KR101490428B1 - Grounding apparatus for plasma processing unit - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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- H01J37/32532—Electrodes
- H01J37/32577—Electrical connecting means
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- F16B—DEVICES FOR FASTENING OR SECURING CONSTRUCTIONAL ELEMENTS OR MACHINE PARTS TOGETHER, e.g. NAILS, BOLTS, CIRCLIPS, CLAMPS, CLIPS OR WEDGES; JOINTS OR JOINTING
- F16B5/00—Joining sheets or plates, e.g. panels, to one another or to strips or bars parallel to them
- F16B5/0004—Joining sheets, plates or panels in abutting relationship
- F16B5/0056—Joining sheets, plates or panels in abutting relationship by moving the sheets, plates or panels or the interlocking key perpendicular to the main plane
- F16B5/0064—Joining sheets, plates or panels in abutting relationship by moving the sheets, plates or panels or the interlocking key perpendicular to the main plane and using C-shaped clamps
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32458—Vessel
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- H—ELECTRICITY
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32715—Workpiece holder
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- H—ELECTRICITY
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- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
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- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32798—Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
Abstract
본 발명은 플라즈마 처리장비용 접지장치에 관한 것으로, 자세하게는 접지장치의 그라운드 스트랩(ground strap)을 접지대상에 원터치(one touch) 방식으로 용이하게 체결할 수 있도록 한 플라즈마 처리장비용 접지장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a grounding apparatus for a plasma processing facility, and more particularly, to a grounding apparatus for a plasma processing plant capable of easily fastening a ground strap of a grounding apparatus to a grounding object in a one-touch manner.
이와 같은 본 발명은 그라운드 스트랩 및 이 그라운드 스트랩의 양단 부분을 플라즈마 처리장비의 두 접지대상에 각각 체결하는 스트랩 클램프(clamp)를 포함하고, 아울러 이 스트랩 클램프는 접지대상에 설치되며 한쪽에 그라운드 스트랩의 끝 부분이 끼워지는 스트랩 삽입부가 마련된 것을 특징으로 한다.The present invention includes a ground strap and a strap clamp for fastening both end portions of the ground strap to two ground targets of the plasma processing equipment. The strap clamp is installed on a grounding object, and the ground strap And a strap inserting portion for inserting the end portion is provided.
그라운드 스트랩, 레버, 원터치, 전극, 접지, 챔버, 클램프, 탄성, 플라즈마 Ground strap, lever, one touch, electrode, ground, chamber, clamp, elastic, plasma
Description
본 발명은 플라즈마 처리장비용 접지장치에 관한 것으로, 자세하게는 접지장치를 구성하는 그라운드 스트랩(ground strap)을 접지대상에 신속하고 편리하게 체결할 수 있도록 한 플라즈마 처리장비용 접지장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a grounding apparatus for a plasma processing facility, and more particularly, to a grounding apparatus for a plasma processing plant capable of quickly and conveniently fastening a ground strap constituting a grounding apparatus to a grounding object.
일반적으로, 액정디스플레이(liquid crystal display ; LCD), 유기발광 다이오드(organic light emitting diodes ; OLED), 플라즈마 표시장치(plasma display panel ; PDP) 등과 같은 평판표시소자(flat panel display ; FPD)의 제조, 또는 반도체(semiconductor)의 제조에는 플라즈마 처리장비가 이용된다.2. Description of the Related Art In general, a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display (LCD), an organic light emitting diode (OLED), a plasma display panel (PDP) Or a semiconductor is used for plasma processing equipment.
플라즈마 처리장비는 챔버(chamber) 안에 서로 대응하도록 두 전극이 배치되는 바, 이 두 전극 사이에 기판을 위치시켜 놓은 뒤 두 전극 사이의 공간에 플라즈마가 발생되도록 하는 것에 의하여 기판에 소정의 처리를 한다. 이 때, 두 전극 중 에서 어느 하나는 고주파의 전원을 공급받고 다른 하나는 여러 개의 개의 접지장치에 의하여 접지된다.In the plasma processing apparatus, two electrodes are disposed so as to correspond to each other in a chamber. After the substrate is positioned between the two electrodes, plasma is generated in a space between the two electrodes to perform a predetermined process on the substrate . At this time, one of the two electrodes is supplied with high frequency power and the other is grounded by several grounding devices.
도 1은 종래기술에 따른 플라즈마 처리장비용 접지장치를 보인 구성도로, 여기에 도시된 바와 같이, 접지장치는 그라운드 스트랩(12)과 체결수단(14)으로 구성된다.FIG. 1 is a view showing a grounding apparatus for a plasma processing plant according to the prior art. As shown here, the grounding apparatus is composed of a
여기에서, 체결수단(14)은 접지대상인 챔버(2)의 내면(바닥이나 벽 등)과 전극(4)이 그라운드 스트랩(12)에 의하여 서로 연결되도록 이 그라운드 스트랩(12)의 양단 부분을 챔버(2)의 내면과 전극(4)에 각각 체결한다.Here, the fastening means 14 is arranged so that both end portions of the
이와 같은 체결수단(14)은 플레이트(plate)(14p) 및 볼트(bolt)(14b)로 구성되는 바, 챔버(2)의 내면에 그라운드 스트랩(12)의 한쪽 끝 부분을 대고 이 위에다가 플레이트(14p)를 덧댄 후 볼트(14b)를 이용, 챔버(2)의 내면에 플레이트(14p)를 장착하면 챔버(2)의 내면과 그라운드 스트랩(12)의 체결이 완료된다. 물론, 그라운드 스트랩(12)의 다른 쪽도 이와 마찬가지의 방식으로 전극(4)과 체결된다.This fastening means 14 is composed of a
그러나 살펴본 바와 같은 종래기술은 그라운드 스트랩(12)을 체결하는 데 볼트(14b)를 이용하는 바, 조립하거나 유지/보수하기 위하여서는 반드시 볼트(14b)를 조이거나 풀어야 하기 때문에, 작업이 어렵고 힘들 수밖에 없었고, 또 작업에 상당한 시간이 소요된다는 문제점이 있었다.However, in the conventional technique as described above, since the
본 발명은 설명한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 목적은 그라운드 스트랩을 접지대상에 원터치(one touch) 방식으로 체결하는 것이 가능하도록 구성함으로써, 그라운드 스트랩과 접지대상의 체결 및 이 이후의 유지/보수를 신속하고 편리하게 할 수 있는 플라즈마 처리장비용 접지장치를 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been conceived in order to solve the problems as described above and it is an object of the present invention to provide a ground strap and a grounding object which can be fastened to a grounding object in a one- And to provide a cost grounding apparatus for a plasma processing plant that can quickly and conveniently perform maintenance.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 그라운드 스트랩과; 이 그라운드 스트랩의 양단 부분을 플라즈마 처리장비의 두 접지대상에 각각 체결하는 스트랩 클램프를 포함하고, 상기 스트랩 클램프는 상기 접지대상에 설치되며 한쪽에 상기 그라운드 스트랩의 끝 부분이 끼워지는 스트랩 삽입부가 마련된 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a ground strap including: a ground strap; And a strap clamp for fastening both ends of the ground strap to two ground targets of the plasma processing equipment, wherein the strap clamp is provided at the grounding object and has a strap inserting portion at one end thereof for inserting an end portion of the ground strap .
여기에서, 상기 스트랩 클램프는 그 스트랩 삽입부의 축소와 확장이 가능하도록 구성되어 축소된 때 이 스트랩 삽입부가 여기에 끼워진 그라운드 스트랩을 압착하도록 할 수 있다.Here, the strap clamp can be configured so that the strap insert can be contracted and expanded so that the strap insert can squeeze the ground strap sandwiched therein.
한편, 상기 스트랩 클램프는 상기 접지대상에 회전 가능하도록 설치되고 끝 부분에 접지대상과 접촉되는 가압부가 마련되며 이 가압부와 접지대상 사이를 상기 스트랩 삽입부로 하는 레버와; 상기 가압부가 상기 스트랩 삽입부에 끼워진 그라운드 스트랩을 압착하고 있도록 상기 레버에 탄성력을 부여하는 탄성수단으로 구성될 수 있다.The strap clamp may include a lever rotatably mounted on the grounding object and provided with a pressing portion at an end thereof to be in contact with the grounding object, the lever being between the pressing portion and the grounding object as the strap inserting portion; And elastic means for applying an elastic force to the lever so that the pressing portion presses the ground strap fitted to the strap inserting portion.
여기에서, 상기 레버는 상기 가압부의 반대쪽에 회전중심을 사이에 두고 위치하도록 손잡이가 마련될 수 있다. 그리고 상기 가압부는 상기 접지대상과 접촉되는 부분에 뾰족한 돌기가 다수 마련될 수 있다.Here, the lever may be provided with a handle so that the lever is positioned on the opposite side of the pressing portion with the rotation center therebetween. In addition, the pressing portion may be provided with a plurality of pointed protrusions at a portion contacting the grounding object.
아니면, 상기 스트랩 클램프는 상기 접지대상에 이 접지대상에 대하여 접근과 이격을 위한 이동이 가능하게 설치되고 접지대상과 마주하는 부분에 이 접지대상과 접촉되는 가압부가 마련되며 이 가압부와 접지대상 사이를 상기 스트랩 삽입부로 하는 가동바디와; 상기 가압부가 상기 스트랩 삽입부에 끼워진 그라운드 스트랩을 압착하고 있도록 상기 가동바디에 탄성력을 부여하는 탄성수단으로 구성될 수 있다.Alternatively, the strap clamp may be provided with a pressing portion which is provided on the grounding object so as to move toward and away from the grounding object and which is in contact with the grounding object, and which is in contact with the grounding object, To the strap inserting portion; And elastic means for applying an elastic force to the movable body so that the pressing portion presses the ground strap fitted to the strap inserting portion.
여기에서, 상기 가동바디는 상기 가압부의 반대쪽 부분에 손잡이가 마련될 수 있다. 그리고 상기 가압부는 상기 접지대상과 접촉되는 부분에 뾰족한 돌기가 다수 마련될 수 있다.Here, the movable body may be provided with a handle at a portion opposite to the pressing portion. In addition, the pressing portion may be provided with a plurality of pointed protrusions at a portion contacting the grounding object.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 챔버와; 이 챔버 안에 배치되는 것으로 전극 및 이 전극의 하측에 장착된 쿨링 플레이트를 포함하는 전극 조립품과; 이 전극 조립품을 상하로 이동시키는 승강장치와; 상기 전극 조립품을 상기 챔버의 바닥과 연결하는 접지장치로 구성된 플라즈마 처리장비에 있어서, 상기 접지장치는 그라운드 스트랩과; 이 그라운드 스트랩의 양단 중 한쪽 끝 부분을 상기 챔버의 바닥에 체결하는 제1체결수단과; 이 제1체결수단과 대향되게 위치한 상태로 상기 그라운드 스트랩의 양단 중 나머지 쪽 끝 부분을 상기 전극 조립품에 체결하는 제2체결수단을 포함하고, 상기 제2체결수단은 상기 전극과 쿨링 플레이트 사이에 일부가 개재되고 나머지는 밖으로 노출된 마운팅 플레이트와; 이 마운팅 플레이트의 노출 부분에 설치되며 한쪽에 상기 그라운드 스트랩의 끝 부분이 끼워지는 스트랩 삽입부가 마련된 스트랩 클램프로 구성된 것을 특징으로 할 수도 있다.According to an aspect of the present invention, An electrode assembly disposed within the chamber, the electrode assembly including an electrode and a cooling plate mounted below the electrode; An elevating device for moving the electrode assembly up and down; A grounding device connecting the electrode assembly to the bottom of the chamber, the grounding device comprising: a ground strap; A first fastening means for fastening one end of both ends of the ground strap to the bottom of the chamber; And a second fastening means for fastening the other end of both ends of the ground strap to the electrode assembly in a state of being opposed to the first fastening means, And the other of which is exposed to the outside; And a strap clamp which is provided at an exposed portion of the mounting plate and has a strap inserting portion at one end thereof for inserting an end portion of the ground strap.
여기에서, 상기 스트랩 클램프는 그 스트랩 삽입부의 축소와 확장이 가능하도록 구성되어 축소된 때 이 스트랩 삽입부가 여기에 끼워진 그라운드 스트랩을 압착하도록 할 수 있다.Here, the strap clamp can be configured so that the strap insert can be contracted and expanded so that the strap insert can squeeze the ground strap sandwiched therein.
본 발명은 접지대상에 설치된 스트랩 클램프의 스트랩 삽입부에 그라운드 스트랩을 끼우면 이 그라운드 스트랩이 접지대상에 체결되고, 이와 반대로 스트랩 삽입부에 끼워진 그라운드 스트랩을 빼내면 이 그라운드 스트랩과 접지대상의 체결이 해제되는 바, 그라운드 스트랩과 접지대상의 체결 및 체결해제에 대한 작업을 용이하게 할 수 있고, 이에 따라 이러한 작업에 소요되는 시간이나 인력 등을 대폭적으로 절감할 수 있다는 이점이 있다.When the ground strap is inserted into the strap inserting portion of the strap clamp installed on the grounding object, the ground strap is fastened to the grounding object and, on the contrary, when the ground strap sandwiched by the strap inserting portion is pulled out, It is possible to facilitate the work of tightening and unfastening the ground strap and the grounding object, thereby greatly reducing the time and manpower required for such a work.
이하에서는, 첨부된 도면을 참조, 본 발명에 따른 플라즈마 처리장비용 접지장치의 바람직한 실시예를 설명하기로 한다.Hereinafter, a preferred embodiment of a grounding device for a plasma processing plant according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 접지장치가 적용된 플라즈마 처리장비를 나타내는 구성도이다.FIG. 2 is a configuration diagram illustrating a plasma processing apparatus to which a grounding apparatus according to a first embodiment of the present invention is applied.
도 2에 도시된 바와 같이, 플라즈마 처리장비는 기판(20)(이하, 도면부호의 병기는 생략한다)에 소정의 처리를 하기 위한 공간을 제공하는 챔버(30), 이 챔버(30) 안의 상부영역에 배치된 상부전극 조립품(40), 이 상부전극 조립품(40)과 대향하도록 챔버(30) 안의 하부영역에 배치된 하부전극 조립품(50), 이 하부전극 조립품(50)을 상부전극 조립품(40)에 대하여 상하로 이동시키는 승강장치(60), 접지대상인 챔버(30)와 하부전극 조립품(50)을 연결하는 적어도 하나의 접지장치로 구성된다.2, the plasma processing equipment includes a
챔버(30)는 그 안으로 기판을 반입하거나 반입된 기판을 반출하기 위한 출입구 역할을 하는 게이트 슬릿(gate slit)(31)을 가지는데, 이 게이트 슬릿(32)은 챔버(30)의 벽 한쪽에 좌우로 기다랗게 형성된다. 또, 게이트 슬릿(32)은 게이트 밸브(gate valve)(35)에 의하여 개폐된다.The
상부전극 조립품(40)은 도시된 바 없으나, 기판의 처리 시 필요한 기체를 하부전극 조립품(50)과의 사이로 분출하는 샤워 헤드(shower head)를 가진다.The
하부전극 조립품(50)은 그 위에 반입된 기판이 놓인다. 때문에, 이 하부전극 조립품(50)을 스테이지(stage)라 하기도 한다. 이러한 하부전극 조립품(50)은 전극(52)과, 이 전극(52)의 하측 면에 긴밀히 장착되어 전극(52)을 냉각시키는 쿨링 플레이트(cooling plate)(54)로 구성된다.The
승강장치(60)는 하부전극 조립품(50)을 상하로 이동시킬 수가 있는 것이라면 어떠한 타입이든 적용 가능하다.The
예를 들어, 상단이 하부전극 조립품(50)의 하측에 연결된 상태로 챔버(30)의 바닥을 관통하는 적어도 하나의 로드(rod), 이 로드의 하단 부분에 길이 방향을 따라 마련되는 래크(rack), 이 래크와 맞물리는 피니언(pinion), 이 피니언을 회전시키는 모터(motor)로 구성하는 것도 가능하겠다.For example, at least one rod passing through the bottom of the
접지장치는 그라운드 스트랩(70)과, 이 그라운드 스트랩(70)의 양단 부분 중 한쪽을 접지대상인 챔버(30)에 체결하는 제1체결수단(80)과, 이 제1체결수단(80)과 대향되게 위치되고 이 상태로 그라운드 스트랩(70)의 양단 부분 중 나머지 한쪽을 하부전극 조립품(50)에 체결하는 제2체결수단(90)으로 구성된다.The grounding device includes a
여기에서, 그라운드 스트랩(70)은 유연성이 있는 금속으로 이루어진다. 그리 고 구체적으로 그 양단 부분은 챔버(30)의 바닥(32)과 하부전극 조립품(50)의 쿨링 플레이트(54)에 각각 체결된다.Here, the
도 3은 도 2의 A 부분이 도시된 사시도이고, 도 4는 도 3을 옆에서 본 단면도로, 이는 제1체결수단(80)의 구성을 구체적으로 나타낸 것이다.FIG. 3 is a perspective view showing part A of FIG. 2, and FIG. 4 is a sectional view of FIG. 3 as viewed from the side, which specifically shows the structure of the first fastening means 80.
도 3, 4에 도시된 바와 같이, 제1체결수단(80)은 챔버(30)의 바닥(32)에 설치된 스트랩 클램프(clamp)(82)를 포함하는데, 이 스트랩 클램프(82)는 그 한쪽에 그라운드 스트랩(70)의 한쪽 끝 부분을 끼울 수 있는 스트랩 삽입부(82-1)가 마련된다. 그리고 이 스트랩 삽입부(82-1)의 크기를 전체적으로 축소시키는 것과 확장시키는 것이 원터치 방식에 의하여 구현되는 구조를 가지도록 구성되어 크기가 축소된 때 스트랩 삽입부(82-1)가 이 스트랩 삽입부(82-1)에 끼워진 그라운드 스트랩(70)을 압착하도록 하는 바, 이를 위하여 다음과 같은 구성의 레버(lever)(110)와 탄성수단(120)을 포함한다.3 and 4, the first fastening means 80 includes a
레버(110)는 그 좌우에 각각 마련된 힌지 핀(hinge pin)(112), 그리고 이 두 힌지 핀(112)을 회전 가능하도록 지지하는 브래킷(bracket)(B1)에 의하여 챔버(30)의 바닥(32)에 상하로 일정한 각도 회전할 수 있게 설치된다. 물론, 여기서의 브래킷(B1)은 힌지 핀(112)이 챔버(30)의 바닥(32)으로부터 일정한 거리 떨어져 있도록 지지한 상태로 챔버(30)의 바닥(32)에 장착된다.The
이와 같은 레버(110)는 또, 회전중심인 힌지 핀(112)을 기준으로 회전운동을 함에 따라 챔버(30)의 바닥(32)과 접촉되는 끝 부분에 가압부(114)가 마련된다. 이 가압부(114)는 일체형으로 형성될 수 있으며, 바람직하게는 챔버(30)의 바닥(32)과 긴밀한 접촉이 가능한 형상을 가진다.The
이에 따르면, 레버(110)는 회전각도에 따라 그 가압부(114)가 챔버(30)의 바닥(32)과 접촉되거나 그렇지 않게 되는 것을 확인할 수 있는 바, 가압부(114)와 챔버(30)의 바닥(32) 사이를 앞서 설명한 스트랩 삽입부(82-1)로 한다. 때문에, 가압부(114)가 챔버(30)의 바닥(32)과 접촉하고 있다는 것은 스트랩 삽입부(82-1)가 축소된 상태인 것이다.The
가압부(114)는 스트랩 삽입부(82-1)가 축소된 때 이 스트랩 삽입부(82-1)에 끼워진 그라운드 스트랩(70)을 압착하게 되는 것인 바, 이 끼워진 그라운드 스트랩(70)과의 결합력을 높이기 위한 목적의 일환으로 챔버(30)의 바닥(32)과 접촉되는 부분에 다수 개의 돌기(116)가 마련된다. 이 때, 이 돌기(116)는 끝이 뾰족하도록 형성된다.The pressing
한편, 레버(110)는 가압부(114)의 반대쪽에 작업자가 직접 잡고 조작하는 손잡이(118)가 마련된다. 이 때, 손잡이(118)는 가압부(114)와의 사이에 힌지 핀(112)을 두도록 위치된다.On the other hand, the
탄성수단(120)은 스트랩 삽입부(82-1)에 끼워진 그라운드 스트랩(70)이 스트랩 삽입부(82-1)로부터 의도하지 않게 빠지게 되는 것을 방지하는 것으로서 가압부(114)가 스트랩 삽입부(82-1)에 끼워진 그라운드 스트랩(70)을 일정한 힘으로 눌러 압착하고 있도록 레버(110)에 탄성력을 부여한다.The
이와 같은 탄성수단(120)은 압축형의 코일스프링(coiled spring)으로 구성되는데, 이 코일스프링은 그 양단 부분이 챔버(30)의 바닥(32)과 손잡이(118)에 각각 지지된다.The
한편, 제2체결수단(90)도 제1체결수단(80)과 동일하게 구성되는 스트랩 클램프를 포함한다. 즉, 제1체결수단(80)의 스트랩 클램프(82)와 마찬가지의 스트랩 삽입부, 가압부, 손잡이, 다수 개의 돌기를 가지는 레버 및 이 레버에 탄성력을 부여하는 탄성수단(코일스프링)으로 구성되는 것이다. 다만, 제2체결수단(90)의 경우에는 챔버(30)의 바닥(32)이 아닌 쿨링 플레이트(54)를 접지대상으로 하는 것이므로, 이에 따라 이 쿨링 플레이트(54)와 가압부 사이를 스트랩 삽입부로 한다.On the other hand, the second fastening means 90 also includes a strap clamp configured in the same manner as the first fastening means 80. That is, a strap inserting portion similar to the
이와 같이 제2체결수단(90)은 제1체결수단(80)과 비교하여 볼 때 접지대상만이 상이할 뿐 기타 구성은 동일한 바, 구체적인 설명은 생략하기로 한다.As described above, the second fastening means 90 is different from the first fastening means 80 only in the case of the grounding object, and the other constructions are the same, and a detailed description thereof will be omitted.
다음에서는, 본 발명의 제1실시예에 따른 플라즈마 처리장비용 접지장치(이하, '제1실시예'라 한다)와 유사한 구성을 가지는 변형실시예에 관하여 살펴보기로 한다. 이 때, 변형실시예는 제1실시예와 비교하였을 때 상이한 부분을 중심으로 설 명하기로 하고 도면 또한 해당 부분만을 도시하기로 한다.Next, a modified embodiment having a configuration similar to that of the grounding apparatus for a plasma processing system (hereinafter, referred to as 'first embodiment') according to the first embodiment of the present invention will be described. In this case, the modified embodiment will be described mainly with respect to different portions when compared with the first embodiment, and only the corresponding portions will be shown in the drawings.
도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 플라즈마 처리장비용 접지장치의 주요부가 도시된 사시도이고, 도 6은 도 5를 앞에서 본 단면도이다.FIG. 5 is a perspective view showing a main part of a grounding apparatus for a plasma processing plant according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a sectional view of FIG. 5 from the front.
도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 플라즈마 처리장비용 접지장치(이하, '제2실시예'라 한다)는 제1실시예와 비교하여 볼 때 기타 구성은 모두 동일한 것에 대하여, 제1체결수단과 제2체결수단을 구성하는 스트랩 클램프의 구성만이 상이하다.5 and 6, the grounding apparatus for a plasma processing plant according to the second embodiment of the present invention (hereinafter, referred to as a "second embodiment") has the following structures in comparison with the first embodiment: Only the configuration of the strap clamp constituting the first fastening means and the second fastening means are different from each other.
이와 같은 제2실시예 역시 제1실시예와 마찬가지로 제1체결수단과 제2체결수단의 구성이 접지대상을 달리한다는 점 이외에는 모두가 동일하므로 제1체결수단의 스트랩 클램프(82A)에 대하여서만 살펴보기로 한다.As in the first embodiment, the second embodiment is similar to the first embodiment except that the configuration of the first fastening means and that of the second fastening means are different from each other, so that only the
제2실시예에서, 제1체결수단의 스트랩 클램프(82A)는 그 한쪽에 그라운드 스트랩(70)의 한쪽 끝 부분을 끼울 수 있는 스트랩 삽입부(82-2)가 마련이 된 가동바디(movable body)(210), 그리고 탄성수단(220)을 포함한다.In the second embodiment, the
가동바디(210)는 그 좌우에 각각 마련된 가이드 핀(guide pin)(212), 그리고 이 두 가이드 핀(212)을 승강 가능하도록 지지하는 브래킷(B2)에 의하여 챔버(30)의 바닥(32)에 이 바닥(32)에 대하여 접근과 일정한 거리 이격되어 있을 수 있도록 설치된다. 이 때, 브래킷(B2)은 가동바디(210)의 좌우에 각각 위치하도록 챔버(30)의 바닥(32)에 세워진 두 벽체(B2-1)와, 이 두 벽체(B2-1)의 상단에 연결된 연결체(B2-2)로 구성되는데, 이 중 두 벽체(B2-1)에는 가이드 슬릿(guide slit)(B2-1h)이 상하 방향을 따라 길게 형성되어 가이드 핀(212)이 각각 삽입된다.The
이와 같은 가동바디(210)는 또, 챔버(30)의 바닥(32)과 마주하는 부분에 이 바닥(32)과 접촉되는 가압부(214)가 마련된다.Such a
이에 따르면, 가동바디(210)는 승강되어 챔버(30)의 바닥(32)으로부터 이격된 거리에 따라 가압부(214)가 챔버(30)의 바닥(32)과 접촉되거나 그렇지 않게 되는 바, 가압부(214)와 챔버(30)의 바닥(32) 사이를 위의 스트랩 삽입부(82-2)로 한다. 그러므로 가압부(214)가 챔버(30)의 바닥(32)과 접촉하고 있다는 것은 곧 스트랩 삽입부(82-2)가 축소된 상태인 것이 된다.The
한편, 가동바디(210)의 가압부(214)는 챔버(30)의 바닥(32)과 접촉되는 부분인 하측에 끝이 뾰족하도록 형성된 돌기(216)가 다수 마련된다. 또, 가동바디(210)는 가압부(214)의 반대쪽에 작업자가 직접 잡고 조작하는 손잡이(218)가 적어도 하나 마련된다.The pushing
탄성수단(220)은 압축형의 코일스프링으로 구성된다. 이 코일스프링은 그 양단 부분이 손잡이(218)와의 간섭이 발생됨이 없도록 가동바디(210)와 브래킷(B2)의 연결체(B2-2)에 각각 지지된다. 이러한 코일스프링은 가압부(214)가 스트랩 삽입 부(82-2)에 끼워진 그라운드 스트랩(70)을 눌러 압착하고 있도록 가동바디(210)에 탄성력을 부여한다.The elastic means 220 is composed of a compression coil spring. The coil spring is supported on the linking body B2-2 of the
도 7 및 도 8은 각각 본 발명의 제3실시예에 따른 플라즈마 처리장비용 접지장치의 주요부가 도시된 구성도 및 사시도이다.7 and 8 are a structural view and a perspective view respectively showing a main part of a grounding apparatus for a plasma processing plant according to a third embodiment of the present invention.
도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3실시예에 따른 플라즈마 처리장비용 접지장치(이하, '제3실시예'라 한다)는 제1실시예와 비교하여 볼 때 기타 구성은 모두 동일한 것에 대하여, 그 제2체결수단이 마운팅 플레이트(mounting plate)(94)를 더 포함하여 구성된 다는 점만이 상이한 바, 이를 설명하면 다음과 같다.7 and 8, a grounding apparatus for a plasma processing plant (hereinafter referred to as a "third embodiment") according to a third embodiment of the present invention has the following structure in comparison with the first embodiment: Except that the second fastening means further comprises a mounting
제3실시예의 제2체결수단은 전극(52)과 쿨링 플레이트(54) 사이에 일부가 개재되고 나머지 부분은 밖으로 노출되어 있도록 설치된 마운팅 플레이트(94)와, 이 마운팅 플레이트(94)의 노출 부분에 설치되고 한쪽에 그라운드 스트랩(70)의 끝 부분이 끼워지는 스트랩 삽입부(92-1)가 마련된 스트랩 클램프(92)로 구성된다.The second fastening means of the third embodiment has a mounting
여기에서, 전극(52)과 쿨링 플레이트(54)는 둘 사이에 마운팅 플레이트(94)가 개재되더라도 긴밀한 관계가 유지되도록 이 마운팅 플레이트(94)가 수용되는 홈이 마련된다.Here, a groove is provided in which the mounting
스트랩 클램프(92)는 제1실시예의 스트랩 클램프(82)와 구성이 동일하다. 다만, 제3실시예의 스트랩 클램프(92)는 마운팅 플레이트(94)를 매개로 그라운드 스트랩(70)을 하부전극 조립품(50)에 연결하는 것이므로 레버(310)가 마운팅 플레이트(94)에 회전 가능하도록 설치되고 끝 부분에 이 마운팅 플레이트(94)와 접촉되는 가압부(314)가 마련되며 이 가압부(314)와 마운팅 플레이트(94) 사이를 스트랩 삽입부(92-1)로 한다.The
한편, 위와 같은 제3실시예의 스트랩 클램프(92)는 제2실시예의 스트랩 클램프(82A)가 적용될 수도 있다.On the other hand, the strap clamp 92A of the third embodiment as described above may be applied to the
이상, 본 발명을 설명하였으나, 본 발명은 이 명세서에 개시된 실시예 및 첨부된 도면에 의하여 한정되지 않는 바, 본 발명의 기술적 사상의 범위 안에서 당업자에 의하여 다양하게 변형될 수 있다.While the present invention has been described in detail, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims.
도 1은 종래기술에 따른 플라즈마 처리장비용 접지장치를 보인 구성도이다.FIG. 1 is a configuration diagram showing a conventional grounding device for a plasma processing plant.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 접지장치가 적용된 플라즈마 처리장비를 나타내는 구성도이다.FIG. 2 is a configuration diagram illustrating a plasma processing apparatus to which a grounding apparatus according to a first embodiment of the present invention is applied.
도 3은 도 2의 A 부분이 도시된 사시도이다.3 is a perspective view showing part A of FIG.
도 4는 도 3을 측면에서 본 단면도이다.Fig. 4 is a cross-sectional view taken from the side of Fig. 3. Fig.
도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 플라즈마 처리장비용 접지장치의 주요부가 도시된 사시도이다.5 is a perspective view showing a main part of a grounding apparatus for a plasma processing plant according to a second embodiment of the present invention.
도 6은 도 5를 앞에서 본 단면도이다.6 is a cross-sectional view of FIG.
도 7은 본 발명의 제3실시예에 따른 플라즈마 처리장비용 접지장치의 주요부가 도시된 구성도이다.FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a main part of a grounding apparatus for a plasma processing plant according to a third embodiment of the present invention.
도 8은 본 발명의 제3실시예에 따른 플라즈마 처리장비용 접지장치의 주요부가 도시된 사시도이다.FIG. 8 is a perspective view showing a main part of a grounding apparatus for a plasma processing plant according to a third embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 관한 부호의 설명>DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS
30 : 챔버 52 : 전극30: chamber 52: electrode
54 : 쿨링 플레이트 60 : 승강장치54: cooling plate 60: lifting device
70 : 그라운드 스트랩 80 : 제1체결수단70: ground strap 80: first fastening means
82, 82A : 스트랩 클램프 82-1, 82-2, 92 : 스트랩 삽입부82, 82A: strap clamps 82-1, 82-2, 92:
90 : 제2체결수단 94 : 마운팅 플레이트90: second fastening means 94: mounting plate
110, 310 : 레버 120, 220 : 탄성수단110, 310:
114, 214, 314 : 가압부 116, 216 : 돌기114, 214, 314: pressing
118, 218 : 손잡이 210 : 가동바디118, 218: handle 210: movable body
Claims (10)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20080014066A KR101490428B1 (en) | 2008-02-15 | 2008-02-15 | Grounding apparatus for plasma processing unit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20080014066A KR101490428B1 (en) | 2008-02-15 | 2008-02-15 | Grounding apparatus for plasma processing unit |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090088654A KR20090088654A (en) | 2009-08-20 |
KR101490428B1 true KR101490428B1 (en) | 2015-02-11 |
Family
ID=41207215
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR20080014066A KR101490428B1 (en) | 2008-02-15 | 2008-02-15 | Grounding apparatus for plasma processing unit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101490428B1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6683575B2 (en) * | 2016-09-01 | 2020-04-22 | 東京エレクトロン株式会社 | Plasma processing device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010102930A (en) * | 2000-05-03 | 2001-11-17 | 조셉 제이. 스위니 | Multiple frequency plasma chamber with grounding capacitor at cathode |
KR20060002526A (en) * | 2004-07-02 | 2006-01-09 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | Ground connection means of plasma processing unit |
JP2006333573A (en) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Nec Saitama Ltd | Cable clamp and portable electronic device |
-
2008
- 2008-02-15 KR KR20080014066A patent/KR101490428B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2006333573A (en) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Nec Saitama Ltd | Cable clamp and portable electronic device |
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---|---|
KR20090088654A (en) | 2009-08-20 |
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