KR101451712B1 - Method and apparatus for manufacturing touch screen panel - Google Patents

Method and apparatus for manufacturing touch screen panel Download PDF

Info

Publication number
KR101451712B1
KR101451712B1 KR1020120132157A KR20120132157A KR101451712B1 KR 101451712 B1 KR101451712 B1 KR 101451712B1 KR 1020120132157 A KR1020120132157 A KR 1020120132157A KR 20120132157 A KR20120132157 A KR 20120132157A KR 101451712 B1 KR101451712 B1 KR 101451712B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pressing
film
transparent electrode
pressing member
type
Prior art date
Application number
KR1020120132157A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20140065086A (en
Inventor
이응주
Original Assignee
(주)네패스디스플레이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)네패스디스플레이 filed Critical (주)네패스디스플레이
Priority to KR1020120132157A priority Critical patent/KR101451712B1/en
Publication of KR20140065086A publication Critical patent/KR20140065086A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101451712B1 publication Critical patent/KR101451712B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)

Abstract

터치스크린패널의 제조방법 및 장치를 개시한다. 본 발명의 실시 예에 따른 터치스크린패널의 제조방법은 투명한 절연기판의 배선영역에 장식층을 형성하는 공정; 절연기판의 윈도우영역과 장식층 위에 투명전극층을 형성하는 공정; 투명전극층 위에 필름형 감광제를 위치시키고, 탄성변형이 가능한 평판형 가압면을 가진 가압부재로 필름형 감광제를 가압하여 투명전극층에 부착시키는 공정; 포토리소그래피 공정에 의해 투명전극층의 불요(不要)부분을 제거하여 패턴화 된 투명전극배선을 형성시키는 공정을 포함한다. A method and apparatus for manufacturing a touch screen panel are disclosed. A method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention includes the steps of forming a decorative layer on a wiring region of a transparent insulating substrate; Forming a transparent electrode layer on the window region and the decorative layer of the insulating substrate; Placing a film-type photosensitizer on the transparent electrode layer, and pressing the film-shaped photosensitizer onto the transparent electrode layer with a pressing member having a plate-type pressing surface capable of elastically deforming; And removing unnecessary portions of the transparent electrode layer by a photolithography process to form a patterned transparent electrode wiring.

Description

터치스크린 패널의 제조방법 및 장치{METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING TOUCH SCREEN PANEL}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a touch screen panel,

본 발명은 필름형 감광제(DFR: Dry Film Photo Resist)의 긴밀한 부착을 구현하여 공정의 신뢰성을 높이고, 미세 패터닝이 가능하며, 공정의 소요시간을 줄일 수 있는 터치스크린 패널의 제조방법 및 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a touch screen panel capable of realizing close adhesion of a film type photosensitive material (DFR: Dry Film Photo Resist) to improve process reliability, enable fine patterning, will be.

터치스크린 패널은 스크린에 나타난 문자나 이미지 등을 토대로 사용자가 스크린의 특정 위치에 신체 일부(또는 터치펜)를 접촉시키는 방식으로 명령을 입력할 수 있는 장치다. The touch screen panel is a device that allows a user to input a command by touching a part of the body (or a touch pen) at a specific position on the screen based on characters or images displayed on the screen.

터치스크린 패널은 명령을 입력하는 방식에 따라 저항막 방식, 정전용량 방식, 적외선 방식, 초음파 방식으로 구분할 수 있다. 이 중 정전용량 방식은 생산비용이 저렴하고 광 투과율이 좋기 때문에 최근 다양한 전자기기의 입력장치로 널리 이용되고 있다.The touch screen panel can be classified into a resistive type, a capacitive type, an infrared type, and an ultrasonic type according to a command input method. Among them, the electrostatic capacity type is widely used as an input device of various electronic apparatuses because the production cost is low and the light transmittance is good.

정전용량 방식의 터치스크린 패널은 유리나 수지 등의 투명 절연기판 배면 쪽에 투명전극배선과 금속배선을 마련하는 방식으로 제조된다. 영상이 표시되는 윈도우 영역 배면에 감지센서로 기능하는 투명전극배선이 마련되고, 테두리 쪽의 배선영역 배면에 비투광성 금속배선이 마련된다. 또 절연기판의 배선영역 배면에는 사용자의 시야로부터 금속배선 등을 가리기 위한 장식층이 마련된다. 최근 이러한 터치스크린 패널은 절연기판 배면 쪽에 장식층, 투명전극배선, 금속배선을 직접 형성시켜 보다 얇고 광 투과율이 높은 일체형 패널을 제조하는 방향으로 발전하고 있다.The capacitive touch screen panel is manufactured by providing a transparent electrode wiring and a metal wiring on the back side of a transparent insulating substrate such as glass or resin. A transparent electrode wiring functioning as a detection sensor is provided on the back surface of the window region where the image is displayed and a non-transparent metal wiring is provided on the backside of the wiring region on the rim side. Further, a decorative layer for covering metal wiring and the like is provided on the back surface of the wiring region of the insulating substrate from the view of the user. Recently, such a touch screen panel has been developed in the direction of manufacturing a monolithic panel which is thinner and has high light transmittance by directly forming a decorative layer, a transparent electrode wiring and a metal wiring on the back side of an insulating substrate.

일체형 터치스크린패널을 제조할 때는 절연기판의 배선영역 배면에 블랙(black)잉크를 인쇄하는 방식으로 장식층을 마련하고, 그 위에 스퍼터링공정 등에 의해 투명전극층과 금속층을 형성시킨다. 이후 포토리소그래피(Photolithography) 공정에 의해 불요(不要)부분을 제거하는 방식으로 투명전극층에 투명전극배선을 만들고, 금속층에 금속배선을 만든다. 포토리소그래피공정은 투명전극층 또는 금속층 위에 필름형 감광제(DFR: Dry Film Photo Resist)를 부착한 상태에서 노광, 현상, 에칭, 박리 공정을 거쳐 패턴화 된 투명전극배선과 금속배선을 형성시킨다. 다른 방식으로 투명전극배선만을 형성한 후 배선영역 쪽에 금속 페이스트를 인쇄하는 방식으로 금속배선을 형성하기도 한다. When manufacturing an integrated touch screen panel, a decorative layer is formed by printing black ink on the back surface of a wiring region of an insulating substrate, and a transparent electrode layer and a metal layer are formed thereon by a sputtering process or the like. Thereafter, a transparent electrode wiring is formed in the transparent electrode layer by a photolithography process to remove unnecessary portions, and a metal wiring is formed in the metal layer. In the photolithography process, a patterned transparent electrode wiring and a metal wiring are formed through exposure, development, etching, and peeling in a state in which a film type photosensitive agent (DFR: Dry Film Photo Resist) is attached on a transparent electrode layer or a metal layer. A metal wiring may be formed by forming only a transparent electrode wiring in another manner and then printing a metal paste on the wiring area side.

그러나 이러한 터치스크린 패널은 절연기판의 배면에 단차를 형성하는 장식층이 존재하기 때문에 투명전극층이나 금속층 위에 필름형 감광제를 부착하기 어려웠다. 통상적으로 필름형 감광제는 원통형 롤러를 이용하여 그 상면을 가압하는 방식으로 부착하는데, 이러한 부착방식은 롤러의 특성상 장식층의 단차부분에서 감광제를 균일하게 가압하기 어렵다. 따라서 단차부분에서 필름형 감광제가 들뜨거나 접착부분에 공기층이 형성될 수 있다. 이처럼 감광제의 부착이 불량하면, 이후 투명전극배선을 형성하는 공정에서 단선 등의 불량이 발생할 수 있다. However, since the touch screen panel has a decorative layer that forms a step on the back surface of the insulating substrate, it is difficult to attach the film-type photosensitive agent on the transparent electrode layer or the metal layer. Typically, the film-type photosensitive agent is adhered in such a manner that the upper surface of the film-type photosensitive agent is pressed by means of a cylindrical roller. Such an attachment method is difficult to uniformly press the photosensitive agent at the stepped portion of the decorative layer due to the characteristics of the roller. Therefore, the film type photosensitizer may be lifted at the stepped portion or an air layer may be formed at the adhesion portion. If the adhesion of the photosensitizer is poor, defects such as disconnection may occur in the process of forming the transparent electrode wiring thereafter.

본 발명은 필름형 감광제의 긴밀한 부착을 구현하여 공정의 신뢰성을 높이고, 미세 패터닝이 가능하며, 공정의 소요시간을 줄일 수 있는 터치스크린 패널의 제조방법 및 장치를 제공하고자 한다.Disclosed is a method and apparatus for manufacturing a touch screen panel capable of realizing close adhesion of a film-type photosensitizer, improving reliability of the process, enabling fine patterning, and reducing the time required for the process.

본 발명의 일 측면에 따르면, 투명한 절연기판의 배선영역에 장식층을 형성하는 공정; 상기 절연기판의 윈도우영역과 상기 장식층 위에 투명전극층을 형성하는 공정; 상기 투명전극층 위에 필름형 감광제를 위치시키고, 탄성변형이 가능한 평판형 가압면을 가진 가압부재로 상기 필름형 감광제를 가압하여 상기 투명전극층에 부착시키는 공정; 포토리소그래피 공정에 의해 상기 투명전극층의 불요(不要)부분을 제거하여 패턴화 된 투명전극배선을 형성시키는 공정을 포함하는 터치스크린패널의 제조방법이 제공될 수 있다. According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: forming a decorative layer on a wiring region of a transparent insulating substrate; Forming a transparent electrode layer on the window region of the insulating substrate and the decorative layer; Placing a film-type photosensitive agent on the transparent electrode layer, pressing the film-type photosensitive agent with a pressing member having a plate-type pressing surface capable of being elastically deformed, and attaching the film-type photosensitive agent to the transparent electrode layer; And removing the unnecessary portions of the transparent electrode layer by a photolithography process to form a patterned transparent electrode wiring.

상기 필름형 감광제 부착공정은 상기 가압부재의 가압면을 상기 절연기판의 표면과 평행하게 유지시킨 상태로 상기 가압부재를 상기 절연기판 표면과 수직인 방향으로 가압할 수 있다.The step of adhering the film-type photosensitive agent may press the pressing member in a direction perpendicular to the surface of the insulating substrate while keeping the pressing surface of the pressing member parallel to the surface of the insulating substrate.

상기 필름형 감광제 부착공정은 상기 가압부재의 가압면으로 상기 필름형 감광제 전역을 동시에 가압할 수 있다.The step of adhering the film-type photosensitizer may press the entire region of the film-type photosensitizer simultaneously with the pressing surface of the pressing member.

상기 필름형 감광제 부착공정은 상기 가압부재의 가압면을 가열한 상태에서 상기 필름형 감광제를 가압할 수 있다.In the step of adhering the film-type photosensitizer, the film-shaped photosensitizer may be pressed while the pressing surface of the pressing member is heated.

상기 가압부재의 가열온도는 70 ~ 80℃를 유지할 수 있다.The heating temperature of the pressing member can be maintained at 70 to 80 캜.

상기 가압부재는 내부에 공기층을 포함할 수 있다.The pressing member may include an air layer inside.

상기 장식층은 상기 절연기판 배면에 유색잉크를 인쇄하는 방식으로 형성될 수 있다.The decorative layer may be formed by printing colored ink on the back surface of the insulating substrate.

상기 터치스크린패널의 제조방법은 상기 투명전극배선 형성 후, 상기 절연기판의 배선영역 배면 쪽에 인쇄방식으로 금속배선을 형성하는 공정을 더 포함할 수 있다.The manufacturing method of the touch screen panel may further include a step of forming a metal wiring on the rear side of the wiring region of the insulating substrate by printing after forming the transparent electrode wiring.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 투명전극층 또는 금속층 위에 필름형 감광제를 부착하는 공정을 포함하는 터치스크린패널의 제조방법에 있어서, 상기 필름형 감광제를 부착하는 공정은 부착위치에 필름형 감광제를 위치시키고, 탄성변형이 가능한 평판형 가압면을 가진 가압부재로 필름형 감광제를 가압하는 터치스크린패널의 제조방법이 제공될 수 있다. According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch screen panel including a step of attaching a film-type photosensitizer on a transparent electrode layer or a metal layer, the process comprising the steps of: A method of manufacturing a touch screen panel that presses a film-type photosensitizer with a pressing member having a flat pressing surface capable of elastic deformation can be provided.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 투명전극층 또는 금속층 위에 부착되는 필름형 감광제를 가압하기 위한 가압장치를 구비하되, 가압장치는 탄성변형이 가능한 소재로 마련되며 평판형 가압면을 가진 가압부재를 포함하는 터치스크린패널의 제조장치가 제공될 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a touch sensor comprising a pressing device for pressing a film-type photosensitive material adhered on a transparent electrode layer or a metal layer, wherein the pressing device is made of a material capable of elastic deformation and includes a pressing member having a flat- A manufacturing apparatus for a screen panel can be provided.

상기 가압부재는 탄성변형이 가능한 고무소재에 의해 마련될 수 있다.The pressing member may be provided by a rubber material capable of being elastically deformed.

상기 가압부재는 내부에 압축공기가 채워진 공기층을 포함할 수 있다. The pressing member may include an air layer filled with compressed air therein.

상기 가압부재는 가열을 위한 히터를 포함할 수 있다.The pressing member may include a heater for heating.

상기 가압장치는 상기 가압부재를 가압하는 지지패널과, 상기 지지패널을 가압하는 가압로드를 포함할 수 있다.The pressing device may include a supporting panel for pressing the pressing member, and a pressing rod for pressing the supporting panel.

본 발명의 실시 예에 따른 터치스크린패널의 제조방법은 필름형 감광제를 부착시키는 공정에서 탄성변형이 가능한 평판형 가압면을 가진 가압부재를 이용하여 필름형 감광제를 가압하기 때문에 단차가 형성된 부분까지도 필름형 감광제의 긴밀한 부착을 구현할 수 있다. The method of manufacturing a touch screen panel according to an embodiment of the present invention includes pressing a film-type photosensitive agent using a pressing member having a plate-type pressing surface capable of elastic deformation in a process of attaching a film-type photosensitive agent, Type photoresist can be realized.

또 본 실시 예에 따른 터치스크린패널 제조방법은 단차가 형성된 부분까지도 필름형 감광제를 긴밀하게 부착할 수 있기 때문에 투명전극배선을 형성하는 과정에서 단선 등의 불량을 최소화하여 공정의 신뢰성을 높일 수 있고, 필름형 감광제의 두께를 보다 얇게 할 수 있기 때문에 보다 미세한 패턴의 구현도 가능하다. In addition, the method of manufacturing a touch screen panel according to the present embodiment can closely adhere a film-type photosensitive agent even to a stepped portion, thereby minimizing defects such as disconnection in the process of forming a transparent electrode wiring, , The thickness of the film-type photosensitizer can be made thinner, so that a finer pattern can be realized.

또 본 실시 예에 따른 터치스크린패널 제조방법은 가압부재의 가압면이 필름형 감광제 전역을 동시에 가압하기 때문에 필름형 감광제의 신속한 부착을 구현할 수 있다. 따라서 그만큼 공정소요 시간을 단축할 수 있다.In addition, since the pressing surface of the pressing member presses the entire region of the film-type photosensitive agent at the same time, the method of manufacturing the touch screen panel according to the present embodiment can realize rapid attachment of the film-type photosensitive agent. Therefore, the process time can be shortened accordingly.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 제조방법으로 제조될 수 있는 터치스크린패널의 단면구조를 나타낸다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 터치스크핀패널의 제조방법을 개략적으로 나타낸 공정의 순서도이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 터치스크핀패널의 제조방법을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 터치스크핀패널의 제조방법에서 필름형 감광제를 부착하는 공정과 이를 위한 가압장치를 나타낸 단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 터치스크핀패널의 제조방법에서 필름형 감광제를 부착하는 공정과 이를 위한 가압장치를 나타낸 단면도로, 가압장치의 변형 예를 나타낸다.
1 illustrates a cross-sectional structure of a touch screen panel that can be manufactured by a manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a flowchart of a process for schematically illustrating a method of manufacturing a touchscreen panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view schematically showing a method of manufacturing a touchscreen panel according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view illustrating a process of attaching a film-type photosensitizer and a pressing device therefor in a method of manufacturing a touchscreen panel according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a process of attaching a film-type photosensitizer and a pressing device therefor in a method of manufacturing a touchscreen panel according to an embodiment of the present invention, and shows a modification of the pressing device.

이하에서는 본 발명의 실시 예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 아래에서 소개하는 실시 예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 사상을 충분히 전달하기 위해 제시하는 것일 뿐, 본 발명이 제시하는 실시 예만으로 한정되는 것은 아니다. 본 발명은 다른 실시 형태로도 구체화될 수 있다. 도면은 본 발명을 명확히 하기 위해 설명과 관계 없는 부분의 도시를 생략할 수 있고, 이해를 돕기 위해 구성요소의 크기 등을 다소 과장하여 표현할 수 있다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It is to be understood that the embodiments described below are provided only to illustrate the present invention and are not intended to limit the scope of the present invention. The present invention may be embodied in other embodiments. For the sake of clarity of the present invention, the drawings may omit the parts of the drawings that are not related to the description, and the size of the elements and the like may be somewhat exaggerated to facilitate understanding.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 제조방법으로 제조될 수 있는 터치스크린패널의 단면구조를 나타낸다. 도시한 바와 같이, 터치스크린패널(1)은 투명 절연기판(10), 장식층(20), 투명전극배선(30), 금속배선(40), 절연층(50)을 포함할 수 있다. 또 터치스크린패널(1)은 투명전극배선(30)이 위치하는 윈도우영역(A)과, 금속배선(40)이 위치하는 테두리 쪽의 배선영역(B)으로 구분될 수 있다.1 illustrates a cross-sectional structure of a touch screen panel that can be manufactured by a manufacturing method according to an embodiment of the present invention. As shown, the touch screen panel 1 may include a transparent insulating substrate 10, a decorative layer 20, a transparent electrode wiring 30, a metal wiring 40, and an insulating layer 50. The touch screen panel 1 may be divided into a window region A where the transparent electrode wiring 30 is located and a wiring region B on the edge side where the metal wiring 40 is located.

절연기판(10)은 디스플레이기기의 외표면을 이루는 투명한 유리기판이나 플라스틱기판일 수 있다. 유리기판은 소다라임유리, 강화유리 등을 포함할 수 있다. 플라스틱기판은 실리콘, PET(Polyethylene Terephthalate), PEN(Polyethylene Naphthalate), PES(Polyether Sulfone), 폴리이미드(Polyimide), PAR(Polyarylate), PC(Polycarbonate), PMMA(Polymethyl Methacrylate), COC(Cycloolefin Copolymer) 등을 포함할 수 있다. The insulating substrate 10 may be a transparent glass substrate or a plastic substrate forming the outer surface of the display device. The glass substrate may include soda lime glass, tempered glass, and the like. The plastic substrate is made of silicon, PET (Polyethylene Terephthalate), PEN (Polyethylene Naphthalate), PES (Polyether Sulfone), Polyimide, PAR (Polyarylate), PC (Polycarbonate), Polymethyl Methacrylate (PMMA), Cycloolefin Copolymer And the like.

장식층(20)은 배선영역(B)에 위치하는 금속배선(40) 등을 가릴 수 있도록 절연기판(10)의 배선영역(B) 배면에 마련된다. 장식층(20)은 스크린 인쇄(Screen printing)방식에 의해 절연기판(10)의 배선영역(B) 배면에 블랙 페이스트나 블랙잉크 등을 입히는 방식으로 형성될 수 있다. The decorative layer 20 is provided on the back surface of the wiring region B of the insulating substrate 10 so as to cover the metal wiring 40 or the like located in the wiring region B. The decorative layer 20 may be formed in such a manner that black paste, black ink, or the like is coated on the back surface of the wiring region (B) of the insulating substrate 10 by a screen printing method.

투명전극배선(30)은 절연기판(10) 표면의 접촉 여부를 정전용량방식으로 감지하는 기능을 한다. 투명전극배선(30)은 절연기판(10)의 윈도우영역(A) 배면과 장식층(20) 배면 쪽에 마련될 수 있다. 투명전극배선(30)은 금속산화물 또는 유기물로 투명전극층을 마련한 상태에서 포토리소그래피 공정에 의해 불요(不要)부분을 제거하는 방식으로 마련될 수 있다. The transparent electrode wiring 30 functions to detect whether or not the surface of the insulating substrate 10 is in contact with the surface of the insulating substrate 10 by a capacitive method. The transparent electrode wiring 30 may be provided on the rear surface of the window region A of the insulating substrate 10 and on the rear surface of the decorative layer 20. The transparent electrode wiring 30 may be provided in such a manner that unnecessary portions are removed by photolithography in a state in which a transparent electrode layer is formed of a metal oxide or an organic material.

투명전극배선(30)을 구성하는 금속산화물은 ITO(Indium Tin Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide), 아연산화물(ZnO), 주석산화물(SnO2), IZO(Indium Zinc Oxide), GZO(Gallium-doped Zinc Oxide), AZO(Aluminium-doped Zinc Oxide), CTO(Cadium Tin Oxide) 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 또 유기물은 폴리아닐린(Polyaniline), 폴리아세틸렌(polyacetylene), PEDOT(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), 폴리피롤(Polypyrrole), CNT(Carbon Nano Tube) 중 하나 이상을 포함할 수 있다. The metal oxide constituting the transparent electrode wiring 30 may be one selected from the group consisting of ITO (indium tin oxide), ATO (antimony tin oxide), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO2), IZO (Indium Zinc Oxide), GZO Zinc Oxide), Aluminum-doped Zinc Oxide (AZO), and Codium Tin Oxide (CTO). The organic material may include at least one of polyaniline, polyacetylene, poly (3,4-ethylenedioxythiophene), polypyrrole, and carbon nanotube (CNT).

금속배선(40)은 장식층(20)의 배면에 마련되며, 투명전극배선(30)과 전기적으로 연결된 도전성 물질로 형성될 수 있다. 금속배선(40)은 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 주석(Sn), 납(Pb), 아연(Zn), 인듐(In), 카드뮴(Cd), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 철(Fe), 코발트(Co), 마그네슘(Mg), 탄탈륨(Ta), 망간(Mn) 등의 소재에 의해 단층막 또는 다층막 구조로 형성될 수 있다. The metal wiring 40 may be formed on the rear surface of the decorative layer 20 and may be formed of a conductive material electrically connected to the transparent electrode wiring 30. The metal wiring 40 is formed of a metal such as Au, Ag, Cu, Al, Ni, W, Ti, Pt, (Sn), Pb, Zn, In, Cd, Cr, Mo, Fe, Co, Mg, , Tantalum (Ta), manganese (Mn), or the like.

금속배선(40)은 투명전극배선(30)을 마련한 후 장식층(20) 배면 쪽에 금속(Ag, Al 등)페이스트(paste)를 인쇄하는 방식으로 형성시킬 수 있다. 물론 이러한 금속배선(40)은 투명전극배선(30)과 마찬가지로 진공증착, 스퍼터링 등에 의해 금속층을 형성한 상태에서 포토리소그래피 공정에 의해 패터닝하는 방식으로 형성될 수도 있다.The metal wiring 40 may be formed by printing a metal (Ag, Al, or the like) paste on the back side of the decorative layer 20 after the transparent electrode wiring 30 is provided. Of course, the metal interconnection 40 may be formed by a method of patterning by a photolithography process in the state where a metal layer is formed by vacuum deposition, sputtering or the like, like the transparent electrode interconnection 30.

절연층(50)은 금속배선(40)에 연성회로기판(60, FPCB: Flexible Printed Circuit Board)을 연결한 상태에서 금속배선(40)의 배면 쪽을 덮도록 마련될 수 있다. 절연층(50)은 절연물질을 인쇄하는 방식에 의해 절연막을 형성하도록 마련될 수 있다. 절연물질로는 우레탄(Urethane), 폴리에스테르(Polyester), 아크릴(Acrylic) 등의 유기 화합물 또는 알루미나(Al2O3), 실리카(SiO2), 마그네시아(MgO) 등의 무기 화합물 중에서 1종 또는 그 이상이 선택적으로 이용될 수 있다.The insulating layer 50 may be provided to cover the backside of the metal wiring 40 in a state where a flexible printed circuit board (FPCB) 60 is connected to the metal wiring 40. The insulating layer 50 may be provided to form an insulating film by printing an insulating material. As the insulating material, one or more of organic compounds such as urethane, polyester, and acrylic or inorganic compounds such as alumina (Al2O3), silica (SiO2), and magnesia (MgO) . ≪ / RTI >

다음은 도 2와 도 3을 참조하면서 이러한 터치스크린패널(1)을 제조하는 방법에 대해 설명한다. Next, a method of manufacturing such a touch screen panel 1 will be described with reference to FIGS. 2 and 3. FIG.

터치스크린패널(1)의 제조방법은 도 2에 도시한 바와 같이, 절연기판 준비공정(71), 장식층 형성공정(72), 투명전극층 형성공정(73), 필름형 감광제 부착공정(74), 투명전극배선 형성공정(75), 금속배선 형성공정(76), 연성회로기판 본딩공정(77), 절연층 형성공정(78)을 포함할 수 있다. 2, the method for manufacturing the touch screen panel 1 includes an insulating substrate preparing step 71, a decorative layer forming step 72, a transparent electrode layer forming step 73, a film type photosensitive agent attaching step 74, A transparent electrode wiring forming step 75, a metal wiring forming step 76, a flexible circuit board bonding step 77, and an insulating layer forming step 78.

장식층 형성공정(71)은 도 3의 (b)에 나타낸 바와 같이, 절연기판(10)의 배선영역(B) 배면에 스크린 인쇄방식으로 블랙 페이스트나 블랙잉크를 입혀 장식층(20)을 형성한다. 본 실시 예는 장식층(20)이 스크린 인쇄방식에 의해 마련되는 경우를 예시하지만, 장식층(20)의 형성방식이 이에 한정되는 것은 아니다. 장식층(20)은 흑색안료를 포함하는 감광성 수지 조성물을 절연기판 배면 전체에 코팅하거나, 스퍼터링이나 화학기상증착 등에 의해 크롬 등의 박막을 형성한 상태에서 포토리소그래피(Photolithography)공정에 의해 원도우영역을 제거하는 방식으로도 마련될 수 있다.3 (b), the decorative layer forming step 71 forms a decorative layer 20 by applying black paste or black ink on the back surface of the wiring region B of the insulating substrate 10 by a screen printing method do. The present embodiment exemplifies the case where the decorative layer 20 is provided by a screen printing method, but the manner of forming the decorative layer 20 is not limited thereto. The decorative layer 20 is formed by coating a photosensitive resin composition containing a black pigment on the entire rear surface of an insulating substrate or by forming a thin film of chromium or the like by sputtering or chemical vapor deposition or the like on a window region by a photolithography process It may be provided in a manner that removes it.

투명전극층 형성공정(73)은 투명전극배선(30)을 형성시키기 위해 도 3의 (c)에 나타낸 바와 같이, 절연기판(10)에 마련된 장식층(20)과 원도우영역(A)의 배면에 금속산화물이나 유기물로 막을 형성시키는 공정이다. 즉 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO(Zinc Oxide) 등의 투명한 전도성 물질로 투명전극층(31)을 형성시킨다. 이러한 투명전극층(31)은 진공증착(Vacuum evaporation), 이온증착(Ion plating), 스퍼터링, 화학기상증착 등에 의해 형성될 수 있다. 또는 박막형태로 제조된 투명전극필름을 절연기판(10)에 부착하는 방식으로도 마련될 수 있다.The transparent electrode layer forming step 73 is performed so that the decorative layer 20 provided on the insulating substrate 10 and the back surface of the window region A are formed on the back surface of the window region A, And a film is formed of a metal oxide or an organic material. That is, the transparent electrode layer 31 is formed of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or zinc oxide (ZnO). The transparent electrode layer 31 may be formed by vacuum evaporation, ion plating, sputtering, chemical vapor deposition, or the like. Or a method of attaching a transparent electrode film made in the form of a thin film to the insulating substrate 10.

투명전극층(31)을 형성한 후에는 도 3의 (d)에 나타낸 바와 같이, 투명전극층(31) 위에 필름형 감광제(35, DFR: Dry Film Photo Resist)를 부착시키는 공정(74)을 수행한다. 이어서 도 3의 (d) ~ (f)에 나타낸 바와 같이, 포토리소그래피공정에 의해 투명전극층(31)으로부터 불요(不要)부분을 제거하는 방식으로 패턴화 된 투명전극배선(30)을 형성시키는 투명전극배선 형성공정(75)을 수행한다. 즉 노광, 현상, 에칭, 박리공정을 거치는 포토리소그래피 공정을 통해 도 3의 (f)와 같은 투명전극배선(30)을 만든다. 도 3의 (d)에서 부호 36은 노광공정을 위한 마스크를 나타낸다.After the transparent electrode layer 31 is formed, a step 74 of attaching a film-type photosensor (DFR: Dry Film Photo Resist) 35 on the transparent electrode layer 31 is performed as shown in FIG. 3 (d) . Then, as shown in FIGS. 3 (d) to 3 (f), a transparent (transparent) electrode wiring pattern 30 is formed by patterning in such a manner as to remove unnecessary portions from the transparent electrode layer 31 by a photolithography process An electrode wiring forming step (75) is performed. That is, a transparent electrode wiring 30 as shown in FIG. 3F is formed through a photolithography process through exposure, development, etching, and stripping. 3 (d), reference numeral 36 denotes a mask for the exposure process.

금속배선 형성공정(76)은 도 3의 (g)에 나타낸 바와 같이, 장식층(20) 배면 쪽에 투명전극배선(30)과 연결된 금속배선(40)을 형성시키는 공정이다. 금속배선(40)은 금속(Ag, Al 등)페이스트(paste)를 인쇄하는 방식으로 형성시킬 수 있다.The metal wiring forming step 76 is a step of forming the metal wiring 40 connected to the transparent electrode wiring 30 on the back side of the decorative layer 20 as shown in Fig. The metal wiring 40 can be formed by printing a metal (Ag, Al, etc.) paste.

금속배선(40)을 형성한 후에는 도 3의 (h)에 나타낸 바와 같이, 연성회로기판(60)을 연결하고, 절연층(50)을 형성시키는 공정(78)을 수행한다. 절연층(50) 역시 인쇄에 의해 금속배선(40) 배면 쪽에 절연물질을 입히는 방식으로 마련할 수 있다. After the metal wiring 40 is formed, a step 78 of connecting the flexible circuit board 60 and forming the insulating layer 50 is performed as shown in FIG. 3 (h). The insulating layer 50 may also be provided in a manner that an insulating material is applied to the back surface of the metal wiring 40 by printing.

본 실시 예는 금속배선(40)을 인쇄방식으로 형성하는 경우를 제시하지만, 금속배선(40)의 형성방식이 이에 한정되는 것은 아니다. 금속배선(40)도 투명전극배선(30)과 마찬가지로 진공증착, 스퍼터링 등의 방법을 이용해 금속층(미도시)을 형성한 상태에서 포토리소그래피 공정에 의해 패터닝하는 방식으로 형성될 수 있다. 이 경우 금속층은 투명전극층(31) 위에 형성될 수 있고, 포토리소그래피공정을 위한 필름형 감광제(35)는 금속층 위에 부착될 수 있다. The present embodiment shows a case where the metal wiring 40 is formed by a printing method, but the formation method of the metal wiring 40 is not limited thereto. The metal wiring 40 may be formed by a method of patterning by a photolithography process in the state where a metal layer (not shown) is formed by a method such as vacuum evaporation or sputtering in the same manner as the transparent electrode wiring 30. In this case, a metal layer may be formed on the transparent electrode layer 31, and a film-type photosensitizer 35 for the photolithography process may be deposited on the metal layer.

한편, 전술한 터치스크린패널의 제조방법에서 투명전극층(31) 위에 필름형 감광제(35)를 부착하는 공정(74)은 도 4에 도시한 바와 같이, 필름형 감광제(31)를 가압하는 가압장치(80)를 이용할 수 있다. 가압장치(80)는 탄성변형이 가능한 고무, 실리콘 등의 소재로 마련된 가압부재(81)와, 가압부재(81)를 가압하는 지지패널(82)과, 지지패널(82)을 가압하는 가압로드(83)를 포함할 수 있다. 4, the step of attaching the film-type photosensitizer 35 on the transparent electrode layer 31 is performed by a pressing device (not shown) for pressing the film-shaped photosensitizer 31, (80) can be used. The pressing device 80 includes a pressing member 81 made of a material such as rubber or silicon capable of being elastically deformed, a holding panel 82 for pressing the pressing member 81, (83).

가압부재(81)는 부착하는 필름형 감광제(35)의 면적과 대응하거나 보다 큰 면적을 가지는 평판형의 가압면(81a)을 구비한다. 또 가압부재(81)는 가압부재(81)의 가열을 위한 히터(84)를 구비한다. 히터(84)는 가압부재(81) 내에 전기히터가 내장되는 방식, 또는 가압부재(81) 내부로 가열된 열유체가 순환하는 방식 등으로 구현될 수 있다.The pressing member 81 has a pressing surface 81a of a flat plate shape corresponding to or larger than the area of the film-like photosensitive member 35 to which the pressing member 81 is attached. The pressing member 81 is provided with a heater 84 for heating the pressing member 81. The heater 84 can be realized by a method in which an electric heater is embedded in the pressing member 81 or a method in which the heating fluid heated inside the pressing member 81 is circulated.

가압장치(80)를 이용해 필름형 감광제(35)를 부착할 때는 먼저 도 4의 (a)에 도시한 바와 같이, 가압부재(81)의 가압면(81a)을 절연기판(10)과 이격시킨 상태에서 투명전극층(31) 위에 필름형 감광제(35)를 위치시킨다. 이때 가압부재(81)의 가압면(81a)은 절연기판(10)의 표면과 평행한 상태를 유지시킨다. 4A, the pressing surface 81a of the pressing member 81 is spaced apart from the insulating substrate 10 when the film type photosensitive agent 35 is attached using the pressing device 80 The film-type photosensitizer 35 is placed on the transparent electrode layer 31 in the state of FIG. At this time, the pressing surface 81a of the pressing member 81 maintains a state parallel to the surface of the insulating substrate 10.

필름형 감광제(35)를 위치시킨 후에는 도 4의 (b)에 나타낸 바와 같이, 가압부재(81)를 절연기판(10)의 표면과 수직인 방향으로 이동시켜 필름형 감광제(35)를 가압한다. 이때는 가압부재(81)의 가압면(81a)이 필름형 감광제(35) 상면 전역을 균등한 압력으로 동시에 가압하기 때문에 필름형 감광제(35)가 투명전극층(31) 위에 균일하게 부착될 수 있다. 특히 가압부재의 가압면(81a)은 가압과정에서 탄성변형되기 때문에 장식층(20)의 형성으로 인해 투명전극층(31) 상면에 단차가 존재함에도 불구하고 필름형 감광제(35)의 균일한 부착을 구현할 수 있다.4 (b), the pressing member 81 is moved in a direction perpendicular to the surface of the insulating substrate 10 to press the film-shaped photosensitive agent 35, do. At this time, since the pressing surface 81a of the pressing member 81 simultaneously presses the entire surface of the film-type photosensitizer 35 at an equal pressure, the film-type photosensitizer 35 can be uniformly attached to the transparent electrode layer 31. Particularly, since the pressing surface 81a of the pressing member is elastically deformed in the pressing process, even though there is a step on the upper surface of the transparent electrode layer 31 due to the formation of the decorative layer 20, the uniform attachment of the film- Can be implemented.

탄성변형되는 가압부재(81)를 이용하여 필름형 감광제(35)를 가압하면, 단차가 형성된 부분(C)도 높은 압력으로 가압할 수 있다. 즉 가압부재(81)의 가압면(81a)이 단차부분(C)의 형상에 대응하도록 변형되면서 필름형 감광제(35)를 가압하기 때문에 단차부분(C)에도 필름형 감광제(35)를 긴밀하게 부착할 수 있다. 또 가압부재(81)는 히터(84)에 의해 가열된 상태이기 때문에 가압과정에서 원활한 변형이 가능하여 단차부분(C) 구석에도 거의 대등한 수준의 가압력을 부여할 수 있다. 이때 가압부재(81)의 가열온도는 70 ~ 80℃일 수 있다. When the film-shaped photosensitive agent 35 is pressed by using the pressing member 81 which is elastically deformed, the stepped portion C can also be pressed with a high pressure. That is, since the pressing surface 81a of the pressing member 81 is deformed to correspond to the shape of the stepped portion C, the film-shaped photosensitive agent 35 is pressed against the stepped portion C, Can be attached. Further, since the pressing member 81 is heated by the heater 84, the pressing member 81 can be smoothly deformed in the pressing process, and the pressing force can be applied to almost the same level at the corners of the stepped portion C. At this time, the heating temperature of the pressing member 81 may be 70 to 80 캜.

이처럼 본 실 시예는 단차부분(C)까지도 필름형 감광제(35)를 긴밀하게 부착할 수 있기 때문에 이후 투명전극배선(30)을 형성하는 과정에서 단선 등의 불량을 방지할 수 있다. 또 필름형 감광제(35)의 두께를 보다 얇게 하면서도 긴밀한 부착을 구현할 수 있기 때문에 보다 미세한 패턴의 구현도 가능하다. 또 이러한 부착방식은 가압부재(81)의 가압면(81a)이 필름형 감광제(35) 전역을 동시에 가압하기 때문에 신속한 부착을 구현할 수 있다. 따라서 그만큼 공정소요 시간을 단축할 수 있다.As described above, since the film-shaped photosensitive material 35 can be closely attached even to the stepped portion C, defects such as disconnection can be prevented in the process of forming the transparent electrode wiring 30 thereafter. In addition, since the thickness of the film-type photosensitizer 35 can be made thinner and the adhesion can be tightened, a finer pattern can be realized. In addition, since the pressing surface 81a of the pressing member 81 presses the entire area of the film-type photosensitive member 35 at the same time, it is possible to realize rapid adhesion. Therefore, the process time can be shortened accordingly.

도 5는 가압장치의 변형 예를 나타낸다. 도 5의 가압장치(180)에서 가압부재(181)는 탄성변형이 가능한 고무, 실리콘 등에 의해 튜브형태로 마련되고, 그 내부에 압축공기가 채워지는 공기층(181b)을 구비한다. 이때 공기층(181b)의 압력은 도 5의 (a)에 나타낸 바와 같이, 가압부재(181)가 이격된 상태에서 가압부재(181)의 가압면(181a)이 평면을 유지할 수 있는 정도의 압력으로 유지된다. 5 shows a modification of the pressurizing device. 5, the pressing member 181 is provided in the form of a tube made of rubber, silicone, or the like capable of being elastically deformed, and has an air layer 181b filled with compressed air therein. 5 (a), the pressure of the air layer 181b is maintained at a pressure such that the pressing surface 181a of the pressing member 181 can maintain a flat state in a state where the pressing member 181 is spaced apart maintain.

이러한 가압장치(180)는 도 5의 (b)에 나타낸 바와 같이, 가압부재(181)가 필름형 감광제(35)를 가압할 때 가압부재(181)의 변형이 이루어지고, 이러한 변형에 의해 장식층(20)으로 인해 형성된 단차부분 까지도 거의 균일한 압력으로 가압할 수 있다. 또 가압부재(181) 내부의 공기층(181b)은 가압력이 가압면(181a) 전역으로 고르게 분산되도록 하기 때문에 더욱 균일한 부착을 구현할 수 있도록 한다.5 (b), the pressing device 180 deforms the pressing member 181 when the pressing member 181 presses the film-shaped photosensitive member 35, Even the stepped portion formed by the layer 20 can be pressed with a substantially uniform pressure. Further, the air layer 181b inside the pressing member 181 allows the pressing force to be uniformly dispersed throughout the pressing surface 181a, thereby realizing a more uniform attachment.

1: 터치스크린패널, 10: 절연기판,
20: 장식층, 30: 투명전극배선,
31: 투명전극층, 35: 필름형 감광제,
36: 마스크, 40: 금속배선,
50: 절연층, 60: 연성회로기판,
80: 가압장치, 81: 가압부재,
81a: 가압면, 82: 지지부재,
84: 히터.
1: touch screen panel, 10: insulating substrate,
20: decorative layer, 30: transparent electrode wiring,
31: transparent electrode layer, 35: film-type photosensitizer,
36: mask, 40: metal wiring,
50: insulating layer, 60: flexible circuit board,
80: pressing device, 81: pressing member,
81a: pressing face, 82: supporting member,
84: Heater.

Claims (14)

투명한 절연기판의 배선영역에 장식층을 형성하는 공정;
상기 절연기판의 윈도우영역과 상기 장식층 위에 투명전극층을 형성하는 공정;
상기 투명전극층 위에 필름형 감광제를 위치시키고, 탄성변형이 가능한 평판형 가압면을 가진 가압부재로 상기 필름형 감광제를 가압하여 상기 투명전극층에 부착시키는 공정;
포토리소그래피 공정에 의해 상기 투명전극층의 불요(不要)부분을 제거하여 패턴화 된 투명전극배선을 형성시키는 공정을 포함하는 터치스크린패널의 제조방법.
A step of forming a decorative layer in a wiring region of a transparent insulating substrate;
Forming a transparent electrode layer on the window region of the insulating substrate and the decorative layer;
Placing a film-type photosensitive agent on the transparent electrode layer, pressing the film-type photosensitive agent with a pressing member having a plate-type pressing surface capable of being elastically deformed, and attaching the film-type photosensitive agent to the transparent electrode layer;
And removing the unnecessary portions of the transparent electrode layer by a photolithography process to form a patterned transparent electrode wiring.
제1항에 있어서,
상기 필름형 감광제 부착공정은 상기 가압부재의 가압면을 상기 절연기판의 표면과 평행하게 유지시킨 상태로 상기 가압부재를 상기 절연기판 표면과 수직인 방향으로 가압하는 터치스크린패널의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the step of adhering the film-type photosensitive agent presses the pressing member in a direction perpendicular to the surface of the insulating substrate while keeping the pressing surface of the pressing member parallel to the surface of the insulating substrate.
제1항에 있어서,
상기 필름형 감광제 부착공정은 상기 가압부재의 가압면으로 상기 필름형 감광제 전역을 동시에 가압하는 터치스크린패널의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the step of adhering the film-type photosensitizer simultaneously presses the entire region of the film-type photosensitizer with the pressing surface of the pressing member.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 필름형 감광제 부착공정은 상기 가압부재의 가압면을 가열한 상태에서 상기 필름형 감광제를 가압하는 터치스크린패널의 제조방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the step of adhering the film-type photosensitizer presses the film-type photosensitizer while heating the pressing surface of the pressing member.
제4항에 있어서,
상기 가압부재의 가열온도는 70 ~ 80℃를 유지하는 터치스크린패널의 제조방법.
5. The method of claim 4,
Wherein the heating temperature of the pressing member is maintained at 70 to 80 占 폚.
제1항에 있어서,
상기 가압부재는 내부에 공기층을 포함하는 터치스크린패널의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the pressing member includes an air layer inside.
제1항에 있어서,
상기 장식층은 상기 절연기판 배면에 유색잉크를 인쇄하는 방식으로 형성하는 터치스크린패널의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the decorative layer is formed by printing colored ink on the back surface of the insulating substrate.
제1항에 있어서,
상기 투명전극배선 형성 후, 상기 절연기판의 배선영역 배면 쪽에 인쇄방식으로 금속배선을 형성하는 공정을 더 포함하는 터치스크린패널의 제조방법.
The method according to claim 1,
Further comprising the step of forming a metal wiring on the back side of the wiring region of the insulating substrate by a printing method after forming the transparent electrode wiring.
투명전극층 또는 금속층 위에 필름형 감광제를 부착하는 공정을 포함하는 터치스크린패널의 제조방법에 있어서,
상기 필름형 감광제를 부착하는 공정은 부착위치에 필름형 감광제를 위치시키고, 탄성변형이 가능한 평판형 가압면을 가진 가압부재로 필름형 감광제를 가압하는 터치스크린패널의 제조방법.
A method of manufacturing a touch screen panel including a step of attaching a film-type photosensitizer on a transparent electrode layer or a metal layer,
Wherein the step of attaching the film type photosensitizer comprises pressing a film type photosensitizer with a pressing member having a plate type pressing face capable of elastically deforming the film type photosensitizer at the attachment position.
투명전극층 또는 금속층 위에 부착되는 필름형 감광제를 가압하기 위한 가압장치를 갖춘 터치스크린패널의 제조장치에 있어서,
상기 가압장치는 탄성변형이 가능한 소재로 마련되며 평판형 가압면을 가진 가압부재를 포함하는 터치스크린패널의 제조장치.
An apparatus for manufacturing a touch screen panel having a transparent electrode layer or a pressing device for pressing a film-type photosensitive agent adhering on a metal layer,
Wherein the pressing device includes a pressing member having a flat pressing surface, the pressing device being made of a material capable of being elastically deformed.
제10항에 있어서,
상기 가압부재는 탄성변형이 가능한 고무소재에 의해 마련되는 터치스크린패널의 제조장치.
11. The method of claim 10,
Wherein the pressing member is provided by a rubber material capable of being elastically deformed.
제11항에 있어서,
상기 가압부재는 내부에 압축공기가 채워진 공기층을 포함하는 터치스크린패널의 제조장치.
12. The method of claim 11,
Wherein the pressing member includes an air layer filled with compressed air therein.
제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가압부재는 가열을 위한 히터를 포함하는 터치스크린패널의 제조장치.
13. The method according to any one of claims 10 to 12,
Wherein the pressing member includes a heater for heating.
제10항에 있어서,
상기 가압장치는 상기 가압부재를 가압하는 지지패널과, 상기 지지패널을 가압하는 가압로드를 포함하는 터치스크린패널의 제조장치.
11. The method of claim 10,
Wherein the pressing device includes a supporting panel for pressing the pressing member and a pressing rod for pressing the supporting panel.
KR1020120132157A 2012-11-21 2012-11-21 Method and apparatus for manufacturing touch screen panel KR101451712B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120132157A KR101451712B1 (en) 2012-11-21 2012-11-21 Method and apparatus for manufacturing touch screen panel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120132157A KR101451712B1 (en) 2012-11-21 2012-11-21 Method and apparatus for manufacturing touch screen panel

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140065086A KR20140065086A (en) 2014-05-29
KR101451712B1 true KR101451712B1 (en) 2014-10-22

Family

ID=50892081

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120132157A KR101451712B1 (en) 2012-11-21 2012-11-21 Method and apparatus for manufacturing touch screen panel

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101451712B1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102237833B1 (en) * 2014-07-01 2021-04-09 엘지이노텍 주식회사 Touch panel
KR101447924B1 (en) * 2014-06-26 2014-10-13 주식회사 대승소재 Touch sensor assembled decoration window glass for touch screen panel and preparation method thereof

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4181554A (en) 1978-10-06 1980-01-01 National Semiconductor Corporation Method of applying polarized film to liquid crystal display cells
JP2003022724A (en) 2001-07-09 2003-01-24 Shoei:Kk Manufacturing method of touch panel
KR20090017739A (en) * 2007-08-16 2009-02-19 대성전기공업 주식회사 Liquid crystal display with touch sensor embedded and method thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4181554A (en) 1978-10-06 1980-01-01 National Semiconductor Corporation Method of applying polarized film to liquid crystal display cells
JP2003022724A (en) 2001-07-09 2003-01-24 Shoei:Kk Manufacturing method of touch panel
KR20090017739A (en) * 2007-08-16 2009-02-19 대성전기공업 주식회사 Liquid crystal display with touch sensor embedded and method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
KR20140065086A (en) 2014-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100909265B1 (en) Manufacturing method of electrostatic capacity type touch screen panel
JP6336744B2 (en) Electrode member and touch panel including the same
JP5298209B2 (en) Capacitance type sensor sheet and manufacturing method thereof
US9900995B2 (en) Touch panel and method for manufacturing the same
TWI511019B (en) Flat-surface resistive touch panel
CN108958527B (en) Touch input device including light shielding layer and method of manufacturing the same
KR20150063871A (en) Touch panel, display apparatus and method for manufacturing touch panel
JP2013122745A (en) Touch panel and manufacturing method thereof
KR20100095989A (en) Manufacturing method of electrostatic capacity type touch screen panel
US20110234529A1 (en) Touch screen
CN106575187B (en) Touch window
US20180228025A1 (en) Touch panel and method for manufacturing electrode member
JP2011100433A (en) Touch screen input device and manufacturing method thereof
US20110279387A1 (en) Transperent Conductive Substrate and Method of Manufacturing the same Touch Screen Using the Same
JP2012155644A (en) Manufacturing method of touch panel integrated with decoration cover glass, and liquid crystal display
CN109901742A (en) A kind of flexibility touch module and preparation method thereof
KR20130046022A (en) Touch panel
KR101451712B1 (en) Method and apparatus for manufacturing touch screen panel
TW201629537A (en) Electrode-attached color filter substrate, display device using same, and methods for manufacturing electrode-attached color filter substrate and display device
US20120048828A1 (en) Method of manufacturing conductive transparent substrate
KR101303707B1 (en) A Cover Window-integrated Touch Screen Panel And A Method Of The Same
TWI496063B (en) A method of forming a transparent conductive pattern, a method of manufacturing a touch screen, and a conductive transfer film
KR102152193B1 (en) Method for Manufacturing Touch Panel
KR20140056960A (en) Apparatus for compensating resistance difference and touch panel with the said apparatus and method for manufacturing the said touch panel
KR20130033538A (en) Method for manufacturing transparent electrode film

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee