KR101452807B1 - 대기처리장치 - Google Patents

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KR101452807B1
KR101452807B1 KR1020130135243A KR20130135243A KR101452807B1 KR 101452807 B1 KR101452807 B1 KR 101452807B1 KR 1020130135243 A KR1020130135243 A KR 1020130135243A KR 20130135243 A KR20130135243 A KR 20130135243A KR 101452807 B1 KR101452807 B1 KR 101452807B1
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장동룡
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미륭이씨오 주식회사
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Abstract

공기 중에 포함된 악취원인물질을 제거하기 위한 대기처리장치는, 흡입 덕트 및 배출 덕트를 포함하는 악취처리 하우징, 흡입 덕트로 유입되는 공기를 플라즈마로 처리하기 위한 플라즈마 처리실, 플라즈마 처리실에서 처리되는 공기를 분사되는 액체로 처리하기 위한 처리노즐을 포함하는 처리노즐을 포함하는 습식 처리실, 처리노즐로부터 분사되는 액체를 악취처리 하우징 하부에서 수용하는 하부 수조, 및 하부 수조에 수용되는 수용액체를 처리하여 처리노즐로 재 공급하는 액체 처리부를 포함할 수 있다.

Description

대기처리장치{APPARATUS FOR PURIFYING AIR POLLUTANT}
본 발명은 대기 중의 악취원인물질을 제거할 수 있는 대기처리장치에 관한 것이다.
악취의 주 원인물질인 암모니아, 황화수소, 메르캅탄, 아민류 등은 낮은 농도에서도 불쾌감과 혐오감을 줄 수 있고, 식당, 숙박업 등 서비스업의 영업에 큰 피해를 주고 있다.
종래 악취를 제거하기 위한 처리방식으로서는 산화, 흡착, 생물학적 분해, 및 플라즈마 분해법 등이 알려져 있다.
종래 악취처리방식 중 하나로서, 화학적 산화방법은 화학약품 산화제(이산화염소, 차아염소산소다, 이산화염소산염)를 이용하여 악취물질을 산화 및 분해시키는 방법으로서, 여러 종류의 악취가 효과적으로 제거될 수는 있으나 화학약품이 인간의 건강에 영향을 줄 수 있고 산화제 자체가 환경오염의 원인이 되는 문제점이 있다.
또한, 종래 악취처리방식 중 다른 하나로서, 흡착방법은 활성탄과 같이 비표면적이 큰 흡착제를 이용하여 악취물질을 흡착시켜 제거하는 방법이다. 그러나, 흡착방법에서는 악취원인물질이 흡착제에 반영구적으로 흡착되므로 주기적으로 흡착제를 교체해주어야 하는 번거롭고 불편한 문제점이 있으며, 이에 따라 유지 및 보수 비용이 증가하는 문제점이 있다.
이와 같이, 종래 대부분의 악취처리방식은 인간의 건강에 좋지 않은 영향을 주거나 유지관리비용이 증가하는 등의 여러 가지 문제점이 있다.
또한, 종래 악취처리방식에 의하면 악취의 제거 효율이 낮아 적용개소 및 적용범위가 매우 제한적인 문제점이 있으며, 설치가 되더라도 시설물 운영 및 관리가 어려워 실용성이 떨어지는 문제점이 있다.
특히, 축산 악취는 악취원인물질이 공기 중에 다량 포함되어 처리가 어려우며, 특히, 축산 악취에 많이 내포되는 유지 성분은 제거가 용이치 않다.
본 발명은 악취원인물질의 처리 효과를 높이고, 고농도의 악취원인물질을 갖는 공기의 대용량(대풍량) 처리가 가능한 대기처리장치를 제공한다.
본 발명은 악취 처리에 필요한 유지비용 및 처리 시간을 단축할 수 있는 대기처리장치를 제공한다.
상술한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 공기 중에 포함된 악취원인물질을 제거하기 위한 대기처리장치는, 흡입 덕트 및 배출 덕트를 포함하는 악취처리 하우징, 흡입 덕트로 유입되는 공기를 플라즈마로 처리하기 위한 플라즈마 처리실, 플라즈마 처리실에서 처리되는 공기를 분사되는 액체로 처리하기 위한 처리노즐을 포함하는 습식 처리실, 처리노즐로부터 분사되는 액체를 악취처리 하우징 하부에서 수용하는 하부 수조, 및 하부 수조에 수용되는 수용액체를 처리하여 처리노즐로 재 공급하는 액체 처리부를 포함할 수 있다.
악취원인물질에 내포된 이물질 특히, 축산 악취에 많이 내포되는 유지 성분은 플라즈마 처리실에서 대부분 일차적으로 분해되며, 특히, 지용성의 이물질이 수용성으로 전환될 수 있다. 그리고, 수용성 이물질은 다시 습식 처리실에서 처리될 수 있다.
따라서, 수용성 및 지용성 이물질이 전반적으로 처리될 수 있어 악취원인물질 제거에 효과가 뛰어나고, 대용량 처리가 가능하다.
또한, 플라즈마 처리실 상부에는 세척노즐이 배치될 수 있는데, 세척노즐은 플라즈마 처리실 상부에 고정형으로 복수개가 배치될 수도 있지만, 이동형으로 배치되어 하부의 방전 전극이나 접지 전극을 세척할 경우, 방전 전극이나 접지 전극의 배치 방향을 따라서 수평으로 이동하면서 고압의 압축 공기를 분사하거나 압축 액체를 분사하여 방전 전극이나 접지 전극에 집진된 이물질을 제거할 수 있다. 세척노즐에서 분사된 압축 액체 역시 하부 수조에 수용되어 세척노즐로 재 공급될 수 있다.
플라즈마 처리실에서는 양성 코로나 방전과 같은 플라즈마 방전에 의해서 오존, OH, O2H2, O와 같은 다량의 플라즈마 활성성분 기체가 발생하게 되는데, 플라즈마 활성성분 기체는 악취 제거와 살균에 효과가 크다. 특히, 플라즈마 발생 강도를 높이면 오존 농도를 증가시킬 수 있고, 하부 수조에서 상부로 배출되는 잉여 오존은 하우징을 통과하는 기체와 오존의 활성화 반응으로 악취물질을 더욱 더 활성화 분해할 수 있다.
플라즈마 처리실은, 공기의 유동방향을 따라서 연장되는 접지 전극, 및 접지 전극에 인접하게 공기의 유동방향을 따라서 연장되는 비틀어진(twisted) 띠 형상의 방전 전극을 포함할 수 있고, 악취원인물질은 접지 전극 및 방전 전극의 가장자리에서 발생하는 코로나 방전에 의해 제거될 수 있다.
접지 전극과 방전 전극이 배치되는 방전공간으로 악취원인물질을 갖는 공기를 공급하여 간단하게 악취원인물질을 제거할 수 있고, 방전공간으로 공급하는 공기의 유속을 조절하거나 방전 공간의 크기를 조절하여 비교적 간단하게 고농도의 악취원인물질을 갖는 공기의 대용량 처리가 가능하다.
한편, 고전압이 인가된 고압방전 구조는 방전 끝 단이 예리할수록 방전효율이 좋다. 다만, 방전 핀과 같이 날카로운 끝에서만 국부적인 방전현상이 일어나면, 방전 핀이 마모되는 문제가 있었다.
하지만, 본 발명의 방전 전극은 얇은 금속 띠를 양단에서 반대로 회전시켜 비틀어 제공 즉, 가장자리가 날카로운 금속 띠를 꽈배기 형상으로 제공함으로써, 날카로운 가장자리를 갖는 방전 전극을 통해서 낮은 전압에서도 우수한 방전 효과를 구현할 수 있을뿐더러, 방전 전극의 가장자리와 접지 전극과의 거리를 대략 일정하게 유지하고, 방전 전극의 가장자리 중 특정 지점에서만 과다 고압 방전현상이 일어나는 것을 방지할 수 있다. 또한, 금속 띠의 단면이 공기의 흐름과 직각을 유지하기 때문에 공기의 흐름에 의해 크게 흔들리지 않아 방전 전극이 접지 전극과 일정거리를 유지할 수 있어 방전효율이 일정하게 유지된다.
더욱이, 접지 전극이 공기의 유동방향을 따라서 연장되는 판 상으로 복수개가 제공되는 경우, 접지 전극의 양 단부 부분에서 방전 전극의 면 방향은 접지 전극의 면 방향과 나란하게 되도록 금속 띠를 비틀어 놓음으로써, 방전 전극의 가장자리가 접지 전극의 면과 최대한 멀어지게 배치된다. 따라서, 접지 전극 끝 단의 과다 고압방전현상을 방지할 수 있다.
또한, 종래에는 접지 전극 끝에서 방전이 과하게 일어나는 문제가 있었고, 이에 끝 단에 절연재료를 덧대거나, 둥글게 처리를 하는 추가적인 공정이 있었으나, 방전 전극을 꼬아서 제공하는 구조는 접지 전극 끝에서 과한 방전을 방지할 수 있어 상기한 추가 공정이 생략될 수 있는 장점도 있다.
또한, 방전 전극이 비틀어진 형상으로 제공되는 경우, 부분적으로 방전 전극과 접지 전극의 간격이 일정하진 않지만 전체적인 방전효율은 일정한 것으로 볼 수 있고, 방전 전극의 가장자리는 접지 전극의 특정한 지점에서만 코로나 방전을 일으키지 않기 때문에 특정한 지점(방전 핀의 끝 단과 같은 지점)에서 방전을 일으키는 경우보다 동일한 소비전력을 공급하더라도 악취처리 효율이 높으며, 운전비용을 절감할 수 있음은 물론 처리 시간을 단축할 수 있다.
또한, 접지 전극이나 방전 전극의 특정한 지점의 온도가 급격하게 올라가는 것이 방지되어, 접지 전극이나 방전 전극의 산화가 최소화되고, 이에 접지 전극이나 방전 전극의 반영구적 사용이 가능하여 유지관리비용이 절감된다.
또한, 꼬아진 형태의 방전 전극에서의 방전은 공기의 흐름이 빠를 경우 방전 전극에 접촉된 공기의 유동력으로 방전 전극 가장자리가 지속적으로 위치가 변동되어 방전부위가 변동하고, 이에 방전 효율을 좋게 한다.
나아가, 꼬아진 방전 전극 구조는 접지 전극 사이에 통과하는 기체의 흐름을 흩트려 놓아 난류현상을 일으키고, 처리 기체의 접촉 반응 효율을 높일 수 있다. 즉, 고압 플라즈마 방전이 기체의 흐름 속에서는 일정지점으로 방전되는 것이 아니며 통과기체에 따라 방전 지점 및 방전효율이 연속적으로 변경될 수 있다.
참고로, 플라즈마 처리실을 통과하는 통과공기의 유량 및 유속에 따라 방전 전극을 꼬는 회전 수를 변화하여 통과기체의 방전효율을 좋게 할 수도 있다.
또한, 띠 형상의 방전 전극의 고정되는 단부는 접지 전극과 간격을 멀게 하면서 연결 형상을 자유롭게 할 수 있는 장점이 있다. 예를 들어, 띠 형상의 방전 전극은 방전 전극의 상단부 및 하단부에 봉상의 방전 전극 연결전도체를 배치하고, 방전 전극의 상단부 및 하단부를 방전 전극 연결전도체의 외주를 감싸게 태엽 형상으로 제공할 수 있다.
또한, 띠 형상의 방전 전극은 서로 나란하게 배치되는 판상의 접지 전극들 사이에 배치될 수도 있고, 공기의 유동방향에 수직하게 절개한 단면이 벌집구조(honeycomb)인 접지 전극을 제공하고, 벌집구조의 각각의 셀에 하나의 방전 전극을 배치할 수도 있다. 통과 기체가 전량 중공의 셀 내측으로 통과하여, 접지 전극이 길면 길수록 방전 접촉시간을 길게 유지할 수 있다. 또한, 꼬아진 형상의 방전 전극에 의해서 통과 기체가 회전력이 발생하여 방전 효율이 좋고, 유속을 빠르게 유지할 수 있다.
또한, 교류 전압을 전파 정류하여 방전 전극 및 접지 전극에 양성 또는 음성 전압을 교차적으로 인가할 수 있는 전원 공급부를 사용함으로써, 주기적으로 양성 및 음성 코로나 방전을 발생시켜 악취원인물질을 공기 유동상에서 자연적으로 탈락시킬 수 있다.
참고로, 접지 전극은 스테인리스 판으로 제공되어 방전 효율을 높이고, 열 방출을 쉽게 할 수 있으며, 접지 전극은 테플론 소재와 같이 내열성 및 절연성이 있는 고정부재를 통해서 하우징 내부에 고정될 수 있다. 다만, 경우에 따라서 강도가 다소 떨어지는 테플론을 대신하여 세라믹 재질의 절연애자를 사용할 수도 있다.
또한, 흡입 덕트 및 상기 배출 덕트는 상기 악취처리 하우징의 상단부에 각각 배치되며, 흡입 덕트로 유입되는 공기는, 흡입 덕트에서 악취처리 하우징 하부를 향하며, 세척노즐 및 플라즈마 처리실이 배치되는 하방경로 및 하방경로로부터 배출 덕트를 향하며, 습식 처리실이 배치되는 상방경로를 경유하여 외부로 배출될 수 있다.
세척노즐에서는 액체를 강하게 분무 또는 분사하여 플라즈마 처리장치의 접지 전극이나 방전 전극에 집진된 먼지를 털어내는 것도 가능하지만, 고압의 압축 공기를 순간적으로 분사하는 것도 가능하다. 특히, 접지 전극이나 방전 전극이 모두 기체의 유동 방향과 나란하게 배치되어 먼지 탈락 효율이 뛰어나다.
또한, 액체 처리부는, 하부 수조의 수용액체가 유입되는 액체 유입구 및 수용액체가 배출되는 액체 배출구가 형성되는 수용 챔버부, 수용 챔버부 내측에 수용되는 수용액체를 가로질러 배치되며, 수용액체와 분리되는 기체 유입구 및 기체 배출구를 포함하는 유전체관, 수용액체로부터 격리되게 유전체관 내측에 배치되는 코어전극, 수용액체에 침지된 상태에서 유전체관을 외부에서 수용하는 광촉매 다공망, 및 기체 유입구로 기체를 공급하는 기체 공급부, 수용 챔버부의 액체 배출구로 배출되는 수용액체를 수용하며, 기체 공급부에 의해서 유전체관 내측으로 공급되는 기체는 코어전극에 전원이 인가되어 발생하는 플라즈마 반응에 노출되며, 플라즈마 반응에 의해서 생성된 기체 활성종을 포함하는 기체를 기체 배출구를 통해서 공급받아 수용액체를 처리하며, 처리된 수용액체를 하부 수조로 배출하는 기액 반응기를 포함할 수 있다.
액체 처리부는 하부 수조에 수용되는 액체를 처리하는 부분으로 앞서 세척노즐에 의해서 방전 전극이나 접지 전극에서 탈락된 이물질이 제거될 수 있고, 액체 처리부에서 처리된 액체는 세척노즐이나 처리노즐로 분사 및 분무되도록 재 사용되지만 주기적으로 교체될 수 있다.
액체 처리부에서 유전체관은 수용액체를 가로질러 침지된 상태로 제공되지만, 유전체관 내부에는 수용액체가 유입되지 않기 때문에, 고압의 전류가 걸리는 코어전극은 수용액체에 의해서 산화/부식이 쉽게 일어나지 않으며, 코어전극은 수용액체와 직접 접촉하지 않아, 액상의 수용액체의 전기 전도로 인한 전력 손실을 최소화할 수 있다. 참고로, 코어전극은 수용액체와는 분리되지만, 플라즈마 발생 시 활성종 가스에 의한 부식이 발생할 수 있다.
코어전극의 부식을 방지하기 위해서 코어전극 외면에 폴리테트라플루오르에틸렌(polytetrafluoroethylene) 또는 세라믹을 이용한 코팅층을 제공할 수도 있다.
즉, 플라즈마 수처리장치는 별도의 자외선 발생장치를 사용할 필요가 없고, 플라즈마 방전에 의해서 생성되는 자외선이나 기체 활성종을 한번에 생성하고, 이를 모두 수용액체 처리에 사용할 수 있는 장점이 있다.
또한, 유전체관은 석영, 유리, 세라믹과 같은 절연성 재질을 이용하여 제공하되, 석영과 같이 자외선이 바로 투과할 수 있는 재질을 선택하는 경우, 자외선을 바로 수용액체에 공급하면서, 동시에 광촉매 다공망에서 활성도가 극대화되어 수용액체로 조사됨으로써, 살균 효과 효율을 향상시킬 수 있다. 경우에 따라서 유전체관은 다양한 유전성 재료로 제조될 수 있으며, 예를 들면, 석영(quartz), 유리, 유리 적층물(laminate)과 같은 세라믹 재료를 사용할 수도 있고, 경우에 따라서, 전기 절연성이 좋아 전기 부품으로 많이 사용되는 폴리카보네이트(polycarbonate) 및 폴리에틸렌(polyethylene)과 같은 합성수지를 사용할 수도 있으며, 에폭시(epoxy)로 충전된 유리 적층물을 사용할 수도 있다. 물론, 유전체관의 재료는 상술한 재료에 제한되지 않으며, 유전체관은 절연성과 내열성이 좋은 임의의 유전체로 만들어질 수 있다.
코어전극은 전기가 잘 통하는 탄소나 전도성이 뛰어나며 내열성과 강도 또한 좋은 텅스텐 혹은 그 외의 다른 금속 재질로 제조될 수 있다.
또한, 유전체관의 기체 유입구 및 상기 기체 배출구에는 수용액체가 유입되는 것을 방지하기 위한 차단부재를 포함할 수 있으며, 차단부재는 절연성으로 제공되는 것이 바람직하다. 특히, 유전체관의 기체 배출구에는 기체 배출구를 통해서 수용액체가 유전체관 내측으로 유입되는 것을 방지하며, 단순하게 유전체관 내측에서 외측으로 기체만을 배출할 수 있는 밸브일 수 있으며, 이는 절연성으로 제공되는 것이 바람직하다.
또한, 유전체관은 수용액체의 표면에 수직으로 침지되고, 유전체관의 상부에 형성된 기체 유입구는 수용액체의 외측에 배치될 수 있으며, 광촉매 다공망 역시 수용액체의 표면에 수직으로 침지되는 것이 바람직하다. 다만, 유전체관의 기체 유입구나 기체 배출구로 수용액체가 유입되지 않도록 하는 조건하에서 상기 유전체관은 수평이나 비스듬하게 기울어져 침지되는 것도 가능하다.
또한, 광촉매 다공망은 각각의 유전체관을 외부에서 수용하는 중공의 원기둥 형태로 제공될 수 있고, 광촉매 다공망에 사용되는 광촉매는 TiO2 및 Al2O3 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 또한, 유전체관은 유리, 석영, 및 세라믹 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
또한, 코어전극은 코어전극 고정부재에 의해서 유전체관 내측 중심에 배치 고정될 수 있으며, 코어전극 고정부재에는 유전체관으로 유입되는 기체가 통과할 수 있도록 삼각 지지형의 코어전극 고정부재를 배치하여 기체 통과성을 확보할 수 있다.
코어전극 고정부재는 테플론(Teflon)으로 제조할 수 있으며, 테플론은 약품에 침식되지 않으며, 내열성이 좋은 불연성 소재이고, 전기 절연성이 양호하여 코어전극과 직접 접촉하여도 성질이 변화되지 않기 때문에 코어전극 유전체관을 고정할 수 있는 유용한 재료로 사용될 수 있다. 다만, 경우에 따라서 강도가 다소 떨어지는 테플론을 대신하여 세라믹 재질의 절연애자를 사용할 수도 있다.
본 발명에 따른 대기처리장치는, 악취원인물질을 플라즈마 처리한 후, 습식으로 재처리하여, 수용성 및 지용성 악취원인물질의 처리 효과를 높이고, 고농도의 악취원인물질을 갖는 공기를 대용량으로 처리할 수 있다.
또한, 악취원인물질에 내포된 이물질 특히 축산 악취에 많이 내포되는 유지 성분의 경우, 기존의 필터로는 처리의 한계가 있고, 자주 교환해주어야 하여 유지 비용의 부담이 컸으나, 본 발명에 따른 대기처리장치에서는 악취원인물질을 플라즈마 처리실에서 지용성의 이물질을 수용성으로 전환하고, 이를 다시 습식 처리실에서 처리하여 비용 부담을 줄이고, 대용량 처리가 가능하다.
또한, 본 발명에 따른 대기처리장치에서는 하부 수조로 세척노즐 및 처리노즐에서 분사되는 액체를 자연스럽게 회수하고, 이를 액체 처리부에서 플라즈마로 재 처리하여 사용함으로써, 비용 절감과 환경 보존이라는 효과를 모두 구현할 수 있다.
또한, 기존의 방전 구조에서는 방전 핀의 날카로운 끝에서만 국부적인 방전현상을 이용하여 방전 핀이 마모되는 문제가 있었지만, 본 발명에서 방전 전극은 얇은 금속 띠를 양단에서 반대로 회전시켜 비틀어 제공하여 방전 전극의 가장자리와 접지 전극과의 거리를 대략 일정하게 유지하면서도 방전 전극의 가장자리 중 특정 지점에서만 과다 고압 방전현상이 일어나는 것을 방지할 수 있다.
또한, 접지 전극을 공기의 유동방향을 따라서 연장되는 판 상으로 복수개가 제공하는 경우, 접지 전극 사이에 개재되는 방전 전극의 면 방향은 접지 전극의 면 방향과 나란하게 되도록 금속 띠를 비틀어 놓음으로써, 접지 전극 끝 단의 과다 고압방전현상을 방지할 수 있다.
또한, 종래에는 접지 전극 끝에서 방전이 과하게 일어나는 문제를 막기 위해 끝 단에 절연재료를 덧대거나, 둥글게 처리를 하는 추가적인 공정이 있었으나, 방전 전극을 꼬아서 제공하는 구조는 접지 전극 끝에서 과한 방전을 방지할 수 있어 상기한 추가 공정을 생략할 수 있다.
또한, 꼬아진 형태의 방전 전극에서의 방전은 공기의 흐름이 빠를 경우 방전 전극에 접촉된 공기의 유동력으로 방전 전극 가장자리가 지속적으로 위치가 변동되어 방전부위가 변동하고, 이에 방전 효율을 좋게 한다.
또한, 꼬아진 방전 전극 구조는 접지 전극 사이에 통과하는 기체의 흐름을 흩트려 놓아 난류현상을 일으키고, 처리 기체의 접촉 반응 효율을 높일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 대기처리장치의 정면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 대기처리장치의 평면도이다.
도 3 및 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 대기처리장치 중 플라즈마 처리실의 도면들이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 대기처리장치 중 액체 처리부의 도면이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 대기처리장치 중 플라즈마 처리실의 부분 확대도이다.
이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 참고로, 본 설명에서 동일한 번호는 실질적으로 동일한 요소를 지칭하며, 이러한 규칙 하에서 다른 도면에 기재된 내용을 인용하여 설명할 수 있고, 당업자에게 자명하다고 판단되거나 반복되는 내용은 생략될 수 있다.
본 발명에 따른 대기처리장치는 축산 악취나 생활쓰레기, 및 산업 폐기물장치에도 두루 설치될 수 있으며, 여타의 유기질비료 공장, 무균동물 사육실, 동물실험실, 화학제품제조 시설, 스포츠센터, 지하철역사, 항온 항습 창고, 클린룸 시설 등에 설치되어 공기 중에 포함된 악취원인물질을 제거하도록 사용될 수 있으며, 대기처리장치의 적용분야 및 설치장소에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 대기처리장치의 정면도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 대기처리장치의 평면도이며, 도 3 및 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 대기처리장치 중 플라즈마 처리실의 도면들이며, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 대기처리장치 중 액체 처리부의 도면이다.
도 1 내지 도 5를 참조하면, 본 실시예에 따른 대기처리장치(100)는 악취처리 하우징(101), 하부 수조(110), 플라즈마 처리실(300), 습식 처리실(400), 및 액체 처리부(160)을 포함한다.
악취처리 하우징(101)의 일측에는 악취원인물질을 갖는 공기를 흡입하는 흡입 덕트(102) 및 악취원인물질을 처리하여 공기를 배출하는 배출 덕트(104)가 배치된다.
흡입 덕트(102) 및 배출 덕트(104)는 악취처리 하우징(101)의 상단부에 인접하게 배치된다. 흡입 덕트(102)로 유입되는 공기는, 흡입 덕트(102)에서 악취처리 하우징(101) 하부를 향하며, 플라즈마 처리실(300)이 배치되는 하방경로 및 하방경로로부터 배출 덕트(104)를 향하며, 습식 처리실(400)이 배치되는 상방경로를 경유하여 외부로 배출된다.
악취원인물질에 내포된 이물질 특히 축산 악취에 많이 내포되는 유지 성분의 경우, 기존의 필터로는 처리의 한계가 있고, 자주 교환해주어야 하여 유지 비용의 부담이 컸다.
하지만, 악취원인물질을 플라즈마 처리실(300)에서 선 처리하여, 지용성 이물질을 수용성으로 전환시키고, 다시 습식 처리실(400)에서 처리한다. 이에 필터 교환과 같은 비용의 부담이 없고, 대용량 처리가 가능하다.
세척노즐에서 액체를 분사하는 경우 플라즈마 장치가 일시적으로 정지되어 플라즈마 고압 방전 시 액체에 의한 방전 전극과 접지 전극 간의 전기적 숏트 및 합선과 같은 연결로 인한 피해를 방지할 수 있다.
참고로, 대풍량의 기체를 처리하기 위하여 흡입 덕트와 세척 노즐, 플라즈마 처리실이 수직으로 배치되는 본 발명의 구조에서는 흡입 덕트 외측에는 별도의 거름망은 배제하는 것이 바람직하다.
본 실시예에 따른 플라즈마 처리실(300)은, 코로나 방전을 위한 접지 전극(310) 및 방전 전극(320)을 포함하고, 접지 전극(310)과 방전 전극(310)은 하우징(302) 내부에 배치된다. 하우징(302)은 처리될 공기의 유동 경로상에 배치되며, 하우징(302)의 일측에는 처리될 공기가 유입되기 위한 입구가 형성되고, 하우징(302)의 다른 일측에는 악취원인물질이 제거된 공기가 배출되기 위한 출구가 형성된다.
접지 전극(310)은 하우징(302)의 입구에서부터 출구까지 연장되는 공기의 이동경로에 나란하게 배치되는 벌집구조로 제공되며, 셀 각각이 육각형으로 제공되는 벌집구조의 낱개의 셀(315) 안쪽에 방전 전극(320)이 각각 배치된다.
벌집구조의 접지 전극은 기체 방향과 셀의 연장방향이 나란하여 통기성이 좋고, 처리기체를 빈틈없이 처리할 수 있을 뿐만 아니라, 구조적으로 견고하여 외부의 충격이나 구조적 변형에 매우 강하고, 현장 조립도 매우 용이하다.
접지 전극(310)은 하우징(302)의 측벽에 내열성이 높은 재료의 고정대에 의해서 고정될 수 있다. 다만, 전원 공급부에 의해서 방전 전극(320)과 접지 전극(310)에는 고압의 전류가 전달되는 관계로 하우징(302)으로 전류가 누출되면 안전사고가 발생할 수 있다. 따라서, 상기 고정대는 테플론(polytetrafluoroetylene)과 같이 내열성 및 절연성이 좋은 에틸렌 수지를 사용할 수 있다.
한편, 방전 전극(320)은 기다란 직사각 밴드 형상으로 제공되는데, 본 발명의 방전 전극(320)은 얇은 금속 띠가 비틀어져 제공된다. 방전 전극(320)의 가장자리와 접지 전극(320)과의 거리가 부분적으로는 조금씩 상이하지만 대략 일정하게 유지되어 방전 전극(320)의 가장자리 중 특정 지점에서만 과다 고압 방전현상이 일어나는 것을 방지할 수 있다.
또한, 금속 띠의 단면이 공기의 흐름과 직각을 유지하기 때문에 공기의 흐름에 의해 크게 흔들리지 않기 때문에 접지 전극(310)과 일정거리를 유지하여 방전효율이 일정하게 유지된다.
또한, 꼬아진 형태의 방전 전극(320)에서의 방전은 공기의 흐름이 빠를 경우, 방전 전극(320)에 접촉된 공기의 유동력으로 방전 전극(320) 가장자리가 지속적으로 위치가 변동되어 방전부위가 변동하고, 이에 방전 효율을 좋게 한다.
나아가, 꼬아진 방전 전극(320)의 구조는 접지 전극 사이에 통과하는 기체의 흐름을 흩트려 놓아 난류현상을 일으키고, 처리 기체의 접촉 반응 효율을 높일 수 있다. 즉, 고압 플라즈마 방전이 기체의 흐름 속에서는 일정지점으로 방전되는 것이 아니며 통과기체에 따라 방전 지점 및 방전효율이 연속적으로 변경될 수 있다.
참고로, 플라즈마 처리실(300)을 통과하는 통과공기의 유량 및 유속에 따라 방전 전극(320)을 꼬는 회전 수를 변화하여 통과기체의 방전효율을 좋게 할 수도 있다.
또한, 띠 형상의 방전 전극(320)은 방전 전극(320)의 상단부 및 하단부에 봉상의 방전 전극 연결전도체(320)를 배치하고, 방전 전극(320)의 상단부 및 하단부를 방전 전극 연결전도체(306)의 외주를 감싸게 태엽 형상으로 제공할 수 있다.
전원 공급부는 접지 전극(310)과 방전 전극(320) 어느 한쪽 또는 양쪽에 서로 다른 전압으로 코로나 방전을 위한 전원을 인가하도록 제공되며, 전원 공급부를 통해 접지 전극(310)과 방전 전극(320)에 전원이 공급될 시 접지 전극(310)과 방전 전극(320)의 사이에 해당되는 코로나 방전공간에서는 코로나 방전이 발생된다.
전술한 바와 같이, 방전 전극(320)과 접지 전극(310) 사이에 코로나 방전이 발생됨에 따라 방전 전극(320)의 가장자리와 접지 전극(310) 사이에는 각종 화학적 활성종(chemically active specie)이 생성될 수 있다. 예를 들어, 코로나 방전공간에는 코로나 방전에 의해 통상의 산화성 활성종이 형성될 수 있으며, 코로나 방전공간을 통과하는 악취원인물질은 산화성 활성종에 의해 제거될 수 있다.
참고로, 방전 전극의 가장자리에는 복수개의 방전 돌기를 형성하여 낮은 전압으로도 코로나 방전이 쉽게 일어나도록 할 수 있다.
접지 전극(310)과 방전 전극(320)이 배치되는 방전공간으로 악취원인물질을 갖는 공기를 공급하여 간단하게 악취원인물질을 제거할 수 있고, 방전공간으로 공급하는 공기의 유속을 조절하거나 방전 공간의 크기를 조절하여 비교적 간단하게 고농도의 악취원인물질을 갖는 공기의 대용량 처리가 가능하다.
또한, 교류 전압을 전파 정류하여 방전 전극 및 접지 전극에 양성 또는 음성 전압을 교차적으로 인가할 수 있는 것을 사용함으로써, 주기적으로 양성 및 음성 코로나 방전을 발생시켜 악취원인물질을 공기 유동상에서 자연적으로 탈락시킬 수 있다. 아울러, 교류 전압의 전파정류(full-wave rectification)는 통상의 브리지 회로를 이용하여 구현할 수 있으며, 브리지 회로의 종류 및 특성에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다.
습식 처리실(400)은 유입되는 공기를 분사되는 액체로 처리하기 위한 복수개의 처리노즐(410)을 포함한다.
또한, 처리노즐(410)에서 분사되는 액체의 물방울 입자를 적절히 크게 하여 대풍량 처리에서도 분무되는 물방울이 기체의 유속에 비산되지 않도록 노즐의 분사 직경을 크게 조절하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에서는 액체의 입자 크기를 조절하여 배출 덕트를 통해서 하우징 외부로 물방울이 기체와 함께 비산되는 것을 방지할 수 있지만, 처리노즐에서 액체가 하방을 향하여 분사되게 하고, 배출 덕트를 하우징 상부에 배치하여 물방울이 외부로 배출되는 것을 최소화할 수 있다.
또한, 본 발명에서는 대용량의 기체를 처리하기 위하여 기체의 유동 경로에 저항을 형성하는 장애물을 최소화하는데, 이러한 연유로 습식 처리실에서 처리된 공기에서 액체를 제거하기 위한 별도의 필터는 배제하는 것이 좋다. 다만, 경우에 따라서, 액체를 효과적으로 제거할 수 있는 데미스터 필터를 사용할 수는 있다.
참고로, 습식 처리실 내측에는 복수개의 내부 간격판이 서로 엇갈리게 배치되어 습식 처리실 내측을 통과하는 공기를 좌우로 우회시킬 수도 있다.
또한, 본 실시예에서 악취처리 하우징(101) 하부에는 하부 수조(110)가 마련되어 있어서 세척노즐(210)이나 처리노즐(410)로부터 분사되는 액체를 수용할 수 있다. 하부 수조(110)는 상부가 완전히 개방된 구조로 세척노즐의 세척수와 처리노즐의 처리수를 재 활용할 수 있도록 수용할 수 있다.
그리고, 하부 수조(110)에 수용되는 액체는 액체 처리부(500)에서 처리되어 다시 노즐로 공급될 수 있다.
액체 처리부(500)는 수용 챔버부(510), 유전체관(520), 코어전극(530), 광촉매 다공망(550), 및 기액 반응기(560)를 포함한다.
수용 챔버부(510)는 이미 사용된 세척수와 처리수를 수용하고, 액체 유입구(512)를 통해서 세척수와 처리수 같은 오수가 저장된다.
유전체관(520)은 수용 챔버부(510) 내측에서 수용액체에 직접 침지된 상태로 제공되며, 이는 유전성 재료로 제조될 수 있으며, 유리, 석영, 혹은 유리 적층물과 같은 투명한 성질을 갖는 세라믹 재료를 사용할 수 있다. 본 실시예에서는 석영을 이용하여 제조된 유전체관(520) 내측에서 플라즈마 방전에 의해서 생성되는 자외선이 그대로 유전체관(520)을 투과하여 수용액체로 공급될 수 있도록 하며, 동시에, 유전체관(520) 외측에 배치되는 광촉매 다공망(550)에 의해서 자외선 및 기체 활성종의 활성도를 극대화시켜 처리효율을 높일 수 있다.
본 실시예에서 유전체관(520)의 개수는 수용액체의 처리 효과를 향상시키기 위하여 복수개가 사용되며, 유전체관(520) 주변에서 유전체관(520)을 둘러싸 수용하는 원통형 광촉매 다공망(550)은 유전체관(520)에 개별적으로 배치된다. 다수로 배열된 각 유전체관(520) 외측으로 광촉매 다공망(550)을 제공함으로써, 플라즈마 발생시 생성되는 자외선에 의한 살균 효과를 극대화할 수 있으며, 광촉매로는 TiO2 혹은 Al2O3를 사용할 수 있다.
코어전극(530)은 전기가 잘 통하는 탄소나 전도성이 뛰어나며 내열성과 강도 또한 좋은 텅스텐 혹은 그 외의 다른 금속 재질로 제조될 수 있으며, 도 5에 도시된 바와 같이, 유전체관(520) 내측에 배치되어 수용액체로부터 격리된다.
또한, 코어전극(530)은, 코어전극(530)의 곳곳에 배치될 수 있는 삼각 지지형태의 코어전극 고정부재(534)에 의해서 코어전극(530)의 안전성 및 변형을 방지하도록 하며, 코어전극(530)을 보다 안정되게 유전체관(520) 내측에 배치할 수 있도록 그 수는 변경될 수 있다. 구체적으로, 본 실시예에서는 코어전극(530)의 아래 측 단부에 인접하게 하부 코어전극 고정부재(534)가 배치된다. 또한, 코어전극 고정부재(534)는 기체 유입구(522)로부터 유입되는 기체가 유전체관(520) 내부를 거쳐 기체 배출구(524)로 배출되는데 문제가 없도록 통공이 형성된다.
참고로, 코어전극 고정부재(534)는 폴리테트라플루오르에틸렌으로 제조할 수 있으며, 폴리테트라플루오르에틸렌은 용융 알칼리 금속, 고온의 불소 가스 이외의 모든 약품에 침식되지 않으며, 내열성이 좋은 불연성 소재인데다, 전기 절연성도 양호하여, 코어전극(530)과 직접 접촉되어도 성질이 변화하지 않기 때문에 코어전극(530)을 유전체관(520)에 고정할 수 있는 유용한 재료이다.
상술한 바와 같이, 코어전극 고정부재(534)에 의해서 유전체관(520) 내측에 고정된 코어전극(530)으로 전원 공급부(580)로부터 제공되는 교류 고전압 즉, 전원을 공급하고, 동시에 기체를 압축해 제공하는 블로워(blower)와 같은 기체 공급부로부터 유전체관(520) 내부로 공기를 공급하면, 유전체관(520) 내부는 절연이 깨지면서 방전 즉 플라즈마 상태에 놓이게 된다. 이때, 유전체관(520)의 내부로 강제로 공급되는 기체로부터 오존, 라디칼(radical), 이온, 전자, 및 여기된 분자와 같은 기체 활성종 및 플라즈마 상태에서 이온이나 들뜬 상태의 분자들에 의해 여러 파장의 자외선과 같은 플라즈마 생성물이 방출된다.
상술한 플라즈마 생성물 중 자외선은 유전체관(520)이 오수 내에 직접 침지되어 있어서 바로 공급이 가능하며, 유전체관(520) 외측에 배치된 광촉매 다공망(550)에 의해서 보다 활성화되어 오수로 전달될 수 있다.
또한, 플라즈마 방전에 의해서 생성된 기체 활성종을 포함하는 기체는 기체 배출구(524)를 통해서 기액 반응기(560)로 공급되는데, 기액 반응기(560)는 기체 활성종을 이용하여 오수를 일차적으로 처리할 수 있고, 이렇게 처리된 오수는 하부 수조(110)로 배출할 수 있다.
한편, 수용 챔버부(510)의 상부에는 기체 공급부로부터 공기를 공급받아 유전체관(520)의 기체 유입구(522)로 공기를 공급할 수 있는 상부 통로(516)가 마련되어 있으며, 수용 챔버부(510)의 하부에는 유전체관(520) 내측을 지나 유전체관(520)의 기체 배출구(524)로 배출되는 공기를 기액 반응기(560)로 전달할 수 있는 하부 통로(518)가 마련되어 있다. 즉, 유전체관(520)의 기체 유입구(522) 및 기체 배출구(524)는 수용액체와 분리된 상태로 제공되어, 수용액체가 유전체관(520) 내측으로 유입되는 것이 방지된다.
만약, 플라즈마 방전이 일어나는 유전체관이 수용액체의 외부에 배치된다면, 기체 활성종을 수용액체로 끌어와 수용액체의 처리 사용될 수 있겠으나, 자외선은 외부에서 끌어와 수용액체에 사용할 수 없는 문제점이 있다.
하지만, 본 발명에 따른 플라즈마 수처리장치(500)의 플라즈마 방전이 일어나는 유전체관(520)을 수용액체에 침지된 상태로 제공하기 때문에, 플라즈마 방전에 의해서 생성된 자외선은 유전체관(520)을 통해서 직접 수용액체로 공급될 수 있고, 동시에, 유전체관(520) 내부에 생성되는 기체 활성종은 기액 반응기(560)를 통해서 수용액체로 공급되어 수용액체를 처리하는데 사용할 수 있다.
특히, 본 발명에 따른 플라즈마 수처리장치에서 유전체관(520)은 수용액체에 침지되지만, 유전체관(520) 내부에는 수용액체가 유입되지 않기 때문에, 고압의 전류가 걸리는 코어전극은 액상의 수용액체에 의해서 산화/부식이 쉽게 일어나지 않으며, 코어전극은 액상의 수용액체와 직접 접촉하지 않아, 액상의 수용액체의 전기 전도로 인한 전력 손실을 최소화할 수 있다.
즉, 본 발명에 따른 플라즈마 수처리장치는 별도의 자외선 발생장치를 사용할 필요가 없고, 플라즈마 방전에 의해서 생성되는 자외선이나 기체 활성종을 한번에 생성하고, 이를 모두 수용액체 처리에 사용할 수 있는 장점이 있다.
한편, 액상의 수용액체는 그라운드 전극과 연결될 수 있으며, 액상의 수용액체가 그라운드 전극의 역할을 함으로써, 금속 전극을 사용할 때와 다르게 부식 문제를 해결할 수 있다.
상술한 바와 같이 처리된 수용액체는 수용 챔버부(510)의 액체 배출구(514)를 통해서 다시 노즐로 공급될 수 있다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 대기처리장치 중 플라즈마 처리실의 부분 확대도이다.
도 6을 참고하면, 본 실시예에 따른 플라즈마 처리실은, 코로나 방전을 위한 접지 판(610) 및 방전 핀(620)을 포함하고, 접지 판(610)과 방전 핀(620)은 하우징 내부에 배치된다.
접지 판(610)은 하우징(602)의 입구에서부터 출구까지 연장되는 공기의 이동경로에 나란하게 배치되는 직사각 판으로 제공되며, 복수 개의 접지 판(610)은 서로 평행하게 배치된다. 접지 판(610)은 아주 얇은 평판으로 제공되며, 실질적으로 대략 가로 1000㎜, 세로 1500㎜, 철판의 두께는 2㎜정도로 제작된다. 접지 판의 재질은 처리 기체의 부식성 및 판재의 평면도, 가공성, 견고성을 등을 고려하여 전기 전도성이 우수한 스테인리스 304, 316 등의 재질을 이용하는 것이 경제적으로 기능적으로 바람직하다. 또한, 내식성이 우수한 텅스텐 재질이나 티타늄 재질을 사용할 수도 있다.
방전 핀(620)은 기다란 직사각 밴드 형상으로 제공되는데, 단순한 밴드가 아닌 꼬아진 밴드로 제공되어 가장자리가 교호적으로 접지 판(610)의 판면을 바라보도록 인접하게 배치되며, 복수개가 접지 판(610) 사이에 일렬로 배치될 수 있다.
판면을 바라보는 방전 핀(620)의 가장자리가 접지 판(610)의 판면과 가장 가깝기 때문에 방전이 잘 일어나나, 하우징으로 흘러 들어오는 공기에 의해서 방전 핀(620)의 가장자리 위치가 지속적으로 변경되어 방전 핀(620)의 가장자리에서 골고루 방전이 일어나는 것으로 볼 수 있다. 따라서, 방전 핀(620)의 특정 지점에서만 방전이 일어나지 않기 때문에 국부적인 온도 상승이 없고, 온도 상승으로 인한 전극의 훼손이 방지될 수 있다.
접지 판(610)과 방전 핀(620)이 배치되는 방전공간으로 악취원인물질을 갖는 공기를 공급하여 간단하게 악취원인물질을 제거할 수 있고, 방전공간으로 공급하는 공기의 유속을 조절하거나 방전 공간의 크기를 조절하여 비교적 간단하게 고농도의 악취원인물질을 갖는 공기의 대용량 처리가 가능하다.
더욱이, 본 실시예에서 접지 판(610)의 단부 부분(B)에 인접한 방전 핀(620)의 단부 부분(A)에서 방전 핀(620)의 면 방향은 접지 판(610)의 면 방향과 나란하게 되도록 즉, 방전 핀(620)의 가장자리가 접지 판(610)의 면 방향을 바라보지 않게 금속 띠를 비틀어 놓음으로써, 방전 핀(620)의 가장자리가 접지 판(610)의 면과 최대한 멀어지게 배치된다. 따라서, 접지 판(610) 끝 단의 과다 고압방전현상을 방지할 수 있다.
또한, 종래에는 접지 판(610) 끝에서 방전이 과하게 일어나는 문제가 있었고, 이에 끝 단에 절연재료를 덧대거나, 둥글게 처리를 하는 추가적인 공정이 있었으나, 방전 핀(620)을 꼬아서 제공하는 구조는 접지 판(610) 끝에서 과한 방전을 방지할 수 있어 상기한 추가 공정이 생략될 수 있는 장점도 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
100：대기처리장치 101：악취처리 하우징
102：흡입 덕트 104：배출 덕트
110：하부 수조 210：세척노즐
300：플라즈마 처리실 310：접지 전극
320：방전 전극 400：습식 처리실
410：처리노즐 500：액체 처리부
510：수용 챔버부 520：유전체관
530：코어전극 560：기액 반응기

Claims (20)

  1. 공기 중에 포함된 악취원인물질을 제거하기 위한 대기처리장치에 있어서,
    흡입 덕트 및 배출 덕트를 포함하는 악취처리 하우징;
    상기 흡입 덕트로 유입되는 공기를 플라즈마로 처리하기 위한 플라즈마 처리실;
    상기 플라즈마 처리실에서 처리되는 공기를 분사되는 액체로 처리하기 위한 처리노즐을 포함하는 습식 처리실;
    상기 처리노즐로부터 분사되는 액체를 상기 악취처리 하우징 하부에서 수용하는 하부 수조; 및
    상기 하부 수조에 수용되는 수용액체를 처리하여 상기 처리노즐로 재 공급하는 액체 처리부;
    를 포함하며, 상기 플라즈마 처리실은, 상기 공기의 유동방향을 따라서 연장되는 접지 전극; 및 상기 접지 전극에 인접하게 상기 공기의 유동방향을 따라서 연장되는 비틀어진(twisted) 띠 형상의 방전 전극을 포함하며, 상기 악취원인물질은 상기 접지 전극 및 상기 방전 전극의 가장자리에서 발생하는 코로나 방전에 의해 제거되는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 흡입 덕트 및 상기 배출 덕트는 상기 악취처리 하우징의 상단부에 각각 배치되며,
    상기 흡입 덕트로 유입되는 공기는,
    상기 흡입 덕트에서 상기 악취처리 하우징 하부를 향하는 하방경로 및 상기 하방경로로부터 상기 배출 덕트를 향하며, 상기 습식 처리실이 배치되는 상방경로를 경유하여 외부로 배출되는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 접지 전극이 공기의 유동방향을 따라서 연장되는 판 상으로 복수개가 제공되는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 접지 전극 사이에 개재되는 상기 방전 전극의 면 방향은 상기 접지 전극의 양 단부 부분에서 상기 접지 전극의 면 방향과 나란한 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 접지 전극의 상기 공기의 유동방향에 수직하게 절개한 단면은 벌집구조(honeycomb)를 가지며, 상기 벌집구조의 각각의 셀에 하나의 상기 방전 전극이 배치되는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 셀은 육각형으로 제공되는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 방전 전극의 상단부 및 하단부에 배치되는 봉상의 방전 전극 연결전도체를 포함하며,
    상기 방전 전극의 상단부 및 하단부 중 적어도 어느 일 측은 상기 방전 전극 연결전도체의 외주를 감싸는 태엽 형상으로 제공되는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 접지 전극은 스테인리스 판을 포함하는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 플라즈마 처리실 상부에 배치되는 세척노즐을 포함하며,
    상기 세척노즐은 상기 방전 전극 및 상기 접지 전극에 집진된 이물질 제거를 위하여 압축 액체를 분사하거나 압축 공기를 분사하는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 세척노즐은 하부의 상기 방전 전극 및 상기 접지 전극의 배치 방향을 따라서 수평으로 이동 가능하게 배치되는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 세척노즐에서 분사된 상기 압축 액체는 상기 하부 수조에 수용되어 상기 세척노즐로 재 공급되는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 액체 처리부는,
    상기 하부 수조의 상기 수용액체가 유입되는 액체 유입구 및 상기 수용액체가 배출되는 액체 배출구가 형성되는 수용 챔버부;
    상기 수용 챔버부 내측에 수용되는 상기 수용액체를 가로질러 배치되며, 상기 수용액체와 분리되는 기체 유입구 및 기체 배출구를 포함하는 유전체관;
    상기 수용액체로부터 격리되게 상기 유전체관 내측에 배치되는 코어전극;
    상기 수용액체에 침지된 상태에서 상기 유전체관을 외부에서 수용하는 광촉매 다공망;
    상기 기체 유입구로 기체를 공급하는 기체 공급부; 및
    상기 수용 챔버부의 상기 액체 배출구로 배출되는 상기 수용액체를 수용하며, 상기 기체 공급부에 의해서 상기 유전체관 내측으로 공급되어 플라즈마 반응에 의해서 생성된 기체 활성종을 포함하는 상기 기체를 상기 기체 배출구를 통해서 공급받아 상기 수용액체를 처리하며, 처리된 상기 수용액체를 상기 하부 수조로 배출하는 기액 반응기;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 유전체관의 상기 기체 유입구 및 상기 기체 배출구에는 상기 수용액체가 유입되는 것을 방지하기 위한 절연성 차단부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 유전체관 및 광촉매 다공망은 상기 수용액체의 표면에 수직으로 침지되는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  16. 제13항에 있어서,
    상기 광촉매 다공망은 각각의 유전체관을 외부에서 수용하는 중공의 원기둥 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  17. 제13항에 있어서,
    상기 광촉매 다공망에 사용되는 광촉매는 TiO2 및 Al2O3 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  18. 제13항에 있어서,
    상기 유전체관은 유리, 석영, 및 세라믹 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  19. 제13항에 있어서,
    상기 코어전극을 상기 유전체관 내측에 고정하며,
    상기 유전체관으로 유입되는 상기 기체의 원활한 통과성을 위해 삼각지지 형상의 코어전극 고정부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 대기처리장치.
  20. 삭제
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