KR101530052B1 - Optical film, light source assembly and liquid crystal display including the same, and pattern mold for fabricating the optical film - Google Patents

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Abstract

광학 시트, 이를 포함하는 광원 어셈블리와 액정 표시 장치, 및 광학 시트 제조용 패턴 몰드의 제조 방법이 제공된다. 광학 시트는 광학 시트는 제1 기재, 제1 기재 상면에 형성된 제1 광변조층, 제2 기재, 제2 기재의 상면에 형성된 제2 광변조층, 및 제2 기재의 하면에 형성되고 제1 광변조층이 적어도 부분적으로 침투하여 결합하는 결합층을 포함하되, 제1 광변조층은 일 방향으로 연장된 복수의 프리즘부, 각 프리즘부에 연결된 상부 웨이브 패턴부를 포함하며, 상부 웨이브 패턴부의 상단 높이는 프리즘부의 연장 방향을 따라 변동한다.An optical sheet, a light source assembly and a liquid crystal display including the optical sheet, and a method of manufacturing a pattern mold for manufacturing an optical sheet are provided. The optical sheet is characterized in that the optical sheet has a first base material, a first optical modulation layer formed on the upper surface of the first base material, a second base material, a second optical modulation layer formed on the upper surface of the second base material, The first optical modulating layer including a plurality of prism portions extending in one direction and an upper wave pattern portion connected to the respective prism portions, wherein the upper wave pattern portion The height varies along the extending direction of the prism portion.

Description

광학 시트, 이를 포함하는 광원 어셈블리와 액정 표시 장치, 및 광학 시트 제조용 패턴 몰드의 제조 방법{Optical film, light source assembly and liquid crystal display including the same, and pattern mold for fabricating the optical film}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an optical sheet, a light source assembly including the same, a liquid crystal display device, and a method of manufacturing a pattern mold for manufacturing an optical sheet,

본 발명은 광학 시트, 이를 포함하는 광원 어셈블리와 액정 표시 장치, 및 광학 시트 제조용 패턴 몰드의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to an optical sheet, a light source assembly and a liquid crystal display including the same, and a manufacturing method of a pattern mold for manufacturing an optical sheet.

액정 표시 장치(Liquid Crystal Display; LCD)는 두 개의 유리판 사이에 액정을 주입해 상하 유리판 전극에 전원을 인가하여 각 화소에 액정 분자배열이 변화함으로써 영상을 표시하는 장치이다. 음극선관 표시 장치(Cathode Ray Tube; CRT), 플라즈마 표시 장치(Plasma Display Panel; PDP) 등과는 달리 액정 표시 장치에 의한 표시는 그 자체가 비발광성이기 때문에 빛이 없는 곳에서는 사용이 불가능하다. 이러한 단점을 보완하여 어두운 곳에서의 사용이 가능하게 할 목적으로 정보 표시면에 균일하게 조사되는 광원 어셈블리를 장착한다.A liquid crystal display (LCD) is a device for displaying an image by injecting liquid crystal between two glass plates and applying power to the upper and lower glass plate electrodes to change the arrangement of liquid crystal molecules in each pixel. Unlike a cathode ray tube (CRT), a plasma display panel (PDP) or the like, a display using a liquid crystal display device is not usable in a place where there is no light because the display itself is non-luminous. In order to compensate for these drawbacks, a light source assembly that is uniformly irradiated on the information display surface is mounted for the purpose of enabling use in a dark place.

액정 표시 장치에 사용되는 광원 어셈블리는 크게 2종류로 구분된다. 첫째는 액정 표시 장치의 측면에서 빛을 제공하는 에지형 광원 어셈블리고 둘째는 액정 표시 장치의 후면에서 빛을 직접 제공하는 직하형 광원 어셈블리다. 몇몇 에지형 광원 어셈블리의 경우, 광원으로부터 출사된 빛이 상측으로 조사되도록 하기 위해 도광판을 구비하며, 도광판을 통과한 빛의 광학적 특성을 조절하기 위해 도광판 위쪽에 적어도 하나의 광학 시트를 구비한다. 몇몇 직하형 광원 어셈블리의 경우에는 광원으로부터 출사된 빛의 휘선을 감소시키기 위해 확산판을 구비하며, 확산판을 통과한 빛의 광학적 특성을 조절하기 위해 적어도 하나의 광학 시트를 구비한다. The light source assembly used in the liquid crystal display device is divided into two types. The first is an edge type light source assembly that provides light at the side of the liquid crystal display device, and the second is a direct light type light source assembly that provides light directly at the rear side of the liquid crystal display device. In some edge type light source assemblies, a light guide plate is provided so that light emitted from a light source is irradiated upward, and at least one optical sheet is provided above the light guide plate to control optical characteristics of light passing through the light guide plate. In the case of some direct type light source assemblies, a diffusion plate is provided to reduce the light lines of light emitted from the light source, and at least one optical sheet is provided to control the optical characteristics of light passing through the diffusion plate.

광원 어셈블리에서, 광 차폐 및 정밀한 광 특성 제어를 위해서는 다수의 광기능성 광학시트가 필요하다. 그러나, 광학시트의 수가 증가하면 광원 어셈블리의 두께가 증가하고 제조 단가의 상승이 수반된다. In the light source assembly, a plurality of optically functional optical sheets are required for light shielding and precise optical property control. However, if the number of optical sheets is increased, the thickness of the light source assembly is increased and the manufacturing cost is increased.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 복수의 광변조 특성이 효과적으로 구현됨과 동시에 휘도가 향상되고 결합력이 개선된 광학 시트를 제공하고자 하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an optical sheet in which a plurality of optical modulation characteristics are effectively realized, brightness is improved, and bonding force is improved.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 두께가 얇으면서 기구적 안정성 및 휘도가 향성된 광원 어셈블리를 제공하고자 하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a light source assembly having a reduced thickness and mechanical stability and brightness.

본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 두께가 얇으면서 기구적 안정성 및 휘도가 향성된 액정 표시 장치를 제공하고자 하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in which the thickness is thin and the mechanical stability and brightness are directed.

본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 상기한 바와 같은 광학 시트를 제조하는 데 사용되는 패턴 몰드의 제조 방법을 제공하고자 하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a method of manufacturing a pattern mold used for manufacturing an optical sheet as described above.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the above-mentioned problems, and other problems not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 시트는 제1 기재, 상기 제1 기재 상면에 형성된 제1 광변조층, 제2 기재, 상기 제2 기재의 상면에 형성된 제2 광변조층, 및 상기 제2 기재의 하면에 형성되고 상기 제1 광변조층이 적어도 부분적으로 침투하여 결합하는 결합층을 포함하되, 상기 제1 광변조층은 일 방향으로 연장된 복수의 프리즘부, 상기 각 프리즘부에 연결된 상부 웨이브 패턴부를 포함하며, 상기 상부 웨이브 패턴부의 상단 높이는 상기 프리즘부의 상기 연장 방향을 따라 변동한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an optical sheet comprising a first substrate, a first optical modulation layer formed on the first substrate, a second substrate, a second optical modulation And a bonding layer formed on the lower surface of the second substrate and bonded by at least partially penetrating the first optical modulation layer, wherein the first optical modulation layer includes a plurality of prism portions extending in one direction, And an upper wave pattern portion connected to each of the prism portions, wherein a top height of the upper wave pattern portion varies along the extending direction of the prism portion.

상기 다른 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 광원 어셈블리는 상기한 바와 같은 광학 시트를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a light source assembly including the optical sheet as described above.

상기 또 다른 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치는 상기한 바와 같은 광학 시트를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device including the optical sheet as described above.

상기 또 다른 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 몰드의 제조 방법은 표면에 음각 프리즘 패턴 라인을 형성된 원통형 몰드 및 바이트를 준비하는 단계, 및 상기 바이트를 기준으로 상기 원통형 몰드를 상대적으로 회전하면서, 상기 음각 프리즘 패턴의 산부에 상기 바이트의 진입 깊이를 조절하면서 상기 바이트를 진입시켜 상기 원통형 몰드를 깎아내는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a pattern mold, the method comprising: preparing a cylindrical mold and a bite having a depressed prism pattern line formed on a surface thereof; And cutting the cylindrical mold by entering the bite while adjusting the entry depth of the bite into the crest portion of the intaglio prism pattern.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.The details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명의 실시예들에 의하면 적어도 다음과 같은 효과가 있다.The embodiments of the present invention have at least the following effects.

즉, 본 발명의 실시예들에 따른 광학 시트에 의하면, 단일 광학 시트의 사용만으로, 우수한 기구 안정성 및 고휘도 특성을 나타낼 수 있다.That is, according to the optical sheet according to the embodiments of the present invention, excellent stability of the apparatus and high luminance characteristics can be exhibited only by using a single optical sheet.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.The effects according to the present invention are not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 시트의 사시도이다.
도 2는 도 1의 제1 광변조층의 사시도이다.
도 3은 도 2의 III-III'선을 따라 자른 단면도이다.
도 4는 도 2의 IV-IV'선을 따라 자른 단면도이다.
도 5는 도 2의 H1 내지 H5 지점을 지나는 프리즘부 폭 방향 단면을 수평 방향으로 나열한 단면도이다.
도 6은 도 도 2의 H1 내지 H5 지점을 지나는 프리즘부 폭 방향 단면을 겹쳐서 표시한 단면도이다.
도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 프리즘층과 결합층의 결합을 나타낸 단면도들이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 광학 시트의 제1 광변조층의 단면도이다.
도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 광학 시트의 제1 광변조층의 단면도이다.
도 10 및 도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 몰드의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단계별 사시도들이다.
도 12는 패턴 몰드의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이다.
1 is a perspective view of an optical sheet according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view of the first optical modulation layer of Fig.
3 is a cross-sectional view taken along line III-III 'of FIG.
4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV 'of FIG.
5 is a cross-sectional view of the prism portion in the width direction passing through the points H1 to H5 in FIG. 2 in the horizontal direction.
Fig. 6 is a cross-sectional view of the cross section of the prism portion in the width direction passing through H1 to H5 in Fig.
7A-7C are cross-sectional views illustrating the combination of a prism layer and a bonding layer in accordance with various embodiments of the present invention.
8 is a cross-sectional view of a first light modulating layer of an optical sheet according to another embodiment of the present invention.
9 is a sectional view of a first light modulating layer of an optical sheet according to another embodiment of the present invention.
10 and 11 are perspective views for explaining a method of manufacturing a pattern mold according to an embodiment of the present invention.
12 is a cross-sectional view for explaining a method of manufacturing a pattern mold.
13 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention and the manner of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. Is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims.

소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층"위(on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 소자가 "직접 위(directly on)"로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자 또는 층을 개재하지 않은 것을 나타낸다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. "및/또는"는 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다. It is to be understood that elements or layers are referred to as being "on " other elements or layers, including both intervening layers or other elements directly on or in between. On the other hand, a device being referred to as "directly on" refers to not intervening another device or layer in the middle. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. "And / or" include each and any combination of one or more of the mentioned items.

비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.Although the first, second, etc. are used to describe various components, it goes without saying that these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Therefore, it goes without saying that the first component mentioned below may be the second component within the technical scope of the present invention.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of illustrating embodiments and is not intended to be limiting of the present invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. The terms " comprises "and / or" comprising "used in the specification do not exclude the presence or addition of one or more other elements in addition to the stated element.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms (including technical and scientific terms) used herein may be used in a sense commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Also, commonly used predefined terms are not ideally or excessively interpreted unless explicitly defined otherwise.

공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 구성 요소와 다른 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 구성요소들의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 구성요소를 뒤집을 경우, 다른 구성요소의 "아래(below)"또는 "아래(beneath)"로 기술된 구성요소는 다른 구성요소의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 구성요소는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.The terms spatially relative, "below", "beneath", "lower", "above", "upper" And can be used to easily describe a correlation between an element and other elements. Spatially relative terms should be understood in terms of the directions shown in the drawings, including the different directions of components at the time of use or operation. For example, when inverting an element shown in the figures, an element described as "below" or "beneath" of another element may be placed "above" another element . Thus, the exemplary term "below" can include both downward and upward directions. The components can also be oriented in different directions, so that spatially relative terms can be interpreted according to orientation.

본 명세서에서 사용되는 용어인 "~필름"은 "~시트", "~판"의 의미로 사용될 수 있다.As used herein, the term "film" can be used in the sense of "to sheet"

이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대해 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 시트의 사시도이다. 도 2는 도 1의 제1 광변조층의 사시도이다. 1 is a perspective view of an optical sheet according to an embodiment of the present invention. 2 is a perspective view of the first optical modulation layer of Fig.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 시트(200)는 제1 기재(211), 제1 기재(211) 상면에 형성된 제1 광변조층, 제2 기재(235), 제2 기재(235) 하면에 형성된 결합층(240), 및 제2 기재(235) 상면에 형성된 제2 광변조층을 포함한다.1 and 2, an optical sheet 200 according to an embodiment of the present invention includes a first substrate 211, a first optical modulation layer formed on the first substrate 211, a second substrate 235 A bonding layer 240 formed on the lower surface of the second substrate 235, and a second light-modulating layer formed on the upper surface of the second substrate 235.

제1 기재(211) 및 제2 기재(235)는 광을 투과시킬 수 있는 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 각 기재(211, 215)는 폴리카보네이트(poly carbonate) 계열, 폴리술폰(poly sulfone) 계열, 폴리아크릴레이트(poly acrylate) 계열, 폴리스티렌(poly styrene) 계열, 폴리비닐클로라이드(poly vinyl chloride) 계열, 폴리비닐알코올(poly vinyl alcohol) 계열, 폴리노르보넨(poly norbornene) 계열, 폴리에스테르(poly ester) 계열의 물질을 포함하여 이루어질 수 있다.The first substrate 211 and the second substrate 235 may be made of a material capable of transmitting light. For example, each of the substrates 211 and 215 may be formed of a material selected from the group consisting of a polycarbonate series, a poly sulfone series, a poly acrylate series, a polystyrene series, a poly vinyl (vinyl) a polyvinyl alcohol series, a poly norbornene series, and a polyester ester series may be included.

제1 기재(211) 및 제2 기재(235)는 각각 10 내지 300㎛의 두께를 갖거나, 25 내지 250㎛의 두께를 가질 수 있다. 예시적인 실시예에서, 각 제1 기재(211) 및 제2 기재(235)는 50㎛, 75㎛, 125㎛ 또는 250㎛일 수 있다. The first substrate 211 and the second substrate 235 may each have a thickness of 10 to 300 mu m or may have a thickness of 25 to 250 mu m. In an exemplary embodiment, each of the first substrate 211 and the second substrate 235 may be 50 占 퐉, 75 占 퐉, 125 占 퐉, or 250 占 퐉.

제1 기재(211)의 하면에는 백코팅층(220)이 형성될 수 있다. 백코팅층(220)은 광학 시트(200)의 최하부에 위치한다. 백코팅층(220)은 소정의 표면 조도를 가질 수 있다. A back coating layer 220 may be formed on the lower surface of the first substrate 211. The back coating layer 220 is located at the lowermost portion of the optical sheet 200. The back coating layer 220 may have a predetermined surface roughness.

제1 기재(211)의 상면에는 제1 광변조층이 형성되고, 제2 기재(235)의 상면에는 제2 광변조층이 형성된다. 제1 광변조층 및 제2 광변조층은 각각 광 특성을 변조하는 광학층일 수 있다. 광 특성 변조를 위해 제1 광변조층과 제2 광변조층은 광 변조 패턴을 포함할 수 있다. 광 변조 패턴은 비평탄 표면을 가지며, 요부와 철부를 포함할 수 있다. A first optical modulation layer is formed on the upper surface of the first substrate 211, and a second optical modulation layer is formed on the upper surface of the second substrate 235. The first optical modulation layer and the second optical modulation layer may each be an optical layer for modulating optical characteristics. For optical property modulation, the first optical modulation layer and the second optical modulation layer may comprise a light modulation pattern. The light modulation pattern has a non-planar surface and may include recesses and protrusions.

예시적인 실시예에서, 제1 광변조층 및 제2 광변조층은 각각 확산 패턴층, 마이크로 렌즈 패턴층, 프리즘 패턴층 또는 렌티큘러층일 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 도 1 및 도 2에서는 제1 광변조층으로 프리즘층(230)을, 제2 광변조층으로 마이크로 렌즈층(250)을 적용한 경우를 예시한다. 이처럼, 일체형으로 결합되어 있는 광학 시트에서 2 이상의 광변조층이 형성되면, 다양한 광변조를 수행할 수 있다. In an exemplary embodiment, the first optical modulation layer and the second optical modulation layer may be a diffusion pattern layer, a micro lens pattern layer, a prism pattern layer, or a lenticular layer, respectively, but are not limited thereto. 1 and 2 illustrate a case where a prism layer 230 is used as a first optical modulation layer and a microlens layer 250 is used as a second optical modulation layer. As described above, when two or more optical modulation layers are formed in an integrally coupled optical sheet, various optical modulation can be performed.

프리즘층(230)은 복수의 프리즘부(231) 및 프리즘부(231) 상부에 형성된 상부 웨이브 패턴부(232)를 포함한다. 각 프리즘부(231)는 제1 방향(X1)으로 연장되어 있다. 상부 웨이브 패턴부(232)는 프리즘부(231) 연장 방향인 제1 방향(X1)을 따라 높이가 변경되는 웨이브 패턴을 가질 수 있다. The prism layer 230 includes a plurality of prism portions 231 and a top wave pattern portion 232 formed on the prism portion 231. Each of the prism portions 231 extends in the first direction X1. The upper wave pattern part 232 may have a wave pattern whose height is changed along the first direction X1 which is the extending direction of the prism part 231. [

프리즘부(231)와 상부 웨이브 패턴부(232)는 동일한 물질로 이루어질 수 있고, 나아가 일체로 형성될 수 있다. 프리즘층(230)은 예를 들어, 열경화성 수지 또는 자외선 경화성 수지로 이루어질 수 있다. 상기 열경화성 수지의 예로는 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지 등을 들 수 있다. 상기 자외선 경화성 수지의 예로는 에폭시아크릴레이트계 수지, 우레탄아크릴레이트계 수지, 실리콘아크릴레이트계 수지 등이 예시될 수 있다. 프리즘층(230)의 굴절률은 약 1.48 내지 1.60이거나, 약 1.53 내지 1.58 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.The prism portion 231 and the upper wave pattern portion 232 may be made of the same material or may be integrally formed. The prism layer 230 may be made of, for example, a thermosetting resin or an ultraviolet ray curing resin. Examples of the thermosetting resin include an acrylic resin, a urethane resin, and a polyester resin. Examples of the ultraviolet ray curable resin include an epoxy acrylate resin, a urethane acrylate resin, and a silicone acrylate resin. The refractive index of the prism layer 230 may be about 1.48 to 1.60, or about 1.53 to 1.58, but is not limited thereto.

프리즘층(230)에 대한 더욱 상세한 설명은 후술하기로 한다.A more detailed description of the prism layer 230 will be described later.

제2 기재(235)의 하면에는 결합층(240)이 형성된다. 결합층(240)은 접착제층, 점착제층이나, 기타 수지층 등으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 결합층(240)은 에폭시 아크릴에이트 수지, 우레탄 아크릴에티트 수지 등을 포함하는 조성물, 또는 폴리에테프폴리올류, 폴리에스테르폴리올류, 폴리카보네이트폴리올류, 또는 폴리부타디엔글리콜류 등의 폴리올 물질을 포함하는 조성물로 이루어질 수 있다. 결합층(240)의 굴절률은 약 1.46 내지 1.60이거나, 약 1.48 내지 1.54일 수 있다. 결합층(240)의 굴절률은 프리즘층(230)의 굴절률보다 작을 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 결합층(240)의 두께는 약 1 내지 10㎛일 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.A bonding layer 240 is formed on the lower surface of the second substrate 235. The bonding layer 240 may be composed of an adhesive layer, a pressure-sensitive adhesive layer, or other resin layer. For example, the bonding layer 240 may be formed of a composition containing an epoxy acrylate resin, a urethane acrylate resin or the like, or a composition containing a polyether polyol, a polyester polyol, a polycarbonate polyol, or a polybutadiene glycol And a composition comprising a polyol material. The refractive index of the bonding layer 240 may be between about 1.46 and 1.60, or between about 1.48 and 1.54. The refractive index of the bonding layer 240 may be smaller than the refractive index of the prism layer 230, but is not limited thereto. The thickness of the bonding layer 240 may be about 1 to 10 mu m, but is not limited thereto.

결합층(240)에는 프리즘층(230)의 상부 웨이브 패턴부(232)가 적어도 부분적으로 침투하여 결합된다. 이에 대해서는 뒤에 더욱 상세히 설명하기로 한다.In the bonding layer 240, the upper wave pattern portion 232 of the prism layer 230 is at least partly penetrated and bonded. This will be described in more detail later.

제2 기재(235)의 상면에는 마이크로 렌즈층(250)이 형성된다. 마이크로 렌즈층(250)은 복수의 마이크로 렌즈(251)를 포함한다. 각 마이크로 렌즈(251)는 매트릭스 형상으로 배열될 수 있다. 즉, 각 마이크로 렌즈(251)는 제3 방향 및 제4 방향을 따라 배열될 수 있다. 각 마이크로 렌즈(251)는 제3 방향으로 배열된 복수의 행과 제4 방향으로 배열된 복수의 열을 포함할 수 있다. 이웃하는 행의 각 마이크로 렌즈(251)는 엇갈려 배열될 수도 있다. 즉, 홀수번째 행의 마이크로 렌즈(251)에 대하여 이웃하는 짝수번째 행의 마이크로 렌즈(251)는 홀수번째 행의 마이크로 렌즈(251)의 사이에 배열될 수 있다. n번째 행의 이웃하는 2개의 마이크로 렌즈(251)와, 그와 인접한 (n+1)번째 행의 1개의 마이크로 렌즈(251)의 각 중심을 연결한 선은 실질적인 이등변 삼각형이거나 정삼각형일 수 있다.A microlens layer 250 is formed on the upper surface of the second substrate 235. The microlens layer 250 includes a plurality of microlenses 251. Each microlens 251 may be arranged in a matrix. That is, each microlens 251 may be arranged along the third direction and the fourth direction. Each microlens 251 may include a plurality of rows arranged in the third direction and a plurality of rows arranged in the fourth direction. Each of the microlenses 251 in the neighboring rows may be staggered. That is, the microlenses 251 in the even-numbered rows adjacent to the microlenses 251 in the odd-numbered rows can be arranged between the microlenses 251 in the odd-numbered rows. The line connecting the centers of two microlenses 251 adjacent to each other in the nth row and one microlens 251 in the (n + 1) th row adjacent thereto may be a substantially isosceles triangle or an equilateral triangle.

예시적인 실시예에서, 제3 방향은 프리즘부(231) 연장 방향인 제1 방향(X1)과 동일할 수 있다. 또한, 제4 방향은 제3 방향과 교차할 수 있다. 예를 들어, 제4 방향은 제3 방향의 교차각은 90도일 수 있다. In an exemplary embodiment, the third direction may be the same as the first direction X1, which is the direction in which the prism portion 231 extends. Also, the fourth direction may intersect the third direction. For example, the crossing angle in the third direction may be 90 degrees in the fourth direction.

다른 실시예에서, 제1 방향(X1)과 제3 방향의 교차각은 -45° 내지 45°일 수 있고, 제3 방향과 제4 방향의 교차각은 -60° 내지 60°일 수 있지만, 본 발명이 이상의 예시에 제한되지 않음은 물론이다. 몇몇 다른 실시예에서, 마이크로 렌즈(251)는 매트릭스 형상으로 배열되지 않고, 랜덤하게 배열될 수도 있다. In another embodiment, the crossing angle between the first direction X1 and the third direction may be between -45 and 45, and the crossing angle between the third direction and the fourth direction may be between -60 and 60, It is needless to say that the present invention is not limited to the above examples. In some other embodiments, the microlenses 251 may not be arranged in a matrix, but may be randomly arranged.

각 마이크로 렌즈(251)는 구형이나 타원체를 일 평면으로 절단하여 남은 구조체의 형상일 수 있다. 예를 들어, 각 마이크로 렌즈(251)는 반구형, 반타원체형 형상일 수 있다. 또한, 각 마이크로 렌즈(251)는 바닥면이 예컨대 육각형 등과 같은 다각형이고, 상부로 갈수록 곡면을 이룰 수 있고, 상단은 구형의 일부로 구성될 수 있다.Each of the microlenses 251 may be a shape of a structure remaining after cutting a spherical or ellipsoid into one plane. For example, each microlens 251 may be hemispherical, semi-ellipsoidal in shape. In addition, each microlens 251 may have a polygonal shape such as a hexagonal bottom surface, a curved surface as it goes up, and a top as a part of a spherical shape.

각 마이크로 렌즈(251)의 폭(직경 또는 하단의 최대폭)은 약 20um 내지 100um일 수 있다. 각 마이크로 렌즈(251)의 폭은 프리즘부(231)의 폭보다 작을 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 각 마이크로 렌즈(251)의 높이는 약 5um 내지 50um일 수 있다.The width (diameter or the maximum width of the lower end) of each microlens 251 may be about 20 um to 100 um. The width of each microlens 251 may be smaller than the width of the prism portion 231, but is not limited thereto. The height of each microlens 251 may be about 5 um to 50 um.

마이크로 렌즈층(250)은 프리즘층(230)과 유사하게 열경화성 수지 또는 자외선 경화성 수지로 이루어질 수 있다. 상기 열경화성 수지의 예로는 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지 등을 들 수 있다. 상기 자외선 경화성 수지의 예로는 에폭시아크릴레이트계 수지, 우레탄아크릴레이트계 수지, 실리콘아크릴레이트계 수지 등이 예시될 수 있다. 마이크로 렌즈층(250)의 굴절률은 약 1.43 내지 1.60이거나, 약 1.45 내지 1.55일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. The microlens layer 250 may be made of a thermosetting resin or an ultraviolet ray hardening resin similarly to the prism layer 230. Examples of the thermosetting resin include an acrylic resin, a urethane resin, and a polyester resin. Examples of the ultraviolet ray curable resin include an epoxy acrylate resin, a urethane acrylate resin, and a silicone acrylate resin. The refractive index of the microlens layer 250 may be about 1.43 to 1.60, or about 1.45 to 1.55, but is not limited thereto.

이하, 프리즘층(230)에 대해 상세히 설명한다. 도 3은 도 2의 IIIa-IIIa'선을 따라 자른 단면도이다. 도 4는 도 2의 IV-IV'선을 따라 자른 단면도이다.Hereinafter, the prism layer 230 will be described in detail. 3 is a cross-sectional view taken along line IIIa-IIIa 'of FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV 'of FIG.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 각 프리즘부(231)는 프리즘 경사면(235)을 포함할 수 있다. 프리즘 경사면(235)의 프리즘 경사각(θ1, θ2)은 약 35 내지 65도 이거나, 약 40 내지 50도일 수 있다. 몇몇 실시예에서, 프리즘 경사각(θ1, θ2)은 약 45도일 수 있다. 프리즘 경사면(235)의 상단(235a)은 상부 웨이브 패턴부(232)와 접할 수 있다. 이웃하는 프리즘부(230) 사이에는 프리즘 골부(P1, P2)가 형성될 수 있고, 프리즘 경사면(235)의 하단은 프리즘 골부(P1, P2)에 위치할 수 있다. Referring to FIGS. 1 to 4, each of the prism portions 231 may include a prism inclined surface 235. The prism inclination angles? 1 and? 2 of the prism inclined plane 235 may be about 35 to 65 degrees or about 40 to 50 degrees. In some embodiments, the prism inclination angles? 1,? 2 may be about 45 degrees. The upper end 235a of the prism inclined surface 235 can be in contact with the upper wave pattern portion 232. [ The prism valley portions P1 and P2 may be formed between the neighboring prism portions 230 and the lower end of the prism inclined surface 235 may be located at the prism valley portions P1 and P2.

프리즘부(231)의 폭(w)은 프리즘 골부(P1, P2) 사이에서 최대가 될 수 있다. 본 명세서에서 다른 언급이 없는 한, 프리즘부(231)의 폭(w)은 프리즘 골부(P1, P2) 사이의 거리로 정의될 수 있다. 복수의 프리즘부(231)의 폭(w)은 각각 실질적으로 동일할 수 있다. 또한, 프리즘부(231)의 폭 방향(이하, 제2 방향(X2))은 프리즘부의 연장 방향에 대해 수직일 수 있다. The width w of the prism portion 231 can be maximized between the prism valley portions P1 and P2. The width w of the prism portion 231 may be defined as the distance between the prism valley portions P1 and P2 unless otherwise stated herein. The width w of the plurality of prism portions 231 may be substantially equal to each other. The width direction of the prism portion 231 (hereinafter referred to as the second direction X2) may be perpendicular to the extending direction of the prism portion.

프리즘 골부(P1, P2) 하부에는 완화층(236)이 더 형성될 수 있다. 완화층(236)은 이웃하는 프리즘부(230)를 일체로 연결할 수 있다. 완화층(236)의 두께는 약 1 내지 10um일 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 제1 기재(211)로부터 각 프리즘 골부(P1, P2)의 높이는 실질적으로 동일할 수 있다. 완화층(236)은 생략될 수도 있다.A relaxation layer 236 may be further formed under the prism valley portions P1 and P2. The mitigating layer 236 may connect the neighboring prism portions 230 integrally. The thickness of the relaxed layer 236 may be from about 1 to about 10 um, but is not limited thereto. The heights of the prism valleys P1 and P2 from the first base plate 211 may be substantially the same. The relaxed layer 236 may be omitted.

프리즘 경사면(235)의 상단(235a)은 상부 웨이브 패턴부(232)로 이어지지만, 프리즘부(230) 양쪽에 위치하는 프리즘 경사면(235)을 더욱 연장시키면 상호 교차할 수 있다. 단면도 상에서 상기 교차점(P3)과, 2개의 프리즘 골부(P1, P2)는 가상의 삼각형을 정의할 수 있다. 상기 가상의 삼각형에서 상기 교차점(CP)의 내각은 약 70 내지 110도이거나, 약 80 내지 100도일 수 있다. 상기 교차점(CP)을 통과하며 제1 기재(211)에 수직인 직선(l)에 대해 양쪽에 위치하는 삼각형의 변(즉, 프리즘 경사면, 235)은 선대칭일 수 있다. The upper end 235a of the prism inclined surface 235 may extend to the upper wave pattern portion 232 but may intersect when the prism inclined surface 235 located on both sides of the prism portion 230 is further extended. The intersection point P3 and the two prism valleys P1 and P2 on the sectional view can define a virtual triangle. In the imaginary triangle, the internal angle of the intersection CP may be about 70 to 110 degrees, or about 80 to 100 degrees. The sides of the triangle passing through the intersection CP and located on both sides of the straight line 1 perpendicular to the first substrate 211 (i.e., the prism inclined surface 235) may be line-symmetric.

몇몇 실시예에서, 상기 가상의 삼각형은 교차점(CP)에서의 각도가 90도인 직각 이등변 삼각형일 수 있다. 이 경우, 프리즘 경사각(θ1, θ2)은 45도가 될 것이다.In some embodiments, the hypothetical triangle may be a right-angled isosceles triangle with an angle at the intersection CP of 90 degrees. In this case, the prism inclination angles? 1 and? 2 will be 45 degrees.

복수의 프리즘부(230)에서 상기 가상의 삼각형이 각각 정의될 수 있고, 각 삼각형의 교차점(CP) 내각이 상호 동일할 수 있다. 또한, 복수의 프리즘부(230)에서 상기 가상의 삼각형 각각은 동일한 형상 및 크기를 가질 수 있다. 이는 상부 웨이브 패턴부(232)를 제외한 각 프리즘부(231)의 피치 및 형상이 상호 실질적으로 동일함을 의미할 수 있다. The virtual triangles may be respectively defined in the plurality of prism portions 230, and the intersections CP of the respective triangles may be identical to each other. Further, in the plurality of prism portions 230, each of the hypothetical triangles may have the same shape and size. This means that the pitches and shapes of the prism portions 231 except for the upper wave pattern portion 232 are substantially the same.

프리즘부(231) 상부에는 상부 웨이브 패턴부(232)가 형성된다. 본 실시예에서, 프리즘 경사면(231)의 연장선(l1, l2)이 교차하여 형성되는 가상의 교차점(CP)은 모두 상부 웨이브 패턴부(232) 내부에 위치할 수 있다. An upper wave pattern portion 232 is formed on the upper portion of the prism portion 231. The virtual intersection points CP formed by the extension lines 11 and 12 of the prism inclined surface 231 may be all located within the upper wave pattern portion 232. In this case,

상부 웨이브 패턴부(232)의 상단(H1-H5) 높이는 제1 방향(X1)을 따라 변동할 수 있다. 상부 웨이브 패턴부(232)는 고점부(232h)와 저점부(232l)를 포함할 수 있다. 고점부(232h)는 제1 방향(X1)을 따라 그 지점을 중심으로 높이가 가장 큰 지점 또는 구간을 지칭하고, 저점부(232l)는 그 제1 방향(X1)을 따라 그 지점을 중심으로 높이가 가장 낮은 지점 또는 구간을 지칭할 수 있다. The height of the upper ends H1 to H5 of the upper wave pattern portion 232 may vary along the first direction X1. The upper wave pattern portion 232 may include a high point portion 232h and a low point portion 232l. The high point portion 232h refers to a point or section with the highest height around the point along the first direction X1 and the low point portion 232l refers to the point along the first direction X1 about the point May refer to a point or section having the lowest height.

각 프리즘부(230) 상부에 위치하는 각 상부 웨이브 패턴부(232)는 복수의 고점부(232h)(마루 또는 산부) 및 저점부(232l)(골부)를 포함할 수 있다. 각 고점부(232h)는 상호 이격되고, 각 저점부(232l)는 상호 이격될 수 있다. 각 저점부(232l)는 각 고점부(232h) 사이에 배치될 수 있다. Each of the upper wave pattern portions 232 located on the respective prism portions 230 may include a plurality of high point portions 232h (a floor or a mountain portion) and a low point portion 232l (a valley). The respective peak portions 232h are spaced apart from each other, and the respective low point portions 232l can be spaced apart from each other. Each low-point portion 232l may be disposed between each high-point portion 232h.

상부 웨이브 패턴부(232) 상단(H1-H5)의 높이는 저점부(232l)로부터 제1 방향(X1)을 따라 점차 증가하다가, 고점부(232h)를 지나면서 높이가 점차 감소할 수 있다. 저점부(232l)와 고점부(232h) 사이는 경사져 있되, 해당 경사면은 곡면을 가질 수 있다. 예시적인 실시예에서, 상부 웨이브 패턴부(232)에서 제1 방향(X1)을 따라 형성된 고점부(232h) 주변의 경사면은 위로 볼록한 경사면을 갖고, 저점부(232l) 주변의 경사면은 아래로 볼록한 경사면을 가질 수 있다. 상부 웨이브 패턴부(232)의 상단(H1-H5) 프로파일은 제1 방향(X1)을 따라 규칙성을 가지며 변경될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.The height of the upper ends H1 to H5 of the upper wave pattern portion 232 gradually increases along the first direction X1 from the low point portion 232l and gradually decreases as the height of the upper wave pattern portion 232 passes the high point portion 232h. The inclined surface between the low point portion 232l and the high point portion 232h may have a curved surface. In the exemplary embodiment, the inclined surface around the high point portion 232h formed along the first direction X1 in the upper wave pattern portion 232 has an upwardly convexly inclined surface, and the inclined surface around the low point portion 232l is convex downward It may have an inclined surface. The upper (H1-H5) profile of the upper wave pattern portion 232 has regularity along the first direction X1 and can be changed, but is not limited thereto.

프리즘부(230)의 폭(w) 방향인 제2 방향(X2)으로 자른 단면에 따른 상부 웨이브 패턴부(252)는 아래에서 위로 갈수록 폭이 작아지는 형상을 가질 수 있다. 즉, 상부 웨이브 패턴부(252)는 상단(H1-H5)을 중심으로 양측으로 하향 경사질 수 있다. 하향 경사진 양측의 경사면은 위로 볼록한 곡면을 가질 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 예를 들어, 상기 하향 경사진 양측의 경사면은 평면으로 형성될 수도 있다. The upper wave pattern portion 252 along the section cut in the second direction X2 that is the width w of the prism portion 230 may have a shape that becomes narrower from the bottom to the top. That is, the upper wave pattern portion 252 may be inclined downward toward the both sides about the upper ends H1-H5. The inclined surfaces on both downward inclined sides may have convex curved surfaces, but are not limited thereto. For example, the inclined surfaces on both downward inclined sides may be formed in a plane.

상부 웨이브 패턴부(252)의 상단(H1-H5)은 상술한 가상의 삼각형의 교차점(CP) 상부에 오버랩되도록 위치할 수 있다. 즉, 상부 웨이브 패턴부(252)의 상단(H1-H5)은 가상의 삼각형 교차점(CP)을 지나며 제1 기재(211)에 대해 수직인 직선(l3)이 통과할 수 있다. The upper ends H1-H5 of the upper wave pattern portion 252 may be positioned so as to overlap the intersections CP of the virtual triangles described above. That is, the upper ends H1-H5 of the upper wave pattern portion 252 can pass through the imaginary triangular intersection CP and the straight line 13 perpendicular to the first base 211.

도 5는 도 2의 H1 내지 H5 지점을 지나는 프리즘부 폭 방향 단면을 수평 방향으로 나열한 단면도이다. 도 6은 도 도 2의 H1 내지 H5 지점을 지나는 프리즘부 폭 방향 단면을 겹쳐서 표시한 단면도이다.5 is a cross-sectional view of the prism portion in the width direction passing through the points H1 to H5 in FIG. 2 in the horizontal direction. Fig. 6 is a cross-sectional view of the cross section of the prism portion in the width direction passing through H1 to H5 in Fig.

도 5 및 도 6을 참조하면, 상부 웨이브 패턴부(232)의 최대 폭(mw1-mw5)은 상부 웨이브 패턴부(232)의 높이와 상관 관계가 있을 수 있다. 즉, 상부 웨이브 패턴부(232)의 높이가 높을수록 상부 웨이브 패턴부(232)의 폭은 클 수 있다. 다만, 이러한 상관 관계가 선형적인 비례관계에 한정되지 않는다. 또한, 상부 웨이브 패턴부(232)의 높이와 무관하게 폭(mw1-mw5)이 동일하거나, 상부 웨이브 패턴부(232)의 높이와 폭(mw1-mw5)이 반비례 관계에 있을 수도 있다.5 and 6, the maximum width (mw1-mw5) of the upper wave pattern portion 232 may be correlated with the height of the upper wave pattern portion 232. [ That is, as the height of the upper wave pattern part 232 is higher, the width of the upper wave pattern part 232 may be larger. However, this correlation is not limited to a linear proportional relationship. The widths mw1-mw5 may be the same regardless of the height of the upper wave pattern portion 232 or the height and widths mw1-mw5 of the upper wave pattern portion 232 may be in inverse proportion to each other.

상부 웨이브 패턴부(232) 상단(H1-H5)의 높이가 높을수록, 상부 웨이브 패턴부(232) 자체의 두께(t1-t5) 또한 클 수 있다. 상부 웨이브 패턴부(232) 하단의 위치는 제1 방향(X1)을 따라 저점부(232l)로부터 고점부(232h)로 갈수록 낮아질 수 있다. 그에 따라, 프리즘 경사면(235)의 면적은 또는 단면 길이는 저점부(232l)에서 고점부(232h)로 갈수록 작아질 수 있다. 그러나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니며, 상부 웨이브 패턴부(232) 하단의 위치는 제1 기재(212)와 평행하게 배치될 수도 있고, 고점부(232h)로 갈수록 오히려 높아질 수도 있다.The higher the height of the upper ends H1-H5 of the upper wave pattern portion 232, the greater the thickness t1-t5 of the upper wave pattern portion 232 itself. The position of the lower end of the upper wave pattern portion 232 may be lowered from the low point portion 232l to the highest point portion 232h along the first direction X1. Accordingly, the area of the prism inclined surface 235 or the sectional length thereof can be made smaller from the low point portion 232l to the high point portion 232h. However, the present invention is not limited to this, and the position of the lower end of the upper wave pattern part 232 may be parallel to the first base material 212, or may be higher toward the highest point 232h.

상부 웨이브 패턴부(232)의 최대 폭(mw1-mw5)은 저점부(232l)에서 1um 내지 5um일 수 있고, 고점부(232h)에서 1um 내지 10um일 수 있다. 상부 웨이브 패턴부(232)의 두께(t1-t5)는 저점부(232l)에서 0.5um 내지 5um일 수 있고, 고점부(232h)에서 3um 내지 10um일 수 있다. The maximum width mw1-mw5 of the upper wave pattern portion 232 may be 1 um to 5 um at the low point 232l and 1 um to 10 um at the high point 232h. The thickness t1-t5 of the upper wave pattern portion 232 may be 0.5 um to 5 um at the low point 232l and 3 um to 10 um at the high point 232h.

도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 프리즘층과 결합층의 결합을 나타낸 단면도들이다.7A-7C are cross-sectional views illustrating the combination of a prism layer and a bonding layer in accordance with various embodiments of the present invention.

도 7a 내지 도 7c를 참조하면, 결합층(240)에는 프리즘층(230)의 상부 웨이브 패턴부(232)가 적어도 부분적으로 침투하여 결합된다. 결합층(240)은 균일한 두께를 가질 수 있다. Referring to FIGS. 7A to 7C, the upper wave pattern portion 232 of the prism layer 230 is at least partly penetrated and bonded to the bonding layer 240. The bonding layer 240 may have a uniform thickness.

도 7a는 프리즘층의 모든 상부 웨이브 패턴부(232)가 결합층(240) 내에 침투할 수 있는 경우를 예시한다. 고점부(232h)에서 상부 웨이브 패턴부(232)의 상단(H3)은 제2 기재(212)의 하면에 접할 수도 있지만, 도 7a처럼, 어느 정도 이격될 정도까지만 침투될 수도 있다. 고점부(232h)에서 상부 웨이브 패턴부(232)는 전체가 결합층(240) 내부로 침투하지만, 프리즘부(231)의 프리즘 경사면(235)은 결합층(240) 내부로 침투하지 않을 수 있다. 저점부(232l)의 경우에는 상부 웨이브 패턴부(232) 뿐만 아니라, 프리즘부(231)의 프리즘 경사면(235)도 일부 결합층(240) 내부로 침투할 수 있다. 7A illustrates a case where all of the upper wave pattern portions 232 of the prism layer can penetrate into the bonding layer 240. FIG. The upper end H3 of the upper wave pattern portion 232 at the highest point 232h may contact the lower surface of the second substrate 212 but may penetrate only to a certain extent as shown in FIG. The prism inclined surface 235 of the prism portion 231 may not penetrate into the bonding layer 240 although the entire upper wave pattern portion 232 penetrates into the bonding layer 240 in the high point portion 232h . In the case of the low point portion 232l, not only the upper wave pattern portion 232 but also the prism inclined surface 235 of the prism portion 231 can penetrate partly into the bonding layer 240.

다른 실시예에서, 프리즘층(230)이 전반적으로 더욱 침투되어 고점부(232h)에서조차 상부 웨이브 패턴부(232) 뿐만 아니라 프리즘부(231)의 프리즘 경사면(235)이 일부 결합층(240) 내부로 침투할 수도 있다. In another embodiment, the prism layer 230 is further penetrated more generally so that not only the upper wave pattern portion 232 but also the prism inclined surface 235 of the prism portion 231, in the high point portion 232h, .

도 7b는 프리즘층(230)의 상부 웨이브 패턴부(232) 중 일부는 결합층(240) 내에 부분적으로 침투하는 경우를 예시한다. 즉, 고점부(232h)에서 상부 웨이브 패턴부(232)는 상측 부분만 결합층(240) 내부로 침투하고, 하측 부분은 결합층(240) 내에 침투하지 않는다. 저점부(232l)의 경우는 도면에서 결합층(240)의 표면을 실선으로 도시된 바와 같이 상부 웨이브 패턴부(232) 전체가 결합층(240) 내에 침투될 수도 있고, 결합층(240)의 표면을 아래 점선으로 도시한 바와 같이 저점부(232l) 프리즘 경사면(235)의 상측 일부도 결합층(240) 내에 침투될 수도 있고, 결합층(240)의 표면을 윗 점선으로 도시한 바와 같이 저점부(232l)의 상부 웨이브 패턴부(232) 일부가 결합층(240) 내에 침투하지 않을 수도 있다.7B illustrates a case where a part of the upper wave pattern portion 232 of the prism layer 230 partially penetrates into the bonding layer 240. FIG. That is, in the high point portion 232h, only the upper portion of the upper wave pattern portion 232 penetrates into the bonding layer 240, and the lower portion of the upper wave pattern portion 232 does not penetrate into the bonding layer 240. In the case of the low point portion 232l, the entire upper wave pattern portion 232 may be penetrated into the bonding layer 240 as shown by a solid line on the surface of the bonding layer 240, A portion of the upper portion of the low point 232L prism inclined surface 235 may be penetrated into the bonding layer 240 as shown by the broken line in the lower surface of the bonding layer 240. As shown by the upper dotted line, A part of the upper wave pattern portion 232 of the portion 232l may not penetrate into the bonding layer 240. [

도 7c는 프리즘층(230)의 상부 웨이브 패턴부(232) 중 일부는 결합층(240)에 부분적으로 침투하지만, 일부는 전혀 침투하지 않는 경우를 예시한다. 즉, 고점부(232h)에서 상부 웨이브 패턴부(232)는 적어도 상측 부분이 결합층(240) 내부로 침투하지만, 저점부(232l)의 경우는 상부 웨이브 패턴부(232)가 결합층(240) 내로 침투하지 않고 이격된다.7C illustrates a case where a part of the upper wave pattern part 232 of the prism layer 230 partially penetrates the bonding layer 240, but a part of the upper wave pattern part 232 does not penetrate at all. That is, at least the upper portion of the upper wave pattern portion 232 penetrates into the bonding layer 240 at the high point portion 232h while the upper wave pattern portion 232 penetrates the bonding layer 240 ).

프리즘층(230)이 결합층(240)에 많이 침투할수록 프리즘층(230)과 결합층(240) 사이의 결합력은 증가한다. 한편, 프리즘 경사면(235)은 결합층(240)에 침투하지 않는 부분의 총 면적이 넓을수록 휘도가 증가한다. As the prism layer 230 penetrates much into the bonding layer 240, the bonding force between the prism layer 230 and the bonding layer 240 increases. On the other hand, the brightness increases as the total area of the portion of the prism inclined surface 235 that does not penetrate the bonding layer 240 becomes larger.

도 7a 내지 도 7c의 실시예의 경우, 상부 웨이브 패턴부(232)의 고점부(232h)가 상대적으로 결합층(240) 내부로 깊숙히 침투하므로, 이 부분에서 높은 결합력을 갖는다. 고점부(232h)는 제1 방향(X1)을 따라 주기적으로 반복하여 배치되는데, 이는 결합력이 높은 부위가 주기적으로 반복 배치됨을 의미할 수 있다. 따라서, 외력에 대해 기구 안정성을 도모할 수 있다. 또한, 상부 웨이브 패턴부(232)의 두께(t1-t5)가 저점부(232l)에서 고점부(232h)로 갈수록 점진적으로 변하기 때문에, 침투 깊이 또한 점진적으로 변경된다. 그에 따라, 외력의 분산 및 집중이 효과적으로 이루어질 수 있다. 7A to 7C, the high point portion 232h of the upper wave pattern portion 232 penetrates deeply into the bonding layer 240 relatively, and thus has a high bonding force at this portion. The high point portions 232h are periodically and repeatedly arranged along the first direction X1, which means that the portions with high bonding strength are periodically repeatedly arranged. Therefore, stability of the mechanism against external force can be achieved. In addition, since the thickness t1-t5 of the upper wave pattern portion 232 gradually changes from the low point portion 232l to the high point portion 232h, the penetration depth also gradually changes. Accordingly, the dispersion and concentration of the external force can be effectively performed.

이처럼 충분한 결합력을 확보하면서도, 저점부(232l)의 경우에는 상대적으로 더 넓은 경사면을 포함하고, 그 경사면이 침투되는 깊이 또한 상대적으로 작으므로 적어도 부분적으로, 나아가 광학 시트(200) 전반적으로 휘도 개선 효과를 나타낼 수 있다.In the case of the low point portion 232l, a relatively wider inclined surface is included, and a depth at which the inclined surface is penetrated is also relatively small, so that the luminance of the optical sheet 200 is improved overall Lt; / RTI >

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 광학 시트의 제1 광변조층의 단면도로서, 도 4의 단면 형상에 대비된다. 도 8을 참조하면, 본 실시예에 따른 광학 시트는 상부 웨이브 패턴부(2321)의 저점부(2321l)가 평탄한 구간을 포함하는 점이 도 4의 실시예와 상이한 점이다. 또한, 평탄한 구간을 제외하고, 고점부(2321h)로부터 저점부(2321l)에 이르는 구간은 모두 위로 볼록한 곡면을 가질 수 있다. 그 단면은 포물선 또는 원이나 반원의 일부일 수 있다.8 is a cross-sectional view of a first optical modulation layer of an optical sheet according to another embodiment of the present invention, which is contrasted with the cross-sectional shape of Fig. Referring to FIG. 8, the optical sheet according to the present embodiment is different from the embodiment of FIG. 4 in that the low point portions 2321l of the upper wave pattern portion 2321 include a flat section. In addition, except for the flat section, the section from the high point portion 2321h to the low point portion 2321l may have a convex curved surface. The section may be a parabola or part of a circle or semicircle.

도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 광학 시트의 제1 광변조층의 단면도로서, 도 8의 단면 형상에 대비된다. 도 9를 참조하면, 본 실시예에 따른 광학 시트는 상부 웨이브 패턴부(2322)의 저점부(2322l)의 두께가 0인 경우를 예시한다. 즉, 저점부(2322l)에서 프리즘층은 상부 웨이브 패턴부(2322) 없이 프리즘부(231)만이 형성될 수 있다. 이 영역에서 프리즘부(231)는 프리즘 산부가 형성되고 노출될 수 있다. 고점부(2322h)에서 두께가 0인 저점부(2322l) 구간까지의 영역은 도 8과 실질적으로 동일하므로 중복 설명은 생략하기로 한다.9 is a cross-sectional view of a first optical modulation layer of an optical sheet according to another embodiment of the present invention, which is contrasted with the cross-sectional shape of Fig. Referring to FIG. 9, the optical sheet according to the present embodiment illustrates a case where the thickness of the low point portion 2322l of the upper wave pattern portion 2322 is zero. That is, at the low point portion 2322l, only the prism portion 231 may be formed without the upper wave pattern portion 2322 in the prism layer. In this region, the prism portion 231 can be formed and exposed. A region from the highest point 2322h to the low-point portion 2322l with a thickness of 0 is substantially the same as that in FIG. 8, and thus a duplicate description will be omitted.

도 10 및 도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 몰드의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단계별 사시도들이다. 도 12는 패턴 몰드의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.10 and 11 are perspective views for explaining a method of manufacturing a pattern mold according to an embodiment of the present invention. 12 is a cross-sectional view for explaining a method of manufacturing a pattern mold.

도 10을 참조하면, 원통형 몰드(310)를 준비하고, 표면에 복수의 음각 프리즘 패턴 라인(312)을 형성한다. Referring to FIG. 10, a cylindrical mold 310 is prepared and a plurality of intaglio prism pattern lines 312 are formed on the surface.

도 11 및 도 12를 참조하면, 원통형 몰드(310)를 추가적으로 깎아서 웨이브 패턴을 형성하내기 위한 바이트(320)를 준비한다. 바이트(320)는 첨단이 상대적으로 뽀족하고, 하단으로 갈수록 폭이 더 넓어지는 것이 적용될 수 있다. 이후, 원통형 몰드(310)를 바이트(320)를 기준으로 상대적으로 회전시키면서, 바이트(320)를 음각 프리즘 패턴(312)의 산부에 진입시키고, 깊이를 조절하면서 음각 프리즘 패턴(312)의 산부를 깎아낸다. 여기서, 원통형 몰드(310)를 바이트(320)를 기준으로 상대적으로 회전시킨다고 함은 바이트(320)의 위치를 고정시키고 원통형 몰드(310)를 회전시키거나, 원통형 몰드(310)를 고정시키고 바이트(320)를 원통형 몰드(310)의 외주를 따라 회전시키는 것을 모두 포함할 수 있다. 원통형 몰드(310)는 도 11에 도시된 것처럼, 수직으로 세워서 가공할 수도 있지만, 도 10에 도시된 것처럼 수평으로 눕혀서 가공할 수도 있다.Referring to FIGS. 11 and 12, the cylindrical mold 310 is further cut to prepare a bite 320 for forming a wave pattern. The byte 320 may be applied such that the tip is relatively pointed and the width becomes wider toward the lower end. Thereafter, while the cylindrical mold 310 is relatively rotated with respect to the bite 320, the bite 320 is introduced into the crest of the intaglio prism pattern 312 and the crest of the intaglio prism pattern 312 is adjusted She carves. Here, the relative rotation of the cylindrical mold 310 with respect to the bite 320 means that the position of the bite 320 is fixed and the cylindrical mold 310 is rotated or the cylindrical mold 310 is fixed and the bite 320 may be rotated along the outer periphery of the cylindrical mold 310. The cylindrical mold 310 may be machined vertically as shown in Fig. 11, but it may be machined horizontally as shown in Fig.

바이트(310)가 깊이 진입한 경우 음각 프리즘 패턴(310)의 산부로부터 더 깊이 깎이게 된다. 하단으로 갈수록 폭이 넓어지는 바이트(320)를 사용하면, 깎이는 폭 또한 그에 상응하여 넓어질 수 있다. 그에 따라, 상부 웨이브 패턴부의 고점부에 대응하는 음각 패턴(314)이 형성될 수 있다. 바이트(320)의 진입 깊이가 작을 경우, 원통형 몰드(310)에서 깎이는 양 또한 줄어들게 된다. 그에 따라 상부 웨이브 패턴의 저점부에 대응하는 음각 패턴(314)이 형성될 수 있다. 바이트(320)의 진입 깊이 조절은 주기적으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 바이트(320)를 깊이 방향으로 일정한 주기에 따라 진동시킬 수 있다. 그에 따라 주기적인 고점부 및 저점부 음각 패턴(314)이 형성될 수 있다. 고점부와 저점부 사이는 점진적으로 깎이는 깊이 및/또는 폭이 줄어들 것이다.When the bite 310 enters deeply, it is further shaved from the peak of the engraved prism pattern 310. By using the bite 320, which has a wider width toward the lower end, the width of the bite can also be enlarged correspondingly. Accordingly, the engraved pattern 314 corresponding to the high point portion of the upper wave pattern portion can be formed. When the entry depth of the bite 320 is small, the amount to be cut by the cylindrical mold 310 is also reduced. The engraved pattern 314 corresponding to the low point of the upper wave pattern can be formed. The entry depth adjustment of the byte 320 may be periodic. For example, the byte 320 can be vibrated in a depth direction in a certain period. Accordingly, periodic high-point and low-point engraved patterns 314 can be formed. The depth and / or width of gradual shaving between the high and low points will be reduced.

상술한 웨이브 패턴의 형성 방법은 바이트(320)가 원통형 몰드(310)에 깊이 진입한 후 다시 빠지는 가공 방식을 적용하므로, 깎여나온 칩배출이 용이하여 불량을 감소시킬 수 있다.The method of forming a wave pattern as described above allows a chip to be ejected easily because the bite 320 is inserted into the cylindrical mold 310 and then exits again.

이상에서 설명한 광학 시트들은 광원 어셈블리나 이를 포함하는 액정 표시 장치 등에 채용되어, 광 효율을 증진시키는데 사용될 수 있다. 광원 어셈블리는 램프가 하부에 위치하는 직하형 광원 어셈블리, 램프가 사이드에 위치하는 에지형 광원 어셈블리 등으로 분류되는데, 본 발명의 실시예들에 따른 광학 시트는 어떠한 종류의 광원 어셈블리에도 채용가능하다. 또, 액정 패널의 아래쪽에 배치되는 백라이트(back light) 어셈블리나 액정 패널의 위쪽에 배치되는 프론트 라이트(front light) 어셈블리에도 적용가능하다. 이하에서는 다양한 적용예의 일예로서, 도 3의 실시예에 따른 광학 시트가 에지형 광원 어셈블리를 포함하는 액정 표시 장치에 적용된 경우를 예시한다. The optical sheets described above can be employed in a light source assembly or a liquid crystal display including the same, and can be used to enhance light efficiency. The light source assembly is classified into a direct light source assembly in which the lamp is located at the bottom, an edge light source assembly in which the lamp is located at the side, and the like. The optical sheet according to the embodiments of the present invention can be applied to any kind of light source assembly. It is also applicable to a back light assembly disposed below the liquid crystal panel or a front light assembly disposed above the liquid crystal panel. Hereinafter, as an example of various applications, an optical sheet according to the embodiment of FIG. 3 is applied to a liquid crystal display including an edge light source assembly.

도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이다. 13 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

도 13을 참조하면 액정 표시 장치(700)는 광원 어셈블리(400), 및 액정 패널 어셈블리(500)를 포함한다. 13, the liquid crystal display 700 includes a light source assembly 400, and a liquid crystal panel assembly 500.

광원 어셈블리(400)는 광원(410), 광원(410)으로부터 출사된 빛을 가이드하는 도광판(420), 도광판(420)의 하측에 배치된 반사 필름(315), 및 도광판(420)의 상측에 배치되어, 출사된 빛의 광학적 특성을 변조하는 광학 시트(200)를 포함한다. The light source assembly 400 includes a light source 410, a light guide plate 420 for guiding light emitted from the light source 410, a reflection film 315 disposed below the light guide plate 420, And an optical sheet 200 arranged to modulate the optical characteristics of the emitted light.

광원(410)은 도광판(420)의 양 사이드에 배치된다. 광원(410)은 예를 들어 LED(Light Eimitting Diode), CCFL(Cold Cathode Fluorescent Lamp), HCFL(Hot Cathode Fluorescent Lamp), EEFL(External Electrode Fluorescent Lamp) 등이 사용될 수 있다. 다른 실시예에서, 광원(410)은 도광판(420)의 일측에만 배치될 수도 있다. The light source 410 is disposed on both sides of the light guide plate 420. The light source 410 may be a light emitting diode (LED), a cold cathode fluorescent lamp (CCFL), a hot cathode fluorescent lamp (HCFL), or an external electro fluorescent lamp (EEFL). In another embodiment, the light source 410 may be disposed only on one side of the light guide plate 420.

도광판(420)은 광원(410)으로부터 출사된 빛을 내부 전반사를 통해 이동시키다가 도광판(420) 하면에 형성된 산란패턴 등을 통해 상측으로 출사시킨다. 도광판(420)의 아래에는 반사 필름(415)이 배치되어, 도광판(420)으로부터 아래로 출사된 빛을 상부로 반사한다. The light guide plate 420 moves the light emitted from the light source 410 through the total internal reflection and emits the light upward through a scattering pattern or the like formed on the lower surface of the light guide plate 420. A reflective film 415 is disposed under the light guide plate 420 to reflect the light emitted downward from the light guide plate 420 to the upper side.

도광판(420)의 상부에는 광학 시트(10)가 배치된다. 광학 시트(200)에 대해서는 앞서 상세히 설명하였으므로, 중복 설명은 생략한다. 광학 시트(200)의 위 또는 아래에는 다른 광학 시트들이 더 배치될 수도 있다. 예를 들어, 입사된 빛을 확산시키는 확산 필름, 입사된 빛을 집광하는 프리즘 시트, 입사된 원편광을 일부 반사하는 액정 필름, 원편광 빛을 선형 편광으로 변환시키는 위상차 필름, 반사편광필름, 및/또는 보호 필름을 더 설치할 수 있다. An optical sheet 10 is disposed on an upper portion of the light guide plate 420. Since the optical sheet 200 has been described in detail in the foregoing, a duplicate description will be omitted. Other optical sheets may be disposed above or below the optical sheet 200. [ For example, a diffusion film for diffusing incident light, a prism sheet for condensing incident light, a liquid crystal film for partially reflecting the incident circularly polarized light, a retardation film for converting circularly polarized light into linearly polarized light, a reflective polarizing film, / Or a protective film may be further provided.

광원(410), 도광판(420), 반사 필름(415), 및 광학 시트(200)는 바텀 샤시(440)에 의해 수납될 수 있다. The light source 410, the light guide plate 420, the reflective film 415, and the optical sheet 200 may be received by the bottom chassis 440.

액정 패널 어셈블리(500)는 제1 표시판(511), 제2 표시판(235) 및 그 사이에 개재된 액정층(미도시)을 포함하며, 제1 표시판(411) 및 제2 표시판(412)의 표면에 각각 부착된 편광판(미도시)을 더 포함할 수 있다. The liquid crystal panel assembly 500 includes a first display panel 511, a second display panel 235 and a liquid crystal layer (not shown) interposed therebetween. The liquid crystal panel assembly 500 includes a first display panel 411 and a second display panel 412 And a polarizing plate (not shown) attached to the surface of the polarizing plate.

액정 표시 장치(700)는 액정 패널 어셈블리(500)의 테두리를 덮으며, 액정 패널 어셈블리(500) 및 광원 어셈블리(300)의 측면을 감싸는 탑 샤시(500)를 더 포함할 수 있다. The liquid crystal display 700 may further include a top chassis 500 covering the sides of the liquid crystal panel assembly 500 and the light source assembly 300 to cover the edges of the liquid crystal panel assembly 500.

이상에서 설명한 광원 어셈블리는 본 발명의 일 실시예들에 따른 광학 시트가 적용됨으로써, 상대적으로 적은 수의 기재를 사용하더라도, 복수의 광변조 특성을 효과적으로 나타낼 수 있고 휘도가 개선될 수 있다. 따라서, 광원 어셈블리의 두께를 줄일 수 있고, 조립 공정을 단순화시킬 수 있다. 그에 따라, 이러한 광원 어셈블리를 포함하는 액정 표시 장치의 화질이 개선될 수 있다.The light source assembly described above can effectively exhibit a plurality of light modulation characteristics and improve brightness by using an optical sheet according to one embodiment of the present invention, even if a relatively small number of substrates are used. Therefore, the thickness of the light source assembly can be reduced, and the assembling process can be simplified. Accordingly, the image quality of a liquid crystal display including such a light source assembly can be improved.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, You will understand. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

200: 광학 시트
211: 제1 기재
212: 제2 기재
230: 프리즘층
231: 프리즘부
232: 상부 웨이브 패턴부
250: 마이크로 렌즈층
200: Optical sheet
211: first substrate
212: second substrate
230 prism layer
231:
232: upper wave pattern portion
250: Micro lens layer

Claims (17)

제1 기재;
상기 제1 기재 상면에 형성된 제1 광변조층;
제2 기재;
상기 제2 기재의 상면에 형성된 제2 광변조층; 및
상기 제2 기재의 하면에 형성되고 상기 제1 광변조층이 적어도 부분적으로 침투하여 결합하는 결합층을 포함하되,
상기 제1 광변조층은 일 방향으로 연장된 복수의 프리즘부 및, 상기 각 프리즘부에 연결되어 상기 각 프리즘부의 연장 방향을 따라 연장된 상부 웨이브 패턴부를 포함하며,
상기 상부 웨이브 패턴부의 상단 높이는 상기 프리즘부의 상기 연장 방향을 따라 변동하고,
상기 상부 웨이브 패턴부는 상호 이격된 고점부 및 저점부를 포함하며,
상기 고점부 및 상기 저점부는 각각 두 개 이상이고,
상기 프리즘부의 프리즘 경사면의 교차점은 상기 고점부 및 상기 저점부에서 상기 상부 웨이브 패턴부 내부에 위치하는 광학 시트.
A first substrate;
A first light modulating layer formed on the upper surface of the first substrate;
A second substrate;
A second light modulating layer formed on an upper surface of the second substrate; And
And a bonding layer formed on a lower surface of the second substrate and bonded by at least partially penetrating the first optical modulation layer,
Wherein the first optical modulation layer includes a plurality of prism portions extending in one direction and an upper wave pattern portion connected to the respective prism portions and extending along the extension direction of the prism portions,
Wherein an upper height of the upper wave pattern portion varies along the extending direction of the prism portion,
Wherein the upper wave pattern portion includes mutually spaced high and low point portions,
Wherein each of the high point portion and the low point portion is at least two,
And an intersection of the prism inclined surface of the prism portion is located inside the upper wave pattern portion at the high point portion and the low point portion.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 고점부 및 저점부는 각각 복수개이고, 상기 각 고점부와 상기 각 저점부는 교대로 배치되는 광학 시트.
The method according to claim 1,
Wherein each of the high point portion and the low point portion is plural, and each of the high point portion and each low point portion is alternately arranged.
제3항에 있어서,
상기 고점부 및 상기 저점부 사이는 곡면으로 경사져 있는 광학 시트.
The method of claim 3,
And between the high point portion and the low point portion is inclined to a curved surface.
제1항에 있어서,
상기 고점부에서 상기 상부 웨이브 패턴부의 두께는 상기 저점부에서 상기 상부 웨이브 패턴부의 두께보다 큰 광학 시트.
The method according to claim 1,
And the thickness of the upper wave pattern portion at the high point portion is larger than the thickness of the upper wave pattern portion at the low point portion.
제5항에 있어서,
상기 고점부에서 상기 상부 웨이브 패턴부의 최대 폭은 상기 저점부에서 상기 상부 웨이브 패턴부의 최대 폭보다 큰 광학 시트.
6. The method of claim 5,
Wherein a maximum width of the upper wave pattern portion at the high point portion is larger than a maximum width of the upper wave pattern portion at the low point portion.
제5항에 있어서,
상기 프리즘부의 프리즘 경사면의 면적은 상기 고점부보다 상기 저점부에서 더 넓은 광학 시트.
6. The method of claim 5,
And an area of an inclined plane of the prism of the prism portion is wider at the low point portion than the high point portion.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 상부 웨이브 패턴부는 모두 상기 결합층 내부로 침투되는 광학 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the upper wave pattern portion penetrates into the bonding layer.
제1항에 있어서,
상기 상부 웨이브 패턴부의 고점부는 상측 부분만 상기 결합층 내부로 침투하고, 하측 부분은 상기 결합층 내에 침투하지 않는 광학 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the upper portion of the upper wave pattern portion penetrates only the upper portion into the bonding layer and the lower portion does not penetrate into the bonding layer.
제1항에 있어서,
상기 상부 웨이브 패턴부의 고점부는 적어도 상측 부분이 상기 결합층 내부로 침투하고, 상기 상부 웨이브 패턴부의 저점부는 상기 결합층 내에 침투하지 않는 광학 시트.
The method according to claim 1,
Wherein at least an upper portion of the upper wave pattern portion penetrates into the bonding layer and a lower portion of the upper wave pattern portion does not penetrate into the bonding layer.
제1항에 있어서,
상기 상부 웨이브 패턴부를 상기 프리즘부의 폭 방향으로 자른 단면은 아래에서 위로 갈수록 폭이 작아지는 광학 시트.
The method according to claim 1,
Wherein a cross section of the upper wave pattern portion in the width direction of the prism portion has a smaller width as it goes from the lower side to the upper side.
제1항에 있어서,
상기 각 프리즘부의 피치 및 형상은 상호 동일한 광학 시트.
The method according to claim 1,
Wherein the prism portions have the same pitch and shape.
제1항, 제3항 내지 제7항, 및 제9항 내지 제13항 중 어느 한 항에 따른 광학 시트를 포함하는 광원 어셈블리.13. A light source assembly comprising an optical sheet according to any one of claims 1, 3, 7, and 13 to 13. 제1항, 제3항 내지 제7항, 및 제9항 내지 제13항 중 어느 한 항에 따른 광학 시트를 포함하는 액정 표시 장치.
A liquid crystal display device comprising the optical sheet according to any one of claims 1, 3 to 7, and 9 to 13.
삭제delete 삭제delete
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