KR101461344B1 - New compound and organic light emitting device using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 상기 화합물을 이용한 유기 발광 소자에 관한 것으로서, 본 발명의 신규 화합물은 유기 발광 소자의 수명, 효율, 전기 화학적 안정성 및 열적 안정성을 크게 향상시킬 수 있다.
[화학식 1]

Figure 112013116104113-pat00094
The present invention relates to a compound represented by the following formula (1) and an organic light emitting device using the compound. The novel compound of the present invention can greatly improve the lifetime, efficiency, electrochemical stability, and thermal stability of the organic light emitting device.
[Chemical Formula 1]
Figure 112013116104113-pat00094

Description

새로운 유기 발광 소자 재료 및 이를 이용한 유기 발광 소자{NEW COMPOUND AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE USING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a novel organic light emitting diode (OLED)

본 발명은 유기 발광 소자의 수명, 효율, 전기 화학적 안정성 및 열적 안정성을 크게 향상시킬 수 있는 신규 화합물 및 상기 화합물이 유기화합물 층에 포함되어 있는 유기 발광 소자에 관한 것이다.The present invention relates to a novel compound capable of greatly improving lifetime, efficiency, electrochemical stability and thermal stability of an organic light emitting device, and an organic light emitting device in which the compound is contained in an organic compound layer.

유기 발광 현상은 특정 유기 분자의 내부 프로세스에 의하여 전류가 가시광으로 전환되는 예의 하나이다. 유기 발광 현상의 원리는 다음과 같다. 양극과 음극 사이에 유기물 층을 위치시켰을 때 두 전극 사이에 전압을 걸어주게 되면 음극과 양극으로부터 각각 전자와 정공이 유기물 층으로 주입된다. 유기물 층으로 주입된 전자와 정공은 재결합하여 엑시톤(exciton)을 형성하고, 이 엑시톤이 다시 바닥 상태로 떨어지면서 빛이 나게 된다. 이러한 원리를 이용하는 유기 발광소자는 일반적으로 음극과 양극 및 그 사이에 위치한 유기물층, 예컨대 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층을 포함하는 유기물 층으로 구성될 수 있다.The organic light emission phenomenon is one example in which current is converted into visible light by an internal process of a specific organic molecule. The principle of organic luminescence phenomenon is as follows. When an organic layer is positioned between an anode and a cathode, when a voltage is applied between the two electrodes, electrons and holes are injected into the organic layer from the cathode and the anode, respectively. Electrons and holes injected into the organic layer are recombined to form an exciton, and the exciton falls back to the ground state to emit light. An organic light emitting device using such a principle may be generally composed of an organic material layer including a cathode, an anode and an organic material layer disposed therebetween, for example, a hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, and an electron transporting layer.

유기 발광 소자에서 사용되는 물질로는 순수 유기 물질 또는 유기 물질과 금속이 착물을 이루는 착화합물이 대부분을 차지하고 있으며, 용도에 따라 정공주입 물질, 정공수송 물질, 발광 물질, 전자수송 물질, 전자주입 물질 등으로 구분될 수 있다. 여기서, 정공주입 물질이나 정공수송 물질로는 p-타입의 성질을 가지는 유기 물질, 즉 쉽게 산화가 되고 산화시에 전기화학적으로 안정한 상태를 가지는 유기물이 주로 사용되고 있다. 한편, 전자주입 물질이나 전자수송 물질로는 n-타입 성질을 가지는 유기 물질, 즉 쉽게 환원이 되고 환원시에 전기화학적으로 안정한 상태를 가지는 유기물이 주로 사용되고 있다. 발광층 물질로는 p-타입 성질과 n-타입 성질을 동시에 가진 물질, 즉 산화와 환원 상태에서 모두 안정한 형태를 갖는 물질이 바람직하며, 엑시톤이 형성되었을 때 이를 빛으로 전환하는 발광 효율이 높은 물질이 바람직하다.As a material used in an organic light emitting device, a pure organic material or a complex in which an organic material and a metal form a complex is mostly used. Depending on the application, a hole injecting material, a hole transporting material, a light emitting material, an electron transporting material, . As the hole injecting material and the hole transporting material, an organic material having a p-type property, that is, an organic material that is easily oxidized and electrochemically stable at the time of oxidation is mainly used. On the other hand, as an electron injecting material or an electron transporting material, an organic material having an n-type property, that is, an organic material that is easily reduced and electrochemically stable when being reduced is mainly used. As the light emitting layer material, a material having both a p-type property and an n-type property, that is, a material having both a stable form in oxidation and in a reduced state is preferable, and a material having a high luminous efficiency for converting an exciton into light desirable.

위에서 언급한 외에, 유기 발광 소자에서 사용되는 물질은 다음과 같은 성질을 추가적으로 갖는 것이 바람직하다. In addition to the above, it is preferable that the material used in the organic light emitting device further has the following properties.

저전압 구동 가능한 고효율의 유기 발광 소자를 얻기 위해서는 유기 발광 소자 내로 주입된 정공 또는 전자들이 원활하게 발광층으로 전달되는 동시에, 주입된 정공과 전자들이 발광층 밖으로 빠져나가지 않도록 하여야 한다. 이를 위해서 유기 발광 소자에 사용되는 물질은 적절한 밴드갭(band gap)과 HOMO 또는 LUMO 에너지 준위를 가져야 한다. 현재 전자수송층 물질로 주로 사용되는 Alq3는 충분히 높은 HOMO 에너지 준위를 갖지 못하여, HOMO 에너지 준위가 상대적으론 높은 BAlq층을 더 사용하여야 하기 때문에 공정 및 유기 발광 소자 제조에 어려움이 있다.In order to obtain a highly efficient organic light emitting device capable of driving at a low voltage, holes or electrons injected into the organic light emitting element must be smoothly transferred to the light emitting layer, and injected holes and electrons should not escape from the light emitting layer. For this purpose, the material used in the organic light emitting device should have an appropriate band gap and a HOMO or LUMO energy level. Alq3, which is mainly used as an electron transport layer material, does not have a sufficiently high HOMO energy level, and it is difficult to manufacture a process and an organic light emitting device because a BAlq layer having a relatively high HOMO energy level should be used.

이외에도 유기 발광 소자에서 사용되는 물질은 화학적 안정성, 전하이동도, 전극이나 인접한 층과의 계면 특성 등이 우수하여야 한다. 즉, 유기 발광소자에서 사용되는 물질은 수분이나 산소에 의한 물질의 변형이 적어야 한다. 또한, 적절한 정공 또는 전자 이동도를 가짐으로써 유기 발광 소자의 발광층에서 정공과 전자의 밀도가 균형을 이루도록 하여 엑시톤 형성을 극대화할 수 있어야 한다. 그리고, 소자의 안정성을 위해 금속 또는 금속 산화물을 포함한 전극과의 계면을 좋게 할 수 있어야 한다.In addition, materials used in organic light emitting devices should have excellent chemical stability, charge mobility, and interface characteristics with electrodes or adjacent layers. That is, the material used in the organic light emitting device should have little deformation of the material due to moisture or oxygen. In addition, by having appropriate hole or electron mobility, it is necessary to maximize the formation of excitons by balancing the density of holes and electrons in the light emitting layer of the organic light emitting device. And, for the stability of the device, the interface with the electrode including the metal or the metal oxide should be good.

따라서, 당 기술 분야에서는 상기와 같은 요건을 갖춘 유기물의 개발이 지속적으로 요구되고 있다.Accordingly, there is a continuing need in the art for the development of organic materials having the above-mentioned requirements.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 유기 발광 소자에서 사용 가능한 물질에 요구되는 조건, 예컨대 적절한 에너지 준위, 전기 화학적 안정성 및 열적 안정성 등을 만족시킬 수 있으며, 치환기에 따라 유기 발광 소자에서 요구되는 다양한 역할을 할 수 있는 화학 구조를 갖는 헤테로 화합물 유도체 및 이를 포함하는 유기 발광 소자를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and it is an object of the present invention to satisfy the conditions required for a material usable in an organic light emitting device, for example, appropriate energy level, electrochemical stability, And a hetero-compound derivative having a chemical structure capable of playing various roles required in an organic light-emitting device according to a substituent, and an organic light-emitting device including the same.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다.According to one aspect of the present invention, there is provided a compound represented by Formula 1 below.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112013116104113-pat00001
Figure 112013116104113-pat00001

상기 화학식 1에 있어서, R7과 R1, R1과 R2, R2와 R3, R3과 R4, R4와 R5, R5와 R6 및 R6과 R7 중 적어도 한 쌍 이상은 지방족 또는 헤테로의 축합 고리를 형성한다.Wherein at least one of R 7 and R 1 , R 1 and R 2 , R 2 and R 3 , R 3 and R 4 , R 4 and R 5 , R 5 and R 6, and R 6 and R 7 The paired anion forms an aliphatic or hetero condensation ring.

또한, R1 내지 R7 중 지방족 또는 헤테로 축합 고리를 형성하지 않는 것은 각각 독립적으로, 수소; 중수소; 할로겐기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C1 -50의 알킬기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C1 -40의 알콕시기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C2-50의 알케닐기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴아민기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기, 실란기, 치환 또는 비치환된 플루오레닐기, 치환 또는 비치환된 비스스피로플루오레닐기, 치환 또는 비치환된 카바졸릴기, 치환 또는 비치환된 게르마늄기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C6 -60의 아릴기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴아민기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환되고 이종원소로 O, N, S 또는 P를 갖는 C3 -60의 헤테로 고리기; 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환된 아민기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 비스스피로플루오레닐기; 할로겐기, 알킬기, 알케닐기, 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴아민기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 카바졸릴기; 니트릴기; 시아노기; 니트로기; 아미드기; 에스테르기; 실란기 및 게르마늄기로 이루어진 군에서 선택된다.Also, each of R 1 to R 7 , which does not form an aliphatic or heterocyclic ring, is independently selected from the group consisting of hydrogen; heavy hydrogen; A halogen group; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted aryl A C 1 -50 alkyl group substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of an alkyl group, an alkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a nitrile group and an acetylene group; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted aryl an alkoxy group an alkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a nitrile group, and a substituted or unsubstituted C 1 -40 with at least one substituent selected from the group consisting of an acetylene ring; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, A C 2-50 alkenyl group which is substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of a substituted heterocyclic group, a nitrile group and an acetylene group; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted arylamine group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted A substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a nitrile group, a silane group, a substituted or unsubstituted fluorenyl group, a substituted or unsubstituted bis (spirobifluorenyl) group, hwandoen carbazolyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted germanium group, and a substituted or unsubstituted C 6 -60 ring with one or more substituents selected from the group consisting of an acetylene ring; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted arylamine group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted N, S or P, which is unsubstituted or substituted by one or more substituents selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a nitrile group and an acetylene group, heterocyclic group having a C 3 -60; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, or a substituted or unsubstituted arylalkenyl group An amine group substituted with at least one substituent selected from the group; A halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted aryl A fluorenyl group which is substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of an alkyl group, an alkenyl group and an alkenyl group; A halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted aryl A bis (spirobifluorenyl) group substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of an alkyl group, an alkenyl group, and an alkenyl group; A halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, a substituted or unsubstituted arylamine group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, A carbazolyl group substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of a heterocyclic group, a nitrile group and an acetylene group; A nitrile group; Cyano; A nitro group; Amide group; An ester group; A silane group and a germanium group.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 측면은, 상기 화합물을 유기물층에 포함하는 유기전자소자를 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an organic electronic device including the compound in an organic material layer.

본 발명의 화합물은 유기 발광 소자에서 전자주입 물질, 전자수송 물질, 발광 물질, 정공주입 물질 및 정공수송 물질을 포함하는 화합물로 사용될 수 있으며, 이 화합물을 유기 발광 소자에 사용하는 경우 소자의 구동전압을 낮추고, 광효율을 향상시키며, 화합물의 열적 안정성에 의하여 소자의 수명 특성을 향상시킬 수 있다.The compound of the present invention can be used as an electron injecting material, an electron transporting material, a light emitting material, a hole injecting material and a hole transporting material in an organic light emitting device. When this compound is used for an organic light emitting device, The light efficiency is improved, and the lifetime characteristics of the device can be improved by the thermal stability of the compound.

도 1은 기판(1), 양극(2), 발광층(3), 음극(4)으로 이루어진 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다.
도 2는 기판(1), 양극(2), 정공주입층(5), 정공수송층(6), 발광층(7), 전자수송층(8) 및 음극(4)으로 이루어진 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다.
Fig. 1 shows an example of an organic light-emitting device comprising a substrate 1, an anode 2, a light-emitting layer 3 and a cathode 4. Fig.
2 shows an example of an organic light emitting element comprising a substrate 1, an anode 2, a hole injecting layer 5, a hole transporting layer 6, a light emitting layer 7, an electron transporting layer 8 and a cathode 4 It is.

이하 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 일 측면은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물에 관한 것이다.One aspect of the present invention relates to a compound represented by the above formula (1).

상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 2 및 화학식 3으로 표시되는 화합물을 포함하나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.The compounds represented by the formula (1) include compounds represented by the following formulas (2) and (3), but are not limited thereto.

[화학식 2] [화학식 3]       [Chemical Formula 2] < EMI ID =

Figure 112013116104113-pat00002
Figure 112013116104113-pat00002

상기 화학식 2 또는 화학식 3에 있어서, R8 내지 R31은 각각 독립적으로, 수소; 중수소; 할로겐기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C1 -50의 알킬기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C1 -40의 알콕시기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C2 -50의 알케닐기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴아민기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기, 실란기, 치환 또는 비치환된 플루오레닐기, 치환 또는 비치환된 비스스피로플루오레닐기, 치환 또는 비치환된 카바졸릴기, 치환 또는 비치환된 게르마늄기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C6 -60의 아릴기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴아민기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환되고 이종원소로 O, N, S 또는 P를 갖는 C3 -60의 헤테로 고리기; 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환된 아민기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 비스스피로플루오레닐기; 할로겐기, 알킬기, 알케닐기, 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴아민기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 카바졸릴기; 니트릴기; 시아노기; 니트로기; 아미드기; 에스테르기; 실란기 및 게르마늄기로 이루어진 군에서 선택되며, 여기서 이들은 서로 인접한 기와 지방족 또는 헤테로의 축합 고리를 형성할 수 있다.In Formula 2 or Formula 3, R 8 to R 31 are each independently hydrogen; heavy hydrogen; A halogen group; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted aryl A C 1 -50 alkyl group substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of an alkyl group, an alkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a nitrile group and an acetylene group; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted aryl an alkoxy group an alkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a nitrile group, and a substituted or unsubstituted C 1 -40 with at least one substituent selected from the group consisting of an acetylene ring; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, hwandoen heterocyclic group, an alkenyl group of a nitrile group and a substituted or unsubstituted C 2 -50 with one or more substituents selected from the group consisting of an acetylene; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted arylamine group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted A substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a nitrile group, a silane group, a substituted or unsubstituted fluorenyl group, a substituted or unsubstituted bis (spirobifluorenyl) group, hwandoen carbazolyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted germanium group, and a substituted or unsubstituted C 6 -60 ring with one or more substituents selected from the group consisting of an acetylene ring; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted arylamine group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted N, S or P, which is unsubstituted or substituted by one or more substituents selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a nitrile group and an acetylene group, heterocyclic group having a C 3 -60; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, or a substituted or unsubstituted arylalkenyl group An amine group substituted with at least one substituent selected from the group; A halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted aryl A fluorenyl group which is substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of an alkyl group, an alkenyl group and an alkenyl group; A halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted aryl A bis (spirobifluorenyl) group substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of an alkyl group, an alkenyl group, and an alkenyl group; A halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, a substituted or unsubstituted arylamine group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, A carbazolyl group substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of a heterocyclic group, a nitrile group and an acetylene group; A nitrile group; Cyano; A nitro group; Amide group; An ester group; A silane group and a germanium group, wherein they may form an aliphatic or hetero condensation ring with adjacent groups.

또한 본 발명은 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함하나, 이에 한정되는 것은 아니다.The present invention also includes, but is not limited to, compounds represented by the following general formula (4).

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure 112013116104113-pat00003
Figure 112013116104113-pat00003

상기 화학식 4 에 있어서, n 은 0 내지 5의 정수이고,In Formula 4, n is an integer of 0 to 5,

A1 및 A2는 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 상기 화학식 1에서 R1 내지 R7 중 하나가 연결기인 것으로 표시되는 치환기, 상기 화학식 2에서 R8 내지 R18 중 하나가 연결기인 것으로 표시되는 치환기, 및 상기 화학식 3에서 R19 내지 R31 중 하나가 연결기인 것으로 표시되는 치환기로 이루어진 군에서 선택되고, A 1 and A 2 are the same or different and are each independently a substituent represented by one of R 1 to R 7 in the above formula (1) as a linking group, and in formula (2), one of R 8 to R 18 is a linking group And a substituent represented by the formula (3) in which one of R 19 to R 31 is a linking group,

Y는 단순 결합; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C1 -50의 알킬렌기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C2 -50의 알케닐렌기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴아민기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C6 -60의 아릴렌기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴아민기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환되고 이종원소로 O, N, S 또는 P를 갖는 C3 -60의 2가 헤테로 고리기; 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기로 이루어진 군에서 선택된 치환기로 치환된 2가 아민기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 플루오레닐렌기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 비스스피로플루오레닐렌기; 할로겐기, 알킬기, 알케닐기, 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴아민기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 카바졸릴렌기, 실란기 및 게르마늄기로 이루어진 군에서 선택되며,Y is a simple bond; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted aryl alkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a nitrile group, and substituted by one or more substituents selected from the group consisting of an acetylene or unsubstituted alkylene group of C 1 -50; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, hwandoen heterocyclic group, a nitrile group, and a substituted or unsubstituted C 2 -50 with one or more substituents selected from the group consisting of an acetylene alkenylene group; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted arylamine group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted A C 6 -60 arylene group which is substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of an aryl group, an arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a nitrile group and an acetylene group; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted arylamine group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted N, S or P, which is unsubstituted or substituted by one or more substituents selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a nitrile group and an acetylene group, A divalent heterocyclic group of C 3 - 60 ; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, or a substituted or unsubstituted arylalkenyl group A divalent amine group substituted with a substituent selected from the group; A halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted aryl A fluorenylene group substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkenyl group; A halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted aryl A bis (spirobifluorenylene) group substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of an alkyl group, an alkenyl group and an alkenyl group; A halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, a substituted or unsubstituted arylamine group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, A silane group and a germanium group substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a nitrile group and an acetylene group,

n이 2 이상인 경우 Y는 각각 같거나 상이할 수 있다.When n is 2 or more, each Y may be the same or different.

또한 본 발명은 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 포함하나, 이에 한정되는 것은 아니다. The present invention also includes, but is not limited to, compounds represented by the following general formula (5).

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure 112013116104113-pat00004
Figure 112013116104113-pat00004

상기 화학식 5에 있어서, m 은 1 내지 5의 정수이고, In Formula 5, m is an integer of 1 to 5,

B1 내지 B3은 서로 같거나 상이하며, 각각 독립적으로 상기 화학식 1에서 R1 내지 R7 중 하나가 연결기인 것으로 표시되는 치환기, 상기 화학식 2에서 R8 내지 R18 중 하나가 연결기인 것으로 표시되는 치환기, 및 상기 화학식 3에서 R19 내지 R31 중 하나가 연결기인 것으로 표시되는 치환기로 이루어진 군에서 선택되고, X는 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C1 -50의 2가 또는 3가 알킬기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C2 -50의 2가 또는 3가 알케닐기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴아민기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C6 -60의 2가 또는 3가 아릴기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴아민기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환되고 이종원소로 O, N, S 또는 P를 갖는 C3 -60의 2가 또는 3가 헤테로 고리기; 아민기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 2가 또는 3가 플루오레닐기; 중수소, 할로겐기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 2가 또는 3가 비스스피로플루오레닐기; 할로겐기, 알킬기, 알케닐기, 알콕시기, 치환 또는 비치환된 아릴아민기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 치환 또는 비치환된 아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 아릴알케닐기, 치환 또는 비치환된 헤테로 고리기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 2가 또는 3가 카바졸기; 실란기 및 게르마늄기로 이루어진 군에서 선택되며, B 1 to B 3 are the same or different and each independently represents a substituent represented by one of R 1 to R 7 in the above formula (1) as a linking group, and one of R 8 to R 18 in the above formula And a substituent represented by the formula (3) in which one of R 19 to R 31 is a linking group, and X is selected from the group consisting of deuterium, a halogen group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group , A substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a nitrile group and an acetylene group A divalent or trivalent alkyl group of C 1 -50 substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, A divalent or trivalent alkenyl group of C 2 -50 substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of a substituted heterocyclic group, a nitrile group and an acetylene group; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted arylamine group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted A divalent or trivalent C 6 -60 substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of an alkyl group, an arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a nitrile group and an acetylene group, An aryl group; A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted arylamine group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted N, S or P, which is unsubstituted or substituted by one or more substituents selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a nitrile group and an acetylene group, A divalent or trivalent heterocyclic group having 3 to 60 carbon atoms ; An amine group; A halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted aryl A divalent or trivalent fluorenyl group substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of an alkyl group, an alkenyl group and an alkenyl group; A halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted heterocyclic group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted aryl A divalent or trivalent bis (spirobifluorenyl) group substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkenyl group; A halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, a substituted or unsubstituted arylamine group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group, a substituted or unsubstituted arylalkenyl group, A bivalent or trivalent carbazole group substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom, a heterocyclic group, a nitrile group and an acetylene group; A silane group and a germanium group,

n이 2 이상인 경우 Y는 각각 같거나 상이할 수 있다.When n is 2 or more, each Y may be the same or different.

상기 화학식 1 내지 5의 치환기를 상세히 설명하면 다음과 같다.The substituents of the above formulas 1 to 5 will be described in detail as follows.

상기 화학식 1 내지 5의 알킬기, 알킬렌기 및 알콕시기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1-50인 것이 바람직하고, 1-40인 것이 더욱 바람직하다.The number of carbon atoms of the alkyl group, alkylene group and alkoxy group in the above Chemical Formulas 1 to 5 is not particularly limited, but is preferably 1-50, and more preferably 1-40.

또한, 상기 화학식 1 내지 5의 알케닐기, 알케닐렌기, 아세틸기, 아세틸렌기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 2-50인 것이 바람직하고, 2-40인 것이 더욱 바람직하다.The number of carbon atoms of the alkenyl group, alkenylene group, acetyl group and acetylene group in the above Chemical Formulas 1 to 5 is not particularly limited, but is preferably 2-50, more preferably 2-40.

또한, 상기 화학식 1 내지 5의 아릴기, 아릴렌기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 6-60인 것이 바람직하고, 6-50인 것이 더욱 바람직하다.The number of carbon atoms of the aryl group and the arylene group in the general formulas (1) to (5) is not particularly limited, but is preferably 6-60, more preferably 6-50.

또한, 상기 화학식 1 내지 5의 헤테로 고리기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 3-60인 것이 바람직하고, 3-50인 것이 더욱 바람직하며, 이종원자로서 O, N, S 또는 P를 갖는 것이 바람직하다.The number of carbon atoms of the heterocyclic group of the above formulas (1) to (5) is not particularly limited, but is preferably 3-60, more preferably 3-50, and O, N, S or P as a heteroatom .

또한, 상기 화학식 1 내지 5의 아릴알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 7-50인 것이 바람직하고, 7-40인 것이 더욱 바람직하다.In addition, the number of carbon atoms of the arylalkyl group of the formulas (1) to (5) is not particularly limited, but is preferably 7-50, and more preferably 7-40.

또한, 상기 화학식 1 내지 5의 아릴알케닐기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 7-50인 것이 바람직하고, 7-40인 것이 더욱 바람직하다.In addition, the number of carbon atoms of the arylalkenyl group of the above general formulas (1) to (5) is not particularly limited, but is preferably 7-50, and more preferably 7-40.

또한, 상기 화학식 1 내지 5의 아릴아민기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 6-50인 것이 바람직하고, 6-40인 것이 더욱 바람직하다.In addition, the number of carbon atoms of the arylamine group of the above formulas (1) to (5) is not particularly limited, but is preferably 6-50, more preferably 6-40.

상기 화학식 1 내지 5에서 특별한 설명이 없는 경우, "치환 또는 비치환된"이라는 용어는 할로겐기, 알킬기, 알케닐기, 알콕시기, 아릴기, 아릴알킬기, 아릴알케닐기, 헤테로 고리기, 카바졸릴기, 플루오레닐기, 니트릴기 및 아세틸렌기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환되는 것이 바람직하나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.Unless otherwise specified in the above Chemical Formulas 1 to 5, the term "substituted or unsubstituted" means a group selected from the group consisting of halogen, alkyl, alkenyl, alkoxy, aryl, arylalkyl, arylalkenyl, heterocyclic, , A fluorenyl group, a nitrile group, and an acetylene group, but is not limited thereto.

화합물 중에 포함되어 있는 알킬기의 길이는 화합물의 공액 길이에는 영향을 미치지 않고, 다만 부수적으로 화합물의 유기 발광 소자에의 적용 방법, 예컨대 진공증착법 또는 용액도포법의 적용에 영향을 미칠 수 있다.The length of the alkyl group contained in the compound does not affect the conjugation length of the compound, but may additionally affect the application of the compound to an organic light emitting device, for example, a vacuum deposition method or a solution coating method.

상기 화학식 1 내지 5의 치환기를 더 상세히 설명하면 다음과 같다.The substituents of the above formulas (1) to (5) will be described in more detail as follows.

상기 화학식 1 내지 5에서, R1 내지 R31은 각각 독립적으로, 수소; 중수소; 할로겐; C1 -50의 알킬기; C1 -50의 알콕시기; C2 -50의 알케닐기; C2 -50의 아세틸기; C1 -40의 알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 -60의 아릴아민기, 치환 또는 비치환된 C6 -60의 아릴기, 치환 또는 비치환된 C7 -50의 아릴알킬기, 치환 또는 비치환되고 이종원자로 O, N, S 또는 P를 갖는 C3 -40의 헤테로 고리기, 니트릴기, 실란기, 치환 또는 비치환된 플루오레닐기, 치환 또는 비치환된 비스스피로플루오레닐기 및 치환 또는 비치환된 카바졸릴기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C6 -60의 아릴기; C6 -12의 아릴기 또는 이종원자로서 O, N, S 또는 P를 갖는 C3 -60의 헤테로 고리기로 치환 또는 비치환되고 이종원자로서 O, N, S 또는 P를 갖는 C3 -60의 헤테로 고리기; C7 -50의 아릴알킬기; C8 -50의 아릴알케닐기; C6 -50의 아릴아민기; C6 -12의 아릴기 또는 이종원자로서 O, N, S 또는 P를 갖는 C3 -60의 헤테로 고리기로 치환 또는 비치환된 카바졸릴기; C1 -40의 알킬기, C6 -12의 아릴기 또는 이종원자로서 O, N, S 또는 P를 갖는 C3 -60의 헤테로 고리기로 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 및 니트릴기로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.In the general formulas (1) to (5), R 1 to R 31 each independently represent hydrogen; heavy hydrogen; halogen; An alkyl group having 1 to 50 carbon atoms; A C 1 -50 alkoxy group; An alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms; An acetyl group of C 2 -50 ; Alkyl group of C 1 -40, substituted or unsubstituted C 6 -60 aryl amine group, a substituted or an aryl group, a substituted or unsubstituted C 6 -60 aryl group, a substituted or unsubstituted C 7 -50 the ring A heterocyclic group having 3 to 40 carbon atoms having O, N, S or P as a hetero atom, a nitrile group, a silane group, a substituted or unsubstituted fluorenyl group, a substituted or unsubstituted bis (spirobifluorenyl) An unsubstituted C 6 -C 60 aryl group substituted or unsubstituted with at least one substituent selected from the group consisting of unsubstituted carbazolyl groups; An aryl group or a heteroatom in the C 6 -12 O, N, S or a heterocyclic group of C 3 -60 having a P and unsubstituted or substituted with a C 3 -60 with O, N, S or P as heteroatoms A heterocyclic group; An arylalkyl group of C 7 -50 ; An arylalkenyl group having 8 to 50 carbon atoms; C 6 -50 arylamine groups; C 6 -12 aryl group or a heteroatom group O, N, S, or C 3 -60 a substituted or unsubstituted heterocyclic group having a carbazolyl of P; Alkyl group of C 1 -40, an aryl group or a heteroatom in the C 6 -12 O, N, S or P 3 -60 C a substituted or unsubstituted heterocyclic group of the fluorenyl group having; And a nitrile group.

또한 상기 화학식 1 내지 5에서, R1 내지 R31의 아릴기로서 바람직하게는, 페닐기, 비페닐기, 터페닐기, 스틸벤 등의 단환식 방향족 및 나프틸기, 안트라세닐기, 페나트렌기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 플루오렌기 등의 다환식 방향족환이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.In the above formulas (1) to (5), preferred examples of the aryl group as R 1 to R 31 include monocyclic aromatic and naphthyl groups such as phenyl group, biphenyl group, terphenyl group and stilbene group, anthracenyl group, phenanthrene group, A perylene group, a perylene group, a fluorene group, and the like, but is not limited thereto.

또한 상기 화학식 1 내지 5에서, R1 내지 R31의 헤테로 고리기로서 바람직하게는, 티오펜기, 퓨란기, 피롤기, 이미다졸기, 티아졸기, 옥사졸기, 옥사디아졸기, 트리아졸기, 피리딜기, 피라다진기, 퀴놀리닐기, 이소퀴톨린기, 아크리딜기 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.In the above formulas (1) to (5), the heterocyclic group represented by R 1 to R 31 is preferably a thiophene group, furan group, pyrrolyl group, imidazole group, thiazole group, oxazole group, oxadiazole group, triazole group, A furyl group, a furyl group, a quinolinyl group, an isoquitolyl group, an acridyl group, and the like, but are not limited thereto.

또한, 상기 화학식 1 내지 5에서, R1 내지 R31은 각각 독립적으로, 수소, 중수소, 메틸기, 에틸기, 페닐기, 비페닐기, 터페닐기, 스틸벤, 나프틸기, 안트라세닐기, 페나트렌기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 플루오렌기, 티오펜기, 퓨란기, 피롤기, 이미다졸기, 티아졸기, 옥사졸기, 옥사디아졸기, 트리아졸기, 피리딜기, 피라다진기, 퀴놀리닐기, 이소퀴톨린기, 아크리딜기, 메톡시기, 에톡시시, 카바졸릴기 및 하기 치환기로 이루어진 군에서 선택될 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니다.R 1 to R 31 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, deuterium, methyl, ethyl, phenyl, biphenyl, terphenyl, stilbene, naphthyl, anthracenyl, phenanthrene, A thiophene group, a furan group, a pyrrolyl group, an imidazole group, a thiazole group, an oxazole group, an oxadiazole group, a triazole group, a pyridyl group, a pyrazinyl group, a quinolinyl group, an iso An acridinyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a carbazolyl group, and the following substituent groups, but is not limited thereto.

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또한, 상기 화학식 1 내지 5로 표시되는 화합물은 하기 구조식 1 내지 구조식 82 중 어느 하나로 표시되는 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.The compounds represented by the formulas (1) to (5) are preferably represented by one of the following formulas (1) to (82), but the present invention is not limited thereto.

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상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 일반적인 제조방법은 다음과 같다.The general method for preparing the compound represented by the formula (1) is as follows.

치환 또는 비치환된 2'-요오도아세토페논과 치환 또는 비치환된 페닐하이드라진으로 이민을 형성시킨 후, 고리화 반응을 통하여 요오드가 치환된 인돌 유도체를 합성한다. 스즈끼 반응을 통하여 아세틸렌이 포함된 치환체를 도입하고 고리화 반응을 반복하여 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 합성할 수 있다.Substituted or unsubstituted 2'-iodoacetophenone and substituted or unsubstituted phenylhydrazine to form an imine, and then an iodine-substituted indole derivative is synthesized through a cyclization reaction. The substituent containing acetylene may be introduced through Suzuki reaction and the cyclization reaction may be repeated to synthesize the compound represented by Formula 1 above.

본 기술분야에서 통상의 지식을 가진 기술자라면 상기 일반적인 제조방법과 본 명세서의 실시예를 참고하여 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 용이하게 제조할 수 있다.Those skilled in the art will readily prepare the compound represented by Formula 1 with reference to the above general production method and the examples of the present specification.

본 발명의 두 번째 측면은 제 1 전극, 제 2 전극, 및 상기 제 1 전극과 제 2 전극 사이에 배치된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기전기소자로서, 상기 유기물층 중 1층 이상은 상기 화학식 1 내지 5로 표시되는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 전기 소자에 관한 것이다.A second aspect of the present invention is an organic electronic device comprising a first electrode, a second electrode, and at least one organic material layer disposed between the first electrode and the second electrode, To 5 < RTI ID = 0.0 >. ≪ / RTI >

상기 화학식 1 내지 5의 화합물들은 유기 발광 소자의 제조시 진공 증착법 뿐만 아니라 용액 도포법에 의하여 유기물층으로 형성될 수 있다. 여기서, 용액 도포법이라 함은 스핀코팅, 딥코팅, 잉크젯프린팅, 스크린 프린팅, 스프레이법, 롤 코팅 등을 의미하지만, 이들만으로 한정되는 것은 아니다. The compounds of formulas (1) to (5) may be formed into an organic material layer by a solution coating method as well as a vacuum evaporation method in the production of an organic light emitting device. Here, the solution coating method refers to spin coating, dip coating, inkjet printing, screen printing, spraying, roll coating, and the like, but is not limited thereto.

본 발명의 유기 전기 소자는 유기물층 중 1층 이상이 본 발명의 화합물, 즉 상기 화학식 1 내지 5의 화합물들을 포함하는 것을 제외하고는 당 기술분야에 알려져 있는 재료와 방법으로 제조될 수 있다. The organic electroluminescent device of the present invention can be manufactured by materials and methods known in the art, except that one or more of the organic layers includes the compound of the present invention, i.e., the compounds of the above formulas 1 to 5.

본 발명의 유기 전기 소자의 유기물층은 단층 구조로 이루어질 수도 있으나, 2층 이상의 유기물층이 적층된 다층 구조로 이루어질 수 있다.The organic material layer of the organic electroluminescent device of the present invention may have a single layer structure, but may have a multilayer structure in which two or more organic material layers are stacked.

즉, 상기 유기 전기 소자에서, 상기 유기물층은 전자주입층 및 전자수송층을 포함하고, 이 전자주입층 및 전자수송층이 상기 화학식 1 내지 5로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다.That is, in the organic electric device, the organic material layer includes an electron injection layer and an electron transport layer, and the electron injection layer and the electron transport layer may include the compounds represented by the above Chemical Formulas 1 to 5.

또한, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 이 발광층이 상기 화학식 1 내지 5로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다. In addition, the organic layer may include a light emitting layer, and the light emitting layer may include the compounds represented by the general formulas (1) to (5).

또한, 상기 유기물층은 정공주입층 및 정공수송층을 포함하고, 이 정공주입층 및 정공수송층이 상기 화학식 1 내지 5로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다.The organic material layer may include a hole injection layer and a hole transport layer, and the hole injection layer and the hole transport layer may include the compounds represented by the above general formulas (1) to (5).

예컨대, 본 발명의 유기 전기 소자는 유기물층으로서 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층 등을 포함하는 구조를 가질 수 있다. 그러나, 유기 전기 소자의 구조는 이에 한정되지 않고 더 적은 수의 유기물층을 포함할 수 있다.For example, the organic electroluminescent device of the present invention may have a structure including a hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, an electron transporting layer, and an electron injecting layer as an organic material layer. However, the structure of the organic electric device is not limited thereto and may include a smaller number of organic layers.

또한, 상기 유기 전기 소자는 유기발광소자, 유기인광소자, 유기태양전지, 유기감광체(OPC) 및 유기트랜지스터로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.The organic electroluminescent device may be selected from the group consisting of an organic light emitting device, an organic phosphorescent device, an organic solar cell, an organic photoconductor (OPC), and an organic transistor.

또한, 상기 유기 전기 소자에서 상기 유기물층은 전자수송층을 포함하고, 이 전자수송층이 상기 화학식 1 내지 5로 표시되는 화합물, 또는 이 화합물에 열 경화성 또는 광경화성 작용기가 도입된 화합물을 포함할 수 있다. In the organic electroluminescent device, the organic material layer may include an electron transporting layer, and the electron transporting layer may include a compound represented by the above Chemical Formulas 1 to 5, or a compound into which a thermosetting or photo-curable functional group is introduced.

또한, 상기 유기 전기 소자에서 상기 발광층이 상기 화학식 1 내지 5로 표시되는 화합물, 또는 이 화합물에 열 경화성 또는 광경화성 작용기가 도입된 화합물을 포함할 수 있다.In the organic electroluminescent device, the light emitting layer may include a compound represented by the general formulas (1) to (5), or a compound into which a thermosetting or photo-curable functional group is introduced.

본 발명의 유기 전기 소자는 예컨대 기판 상에 제1 전극, 유기물층 및 제2 전극을 순차적으로 적층시킴으로써 제조할 수 있다. 이때 스퍼터링법(sputtering)이나 전자빔 증발법(e-beam evaporation)과 같은 PVD(Physical Vapor Deposition) 방법 등을 이용할 수 있으나, 이들 방법에만 한정되는 것은 아니다. The organic electroluminescent device of the present invention can be manufactured, for example, by sequentially laminating a first electrode, an organic material layer and a second electrode on a substrate. In this case, a PVD (Physical Vapor Deposition) method such as sputtering or e-beam evaporation may be used, but the present invention is not limited to these methods.

상기 화학식 1 내지 5의 화합물들의 제조 방법 및 이들을 이용한 유기 발광 소자의 제조는 이하의 제조예 및 실시예에서 구체적으로 설명한다. 그러나, 하기 제조예 및 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명의 범위가 이들에 의하여 한정되는 것은 아니다.The preparation of the compounds of the formulas (1) to (5) and the preparation of the organic light emitting device using them will be described in detail in the following Preparation Examples and Examples. However, the following Preparation Examples and Examples are for illustrating the present invention, and the scope of the present invention is not limited thereto.

실시예Example

<제조예 1> 구조식 3으로 표시되는 화합물의 제조PREPARATION EXAMPLE 1 Preparation of the compound represented by formula 3

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구조식 3A의 제조Preparation of Structural Formula 3A

2'-요오도아세토페논(20 mL, 140.0 mmol)과 페닐하이드라진(16.6g, 153.8 mmol)을 에탄올(150 mL)과 빙초산(50 mL)에 넣고 5시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮춘 후 생성된 고체를 여과하고 에탄올(50 mL)로 세척한 후 진공 건조시켜 구조식 3A(41 g, 수율 87 %)를 얻었다. 2'-iodoacetophenone (20 mL, 140.0 mmol) and phenylhydrazine (16.6 g, 153.8 mmol) were added to ethanol (150 mL) and glacial acetic acid (50 mL), and the mixture was heated with stirring for 5 hours. The resulting solid was filtered, washed with ethanol (50 mL), and vacuum dried to obtain the structural formula 3A (41 g, yield 87%).

MS: [M+H]+ = 337MS: [M + H] &lt; + &gt; = 337

구조식 3B의 제조Preparation of formula 3B

메탄설폰산(500 mL)에 오산화인(36.4 g, 256.1 mmol)을 넣고 80℃에서 오산화인이 완전히 녹을 때까지 교반하였다. 구조식 3A(41 g, 121.9 mmol)를 천천히 첨가한 후 90℃에서 3시간 동안 교반하고, 상온으로 온도를 내렸다. 반응액을 0℃의 수산화나트륨 수용액에 넣고 10분간 교반한 후 생성된 고체를 여과하였다. 증류수로 세척한 후 진공 건조하여 구조식 3B(31.4 g. 수율 80 %)를 얻었다.Phosphorous pentoxide (36.4 g, 256.1 mmol) was added to methanesulfonic acid (500 mL), and the mixture was stirred at 80 째 C until phosphorus pentoxide completely dissolved. The structural formula 3A (41 g, 121.9 mmol) was slowly added, stirred at 90 ° C for 3 hours, and cooled to room temperature. The reaction solution was added to an aqueous sodium hydroxide solution at 0 ° C and stirred for 10 minutes, and the resulting solid was filtered. Washed with distilled water and dried in vacuo to give structural formula 3B (31.4 g, 80% yield).

MS: [M+H]+ = 320MS: [M + H] &lt; + &gt; = 320

구조식 3C의 제조Preparation of Structural Formula 3C

구조식 3B(30 g, 94.0 mmol), 트리메틸실릴아세틸렌(20 mL, 140.1 mmol), PdCl2(PPh3)2(3.3 g, 4.7 mmol), 요오드화구리(I)(895 mg, 4.7 mmol)를 트리에틸아민(250 mL)에 넣고, 3시간 동안 상온에서 교반하였다. 에틸에티르로 반응액을 묽히고, 염화암모늄 수용액으로 반응을 종료시킨 후, 물층을 제거하였다. 유기층을 농축시킨 후, n-헥산으로 재결정하여 구조식 3C(17.8 g, 수율 65 %)를 얻었다.PdCl 2 (PPh 3 ) 2 (3.3 g, 4.7 mmol) and copper (I) iodide (895 mg, 4.7 mmol) were dissolved in a mixture of triethylsilyl acetylene (20 mL, 140.1 mmol) Was added to ethylamine (250 mL), and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The reaction solution was diluted with ethyl acetate, the reaction was terminated with an aqueous ammonium chloride solution, and the water layer was removed. The organic layer was concentrated, and then recrystallized with n-hexane to obtain the structural formula 3C (17.8 g, yield 65%).

MS: [M+H]+ = 290MS: [M + H] &lt; + &gt; = 290

구조식 3D의 제조Manufacture of structural formula 3D

구조식 3C(17.8 g, 61.5 mmol)를 메탄올에 녹인 후, 탄산칼륨 과량을 첨가하고, 3시간 동안 상온에서 교반하였다. 반응액을 에틸에테르로 추출하고 유기층을 모은 후 물로 씻어주었다. 물층을 폐기하고 유기층은 농축한 후, n-헥산으로 재결정하여 구조식 3D(13.2 g, 수율 99 %)를 얻었다.The structural formula 3C (17.8 g, 61.5 mmol) was dissolved in methanol, followed by the addition of an excessive amount of potassium carbonate, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The reaction solution was extracted with ethyl ether, and the organic layer was collected and washed with water. The water layer was discarded and the organic layer was concentrated and recrystallized with n-hexane to obtain structural formula 3D (13.2 g, yield 99%).

MS: [M+H]+ = 218MS: [M + H] &lt; + &gt; = 218

구조식 3E의 제조Preparation of formula 3E

구조식 3D(13 g, 60.8 mmol)와 염화백금(PtCl2)(809 mg, 3.0 mmol)을 톨루엔(150 mL)에 넣고 24시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고, 반응액의 용매를 농축시킨 후 컬럼 정제를 통하여 3E(5.1 g, 수율 39 %)를 얻었다.The structural formula 3D (13 g, 60.8 mmol) and platinum chloride (PtCl 2 ) (809 mg, 3.0 mmol) were added to toluene (150 mL) and the mixture was heated and stirred for 24 hours. The temperature was lowered to room temperature, the solvent of the reaction mixture was concentrated, and 3E (5.1 g, yield 39%) was obtained through column purification.

MS: [M+H]+ = 218MS: [M + H] &lt; + &gt; = 218

구조식 3F의 제조Preparation of Structural Formula 3F

구조식 3E(5 g, 23.0 mmol)를 클로로포름(250 mL)에 완전히 녹인 후, 0℃로 온도를 낮추고 브롬(1.2 mL, 23.0 mmol)을 천천히 첨가하였다. 20분간 교반한 후 얼음물에 반응액을 천천히 붇고, 5분간 교반한 후 생성된 고체를 여과한 후 컬럼 정제를 통하여 구조식 3F(5.1 g, 수율 75 %)를 얻었다.The structure 3E (5 g, 23.0 mmol) was completely dissolved in chloroform (250 mL), and the temperature was lowered to 0 째 C and bromine (1.2 mL, 23.0 mmol) was slowly added. After stirring for 20 minutes, the reaction solution was slowly poured into ice water and stirred for 5 minutes. The resulting solid was filtered and purified by column chromatography to obtain the structural formula 3F (5.1 g, yield 75%).

MS: [M+]+ = 296MS: [M +] &lt; + & gt ; = 296

구조식 3G의 제조 Manufacture of structural formula 3G

구조식 3F(5 g, 16.9 mmol)와 4-클로로페닐보론산(3.2 g, 20.3 mmol)을 테트라하이드로퓨란(100 ml)에 가열하여 완전히 녹인 후, 2 M 탄산칼륨 수용액 100 ml를 첨가하고 Pd(PPh3)4(195 mg, 1.7 x 10-1 mmol)을 넣고 5 시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮춘 후 물층을 제거하고 생성된 고체를 여과하였다. 여과된 고체를 에탄올로 재결정하여 구조식 3G(4.7 g, 수율 85 %)를 얻었다.4-Chlorophenylboronic acid (3.2 g, 20.3 mmol) was heated in tetrahydrofuran (100 ml) to completely dissolve it. Then, 2 ml of an aqueous potassium carbonate solution (100 ml) was added, and Pd PPh 3) 4 (put 195 mg, 1.7 x 10 -1 mmol ) was stirred under heating for 5 hours. After lowering the temperature to room temperature, the water layer was removed and the resulting solid was filtered. The filtered solid was recrystallized from ethanol to give structural formula 3G (4.7 g, 85% yield).

MS: [M+H]+ = 328MS: [M + H] &lt; + &gt; = 328

구조식 3H의 제조 Preparation of the formula 3H

카바졸(10 g, 119.6 mmol)과 4-브로모요오도벤젠(37.2 g, 131.6 mmol), 탄산칼륨(24.5 g, 179.4 mmol)을 톨루엔(500 mL)에 넣고, 30분간 가열 교반하였다. 요오드화구리(I)(1.1 g, 6 mmol)와 N,N'-디메틸에틸렌디아민(1.3 mL, 12.0 mmol)을 넣고, 24시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고, 셀리트 패드에 반응액을 여과하고 농축시킨 후, 에탄올로 재결정하여 구조식 3H(31.1 g, 수율 81 %)를 얻었다.Carbazole (10 g, 119.6 mmol), 4-bromoiodobenzene (37.2 g, 131.6 mmol) and potassium carbonate (24.5 g, 179.4 mmol) were placed in toluene (500 mL) and the mixture was heated with stirring for 30 minutes. Copper (I) iodide (1.1 g, 6 mmol) and N, N'-dimethylethylenediamine (1.3 mL, 12.0 mmol) were added and the mixture was heated and stirred for 24 hours. The temperature was lowered to room temperature, and the reaction solution was filtered and concentrated on a celite pad, and then recrystallized with ethanol to obtain a structural formula 3H (31.1 g, yield 81%).

MS: [M+]+ = 322MS: [M &lt; + &gt;] + = 322

구조식 3I의 제조 Preparation of formula III

구조식 3H(20 g, 62.1 mmol), 비스(피나콜라토)디보론(17.3 g, 68.3 mmol), 포타슘아세테이트(18.3 g, 286.3 mmol)를 디옥산(300 mL)에 녹인 후, 50 ℃로 온도를 올리고, Pd(dppf)Cl2(507 mg, 0.6 mmol)를 첨가한 후 12시간 동안 가열 교반하였다. 반응 용액을 실온으로 냉각시킨 후, 증류수(200 mL)를 가하고 메틸렌 클로라이드(200 mL×3)로 추출하였다. 유기층을 농축시키고 에탄올로 재결정하여 구조식 3I(18.4 g, 80%)를 얻었다.Dissolving the compound of formula 3H (20 g, 62.1 mmol), bis (pinacolato) diboron (17.3 g, 68.3 mmol) and potassium acetate (18.3 g, 286.3 mmol) in dioxane C, Pd (dppf) Cl 2 (507 mg, 0.6 mmol) was added, and the mixture was heated and stirred for 12 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, distilled water (200 mL) was added and extracted with methylene chloride (200 mL x 3). The organic layer was concentrated and recrystallized from ethanol to give structural formula 3I (18.4 g, 80%).

MS: [M+H]+ = 370MS: [M + H] &lt; + &gt; = 370

구조식 3의 제조 Preparation of Structural Formula 3

구조식 3G(4 g, 12.2 mmol)와 구조식 3I(5.0 g, 13.4 mmol)를 테트라하이드로퓨란(100 ml)에 가열하여 완전히 녹인 후, 2 M 탄산칼륨 수용액 100 ml를 첨가하고 Pd(PPh3)4(141 mg, 1.2 x 10-1 mmol)을 넣고 5 시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮춘 후 물층을 제거하고 생성된 고체를 여과하였다. 여과된 고체를 에틸아세테이트로 재결정하여 구조식 3(4.7 g, 수율 72 %)을 얻었다.Structure 3G (4 g, 12.2 mmol), and Structural Formula 3I (5.0 g, 13.4 mmol) the tetrahydrofuran was completely dissolved by heating on (100 ml), 2 M was added to 100 ml aqueous solution of potassium carbonate and Pd (PPh 3) 4 (141 mg, 1.2 x 10 -1 mmol) were added thereto, and the mixture was heated with stirring for 5 hours. After lowering the temperature to room temperature, the water layer was removed and the resulting solid was filtered. The filtered solid was recrystallized from ethyl acetate to give structural formula 3 (4.7 g, yield 72%).

MS: [M+H]+ = 535MS: [M + H] &lt; + &gt; = 535

<제조예 2> 구조식 5로 표시되는 화합물의 제조PREPARATION EXAMPLE 2 Preparation of Compound Represented by Structural Formula 5

Figure 112013116104113-pat00038
Figure 112013116104113-pat00038

구조식 5A의 제조Preparation of formula 5A

2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진(15 g, 81.3 mmol)을 무수 테트라하이드로퓨란(150 mL)에 녹인 후, -78℃로 온도를 낮추고 1 M 페닐 마그네슘 브로미드(162.6 mL, 162.6 mmol)를 천천히 첨가한 후 상온으로 온도를 서서히 올리면서 3 시간 동안 교반하였다. 1 N 염산 수용액(100 mL)를 첨가한 후 물층을 제거하고 유기층을 농축시킨 후, n-헥산으로 재결정하여 구조식 5A(16.9 g, 수율 78 %)를 얻었다.2,4,6-Trichloro-1,3,5-triazine (15 g, 81.3 mmol) was dissolved in anhydrous tetrahydrofuran (150 mL), the temperature was lowered to -78 ° C and 1 M phenylmagnesium bromide (162.6 mL, 162.6 mmol) was added slowly, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours while slowly warming to room temperature. After adding a 1 N aqueous hydrochloric acid solution (100 mL), the water layer was removed, and the organic layer was concentrated, and then recrystallized with n-hexane to obtain the structural formula 5A (16.9 g, yield 78%).

MS: [M+H]+ = 268MS: [M + H] &lt; + &gt; = 268

구조식 5B의 제조 Preparation of formula 5B

구조식 5A(10 g, 37.4 mmol)와 4-수산화페닐보론산 피나콜에테르(9.9 g, 44.8 mmol)를 테트라하이드로퓨란(150 ml)에 가열하여 완전히 녹인 후, 2 M 탄산칼륨 수용액 150 ml를 첨가하고 Pd(PPh3)4(432 mg, 3.7 x 10-1 mmol)을 넣고 5 시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮춘 후 물층을 제거하고 유기층을 농축시킨 후, n-헥산으로 재결정하여 구조식 5B(9.6 g, 수율 79 %)를 얻었다(10 g, 37.4 mmol) and 4-hydroxyphenylboronic acid pinacol ether (9.9 g, 44.8 mmol) were dissolved in tetrahydrofuran (150 ml) to completely dissolve it. Then, 150 ml of 2M potassium carbonate aqueous solution was added And Pd (PPh 3 ) 4 (432 mg, 3.7 x 10 -1 mmol) was added thereto, followed by heating and stirring for 5 hours. After the temperature was lowered to room temperature, the water layer was removed, and the organic layer was concentrated, and then recrystallized with n-hexane to obtain the structural formula 5B (9.6 g, yield 79%)

MS: [M+H]+ = 326MS: [M + H] &lt; + &gt; = 326

구조식 5C의 제조Preparation of formula 5C

구조식 5B(9.6 g, 29.5 mmol)를 무수디클로로메탄(100 mL)에 녹인 후, 0℃로 온도를 낮추고 트리에틸아민(6.1 mL, 43.6 mmol)을 첨가한 후 30분간 교반하였다. 트리플루오로메탄술폰산 무수물(7.3 mL, 43.6 mmol)을 천천히 첨가한 후 상온으로 온도를 올리고 1시간 동안 교반하였다. 0℃로 온도를 낮추고, 탄산수소나트륨 수용액(100 mL)을 천천히 첨가한 후 디클로로메탄으로 추출하고 물층은 제거하였다. 유기층을 농축시킨 후 n-헥산으로 재결정하여 구조식 5C(11.9 g. 수율 88 %)를 얻었다.The structure 5B (9.6 g, 29.5 mmol) was dissolved in anhydrous dichloromethane (100 mL), the temperature was lowered to 0 캜, triethylamine (6.1 mL, 43.6 mmol) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. Trifluoromethanesulfonic anhydride (7.3 mL, 43.6 mmol) was added slowly and the temperature was raised to room temperature and stirred for 1 hour. The temperature was lowered to 0 占 폚, aqueous sodium hydrogencarbonate solution (100 mL) was added slowly, and the mixture was extracted with dichloromethane, and the aqueous layer was removed. The organic layer was concentrated and then recrystallized with n-hexane to obtain the structural formula 5C (11.9 g, yield 88%).

MS: [M+H]+ = 458MS: [M + H] &lt; + &gt; = 458

구조식 5D의 제조 Preparation of formula 5D

구조식 3H 대신 구조식 3G를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3I의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 5D를 얻었다.Structural formula 5D was obtained in the same manner as the production method of structural formula 3I, except that structural formula 3G was used instead of structural formula 3H.

MS: [M+H]+ = 420MS: [M + H] &lt; + &gt; = 420

구조식 5의 제조 Preparation of formula 5

구조식 3G 대신 구조식 5C, 구조식 3I 대신 구조식 5D를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 5를 얻었다.Structural formula 5 was obtained in the same manner as the production method of structural formula 3, except that structural formula 5C was used instead of structural formula 3G and structure 5D was used in place of structural formula 3I.

MS: [M+H]+ = 601MS: [M + H] &lt; + &gt; = 601

<제조예 3> 구조식 8로 표시되는 화합물의 제조PREPARATION EXAMPLE 3 Preparation of Compound Represented by Structural Formula 8

Figure 112013116104113-pat00039
Figure 112013116104113-pat00039

구조식 8A의 제조 Preparation of formula 8A

브로모벤즈알데하이드(20 g, 108.1 mmol)와 N-페닐-1,2-페닐렌디아민(19.9 g, 108.1 mmol)을 톨루엔(150 mL)에 넣고 2시간 동안 가열 교반하였다. 톨루엔 100 mL를 증류하여 제거한 후 디메틸아세트아미드(150 mL)를 넣고, 남은 톨루엔을 증류하여 제거하였다. 반응액을 12시간 동안 가열 교반한 후 상온으로 온도를 내렸다. 반응액을 농축시킨 후 에탄올로 재결정하여 구조식 8A(31 g, 수율 82 %)를 얻었다.Phenylbenzaldehyde (20 g, 108.1 mmol) and N-phenyl-1,2-phenylenediamine (19.9 g, 108.1 mmol) were added to toluene (150 mL) and the mixture was heated with stirring for 2 hours. 100 mL of toluene was distilled off, and then dimethylacetamide (150 mL) was added thereto, and the remaining toluene was distilled off. The reaction solution was heated and stirred for 12 hours, and then cooled to room temperature. The reaction solution was concentrated and then recrystallized with ethanol to obtain the structural formula 8A (31 g, yield 82%).

MS: [M+]+ = 349MS: [M +] &lt; + & gt ; = 349

구조식 8의 제조 Preparation of Structural Formula 8

구조식 3G 대신 구조식 8A, 구조식 3I 대신 구조식 5D를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 8을 얻었다.A structural formula 8 was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3, except that the structural formula 8A was used instead of the structural formula 3G and the structural formula 5D was used in place of the structural formula 3I.

MS: [M+H]+ = 562MS: [M + H] &lt; + &gt; = 562

<제조예 4> 구조식 22로 표시되는 화합물의 제조PREPARATION EXAMPLE 4 Preparation of the compound represented by the structural formula 22

Figure 112013116104113-pat00040
Figure 112013116104113-pat00040

Figure 112013116104113-pat00041
Figure 112013116104113-pat00041

구조식 22A의 제조Preparation of formula 22A

브로모벤즈알데하이드 대신 벤즈알데하이드, N-페닐-1,2-페닐렌디아민 대신 N-(4-클로로페닐)-1,2-페닐렌디아민을 사용한 것을 제외하고, 구조식 8A의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 22A를 얻었다.(4-chlorophenyl) -1,2-phenylenediamine instead of benzaldehyde and N-phenyl-1,2-phenylenediamine in place of bromobenzaldehyde, the same method as the preparation method of the structural formula 8A To give the structural formula 22A.

MS: [M+H]+ = 305MS: [M + H] &lt; + &gt; = 305

구조식 22B의 제조Preparation of formula 22B

구조식 3H 대신 구조식 22A를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3I의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 22B를 얻었다.The structural formula 22B was obtained in the same manner as the production method of the structural formula 3I, except that the structural formula 22A was used instead of the structural formula 3H.

MS: [M+H]+ = 397MS: [M + H] &lt; + &gt; = 397

구조식 22C의 제조Preparation of formula 22C

페닐하이드라진 대신 4-브로모페닐하이드라진을 사용한 것을 제외하고, 구조식 3A의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 22C를 얻었다. The structural formula 22C was obtained in the same manner as the preparation method of the structural formula 3A, except that 4-bromophenylhydrazine was used instead of phenylhydrazine.

MS: [M+]+ = 415MS: [M &lt; + &gt;] + = 415

구조식 22D의 제조Preparation of formula 22D

구조식 3A 대신 구조식 22C를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3B의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 22D를 얻었다.The structural formula 22D was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3B, except that the structural formula 22C was used instead of the structural formula 3A.

MS: [M+]+ = 398MS: [M +] &lt; + & gt ; = 398

구조식 22E의 제조Preparation of formula 22E

구조식 3B 대신 구조식 22D를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3C의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 22E를 얻었다.The structural formula 22E was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3C, except that the structural formula 22D was used instead of the structural formula 3B.

MS: [M+]+ = 368MS: [M +] &lt; + & gt ; = 368

구조식 22F의 제조Preparation of formula 22F

구조식 3C 대신 구조식 22E를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3D의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 22F를 얻었다.A structural formula 22F was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3D, except that the structural formula 22E was used instead of the structural formula 3C.

MS: [M+]+ = 296MS: [M +] &lt; + & gt ; = 296

구조식 22G의 제조Preparation of formula 22G

구조식 3D 대신 구조식 22F를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3E의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 22G를 얻었다.A structural formula 22G was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3E, except that the structural formula 22F was used in place of the structural formula 3D.

MS: [M+]+ = 296MS: [M +] &lt; + & gt ; = 296

구조식 22H의 제조 Preparation of formula 22H

구조식 3F 대신 구조식 22G를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3G의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 22H를 얻었다.The structural formula 22H was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3G, except that the structural formula 22G was used instead of the structural formula 3F.

MS: [M+H]+ = 328MS: [M + H] &lt; + &gt; = 328

구조식 22I의 제조Preparation of formula 22I

구조식 3E 대신 구조식 22H를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3F의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 22I를 얻었다.The structural formula 22I was obtained in the same manner as the production method of the structural formula 3F, except that the structural formula 22H was used instead of the structural formula 3E.

MS: [M+]+ = 406MS: [M +] &lt; + & gt ; = 406

구조식 22J의 제조 Preparation of formula 22J

구조식 3F 대신 구조식 22I, 4-클로로페닐보론산 대신 페닐보론산을 사용한 것을 제외하고, 구조식 3G의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 22J를 얻었다.Structural formula 22J was obtained in the same manner as in the production method of structural formula 3G, except that phenylboronic acid was used instead of 4-chlorophenylboronic acid in the structural formula 22I instead of the structural formula 3F.

MS: [M+H]+ = 404MS: [M + H] &lt; + &gt; = 404

구조식 22의 제조Preparation of Formula 22

구조식 3G 대신 구조식 22J, 구조식 3I 대신 구조식 22B를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 22를 얻었다.The structural formula 22 was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3, except that the structural formula 22J was used instead of the structural formula 3G, and the structural formula 22B was used in place of the structural formula 3I.

MS: [M+H]+ = 638MS: [M + H] &lt; + &gt; = 638

<제조예 5> 구조식 27로 표시되는 화합물의 제조PREPARATION EXAMPLE 5 Preparation of the compound represented by the structural formula 27

Figure 112013116104113-pat00042
Figure 112013116104113-pat00042

구조식 27A의 제조Preparation of Structural Formula 27A

카바졸 대신 이페닐아민, 4-브로모요오도벤젠 대신 4-요오도페놀을 사용한 것을 제외하고, 구조식 3H의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 27A를 얻었다.The structural formula 27A was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3H, except that 4-iodophenol was used instead of phenylamine and 4-bromoiodobenzene in place of the carbazole.

MS: [M+]+ = 262MS: [M +] &lt; + & gt ; = 262

구조식 27B의 제조Preparation of formula 27B

구조식 5B 대신 구조식 27A를 사용한 것을 제외하고, 구조식 5C의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 27B를 얻었다.The structural formula 27B was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 5C, except that the structural formula 27A was used instead of the structural formula 5B.

MS: [M+H]+ = 394MS: [M + H] &lt; + &gt; = 394

구조식 27C의 제조 Preparation of formula 27C

구조식 3H 대신 구조식 27B를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3I의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 27C를 얻었다.A structural formula 27C was obtained in the same manner as in the production of the structural formula 3I, except that the structural formula 27B was used instead of the structural formula 3H.

MS: [M+]+ = 372MS: [M +] &lt; + & gt ; = 372

구조식 27D의 제조 Preparation of formula 27D

구조식 3F 대신 구조식 22I, 4-클로로페닐보론산 대신 2-나프탈렌보론산을 사용한 것을 제외하고, 구조식 3G의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 27D를 얻었다.The structural formula 27D was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3G, except that 2-naphthalene boronic acid was used instead of the structural formula 22I and 4-chlorophenylboronic acid instead of the structural formula 3F.

MS: [M+H]+ = 454MS: [M + H] &lt; + &gt; = 454

구조식 27의 제조 Preparation of Structural Formula 27

구조식 3G 대신 구조식 27D, 구조식 3I 대신 구조식 27C를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 27을 얻었다.The structural formula 27 was obtained in the same manner as in the structural formula 3, except that the structural formula 27D was used instead of the structural formula 3G, and the structural formula 27C was used in place of the structural formula 3I.

MS: [M+H]+ = 663MS: [M + H] &lt; + &gt; = 663

<제조예 6> 구조식 37로 표시되는 화합물의 제조PREPARATION EXAMPLE 6 Preparation of the compound represented by Structural Formula 37

Figure 112013116104113-pat00043
Figure 112013116104113-pat00043

구조식 37A의 제조Preparation of Structural Formula 37A

3-메틸인돌(7.5 g, 56.8 mmol)을 클로로포름(100 mL)에 완전히 녹인 후 N-브로모숙신이미드(11.1 g, 62.5 mmol)를 천천히 첨가한 후 30분간 상온에서 교반하였다. 물을 첨가한 후 20분간 교반하고, 물층은 제거하고 유기층은 감압증류하여 용매를 완전히 제거한 후 0℃에서 에탄올을 넣고 20분간 교반하였다. 생성된 침전물을 여과하여 상온에서 진공 건조하여 구조식 37A(10 g, 수율 84 %)를 얻었다. 3-Methylindole (7.5 g, 56.8 mmol) was completely dissolved in chloroform (100 mL). N-Bromosuccinimide (11.1 g, 62.5 mmol) was slowly added thereto and stirred at room temperature for 30 minutes. After adding water, the mixture was stirred for 20 minutes. The water layer was removed, and the organic layer was distilled under reduced pressure to completely remove the solvent. Ethanol was added at 0 ° C and stirred for 20 minutes. The resulting precipitate was filtered and vacuum-dried at room temperature to obtain the structural formula 37A (10 g, yield 84%).

MS: [M+]+ = 210MS: [M +] &lt; + & gt ; = 210

구조식 37B의 제조Preparation of Structural Formula 37B

구조식 37A(10 g, 47.6 mmol)를 클로로포름(150 mL)에 완전히 녹인 후 1N 수산화나트륨 수용액(100 mL)를 넣고 10분간 교반하였다. 5℃로 온도를 낮추고 벤질브롬(5.9 mL, 50.0 mmol)을 천천히 첨가한 후 1시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고, 물층을 제거하였다. 유기층을 농축시키고, n-헥산으로 재결정하여 구조식 37B(10.2 g, 수율 71 %)를 얻었다. The structural formula 37A (10 g, 47.6 mmol) was completely dissolved in chloroform (150 mL), followed by the addition of a 1N aqueous sodium hydroxide solution (100 mL) and the mixture was stirred for 10 minutes. The temperature was lowered to 5 ° C, benzyl bromide (5.9 mL, 50.0 mmol) was added slowly, and the mixture was heated and stirred for 1 hour. The temperature was lowered to room temperature, and the water layer was removed. The organic layer was concentrated, and recrystallized with n-hexane to obtain structural formula 37B (10.2 g, yield 71%).

MS: [M+]+ = 300MS: [M +] &lt; + & gt ; = 300

구조식 37C의 제조Preparation of Structural Formula 37C

구조식 37B(10 g, 33.3 mmol)와 2-아세틸페닐보론산(6.0 g, 36.6 mmol)을 테트라하이드로퓨란(150 ml)에 가열하여 완전히 녹인 후, 2 M 탄산칼륨 수용액 150 ml를 첨가하고 Pd(PPh3)4(385 mg, 3.3 x 10-1 mmol)을 넣고 5 시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮춘 후 물층을 제거하고 유기층을 농축시킨 후, 컬럼 정제를 통하여 구조식 37C(9.5 g, 수율 84 %)를 얻었다.Acetylphenylboronic acid (6.0 g, 36.6 mmol) was dissolved in tetrahydrofuran (150 ml) by heating to complete dissolution, 150 ml of 2M potassium carbonate aqueous solution was added, and Pd ( PPh 3 ) 4 (385 mg, 3.3 x 10 -1 mmol) was added thereto, followed by heating and stirring for 5 hours. After the temperature was lowered to room temperature, the water layer was removed, and the organic layer was concentrated. Then, the resultant was purified by column chromatography to obtain the structural formula 37C (9.5 g, yield 84%).

MS: [M+H]+ = 340MS: [M + H] &lt; + &gt; = 340

구조식 37D의 제조Preparation of formula 37D

구조식 37C(9.5 g, 28.0 mmol)를 테트라하이드로퓨란(150 ml)에 녹인 후, 포타슘 t-부톡사이드(12.6 g, 111.9 mmol)을 넣고 20분간 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고, 물을 넣어 반응을 종료시킨 후 에틸에테르로 추출하였다. 유기층을 농축시킨 후, 컬럼 정제를 통해서 구조식 37D(7 g, 수율 74 %)를 얻었다.After dissolving the structural formula 37C (9.5 g, 28.0 mmol) in tetrahydrofuran (150 ml), potassium t-butoxide (12.6 g, 111.9 mmol) was added and the mixture was stirred with heating for 20 minutes. The temperature was lowered to room temperature, water was added to terminate the reaction, and the mixture was extracted with ethyl ether. The organic layer was concentrated and then subjected to column purification to obtain the structural formula 37D (7 g, yield 74%).

MS: [M+H]+ = 340MS: [M + H] &lt; + &gt; = 340

구조식 37E의 제조Preparation of Structural Formula 37E

구조식 37D(7 g, 20.6 mmol)를 디클로로메탄(150 ml)에 녹인 후, 몰레큘라시브와 p-톨루엔술폰산(550 mg, 3.1 mmol)을 첨가하고, 24시간 동한 상온에서 교반하였다. 반응액을 필터하여 고체 불순물은 제거한 후, 농축시키고 컬럼정제를 통하여 구조식 37E(5.1 g. 수율 77 %)를 얻었다.Molecular sieve and p-toluenesulfonic acid (550 mg, 3.1 mmol) were dissolved in dichloromethane (150 ml), and the mixture was stirred at room temperature for 24 hours. The reaction solution was filtered to remove solid impurities, followed by concentration and column purification to obtain the structural formula 37E (5.1 g, yield 77%).

MS: [M+H]+ = 322MS: [M + H] &lt; + &gt; = 322

구조식 37F의 제조Preparation of Structural Formula 37F

구조식 3E 대신 구조식 37E를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3F의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 37F를 얻었다.A structural formula 37F was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3F, except that the structural formula 37E was used instead of the structural formula 3E.

MS: [M+]+ = 400MS: [M +] &lt; + & gt ; = 400

구조식 37G의 제조 Preparation of Structural Formula 37G

구조식 3H 대신 구조식 5C를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3I의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 37G를 얻었다.A structural formula 37G was obtained in the same manner as the production method of the structural formula 3I, except that the structural formula 5C was used instead of the structural formula 3H.

MS: [M+H]+ = 436MS: [M + H] &lt; + &gt; = 436

구조식 37의 제조Preparation of Structural Formula 37

구조식 3G 대신 구조식 37F, 구조식 3I 대신 구조식 37G를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 37을 얻었다.A structural formula 37 was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3, except that the structural formula 37F was used instead of the structural formula 3G and the structural formula 37G was used in place of the structural formula 3I.

MS: [M+H]+ = 629MS: [M + H] &lt; + &gt; = 629

<제조예 7> 구조식 40으로 표시되는 화합물의 제조PREPARATION EXAMPLE 7 Preparation of the compound represented by Structural Formula 40

Figure 112013116104113-pat00044
Figure 112013116104113-pat00044

구조식 40A의 제조Preparation of structural formula 40A

구조식 37B 대신 구조식 37F, 2-아세틸페닐보론산 대신 4-아미노페닐보론산을 사용한 것을 제외하고, 구조식 37C의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 40A를 얻었다.Structural formula 40A was obtained in the same manner as in the method for producing structural formula 37C, except that 4-aminophenylboronic acid was used instead of 2-acetylphenylboronic acid in the structural formula 37F instead of the structural formula 37B.

MS: [M+H]+ = 413MS: [M + H] &lt; + &gt; = 413

구조식 40의 제조Preparation of structural formula 40

구조식 40A(10 g, 24.2 mmol)와 4-요오도비페닐(16.3 g, 58.2 mmol)을 자일렌(150 mL)에 용해시키고, 나트륨-터셔리-부톡사이드(5.6 g, 58.2 mmol), Pd[P(t-Bu)3]2(62 mg, 0.12 mmol)을 첨가한 후, 2 시간 동안 질소 기류 하에서 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고 반응액에 증류수 100 ml를 첨가하였다. 생성된 고체를 여과한 후 에틸아세테이트로 재결정하여 구조식 40(11.8 g, 수율 68 %)을 얻었다.Sodium iodobiphenyl (16.3 g, 58.2 mmol) was dissolved in xylene (150 mL) and sodium-tertiary-butoxide (5.6 g, 58.2 mmol) and Pd [ P (t-Bu) 3 ] 2 (62 mg, 0.12 mmol) was added thereto, followed by heating with stirring in a nitrogen stream for 2 hours. The temperature was lowered to room temperature and 100 ml of distilled water was added to the reaction solution. The resulting solid was filtered and recrystallized from ethyl acetate to give structural formula 40 (11.8 g, yield 68%).

MS: [M+H]+ = 717MS: [M + H] &lt; + &gt; = 717

<제조예 8> 구조식 43으로 표시되는 화합물의 제조PREPARATION EXAMPLE 8 Preparation of the compound represented by the structural formula 43

Figure 112013116104113-pat00045
Figure 112013116104113-pat00045

구조식 43A의 제조Preparation of structural formula 43A

구조식 3H 대신 구조식 8A를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3I의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 43A를 얻었다.A structural formula 43A was obtained in the same manner as the production method of the structural formula 3I, except that the structural formula 8A was used instead of the structural formula 3H.

MS: [M+H]+ = 397MS: [M + H] &lt; + &gt; = 397

구조식 43B의 제조 Preparation of structural formula 43B

구조식 3F 대신 1-브로모-5-나프톨, 4-클로로페닐보론산 대신 구조식 43A를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3G의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 43B를 얻었다.The structural formula 43B was obtained in the same manner as the production method of the structural formula 3G, except that the structural formula 43A was used instead of the 1-bromo-5-naphthol and 4-chlorophenylboronic acid instead of the structural formula 3F.

MS: [M+H]+ = 413MS: [M + H] &lt; + &gt; = 413

구조식 43C의 제조Preparation of structural formula 43C

구조식 5B 대신 구조식 43B를 사용한 것을 제외하고, 구조식 5C의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 43C를 얻었다.The structural formula 43C was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 5C, except that the structural formula 43B was used instead of the structural formula 5B.

MS: [M+H]+ = 545MS: [M + H] &lt; + &gt; = 545

구조식 43D의 제조 Preparation of formula 43D

구조식 3F 대신 구조식 43C를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3G의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 43D를 얻었다.A structural formula 43D was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3G, except that the structural formula 43C was used instead of the structural formula 3F.

MS: [M+H]+ = 507MS: [M + H] &lt; + &gt; = 507

구조식 43E의 제조 Preparation of formula 43E

구조식 3H 대신 구조식 43D를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3I의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 43E를 얻었다.A structural formula 43E was obtained in the same manner as the production method of the structural formula 3I, except that the structural formula 43D was used instead of the structural formula 3H.

MS: [M+H]+ = 599MS: [M + H] &lt; + &gt; = 599

구조식 43의 제조 Preparation of structural formula 43

구조식 3G 대신 구조식 37F, 구조식 3I 대신 구조식 43E를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 43을 얻었다.A structural formula 43 was obtained in the same manner as the production method of the structural formula 3, except that the structural formula 37F was used instead of the structural formula 3G and the structural formula 43E was used in place of the structural formula 3I.

MS: [M+H]+ = 792MS: [M + H] &lt; + &gt; = 792

<제조예 9> 구조식 59로 표시되는 화합물의 제조PREPARATION EXAMPLE 9 Preparation of Compound Represented by Structural Formula 59

Figure 112013116104113-pat00046
Figure 112013116104113-pat00046

구조식 59A의 제조 Preparation of formula 59A

벤질(80 g, 380.5 mmol), 브로모아닐린(327 g, 1902.7 mmol), 벤즈알데하이드(38.7 mL, 380.5 mmol), 암모늄아세테이트(44 g, 570.8 mmol)를 아세트산(1.5 L)에 넣고 24시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮추고, 물을 첨가한 후, 클로로포름으로 추출하였다. 클로로포름을 절반 정도 농축시킨 후 생성된 고체는 여과하여 폐기하였다. 여액을 농축시킨 후 에틸에테르로 재결정하여 구조식 59A(123 g, 수율 72 %)를 얻었다.(32 g, 1902.7 mmol), benzaldehyde (38.7 mL, 380.5 mmol) and ammonium acetate (44 g, 570.8 mmol) were added to acetic acid (1.5 L) Followed by heating and stirring. The temperature was lowered to room temperature, water was added, and the mixture was extracted with chloroform. After concentrating the chloroform in half, the resulting solid was filtered off and discarded. The filtrate was concentrated, and recrystallized from ethyl ether to give structural formula 59A (123 g, yield 72%).

MS: [M+H]+ = 451MS: [M + H] &lt; + &gt; = 451

구조식 59B의 제조 Preparation of Structural Formula 59B

구조식 3H 대신 구조식 59A를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3I의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 59B를 얻었다.The structural formula 59B was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3I, except that the structural formula 59A was used instead of the structural formula 3H.

MS: [M+H]+ = 499MS: [M + H] &lt; + &gt; = 499

구조식 59C의 제조 Preparation of formula 59C

카바졸 대신 인돌, 4-브로모요오도벤젠 대신 2-브로모요오도벤젠을 사용한 것을 제외하고, 구조식 3H의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 59C를 얻었다.The structural formula 59C was obtained in the same manner as the production method of the structural formula 3H, except that indole was used in place of carbazole, and 2-bromoiodobenzene was used in place of 4-bromoiodobenzene.

MS: [M+]+ = 272MS: [M +] &lt; + & gt ; = 272

구조식 59D의 제조Preparation of formula 59D

구조식 59C(13.6 g, 50 mmol), 세슘플로라이드(22.8 g, 150 mmol), Pd2(dba)3.CHCl3(130 mg, 1.2 mmol), dppp(100 mg, 1.5 mmol)를 아세토니트릴(100 mL), 톨루엔(100 mL)에 녹였다. 아세토니트릴(20 mL)과 톨루엔(20 mL)에 녹인 o-(트리메틸실릴)페닐트리플레이트(14.9 g, 50 mmol)를 천천히 첨가한 후, 24시간 동안 가열 교반하였다. 상온으로 온도를 낮춘 후 셀리트 패드로 여과하고, 농축시킨 후, 컬럼정제를 통하여 구조식 59D(8.9 g, 67 %)를 얻었다.(130 mg, 1.2 mmol) and dppp (100 mg, 1.5 mmol) were dissolved in acetonitrile (100 mL, 100 mmol) ) And dissolved in toluene (100 mL). O- (trimethylsilyl) phenyltriflate (14.9 g, 50 mmol) dissolved in acetonitrile (20 mL) and toluene (20 mL) was slowly added and the mixture was heated and stirred for 24 hours. After lowering the temperature to room temperature, the solution was filtered through a celite pad, concentrated, and then subjected to column purification to obtain structural formula 59D (8.9 g, 67%).

MS: [M+]+ = 268MS: [M +] &lt; + & gt ; = 268

구조식 59E의 제조Preparation of formula 59E

구조식 3E 대신 구조식 59D를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3F의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 59E를 얻었다.The structural formula 59E was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3F, except that the structural formula 59D was used instead of the structural formula 3E.

MS: [M+]+ = 346MS: [M +] &lt; + & gt ; = 346

구조식 59F의 제조 Preparation of formula 59F

구조식 3F 대신 구조식 59E, 4-클로로페닐보론산 대신 페닐보론산을 사용한 것을 제외하고, 구조식 3G의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 59F를 얻었다.Structural formula 59F was obtained in the same manner as in the method for producing structural formula 3G, except that phenylboronic acid was used in place of structural formula 59E and 4-chlorophenylboronic acid instead of the structural formula 3F.

MS: [M+H]+ = 344MS: [M + H] &lt; + &gt; = 344

구조식 59G의 제조Preparation of formula 59G

구조식 3E 대신 구조식 59F를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3F의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 59G를 얻었다.A structural formula 59G was obtained in the same manner as the production method of the structural formula 3F, except that the structural formula 59F was used instead of the structural formula 3E.

MS: [M+]+ = 422MS: [M +] &lt; + & gt ; = 422

구조식 59H의 제조 Preparation of Structural Formula 59H

구조식 3F 대신 구조식 59G를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3G의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 59H를 얻었다.The structural formula 59H was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3G, except that the structural formula 59G was used instead of the structural formula 3F.

MS: [M+H]+ = 454MS: [M + H] &lt; + &gt; = 454

구조식 59의 제조 Preparation of Structural Formula 59

구조식 3G 대신 구조식 59H, 구조식 3I 대신 구조식 59B를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 59를 얻었다.Structural formula 59 was obtained in the same manner as in the production method of structural formula 3, except that structural formula 59H was used instead of structural formula 3G and structural formula 59B was used in place of structural formula 3I.

MS: [M+H]+ = 790MS: [M + H] &lt; + &gt; = 790

<제조예 10> 구조식 64로 표시되는 화합물의 제조PREPARATION EXAMPLE 10 Preparation of the compound represented by Structural Formula 64

Figure 112013116104113-pat00047
Figure 112013116104113-pat00047

구조식 64의 제조Preparation of Structure 64

구조식 40A 대신 p-디톨릴아민, 4-요오도비페닐 대신 구조식 59H를 사용한 것을 제외하고, 구조식 40의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 64를 얻었다.The structural formula 64 was obtained in the same manner as in the production of the structural formula 40, except that the structural formula 59H was used instead of the p-ditolylamine and 4-iodobiphenyl in place of the structural formula 40A.

MS: [M+H]+ = 615MS: [M + H] &lt; + &gt; = 615

<제조예 11> 구조식 68로 표시되는 화합물의 제조Preparation Example 11: Preparation of the compound represented by the structural formula 68

Figure 112013116104113-pat00048
Figure 112013116104113-pat00048

구조식 68A의 제조 Preparation of formula 68A

4-브로모요오도벤젠 대신 요오도벤젠을 사용한 것을 제외하고, 구조식 3H의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 68A를 얻었다.Structural formula 68A was obtained in the same manner as in the production of 3H, except that iodobenzene was used instead of 4-bromoiodobenzene.

MS: [M+]+ = 244MS: [M &lt; + &gt;] + = 244

구조식 68B의 제조Preparation of formula 68B

3-메틸인돌 대신 구조식 68A, 를 사용한 것을 제외하고, 구조식 37A의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 68B를 얻었다. The structural formula 68B was obtained in the same manner as the production method of the structural formula 37A, except that the structural formula 68A was used instead of 3-methylindole.

MS: [M+]+ = 322MS: [M &lt; + &gt;] + = 322

구조식 68C의 제조Preparation of Structural Formula 68C

구조식 68B(17.9 g, 55.6 mmol)를 무수테트라하이드로퓨란 200 ml에 녹이고 -78 ℃로 냉각시킨 후, 2.5 M n-부틸리튬(24.5 mL, 61.2 mmol)을 천천히 첨가한 후 1시간동안 교반하였다. 이 반응액에 트리메틸보레이트(9.4 mL, 83.4 mmol)를 첨가한 후 30 분간 교반하고 6N HCl 50 ml를 첨가한 후 온도를 상온으로 올려서 1 시간동안 교반하였다. 유기층을 추출하고 농축한 후, n-헥산으로 재결정하여 구조식 68C(11.5 g, 수율 72 %)를 얻었다.The structure 68B (17.9 g, 55.6 mmol) was dissolved in 200 ml of anhydrous tetrahydrofuran, cooled to -78 ° C and 2.5 M n-butyllithium (24.5 mL, 61.2 mmol) was added slowly and stirred for 1 hour. Trimethylborate (9.4 mL, 83.4 mmol) was added to the reaction solution, and the mixture was stirred for 30 minutes, and 50 mL of 6N HCl was added. The temperature was raised to room temperature and stirred for 1 hour. The organic layer was extracted, concentrated, and then recrystallized with n-hexane to obtain structural formula 68C (11.5 g, yield 72%).

MS: [M+H]+ = 288MS: [M + H] &lt; + &gt; = 288

구조식 68의 제조Preparation of structural formula 68

구조식 3G 대신 구조식 59H, 구조식 3I 대신 구조식 68C를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 68을 얻었다.A structural formula 68 was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3, except that the structural formula 59H was used instead of the structural formula 3G and the structural formula 68C was used in place of the structural formula 3I.

MS: [M+H]+ = 661MS: [M + H] &lt; + &gt; = 661

<제조예 12> 구조식 70으로 표시되는 화합물의 제조PREPARATION EXAMPLE 12 Preparation of the compound represented by Structural Formula 70

Figure 112013116104113-pat00049
Figure 112013116104113-pat00049

구조식 70A의 제조 Preparation of structural formula 70A

구조식 3F 대신 구조식 59E, 4-클로로페닐보론산 대신 2-나프틸보론산을 사용한 것을 제외하고, 구조식 3G의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 70A를 얻었다.Structural formula 70A was obtained in the same manner as in the production method of structural formula 3G, except that 2-naphthylboronic acid was used instead of 4-chlorophenylboronic acid in the structural formula 59E instead of the structural formula 3F.

MS: [M+H]+ = 394MS: [M + H] &lt; + &gt; = 394

구조식 70B의 제조Preparation of Structural Formula 70B

구조식 3E 대신 구조식 70A를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3F의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 70B를 얻었다.A structural formula 70B was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3F, except that the structural formula 70A was used in place of the structural formula 3E.

MS: [M+]+ = 472MS: [M +] &lt; + & gt ; = 472

구조식 70C의 제조 Preparation of Structural Formula 70C

구조식 3H 대신 구조식 70B를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3I의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 70C를 얻었다.Structural formula 70C was obtained in the same manner as in the production method of structural formula 3I, except that structural formula 70B was used instead of structural formula 3H.

MS: [M+H]+ = 520MS: [M + H] &lt; + &gt; = 520

구조식 70의 제조 Preparation of structural formula 70

구조식 3G 대신 4-요오도비페닐, 구조식 3I 대신 구조식 70C를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 70을 얻었다.Structural formula 70 was obtained in the same manner as in the production method of structural formula 3, except that 4-iodobiphenyl in place of structural formula 3G and structural formula 70C in place of structural formula 3I were used.

MS: [M+H]+ = 546MS: [M + H] &lt; + &gt; = 546

<제조예 13> 구조식 76으로 표시되는 화합물의 제조PREPARATION EXAMPLE 13 Preparation of the compound represented by Structural Formula 76

Figure 112013116104113-pat00050
Figure 112013116104113-pat00050

구조식 76A의 제조 Preparation of formula 76A

구조식 3H 대신 구조식 59E를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3I의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 76A를 얻었다.A structural formula 76A was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 3I, except that the structural formula 59E was used instead of the structural formula 3H.

MS: [M+H]+ = 394MS: [M + H] &lt; + &gt; = 394

구조식 76B의 제조 Preparation of formula 76B

구조식 3F 대신 4-브로모요오도벤젠, 4-클로로페닐보론산 대신 구조식 76A를 사용한 것을 제외하고, 구조식 3G의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 76B를 얻었다.The structural formula 76B was obtained in the same manner as the production method of the structural formula 3G, except that the structural formula 76A was used in place of the 4F bromoiodobenzene and 4-chlorophenylboronic acid instead of the structural formula 3F.

MS: [M+]+ = 422MS: [M +] &lt; + & gt ; = 422

구조식 76C의 제조Preparation of formula 76C

구조식 37B 대신 구조식 59E, 2-아세틸페닐보론산 대신 4-아미노페닐보론산을 사용한 것을 제외하고, 구조식 37C의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 76C를 얻었다.Structural formula 76C was obtained in the same manner as in the method for the preparation of the structural formula 37C, except that 4-aminophenylboronic acid was used instead of the structural formula 59E and 2-acetylphenylboronic acid instead of the structural formula 37B.

MS: [M+H]+ = 359MS: [M + H] &lt; + &gt; = 359

구조식 76의 제조Preparation of structural formula 76

구조식 40A 대신 구조식 76C, 4-요오도비페닐 대신 구조식 76C를 사용한 것을 제외하고, 구조식 40의 제조방법과 동일한 방법으로 구조식 76을 얻었다.The structural formula 76 was obtained in the same manner as in the production method of the structural formula 40, except that the structural formula 76C was used in place of the structural formula 40A instead of the structural formula 76C and 4-iodobiphenyl.

MS: [M+H]+ = 1040MS: [M + H] &lt; + &gt; = 1040

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

ITO(인듐주석산화물)가 1000 Å 두께로 박막 코팅된 유리 기판(corning 7059 glass)을, 분산제를 녹인 증류수에 넣고 초음파로 세척하였다. 세제는 Fischer Co.의 제품을 사용하였으며, 증류수는 Millipore Co. 제품의 필터(Filter)로 2차 걸러진 증류수를 사용하였다. ITO를 30 분간 세척한 후, 증류수로 2 회 반복하여 초음파 세척을 10 분간 진행하였다. 증류수 세척이 끝난 후 이소프로필알콜, 아세톤, 메탄올 용제 순서로 초음파 세척을 하고 건조시켰다.A glass substrate (corning 7059 glass) coated with ITO (indium tin oxide) thin film with a thickness of 1000 Å was immersed in distilled water containing dissolved dispersant and ultrasonically cleaned. The detergent was a product of Fischer Co. The distilled water was supplied by Millipore Co. Distilled water, which was secondly filtered with a filter of the product, was used. After the ITO was washed for 30 minutes, ultrasonic washing was repeated 10 times with distilled water twice. After the distilled water was washed, ultrasonic washing was performed in the order of isopropyl alcohol, acetone, and methanol solvent, followed by drying.

이렇게 준비된 ITO 투명 전극 위에 헥사니트릴 헥사아자트리페닐렌(hexanitrile hexaazatriphenylene)를 500 Å의 두께로 열 진공 증착하여 정공주입층을 형성하였다. 그 위에 정공을 수송하는 물질인 NPB(400 Å)를 진공 증착한 후 발광층으로 호스트 H1과 도판트 D1 화합물을 300 Å의 두께로 진공 증착하였다. 그 다음에 위 제조예 2에서 합성한 구조식 5 화합물(200 Å)을 전자주입 및 수송층으로 순차적으로 열 진공 증착하였다. 상기 전자 수송층 위에 순차적으로 12 Å 두께의 리튬 플루오라이드(LiF)와 2000 Å 두께의 알루미늄을 증착하여 음극을 형성하여, 유기 발광 소자를 제조하였다.Hexanitrile hexaazatriphenylene was thermally vacuum deposited on the prepared ITO transparent electrode to a thickness of 500 Å to form a hole injection layer. NPB (400 Å), which is a hole transporting material, was vacuum deposited thereon, and host H1 and a dopant D1 compound were vacuum deposited as a light emitting layer to a thickness of 300 Å. Then, the compound of Formula 5 (200 Å) synthesized in Preparation Example 2 was sequentially vacuum-deposited by electron injection and transport layer. A 12 Å thick lithium fluoride (LiF) layer and a 2000 Å thick aluminum layer were successively deposited on the electron transport layer to form a cathode, thereby preparing an organic light emitting device.

상기 전자 수송층의 비교예로 E1을 사용하였다.E1 was used as a comparative example of the electron transport layer.

상기의 과정에서 유기물의 증착 속도는 1 Å/sec를 유지하였고, 리튬플루오라이드는 0.2 Å/sec, 알루미늄은 3~7 Å/sec의 증착 속도를 유지하였다.In the above procedure, the deposition rate of the organic material was maintained at 1 Å / sec, the deposition rate of lithium fluoride was maintained at 0.2 Å / sec, and the deposition rate of aluminum was maintained at 3 to 7 Å / sec.

Figure 112013116104113-pat00051
Figure 112013116104113-pat00051

Figure 112013116104113-pat00052
Figure 112013116104113-pat00052

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

상기 실시예 1에서 전자 수송층으로 구조식 5 대신 제조예 3에서 합성한 구조식 8을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.The same experiment was carried out except that the electron transport layer in Example 1 was replaced with the electron transport layer 8, which was synthesized in Production Example 3, instead of the structure 5.

<실시예 3>&Lt; Example 3 >

상기 실시예 1에서 전자 수송층으로 구조식 5 대신 제조예 4에서 합성한 구조식 22를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.The same experiment was carried out except that the electron transport layer in Example 1 was replaced by the electron transport layer of Formula 22 synthesized in Production Example 4 instead of the structure 5.

<실시예 4><Example 4>

상기 실시예 1에서 전자 수송층으로 구조식 5 대신 제조예 6에서 합성한 구조식 37을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.The same experiment was carried out except that the electron transport layer in Example 1 was replaced with the electron transport layer of Structure 37 synthesized in Production Example 6 instead of the structure 5.

<실시예 5>&Lt; Example 5 >

상기 실시예 1에서 전자 수송층으로 구조식 5 대신 제조예 8에서 합성한 구조식 43을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.The same experiment was carried out except that the electron transport layer in Example 1 was replaced by the structural formula 43 synthesized in Production Example 8 instead of the structure 5.

<실시예 6>&Lt; Example 6 >

상기 실시예 1에서 전자 수송층으로 구조식 5 대신 제조예 9에서 합성한 구조식 59를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.The same experiment was conducted except that the electron transport layer in Example 1 was replaced by the structural formula 59 synthesized in Production Example 9 instead of the structure 5.

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

상기 실시예 1에서 전자 수송층으로 제조예 2에서 합성한 구조식 5 대신 E1을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.Except that E1 was used instead of the structural formula 5 synthesized in Production Example 2 as an electron transporting layer in Example 1 above.

상기 실시예와 같이 각각의 화합물을 전자 수송층 물질로 사용하여 제조한 유기 발광 소자를 실험한 결과를 표 1에 나타내었다.Table 1 shows the results of an experiment on an organic light emitting device manufactured by using each compound as an electron transporting layer material as in the above examples.

[표 1][Table 1]

Figure 112013116104113-pat00053
Figure 112013116104113-pat00053

<실시예 7>&Lt; Example 7 >

ITO(인듐주석산화물)가 1000 Å 두께로 박막 코팅된 유리 기판(corning 7059 glass)을, 분산제를 녹인 증류수에 넣고 초음파로 세척하였다. 세제는 Fischer Co.의 제품을 사용하였으며, 증류수는 Millipore Co. 제품의 필터(Filter)로 2차 걸러진 증류수를 사용하였다. ITO를 30 분간 세척한 후, 증류수로 2 회 반복하여 초음파 세척을 10 분간 진행하였다. 증류수 세척이 끝난 후 이소프로필알콜, 아세톤, 메탄올 용제 순서로 초음파 세척을 하고 건조시켰다.A glass substrate (corning 7059 glass) coated with ITO (indium tin oxide) thin film with a thickness of 1000 Å was immersed in distilled water containing dissolved dispersant and ultrasonically cleaned. The detergent was a product of Fischer Co. The distilled water was supplied by Millipore Co. Distilled water, which was secondly filtered with a filter of the product, was used. After the ITO was washed for 30 minutes, ultrasonic washing was repeated 10 times with distilled water twice. After the distilled water was washed, ultrasonic washing was performed in the order of isopropyl alcohol, acetone, and methanol solvent, followed by drying.

이렇게 준비된 ITO 투명 전극 위에 헥사니트릴 헥사아자트리페닐렌(hexanitrile hexaazatriphenylene)를 500 Å의 두께로 열 진공 증착하여 정공주입층을 형성하였다. 그 위에 정공을 수송하는 물질인 위 제조예 1에서 합성한 구조식 3(400 Å)을 진공 증착한 후 발광층으로 호스트 H1과 도판트 D1 화합물을 300 Å의 두께로 진공 증착하였다. 그 다음에 E1 화합물(300 Å)을 전자주입 및 수송층으로 순차적으로 열 진공 증착하였다. 상기 전자 수송층 위에 순차적으로 12 Å 두께의 리튬 플루오라이드(LiF)와 2000 Å 두께의 알루미늄을 증착하여 음극을 형성하여, 유기 발광 소자를 제조하였다.Hexanitrile hexaazatriphenylene was thermally vacuum deposited on the prepared ITO transparent electrode to a thickness of 500 Å to form a hole injection layer. (400 Å) synthesized in Preparation Example 1, which is a hole transport material, was vacuum deposited on the hole transport layer. Then, a host H1 and a dopant D1 compound were vacuum deposited as a light emitting layer to a thickness of 300 Å. The E1 compound (300 ANGSTROM) was then thermally vacuum deposited sequentially by electron injecting and transporting layers. A 12 Å thick lithium fluoride (LiF) layer and a 2000 Å thick aluminum layer were successively deposited on the electron transport layer to form a cathode, thereby preparing an organic light emitting device.

상기 정공 수송층의 비교예로 NPB를 사용하였다.NPB was used as a comparative example of the hole transport layer.

상기의 과정에서 유기물의 증착 속도는 1 Å/sec를 유지하였고, 리튬플루오라이드는 0.2 Å/sec, 알루미늄은 3~7 Å/sec의 증착 속도를 유지하였다.In the above procedure, the deposition rate of the organic material was maintained at 1 Å / sec, the deposition rate of lithium fluoride was maintained at 0.2 Å / sec, and the deposition rate of aluminum was maintained at 3 to 7 Å / sec.

<실시예 8>&Lt; Example 8 >

상기 실시예 7에서 정공 수송층으로 구조식 3 대신 제조예 5에서 합성한 구조식 27을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.The same experiment was carried out as in Example 7 except that the hole transport layer was replaced by the structural formula 27 synthesized in Production Example 5 instead of the structural formula 3. [

<실시예 9>&Lt; Example 9 >

상기 실시예 7에서 정공 수송층으로 구조식 3 대신 제조예 7에서 합성한 구조식 40을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.The same experiment was carried out as in Example 7 except that the hole transport layer was replaced with the structural formula 40 synthesized in Production Example 7 instead of the structure 3.

<실시예 10>&Lt; Example 10 >

상기 실시예 7에서 정공 수송층으로 구조식 3 대신 제조예 10에서 합성한 구조식 64를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.The same experiment was conducted as in Example 7 except that the hole transport layer was replaced with the structural formula 64 synthesized in Production Example 10 instead of the structure 3.

<실시예 11>&Lt; Example 11 >

상기 실시예 7에서 정공 수송층으로 구조식 3 대신 제조예 11에서 합성한 구조식 68을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.The same experiment was conducted except that the hole transport layer in Example 7 was replaced by the structural formula 68 synthesized in Production Example 11 instead of the structure 3.

<실시예 12>&Lt; Example 12 >

상기 실시예 7에서 정공 수송층으로 구조식 3 대신 제조예 12에서 합성한 구조식 70을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.The same experiment was conducted except that the hole transport layer in Example 7 was replaced by the structural formula 70 synthesized in Production Example 12 instead of the structure 3.

<실시예 13>&Lt; Example 13 >

상기 실시예 7에서 정공 수송층으로 구조식 3 대신 제조예 13에서 합성한 구조식 76을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.The same experiment was carried out as in Example 7 except that the hole transport layer was replaced with the structural formula 76 synthesized in Production Example 13 instead of the structure 3.

<비교예 2> &Lt; Comparative Example 2 &

상기 실시예 7에서 정공 수송층으로 제조예 1에서 합성한 구조식 3 대신 NPB를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실험하였다.The same experiment was conducted as in Example 7 except that NPB was used instead of the structural formula 3 synthesized in Production Example 1 as a hole transport layer.

상기 실시예와 같이 각각의 화합물을 정공 수송층 물질로 사용하여 제조한 유기 발광 소자를 실험한 결과를 표 2에 나타내었다.Table 2 shows the results of an experiment of an organic light emitting device manufactured by using each compound as a hole transporting layer material as in the above examples.

[표 2][Table 2]

Figure 112013116104113-pat00054
Figure 112013116104113-pat00054

본 발명에 따른 화학식의 화합물 유도체는 유기발광소자를 비롯한 유기전기소자에서 전자 주입, 전자 수송, 정공 주입 및 수송, 또는 발광 물질 역할을 할 수 있으며, 본 발명에 따른 소자는 효율, 구동전압, 안정성 면에서 우수한 특성을 나타낸다.The compound represented by the chemical formula according to the present invention can act as an electron injecting, electron transporting, hole injecting and transporting, or light emitting material in an organic electric device including an organic light emitting device. And exhibits excellent properties in terms of surface area.

Claims (15)

삭제delete 하기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되는 것을 특징으로 하는, 화합물:
[화학식 2] [화학식 3]
Figure 112014052220156-pat00056

상기 화학식 2 또는 화학식 3에 있어서,
R8은 C6-50의 아릴기로 치환 또는 비치환되고 이종원소로 O, N, S 또는 P를 갖는 C3-60의 헤테로고리기로 치환 또는 비치환된 C6-50의 아릴기; 또는 C1-40의 알킬기이고,
R10은 수소; 또는 C6-50의 아릴기로 치환 또는 비치환되고 이종원소로 O, N, S 또는 P를 갖는 C3-60의 헤테로고리기, 또는 C6-50의 아릴아민기로 치환 또는 비치환된 C6-50의 아릴기이며,
R13은 수소; 또는 C6-50의 아릴기이고,
R14는 수소; 또는 C1-40의 알킬기이며,
R9, R11, R12, 및 R15 내지 R18은 수소이고,
R19는 이종원소로 O, N, S 또는 P를 갖는 C3-60의 헤테로고리기로 치환된 C6-50의 아릴아민기로 치환 또는 비치환된 C6-50의 아릴기이며,
R21은 수소; 또는 C6-50의 아릴기로 치환 또는 비치환되고 이종원소로 O, N, S 또는 P를 갖는 C3-60의 헤테로고리기로 치환 또는 비치환된 C6-50의 아릴기, 또는 C1-50의 알킬기로 치환된 C6-50의 아릴아민기로 치환 또는 비치환된 C6-60의 아릴기이고,
R20 및 R22 내지 R31은 수소이다.
A compound represented by the following formula (2) or (3):
[Chemical Formula 2] &lt; EMI ID =
Figure 112014052220156-pat00056

In the general formula (2) or (3)
R 8 is a C 6-50 aryl group is substituted or unsubstituted aryl group of cattle heteroatoms O, N, S or C group of 3-60 heterocycle substituted or unsubstituted C 6-50 having a P; Or a C 1-40 alkyl group,
R 10 is hydrogen; Or a group of C 6-50 aryl and substituted or unsubstituted heteroatom Thoreau O, N, S or a heterocyclic group of C 3-60 having P, or C 6-50 arylamine group unsubstituted or substituted with a C 6- Lt ; / RTI &gt;
R 13 is hydrogen; Or a C 6-50 aryl group,
R 14 is hydrogen; Or a C 1-40 alkyl group,
R 9 , R 11 , R 12, and R 15 to R 18 are hydrogen,
R 19 is a C 6-50 aryl group which is substituted or unsubstituted with a C 6-50 arylamine group substituted with a C 3-60 heterocyclic group having O, N, S or P as a hetero atom,
R 21 is hydrogen; Or a group of C 6-50 aryl and substituted or unsubstituted heteroatom Thoreau O, N, S, or an aryl group of C 3-60 A C 6-50 substituted or unsubstituted heterocyclic group having a P, or C 1-50 Substituted or unsubstituted C 6-50 arylamine group substituted with an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms ,
R 20 and R 22 to R 31 are hydrogen.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 청구항 2에 있어서, 상기 화합물은 하기 구조식 중 어느 하나로 표시되는 것을 특징으로 하는, 화합물.
Figure 112014052220156-pat00097
Figure 112014052220156-pat00098

Figure 112014052220156-pat00099
Figure 112014052220156-pat00100

Figure 112014052220156-pat00101
Figure 112014052220156-pat00102

Figure 112014052220156-pat00103
Figure 112014052220156-pat00104

Figure 112014052220156-pat00105
Figure 112014052220156-pat00106

Figure 112014052220156-pat00107
Figure 112014052220156-pat00108

Figure 112014052220156-pat00109
The compound according to claim 2, wherein the compound is represented by any one of the following structural formulas.
Figure 112014052220156-pat00097
Figure 112014052220156-pat00098

Figure 112014052220156-pat00099
Figure 112014052220156-pat00100

Figure 112014052220156-pat00101
Figure 112014052220156-pat00102

Figure 112014052220156-pat00103
Figure 112014052220156-pat00104

Figure 112014052220156-pat00105
Figure 112014052220156-pat00106

Figure 112014052220156-pat00107
Figure 112014052220156-pat00108

Figure 112014052220156-pat00109
제 1 전극, 제 2 전극, 및 상기 제 1 전극과 제 2 전극 사이에 배치된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 전기 소자로서, 상기 유기물층 중 1층 이상은 청구항 2 또는 7에 기재된 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 전기 소자.1. An organic electronic device comprising a first electrode, a second electrode, and at least one organic compound layer disposed between the first electrode and the second electrode, wherein at least one of the organic compound layers comprises a compound according to claim 2 or 7 &Lt; / RTI &gt; 청구항 8에 있어서, 상기 유기물층은 전자주입층 및 전자수송층을 포함하고, 이 전자주입층 및 전자수송층이 상기 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 전기 소자.The organic electroluminescent device according to claim 8, wherein the organic layer includes an electron injection layer and an electron transport layer, and the electron injection layer and the electron transport layer comprise the compound. 청구항 8에 있어서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 이 발광층이 상기 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 전기 소자.9. The organic electroluminescent device according to claim 8, wherein the organic layer includes a light emitting layer, and the light emitting layer comprises the compound. 청구항 8에 있어서, 상기 유기물층은 정공주입층 및 정공수송층을 포함하고, 이 정공주입층 및 정공수송층이 상기 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 유기 전기 소자.The organic electroluminescent device according to claim 8, wherein the organic material layer includes a hole injection layer and a hole transport layer, and the hole injection layer and the hole transport layer comprise the compound. 청구항 8에 있어서, 상기 유기 전기 소자는 유기발광소자, 유기인광소자, 유기태양전지, 유기감광체(OPC) 및 유기트랜지스터로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는, 유기 전기 소자.The organic electroluminescent device according to claim 8, wherein the organic electroluminescent device is selected from the group consisting of an organic light emitting device, an organic phosphorescent device, an organic solar cell, an organic photoconductor (OPC), and an organic transistor. 청구항 8에 있어서, 상기 유기물층은 전자수송층을 포함하고, 이 전자수송층이 상기 화합물을 포함하는 것인, 유기 전기 소자. 9. The organic electroluminescent device according to claim 8, wherein the organic layer comprises an electron transporting layer, and the electron transporting layer comprises the compound. 삭제delete 청구항 8에 있어서, 상기 유기물층은 정공수송층을 포함하고, 이 정공수송층이 상기 화합물을 포함하는 것인, 유기 전기 소자. 9. The organic electroluminescent device according to claim 8, wherein the organic layer comprises a hole transporting layer, and the hole transporting layer comprises the compound.
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KR20080047211A (en) * 2006-11-24 2008-05-28 삼성전자주식회사 Organic light emitting compound and organic light emitting device comprising the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060005755A (en) * 2004-07-14 2006-01-18 삼성에스디아이 주식회사 Phenylcarbazole compounds and organic electroluminescence devices using the same
KR20080047211A (en) * 2006-11-24 2008-05-28 삼성전자주식회사 Organic light emitting compound and organic light emitting device comprising the same

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