KR101467060B1 - Plasma heating type haeting furnace with hollow heater - Google Patents

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KR101467060B1 KR1020120141533A KR20120141533A KR101467060B1 KR 101467060 B1 KR101467060 B1 KR 101467060B1 KR 1020120141533 A KR1020120141533 A KR 1020120141533A KR 20120141533 A KR20120141533 A KR 20120141533A KR 101467060 B1 KR101467060 B1 KR 101467060B1
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Abstract

본 발명의 금형 등의 금속 부품에 대해 플라즈마를 이용하여 열처리하는 에너지 절약형의 플라즈마 템퍼링 가열로 시스템에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 플라즈마 발생용 중공 스크린과 그 외측에 배열된 보조 히터들을 겸비하여, 템퍼링 초기에는 보조 히터로 온도를 올리고, 일정 온도에 달하면 플라즈마를 발생시켜 진공 챔버 안의 온도를 일정하게 유지하면서 저온 템퍼링을 실시하게 하였고, 온도를 일정하게 유지하기 위하여, 냉각수 온도를 측정하여 그를 피드백으로 하는 PID 제어 방식을 채택하였다.
본 발명의 진공 템퍼링은 에너지 손실이 거의 없어 에너지를 크게 절약할 수 있으며, 장비의 수명도 길어지는 장점이 있다.
The present invention relates to an energy-saving plasma tempering furnace system in which a metal part such as a metal mold of the present invention is heat-treated using plasma.
According to the present invention, a plasma screen is provided with a hollow screen for generating plasma and auxiliary heaters arranged on the outside thereof. The temperature is raised by an auxiliary heater at the beginning of tempering, and when a temperature is reached, plasma is generated to keep the temperature in the vacuum chamber constant, Tempering was carried out. In order to keep the temperature constant, the PID control method was adopted to measure the cooling water temperature and feed back the temperature.
The vacuum tempering of the present invention is advantageous in that it can save a great deal of energy because there is little energy loss, and the lifetime of equipment is also prolonged.

Description

중공히터를 이용한 플라즈마 가열 방식 가열로 시스템{PLASMA HEATING TYPE HAETING FURNACE WITH HOLLOW HEATER}FIELD OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a plasma heating method using a hollow heater,

본 발명의 금형, 진공 침탄 및 진공열처리 후 강재 부품을 진공 저온 템퍼링 및 고온 템퍼링 처리하는 가열로에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 플라즈마를 이용하여 에너지 절감과 동시에 표면을 진공에서 미려하게 열처리하여 코팅 등 다음 공정에서 제품의 성능과 산포도를 줄이는 한편, 후 가공을 줄여 자원 절감 및 에너지 절약형을 동시에 추구하는 플라즈마 가열 방식 가열로 시스템에 관한 것이다.
More particularly, the present invention relates to a heating furnace for performing vacuum cold tempering and high temperature tempering of steel parts after metal mold, vacuum carburization and vacuum heat treatment of the present invention, more specifically, The present invention relates to a plasma heating type heating furnace system that reduces both the performance and the dispersion of the product in the next process such as the reduction of the post-processing, thereby simultaneously saving resources and saving energy.

금형 및 기계 부품은 철강 재료로 구성되어 있고 이는 반드시 켄칭(quenching) 및 템퍼링 (Q/T) 열처리 과정을 거친다. 고급 금형 소재의 열처리 방식으로 이미 진공 열처리가 일반화되어있고, 진공 침탄 등 자동차 부품도 고급화로 가는 추세로서, 진공의 품질을 올려 열처리를 고급화하는 기술의 발전이 날로 상승 되고 있다. 반면에 템퍼링의 경우 저가의 니크롬 혹은 칸탈 등의 가열 히터를 부착하여 열원으로 방사열을 이용한 가열을 하지만 저온에서는 히터의 방사량이 작아 온도 유지가 어려운 문제점이 있어, 반드시 질소 가스 등을 넣어 교반 등의 공정을 병행하여 실시하기 때문에 질소 내에 포함된 수분이나 산소에 의한 낮은 온도지만 산화층이 형성되는 문제가 있으며, 팬을 넣어 진공 템퍼링 장치를 만들면 장비의 가격이 상승하는 문제점이 있다. The mold and machine parts are made of steel material, which must undergo quenching and tempering (Q / T) heat treatment. As the heat treatment method of high-grade mold material has already been generalized to vacuum heat treatment, and automobile parts such as vacuum carburizing are becoming more and more advanced, development of technology for upgrading the quality of vacuum by increasing the quality of vacuum is rising. On the other hand, in the case of tempering, a heating heater such as a low-cost nichrome or a cantal is attached to heat the substrate using radiant heat as a heat source. However, since the amount of radiation of the heater is low at low temperatures, it is difficult to maintain the temperature. There is a problem that an oxide layer is formed at a low temperature due to moisture or oxygen contained in the nitrogen. If a vacuum tempering device is incorporated by inserting a fan, there is a problem that the cost of the equipment is increased.

금형강의 경우 표면 산화막을 줄이거나 없애기 위해 몇몇 방식의 진공 템퍼링을 도입하고 있으나, 진공 후 히터와 반사판 및 단열재를 포함한 가열방식이 보편화된 가열 방식이다 (예를 들면, 대한민국공개특허제10-2009-0104876호). 이러한 경우 저온의 구역 즉 200 ~ 600 ℃ 정도의 템퍼링에 적합한, 일정한 온도 유지가 어렵다. 이는 히터의 방사열 형태가 저온에서 일정하지 않기 때문에 일어나는 현상이다. 오히려 저온에서는 팬에 의한 열풍 혹은 오븐 형태가 적합한 점이 있다. 히터가 저온에서의 열 방출이 어렵기 때문이다. In the case of metal molds, several methods of vacuum tempering have been introduced to reduce or eliminate surface oxide films. However, heating methods including a heater, a reflector, and a heat insulating material after vacuum are generally used (for example, Korean Patent Laid- 0104876). In this case, it is difficult to maintain a constant temperature suitable for tempering at a low temperature region, that is, about 200 to 600 ° C. This is because the radiation pattern of the heater is not constant at low temperatures. Rather, at low temperatures, a hot air blow or an oven type is suitable. This is because it is difficult for the heater to emit heat at low temperatures.

또한, 이론적으로는 글로우 방전을 이용한 고온 가열이나, 플라즈마 질화 공정에는 응용한 사례가 있으나, 진공템퍼링에서는 이용한 사례가 없다. 또한, 기존의 방사 열 방식의 저온 템퍼링의 경우 반사형태로 템퍼링 온도를 유지하는 기법을 사용하기 때문에 로 벽으로 많은 열이 방출하는 문제점이 있거나, 직접가열 방식의 경우 히터 주변의 온도가 높아 템퍼링 이력이 달라지는 문제점이 있다. Theoretically, there is a case of application to a high temperature heating using a glow discharge or a plasma nitriding process, but there is no case used in vacuum tempering. In the case of low temperature tempering in the conventional radiant heating method, since the technique of maintaining the tempering temperature in a reflection form is used, there is a problem that a lot of heat is emitted to the furnace wall, or in the case of the direct heating method, .

따라서 본 발명의 목적은 200 ~ 600 ℃ 정도의 온도 범위 내에서 일정한 온도를 유지하면서 템퍼링을 실시할 수 있는 플라즈마 가열 방식의 가열로 시스템을 제공하고자 하는 것이다. 아울러 본 발명의 또 다른 목적은 가열로의 구조, 보조 전극의 배열 및 전력인가 방식 등을 조합 설계하여 열 처리 효율과 에너지 손실을 최소화할 수 있는 플라즈마 가열 방식의 가열로 시스템을 제공하고자 하는 것이다.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a heating furnace system of a plasma heating method capable of performing tempering while maintaining a constant temperature within a temperature range of about 200 to 600 ° C. Another object of the present invention is to provide a heating furnace system of a plasma heating type which can minimize heat treatment efficiency and energy loss by a combination design of a structure of a heating furnace, an arrangement of auxiliary electrodes, and a power application method.

그에 따라 본 발명은, 플라즈마 발생용 중공 스크린 외에 보조 히터를 더 설치하여, 초기 템퍼링 단계에서는 보조 히터에 의해 온도를 상승하여 템퍼링 하고, 어느 정도 온도가 상승하여 안정화되면 플라즈마를 발생시켜 플라즈마 템퍼링을 실시하는 방식을 취하여 초기부터 플라즈마 템퍼링을 실시할 경우 문제되는 아크 방전을 방지하고, 템퍼링 온도의 일정 수준을 유지하기 위하여 PID 제어방식으로 온도를 제어하였다. Accordingly, in the present invention, an auxiliary heater is further provided in addition to the plasma generating hollow screen. In the initial tempering step, the temperature is raised and tempered by the auxiliary heater. When the temperature is stabilized by the rise to some extent, plasma is generated to perform plasma tempering In order to prevent the problematic arc discharge when the plasma tempering is performed from the beginning and to maintain a certain level of the tempering temperature, the temperature was controlled by the PID control method.

즉, 본 발명은, That is,

진공 챔버;A vacuum chamber;

상기 진공 챔버 안에 설치되는 중공 스크린;A hollow screen installed in the vacuum chamber;

상기 중공 스크린 외측에 배열되는 다수의 보조 히터; 및A plurality of auxiliary heaters arranged outside the hollow screen; And

상기 중공 스크린과 상기 보조 히터에 전력을 인가하는 전원장치를 포함하여,And a power supply for applying electric power to the hollow screen and the auxiliary heater,

상기 중공 스크린 내부에 템퍼링 실시할 피 처리물을 위치시키고, 수소를 포함한 첨가 가스를 투입하여 템퍼링 실시 초기에는 상기 보조 히터를 가동하여 온도를 올려 템퍼링을 시작하고, An object gas to be tempered is placed in the hollow screen, an auxiliary gas containing hydrogen is introduced to start tempering at the initial stage of the tempering operation, the tempering is started by raising the temperature of the auxiliary heater,

이후, 상기 중공 스크린에 전력을 인가하여 플라즈마를 발생시켜 플라즈마 템퍼링을 실시하는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 가열 방식 가열로 시스템을 제공할 수 있다.Thereafter, power is applied to the hollow screen to generate plasma to perform plasma tempering, thereby providing an energy-saving plasma heating type heating furnace system.

또한, 본 발명은, 상기에 있어서, 상기 진공 챔버 내 템퍼링 온도를 일정하게 유지하기 위하여, 온도 센서를 이용하여 온도를 체크 하고, 온도 변화를 피드백으로 하여, 상기 보조 히터와 중공 스크린에 인가하는 전력을 PID 제어 방식으로 제어하는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 가열 방식 가열로 시스템을 제공할 수 있다.In order to maintain the tempering temperature constant in the vacuum chamber, the temperature is checked using a temperature sensor, and the temperature change is fed back to the auxiliary heater and the electric power applied to the hollow screen Can be controlled by a PID control method.

또한, 본 발명은, 상기에 있어서, 상기 중공 스크린은, 다공형 스크린 또는 메쉬 스크린 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 가열 방식 가열로 시스템을 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide an energy saving plasma heating type heating furnace system, wherein the hollow screen includes at least one of a porous screen and a mesh screen.

또한, 본 발명은, 상기에 있어서, 상기 진공 챔버 벽면은, 냉각수가 흐를 수 있는 유로, 냉각수 유입구 및 유출구를 포함하며, 유입전 냉각수 온도와 유출된 냉각수 온도의 차이를 체크 하여 온도 차이의 변화를 피드백으로 하여, 상기 보조 히터와 중공 스크린에 인가하는 전력을 PID 제어 방식으로 제어하는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 가열 방식 가열로 시스템을 제공할 수 있다.Further, the present invention is characterized in that the wall surface of the vacuum chamber includes a passage through which cooling water can flow, a cooling water inlet and an outlet, and checks a difference between the cooling water temperature before the introduction and the outflow cooling water temperature, As a feedback, the energy to be applied to the auxiliary heater and the hollow screen is controlled by a PID control method, thereby providing an energy saving plasma heater type heating furnace system.

또한, 본 발명은, 상기에 있어서, 상기 보조 히터 외측에 반사판을 구비하되, 상기 반사판은 스테인레스스틸로 구성한 4 중 반사판인 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 가열 방식 가열로 시스템을 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide an energy saving plasma heating type heating furnace system, wherein the reflector is provided outside the auxiliary heater, and the reflector is a quadruple reflector made of stainless steel.

또한, 본 발명은, 상기에 있어서, 상기 템퍼링 온도는 150 내지 600 ℃ 정도의 일정 온도를 유지하는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 가열 방식 가열로 시스템을 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide an energy saving type plasma heating type heating furnace system, wherein the tempering temperature is maintained at a constant temperature of about 150 to 600 ° C.

또한, 본 발명은, 상기에 있어서, 템퍼링 실시 초기에 상기 보조 히터를 가동하여 도달하는 온도는 150 내지 180 ℃ 정도로 하는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 가열 방식 가열로 시스템을 제공할 수 있다.Further, the present invention can provide an energy saving type plasma heating type heating furnace system, wherein the temperature reached by operating the auxiliary heater at an initial stage of tempering is set to about 150 to 180 캜.

또한, 본 발명은, Further, according to the present invention,

진공 챔버 안에 중공 스크린과 상기 중공 스크린 외측에 다수의 보조 히터를 설치하고,A hollow screen is provided in the vacuum chamber and a plurality of auxiliary heaters are provided outside the hollow screen,

상기 중공 스크린 내부에 템퍼링 실시할 피 처리물을 위치시키고, Placing an object to be tempered in the hollow screen,

수소를 포함한 첨가 가스를 투입하여 템퍼링 실시 초기에는 상기 보조 히터를 가동하여 온도를 올려 템퍼링을 시작하고, In the initial stage of the tempering by adding the additive gas containing hydrogen, the auxiliary heater is operated to start the tempering by raising the temperature,

이후, 상기 중공 스크린에 전력을 인가하여 플라즈마를 발생시켜 플라즈마 템퍼링을 실시하는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 템퍼링 방법을 제공할 수 있다.Thereafter, electric power is applied to the hollow screen to generate plasma to perform plasma tempering, thereby providing an energy-saving plasma tempering method.

또한, 본 발명은, 상기에 있어서, 상기 진공 챔버 벽면은, 냉각수가 흐를 수 있는 유로, 냉각수 유입구 및 유출구를 포함하며, 유입전 냉각수 온도와 유출된 냉각수 온도의 차이를 체크 하여 온도 차이의 변화를 피드백으로 하여, 상기 보조 히터와 중공 스크린에 인가하는 전력을 PID 제어 방식으로 제어하는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 템퍼링 방법을 제공할 수 있다.Further, the present invention is characterized in that the wall surface of the vacuum chamber includes a passage through which cooling water can flow, a cooling water inlet and an outlet, and checks a difference between the cooling water temperature before the introduction and the outflow cooling water temperature, As a feedback, the power to be applied to the auxiliary heater and the hollow screen is controlled by the PID control method.

본 발명에 따르면, 상대적으로 저온에서 진행되는 템퍼링의 온도를 일정하게 유지할 수 있고, 템퍼링 초기에는 보조 히터를 이용하여 가열을 실시하여 초기 플라즈마 전극을 보호하여 수명을 유지하면서 안정된 전원 공급 온도에서, 저전류 및 저전력으로 가열하므로 에너지를 절약할 수 있는 동시에 스크린 내에 분위기 가스와 전자의 충돌에 의한 플라즈마 열원에 의해 가열되기 때문에 저온에서도 온도가 일정하게 유지되는 특징 및 장점이 있다. According to the present invention, it is possible to maintain the temperature of tempering at a relatively low temperature at a constant level. At the initial stage of tempering, heating is performed using an auxiliary heater to protect the initial plasma electrode, Current and low power, so that it is possible to save the energy, and at the same time, the plasma is heated by the plasma heat source caused by the collision of the atmospheric gas and the electron in the screen.

도 1은 본 발명의 가열로의 구성을 개략적으로 보여주는 단면도 및 부분확대단면도이다.
도 2는 본 발명의 가열로에서 이중 스크린의 구성을 나타내는 개략도이다.
도 3은 본 발명의 가열로의 구성을 개략적으로 보여주는 평 단면도이다.
도 4는 본 발명의 가열로의 냉각시스템을 설명하기 위한 단면도이다.
도 5는 본 발명의 템퍼링 온도를 일정하게 유지하기 위한 PID 제어시스템을 설명하는 순서도 이다.
Fig. 1 is a cross-sectional view and a partial enlarged cross-sectional view schematically showing the construction of a heating furnace of the present invention.
2 is a schematic view showing the construction of a double screen in the heating furnace of the present invention.
3 is a plan sectional view schematically showing the construction of the heating furnace of the present invention.
4 is a cross-sectional view for explaining the cooling system of the heating furnace of the present invention.
5 is a flowchart illustrating a PID control system for maintaining the tempering temperature of the present invention at a constant level.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 플라즈마 가열 방식 가열로 시스템은 진공 챔버 안에 중공형 스크린, 바람직하게는 이중 스크린을 설치하고 여기에 전력을 인가하여 플라즈마를 발생시켜 스크린 내부에서 발생한 플라즈마의 에너지를 이용하여 가열하는 것으로 저온에서도 균일한 온도를 유지하도록 하며, 내부 지그 위에 위치한 금형이나 기계부품 등의 피 처리물을 일정 온도 하에서 템퍼링 하는 것이다. The plasma heating heating furnace system of the present invention has a hollow screen, preferably a double screen, installed in a vacuum chamber, and a plasma is generated by applying electric power thereto to heat the plasma using the energy of plasma generated in the screen. To maintain a uniform temperature, and to temper the object to be processed such as a mold or a machine part located on the inner jig at a predetermined temperature.

상기 이중 스크린은 실질상 동일 전위를 갖는 중공형 전극으로 전원을 인가하여, 스크린 간의 간극에서 플라즈마를 생성하게 되며, 이러한 플라즈마의 온도는 플라즈마 상태가 안정되게 유지되는 한 거의 일정하므로, 템퍼링 온도 유지에 매우 적합하다. 스크린 자체에서도 열 전자가 발생되긴 하나 플라즈마에 의한 온도에 못 미치기 때문에 템퍼링은 주로 플라즈마에 의해 실시되게 된다. The double screen is powered by a hollow electrode having substantially the same potential to generate a plasma at a gap between the screens. The temperature of the plasma is substantially constant as long as the plasma state is maintained stably. Therefore, It is very suitable. In the screen itself, thermal electrons are generated, but the temperature is lower than the plasma temperature, so the tempering is mainly performed by plasma.

그러나, 상기와 같은 플라즈마를 이용한 진공 템퍼링의 장점에도 불구하고, 템퍼링을 실시하는 초기 단계, 즉, 챔버 내의 온도가 상온인 플라즈마 발생단계에서는 아크 방전이 일어나기 쉽다. 아크 방전이 일어나면, 챔버 내 스크린 온도는 국지적으로 급상승하여 스크린이나 전원 장치 등의 장비가 손상될 수 있고, 일정 온도에서 템퍼링 하고자 하는 의도와 달리 온도의 급변이 문제될 수 있으며, 에너지 손실의 문제도 생긴다. However, in spite of the advantage of vacuum tempering using the plasma as described above, arc discharge tends to occur in an initial stage of tempering, i.e., a plasma generating step in which the temperature in the chamber is room temperature. When the arc discharge occurs, the screen temperature in the chamber rises locally so that equipment such as a screen or a power supply device may be damaged. Unlike the intention to temper at a certain temperature, rapid temperature change may be a problem. It happens.

따라서 본 발명은, 플라즈마 발생을 이용한 플라즈마 템퍼링을 실시하되, 보조 히터를 더 구비하여 초기 공정은 보조 히터를 동작시켜 일정 온도에 도달하게 하고, 이후 플라즈마를 생성하여 안정된 플라즈마 템퍼링을 실시하도록 구성하였다. 즉, 중공 스크린 외측 둘레에 배치한 보조 히터를 가동하여 챔버 내 온도가 150 내지 180 ℃ 정도에 달하게 하여 템퍼링을 시작한 후에, 중공 스크린에 전력을 인가하여 플라즈마를 생성함으로써 안정된 플라즈마를 생성하고 전극이 급 가열되면서 발생되는 아크 방전을 막을 수 있으며, 150 내지 600 ℃ 정도의 일정 온도를 유지하는 진공 플라즈마 템퍼링을 실시할 수 있다. Therefore, the present invention is configured to perform plasma tempering using plasma generation, and further include an auxiliary heater. In the initial process, an auxiliary heater is operated to reach a predetermined temperature, and then plasma is generated to perform stable plasma tempering. That is, the auxiliary heater disposed around the outside of the hollow screen is operated to start the tempering with the temperature in the chamber reaching about 150 to 180 DEG C, and then electric power is applied to the hollow screen to generate plasma to generate a stable plasma, It is possible to prevent arc discharge caused by heating and to perform vacuum plasma tempering at a constant temperature of about 150 to 600 ° C.

또한, 본 발명은, 진공 플라즈마 템퍼링의 온도를 일정하게 지속시키기 위해, 챔버 온도를 실시간으로 체크하여 이를 피드백으로 보조 전극과 중공 스크린에 인가되는 전력을 실시간으로 제어하는 PID 제어방식을 적용하였다. 즉, 챔버 외벽을 냉각수 통로로 설계하고, 들어가는 냉각수의 온도와 나오는 냉각수의 온도 차이를 검출하고, 미리 설정해 놓은 챔버의 최고온도를 기준으로 하여, 보조 히터와 플라즈마 발생용 전력을 동시 제어함으로써 템퍼링 온도를 일정하게 유지하여 제어하는 방식이다. Also, in order to maintain the temperature of the vacuum plasma tempering constant, the present invention applies a PID control method that real-time controls the power applied to the auxiliary electrode and the hollow screen by checking the chamber temperature in real time. That is, the outer wall of the chamber is designed as a cooling water passage, and the temperature difference between the cooling water and the cooling water is detected. Simultaneously controlling the auxiliary heater and the plasma generating power based on the preset maximum temperature of the chamber, Is maintained at a constant level.

다음에서 가열로의 장비 구성 등, 본 발명의 바람직한 실시에 필요한 사항을 더욱 상세히 설명한다.In the following, matters necessary for the preferable implementation of the present invention such as the equipment configuration of the heating furnace will be described in more detail.

도 1은 본 발명의 가열로의 개략적인 단면도이며, 도 2는 본 발명의 가열로에 채용된 이중스크린의 구성을 좀더 상세히 나타낸다.Fig. 1 is a schematic cross-sectional view of a heating furnace of the present invention, and Fig. 2 shows the construction of a double screen employed in the heating furnace of the present invention in more detail.

상기 이중스크린은 홀(hole)(150)이 형성된 다공형 스크린(100)과 그 안쪽이나 바깥쪽에 병렬배치되는 메쉬 스크린(200)으로 구성되며, 메쉬 스크린은 메쉬에 의한 홀(250)을 다수 구비한다. 다공형 스크린(100) 홀(150)의 직경은 15 내지 30mm로 하고, 메쉬에 의한 홀(250)은 5mm 정도의 직경으로 하는 것이 바람직하다. 메쉬 골격의 두께는 1 mm 내외로 하여, 다공형 스크린(100) 홀(150)은 메쉬로 가려지게 된다. 스크린 간 간격은 10 내지 50mm 정도일 수 있으며, 본 실시예에서는 30mm로 하였다. 상기와 같은 이중 스크린 구성은 단일 스크린이나, 다공형 스크린(100) 두 장을 겹쳐 구성한 것에 비하여 쉐이딩(shading) 문제를 일으키지 않아 최상의 실시형태를 이루나, 필수적인 것은 아니고, 다공형 스크린(100)이나 메쉬 스크린(200) 중 어느 하나만 사용하거나 단일 종류로 이중 스크린을 구성하는 등의 변형 실시예가 가능하다. The double screen is composed of a porous screen 100 having holes 150 and a mesh screen 200 arranged in parallel on the inside or outside thereof. The mesh screen has a plurality of holes 250 do. It is preferable that the diameter of the hole 150 of the porous screen 100 is 15 to 30 mm and the diameter of the hole 250 formed by the mesh is 5 mm. The thickness of the mesh skeleton is about 1 mm, and the holes 150 of the porous screen 100 are covered with a mesh. The interval between the screens may be about 10 to 50 mm, and 30 mm in this embodiment. The above-mentioned double-screen configuration does not cause a shading problem as compared with a single screen or a double-screened screen 100, but it is not essential and it is not essential that the multi- It is possible to use any one of the screens 200 or construct a dual screen with a single kind.

도 3은 본 발명의 가열로의 구성을 개략적으로 보여주는 평 단면도로 이중스크린 외측에 설치한 보조 히터(300)와 히터 외측에 반사판(350)이 설치된 것을 나타낸다. 보조 히터(300)는 일반적으로 사용하는 열선을 막대에 감은 것으로 전원을 인가하여 열선의 줄(Joule) 열을 이용하여 가열하게 된다. 보조 히터로부터 방사되는 복사열이 외부로 유출되지 않도록 안쪽으로 반사시키기 위한 반사판(350)을 설치하였고, 그 구성은, 반사판(350)의 효율과 가열 냉각의 경계점을 고려하여, 두께 1.5mm 스테인레스 판을 3mm 간격으로 4겹으로 하여 4중 반사판(350)으로 하였다. 반사판(350)과 챔버 외벽(400)과의 간격은 약 30mm 정도로 하였다. 보조 히터(300)는 이중스크린으로부터 20 내지 100mm 간격, 바람직하게는 60 mm 간격을 두고 설치되고, 보조 히터(300)와 반사판(350) 사이의 간격은 20 내지 70mm, 바람직하게는 50mm로 한다. FIG. 3 is a plan view showing a schematic configuration of the heating furnace according to the present invention, showing an auxiliary heater 300 installed outside the dual screen and a reflection plate 350 installed outside the heater. The auxiliary heater 300 is heated by using a joule heat of a hot wire by applying power to the hot wire, which is generally used, by winding it on a rod. A reflector 350 for reflecting the radiation radiated from the auxiliary heater to the outside so as to prevent the radiant heat from being radiated to the outside is provided and a stainless steel plate having a thickness of 1.5 mm is used in consideration of the efficiency of the reflector 350 and the boundary between heating and cooling 4-fold at intervals of 3 mm to obtain a quadruple reflector (350). The distance between the reflection plate 350 and the chamber outer wall 400 is about 30 mm. The auxiliary heater 300 is installed at a distance of 20 to 100 mm, preferably 60 mm, from the double screen, and the distance between the auxiliary heater 300 and the reflection plate 350 is 20 to 70 mm, preferably 50 mm.

또한, 보조 히터(300)의 전원 공급은 본 실시예의 경우, 챔버 천장 쪽에서 하도록 하였다. In addition, in the case of the present embodiment, power supply to the auxiliary heater 300 is performed on the side of the chamber ceiling.

피 처리물의 열처리시 중공형 이중 스크린에 전력을 인가하여 플라즈마를 발생시켜 가열할 경우, 초기 저항이 높아 전류인가량이 크고 소모 전력이 커지며, 상술한 바와 같이 아크 발생의 염려가 있다. 따라서 본 발명은, 열처리시 초기에는 스크린 외측에 배치한 보조 히터(300)를 먼저 가동시켜 저전류·저전력으로 빠르게 승온하여 열처리하고, 소정의 온도(예를 들면, 150 내지 180 ℃)에 도달된 이후, 플라즈마 방전을 일으켜 플라즈마 열처리를 실시하므로 전체 공정을 통하여는 에너지를 절약할 수 있다. 보조 히터(300)의 인가 전력은 120kW/t 내외일 수 있으며, 플라즈마 발생을 위한 중공 스크린에의 인가 전력은 DC 또는 DC 펄스 전력으로 피 처리물 무게와 관계없이 10~20kW 이내로, 가열 온도를 지속적으로 유지할 수 있으며, 상기 DC 또는 DC 펄스인가 전력은 가스 압력에 따라 차이가 발생할 수 있다. When the plasma is generated and heated by applying electric power to the hollow double screen during the heat treatment of the object to be processed, the initial resistance is high and the current consumption is large and the power consumption is increased. As described above, there is a fear of arc generation. Accordingly, in the present invention, the auxiliary heater 300 disposed outside the screen is initially operated at the initial stage of the heat treatment, and the temperature is rapidly raised to a low current and a low power to be heat treated, and a predetermined temperature (for example, 150 to 180 ° C) Thereafter, a plasma discharge is generated to perform a plasma heat treatment, so that energy can be saved through the entire process. The applied electric power to the auxiliary heater 300 may be about 120 kW / t, and the applied electric power to the hollow screen for plasma generation may be DC or DC pulse power within 10 to 20 kW irrespective of the weight of the object to be processed, , And the DC or DC pulse applied power may vary depending on the gas pressure.

피처리물 대상은 주로 금형강으로, STD61, STD11, STH51 등이 있으며, 이 또한 예시적이며 제한적인 것은 아니다. Materials to be treated mainly include mold steels, such as STD61, STD11, STH51, which are also illustrative and not limiting.

보조 히터(300)와 플라즈마 발생용 중공 스크린을 설치한 진공 챔버에 수소를 포함한 분위기 가스를 첨가하여, 저온의 구역, 특히, 200 ~ 600 ℃ 정도의 템퍼링 온도 구역에서 일정한 온도를 유지하면서 가열(템퍼링)함으로써 플라즈마 가열로의 특징인 에너지 고효율을 실현하여 인가 전력이 모두 템퍼링 에너지로 전달되는 장점을 가질 수 있다. 특히 챔버 벽면의 보조 히터(300)와 연계하여 템퍼링에 필요한 열량을 균일하게 유지하며, 상기 보조 히터(300)는 기존의 세라믹 블록으로 구성되지 않아, 알루미늄 및 스테인레스 등의 소재의 에이징 공정 등에 활용할 경우, 고속 냉각이 가능하다는 장점을 포함하고 있다. 이러한 보조 히터와 보조 전극이 설치된 진공 가열 및 플라즈마 발생장치는 분위기 가스인 수소가 활발하게 환원작용을 하는 온도인 200~550 ℃ 부근의 온도까지 급격히 승온하는 플라즈마만을 이용한 기존 가열 방식과 달리, 0.1 Torr이하의 진공에서 플라즈마를 이용하되, 수소 환원 온도까지 승온하는 동안은 보조 히터를 이용하고 이후 균일한 온도를 유지하기 위해 플라즈마 가열원을 사용하는, 안정되고도 균일한 온도 유지에 유리한 가열 방식이다. An atmospheric gas containing hydrogen is added to the vacuum chamber provided with the auxiliary heater 300 and the hollow screen for generating plasma, and the substrate is heated (tempering) while maintaining a constant temperature in a low temperature zone, particularly a tempering temperature zone of about 200 to 600 ° C. Thereby realizing energy high efficiency which is characteristic of the plasma heating furnace and having the advantage that all the applied power is transmitted as tempering energy. In particular, the auxiliary heater 300 maintains a uniform amount of heat required for tempering in conjunction with the auxiliary heater 300 on the wall surface of the chamber. The auxiliary heater 300 is not formed of a conventional ceramic block, and is used for an aging process of materials such as aluminum and stainless steel , And high-speed cooling is possible. Unlike the conventional heating method using only a plasma in which the auxiliary heater and the auxiliary electrode are installed, the vacuum heating and plasma generating apparatus is rapidly heated up to a temperature of about 200 to 550 DEG C, which is a temperature at which the hydrogen gas actively acts as a reducing gas, A plasma heater is used to raise the temperature up to the hydrogen reduction temperature and then an auxiliary heater is used to maintain the uniform temperature.

본 발명은 반사판(350)을 포함한 열처리와 내부 이중 스크린의 전원을 이용하여 제품을 가열하는 동시에 이를 이용하여 수소의 활성 종을 다량으로 만드는 동시에 플라즈마 내에서 전자의 충돌 횟수를 높여 열전자 방출을 늘리도록 설계되었다. 이때 이중 스크린에서 생성 종의 양이 달라지게 되면 활성 종의 발생량이 줄어들게 됨으로써 이를 방지하기 위해 일정한 열량의 부족 부분은 에너지 모니터링에 의해 보조 히터 가동에서 이를 보충하여 스크린의 전역은 일정한 열량상태를 유지하도록 구성한다. In the present invention, a product is heated using a power source including a reflection plate 350 and an internal double screen, and simultaneously a large amount of active species of hydrogen is used by using the same, and the number of times of collision of electrons in the plasma is increased, It was designed. In this case, if the amount of generated species is changed on the double screen, the amount of active species is reduced. To prevent this, the deficient portion of the certain amount of heat is supplemented in the auxiliary heater operation by energy monitoring, .

상기와 같은 본 발명의 진공 템퍼링은 고 진공도를 유지할 수 있으며, 기존의 SCR 타입의 고전류를 요하지 않으며, 기존 방식의 소모 전력의 1/3 정도의 전력만으로도 해당하는 온도까지 상승시킬 뿐 아니라 일정한 온도 분포를 유지할 수 있어 에너지 손실을 최소화할 수 있다.  The vacuum tempering of the present invention as described above can maintain a high degree of vacuum and does not require a high current of the conventional SCR type and can raise the temperature to a corresponding temperature by only about 1/3 of the consumed power of the conventional system, The energy loss can be minimized.

한편, 본 발명은, 일정 온도의 유지를 위해 다음과 같은 온도 제어를 구성하였다.Meanwhile, in the present invention, the following temperature control is configured to maintain a constant temperature.

즉, 챔버 외벽(400)은 냉각수가 흐를 수 있도록 간격을 두어 냉각수 통로(500)로 하고, 여기에 유입구(550, 551, 555)와 유출구(570, 571, 575)들을 구성하였고, 챔버 내 최고 도달 온도(예를 들면 300 ℃)를 미리 설정하여 놓고, 유입 전 냉각수 온도와 유출되는 냉각수 온도를 측정하여, 그 온도 차를 피드백으로 하여, 실시간으로 보조 히터(300)와 중공 스크린에 인가되는 전력을 제어한다. 도 4는 본 발명의 냉각수 흐름을 잘 나타내고 있다. 챔버 하단부, 중단부, 상단부에 각각 냉각수 유입구(550, 551, 555)와 유출구(570, 571, 575)들을 형성하여, 냉각수는 아래에서 위로 차올라가도록 유입구(550, 551, 555)는 유출구(570, 571, 575)에 대해 상대적으로 아래쪽에 형성하였다. That is, the chamber outer wall 400 has a cooling water passage 500 at an interval to allow cooling water to flow therein, and the inlet ports 550, 551 and 555 and the outflow ports 570, 571 and 575 are formed therein, (For example, 300 DEG C) is set in advance, and the cooling water temperature before the inflow and the cooling water temperature flowing out are measured, and the electric power applied to the auxiliary heater 300 and the hollow screen . Figure 4 illustrates the cooling water flow of the present invention well. The inlet ports 550, 551 and 555 and the outlet ports 570 and 571 and 575 are formed at the lower end of the chamber, the middle portion and the upper end, respectively, , 571 and 575, respectively.

온도 제어는, 보조 히터를 온/오프시킬 경우 인가 전력량과 중공 스크린에 인가할 전력량을 온도 변수에 대한 미분과 적분으로 구하는 PID 제어(control)방식으로 제어하였다. 또한, 수온 상승량을 체크하여 열 손실량을 계산하여 에너지의 최소 변화 폭 만큼만 전력을 투입하도록 제어한다. 여기서 열량 방정식을 사용한 제어 시스템을 구성하였다(도 5 참조). 
The temperature control was controlled by a PID control method in which the applied electric power and the amount of electric power to be applied to the hollow screen were obtained by differentiating and integrating the temperature variable when the auxiliary heater was turned on and off. Further, the amount of heat loss is calculated by checking the water temperature rise amount, and the power is controlled to be supplied only to the minimum change width of the energy. Here, a control system using the calorimetric equation was constructed (see FIG. 5).

이와 같이 하여, 고효율 에너지 절약형 템퍼링을 실시할 수 있다. Thus, high-efficiency energy-saving tempering can be performed.

본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시 예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.It is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but is capable of many modifications and variations within the scope of the appended claims. It is self-evident.

100: 다공형 스크린
150, 250: 홀(hole)
200: 메쉬 스크린
300: 보조 히터
350: 반사판
400: 챔버 외벽
500: 냉각수 통로
550, 551, 555: (냉각수) 유입구
570, 571, 575: (냉각수) 유출구
100: Porous screen
150, 250: hole,
200: Mesh screen
300: auxiliary heater
350: reflector
400: chamber outer wall
500: Cooling water passage
550, 551, 555: (cooling water) inlet
570, 571, 575: (cooling water) outlet

Claims (9)

진공 챔버;
상기 진공 챔버 안에 설치되며, 다공형 스크린 또는 메쉬 스크린을 포함하되, 스크린 간 간격을 둔 이중 구조의 중공 스크린;
상기 중공 스크린 외측에 배열되는 다수의 보조 히터; 및
상기 중공 스크린과 상기 보조 히터에 전력을 인가하는 전원장치를 포함하여,
상기 중공 스크린 내부에 템퍼링 실시할 피 처리물을 위치시키고, 수소를 포함한 첨가 가스를 투입하여 템퍼링 실시 초기에는 상기 보조 히터를 가동하여 온도를 올려 템퍼링을 시작하고,
이후, 상기 중공 스크린에 전력을 인가하여 이중의 중공 스크린을 플라즈마 발생용 전극으로 삼아 플라즈마를 발생시켜 플라즈마 템퍼링을 실시하며,
상기 이중 구조의 중공 스크린은, 다공형 스크린과 메쉬 스크린, 다공형 스크린과 다공형 스크린 또는 메쉬 스크린과 메쉬 스크린으로 구성되는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 가열 방식 가열로 장치.
A vacuum chamber;
A hollow screen having a double structure spaced apart from the screen, the hollow screen including a porous screen or a mesh screen;
A plurality of auxiliary heaters arranged outside the hollow screen; And
And a power supply for applying electric power to the hollow screen and the auxiliary heater,
An object gas to be tempered is placed in the hollow screen, an auxiliary gas containing hydrogen is introduced to start tempering at the initial stage of the tempering operation, the tempering is started by raising the temperature of the auxiliary heater,
Thereafter, electric power is applied to the hollow screen to generate a plasma by using a double hollow screen as a plasma generating electrode to perform plasma tempering,
Wherein the dual structure hollow screen is constituted by a porous screen, a mesh screen, a porous screen, a porous screen or a mesh screen and a mesh screen.
제1항에 있어서, 상기 진공 챔버 내 템퍼링 온도를 일정하게 유지하기 위하여, 온도 센서를 이용하여 온도를 체크 하고, 온도 변화를 피드백으로 하여, 상기 보조 히터와 중공 스크린에 인가하는 전력을 PID 제어 방식으로 제어하는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 가열 방식 가열로 장치.The method as claimed in claim 1, wherein, in order to maintain a constant tempering temperature in the vacuum chamber, the temperature is checked using a temperature sensor, and the power applied to the auxiliary heater and the hollow screen is controlled by a PID control method And a control unit for controlling the heating unit. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 진공 챔버 벽면은, 냉각수가 흐를 수 있는 유로, 냉각수 유입구 및 유출구를 포함하며, 유입전 냉각수 온도와 유출된 냉각수 온도의 차이를 체크 하여 온도 차이의 변화를 피드백으로 하여, 상기 보조 히터와 중공 스크린에 인가하는 전력을 PID 제어 방식으로 제어하는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 가열 방식 가열로 장치.The vacuum chamber of claim 1, wherein the wall surface of the vacuum chamber includes a passage through which cooling water can flow, a cooling water inlet and an outlet, and checks the difference between the cooling water temperature before the introduction and the outflow cooling water, Wherein the power applied to the auxiliary heater and the hollow screen is controlled by a PID control method. 제1항에 있어서, 상기 보조 히터 외측에 반사판을 구비하되, 상기 반사판은 스테인레스 강으로 구성한 4 중 반사판인 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 가열 방식 가열로 장치.The apparatus of claim 1, wherein the auxiliary heater has a reflector outside the auxiliary heater, and the reflector is a quadruple reflector made of stainless steel. 제1항에 있어서, 상기 템퍼링 온도는 150 내지 600 ℃ 정도의 일정 온도를 유지하는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 가열 방식 가열로 장치.The apparatus according to claim 1, wherein the tempering temperature is maintained at a constant temperature of about 150 to 600 ° C. 제1항에 있어서, 템퍼링 실시 초기에 상기 보조 히터를 가동하여 도달하는 온도는 150 내지 180 ℃ 정도로 하는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 가열 방식 가열로 장치. The apparatus according to claim 1, wherein a temperature at which the auxiliary heater is activated and reached at an initial stage of the tempering operation is set at about 150 to 180 ° C. 진공 챔버 안에 중공 스크린과 상기 중공 스크린 외측에 다수의 보조 히터를 설치하고,
상기 중공 스크린 내부에 템퍼링 실시할 피 처리물을 위치시키고,
수소를 포함한 첨가 가스를 투입하여 템퍼링 실시 초기에는 상기 보조 히터를 가동하여 온도를 150 내지 180 ℃에 달하게 하여 템퍼링을 시작하고,
이후, 상기 중공 스크린을 플라즈마 발생용 전극으로 삼아 전력을 인가하여 플라즈마를 발생시켜 플라즈마 템퍼링을 실시하여, 템퍼링 진행 중 150 내지 600 ℃의 일정 온도를 유지하는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 템퍼링 방법.
A hollow screen is provided in the vacuum chamber and a plurality of auxiliary heaters are provided outside the hollow screen,
Placing an object to be tempered in the hollow screen,
The auxiliary heater including the hydrogen gas is charged and the auxiliary heater is operated at the initial stage of the tempering so that the temperature is increased to 150 to 180 ° C to start the tempering,
The method of claim 1, wherein the hollow screen is used as an electrode for plasma generation, and a plasma is generated by applying electric power to perform plasma tempering, thereby maintaining a constant temperature of 150 to 600 캜 during the tempering process.
제8항에 있어서, 상기 진공 챔버 벽면은, 냉각수가 흐를 수 있는 유로, 냉각수 유입구 및 유출구를 포함하며, 유입전 냉각수 온도와 유출된 냉각수 온도의 차이를 체크 하여 온도 차이의 변화를 피드백으로 하여, 상기 보조 히터와 중공 스크린에 인가하는 전력을 PID 제어 방식으로 제어하는 것을 특징으로 하는 에너지 절약형 플라즈마 템퍼링 방법.



The vacuum chamber as claimed in claim 8, wherein the wall surface of the vacuum chamber includes a passage through which cooling water can flow, a cooling water inlet and an outlet, and checks the difference between the cooling water temperature before the introduction and the outflow cooling water, Wherein the energy applied to the auxiliary heater and the hollow screen is controlled by a PID control method.



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