KR101498947B1 - Perspective vacuum heating device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 투시형 진공 가열 장치에 관한 것으로, 진공으로 형성되는 내부에 열매체가 충진되고 투명재질로 형성되는 제1 챔버와, 상기 제1 챔버 내측에 이격되게 삽입되고 진공으로 형성되는 내부에 시료가 충진되며 투명재질로 형성되는 제2 챔버 및 상기 제2 챔버를 가리지 않도록 상기 제1 챔버 외측 하부에 설치되고 열매체를 가열하는 히터를 포함함으로써, 내부에서 일어나는 화학기상증착 상태 및 증착 재료의 특성을 육안으로 확인할 수 있고, 열매체를 통해 히터의 열을 시료에 균일하게 전달할 수 있게 하여 화학기상증착이 균일하게 일어나도록 할 수 있는 것이다.[0001] The present invention relates to a perspective vacuum heating apparatus, which comprises a first chamber formed of a vacuum and filled with a heating medium and made of a transparent material, a sample chamber inserted into the first chamber, A second chamber formed of a transparent material and filled in the first chamber, and a heater installed at a lower outer side of the first chamber so as not to block the second chamber and heating the heating medium, And the heat of the heater can be uniformly transferred to the sample through the heating medium, so that chemical vapor deposition can be uniformly performed.

Description

투시형 진공 가열 장치 {PERSPECTIVE VACUUM HEATING DEVICE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a vacuum heating apparatus,

본 발명은 투시형 진공 가열 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 화학기상증착법(CVD, Chemical Vapor Deposition)에 의한 시료의 변화 상태를 육안으로 확인할 수 있는 투시형 진공 가열 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a perspective heating type vacuum heating apparatus, and more particularly, to a perspective heating type vacuum heating apparatus capable of visually confirming a change state of a sample by CVD (Chemical Vapor Deposition).

화학기상증착(CVD, Chemical Vapor Deposition)은 박막 형성 기술로서, 기체 상태의 화합물을 분해한 후 화학적 반응에 의해 반도체 기판위에 박막이나 에피층을 형성하는 것이다. 박막을 형성하는 과정은 실리콘 웨이퍼에 있는 물질을 이용하지 않고 주로 가스를 외부로부터 반응실로 인입하기 때문에 다른 공정과는 구별된다. 화학기상증착 공정은 광범위한 온도 범위내에서 일어나며 반응로에 인입된 가스를 분해하는 데는 열, RF전력에 의한 플라즈마 에너지, 레이저 또는 자외선의 광 에너지가 이용되며, 기판의 가열에 의해 분해된 원자나 분자의 반응을 촉진하거나 형성된 박막의 물리적 성질을 조절하기도 한다. Chemical Vapor Deposition (CVD) is a thin film formation technique in which a gas phase compound is decomposed and a thin film or an epilayer is formed on a semiconductor substrate by a chemical reaction. The process of forming a thin film is distinguished from other processes because the gas is mainly introduced into the reaction chamber from the outside without using the material on the silicon wafer. The chemical vapor deposition process takes place within a wide range of temperatures. Plasma energy, laser energy or ultraviolet light energy is used to decompose the gas introduced into the reaction furnace by heat, RF power, and decomposed atoms or molecules Or to control the physical properties of the formed film.

이러한 화학기상증착법은 다양한 실리콘 에피 두께와 저항을 얻을 수 있고, 폴리 실리콘막, 실리콘 질화막 및 실리콘 산화막을 만들 때 낮은 비용으로 박막을 얻을 수 있으며, 실리콘 소자를 보호하기 위한 층으로 이용되는 실리콘 산화막이나 실리콘 질화막을 낮은 온도에서 얻을 수 있다는 장점이 있다. 이와 같은 장점 때문에 화학기상증착법은 반도체 분야에서 빠른 속도로 응용되고 있다.Such a chemical vapor deposition method can obtain various silicon epitaxial thicknesses and resistances, and a thin film can be obtained at a low cost when a polysilicon film, a silicon nitride film, and a silicon oxide film are formed, and a silicon oxide film used as a layer for protecting a silicon device Silicon nitride film can be obtained at a low temperature. Due to these advantages, the chemical vapor deposition method is rapidly applied in the semiconductor field.

이러한 화학기상증착법은 공정중의 반응로의 진공도에 따라 대기압 화학기상증착과 진공 화학기상증착으로 분류된다. These chemical vapor deposition processes are classified into atmospheric pressure chemical vapor deposition and vacuum chemical vapor deposition depending on the degree of vacuum in the reactor in the process.

상기 진공 화학기상증착을 위한 진공 가열 장치는 한국공개특허 공개번호 제10-1999-0066530호 및 한국공개특허 공개번호 제10-2007-0070914호에 개시되어 있다.The vacuum heating apparatus for vacuum chemical vapor deposition is disclosed in Korean Patent Application Laid-Open Nos. 10-1999-0066530 and 10-2007-0070914.

여기에서 화학기상증착으로 얻어지는 박막의 물리 화학적 성질은 증착이 일어나는 기판(비정질, 다결정, 결정)과 증착 조건(온도, 성장 속도, 압력 등)에 의하여 결정된다. 일반적으로 이러한 변수들이 증착되는 원자의 표면 이동 속도에 영향을 미침으로써 막의 구조나 성질에 영향을 미친다.Here, the physical and chemical properties of the thin film obtained by chemical vapor deposition are determined by the substrate (amorphous, polycrystalline, crystal) and deposition conditions (temperature, growth rate, pressure, etc.) In general, these parameters affect the surface morphology of the deposited atoms, affecting the structure and properties of the film.

도 1은 종래의 진공 가열 장치를 설명하는 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a conventional vacuum heating apparatus.

도 1을 참조하면, 종래의 진공 가열 장치(100)는 챔버(110)에 시료(111)가 충진되고, 챔버(110)의 하측을 히터(120)로 감싸지게 형성된다. 챔버(110)는 온도계 및 압력계(112)가 설치되고, 내부에 진공을 형성하기 위한 공기배출구(113)가 형성된다.Referring to FIG. 1, a conventional vacuum heating apparatus 100 is formed such that a sample 110 is filled in a chamber 110 and a lower portion of the chamber 110 is surrounded by a heater 120. The chamber 110 is provided with a thermometer and a pressure gauge 112, and an air outlet 113 for forming a vacuum is formed in the chamber 110.

이러한 종래의 진공 가열 장치(100)를 사용한 화학기상증착법은 챔버(110)(반응실)를 히터(120)로 감싸지므로, 히터(120)에 가려져 챔버(110)의 내부를 육안으로 확인 할 수 없어 온도 변화에 따른 시료(111)의 변화 상태를 바로 확인할 수 없는 문제점이 있다. 또한, 종래의 진공 가열 장치(100)는 히터(120)의 인근과 이격된 위치에서 온도 구배가 발생하고, 이로 인해 열을 시료(111)에 균일하게 전달하지 못함으로 인해 시료(111)에 증착되는 박막이 불균일해지는 문제점이 발생할 수 있다.In the chemical vapor deposition method using the conventional vacuum heating apparatus 100, since the chamber 110 (reaction chamber) is surrounded by the heater 120, the inside of the chamber 110 can be visually confirmed by being covered with the heater 120 There is a problem that the change state of the sample 111 due to the temperature change can not be immediately confirmed. In the conventional vacuum heating apparatus 100, a temperature gradient occurs at a position spaced apart from the vicinity of the heater 120, and the heat can not be uniformly transferred to the sample 111, A problem may occur that the thin film becomes uneven.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 투명한 재질로 형성된 챔버 내부에서 일어나는 화학기상증착 상태 및 증착 재료의 특성을 육안으로 확인할 수 있는 투시형 진공 가열 장치를 제공하는데 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art, and it is an object of the present invention to provide a perspective heating type vacuum heating apparatus capable of visually observing chemical vapor deposition state and characteristics of an evaporation material occurring inside a chamber formed of a transparent material.

또한, 본 발명은 히터의 열을 온도 구배가 없도록 시료에 균일하게 전달할 수 있게 하여 화학기상증착이 균일하게 일어나도록 하는 투시형 진공 가열 장치를 제공하는데 목적이 있다.It is another object of the present invention to provide a perspective heating type vacuum heating apparatus capable of uniformly transferring heat of a heater to a sample without temperature gradient to uniformly perform chemical vapor deposition.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 진공으로 형성되는 내부에 열매체가 충진되고 투명재질로 형성되는 제1 챔버와, 상기 제1 챔버 내측에 이격되게 삽입되고 진공으로 형성되는 내부에 시료가 충진되며 투명재질로 형성되는 제2 챔버 및 상기 제2 챔버를 가리지 않도록 상기 제1 챔버 외측 하부에 설치되고 열매체를 가열하는 히터를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a vacuum cleaner comprising: a vacuum chamber having a first chamber filled with a heating medium and made of a transparent material; A second chamber filled with a transparent material, and a heater installed at a lower outer side of the first chamber so as not to block the second chamber and heating the heating medium.

또한, 상기 제1 챔버의 내측 하부에 설치되어 상기 열매체를 유동시키는 교반기를 더 포함하는 것이 바람직하다.The apparatus may further include a stirrer installed at an inner lower portion of the first chamber to flow the heating medium.

또한, 상기 제1 챔버와 상기 제2 챔버 사이에서 외측 방향으로 하향 경사지게 형성되는 냉각판을 더 포함하고, 상기 냉각판은 고온에 의해 증발하는 상기 열매체를 냉각시키는 것이 바람직하다. Further, it is preferable to further include a cooling plate formed between the first chamber and the second chamber so as to be inclined downward in an outward direction, wherein the cooling plate cools the heating medium to be evaporated by the high temperature.

또한, 상기 냉각판은 상기 제1 챔버의 내주면과 상기 제2 챔버의 외주면 중 어느 하나 또는 양측에 복수로 형성되는 것이 바람직하다. It is preferable that the cooling plate is formed on one or both sides of the inner circumferential surface of the first chamber and the outer circumferential surface of the second chamber.

또한, 상기 제1 챔버의 내주면에서 내측으로 하향 경사지게 고정되거나, 혹은 상기 제2 챔버의 외주면에서 외측으로 하향 경사지게 고정되는 것이 바람직하다. Preferably, the first chamber is fixed downward inwardly from the inner circumferential surface of the first chamber, or is downwardly inclined from the outer circumferential surface of the second chamber.

또한, 상기 제1 및 제2 챔버는 쿼츠 튜브와 같은 투명재질로 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the first and second chambers are preferably formed of a transparent material such as a quartz tube.

또한, 상기 제1 챔버는 일측에 제1 온도계 및 제1 압력계가 설치되어 내부의 온도 및 압력이 표시되는 것이 바람직하다.Preferably, the first chamber is provided with a first thermometer and a first pressure gauge on one side thereof, and the temperature and pressure inside the first chamber are displayed.

또한, 상기 제1 챔버는 상기 진공을 형성하기 위한 공기배출구가 상부에 형성되는 것이 바람직하다.Preferably, the first chamber is formed with an air outlet for forming the vacuum.

또한, 상기 제2 챔버는 일측에 제2 온도계 및 제2 압력계가 설치되어 내부의 온도 및 압력이 표시되는 것이 바람직하다.Preferably, the second chamber is provided with a second thermometer and a second pressure gauge on one side thereof, and the temperature and pressure inside the second chamber are displayed.

또한, 상기 제2 챔버는 상기 진공을 형성하기 위한 공기배출구가 상기 제1 챔버의 상단에 돌출되어 형성되는 것이 바람직하다.Preferably, the second chamber is formed by projecting an air outlet for forming the vacuum on an upper end of the first chamber.

또한, 상기 열매체는 비등점이 높고 투명한 재질로 형성되고, 상기 제2 챔버의 일부를 감싸는 것이 바람직하다.The heating medium may be formed of a transparent material having a high boiling point, and may surround a part of the second chamber.

본 발명에 의하면, 투명한 재질로 형성된 챔버 및 투명한 열매체를 사용하여 내부에서 일어나는 화학기상증착 상태 및 증착 재료의 특성을 육안으로 확인할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, it is possible to visually confirm the chemical vapor deposition state and the characteristics of the evaporation material occurring in the inside using a chamber formed of a transparent material and a transparent heating medium.

또한, 본 발명에 의하면, 히터와 시료 사이에 열매체를 통해 히터의 열을 시료에 균일하게 전달할 수 있게 하여 화학기상증착이 균일하게 일어나도록 하는 효과가 있다.According to the present invention, the heat of the heater can be uniformly transferred between the heater and the sample through the heating medium, and the chemical vapor deposition uniformly occurs.

도 1은 종래의 진공 가열 장치를 설명하는 단면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 투시형 진공 가열 장치를 설명하는 단면도.
도 3은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 투시형 진공 가열 장치를 설명하는 단면도.
도 4는 도 1의 투시형 진공 가열 장치의 냉각판을 설명하는 도면.1 is a sectional view for explaining a conventional vacuum heating apparatus;
2 is a cross-sectional view illustrating a perspective type vacuum heating apparatus according to an embodiment of the present invention;
3 is a cross-sectional view illustrating a perspective type vacuum heating apparatus according to another embodiment of the present invention.
4 is a view for explaining a cooling plate of the perspective type vacuum heating apparatus of Fig. 1;

본 발명의 실시를 위한 구체적인 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 설명한다. 이러한 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다. 또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로써, 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 그러므로, 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings. In this process, the thicknesses of the lines and the sizes of the components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of explanation. In addition, the terms described below are terms defined in consideration of the functions of the present invention, which may vary depending on the intention or custom of the user, the operator. Therefore, definitions of these terms should be made based on the contents throughout this specification.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 투시형 진공 가열 장치를 설명하는 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a perspective type vacuum heating apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 투시형 진공 가열 장치(200)는 투명재질로 형성되는 제1 챔버(210)와 제1 챔버(210) 내측에 이격되게 위치하는 제2 챔버(220) 및 제1 챔버(210) 외측 하부에 위치하는 히터(230)를 포함한다. 투시형 진공 가열 장치(200)는 히터(230)를 통해 제1 챔버(210)를 가열하고, 제1 챔버(210) 내부에 충진된 열매체(211)를 통해 제2 챔버(220)로 열을 전달한다. 제2 챔버(220)로 전달되는 열은 제2 챔버(220) 내부의 시료(221)에 전달되고, 가열되는 시료(221)는 박막이 형성된다. 이러한 박막 형성 과정은 화학기상증착(CVD, Chemicla Vapor Deposition)의 한 분류의 기술이다.Referring to FIG. 2, the perspective type vacuum heating apparatus 200 includes a first chamber 210 formed of a transparent material, a second chamber 220 disposed to be spaced apart from the first chamber 210, And a heater 230 positioned at an outer lower portion of the heater 210. The perspective type vacuum heating apparatus 200 heats the first chamber 210 through the heater 230 and generates heat to the second chamber 220 through the heating medium 211 filled in the first chamber 210 . The heat transferred to the second chamber 220 is transferred to the sample 221 in the second chamber 220, and the heated sample 221 is thinned. This thin film formation process is a technique of chemical vapor deposition (CVD).

제1 챔버(210)는 진공으로 형성되는 내부에 열매체(211)가 충진되고, 내부가 보이도록 투명재질로 형성된다. 열매체(211)는 비등점이 높고 투명한 확산펌프오일 같은 액체가 사용될 수 있다. 또한, 열매체(211)는 제1 챔버(210) 내부에서 제2 챔버(220)의 일부를 감싼다. 제1 챔버(210)는 재질이 투명한 쿼츠 튜브로 형성될 수 있다. 쿼츠 튜브는 폭넓은 온도변화와 고온에 견딜 수 있다. 이러한 쿼츠 튜브는 유리재질 실리카로 구성되고, 외부에서 내부가 보이도록 투명하게 형성된다.The first chamber 210 is formed of a transparent material such that the inside of the first chamber 210 is filled with the heating medium 211 and the inside thereof is visible. The heating medium 211 may be a liquid such as a transparent diffusion pump oil having a high boiling point. In addition, the heating medium 211 surrounds a part of the second chamber 220 in the first chamber 210. The first chamber 210 may be formed of a transparent quartz tube. Quartz tubes can withstand extreme temperature changes and high temperatures. These quartz tubes are made of glass silica and are formed so as to be transparent from the outside to the inside.

또한, 제1 챔버(210)는 일측에 제1 온도계 및 제1 압력계(212)가 설치되어 내부의 온도 및 압력을 측정, 표시한다. 제1 챔버(210)는 내부를 진공으로 형성하기 위한 공기배출구(214)가 상부에 형성된다. 제1 챔버(210)의 공기배출구(214)는 진공펌프(미도시됨)에 연결되어 제1 챔버(210) 내부의 공기가 배출되는 통로를 제공하고, 제1 챔버(210) 내부를 진공으로 만들 수 있게 한다.In addition, the first chamber 210 has a first thermometer and a first pressure gauge 212 installed on one side thereof to measure and display the temperature and pressure therein. The first chamber 210 is formed with an air outlet 214 for forming the interior of the first chamber 210 in a vacuum. The air outlet 214 of the first chamber 210 is connected to a vacuum pump (not shown) to provide a passage through which the air in the first chamber 210 is discharged, and the inside of the first chamber 210 is evacuated .

또한, 제1 챔버(210)는 내측 상단에 경사지게 형성되는 냉각판(213)을 더 포함할 수 있다. 냉각판(213)은 히터(230)의 열로 인해 증발하는 열매체(211)를 냉각시킨다. 또한, 냉각판(213)은 일면에 냉각되어 맺히는 열매체(211)가 하부로 흐를 수 있게 경사지게 형성된다.In addition, the first chamber 210 may further include a cooling plate 213 formed to be inclined at an inner upper end thereof. The cooling plate 213 cools the heating medium 211 which evaporates due to the heat of the heater 230. In addition, the cooling plate 213 is formed to be inclined so that the heating medium 211, which is cooled and formed on one surface, flows downward.

제2 챔버(220)는 제1 챔버(210)의 내측에 이격되에 위치하고, 내부에 시료(221)가 충진된다. 제2 챔버(220)는 시료(221)가 충진되는 내부가 진공으로 형성되고, 외부에서 시료(221)가 보이도록 투명재질로 형성된다. 제2 챔버(220)는 외측이 열매체(211)에 감싸지고, 히터(230)에서 발생되는 열을 열매체(211)를 통해 전달 받는다. 이러한 제2 챔버(220)는 열매체(211)를 통해 시료(221) 전체에 균일하게 열을 전달할 수 있고, 시료(221)의 화학기상증착이 균일하게 일어날 수 있게 한다.The second chamber 220 is spaced apart from the inside of the first chamber 210, and the sample 221 is filled therein. The second chamber 220 is formed of a transparent material such that the inside of the second chamber 220 is filled with the sample 221 and the sample 221 is visible from the outside. The outside of the second chamber 220 is surrounded by the heating medium 211 and the heat generated by the heater 230 is transmitted through the heating medium 211. The second chamber 220 can uniformly transfer heat to the entire sample 221 through the heating medium 211 and uniform chemical vapor deposition of the sample 221.

또한, 제2 챔버(220)는 일측에 제2 온도계 및 제2 압력계(222)가 설치되어 내부의 온도 및 압력을 측정, 표시한다. 제2 챔버(220)는 재질이 투명한 쿼츠 튜브로 형성될 수 있고, 외부에서 내부의 시료(221) 변화를 육안으로 관찰할 수 있게 한다.In addition, the second chamber 220 has a second thermometer and a second pressure gauge 222 installed on one side thereof to measure and display the temperature and pressure therein. The second chamber 220 can be formed of a transparent quartz tube, and allows the naked eye to observe the change in the sample 221 inside from the outside.

또한, 제2 챔버(220)는 내부를 진공으로 형성하기 위한 공기배출구(223)가 상부에 형성된다. 제2 챔버(220)의 공기배출구(223)는 제1 챔버(210)의 상단에 돌출되어 형성되고, 진공펌프(미도시됨)에 연결되어 제2 챔버(220) 내부의 공기가 배출되는 통로를 제공한다. 이러한 공기배출구(223)는 제2 챔버(220) 내부를 진공으로 만들 수 있게 한다.In addition, the second chamber 220 is formed with an air outlet 223 for forming the inside of the second chamber 220 in a vacuum. The air outlet 223 of the second chamber 220 protrudes from the upper end of the first chamber 210 and is connected to a vacuum pump (not shown) Lt; / RTI > The air outlet 223 allows the inside of the second chamber 220 to be evacuated.

히터(230)는 제2 챔버(220)를 가리지 않도록 제1 챔버(210) 외측 하부에 제1 챔버(210)를 감싸는 코일 형태로 형성된다. 히터(230)는 화학기상증착이 일어날 수 있게 제1 챔버(210) 및 제2 챔버(220)를 600도까지 가열할 수 있다. 또한, 히터(230)는 600도 전후의 온도로 온도가 조절될 수 있다. 히터(230)는 제1 챔버(210) 하부에서 제2 챔버(220)를 가리지 않도록 설치된다.The heater 230 is formed in a coil shape that surrounds the first chamber 210 at a lower outer side of the first chamber 210 so as not to cover the second chamber 220. The heater 230 may heat the first chamber 210 and the second chamber 220 to 600 degrees so that chemical vapor deposition may occur. In addition, the temperature of the heater 230 can be adjusted to a temperature of about 600 degrees. The heater 230 is installed below the first chamber 210 so as not to cover the second chamber 220.

이러한 투시형 진공 가열 장치(200)는 제1 챔버(210) 하부에 설치되어 열매체(211)를 유동시키는 교반기(240)를 더 포함할 수 있다. 교반기(240)는 제1 챔버(210) 내측에서 제2 챔버(220)와 이격되게 배치되고, 제1 챔버(210) 내부의 열매체(211)를 유동시킬 수 있다. 교반기(240)는 열매체(211)를 유동시킴으로 인해 히터(230)의 열을 제2 챔버(220)에 균일하게 전달할 수 있게 한다.The perspective vacuum heating apparatus 200 may further include a stirrer 240 disposed under the first chamber 210 to flow the heating medium 211. The stirrer 240 is disposed inside the first chamber 210 so as to be spaced apart from the second chamber 220 and can flow the heating medium 211 inside the first chamber 210. The stirrer 240 allows the heat of the heater 230 to be uniformly transferred to the second chamber 220 by flowing the heating medium 211.

따라서, 투시형 진공 가열 장치(200)는 교반기(240)로 열매체(211)를 유동시키고, 히터(230)의 열을 제2 챔버(220)로 균일하게 전달하여 시료(221)에 균일하게 열이 전달되도록 한다.
Thus, the perspective type vacuum heating apparatus 200 allows the heat medium 211 to flow through the stirrer 240 and uniformly transmit heat of the heater 230 to the second chamber 220 to uniformly heat the sample 221 .

도 3은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 투시형 진공 가열 장치를 설명하는 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a perspective type vacuum heating apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 투시형 진공 가열 장치(200)는 제1 챔버(210) 내부에 위치하는 제1 온도 및 압력 센서(310)와, 제2 챔버(220) 내부에 위치하는 제2 온도 및 압력 센서(320) 및 제1 온도 및 압력 센서(310)와 제2 온도 및 압력 센서(320)와 연결되는 디스플레이(330)를 더 포함할 수 있다.3, the perspective type vacuum heating apparatus 200 includes a first temperature and pressure sensor 310 located inside the first chamber 210, a second temperature and pressure sensor 310 located inside the second chamber 220, And a display 330 connected to the pressure sensor 320 and the first temperature and pressure sensor 310 and the second temperature and pressure sensor 320.

제1 온도 및 압력 센서(310)와 제2 온도 및 압력 센서(320)는 전자식 센서로 구성될 수 있다. 또한, 디스플레이(330)는 제1 온도 및 압력 센서(310)와 제2 온도 및 압력 센서(320)에서 측정되는 제1 챔버(210)와 제2 챔버(220)의 온도와 압력 측정값을 표시한다.
The first temperature and pressure sensor 310 and the second temperature and pressure sensor 320 may be configured as electronic sensors. The display 330 also displays the temperature and pressure measurement values of the first chamber 210 and the second chamber 220 measured by the first temperature and pressure sensor 310 and the second temperature and pressure sensor 320 do.

도 4는 도 1의 투시형 진공 가열 장치의 냉각판을 설명하는 도면이다.Fig. 4 is a view for explaining a cooling plate of the perspective type vacuum heating apparatus of Fig. 1;

도 4를 참조하면, 투시형 진공 가열 장치(200)는 히터(230)에 의해 가열되는 열매체(211)가 증발하면, 증발되는 열매체(211)가 냉각되어 맺히는 냉각판(213)을 포함한다. 이러한 냉각판(213)은 다양한 형태로 형성될 수 있다.Referring to FIG. 4, the perspective type vacuum heating apparatus 200 includes a cooling plate 213 which is formed by cooling a heating medium 211 heated by a heater 230 and evaporating the heating medium 211. The cooling plate 213 may be formed in various shapes.

냉각판(213)은 제1 챔버(210)와 제2 챔버(220) 사이에서 외측 방향으로 하향 경사지게 형성될 수 있다. 냉각판(213)은 제1 챔버(210)의 내주면과 제2 챔버(220)의 외주면 중 어느 하나 또는 양측에 복수로 형성될 수 있다. 이러한 냉각판(213)은 다양한 형태로 형성될 수 있다. The cooling plate 213 may be formed to be inclined downward in the outward direction between the first chamber 210 and the second chamber 220. The cooling plate 213 may be formed on one or both sides of the inner circumferential surface of the first chamber 210 and the outer circumferential surface of the second chamber 220. The cooling plate 213 may be formed in various shapes.

냉각판(213)은 제1 챔버(210)의 내주면에서 내측으로 상향 경사지게 고정될 수 있고, 제2 챔버(220)의 외주면에서 외측으로 하향 경사지게 고정될 수 있다(a). 또한, 냉각판(213)은 제1 챔버(210)의 내주면에서 내측으로 하향 경사지게 고정될 수 있고, 제2 챔버(220)의 외주면에서 외측으로 하향 경사지게 고정될 수 있다(b). 또한, 냉각판(213)은 열매체(211)가 냉각되어 맺히면, 하부로 흐를 수 있는 구조의 다른 형태로 형성될 수 있다.
The cooling plate 213 may be fixed upwardly sloping inwardly from the inner circumferential surface of the first chamber 210 and may be downwardly slopingly fixed to the outer circumferential surface of the second chamber 220 (a). The cooling plate 213 may be fixed inwardly downwardly from the inner circumferential surface of the first chamber 210 and may be fixed downwardly inclined from the outer circumferential surface of the second chamber 220 (b). In addition, the cooling plate 213 may be formed in a different structure that allows the cooling medium to flow downward when the heating medium 211 is cooled and formed.

상기와 같은 구성을 갖는 본 발명의 일 실시예에 따른 투시형 진공 가열 장치(100)의 작용을 간략하게 설명하기로 한다.The operation of the perspective type vacuum heating apparatus 100 according to an embodiment of the present invention having the above-described structure will be briefly described.

투시형 진공 가열 장치(200)는 시료(221)에 박막을 형성하는 화학기상증착 장치이다. 투시형 진공 가열 장치(200)는 이중으로 형성되는 챔버를 투명한 재질로 구성하여, 화학기상증착이 일어나는 시료(221)의 상태를 육안으로 확인할 수 있는 것이다. 이러한 투시형 진공 가열 장치(200)는 제1 챔버(210)에 충진되는 열매체(211)를 통해 제2 챔버(220)를 균일하게 가열할 수 있고, 이러한 열매체(211)의 열전달 균일성을 증대하기 위해 제1 챔버(210) 하부에 교반기(240)가 설치될 수 있다. The perspective type vacuum heating apparatus 200 is a chemical vapor deposition apparatus for forming a thin film on a sample 221. The perspective type vacuum heating apparatus 200 is formed of a transparent material and can visually confirm the state of the sample 221 in which chemical vapor deposition occurs. This perspective vacuum heating apparatus 200 can uniformly heat the second chamber 220 through the heating medium 211 filled in the first chamber 210 and increase the heat uniformity of the heating medium 211 The stirrer 240 may be installed under the first chamber 210 to perform the above operation.

따라서, 투시형 진공 가열 장치(200)는 시료(221)는 열매체(211)와 교반기(240)를 통해 균일하게 열이 전달될 수 있고, 화학기상증착이 균일하게 일어나 균일한 박막이 형성될 수 있다. 이때, 열매체(211)는 비등점이 높은 투명 액체를 사용하여 제1 챔버(210)와 제2 챔버(220)를 육안으로 확인할 수 있다.
Therefore, in the perspective type vacuum heating apparatus 200, heat can be uniformly transferred to the sample 221 through the heating medium 211 and the stirrer 240, uniform chemical vapor deposition occurs, and a uniform thin film can be formed have. At this time, the heating medium 211 can visually confirm the first chamber 210 and the second chamber 220 using a transparent liquid having a high boiling point.

상술한 바와 같이 본 발명은 도면에 도시된 실시 예를 참고로 하여 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의해서 정하여져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It is understandable. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the following claims.

200 : 투시형 진공 가열 장치 210 : 제1 챔버
211 : 열매체 212 : 제1 온도계 및 제1 압력계
213 : 냉각판 214 : 공기배출구
220 : 제2 챔버 221 : 시료
222 : 제2 온도계 및 제2 압력계 223 : 공기배출구
230 : 히터 240 : 교반기
310 : 제1 온도 및 압력 센서 320 : 제2 온도 및 압력 센서
330 : 디스플레이 200: perspective type vacuum heating apparatus 210: first chamber
211: heating medium 212: first thermometer and first pressure gauge
213: cooling plate 214: air outlet
220: second chamber 221: sample
222: second thermometer and second pressure gauge 223: air outlet
230: heater 240: stirrer
310: first temperature and pressure sensor 320: second temperature and pressure sensor
330: Display

Claims (11)

진공으로 형성되는 내부에 비등점이 높고 투명한 열매체인 확산펌프오일로 충진되고, 투명한 쿼츠튜브로 형성되는 제1 챔버;
상기 제1 챔버 내측에 이격되게 삽입되고, 진공으로 형성되는 내부에 시료가 충진되며, 투명한 쿼츠튜브로 형성되는 제2 챔버;
상기 제2 챔버를 가리지 않도록 상기 제1 챔버 외측 하부에 설치되고, 상기 확산펌프오일을 가열하는 히터;
상기 제1 챔버의 내측 하부에 설치되어 상기 확산펌프오일을 유동시키는 교반기; 및
고온에 의해 증발하는 상기 확산펌프오일을 냉각하기 위해 상기 제1 챔버의 내주면에서 내측으로 하향 경사지게 고정 형성되고, 상기 제2 챔버의 외주면에서 외측으로 하향 경사지게 고정 형성되는 냉각판;을 포함하는 투시형 진공 가열 장치.
A first chamber formed of a transparent quartz tube filled with a diffusion pump oil which is a transparent heating medium having a high boiling point and formed inside the vacuum chamber;
A second chamber inserted into the first chamber so as to be spaced apart from the first chamber and formed of a vacuum quartz tube filled with a sample in a vacuum;
A heater installed at a lower outer side of the first chamber so as not to cover the second chamber and heating the diffusion pump oil;
A stirrer installed at an inner lower portion of the first chamber to flow the diffusion pump oil; And
And a cooling plate fixed downwardly slopingly inwardly from an inner circumferential surface of the first chamber to cool the diffusion pump oil evaporated by a high temperature and fixed downwardly inclinedly outwardly from an outer circumferential surface of the second chamber, Vacuum heating device.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 챔버는
일측에 제1 온도계 및 제1 압력계가 설치되어 내부의 온도 및 압력이 표시되는 것을 특징으로 하는 투시형 진공 가열 장치.The method according to claim 1,
The first chamber
Wherein a first thermometer and a first pressure gauge are installed on one side, and a temperature and a pressure inside the first thermometer and the first pressure gauge are displayed. 제1항에 있어서,
상기 제1 챔버는
상기 진공을 형성하기 위한 공기배출구가 상부에 형성되는 것을 특징으로 하는 투시형 진공 가열 장치.The method according to claim 1,
The first chamber
And an air outlet for forming the vacuum is formed on the upper portion. 제1항에 있어서,
상기 제2 챔버는
일측에 제2 온도계 및 제2 압력계가 설치되어 내부의 온도 및 압력이 표시되는 것을 특징으로 하는 투시형 진공 가열 장치.The method according to claim 1,
The second chamber
And a second temperature gauge and a second pressure gauge are installed on one side, and the temperature and pressure inside are displayed. 제1항에 있어서,
상기 제2 챔버는
상기 진공을 형성하기 위한 공기배출구가 상기 제1 챔버의 상단에 돌출되어 형성되는 것을 특징으로 하는 투시형 진공 가열 장치.The method according to claim 1,
The second chamber
And an air outlet for forming the vacuum is formed protruding from an upper end of the first chamber. 삭제delete
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