surface thereof is generated.

그리고 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 제3 단계 오염은, 상기 침지형 평막의 표면이 고동색이고, 유기물과 무기물 오염이 진행된 상태로 협잡물 및 분리막 사이에 고형화된 이물질이 많이 발생한 상태이다.According to an embodiment of the present invention, the third-stage contamination is a state in which the surface of the submerged flat film has a dark color, and many foreign substances solidified between the contaminants and the separator are generated in a state where the organic and inorganic substances are contaminated.

또한, 본 발명의 실시 예에 따른, 상기 제4 단계 오염은, 상기 침지형 평막의 표면이 짙은 고동색이고, 일부분 검정색으로 유기물과 무기물 오염이 진행된 상태로 무기오염이 심하게 진행되었으며 협잡물과 상기 침지형 평막 사이에 고형화된 이물질이 상당히 많이 발생한 상태이다.
In addition, according to an embodiment of the present invention, the fourth stage contamination is a state in which the surface of the submerged flat membrane has a dark brown color, the inorganic contamination is progressed in a state where the organic matter and the inorganic material are contaminated with a part of black, A considerable amount of foreign matter is solidified in the state.

본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.The features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description based on the accompanying drawings.

이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 윈칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
Prior to that, terms and words used in the present specification and claims should not be construed in a conventional and dictionary sense, and the inventor may properly define the concept of the term in order to best explain its invention It should be construed in accordance with the meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

본 발명의 다양한 실시 예에 따르면, 여과막 블록 세척장치는, 침지형 평막 사이에 고착된 이물질로 고압의 세척수를 분사함으로써, 상기 이물질을 용이하게 하방으로 배출시킬 수 있는 효과가 있다.According to various embodiments of the present invention, the filtration membrane block washing apparatus has an effect that the foreign matter can be easily discharged downward by spraying the high-pressure washing water with the foreign matter fixed between the submerged flat membranes.

또한, 본 발명의 다양한 실시 예에 따르면, 여과막 블록 세척장치는, 다수의 평판형 날로 침지형 평막이 이루는 틈에 고착된 이물질을 용이하게 제거할 수 있으며, 특히 고착정도가 심하고 강도가 높은 이물질을 효과적으로 제거할 수 있는 효과도 있다.In addition, according to various embodiments of the present invention, the filtration membrane block cleaning apparatus can easily remove the foreign substances fixed in the gaps formed by the plurality of flat plate-type impregnated flat membranes, and more particularly, There is also an effect that can be removed.

그리고, 본 발명의 다양한 실시 예에 따르면, 여과막 블록 세척장치는, 다수의 평판형 삽입 분사날로 침지형 평막이 이루는 틈에 고착된 이물질을 하방으로 밀어내는 한편, 측면 고압 세척수를 분사하여 상기 이물질을 2차로 제거할 수 있는 효과가 있다.According to various embodiments of the present invention, the filtration membrane block cleaning device pushes the foreign substances fixed in the gaps formed by the submerged flat membrane with a plurality of plate-like insertion spray blades downward, while spraying the side high- It can be removed by car.

따라서, 본 발명의 다양한 실시 예에 따르면, 여과막 블록 세척장치는 궁극적으로 다양한 오염 정도에 적합하도록 여과막을 효율적으로 세척할 수 있는 효과가 있다.
Therefore, according to various embodiments of the present invention, the filtration membrane block cleaning apparatus can effectively clean the filtration membrane to suit various degrees of contamination ultimately.

도 1은 본 발명의 제1 실시 예에 따르는 여과막 블록 세척장치를 도시한 정면도.
도 2는 도 1에 도시한 여과막 블록 세척장치의 측면도.
도 3은 도 1 및 도 2에 도시한 여과막 블록의 사시도.
도 4는 도 1에 도시한 분사부의 일측을 도시한 측면도.
도 5는 도 4에 도시한 분사부의 정면도.
도 6은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치를 도시한 정면도.
도 7(a) 내지 도 7(c)는 본 발명의 제2 실시 예에 따른, 다양한 여과막 블록 세척장치의 측면도.
도 8(a) 내지 도 8(c)는 도 7(a) 내지 도 7(c)에 도시한 각각의 여과막 블록 세척장치의 삽입부에 구비된 다양한 평판형 날의 일측을 도시한 측면도.
도 9는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치를 도시한 정면도.
도 10(a) 내지 도 10(c)는 본 발명의 제3 실시 예에 따른, 다양한 여과막 블록 세척장치의 측면도.
도 11은 도 10(a) 내지 도 10(c)에 도시한 각각의 여과막 블록 세척장치에 구비된 삽입 분사부의 삽입 분사날을 도시한 예시도.
도 10은 도 9에 도시한 여과막 블록 세척장치의 측면도.
도 11은 도 9에 도시한 분사부의 삽입 분사날의 내부를 도시한 단면도.
도 12는 본 발명의 제4 실시 예에 따른 여과막 세척방법을 도시한 순서도.
도 13은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치로 제4 오염에 해당되는 여과막 블록을 1차 세척 후, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치로 2차 세척하는 공정을 보여주는 예시도.
도 14는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치로 제2 내지 제3 오염에 해당되는 여과막 블록을 세척하는 공정을 보여주는 예시도.
1 is a front view showing a filtration membrane block cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention;
2 is a side view of the filtration membrane block cleaning apparatus shown in FIG.
3 is a perspective view of the filter membrane block shown in Figs. 1 and 2. Fig.
Fig. 4 is a side view showing one side of the jetting portion shown in Fig. 1; Fig.
5 is a front view of the jetting portion shown in Fig.
FIG. 6 is a front view showing a filtration membrane block cleaning apparatus according to a second embodiment of the present invention. FIG.
7 (a) to 7 (c) are side views of various filtration membrane block cleaning apparatuses according to a second embodiment of the present invention.
8 (a) to 8 (c) are side views showing one side of various plate-shaped blades provided in an inserting portion of each filtration membrane block washing apparatus shown in Figs. 7 (a) to 7 (c)
9 is a front view showing a filtration membrane block cleaning apparatus according to a third embodiment of the present invention.
10 (a) to 10 (c) are side views of various filtration membrane block cleaning apparatuses according to a third embodiment of the present invention.
Fig. 11 is an exemplary view showing an insertion jetting edge of an insertion jetting portion provided in each filtration membrane block cleaning device shown in Figs. 10 (a) to 10 (c); Fig.
10 is a side view of the filtration membrane block cleaning apparatus shown in Fig.
11 is a cross-sectional view showing the inside of the insertion injection blade of the injection portion shown in Fig.
12 is a flowchart showing a filtration membrane cleaning method according to a fourth embodiment of the present invention.
13 is a view illustrating a process of washing a filtration membrane block corresponding to a fourth contamination with a filtration membrane block washing apparatus according to a second embodiment of the present invention and then performing a second washing with the filtration membrane block washing apparatus according to the first embodiment of the present invention Fig.
FIG. 14 is an exemplary view showing a process of washing filter membrane blocks corresponding to second to third contaminations with the filtration membrane block cleaning apparatus according to the third embodiment of the present invention. FIG.

본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시 예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The objectives, specific advantages and novel features of the present invention will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG. It should be noted that, in the present specification, the reference numerals are added to the constituent elements of the drawings, and the same constituent elements are assigned the same number as much as possible even if they are displayed on different drawings.

또한, 이하에서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다. 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있음을 의미한다.In addition, the singular forms used below include plural forms unless the phrases expressly have the opposite meaning. Throughout the specification, when an element is referred to as "including" an element, it means that it can include other elements as well, without departing from the other elements unless specifically stated otherwise.

도 1 내지 도 14의 동일 부재에 대해서는 동일한 도면 번호를 기재하였다.The same reference numerals are used for the same members as in Figs. 1 to 14. Fig.

아울러, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단된 경우 그 상세한 설명은 생략한다.In the following description of the present invention, detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시형태를 상세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 제1 실시 예에 따르는 여과막 블록 세척장치를 도시한 정면도이고, 도 2는 도 1에 도시한 여과막 블록 세척장치의 측면도이며, 도 3은 도 1 및 도 2에 도시한 여과막 블록의 사시도이며, 도 4는 도 1에 도시한 분사부의 일측을 도시한 측면도이며, 도 5는 도 4에 도시한 분사부의 정면도이다.FIG. 1 is a front view showing a filtration membrane block cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a side view of the filtration membrane block cleaning apparatus shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a cross- FIG. 4 is a side view showing one side of the injection part shown in FIG. 1, and FIG. 5 is a front view of the injection part shown in FIG.

본 발명에 따르는 여과막 블록 세척장치(100)는 여과막 블록(110), 분사부(120), 실린더부(130), 및 컨베이어부(140)를 포함한다.The filtration membrane block cleaning apparatus 100 according to the present invention includes a filtration membrane block 110, a jetting section 120, a cylinder section 130, and a conveyor section 140.

이와 같이 구성된 본 발명의 제1 실시 예에 따르는 여과막 블록 세척장치(100)를 후술한다.The filtration membrane block cleaning apparatus 100 constructed as described above according to the first embodiment of the present invention will be described below.

우선, 여과막 블록(110)이 개시된다.First, the filtration membrane block 110 is started.

도 3을 참조하면, 여과막 블록(110)은, 오염수의 콜로이드, 탁질 물질, 조류, 박테리아 등을 여과하는 정밀 여과막(Microfiltration Membrane)을 이용한 전처리 여과막 블록인 것이 바람직하다.Referring to FIG. 3, the filtration membrane block 110 is preferably a pretreatment filtration membrane block using a microfiltration membrane that filters colloidal, supernatant, algae, bacteria, etc. of polluted water.

이와 같이 구성된 여과막 블록(110)은, 다수의 침지형 평막(111), 다수의 침지형 평막(111)의 양단부에 각각 맞물리는 평막 고정판(112), 및 평판 고정판(112) 각각에 장착되고 흡입구 또는 배출구를 형성하는 유로판(113)을 포함함으로써, 일측 유로판(113)에 형성된 유로구(113a)로 원수를 유입하여, 침지형 평막(111)에 의해 상기 원수를 여과하고, 타측 유로판(113)에 형성된 유로구(113a)로 처리수를 배출할 수 있다.The filtration membrane block 110 constructed as described above is mounted on each of the flat plate fixing plate 112 and the flat plate fixing plate 112 which are engaged with both ends of a plurality of the submerged flat membranes 111 and the plurality of submerged flat membranes 111, The raw water is flowed into the flow passage 113a formed in the one flow path plate 113 and the raw water is filtered by the dip type spreading sheet 111 so that the flow path of the other flow path plate 113, The process water can be discharged to the flow passage 113a formed in the discharge port 113a.

한편, 침지형 평막(110)은 상술한 여과작용으로 인해 침지형 평막(111)사이에 슬러지 형태의 각종 이물질이 부착되며, 시간이 경과하면서 상기 이물질의 강도와 고착도가 높아진다.On the other hand, in the submerged flat membrane 110, sludge-like foreign matter adheres between the submerged flat membranes 111 due to the above-described filtration action, and the strength and fixability of the foreign matter are increased over time.

이와 같은 오염된 여과막 블록(110)은, 컨베이어부(140)에 의해 여과막 블록 세척장치(100)의 분사부(120) 아래로 이송된다.The contaminated filtration membrane block 110 is conveyed by the conveyor section 140 below the jetting section 120 of the filtration membrane block cleaning apparatus 100.

즉, 컨베이어부(140)는 여과막 블록(110)을 분사부(120)의 아래로 이송한다. 그러면, 실린더부(130)는 분사부(120)의 크기와 노즐의 위치에 적합하도록 유동적으로 분사부(120)를 상하 이동시킨다. That is, the conveyor section 140 conveys the filtration membrane block 110 below the jetting section 120. Then, the cylinder part 130 moves the jet part 120 up and down in a fluid manner to fit the size of the jet part 120 and the position of the nozzle.

이를 위해 실린더부(130)는, 본체(131), 실린더(132), 공압밸브(133), 레귤레이터(134), 및 가이드(135)를 포함한다.To this end, the cylinder portion 130 includes a main body 131, a cylinder 132, a pneumatic valve 133, a regulator 134, and a guide 135.

우선, 본체(131)는 다양한 프레임들을 볼트와 너트로 연결한 구조로 형성되며, 여과막 블록 세척장치(100)의 외형을 이룬다. 이와 같이 구성된 본체(131)의 상부 중앙에는 실린더(132)가 고정 구비된다. 실린더(132)는 공압밸브(133)에 의해 내부 압력이 조절되고, 상기 압력에 의해 실린더(132) 하부에 연결된 분사부(120)를 상하 이동시킨다. 그리고 실린더(132)의 상하 이동을 안내하기 위한 하나 이상의 가이드(135)가 실린더(132)를 중심으로 본체(131)에 고정 구비되는 것이 바람직하다. 또한, 실린더부(130)는 레귤레이터(134)를 더 구비하여 공압밸브(133)를 통해 유입되는 공기에 포함된 수분을 제거하는 것이 바람직하다.First, the main body 131 is formed in a structure in which various frames are connected by bolts and nuts, and forms the outer shape of the filtration membrane block cleaning apparatus 100. A cylinder 132 is fixed to the upper center of the body 131. The internal pressure of the cylinder 132 is adjusted by a pneumatic valve 133 and the injection part 120 connected to the lower part of the cylinder 132 is moved up and down by the pressure. It is preferable that at least one guide 135 for guiding upward and downward movement of the cylinder 132 is fixed to the main body 131 about the cylinder 132. The cylinder 130 may further include a regulator 134 to remove moisture contained in the air flowing through the pneumatic valve 133.

상술한 동작에 의해 실린더부(130)는 분사부(120)를 상하 이동시킬 수 있다.By the above-described operation, the cylinder part 130 can move the jetting part 120 up and down.

여기서 분사부(120)는 분사모듈(121), 분사노즐(122), 및 수압밸브(123)를 포함한다.Here, the sprayer 120 includes a spray module 121, a spray nozzle 122, and a water pressure valve 123.

우선 분사모듈(121)은 수압밸브(123)를 통해 유입되는 고압의 세척수를 다수의 분사노즐(121)로 유통시킨다. 또한 분사모듈(121)의 상부는 실린더부(130)의 하부에 연결되어 실린더부(130)로부터 상하 이동력을 전달받는다. 여기서 수압밸브(123)의 일측에는 파이프(124)가 더 구비되어 타측에 연결된 호스(미도시)로부터 고압의 세척수를 공급받는다. 여기서 호스의 타측에는 세척수에 압력을 가하기 위한 펌프(미도시)와 같은 압력발생 수단이 더 구비되는 것이 바람직하다.First, the injection module 121 distributes the high-pressure washing water flowing through the water pressure valve 123 to the plurality of injection nozzles 121. The upper part of the injection module 121 is connected to the lower part of the cylinder part 130 and receives the upward and downward movement force from the cylinder part 130. Here, a pipe 124 is further provided at one side of the hydraulic valve 123 to receive high-pressure washing water from a hose (not shown) connected to the other side. It is preferable that the other side of the hose is further provided with a pressure generating means such as a pump (not shown) for applying pressure to the washing water.

그리고 도 1에서는 수압밸브(123)의 일측에 파이프(124)가 더 구비되는 것을 상정하였으나, 이는 일 예에 불과할 뿐, 장치의 단순화를 위해 파이프(124) 없이 직접 수압밸브(123)가 분사모듈(121)에 연결될 수도 있다.1, it is assumed that a pipe 124 is further provided on one side of the water pressure valve 123, but this is merely an example, and in order to simplify the apparatus, the water pressure valve 123, (Not shown).

이와 같이 다수의 분사노즐(122)로 고압의 세척수가 공급되면, 분사노즐(122)은 고압의 세척수를 하방 분사한다. 바람직하게 분사노즐(122)이 분사하는 세척수는, 여과막 블록(110)에 구비된 각각의 침지형 평막(111)이 이루는 틈으로 조준되어 분사되는 것이 바람직하다. 또한 분사노즐(122)로부터 분사되는 세척수의 이탈을 방지하기 위해, 분사노즐(122)과 침지형 평막(111) 사이의 간격은 좁을수록 바람직하다.When the high-pressure washing water is supplied to the plurality of spray nozzles 122, the spray nozzle 122 injects the high-pressure washing water downward. Preferably, the washing water injected by the spray nozzle 122 is injected by being collimated by a gap formed by each of the submerged flat membranes 111 provided in the filtration membrane block 110. Further, in order to prevent the detachment of the washing water jetted from the jetting nozzle 122, the narrower the distance between the jetting nozzle 122 and the dipping-type flat film 111 is, the more preferable.

본 발명에서는 여과막 블록(110)에 침지형 평막(111)이 10개 내지 20개 구비된 예를 상정하여 설명하였으므로, 각각의 침지형 평막(111)이 이루는 틈은 9개 내지 19개가 될 수 있다. 따라서 본 발명의 제1 실시 예의 분사노즐(122)은 틈의 개수와 동일하게 9개 내지 19개 구비할 수도 있으나 반드시 이에 한정하지 않는다.In the present invention, 10 to 20 dipping-type flat membranes 111 are provided in the filtration membrane block 110, so that the number of gaps formed by each of the dipping-type flat membranes 111 can be from 9 to 19. Therefore, the number of the ejection nozzles 122 of the first embodiment of the present invention may be nine to 19, but is not limited thereto.

이와 같이 본 발명의 제1 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(100)는 침지형 평막(111) 사이에 고착된 이물질로 고압의 세척수를 분사함으로써, 상기 이물질을 용이하게 하방으로 배출시킬 수 있다. 다음은, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(200)를 후술한다.
As described above, the filtration membrane block cleaning apparatus 100 according to the first embodiment of the present invention can easily discharge the foreign matter downward by spraying the high-pressure washing water with the foreign matter fixed between the submerged flat membranes 111. Next, the filtration membrane block cleaning apparatus 200 according to the second embodiment of the present invention will be described below.

도 6은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치를 도시한 정면도이고, 도 7(a) 내지 도 7(c)는은 도 6에 도시한 본 발명의 제2 실시 예에 따른, 다양한 여과막 블록 세척장치의 측면도이며, 도 8(a) 내지 도 8(c)는은 도 7(a) 내지 도 7(c)에 도시한 각각의 여과막 블록 세척장치의 삽입부에 구비된 본 발명의 제2 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치에 구비된 다양한 평판형 날의 일측을 도시한 측면도이다.FIG. 6 is a front view showing a filtration membrane block cleaning apparatus according to a second embodiment of the present invention, and FIGS. 7 (a) to 7 (c) 8 (a) to 8 (c) are side views of various filtration membrane block cleaning apparatuses shown in FIGS. 7 (a) to 7 (c) FIG. 6 is a side view showing one side of various plate-shaped blades provided in the filtration membrane block cleaning apparatus according to the second embodiment of the present invention.

우선 도 6 내지 도 8을 설명함에 있어, 도 1 내지 도 5의 설명과 중복된 설명은 생략한다.6 to 8, a description overlapping with those of FIGS. 1 to 5 will be omitted.

도 6에 도시한 본 발명의 제2 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(200)는, 분사부(120) 대신에 삽입부(220)가 구비된 구조가 상이하다는 점에서, 도 1에 도시한 본 발명의 제1 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(100)와 차이점이 있다.The filtration membrane block cleaning apparatus 200 according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. 6 differs from the filtration membrane block cleaning apparatus 200 shown in FIG. 1 in that the structure in which the insertion unit 220 is provided is different from that of the jetting unit 120, There is a difference from the filtration membrane block cleaning apparatus 100 according to the first embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(200)는, 삽입부(220)의 하부에 다수 개의 분사노즐(122) 대신에, 다수 개의 평판형 날(222)이 구비된다. 따라서 도 1에 구비된 수압밸브(123)는 제2 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(200)에서는 생략되는 것이 바람직하다.6, the filtration membrane block cleaning apparatus 200 according to the second embodiment of the present invention includes a plurality of flat plate blades 222 instead of the plurality of injection nozzles 122 at the lower portion of the insertion unit 220, Respectively. Therefore, it is preferable that the water pressure valve 123 provided in FIG. 1 is omitted from the filtration membrane block cleaning apparatus 200 according to the second embodiment.

이와 같이 구성된 본 발명의 제2 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(200)는, 다수 개의 평판형 날(222)이, 침지형 평막(111) 사이로 삽입되면서, 내부에 고착된 이물질을 하방으로 밀어서 배출시킬 수 있다.In the filtration membrane block cleaning apparatus 200 according to the second embodiment of the present invention, a plurality of flat plate blades 222 are inserted between the dipping-type flat membranes 111, .

한편, 평판형 날(222)이 침지형 평막(111) 사이로 삽입되면, 서로 맞닿는 면에 의해 마찰력이 발생한다. 따라서 도 8에 도시한 바와 같이, 평판형 날(222)의 측면에 관통홀(222a)을 구비하여, 이물질의 유입을 유도하는 한편, 상기 마찰력 발생을 감소시킬 수 있다. 또한 평판형 날(222)의 상하 이동을 안내하기 위한 평막형 날 가이드(223)가 더 구비될 수도 있다. 본 발명의 제2 실시 예에서는 평판형 날(222)이 침지형 평막(111) 틈의 일부에 삽입되는 것을 상정하였으나 도 7(b), 도 7(c), 도 8(b), 및 도 8(c)와 같이 침지형 평막(111)이 이루는 틈에 전체적으로 삽입되도록 구성하는 것도 가능하다.On the other hand, when the flat plate-like blades 222 are inserted between the dipping-type flat films 111, frictional force is generated due to the contact surfaces. Therefore, as shown in FIG. 8, the through hole 222a is provided on the side surface of the flat plate-like blade 222 to induce the foreign matter to flow, and the frictional force can be reduced. Further, a flat-blade-type blade guide 223 for guiding the vertical movement of the flat blade 222 may be further provided. In the second embodiment of the present invention, it is assumed that the flat blade 222 is inserted into a part of the gap of the dipping-type flat film 111, but as shown in Figs. 7B, 7C, 8B, (c), it is possible to adopt a configuration in which it is entirely inserted into the gap formed by the submerged flat membrane 111.

즉, 도 7(b)와 도 8(b)를 참조하면, 삽입부(220A)는 평판형 날이 좌우 한쌍이 구비되어 침지형 평막(111)의 상측과 하측 중심에 체결영역을 피하면서 침지형 평막(111)의 사이에 삽입되기 용이한 구조로 형성될 수 있다.7 (b) and 8 (b), the inserting portion 220A is provided with a pair of right and left plate-like blades, which are located on the upper and lower sides of the submerged flat membrane 111, And can be easily inserted between the first and second plates 111 and 111.

또한, 도 7(c)와 도 8(c)를 참조하면, 삽입부(220B)는, 침지형 평막(111)의 체결영역이 다수 개 있는 경우에도, 상기 체결영역에 적합하도록 다수 개의 평판형 날(222)을 구비할 수도 있다.7 (c) and 8 (c), the inserting portion 220B is configured such that even when there are a plurality of fastening regions of the submerged flat membrane 111, (222).

이와 같이 본 발명의 제2 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(200)는 다수의 평판형 날(222)로 침지형 평막(111)이 이루는 틈에 고착된 이물질을 용이하게 제거할 수 있으며, 특히 고착정도가 심하고 강도가 높은 이물질을 효과적으로 제거할 수 있다. 다음은 본 발명의 제1 실시 예와 제2 실시 예를 혼합한 구조로, 본 발명의 제3 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(300)에 대해 후술한다.
As described above, the filtration membrane block cleaning apparatus 200 according to the second embodiment of the present invention can easily remove the foreign substances fixed in the gap formed by the dipping-type flat membrane 111 by the plurality of flat plate blades 222, It is possible to effectively remove foreign matter having a high degree of strength and high strength. The following is a description of a filtration membrane block cleaning apparatus 300 according to a third embodiment of the present invention in which the first and second embodiments of the present invention are mixed.

도 9는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치를 도시한 정면도이고, 도 10(a) 내지 도 10(c)는은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 도 9에 도시한 다양한 여과막 블록 세척장치의 측면도이며, 도 11은 도 10(a) 내지 도 10(c)에 도시한 각각의 여과막 블록 세척장치에 구비된 도 9에 도시한 삽입 분사부의 삽입 분사날 내부를 도시한 단면도이다.FIG. 9 is a front view showing a filtration membrane block cleaning apparatus according to a third embodiment of the present invention. FIGS. 10 (a) to 10 (c) Fig. 11 is a sectional view showing the interior of the insertion injection blade of the insertion injection unit shown in Fig. 9 provided in each filtration membrane block cleaning apparatus shown in Figs. 10 (a) to 10 (c) to be.

우선 도 9 및내지 도 11을 설명함에 있어, 도 1 내지 도 8의 설명과 중복된 설명은 생략한다.First, in the description of Figs. 9 and 11, a description overlapping with the description of Figs. 1 to 8 will be omitted.

도 9에 도시한 본 발명의 제3 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(300)는 삽입 분사부(320)의 구조가, 도 1에 도시한 제1 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(100)의 분사부(120)와, 도 6에 도시한 제2 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(200)의 삽입부(220)를 혼합한 구조라는 점에서 차이점이 있다.9, the filter block cleaning apparatus 300 according to the third embodiment of the present invention is configured such that the structure of the insertion spray unit 320 is the same as that of the filtration membrane block cleaning apparatus 100 according to the first embodiment shown in FIG. And the insertion portion 220 of the filtration membrane block cleaning apparatus 200 according to the second embodiment shown in FIG. 6 are mixed.

도 9를 참조하면, 본 발명의 제3 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(300)는, 삽입 분사부(320)의 하부에 측면으로 고압수를 분사하는 복수의 노즐이 형성된 평판형 삽입 분사날(322)이 다수 개 구비된다.9, a filtration membrane block cleaning apparatus 300 according to a third embodiment of the present invention includes a tubular insertion bladder 320 having a plurality of nozzles for spraying high-pressure water on a side surface thereof, (322).

따라서, 본 발명의 제3 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(300)는, 삽입 분사부(320)의 삽입 분사날(322)이 침지형 평막(111)이 이루는 틈으로 삽입되면서 이물질을 하방으로 밀어 배출시키고, 측면의 노즐에서 분사하는 고압수로 틈에 부착된 이물질을 세척할 수 있다. 또한 삽입 분사날(322)의 상하 이동을 안내하는 삽입 분사날 가이드(324)가 더 구비될 수도 있다. Accordingly, in the filtration membrane block cleaning apparatus 300 according to the third embodiment of the present invention, the insertion blade 322 of the insertion spraying unit 320 is inserted into the gap formed by the dipping-type flat membrane 111, The foreign matter adhering to the gap can be cleaned by the high-pressure water jetted from the side nozzle. Further, an insertion injection blade guide 324 for guiding the upward and downward movement of the insertion injection blade 322 may be further provided.

도 11(a)을 를 참조하면, 삽입 분사날(322)은, 상부면과 하부면에 다수의 요철홈(a)이 길이방향으로 형성된 내부판(322a)을 구비한다. 이와 같이 구성된 내부판(322a)은, 양측면에 복수의 노즐(b)이 형성된 케이스(322b)에 수납된다. 따라서 본 발명의 제3 실시 예에 따른 삽입 분사날(322)은, 고압의 세척수도 복수의 노즐(b)을 통해 침지형 평막(111)의 측면으로 분사시킬 수 있다.Referring to FIG. 11 (a), the insertion blade 322 has an inner plate 322a having a plurality of concave-convex grooves a formed in the longitudinal direction on an upper surface and a lower surface. The inner plate 322a thus configured is accommodated in a case 322b having a plurality of nozzles b formed on both sides thereof. Therefore, the injection blade 322 according to the third embodiment of the present invention can jet the high-pressure washing water to the side of the submerged flat membrane 111 through a plurality of nozzles b.

한편, 도 11(b) 및 도 11(c)를 참조하면, 상술한 도 8(b) 및 도 8(c)와 동일한 맥락으로 침지형 평막에 전체적으로 삽입하기 위한 삽입 분사부(320A, 320B)의 삽입 분사날 구조가 도시되어 있다. 이를 통해, 본 발명의 제3 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(300)는 다양하게 형성된 여과막 블록을 전체 또는 부분으로 세척할 수 있다.Referring to Figs. 11 (b) and 11 (c), on the other hand, in the same manner as in Figs. 8 (b) and 8 (c) described above, the insertion injection portions 320A and 320B The insert injection bladder structure is shown. Accordingly, the filtration membrane block cleaning apparatus 300 according to the third embodiment of the present invention can wash the various formed filtration membrane blocks in whole or in part.

이와 같이 본 발명의 제3 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(300)는, 다수의 평판형 삽입 분사날(322)로 침지형 평막(111)이 이루는 틈에 고착된 이물질을 하방으로 밀어내는 한편, 측면 고압 세척수를 분사하여 상기 이물질을 2차로 제거할 수 있다. 다음은 본 발명의 제4 실시 예에 따른 여과막 블록 세척방법(S100)에 대해 후술한다.
As described above, in the filtration membrane block cleaning apparatus 300 according to the third embodiment of the present invention, the foreign substances fixed in the gap formed by the dipping-type flat membrane 111 are pushed downward by the plurality of flat plate-like insertion blades 322, The foreign matter can be removed by secondary spraying of the side high-pressure washing water. Next, the filtering membrane block cleaning method (S100) according to the fourth embodiment of the present invention will be described below.

도 12는 본 발명의 제4 실시 예에 따른 여과막 세척방법을 도시한 순서도이다.FIG. 12 is a flowchart showing a filtration membrane cleaning method according to a fourth embodiment of the present invention.

도 12를 설명하기에 앞서, 여과막 블록(110)의 1 내지 4 오염단계에 대해 설명한다.Prior to describing FIG. 12, the first to fourth contamination steps of the filtration membrane block 110 will be described.

제1 단계는 침지형 평막(111)의 표면이 옅은 황갈색이고, 유기오염만 진행된 상태로 협잡물 및 분리막 사이에 고형화된 이물질 발생이 미비한 상태이다.In the first step, the surface of the submerged flat membrane 111 is a pale yellowish brown color, and only the organic contamination is advanced, and there is no generation of foreign matter solidified between the impurities and the separator.

제1 단계 오염을 제거하기 위해서는, 침지형 평막(111) 틈에 협잡물 또는 슬러지 고착물이 미비하게 발생되어 있는 상태로 여과막 블록(110)을 분해하지 않고, 고압의 청수를 분사하여 외부 협잡물 제거 후, 세정조에서 청수로 예컨대, 1시간 폭기세척을 실시한다. 이 후, 예컨대, NaOCl(12%) 0.5% 세정액에 폭기없이 8시간 이상 침지세정을 실시하는 것이 일반적이다.In order to remove the first stage contamination, it is necessary to remove the foreign contaminants by spraying the high-pressure fresh water without disassembling the filtration membrane block 110 in a state where there is not enough sludge or sludge adhered to the gap between the submerged flat membrane 111, The washing tank is washed with fresh water, for example, for 1 hour. Thereafter, for example, immersion cleaning is generally carried out in a 0.5% NaOCl (12%) cleaning liquid for 8 hours or more without aeration.

다음 제2 단계는 침지형 평막(111)의 표면이 황갈색이고, 유기물이 표면에 부착된 상태로 협잡물 및 침지형 평막(111) 사이에 고형화된 이물질이 일정량 발생한 상태이다.In the second step, the surface of the submerged flat membrane 111 is yellowish brown, and a certain amount of foreign matter solidified between the submerged membrane and the submerged flat membrane 111 is formed in a state where the organic matter is attached to the surface.

제2 단계 오염을 제거하기 위해서는, 침지형 평막(111) 틈에 협잡물 또는 고형화된 이물질이 발생되어 있는 상태로 여과막 블록(110)을 분해하고, 고압의 청수를 분사하여 협잡물과 고형화된 이물질을 제거한 후 재조립한다. 이 후, 예컨대, NaOCl(12%) 0.5% 세정액에 폭기없이 8시간 이상 침지세정을 실시하는 것이 일반적이다.In order to remove the second stage contamination, the filtration membrane block 110 is disassembled in the state where a dirt or solidified foreign matter is generated in the gap between the submerged flat membrane 111, the high-pressure fresh water is sprayed to remove the contaminants and solidified foreign matter Reassemble. Thereafter, for example, immersion cleaning is generally carried out in a 0.5% NaOCl (12%) cleaning liquid for 8 hours or more without aeration.

제3 단계는 침지형 평막(111)의 표면이 고동색이고, 유기물과 무기물 오염이 진행된 상태로 협잡물 및 분리막 사이에 고형화된 이물질이 많이 발생한 상태이다.In the third step, the surface of the submerged flat membrane 111 has a dark color, and a large amount of foreign matter is solidified between the contaminants and the separator in a state where organic and inorganic contaminants are advanced.

제3 단계 오염을 제거하기 위해서는 침지형 평막(111) 틈에 협잡물 또는 고형화된 이물질이 발생되어 있는 상태로 여과막 모듈(110)을 분해하고, 고압의 청수를 분사하여 협잡물과 고형화된 이물질을 제거한 후 재조립한다.In order to remove the third stage contamination, the filtration membrane module 110 is disassembled in a state where a dirt or solidified foreign matter is generated in the gap between the submerged flat membrane 111 and the high-pressure fresh water is sprayed to remove the contaminants and solidified foreign substances, Assemble.

한편, 3단계까지는 고압의 청수로 협잡물과 고형화된 이물질 제거가 가능하며, 상술한 공정이 끝난 후, 예컨대 NaOCl(12%) 0.5% 세정액에 폭기없이 8시간 이상 침지세정을 실시하고, 물리적 분해세척과 유기세정 공정이 끝난 후 구연산 0.1mol 세정액에 폭기를 실시하며 4시간 이상 침지하는 것이 일반적이다.After completion of the above-mentioned process, immersion cleaning is performed for 8 hours or more without aeration in, for example, NaOCl (12%) 0.5% cleaning solution, followed by physical decomposition washing And after the organic washing process, 0.1mol of citric acid is aerated in the cleaning liquid and is generally immersed for 4 hours or more.

마지막으로 제4 단계는 침지형 평막(111) 표면이 짙은 고동색이고, 일부분 검정색으로 유기물과 무기물 오염이 진행된 상태이며, 특히 무기오염이 심하게 진행되어서 협잡물 및 침지형 평막(111) 사이에 고형화된 이물질이 상당히 많이 발생한 상태이다.Finally, in the fourth step, the surface of the submerged flat membrane 111 has a dark brown color, and the organic and inorganic contamination is progressed with a part of black. Particularly, the inorganic contamination proceeds so much that the foreign matter solidified between the impurities and the submerged flat membrane 111 It is a condition that has occurred a lot.

제4 단계 오염을 제거하기 위해서는, 침지형 평막(111) 틈에 협잡물 또는 고형화된 이물질이 발생되어 있는 상태로 침지형 평막(111)을 분해하여 세척해야 하나, 침지형 평막(111) 사이의 고형화된 이물질은 고압의 청수 분사로만은 제거가 불가능하다. 따라서, 소정의 두께, 예컨대 5mm의 끝이 동글게 연마된 판을 이용하여 이물질을 제거해야 하며, 작업 시 침지형 평막(111)의 회손우려가 있으므로 주의 깊게 실시하여야 한다.In order to remove the contamination of the fourth step, it is necessary to disassemble and clean the immersion type flat film 111 in a state where a contaminant or a solidified foreign matter is generated in the gap of the immersion type flat film 111, but the solidified foreign matter between the immersion type flat films 111 It is impossible to remove only the high-pressure clean water jet. Therefore, it is necessary to remove the foreign substance by using a plate having a predetermined thickness, for example, 5 mm, which is polished with a dongle finish, and the immersion type flat film 111 may be loosened during operation.

물리적 분해세척 공정이 끝난 후, 예컨대 NaOCl(12%) 0.5% 세정액에 폭기없이 8시간 이상 침지세정을 실시하고, 물리적 분해세척과 유기세정 공정이 끝난 후, 구연산 0.1mol 세정액에 폭기를 실시한 후 4시간 이상 침지한다.After the physical decomposition washing process, for example, the NaOCl (12%) 0.5% cleaning solution was immersed and cleaned for 8 hours or more without aeration, and after the physical decomposition cleaning and the organic cleaning process, a 0.1mol citric acid cleaning solution was aerated Immersed for more than an hour.

이와 같이 여과막 블록(110)은 상술한 1 내지 제4 단계로 오염 정도를 구분하여 각 오염단계에 따라 다른 세척방법을 수행한다.As described above, the filtration membrane block 110 performs the different cleaning methods according to the respective contamination steps by dividing the degree of contamination by the first to fourth steps.

상술한 바와 같이 다수의 침지형 평막(111)이 배열된 여과막 블록(110)의 1 내지 제4 단계의 오염을 제거하기 위해서, 본 발명의 제4 실시 예에 따른 도 12의 방법에 따라 여과막 블록(110)의 세척을 수행한다.In order to remove the contamination of the first to fourth steps of the filtration membrane block 110 in which the plurality of submerged flat membranes 111 are arranged as described above, the filtration membrane block 110 according to the method of FIG. 12 according to the fourth embodiment of the present invention 110).

우선, 여과막 블록(110)이 제1 단계 오염에 해당한다고 판단하면, 다수의 침지형 평막(111)의 사이에 고압수를 분사하여 이물질을 제거한다(S110).First, when it is determined that the filtration membrane block 110 corresponds to the first stage contamination, high pressure water is sprayed between a plurality of the submerged flat membranes 111 to remove foreign matter (S110).

S110 단계에서는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(100)를 이용하는 것이 바람직하다.In step S110, it is preferable to use the filtration membrane block cleaning apparatus 100 according to the first embodiment of the present invention.

다음으로, 여과막 블록(110)이 제2 내지 제3 단계 중 어느 하나의 오염에 해당한다고 판단하면, 침지형 평막(111)의 사이에 평판형 날(322)을 삽입하고, 평판형 날(322)의 양측에 구비된 다수의 노즐로 고압수를 분사함으로써 이물질을 제거한다(S120, S130).Next, when it is determined that the filtration membrane block 110 is contaminated by any one of the second to third steps, the plate-like blade 322 is inserted between the submerged flat membrane 111 and the plate- The high-pressure water is sprayed to a plurality of nozzles provided on both sides of the nozzle (S120, S130).

S120과 S130 단계에서는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(300)를 이용하는 것이 바람직하다.In steps S120 and S130, it is preferable to use the filtration membrane block cleaning apparatus 300 according to the third embodiment of the present invention.

한편, 여과막 블록(110)이 제4 단계 오염에 해당한다고 판단하면, 다수의 침지형 평막(111)의 사이에 평판형 날을 삽입하고, 평판형 날의 삽입압에 의해 고착된 이물질을 제거한다(S140).On the other hand, when it is determined that the filtration membrane block 110 corresponds to the fourth stage contamination, the plate-like blades are inserted between the plurality of the dip plates 111, and the foreign substances fixed by the insertion pressure of the blades are removed S140).

S140 단계에서는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(200)를 이용하는 것이 바람직하다. 따라서 본 발명의 제4 실시 예에 따르면, 여과막 모듈(110)의 제1 내지 제4 단계 오염을 용이하게 제거할 수 있다.In step S140, it is preferable to use the filtration membrane block cleaning apparatus 200 according to the second embodiment of the present invention. Therefore, according to the fourth embodiment of the present invention, contamination of the first to fourth steps of the filtration membrane module 110 can be easily removed.

다음은 본 발명의 제1 내지 제3 실시의 여과막 블록 세척장치를 조합하여 사용하는 예를 후술한다.
Next, an example in which the filtration membrane block washing apparatuses according to the first to third embodiments of the present invention are used in combination will be described.

도 13은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치로 제4 오염에 해당되는 여과막 블록을 1차 세척 후, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치로 2차 세척하는 공정을 보여주는 예시도이고, 도 14는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치로 제2 내지 제3 오염에 해당되는 여과막 블록을 세척하는 공정을 보여주는 예시도이다.13 is a view illustrating a process of washing a filtration membrane block corresponding to a fourth contamination with a filtration membrane block washing apparatus according to a second embodiment of the present invention and then performing a second washing with the filtration membrane block washing apparatus according to the first embodiment of the present invention FIG. 14 is an exemplary view showing a process of washing filter membrane blocks corresponding to the second to third contaminations by the filtration membrane block cleaning apparatus according to the third embodiment of the present invention.

도 13을 참조하면, 제2 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(200)로 제4 오염에 해당되는 여과막 블록(110)을 1차 세척한 후, 제1 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(100)로 2차 세척을 수행할 수 있다.13, the filtration membrane block 110 corresponding to the fourth contamination is first washed with the filtration membrane block cleaning apparatus 200 according to the second embodiment, and then the filtration membrane block cleaning apparatus 100 according to the first embodiment ). ≪ / RTI >

한편, 제1 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(100)의 실린더부(130)로 분사부(120)를 상향 이동시켜 여과막 블록(110)의 2차 세척을 생략할 수 있다.Meanwhile, the second part washing of the filtration membrane block 110 may be omitted by moving the jet part 120 upward by the cylinder part 130 of the filtration membrane block cleaning apparatus 100 according to the first embodiment.

마찬가지로 도 13을 참조하면, 제2 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(200)의 분사부(220)를 실린더부(130)로 상향 이동시켜, 제1 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(100)만을 기동시켜, 제1 오염에 해당되는 여과막 블록(110)을 세척할 수 있다.13, the jetting unit 220 of the filtration membrane block cleaning apparatus 200 according to the second embodiment is moved upward to the cylinder unit 130 so that the filtration membrane block cleaning apparatus 100 according to the first embodiment, The filtration membrane block 110 corresponding to the first contamination can be cleaned.

도 14를 참조하면, 본 발명의 제3 실시 예에 따른 여과막 블록 세척장치(300)를 기동하여, 제3 오염에 해당되는 여과막 블록(110)을 세정할 수도 있다.
Referring to FIG. 14, the filtration membrane block cleaning apparatus 300 according to the third embodiment of the present invention may be activated to clean the filtration membrane block 110 corresponding to the third contamination.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어서는 안될 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the invention as defined by the appended claims. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the present invention.

100, 200, 300: 여과막 블록 세척장치 110: 여과막 블록
111: 침지형 평막 112: 평막 고정판
113: 유로판 113a: 유로구
120: 분사부 130: 실린더부
140: 컨베이어부 121: 분사모듈
122: 분사노즐 123: 수압밸브
124: 파이프 131: 본체
132: 실린더 133: 공압밸브
134: 레귤레이터 135: 가이드
220, 220A, 220B: 삽입부 222: 평판형 날
222a: 관통홀 223: 평판형 날 가이드
320, 320A, 320B: 삽입 분사부 322: 평판형 삽입 분사날
322a: 내부판 322b: 케이스
324: 삽입 분사날 가이드
100, 200, 300: filtration membrane block cleaning device 110: filtration membrane block
111: dip plate 112: flat plate
113: flow path plate 113a:
120: jetting part 130: cylinder part
140: conveyor section 121: injection module
122: injection nozzle 123: water pressure valve
124: pipe 131: body
132: cylinder 133: pneumatic valve
134: regulator 135: guide
220, 220A, 220B: inserting portion 222: flat blade
222a: Through hole 223: Flat blade guide
320, 320A, 320B: Insertion / injection part 322: Plate type insertion injection blade
322a: inner plate 322b: case
324: Insertion Blade Guide

Claims (21)

다수의 침지형 평막이 배열된 여과막 블록;
상기 여과막 블록의 상부에 구비되고, 상기 침지형 평막 사이에 고압수를 분사하는 분사부; 및
상기 분사부의 상부에 연결되고, 상기 분사부를 상하 이동시키는 실린더부; 를 포함하고,
상기 실린더부는
프레임구조로 형성된 본체;
상기 본체의 상부 중앙에 고정 연결되고, 상기 분사부가 하부에 연결된 실린더;
상기 본체의 일측에 구비되고, 상기 실린더 내부의 공압을 조절하는 공압밸브;
상기 실린더와 상기 공압밸브의 공기 유통로 사이에 구비되고, 공압밸브에 의해 유입되는 공기의 습기를 제거하기 위한 레귤레이터; 및
상기 실린더의 외측에 적어도 하나 구비되고, 상기 실린더의 상하 이동을 안내하는 가이드; 를 포함하는
여과막 블록 세척장치.
A filtration membrane block having a plurality of submerged flat membranes arranged therein;
A jetting portion provided on the filtration membrane block for jetting high pressure water between the submerged flat membranes; And
A cylinder portion connected to an upper portion of the injection portion and vertically moving the injection portion; Lt; / RTI >
The cylinder
A body formed in a frame structure;
A cylinder fixedly connected to the upper center of the body and connected to the lower portion of the injection portion;
A pneumatic valve provided at one side of the main body, the pneumatic valve controlling the pneumatic pressure inside the cylinder;
A regulator provided between the cylinder and the air passage of the pneumatic valve for removing moisture from the air introduced by the pneumatic valve; And
A guide provided at least one outside of the cylinder and guiding the up-and-down movement of the cylinder; Containing
Filtration membrane block cleaning device.
청구항 1에 있어서,
상기 여과막 블록을 하방으로부터 지지하면서 이송하는 컨베이어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는
여과막 블록 세척장치.
The method according to claim 1,
Further comprising a conveyor section for conveying the filtration membrane block while supporting the filtration membrane block from below
Filtration membrane block cleaning device.
청구항 1에 있어서,
상기 여과막 블록은
상기 침지형 평막이 10 내지 20개가 구비되는 것을 특징으로 하는
여과막 블록 세척장치.
The method according to claim 1,
The filtration membrane block
And 10 to 20 immersion type flat films are provided
Filtration membrane block cleaning device.
청구항 1에 있어서,
상기 분사부는
상부가 상기 실린더부의 하부에 연결되는 분사모듈;
상기 분사모듈의 하부에 배열되어 연결된 다수의 분사노즐; 및
상기 분사모듈에 일측에 연결되고, 상기 분사노즐과 연통되어 고압수를 상기 분사노즐로 공급하는 수압밸브; 를 포함하는 것을 특징으로 하는
여과막 블록 세척장치.
The method according to claim 1,
The injector
An injection module having an upper portion connected to a lower portion of the cylinder portion;
A plurality of spray nozzles arranged at a lower portion of the spray module; And
A water pressure valve connected to one side of the injection module and communicating with the injection nozzle to supply high pressure water to the injection nozzle; ≪ RTI ID = 0.0 >
Filtration membrane block cleaning device.
청구항 4에 있어서,
상기 분사노즐은 9 내지 19개 구비되고,
상기 수압밸브에서 공급되는 고압의 세척수를 상기 침지형 평막 사이에 하방으로 분사하는 것을 특징으로 하는
여과막 블록 세척장치.
The method of claim 4,
9 to 19 injection nozzles are provided,
And the high-pressure washing water supplied from the hydraulic pressure valve is sprayed downward between the submerged flat membranes.
Filtration membrane block cleaning device.
삭제delete 다수의 침지형 평막이 배열된 여과막 블록;
상기 여과막 블록의 상부에 구비되고, 상기 침지형 평막 사이에 적어도 하나의 홀을 구비한 평판형 날을 삽입하는 삽입부; 및
상기 삽입부의 상부에 연결되고, 상기 삽입부를 상하 이동시키는 실린더부; 를 포함하고,
상기 삽입부는
상부가 상기 실린더부의 하부에 연결되는 삽입모듈;
상기 삽입모듈의 하부에 배열된 다수의 평판형 날; 및
상기 평판형 날의 상하이동을 안내하는 평판형 날 가이드를 포함하고,
상기 평판형 날은 상기 침지형 평막 사이에 부분으로 삽입되거나 전체로 삽입되는 구조인
여과막 블록 세척장치.
A filtration membrane block having a plurality of submerged flat membranes arranged therein;
An insertion portion provided on the filtration membrane block for inserting a flat blade having at least one hole between the submerged flat membranes; And
A cylinder portion connected to an upper portion of the insertion portion and moving the insertion portion up and down; Lt; / RTI >
The insert
An insertion module having an upper portion connected to a lower portion of the cylinder portion;
A plurality of planar blades arranged at a lower portion of the insertion module; And
And a flat plate-shaped blade guide for guiding upward and downward movement of the flat blade,
The planar blade is a structure in which a part is inserted between the submerged flat films
Filtration membrane block cleaning device.
청구항 7에 있어서,
상기 여과막 블록을 하방으로부터 지지하면서 이송하는 컨베이어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는
여과막 블록 세척장치.
The method of claim 7,
Further comprising a conveyor section for conveying the filtration membrane block while supporting the filtration membrane block from below
Filtration membrane block cleaning device.
청구항 7에 있어서,
상기 여과막 블록은
상기 침지형 평막이 10 내지 20개가 구비되는 것을 특징으로 하는
여과막 블록 세척장치.
The method of claim 7,
The filtration membrane block
And 10 to 20 immersion type flat films are provided
Filtration membrane block cleaning device.
삭제delete 청구항 7에 있어서,
상기 평판형 날은 9 내지 19개 구비되고,
상기 평판형 날의 두께는
상기 침지형 평막 사이의 간격 이하인 것을 특징으로 하는
여과막 블록 세척장치.
The method of claim 7,
Wherein the number of the planar blades is 9 to 19,
The thickness of the flat blade
Is equal to or less than the interval between the submerged flat membranes
Filtration membrane block cleaning device.
다수의 침지형 평막이 배열된 여과막 블록;
상기 여과막 블록의 상부에 구비되고, 상기 침지형 평막 사이에 평판형 날을 삽입하며, 상기 평판형 날의 양측에 구비된 다수의 노즐로 고압수를 분사하는 삽입 분사부; 및
상기 삽입 분사부의 상부에 연결되고, 상기 분사부를 상하 이동시키는 실린더부; 를 포함하고,
상기 삽입 분사부는
상부가 상기 실린더부의 하부에 연결되는 삽입 분사모듈;
상기 삽입 분사모듈의 하부에 배열된 다수의 평판형 삽입 분사날; 및
상기 평판형 삽입 분사날의 상하 이동을 안내하는 평판형 삽입 분사날 가이드; 를 포함하고,
상기 평판형 삽입 분사날은 상기 침지형 평막 사이에 부분으로 삽입되거나, 전체로 삽입되는 구조인
여과막 블록 세척장치.
A filtration membrane block having a plurality of submerged flat membranes arranged therein;
An injection spraying part provided on the filtration membrane block for injecting a high pressure water into a plurality of nozzles provided on both sides of the flat blade and inserting a flat blade between the submerged flat membranes; And
A cylinder portion connected to an upper portion of the insertion injection portion and vertically moving the injection portion; Lt; / RTI >
The insertion injection unit
An injection spray module in which an upper portion is connected to a lower portion of the cylinder portion;
A plurality of plate-like insert blades arranged at a lower portion of the insert injection module; And
A flat insertion-type spray blade guide for guiding vertical movement of the flat insertion-type injection blade; Lt; / RTI >
The flat insertion-type injection blades are inserted between the submerged flat membranes,
Filtration membrane block cleaning device.
청구항 12에 있어서,
상기 여과막 블록을 하방으로부터 지지하면서 이송하는 컨베이어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는
여과막 블록 세척장치.
The method of claim 12,
Further comprising a conveyor section for conveying the filtration membrane block while supporting the filtration membrane block from below
Filtration membrane block cleaning device.
청구항 12에 있어서,
상기 여과막 블록은
상기 침지형 평막이 10 내지 20개가 구비되는 것을 특징으로 하는
여과막 블록 세척장치.
The method of claim 12,
The filtration membrane block
And 10 to 20 immersion type flat films are provided
Filtration membrane block cleaning device.
삭제delete 청구항 12에 있어서,
상기 삽입 분사날은
상부면과 하부면에 길이방향으로 형성된 다수의 요철홈을 각각 구비한 내부판; 및
상기 내부판이 삽입되고, 측면에 다수의 노즐이 형성된 케이스; 를 포함하는 것을 특징으로 하는
여과막 블록 세척장치.
The method of claim 12,
The insertion spraying blade
An inner plate having a plurality of concavo-convex grooves formed in the longitudinal direction on the upper surface and the lower surface, respectively; And
A case into which the inner plate is inserted and a plurality of nozzles formed on a side thereof; ≪ RTI ID = 0.0 >
Filtration membrane block cleaning device.
다수의 침지형 평막이 배열된 여과막 블록의 제1 내지 제4 단계 오염 정도에 따라 세척하는, 여과막 블록 세척방법에 있어서,
A) 상기 여과막 블록이 제1 단계 오염에 해당하면,
상기 다수의 침지형 평막 사이에 고압수를 분사하여 이물질을 제거하는 단계;
B) 상기 여과막 블록이 제2 단계 오염 내지 제3 단계 오염 중 어느 하나의 오염에 해당하면,
상기 침지형 평막 사이에 평판형 날을 삽입하고, 상기 평판형 날의 양측에 구비된 다수의 노즐로 고압수를 분사함으로써 이물질을 제거하는 단계; 및
C) 상기 여과막 블록이 제4 단계 오염에 해당한다고 판단하면,
상기 다수의 침지형 평막 사이에 적어도 하나의 홀을 구비한 평판형 날을 삽입하고, 상기 평판형 날의 삽입압에 의해 고착된 이물질을 제거하는 단계; 를 포함하는
여과막 블록 세척방법.
1. A filtration membrane block cleaning method for cleaning according to the degree of contamination of first to fourth stages of a filtration membrane block having a plurality of submerged flat membranes,
A) If the filtration membrane block corresponds to the first stage contamination,
Spraying high-pressure water between the plurality of submerged flat membranes to remove foreign matter;
B) If the filtration membrane block is contaminated by any of the second stage contamination to the third stage contamination,
Removing the foreign matter by inserting a flat blade between the submerged flat films and spraying high pressure water with a plurality of nozzles provided on both sides of the flat blade; And
C) judging that the filtration membrane block corresponds to the fourth stage contamination,
Inserting a flat blade having at least one hole between the plurality of submerged flat membranes and removing the foreign substances fixed by the insertion pressure of the flat blade; Containing
Filter membrane block cleaning method.
청구항 17에 있어서,
상기 A) 단계의 상기 제1 단계 오염은
상기 침지형 평막의 표면이 황갈색이고, 유기오염만 진행된 상태로 협잡물 및 상기 침지형 평막 사이에 고형화된 이물질 발생한 상태인 것을 특징으로 하는
여과막 블록 세척방법.
18. The method of claim 17,
The first stage contamination of step A)
Characterized in that the surface of the submerged flat membrane is a yellowish brown color, and only the organic contamination is advanced, and a state where a foreign matter solidified between the submerged membrane and the submerged membrane is generated
Filter membrane block cleaning method.
청구항 17에 있어서,
상기 B) 단계의 상기 제2 단계 오염은
상기 침지형 평막의 표면이 황갈색이고, 유기물이 표면에 부착된 상태로 협잡물 및 분리막 사이에 고형화된 이물질이 발생한 상태인 것을 특징으로 하는
여과막 블록 세척방법.
18. The method of claim 17,
The second stage contamination of step B)
Characterized in that the surface of the submerged flat film has a yellowish brown color and a state where a foreign matter solidified between the contaminants and the separation membrane is generated in a state where the organic matter is attached to the surface
Filter membrane block cleaning method.
청구항 17에 있어서,
상기 B) 단계의 상기 제3 단계 오염은
상기 침지형 평막의 표면이 고동색이고, 유기물과 무기물 오염이 진행된 상태로 협잡물 및 분리막 사이에 고형화된 이물질이 발생한 상태인 것을 특징으로 하는
여과막 블록 세척방법.
18. The method of claim 17,
The third stage contamination of step B)
Characterized in that the surface of the submerged flat film has a dull color and a solidified foreign matter is generated between the contaminants and the separating film in a state where contamination of the organic material and the inorganic material proceeds
Filter membrane block cleaning method.
청구항 17에 있어서,
상기 C) 단계의 상기 제4 단계 오염은
상기 침지형 평막의 표면이 짙은 고동색이고, 일부분 검정색으로 유기물과 무기물 오염이 진행된 상태로 무기오염이 진행되었으며 협잡물과 상기 침지형 평막 사이에 고형화된 이물질이 발생한 상태인 것을 특징으로 하는
여과막 블록 세척방법.
18. The method of claim 17,
The fourth stage contamination of step C)
Characterized in that the surface of the submerged flat membrane has a dark red color and the inorganic contamination proceeds with the organic and inorganic contamination proceeding with a part of black color and a solidified foreign matter is generated between the impurities and the submerged flat membrane
Filter membrane block cleaning method.
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JP2010234224A (en) 2009-03-31 2010-10-21 Kubota Corp Apparatus and method for cleaning membrane module
JP2011235205A (en) * 2010-05-06 2011-11-24 Clear System Co Ltd Hollow fiber membrane module and method for removing filtration residue of the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010234224A (en) 2009-03-31 2010-10-21 Kubota Corp Apparatus and method for cleaning membrane module
JP2011235205A (en) * 2010-05-06 2011-11-24 Clear System Co Ltd Hollow fiber membrane module and method for removing filtration residue of the same

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