KR101536712B1 - 기판 건조 장치 및 기판 건조 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체 기판 제조 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판을 건조하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치는 건조 공정이 수행되는 공간을 제공하는 하우징, 상기 하우징의 내부에 제공되어 기판을 지지하는 기판 지지 부재, 상기 하우징으로 초임계 상태의 공정 유체를 공급하는 공급 라인을 포함하는 유체 공급 부재 및 상기 하우징으로부터 상기 공정 유체를 배기하는 배기 라인을 포함하는 배기 부재를 포함하되, 상기 공급 라인은 상기 공정 유체를 제1 공급 유량으로 상기 하우징에 공급되도록 제공되는 제1 공급 라인 및 상기 공정 유체를 제2 공급 유량으로 상기 하우징에 공급되도록 제공되는 제2 공급 라인을 포함한다.
상기 공급 라인은 상기 공정 유체의 저장부에 연결된 전방 공급 라인 및 상기 하우징에 연결된 후방 공급 라인을 더 포함하되, 상기 제1 공급 라인과 제2 공급 라인이 서로 병렬로 연결되고, 상기 전방 공급 라인과 상기 후방 공급 라인을 연결시킬 수 있다.

Description

기판 건조 장치 및 기판 건조 방법{APPARATUS AND METHOD FDR DRYING SUBSTRATES}

본 발명은 반도체 기판 제조 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판을 건조하는 장치 및 방법에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 소자는, 실리콘 웨이퍼와 같은 기판에 대해 사진 공정(photo process), 식각 공정(etching process), 이온 주입 공정(ion implantation process) 그리고 증착 공정(Deposition process) 등과 같은 다양한 공정을 통해 형성된다.

그리고, 각각의 공정을 수행하는 과정에서 파티클(particle), 유기오염물, 금속불순물 등의 다양한 이물질이 발생하게 된다. 이러한 이물질들은 기판에 결함(defect)을 일으켜 반도체소자의 성능 및 수율에 직접적인 영향을 미치는 요인으로 작용하므로, 반도체소자의 제조공정에는 이러한 이물질을 제거하기 위한 세정공정이 필수적으로 수반된다.

세정 공정은 약액(chemical)으로 기판상에 오염물질을 제거하는 약액 처리 공정, 순수(pure water)로 기판 상에 잔류하는 약액을 제거하는 세척 공정(wet cleaning process), 그리고 건조 유체를 공급하여 기판 표면에 잔류하는 순수를 건조하는 위한 건조 공정(drying process)을 포함한다.

과거에는 순수가 남아 있는 기판 상으로 가열된 질소가스를 공급하여 건조 공정을 수행하였다. 그러나 기판 상에 형성된 패턴의 선폭이 좁아지고 종횡비가 커짐에 따라 패턴 사이에 순수의 제거가 잘 이루어지지 않는다. 이를 위해 최근에는 순수에 비해 휘발성이 크고 표면장력이 낮은 이소프로필 알코올(isopropyl alcohol)과 같은 액상의 유기용제로 기판 상에서 순수를 치환하고, 이후에 가열된 질소 가스를 공급하여 기판을 건조하고 있다.

그러나 비극성인 유기용제와 극성인 순수가 혼합이 잘 이루어지지 않으므로, 순수를 액상의 유기용제로 치환하기 위해서는 장시간 동안 많은 양의 액상의 유기용제를 공급하여야 한다.

종래의 건조공정은 기판 상의 순수를 비교적 표면장력이 작은 이소프로필 알코올 등의 유기용제로 치환한 뒤 이를 증발시키는 방식으로 이루어져왔다.

그러나, 이러한 건조방식은 유기용제를 이용하더라도 선폭 30nm 이하의 미세한 회로패턴을 가지는 반도체소자에 대해서는 여전히 도괴현상(pattern collapse)을 유발하기 때문에, 최근 이러한 문제점을 극복할 수 있는 초임계 건조 공정(supercritical drying process)가 기존의 건조공정을 대체해 나가고 있는 추세이다.

본 발명은 공정 챔버에 초임계 유체를 공급할 때 발생하는 파티클의 발생을 줄여서 기판의 파손을 방지하는 기판 건조 장치 및 방법을 제공하기 위한 것이다.

본 발명은 초임계 유체를 빠른 속도로 공급 및 배기함으로써, 공정 시간을 단축하고 공정 효율을 향상시키는 기판 건조 장치 및 방법을 제공하기 위한 것이다.

본 발명이 해결하고자 하는 과제가 상술한 과제들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 과제들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명의 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

본 발명은 기판 건조 장치를 제공한다.

본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치는 건조 공정이 수행되는 공간을 제공하는 하우징, 상기 하우징의 내부에 제공되어 기판을 지지하는 기판 지지 부재, 상기 하우징으로 초임계 상태의 공정 유체를 공급하는 공급 라인을 포함하는 유체 공급 부재 및 상기 하우징으로부터 상기 공정 유체를 배기하는 배기 라인을 포함하는 배기 부재를 포함하되, 상기 공급 라인은 상기 공정 유체를 제1 공급 유량으로 상기 하우징에 공급되도록 제공되는 제1 공급 라인 및 상기 공정 유체를 제2 공급 유량으로 상기 하우징에 공급되도록 제공되는 제2 공급 라인을 포함한다.

상기 공급 라인은 상기 공정 유체의 저장부에 연결된 전방 공급 라인 및 상기 하우징에 연결된 후방 공급 라인을 더 포함하되, 상기 제1 공급 라인과 제2 공급 라인이 서로 병렬로 연결되고, 상기 전방 공급 라인과 상기 후방 공급 라인을 연결시킬 수 있다.

상기 제1 공급 라인은 상기 공정 유체가 상기 제1 공급 유량으로 이동하도록 조절하는 제1 유량 밸브를 포함하고, 상기 제2 공급 라인은 상기 공정 유체가 상기 제2 공급 유량으로 이동하도록 조절하는 제2 유량 밸브를 포함하되, 상기 제2 공급 유량이 상기 제1 공급 유량보다 많도록 제1 유량 밸브와 제2 유량 밸브가 조절될 수 있다.

상기 공급 라인은 상기 공정 유체가 제3 공급 유량으로 이동하도록 조절하는 제3 유량 밸브가 제공되는 제3 공급 라인을 더 포함하되, 상기 제3 공급 유량이 상기 제2 공급 유량 보다 많도록 제3 유량 밸브가 조절될 수 있다.

상기 공급 라인은 상기 공정 유체의 유량을 조절하는 제어기를 더 포함하되, 상기 제어기가 상기 건조 공정 중에 상기 제2 유량 밸브의 개방 정도를 조절하여 상기 공급 라인을 통과하는 상기 공정 유체의 유량이 제어되도록 제공될 수 있다.

본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 건조 장치는 건조 공정이 수행되는 공간을 제공하는 하우징, 상기 하우징의 내부에 제공되어 기판을 지지하는 기판 지지 부재, 상기 하우징으로 초임계 상태의 공정 유체를 공급하는 공급 라인을 포함하는 유체 공급 부재 및 상기 하우징으로부터 상기 공정 유체를 배기하는 배기 라인을 포함하는 배기 부재를 포함하되, 상기 배기 라인은 상기 공정 유체가 제1 배기 유량으로 상기 하우징에서 배기되도록 제공되는 제1 배기 라인 및 상기 공정 유체가 제2 배기 유량으로 상기 하우징에서 배기되도록 제공되는 제2 배기 라인을 포함한다.

상기 배기 라인은 상기 하우징에 연결된 전방 배기 라인 및 상기 공정 유체의 재생 장치에 연결된 후방 배기 라인을 더 포함하되, 상기 제1 배기 라인과 제2 배기 라인이 서로 병렬로 연결되고, 상기 전방 배기 라인과 상기 후방 배기 라인을 연결시킬 수 있다.

상기 제1 배기 라인은 상기 공정 유체가 상기 제1 배기 유량으로 배기되도록 조절하는 제1 유량 밸브를 포함하고, 상기 제2 배기 라인은 상기 공정 유체가 상기 제2 배기 유량으로 배기되도록 조절하는 제2 유량 밸브를 포함하되, 상기 제2 배기 유량이 상기 제1 배기 유량보다 많도록 제1 유량 밸브와 제2 유량 밸브가 조절될 수 있다.

상기 배기 라인은 상기 공정 유체가 제3 배기 유량으로 배기되도록 조절하는 제3 유량 밸브가 제공되는 제3 배기 라인을 더 포함하되, 상기 제3 배기 유량이 상기 제2 배기 유량 보다 많도록 제3 유량 밸브가 조절될 수 있다.

본 발명은 기판 건조 방법을 제공한다.

본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 방법은 초임계 상태의 공정 유체를 하우징 내부로 공급하는 유량이 조절됨으로써 하우징 내부의 압력을 제어하여 기판을 건조시키되, 초기에는 상기 공정 유체의 유량을 제1 공급 유량으로 하여, 상기 공정 유체가 상기 하우징 내부로 공급되는 단계 및 후기에는 상기 공정 유체의 유량을 제2 공급 유량으로 하여, 상기 공정 유체가 상기 하우징 내부로 공급되는 단계를 포함하되, 상기 제1 공급 유량이 상기 제2 공급 유량보다 적게 제공된다.

상기 제2 공급 유량으로 공급되는 단계는 상기 제1 공급 유량으로 상기 공정 유체를 상기 하우징으로 공급하여 설정된 압력에 도달하면 상기 제2 공급 유량으로 상기 공정 유체가 공급될 수 있다.

상기 제1 공급 유량으로 공급되는 단계는 상기 공정 유체가 상기 하우징의 하면을 통하여 상기 하우징 내부로 공급되고, 상기 제2 공급 유량으로 공급되는 단계는 상기 공정 유체가 상기 하우징의 상면을 통하여 상기 하우징 내부로 공급될 수 있다.

상기 제1 공급 유량으로 공급되는 단계는 상기 공정 유체가 상기 하우징의 하면을 통하여 상기 하우징 내부로 공급되고, 상기 제2 공급 유량으로 공급되는 단계는 상기 공정 유체가 상기 하우징의 상면과 하면을 통하여 동시에 상기 하우징 내부로 공급될 수 있다.

상기 공정 유체가 상기 제1 공급 유량으로 공급되는 단계와 상기 제2 공급 유량으로 공급되는 단계에 각각 다른 공급 라인을 통해 상기 하우징으로 공급될 수 있다.

상기 공정 유체의 유량이 상기 공급 라인에 제공된 밸브를 제어하여 조절될 수 있다.

상기 밸브가 상기 공정 유체가 공급되는 중에 조절됨으로써, 상기 공정 유체의 유량을 제어하고 상기 하우징 내부의 압력을 제어할 수 있다.

상기 공정 유체의 유량을 제3 공급 유량으로 하여, 상기 공정 유체가 상기 하우징 내부로 공급되는 단계를 더 포함하되, 상기 제1 공급 유량으로 상기 공정 유체가 상기 하우징으로 공급되어 설정된 압력에 도달하면 상기 제3 공급 유량으로 상기 공정 유체가 공급되고, 다른 설정된 압력에 도달하면 상기 제2 공급 유량으로 상기 공정 유체가 공급될 수 있다.

본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 건조 방법은 초임계 상태의 공정 유체를 하우징 외부로 배기하는 유량이 조절됨으로써 하우징 내부의 압력을 제어하여 기판을 건조시키되, 초기에는 상기 공정 유체의 유량을 제1 배기 유량으로 하여, 상기 공정 유체가 상기 하우징 외부로 배기되는 단계 및 후기에는 상기 공정 유체의 유량을 제2 배기 유량으로 하여, 상기 공정 유체가 상기 하우징 외부로 배기되는 단계;를 포함하되, 상기 제1 배기 유량이 상기 제2 배기 유량보다 적게 제공될 수 있다.

상기 제2 배기 유량으로 배기되는 단계는 상기 제1 배기 유량으로 상기 공정 유체를 상기 하우징에서 배기하여 설정된 압력에 도달하면 상기 제2 배기 유량으로 상기 공정 유체가 배기될 수 있다.

상기 공정 유체가 상기 제1 배기 유량으로 배기되는 단계와 상기 제2 배기 유량으로 배기되는 단계에 각각 다른 배기 라인을 통해 상기 하우징에서 배기될 수 있다.

상기 공정 유체의 유량이 상기 공급 라인에 제공된 밸브를 제어하여 조절될 수 있다.

상기 공정 유체의 유량을 제3 배기 유량으로 하여, 상기 공정 유체가 상기 하우징 내부에서 배기되는 단계를 더 포함하되, 상기 제1 배기 유량으로 상기 공정 유체가 상기 하우징에서 배기되어 설정된 압력에 도달하면 상기 제3 배기 유량으로 상기 공정 유체가 배기되고, 다른 설정된 압력에 도달하면 상기 제2 배기 유량으로 상기 공정 유체가 배기될 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 공정 챔버에 초임계 유체를 공급할 때 파티클이 발생하는 것을 방지하여 기판의 파손을 예방할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 초임계 유체를 신속히 공급 및 배기함으로써 공정시간을 단축하여 공정 효율을 향상시킬 수 있다.

본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.

도 1은 이산화탄소의 상변화에 관한 그래프이다.
도 2는 기판 처리 장치의 일 실시예의 평면도이다.
도 3은 도 2의 제1 공정 챔버의 단면도이다.
도 4는 도 2의 제2 공정 챔버의 일 실시예의 단면도이다.
도 5는 도 2의 제2 공정 챔버에 공정 유체의 공급 및 배기 라인이 연결된 기판 건조 장치의 일 실시예의 도면이다.
도 6은 도 2의 제2 공정 챔버에 공정 유체의 공급 및 배기 라인이 연결된 기판 건조 장치의 변형예의 도면이다.
도 7은 도 2의 제2 공정 챔버에 공정 유체의 공급 및 배기 라인이 연결된 기판 건조 장치의 다른 실시예의 도면이다.
도 8은 기판 처리 방법의 일 실시예의 순서도이다.
도 9는 기판 건조 방법의 일 실시예의 순서도이다.
도 10 내지 도 14은 도 9의 기판 건조 방법의 동작도이다.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.

이하에서는 본 발명에 따른 기판 처리 장치(도 2의 100)에 관하여 설명한다.

기판 처리 장치(100)는 초임계 유체를 공정 유체로 이용하여 기판(S)을 처리하는 초임계 공정을 수행할 수 있다.

여기서, 기판(S)은 반도체 소자나 평판 디스플레이(FPD: flat panel display) 및 그 밖에 박막에 회로패턴이 형성된 물건의 제조에 이용되는 기판을 모두 포함하는 포괄적인 개념이다. 이러한 기판(S)의 예로는, 실리콘 웨이퍼를 비롯한 다양한 웨이퍼, 유리기판, 유기기판 등이 있다.

초임계 유체란 임계온도와 임계압력을 초과한 초임계 상태에 도달하면 형성되는 기체와 액체의 성질을 동시에 가지는 상(phase)를 의미한다. 초임계 유체는 분자밀도는 액체에 가깝고, 점성도는 기체에 가까운 성질을 가지며, 이에 따라 확산력, 침투력, 용해력이 매우 뛰어나 화학반응에 유리하고, 표면장력이 거의 없어 미세구조에 계면장력을 가하지 아니하는 특성을 가진다.

초임계 공정은 이러한 초임계 유체의 특성을 이용하여 수행되는데, 그 대표적인 예로는, 초임계 건조 공정과 초임계 식각 공정이 있다. 이하에서는 초임계 공정에 관하여 초임계 건조 공정을 기준으로 설명하기로 한다. 다만, 이는 설명의 용이를 위한 것에 불과하므로, 기판 처리 장치(100)는 초임계 건조 공정 이외의 다른 초임계 공정을 수행할 수 있다.

초임계 건조 공정은 초임계 유체로 기판(S)의 회로패턴에 잔류하는 유기용제를 용해하여 기판(S)을 건조시키는 방식으로 수행될 수 있으며, 건조효율이 우수할 뿐 아니라 도괴현상을 방지할 수 있는 장점이 있다. 초임계 건조 공정에 이용되는 초임계 유체로는 유기용제와 혼화성(混和性)이 있는 물질을 사용할 수 있다. 예를 들어, 초임계 이산화탄소(scCO2: supercritical carbon dioxide)가 초임계 유체로 사용될 수 있다.

도 1은 이산화탄소의 상변화에 관한 그래프이다.

이산화탄소는 임계온도가 31.1℃이고, 임계압력이 7.38Mpa로 비교적 낮아 초임계 상태로 만들기 쉽고, 온도와 압력을 조절하여 상변화를 제어하기 용이하며 가격이 저렴한 장점이 있다. 또한, 이산화탄소는 독성이 없어 인체에 무해하고, 불연성, 비활성의 특성을 지니며, 초임계 이산화탄소는 물이나 기타 유기용제와 비교하여 10~100배 가량 확산계수(diffusion coefficient)가 높아 침투가 빨라 유기용제의 치환이 빠르고, 표면장력이 거의 없어 미세한 회로패턴을 가지는 기판(S)의 건조에 이용하기 유리한 물성을 가진다. 뿐만 아니라, 이산화탄소는 다양한 화학반응의 부산물로 생성되는 것을 재활용할 수 있는 동시에 초임계 건조 공정에 사용한 후 이를 기체로 전환시켜 유기용제를 분리하여 재사용하는 것이 가능해 환경오염의 측면에서도 부담이 적다.

이하에서는 본 발명에 따른 기판 처리 장치(100)의 일 실시예에 관하여 설명한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 초임계 건조 공정을 포함하여 세정 공정을 수행할 수 있다.

도 2는 기판 처리 장치의 일 실시예의 평면도이다.

도 2를 참조하면, 기판 처리 장치(100)는 인덱스 모듈(1000) 및 공정 모듈(2000)을 포함한다.

인덱스 모듈(1000)은 외부로부터 기판(S)을 반송받아 공정 모듈(2000)로 기판(S)을 반송하고, 공정 모듈(2000)은 초임계 건조 공정을 수행할 수 있다.

인덱스 모듈(1000)은 설비 전 방단부 모듈(EFEM: equipment front end module)로서, 로드포트(1100) 및 이송 프레임(1200)을 포함한다.

로드포트(1100)에는 기판(S)이 수용되는 용기(C)가 놓인다. 용기(C)로는 전면 개방 일체형 포드(FOUP: front opening unified pod)가 사용될 수 있다. 용기(C)는 오버헤드 트랜스퍼(OHT: overhead transfer)에 의해 외부로부터 로드포트(1100)로 반입되거나 로드포트(1100)로부터 외부로 반출될 수 있다.

이송 프레임(1200)은 로드포트(1100)에 놓인 용기(C)와 공정 모듈(2000) 간에 기판(S)을 반송한다. 이송 프레임(1200)은 인덱스 로봇(1210) 및 인덱스 레일(1220)을 포함한다. 인덱스 로봇(1210)은 인덱스 레일(1220) 상에서 이동하며 기판(S)을 반송할 수 있다.

공정 모듈(2000)은 실제로 공정을 수행하는 모듈로서, 버퍼 챔버(2100), 이송 챔버(2200), 제1 공정 챔버(3000) 및 제2 공정 챔버(4000)를 포함한다.

버퍼 챔버(2100)는 인덱스 모듈(1000)과 공정 모듈(2000) 간에 반송되는 기판(S)이 임시로 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼 챔버(2100)에는 기판(S)이 놓이는 버퍼슬롯이 제공될 수 있다.

이송 챔버(2200)는 그 둘레에 배치된 버퍼 챔버(2100), 제1 공정 챔버(3000) 및 제2 공정 챔버(4000) 간에 기판(S)을 반송한다. 이송 챔버(2200)는 이송 로봇(2210) 및 이송 레일(2220)을 포함할 수 있다. 이송 로봇(2210)은 이송 레일(2220) 상에서 이동하며 기판(S)을 반송할 수 있다.

제1 공정 챔버(3000)와 제2 공정 챔버(4000)는 세정 공정을 수행할 수 있다. 이때, 세정 공정은 제1 공정 챔버(3000)와 제2 공정 챔버(4000)에서 순차적으로 수행될 수 있다. 예를 들어, 제1 공정 챔버(3000)에서는 세정 공정 중 케미컬 공정, 린스 공정 및 유기용제 공정이 수행되고, 뒤이어 제2 공정 챔버(4000)에서는 초임계 건조 공정이 수행될 수 있다.

이러한 제1공정챔버(3000)와 제2공정챔버(4000)는 이송챔버(2200)의 측면에 배치된다. 예를 들어, 제1공정챔버(3000)와 제2공정챔버(4000)는 이송챔버(2200)의 다른 측면에 서로 마주보도록 배치될 수 있다.

또한, 공정 모듈(2000)에는 제1 공정 챔버(3000)와 제2 공정 챔버(4000)가 복수로 제공될 수 있다. 복수의 공정 챔버들(3000, 4000)은 이송 챔버(2200)의 측면에 일렬로 배치되거나 또는 상하로 적층되어 배치되거나 또는 이들의 조합에 의해 배치될 수 있다.

물론, 제1 공정 챔버(3000)와 제2 공정 챔버(4000)의 배치는 상술한 예로 한정되지 않고, 기판 처리 장치(100)의 풋프린트나 공정효율 등과 같은 다양한 요소를 고려하여 적절히 변경될 수 있다.

이하에서는 제1 공정 챔버(3000)에 관하여 설명한다.

도 3은 도 2의 제1 공정 챔버의 단면도이다.

제1 공정 챔버(3000)는 케미컬 공정, 린스 공정 및 유기용제 공정을 수행할 수 있다. 물론, 제1 공정 챔버(3000)는 이들 공정 중 일부의 공정만을 선택적으로 수행할 수도 있다. 여기서, 케미컬 공정은 기판(S)에 세정제를 제공하여 기판(S) 상의 이물질을 제거하는 공정이고, 린스 공정은 가판에 린스제를 제공하여 기판(S) 상에 잔류하는 세정제를 세척하는 공정이며, 유기용제 공정은 기판(S)에 유기용제를 제공하여 기판(S)의 회로패턴 사이에 잔류하는 린스제를 표면장력이 낮은 유기용제로 치환하는 공정이다.

도 3을 참조하면, 제1 공정 챔버(3000)는 지지 부재(3100), 노즐 부재(3200) 및 회수 부재(3300)를 포함한다.

지지 부재(3100)는 기판(S)을 지지하고, 지지된 기판(S)을 회전시킬 수 있다. 지지 부재(3100)는 지지 플레이트(3110), 지지 핀(3111), 척킹 핀(3112), 회전축(3120) 및 회전 구동기(3130)를 포함할 수 있다.

지지 플레이트(3110)는 기판(S)과 동일 또는 유사한 형상의 상면을 가지며, 지지 플레이트(3110)의 상면에는 지지 핀(3111)과 척킹 핀(3112)이 형성된다. 지지 핀(3111)은 기판(S)을 지지하고, 척킹 핀(3112)은 지지된 기판(S)을 고정할 수 있다.

지지 플레이트(3110)의 하부에는 회전축(3120)이 연결된다. 회전축(3120)은 회전 구동기(3130)로부터 회전력을 전달받아 지지 플레이트(3110)를 회전시킨다. 이에 따라 지지 플레이트(3110)에 안착된 기판(S)이 회전할 수 있다. 이때, 척킹 핀(3112)은 기판(S)이 정위치를 이탈하는 것을 방지할 수 있다.

노즐 부재(3200)는 기판(S)에 약제를 분사한다. 노즐 부재(3200)는 노즐(3210), 노즐 바(3220), 노즐 축(3230) 및 노즐 축 구동기(3240)를 포함한다.

노즐(3210)은 지지 플레이트(3110)에 안착된 기판(S)에 약제를 분사한다. 약제는 세정제, 린스제 또는 유기용제일 수 있다. 여기서, 세정제로는 과산화수소(H2O2)용액이나 과산화수소용액에 암모니아(NH4OH), 염산(HCl) 또는 황산(H2SO4)를 혼합한 용액 또는 불산(HF)용액 등이 사용될 수 있다. 또, 린스제로는 순수가 사용될 수 있다. 또, 유기용제로는 이소프로필알코올을 비롯하여 에틸글리콜(ethyl glycol), 1-프로파놀(propanol), 테트라하이드로프랑(tetra hydraulic franc), 4-하이드록시(hydroxyl), 4-메틸(methyl), 2-펜타논(pentanone), 1-부타놀(butanol), 2-부타놀, 메탄올(methanol), 에탄올(ethanol), n-프로필알코올(n-propyl alcohol), 디메틸에틸(dimethylether)의 용액이나 가스가 사용될 수 있다.

이러한 노즐(3210)은 노즐 바(3220)의 일단 저면에 형성된다. 노즐 바(3220)는 노즐 축(3230)에 결합되며, 노즐 축(3230)은 승강 또는 회전할 수 있도록 제공된다. 노즐 축 구동기(3240)는 노즐 축(3230)을 승강 또는 회전시켜 노즐(3210)의 위치를 조절할 수 있다.

회수 부재(3300)는 기판(S)에 공급된 약제를 회수한다. 노즐 부재(3200)에 의해 기판(S)에 약제가 공급되면, 지지 부재(3100)는 기판(S)을 회전시켜 기판(S)의 전 영역에 약제가 균일하게 공급되도록 할 수 있다. 기판(S)이 회전하면 기판(S)으로부터 약제가 비산하는데, 비산하는 약제는 회수 부재(3300)에 의해 회수될 수 있다.

회수 부재(3300)는 회수통(3310), 회수 라인(3320), 승강바(3330) 및 승강 구동기(3340)를 포함할 수 있다.

회수통(3310)은 지지 플레이트(3110)를 감싸는 환형 링 형상으로 제공된다. 회수통(3310)은 복수일 수 있는데, 복수의 회수통(3310)은 상부에서 볼 때 차례로 지지 플레이트(3110)로부터 멀어지는 링 형상으로 제공되며, 지지 플레이트(3110)로부터 먼 거리에 있는 회수통(3310)일수록 그 높이가 높도록 제공된다. 이에 따라 회수통(3310) 사이의 공간에 기판(S)으로부터 비산되는 약제가 유입되는 회수구(3311)가 형성된다.

회수통(3310)의 하면에는 회수 라인(3320)이 형성된다. 회수 라인(3320)은 회수통(3310)으로 회수된 약제를 재생하는 약제 재생 시스템(미도시)로 공급한다.

승강바(3330)는 회수통(3310)에 연결되어 승강 구동기(3340)로부터 동력을 전달받아 회수통(3310)을 상하로 이동시킨다. 승강바(3330)는 회수통(3310)이 복수인 경우 최외곽에 배치된 회수통(3310)에 연결될 수 있다. 승강 구동기(3340)는 승강바(3330)를 통해 회수통(3310)을 승강시켜 복수의 회수구(3311) 중 비산하는 약제가 유입되는 회수구(3311)를 조절할 수 있다.

도 4는 도 2의 제2 공정 챔버의 일 실시예의 단면도이다.

도 4를 참조하면, 제2 공정 챔버(4000)는 하우징(4100), 승강 부재(4200), 지지 부재(4300), 가열 부재(4400), 공급 포트(4500), 차단 부재(4600) 및 배기 포트(4700)를 포함할 수 있다.

제2 공정 챔버(4000)는 초임계 유체를 이용하여 초임계 건조 공정을 수행할 수 있다. 물론, 상술한 바와 같이, 제2 공정 챔버(4000)에서 수행되는 공정은 초임계 건조 공정 이외에 다른 초임계 공정일 수도 있으며, 나아가, 제2 공정 챔버(4000)는 초임계 유체 대신 다른 공정 유체를 이용하여 공정을 수행할 수도 있을 것이다.

하우징(4100)은 초임계 건조 공정이 수행되는 공간을 제공한다. 하우징(4100)은 임계압력 이상의 고압을 견딜 수 있는 재질로 제공된다.

하우징(4100)은 상부 하우징(4110)과 상부 하우징(4110)의 하부에 배치되는 하부 하우징(4120)을 구비하여 상하부로 구분되는 구조로 제공될 수 있다.

상부 하우징(4110)은 고정되어 설치되며, 하부 하우징(4120)은 승강할 수 있다. 하부 하우징(4120)이 하강하여 상부 하우징(4110)으로부터 이격되면 제2 공정 챔버(4000)의 내부공간이 개방되고, 기판(S)이 제2 공정 챔버(4000)의 내부공간으로 반입되거나 내부공간으로부터 반출될 수 있다. 여기서, 제2 공정 챔버(4000)로 반입되는 기판(S)은 제1 공정 챔버(3000)에서 유기용제 공정을 거쳐 유기용제가 잔류하는 상태일 수 있다. 또 하부 하우징(4120)이 상승하여 상부 하우징(4110)에 밀착되면 제2 공정 챔버(4000)의 내부공간이 밀폐되고, 그 내부에서 초임계 건조공정이 수행될 수 있다.

승강 부재(4200)는 하부 하우징(4120)을 승강시킨다. 승강 부재(4200)는 승강 실린더(4210) 및 승강 로드(4220)를 포함할 수 있다. 승강 실린더(4210)는 하 하우징(4120)에 결합되어 상하방향의 구동력, 즉 승강력(乘降力)을 발생시킨다. 승강로드(4220)는 그 일단이 승강 실린더(4210)에 삽입되어 수직상방으로 연장되어 타단이 상부 하우징(4110)에 결합된다. 이러한 구조에 따라 승강 실린더(4210)에서 구동력이 발생하면, 승강 실린더(4210)와 승강 로드(4220)가 상대적으로 승강되어 승강 실린더(4210)에 결합된 하부 하우징(4120)이 승강될 수 있다.

지지 부재(4300)는 상부 하우징(4110)과 하부 하우징(4120)의 사이에 기판(S)을 지지한다. 지지 부재(4300)는 상부 하우징(4110)의 하면에 설치되어 수직하방으로 연장되고, 그 하단에서 수평방향으로 수직하게 절곡되는 구조로 제공될 수 있다.

지지 부재(4300)가 설치되는 상부 하우징(4110)에는 수평 조정 부재(4111)이 설치될 수 있다. 수평 조정 부재(4111)는 상부 하우징(4110)의 수평도(水平度)을 조정한다. 상부 하우징(4110)의 수평도가 조정되면 그에 따라 상부 하우징(4111)에 설치된 지지 부재(4300)에 안착된 기판(S)의 수평이 조절될 수 있다. 초임계 건조 공정에서 기판(S)이 기울면, 기판(S)에 잔류하는 유기용제가 경사면을 타고 흘러 기판(S)의 특정부분이 건조되지 않거나 과건조(過乾燥)되어 기판(S)이 손상될 수 있다. 수평 조정 부재(4111)는 기판(S)의 수평을 맞추어 이러한 문제점을 방지할 수 있다.

가열 부재(4400)는 제2 공정 챔버(4000)의 내부를 가열한다. 가열 부재(4400)는 제2 공정 챔버(4000) 내부에 공급된 초임계 유체를 임계온도 이상으로 가열하여 초임계 유체 상으로 유지하거나 또는 액화된 경우에 다시 초임계 유체가 되도록 할 수 있다. 가열 부재(4400)는 상부 하우징(4110) 및 하부 하우징(4120) 중 적어도 하나의 벽 내에 매설되어 설치될 수 있다. 이러한 가열 부재(4400)는 예를 들어, 외부로부터 전원을 받아 열을 발생시키는 히터로 제공될 수 있다.

공급 포트(4500)는 제2 공정 챔버(4000)로 초임계 유체를 공급한다. 공급 포트(4500)는 상부 공급 포트(4510) 및 하부 공급 포트(4520)를 포함할 수 있다. 상부 공급 포트(4510)는 상부 하우징(4110)에 형성되어 지지 부재(4300)에 의해 지지되는 기판(S)의 상면으로 초임계 유체를 공급한다. 하부 공급 포트(4520)는 하부 하우징(4120)에 형성되어 지지 부재(4300)에 의해 지지되는 기판(S)의 하면으로 초임계 유체를 공급한다.

이러한 상부 공급 포트(4510)와 하부 공급 포트(4520)에서는 먼저 하부 공급 포트(4520)가 초임계 유체를 공급하고, 나중에 상부 공급 포트(4510)가 초임계 유체를 공급할 수 있다. 초임계 건조 공정은 초기에 제2 공정 챔버(4000)의 내부가 임계압력에 미달한 상태에서 진행될 수 있기 때문에 제2 공정 챔버(4000)의 내부로 공급되는 초임계 유체는 액화될 수 있다. 따라서, 초임계 건조 공정의 초기에 상부 공급 포트(4510)로 초임계 유체가 공급되는 경우에는 초임계 유체가 액화되어 중력에 의해 기판(S)으로 낙하하여 기판(S)을 손상시킬 수 있다. 상부 공급 포트(4510)는 하부 공급 포트(4520)를 통해 제2 공정 챔버(4000)로 초임계 유체가 공급되어 제2 공정 챔버(4000)의 내부압력이 임계압력에 도달하면 초임계 유체의 공급을 시작하여, 공급되는 초임계 유체가 액화되어 기판(S)으로 낙하하는 것을 방지할 수 있다.

차단 부재(4600)는 공급 포트(4500)를 통해 공급되는 초임계 유체가 기판(S)에 바로 분사되는 것을 차단한다. 차단 부재(4600)는 차단 플레이트(4610)와 지지대(4620)를 포함할 수 있다.

초임계 건조 공정의 초기에 하부 공급 포트(4520)를 통해 초임계 유체가 공급되는 경우에는, 하우징(4500)의 내부기압이 낮은 상태이므로 공급되는 초임계 유체가 빠른 속도로 분사될 수 있다. 이처럼 빠른 속도로 분사되는 초임계 유체가 기판(S)에 직접적으로 도달하게 되면, 초임계 유체의 물리적인 압력에 의해 초임계 유체가 기판(S) 중 직접 분사되는 부분이 휘어 리닝현상이 발생할 수 있다. 또한, 초임계 유체의 분사력에 의해 기판(S)이 요동하여 기판(S)에 잔류하는 유기용제가 흘러 기판(S)의 회로패턴에 손상이 발생할 수도 있다.

따라서, 하부 공급 포트(4520)와 지지 부재(4300)의 사이에 배치된 차단 플레이트(4610)는 초임계 유체가 기판(S)에 직접 분사되는 것을 차단하여 초임계 유체의 물리적 힘에 의해 기판(S)에 손상이 발생하는 것을 방지할 수 있다.

선택적으로, 차단 부재(4600)는 제2 공정 챔버(4000)에서 포함되지 않을 수 있다.

배기포트(4700)는 제2 공정 챔버(4000)로부터 초임계 유체를 배기한다.

배기포트(4700)는 하부 하우징(4120)에 형성될 수 있다. 초임계 건조 공정의 후기에는 제2 공정 챔버(4000)로부터 초임계 유체가 배기되어 그 내부압력이 임계압력 이하로 강압되어 초임계 유체가 액화될 수 있다. 액화된 초임계 유체는 중력에 의해 하부 하우징(4120)에 형성된 배기포트(4700)를 통해 배출될 수 있다.

이하에서는 본 발명의 실시예에 따라 초임계 유체가 공급되고 배기되는 기판 건조 장치에 대하여 설명한다. 도 5는 도 2의 제2공정 챔버에 공정 유체의 공급 및 배기 라인이 연결된 기판 건조 장치의 일 실시예의 도면이다.

도 5를 참조하면, 초임계 유체는 공급 라인(4800)을 통해 제2 공정 챔버(4000)의 하우징(4100) 내부로 공급되고, 배기 라인(4900)을 통해 제2 공정 챔버(4000) 의 하우징(4100) 외부로 배기된다.

공급 라인(4800)은 전방 공급 라인(4880)과 후방 공급 라인(4890, 4891, 4892), 제1 공급 라인(4810) 및 제2 공급 라인(4820)을 포함한다.

전방 공급 라인(4880)의 일단은 저장 탱크(4850)와 연결되고, 제1 및 제2 후방 공급 라인(4891, 4892)의 일단은 제2 공정 챔버(4000)와 연결된다. 제1 공급 라인(4810)과 제2 공급 라인(4820)은 서로 병렬로 연결되고, 전방 공급 라인(4880)과 후방 공급 라인(4890)을 연결시킨다.

전방 공급 라인(4880)은 저장 탱크(4850)와 제1 공급 라인(4810) 및 제2 공급 라인(4820)을 연결한다. 전방 공급 라인(4880)의 일단은 저장 탱크(4850)와 연결되고, 전방 공급 라인(4880)의 타단은 병렬로 연결된 제1 공급 라인(4810)과 제2 공급 라인(4820)의 분기점에 연결된다. 초임계 유체는 저장 탱크(4850)에서 전방 공급 라인(4880)을 통해 제1 공급 라인(4810)과 제2 공급 라인(4820)의 분기점으로 이동된다.

제1 공급 라인(4810) 및 제2 공급 라인(4820)은 서로 병렬로 연결된다. 일단의 분기점에는 전방 공급 라인(4880)이 연결되고, 타단의 분기점에는 후방 공급 라인(4890)이 연결된다.

제1 공급 라인(4810)은 제1 개폐 밸브(4810a)와 제1 유량 밸브(4810b)를 포함한다. 제1 개폐 밸브(4810a)는 전방 공급 라인(4880)에서 이동된 초임계 유체가 제1 공급 라인(4810)으로 이동되는지 여부를 제어한다. 제1 유량 밸브(4810b)는 제1 공급 라인(4810)으로 이동되는 초임계 유체의 유량을 조절한다. 제1 유량 밸브(4810b)는 기설정된 유량으로 초임계 유체를 이동되도록 하여 제2 공정 챔버(4000)내부로 유입되는 초임계 유체의 압력을 조절한다.

제2 공급 라인(4820)은 제2 개폐 밸브(4820a)와 제2 유량 밸브(4820b)를 포함한다. 제2 개폐 밸브(4820a)는 전방 공급 라인(4880)에서 이동된 초임계 유체가 제2 공급 라인(4820)으로 이동되는지 여부를 제어한다. 제2 유량 밸브(4820b)는 제2 공급 라인(4820)으로 이동되는 초임계 유체의 유량을 조절한다. 제2 유량 밸브(4820b)는 기설정된 유량으로 초임계 유체를 이동되도록 하여 제2 공정 챔버(4000)내부로 유입되는 초임계 유체의 압력을 조절한다. 제2 유량 밸브(4820b)와 제1 유량 밸브(4810b)는 제1 공급 라인(4810)과 제2 공급 라인(4820)을 이동하는 초임계 유체의 유량이 상이하도록 설정되어 제공된다. 일 예에 의하면 제2 공급 유량이 제1 공급 유량보다 많도록 제공된다.

초임계 유체의 공급 공정 초기에 제2 공정 챔버(4000)내부로 유입되는 초임계 유체는 제1 공급 라인(4810)을 통해 제공한다. 제1 공급 라인(4810)으로 이동되는 초임계 유체의 유량이 제2 공급 라인(4820)보다 적기 때문에, 제2 공정 챔버(4000)내부에 초임계 유체의 초기 가압이 낮게 형성된다. 이로 인해 제2 공정 챔버(4000)내부에 파티클이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 초임계 유체의 초기 가압으로 인한 기판(S)의 손상을 방지할 수 있다. 제1 공급 라인(4810)을 통해 초임계 유체가 공급되어 제2 공정 챔버(4000)내부가 기설정된 압력에 도달하면, 제2 공급 라인(4820)을 통해 초임계 유체가 다량으로 공급된다. 이로 인해, 공정 시간을 단축하여 공정의 효율성을 도모할 수 있다.

후방 공급 라인(4890, 4891, 4892)은 제1 공급 라인(4810)과 제2 공급 라인(4820)을 통해 상이한 유량으로 이동되는 초임계 유체를 제2 공정 챔버(4000)내부로 공급한다. 후방 공급 라인(4890)은 제2 공정 챔버(4000)의 상부에 연결된 제1 후방 공급 라인(4891)과 제2 공정 챔버(4000)의 하부에 연결된 제2 후방 공급 라인(4892)을 포함한다. 일 예에 의하면, 제2 공정 챔버(4000) 내부의 상측에 기판(S)이 위치한 경우는 제1 공급 라인(4810)에서 이동된 초임계 유체는 제2 후방 공급 라인(4892)을 통해 제2 공정 챔버(4000)의 하부로 제공된다. 이는 초임계 유체의 공급 초기에는 기판(S)에서 먼 하부 공급 포트(4520)로 초임계 유체를 공급하여 초기 가압으로 인한 기판(S)의 파손을 방지하기 위함이다. 따라서, 제2 후방 공급 라인(4892)을 통해 초임계 유체가 공급되어 기설정된 압력에 도달하면 제1 후방 공급 라인(4891)을 통해 초임계 유체를 다량으로 공급할 수 있다.

배기 라인(4900)은 전방 배기 라인(4980)과 후방 배기 라인(4990), 제1 배기 라인(4910), 제2 배기 라인(4920) 및 제3 배기 라인(4930)을 포함한다.

전방 배기 라인(4980)은 제2 공정 챔버(4000)와 제1 배기 라인(4910), 제2 배기 라인(4920) 및 제3 배기 라인(4930)을 연결한다. 전방 배기 라인(4980)의 일단은 제2 공정 챔버(4000)와 연결되고, 전방 배기 라인(4980)의 타단은 병렬로 연결된 제1 배기 라인(4910), 제2 배기 라인(4920) 및 제3 배기 라인(4930)의 분기점에 연결된다. 초임계 유체는 제2 공정 챔버(4000)에서 전방 배기 라인(4980)을 통해 제1 배기 라인(4910), 제2 배기 라인(4920) 및 제3 배기 라인(4930)의 분기점으로 이동된다.

제1 배기 라인(4910), 제2 배기 라인(4920) 및 제3 배기 라인(4930)은 서로 병렬로 연결되어 제공된다.

제1 배기 라인(4910)은 일단은 제1 배기 라인(4910), 제2 배기 라인(4920) 및 제3 배기 라인(4930)의 분기점과 연결되고, 타단은 외부(미도시)와 연결된다. 초임계 유체는 제1 배기 라인(4910)으로 이동되어 외부로 배기된다.

제1 배기 라인(4910)은 제1 개폐 밸브(4910a), 제1 유량 밸브(4910b) 및 제1 체크 밸브(4910c)를 포함한다. 제1 개폐 밸브(4910a)는 전방 배기 라인(4980)에서 이동된 초임계 유체가 제1 배기 라인(4910)으로 이동되는지를 제어한다. 제1 유량 밸브(4910b)는 제1 배기 라인(4910)으로 이동되는 초임계 유체의 유량을 조절한다. 제1 유량 밸브(4910b)는 기설정된 제1 배기 유량으로 초임계 유체를 이동되도록 하여 제2 공정 챔버(4000)에서 배기되는 초임계 유체의 압력을 조절한다. 제1 체크 밸브(4910c)는 초임계 유체가 제2 공정 챔버(4000)에서 대기에 방출되는 방향으로만 이동되게 한다.

제2 배기 라인(4920)은 일단은 제1 배기 라인(4910), 제2 배기 라인(4920) 및 제3 배기 라인(4930)의 분기점과 연결되고, 타단은 후방 배기 라인(4990)에 연결된다. 제2 배기 라인(4920)은 제3 배기 라인(4930)과 서로 병렬로 연결된다.

제2 배기 라인(4920)은 제2 개폐 밸브(4920a), 제2 유량 밸브(4920b) 및 제2 체크 밸브(4920c)를 포함한다. 제2 개폐 밸브(4920a)는 전방 배기 라인(4980)에서 이동된 초임계 유체가 제2 배기 라인(4920)으로 이동되는지를 제어한다. 제2 유량 밸브(4920b)는 제2 배기 라인(4920)으로 이동되는 초임계 유체의 유량을 조절한다. 제2 유량 밸브(4920b)는 기설정된 제2 배기 유량으로 초임계 유체를 이동되도록 하여 제2 공정 챔버(4000)내부로 유입되는 초임계 유체의 압력을 조절한다. 제2 유량 밸브(4920b)와 제1 유량 밸브(4910b)는 제1 배기 라인(4910)과 제2 배기 라인(4920)을 이동하는 초임계 유체의 유량이 상이하도록 설정되어 제공된다. 일 예에 의하면 제1 배기 유량이 제2 배기 유량보다 많도록 제공된다. 제2 체크 밸브(4920c)는 초임계 유체가 초임계 유체 재생 장치(4950) 방향으로만 이동되게 한다.

제3 배기 라인(4930)은 일단은 제1 배기 라인(4910), 제2 배기 라인(4920) 및 제3 배기 라인(4930)의 분기점과 연결되고, 타단은 후방 배기 라인(4990)에 연결된다. 제3 배기 라인(4930)은 제2 배기 라인(4920)과 서로 병렬로 연결된다. 제3 배기 라인(4930)은 건조 공정 진행중에 초임계 유체를 공급하고 배기하는 공정을 반복하는 과정에서 초임계 유체의 배기시 이용된다.

제3 배기 라인(4930)은 제3 개폐 밸브(4930a), 제3 유량 밸브(4930b) 및 제3 체크 밸브(4930c)를 포함한다. 제3 개폐 밸브(4930a)는 전방 배기 라인(4980)에서 이동된 초임계 유체가 제3 배기 라인(4930)으로 이동되는지를 제어한다. 제3 유량 밸브(4930b)는 제3 배기 라인(4930)으로 이동되는 초임계 유체의 유량을 조절한다. 제3 유량 밸브(4930b)는 기설정된 유량으로 초임계 유체를 이동되도록 하여 제2 공정 챔버(4000)내부로 유입되는 초임계 유체의 압력을 조절한다. 제3 체크 밸브(4930c)는 초임계 유체가 초임계 유체 재생 장치(4950) 방향으로만 이동되게 한다.

배기 공정 초기에는 초임계 유체는 제2 공정 챔버(4000)에서 제2 배기 라인(4920)을 통해 배기된다. 제2 배기 라인(4920)으로 이동되는 초임계 유체의 유량이 제1 배기 라인(4910)보다 적기 때문에, 제2 공정 챔버(4000)내부에 초임계 유체의 초기 압력 변화가 적게된다. 이로 인해 제2 공정 챔버(4000)내부에 파티클이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 초임계 유체의 초기 가압으로 인한 기판(S)의 손상을 방지할 수 있다. 제2 배기 라인(4920)을 통해 초임계 유체가 배기되어 제2 공정 챔버(4000)내부가 기설정된 압력에 도달하면, 제1 배기 라인(4910)을 통해 많은 유량의 초임계 유체가 배기된다. 이로 인해, 공정 시간을 단축하여 공정의 효율성을 도모할 수 있다.

후방 배기 라인(4990)은 제1 배기 라인(4910)과 제2 배기 라인(4920)을 통해 상이한 유량으로 이동되는 초임계 유체를 공정 유체의 재생 장치(4950)로 이동시킨다. 후방 배기 라인(4990)의 일측은 제1 배기 라인(4910)과 제2 배기 라인(4920)의 분기점과 연결되고, 타측은 재생 장치(4950)와 연결된다.

이하에서는 본 발명의 변형예에 따라 초임계 유체가 공급되고 배기되는 기판 건조 장치에 대하여 설명한다. 도 6은 도 2의 제2 공정 챔버에 공정 유체의 공급 및 배기 라인이 연결된 기판 건조 장치의 변형예의 도면이다.

도 6을 참조하면, 공급 라인(5800)은 전방 공급 라인(5880)과 후방 공급 라인(5890, 5891, 5892), 제1 공급 라인(5810), 제2 공급 라인(5820) 및 제3 공급 라인(5830)을 포함한다.

공급 라인(5800)은 도 5의 공급 라인(4800)과 비교하여 제3 공급 라인(5830)을 더 포함한다. 제3 공급 라인(5830)은 제1 공급 라인(5810)과 제2 공급 라인(5820)보다 이동되는 초임계 유체의 유량이 많도록 제공된다. 초임계 유체의 공급 초기에 제1 공급 라인(5810)을 통해 낮은 압력으로 초임계 유체를 공급하고 기설정된 압력에 도달하면 제3 공급 라인(5830)을 통해 다량의 초임계 유체를 공급한다. 제3 공급 라인(5830)은 제2 공급 라인(5820)보다 이동되는 초임계 유체의 유량이 많으므로 공정 시간을 단축하고, 공정 효율을 도모할 수 있다.

제3 공급 라인(5830)은 제1 공급 라인(5810) 및 제2 공급 라인(5820)과 서로 병렬로 연결된다. 일단의 분기점에는 전방 공급 라인(5880)이 연결되고, 타단의 분기점에는 후방 공급 라인(5890)이 연결된다.

제3 공급 라인(5830)은 제3 개폐 밸브(5830a)와 제3 유량 밸브(5830b)를 포함한다. 제3 개폐 밸브(5830a)는 전방 공급 라인(5880)에서 이동된 초임계 유체가 제3 공급 라인(5830)으로 이동되는지를 제어한다. 제3 유량 밸브(5830b)는 제3 공급 라인(5830)으로 이동되는 초임계 유체의 유량을 조절한다. 제3 유량 밸브(5830b)는 기설정된 유량으로 초임계 유체를 이동되도록 하여 제2 공정 챔버(4000)내부로 유입되는 초임계 유체의 압력을 조절한다. 일 예에 의하면, 제3 유량 밸브(5830b)는 제3 공급 라인(5830)을 이동하는 초임계 유체의 유량을 제2 공급 라인(5820)을 이동하는 초임계 유체의 유량보다 많도록 설정되어 있을 수 있다.

배기 라인(5900)은 전방 배기 라인(5980)과 후방 배기 라인(5990), 제1 배기 라인(5910), 제2 배기 라인(5920), 제3 배기 라인(5930) 및 제4 배기 라인(5940)을 포함한다.

배기 라인(5900)은 도 5의 배기 라인(4900)과 비교하여 제4 배기 라인(5940)을 더 포함한다. 제4 배기 라인(5940)은 제1 배기 라인(5910)과 제2 배기 라인(5920)보다 배기되는 초임계 유체의 유량이 많도록 제공된다. 초임계 유체의 배기 초기에 제1 배기 라인(5910)을 통해 압력 변화가 적도록 초임계 유체를 배기하다 기설정된 압력에 도달하면 제4 배기 라인(5940)을 통해 다량의 초임계 유체를 배기한다. 제4 배기 라인(5940)은 제1 및 제2 배기 라인(5910, 5920)보다 이동되는 초임계 유체의 유량이 많으므로 배기 시간을 단축하고, 공정 효율을 도모할 수 있다.

제4 배기 라인(5940)은 제1 배기 라인(5910), 제2 배기 라인(5920) 및 제3 배기 라인(5930)과 서로 병렬로 연결된다. 일단의 분기점에는 전방 배기 라인(5980)이 연결되고, 타단의 분기점에는 후방 배기 라인(5990)이 연결된다.

제4 배기 라인(5940)은 제4 개폐 밸브(5940a), 제1 배기 유량 밸브(5940b) 및 제4 체크 밸브(4940c)를 포함한다. 제4 개폐 밸브(5940a)는 전방 배기 라인(5980)에서 이동된 초임계 유체가 제4 배기 라인(5940)으로 이동되는지를 제어한다. 제1 배기 유량 밸브(5940b)는 제4 배기 라인(5940)으로 이동되는 초임계 유체의 유량을 조절한다. 제1 배기 유량 밸브(5940b)는 기설정된 유량으로 초임계 유체를 배기되도록 하여 제2 공정 챔버(4000)내부의 압력 변화를 조절한다. 제4 체크 밸브(4940c)는 초임계 유체가 초임계 유체 재생 장치(5950) 방향으로만 이동되게 한다.

이하에서는 본 발명의 다른 실시예에 따라 초임계 유체가 공급되고 배기되는 기판 건조 장치에 대하여 설명한다. 도 7은 도 2의 제2 공정 챔버에 공정 유체의 공급 및 배기 라인이 연결된 기판 건조 장치의 다른 실시예의 도면이다.

도 7을 참조하면, 공급 라인(6800)은 전방 공급 라인(6880)과 후방 공급 라인(6891, 6892) 및 제어기(6870)를 포함한다.

제어기(6870)는 공급 라인(6800)상의 유량 밸브(6880b)를 제어하여 공급 라인(6800)을 이동하는 초임계 유체의 유량을 조절한다. 제어기(6870)는 초임계 유체를 공급하는 공정 도중에 유량 밸브(6880b)를 조절하여 초임계 유체가 제2 공정 챔버(4000) 내부로 공급되는 압력을 조절할 수 있다. 이를 통해 제2 공정 챔버(4000) 내부로 초임계 유체가 공급될 때 제2 공정 챔버(4000) 내부에 파티클이 발생하는 것을 방지하고, 기판(S)의 파손을 방지할 수 있다.

배기 라인(6900)은 전방 배기 라인(6980)과 제1 배기 라인(6910), 제2 배기 라인(6920), 제1 제어기(6971) 및 제2 제어기(6972)를 포함한다.

제1 및 제2 제어기(6971, 6972)는 제1 및 제2 배기 라인(6910, 6920)상의 제1 및 제2 유량 밸브(6910b, 6920b)를 제어하여 제1 및 제2 배기 라인(6910, 6920)을 이동하는 초임계 유체의 유량을 조절한다. 제1 및 제2 제어기(6971, 6972)는 초임계 유체를 공급하는 공정 도중에 제1 및 제2 유량 밸브(6910b, 6920b)를 조절하여 초임계 유체가 제2 공정 챔버(4000)에서 배기시 압력 변화를 조절할 수 있다. 이를 통해 제2 공정 챔버(4000)에서 초임계 유체가 배기될 때 급격한 압력 변화로 인하여 제2 공정 챔버(4000) 내부에 파티클이 발생하는 것을 방지하고, 기판(S)의 파손을 방지할 수 있다.

이하에서는 본 발명에 따른 기판 건조 방법에 관하여 상술한 기판 처리 장치(100)를 이용하여 설명한다. 다만, 이는 설명의 용이를 위한 것에 불과하므로, 기판 건조 방법은 상술한 기판 처리 장치(100) 이외에도 이와 동일 또는 유사한 다른 장치를 이용하여 수행될 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 기판 건조 방법은 이를 수행하는 코드 또는 프로그램의 형태로 컴퓨터 판독 가능 기록매체에 저장될 수 있다.

이하에서는 기판 처리 방법의 일 실시예에 관하여 설명한다. 기판 처리 방법의 일 실시예는 세정 공정 전반에 관한 것이다.

도 8은 기판 처리 방법의 일 실시예의 순서도이다.

기판 처리 방법의 일 실시예는 제1 공정 챔버(3000)로 기판(S)을 반입하는 단계(S110), 케미컬 공정을 수행하는 단계(S120), 린스공정을 수행하는 단계(S130), 유기용제공정을 수행하는 단계(S140), 제2 공정 챔버(4000)로 기판(S)을 반입하는 단계(S150), 초임계 건조공정을 수행하는 단계(S160) 및 로드포트(1100)에 놓인 용기(C)에 기판(S)을 수납하는 단계(S170)를 포함한다. 한편, 상술한 단계는 반드시 설명된 순서로 실행되어야만 하는 것은 아니며, 나중에 설명된 단계가 먼저 설명된 단계에 앞서 수행될 수도 있다. 이는 후술할 기판처리방법의 다른 실시예에서도 마찬가지이다. 이하에서는 각 단계에 관하여 설명한다.

제1 공정 챔버(3000)로 기판(S)을 반입한다(S110). 먼저 오버헤드트랜스퍼 등의 반송장치 등이 기판(S)이 수납된 용기(C)를 로드포트(1100)에 놓는다. 용기(C)가 놓이면 인덱스 로봇(1210)이 용기(C)로부터 기판(S)을 인출하여 이를 버퍼슬롯에 적재한다. 버퍼슬롯에 적재된 기판(S)은 이송 로봇(2210)에 의해 인출되어 제1 공정 챔버(3000)로 반입되며, 지지 플레이트(3110)에 안착된다.

제1 공정 챔버(3000)에 기판(S)이 반입되면, 케미컬 공정을 수행한다(S120). 지지 플레이트(3110)에 기판(S)이 놓이면, 노즐축 구동기(3240)에 의해 노즐축(3230)이 이동 및 회전하여 노즐(3210)이 기판(S)의 상부에 위치하게 된다. 노즐(3210)은 기판(S)의 상면으로 세정제를 분사한다. 세정제가 분사되면 기판(S)으로부터 이물질이 제거된다. 이때, 회전 구동기(3130)는 회전축(3120)을 회전시켜 기판(S)을 회전시킬 수 있다. 기판(S)이 회전되면, 세정제가 기판(S)에 균일하게 공급되고, 또한 기판(S)으로부터 비산된다. 비산되는 세정제는 회수통(3310)으로 유입되고, 회수 라인(3320)을 통해 공정 유체 재생 장치(미도시)로 보내어진다. 이때, 승강 구동기(3340)는 승강바(3330)를 통해 복수의 회수통(3310) 중 어느 하나로 비산되는 세정제가 유입되도록 회수통(3310)을 승강시킨다.

기판(S) 상의 이물질이 충분히 제거되면, 린스 공정을 수행한다(S130). 케미컬 공정이 종료되면, 기판(S)에는 이물질이 제거되고, 세정제가 잔류하게 된다. 복수의 노즐(3210) 중 세정제를 분사한 노즐(3210)은 기판(S)의 상부로부터 이탈하고, 다른 노즐(3210)이 기판(S)의 상부로 이동하여 기판(S)의 상면으로 린스제를 분사한다. 기판(S)에 린스제가 공급되면, 기판(S)에 잔류하는 세정제가 세척된다. 린스공정 중에도 기판(S)의 회전과 약제의 회수가 이루어질 수 있다. 승강 구동기(3340)는 세정제를 회수한 회수통(3310)과 다른 회수통(3310)으로 린스제가 유입되도록 회수통(3310)의 높이를 조절한다.

기판(S)이 충분히 세척되면, 유기용제 공정을 수행한다(S140). 린스 공정이 종료되면, 또 다른 노즐(3210)이 기판(S)의 상부로 이동하여 유기용제를 분사한다. 유기용제가 공급되면, 기판(S) 상의 린스제가 유기용제로 치환된다. 한편, 유기용제 공정 중에는 기판(S)을 회전시키지 않거나 저속으로 회전시킬 수 있다. 기판(S) 상에서 유기용제가 바로 증발하게 되면, 유기용제의 표면장력에 의해 회로패턴에 계면장력이 작용하여 회로패턴이 도괴될 수 있기 때문이다.

제1 공정 챔버(3000)에서 유기용제공정이 종료되면, 제2 공정 챔버(4000)로 기판(S)을 반입하고(S150), 제2 공정 챔버(4000)가 초임계 건조 공정을 수행한다. 단계 S150과 단계 S160에 대해서는 후술할 기판 처리 방법의 다른 실시예에서 상세하게 설명하도록 한다.

초임계 건조 공정이 종료되면, 기판(S)을 로드포트(1100)에 놓인 용기(C)에 수납한다(S170). 제2 공정 챔버(4000)가 개방되면, 이송 로봇(2210)이 기판(S)을 인출한다. 기판(S)은 버퍼 챔버(2100)로 이동하고, 인덱스 로봇(1110)에 의해 버퍼 챔버(2100)로부터 인출되어 용기(C)에 수납될 수 있다.

이하에서는 기판 처리 방법의 다른 실시예에 관하여 설명한다. 기판 처리 방법의 다른 실시예는 제2 공정 챔버가 초임계 건조 공정을 수행하는 방법에 관한 것이다.

도 9는 기판 건조 방법의 일 실시예의 순서도이다.

기판 건조 방법의 일 실시예는 제2 공정 챔버(4000)에 기판(S)을 반입하는 단계(S210), 하우징(4100)을 밀폐하는 단계(S220), 제1 공급 유량으로 초임계 유체를 공급하는 단계(S230), 제2 공정 챔버(4000) 내부가 기설정 압력에 도달시 제2 공급 유량으로 초임계 유체를 공급하는 단계(S240), 제2 공정 챔버(4000) 내부의 일정한 압력 범위내에서 초임계 유체를 공급 및 배기를 반복하는 단계(S250), 제1 배기 유량으로 초임계 유체를 배기하는 단계(S260), 기설정 압력에 도달시 제2 배기 유량으로 초임계 유체를 배기하는 단계(S270), 하우징(4100)을 개방하는 단계(S280) 및 제2 공정 챔버(4000)로부터 기판(S)을 반출하는 단계(S290)를 포함한다. 이하에서는 상기 단계 중에 초임계 유체를 공급하고 배기하는 단계(S230 ~ S270)에 관하여 설명한다.

도 10 내지 도 14은 도 9의 기판 건조 방법의 동작도이다.

공정 초기에 초임계 유체를 제2 공정 챔버(4000)내부로 공급하는 경우는 다음과 같다. 도 10을 참조하면, 초임계 유체가 유입되는 공정 초기에는 제1 공급 라인(4810)의 제1 개폐 밸브(4810a)와 제2 후방 공급 라인(4892)의 개폐 밸브(4892a)가 열리고, 제2 공급 라인(4820)의 제2 개폐 밸브(4820a)와 제1 후방 공급 라인(4891)의 개폐 밸브(4891a)가 닫힌다. 따라서 초임계 유체는 저장 탱크(4850)에서 전방 공급 라인(4880)과 제1 공급 라인(4810) 및 제2 후방 공급 라인(4892)을 통하여 제2 공정 챔버(4000)내부로 공급된다.

공정 초기에 제2 공정 챔버(4000)내부로 초임계 유체가 유입되면서 초기 가압시 기판(S)이 파손되거나 제2 공정 챔버(4000)내부에 파티클이 발생할 수 있다. 이를 방지하기 위해, 제1 공급 라인(4810)의 제1 유량 밸브(4810b)는 이동하는 초임계 유체의 유량을 제1 공급 유량으로 조절한다. 제1 공급 유량은 초임계 유체가 제2 공정 챔버(4000)내부에 초기 가압시에도 기판(S)이 파손되거나 파티클이 발생하지 않을 정도의 낮은 압력변화가 일어나도록 한다. 이때 초임계 유체는 기판(S)의 파손을 방지하기 위해, 기판(S)에서 멀리 위치한 제2 후방 공급 라인(4892)을 통해 제2 공정 챔버(4000)의 하면으로 공급된다.

제2 공정 챔버(4000)내부에 초임계 유체가 유입되어 기설정된 압력에 도달되면 다량의 초임계 유체를 공급한다. 도 11을 참조하면, 도 10에서 초임계 유체의 공급으로 제2 공정 챔버(4000)내부가 기설정된 압력에 도달하면, 제1 공급 라인(4810)의 제1 개폐 밸브(4810a)와 제2 후방 공급 라인(4892)의 개폐 밸브(4892a)가 닫히고, 제2 공급 라인(4820)의 제2 개폐 밸브(4820a)와 제1 후방 공급 라인(4891)의 개폐 밸브(4891a)가 열린다. 초임계 유체는 저장 탱크(4850)에서 전방 공급 라인(4880)과 제2 공급 라인(4820) 및 제1 후방 공급 라인(4891)을 통하여 유체를 제2 공정 챔버(4000)내부로 공급된다. 이때 제2 공급 라인(4820)을 통과하는 초임계 유체의 제2 공급 유량은 제1 공급 라인(4810)의 제1 공급 유량보다 많도록 조절된다. 제2 공정 챔버(4000)내부가 일정 압력 이상이 되면, 압력 변화로 인하여 기판(S)이 파손되거나 파티클이 발생하지 않기 때문에 건조 효율을 높이기 위하여 다량의 초임계 유체를 기판에 가까이에서 공급할 수 있다. 이를 통해, 건조 공정 시간을 단축하고, 건조 공정의 효율을 도모할 수 있다.

제2 공정 챔버(4000)내부가 기설정된 압력에 도달하면 공정 속도와 효율을 높이기 위해 제2 공정 챔버(4000) 상부와 하부를 통해 동시게 초임계 유체를 공급할 수 있다. 도 12를 참조하면, 기판 건조 방법의 변형예로서 제2 공정 챔버(4000)내부가 초임계 유체의 공급으로 기설정된 압력에 도달하면, 초임계 유체를 공급할 때 제1 후방 공급 라인(4891)과 제2 후방 공급 라인(4892)에서 동시에 제2 공정 챔버(4000)내부로 공급할 수 있다. 이때 제1 공급 라인(4810)의 제1 개폐 밸브(4810a)가 닫히고, 제1 후방 공급 라인(4891)의 개폐 밸브(4891a), 제2 후방 공급 라인(4892)의 개폐 밸브(4892a) 및 제2 공급 라인(4820)의 제2 개폐 밸브(4820a)가 열린다. 이때 제2 공정 챔버(4000)내부로 초임계 유체의 공급 속도를 높임으로서 공정시간을 단축하고 공정 효율을 도모할 수 있다.

도시되지 않았지만, 제2 공급 라인(4820)의 제2 유량 밸브(4820b)를 공정 진행 중에 조절하여 제2 공급 라인(4820)을 통해 이동하는 초임계 유체의 유량을 조절할 수 있다. 이러한 경우는 추가적인 공급 라인 없이 공정 진행중에 초임계 유체의 유량을 조절함으로써 제2 공정 챔버(4000)내부의 압력을 조정할 수 있다. 이를 통해 제2 공정 챔버(4000)내부에 파티클이 발생하는 것을 방지하고, 기판(S)의 파손을 막을 수 있다.

또한, 도시되지 않았지만, 제1 공급 라인(4810)과 제2 공급 라인(4820)의 기설정된 초임계 유체의 유량보다 더 많은 제3 공급 유량으로 초임계 유체를 공급할 수 있다. 이러한 경우는 제1 공급 라인(4810)을 통해 초임계 유체를 공급하여 기설정 압력에 도달하면 제3 공급 유량으로 초임계 유체를 공급하여 공정시간을 단축하고, 공정 효율을 도모할 수 있다.

초임계 유체가 배기되는 공정 초기에는 적은 유량의 초임계 유체가 배기된다. 도 13을 참조하면, 배기 공정 초기에는 제1 배기 라인(4910)의 제1 개폐 밸브(4910a)와 제3 배기 라인(4930)의 제3 개폐 밸브(4930a)가 닫히고, 제2 배기 라인(4920)의 제2 개폐 밸브(4920a)가 열린다. 따라서 초임계 유체는 제2 공정 챔버(4000)에서 전방 배기 라인(4980)과 제2 배기 라인(4910)을 통하여 제2 공정 챔버(4000)에서 배기된다.

제2 배기 라인(4920)의 제2 유량 밸브(4920b)는 제2 공정 챔버(4000)에서 초임계 유체가 초기 배기시 급격한 압력 변화로 인해 기판(S)이 파손되거나 제2 공정 챔버(4000)내부에 파티클이 발생하지 않도록, 이동하는 초임계 유체의 유량을 제2 배기 유량으로 조절한다. 제2 배기 유량은 배기 초기에 급격하게 제2 공정 챔버(4000) 내부의 압력이 변화하지 않도록 설정된다. 이를 통해 제2 공정 챔버(4000) 내부의 파티클의 발생과 기판(S)이 파손을 방지할 수 있다.

제2 배기 라인(4920)을 통해 제2 공정 챔버(4000)내부의 압력이 기설정된 압력에 도달하면 제1 배기 라인(4910)을 통해 초임계 유체를 배기한다. 도 14를 참조하면, 제2 공정 챔버(4000)내부가 초임계 유체를 배기하여 기설정된 압력에 도달하면, 제2 배기 라인(4920)의 제2 개폐 밸브(4920a)와 제3 배기 라인(4930)의 제3 개폐 밸브(4930a)가 닫히고, 제1 배기 라인(4910)의 제1 개폐 밸브(4910a) 가 열린다. 초임계 유체는 제 공정 챔버(4000)에서 전방 배기 라인(4980)과 제1 배기 라인(4910)을 통하여 제2 공정 챔버(4000)에서 배기된다. 이때 제1 배기 라인(4910)을 통해 배기되는 초임계 유체의 제1 배기 유량은 제2 배기 라인(4920)의 제2 배기 유량보다 많도록 조절된다. 제2 공정 챔버(4000)내부의 압력이 기설정된 압력에 도달하면 급격한 압력 변화에도 기판(S)이 파손되거나 제2 공정 챔버(4000)내부에 파티클이 발생하지 않아 다량의 초임계 유체를 배기할 수 있다. 이를 통해 건조 공정 시간을 단축하고, 건조 공정의 효율을 도모할 수 있다.

도시되지 않았지만, 제2 배기 라인(4920)의 제2 유량 밸브(4920b)를 공정 진행 중에 조절하여 제2 배기 라인(4920)을 통해 이동하는 초임계 유체의 유량을 조절할 수 있다. 이러한 경우는 추가적인 배기 라인 없이 공정 진행중에 초임계 유체의 유량을 조절함으로써 제2 공정 챔버(4000)내부의 압력을 조정할 수 있다. 이를 통해 제2 공정 챔버(4000)내부에 파티클이 발생하는 것을 방지하고, 기판(S)의 파손을 막을 수 있다.

또한, 도시되지 않았지만, 제1 배기 라인(4910)과 제2 배기 라인(4920)의 기설정된 초임계 유체의 유량보다 더 많은 제3 배기 유량으로 초임계 유체를 배기할 수 있다. 이러한 경우는 제1 배기 유량으로 초임계 유체를 배기하여 기설정 압력에 도달하면 제3 배기 유량으로 초임계 유체를 배기하여 공정시간을 단축하고, 공정 효율을 도모할 수 있다.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.

100: 기판 처리 장치 1000: 인덱스 모듈
2000: 공정 모듈 3000: 제1 공정 챔버
4000: 제 2 공정 챔버 4850: 저장 탱크
4800: 공급 라인 4900: 배기 라인

Claims (9)

1. 건조 공정이 수행되는 공간을 제공하는 하우징;
   상기 하우징의 내부에 제공되어 기판을 지지하는 기판 지지 부재;
   상기 하우징으로 초임계 상태의 공정 유체를 공급하는 공급 라인을 포함하는 유체 공급 부재; 및
   상기 하우징으로부터 상기 공정 유체를 배기하는 배기 라인을 포함하는 배기 부재;를 포함하되,
   상기 배기 라인은,
   상기 공정 유체가 제1 배기 유량으로 상기 하우징에서 배기되도록 제공되는 제1 배기 라인; 및
   상기 공정 유체가 제2 배기 유량으로 상기 하우징에서 배기되도록 제공되는 제2 배기 라인;을 포함하고,
   상기 제1 배기 라인은 상기 공정 유체가 상기 제1 배기 유량으로 배기되도록 조절하는 제1 유량 밸브;를 포함하고,
   상기 제2 배기 라인은 상기 공정 유체가 상기 제2 배기 유량으로 배기되도록 조절하는 제2 유량 밸브;를 포함하되,
   상기 제1 배기 유량이 상기 제2 배기 유량보다 많도록 상기 제1 유량 밸브와 상기 제2 유량 밸브가 조절되고,
   상기 배기 부재는, 상기 공정 유체를 상기 하우징으로부터 상기 하우징의 외부로 공정 초기에는 상기 제1 배기 유량으로 배기하고, 공정 후기에는 상기 제 2 배기 유량으로 배기하는 기판 건조 장치.
2. 제1항에 있어서,
   상기 배기 라인은
   상기 하우징에 연결된 전방 배기 라인; 및
   상기 공정 유체의 재생 장치에 연결된 후방 배기 라인;을 더 포함하되,
   상기 제1 배기 라인과 제2 배기 라인이 서로 병렬로 연결되고, 상기 전방 배기 라인과 상기 후방 배기 라인을 연결시키는 기판 건조 장치.
3. 삭제
4. 제1항에 있어서,
   상기 배기 라인은
   상기 공정 유체가 제3 배기 유량으로 배기되도록 조절하는 제3 유량 밸브가 제공되는 제3 배기 라인;을 더 포함하되,
   상기 제3 배기 유량이 상기 제2 배기 유량 보다 많도록 제3 유량 밸브가 조절되는 기판 건조 장치.
5. 초임계 상태의 공정 유체를 하우징 외부로 배기하는 유량이 조절됨으로써 하우징 내부의 압력을 제어하여 기판을 건조시키되,
   초기에는 상기 공정 유체의 유량을 제1 배기 유량으로 하여, 상기 공정 유체가 상기 하우징 외부로 배기되는 단계; 및
   후기에는 상기 공정 유체의 유량을 제2 배기 유량으로 하여, 상기 공정 유체가 상기 하우징 외부로 배기되는 단계;를 포함하되,
   상기 제1 배기 유량이 상기 제2 배기 유량보다 적게 제공되는 기판 건조 방법.
6. 제5항에 있어서,
   상기 제2 배기 유량으로 배기되는 단계는
   상기 제1 배기 유량으로 상기 공정 유체를 상기 하우징에서 배기하여 설정된 압력에 도달하면 상기 제2 배기 유량으로 상기 공정 유체가 배기되는 기판 건조 방법.
7. 제5항에 있어서,
   상기 공정 유체가 상기 제1 배기 유량으로 배기되는 단계와 상기 제2 배기 유량으로 배기되는 단계에 각각 다른 배기 라인을 통해 상기 하우징에서 배기되는 기판 건조 방법.
8. 제5항에 있어서,
   상기 공정 유체의 유량이 배기 라인에 제공된 유량 밸브를 제어하여 조절되는 기판 건조 방법.
9. 제5항에 있어서,
   상기 공정 유체의 유량을 제3 배기 유량으로 하여, 상기 공정 유체가 상기 하우징 내부에서 배기되는 단계;를 더 포함하되,
   상기 제1 배기 유량으로 상기 공정 유체가 상기 하우징에서 배기되어 설정된 압력에 도달하면 상기 제3 배기 유량으로 상기 공정 유체가 배기되고, 다른 설정된 압력에 도달하면 상기 제2 배기 유량으로 상기 공정 유체가 배기되는 기판 건조 방법.
   

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