KR101450807B1 - Arc plasma reactor for decomposition of inert gas - Google Patents

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Abstract

An arc plasma reactor for decomposing inert gas is provided. An arc plasma reactor for decomposing inert gas according to the present invention includes: a reaction chamber; arc ground electrode and arc high voltage electrode which are installed inside the reaction chamber; a high voltage connection terminal for connecting high voltage to the arc high voltage electrode; a gas inlet which is connected to the reaction chamber and through which inert gas is inputted; a discharge outlet which is connected to the reaction chamber and through which inert gas inputted through the gas inlet is decomposed and discharged; and an inductor which is formed around the reaction chamber for generating a magnetic field by flowing current. A swirl is generated in a direction of discharge of plasma gas due to the inductor. According to the present invention, the power consumption can be reduced by reducing the consumption of arc current for generation of arc plasma by generating a magnetic field to the arc plasma electrode using a power conversion circuit of power device required for arch discharge in an arc plasma reactor, and expands the life time of electrode by avoiding local wear of the electrode by extending the arc discharge generated in the local area of general electrode due to a magnetic field formed to the arc electrode, and the processing process using the arc plasma can be efficiently done with lost costs by uniformly extending an arc plasma area using a magnetic field.

Description

불활성가스 분해용 아크플라즈마 반응기{ARC PLASMA REACTOR FOR DECOMPOSITION OF INERT GAS}[0001] ARC PLASMA REACTOR FOR DECOMPOSITION OF INERT GAS [0002]

본 발명은 불활성가스 분해용 아크플라즈마 반응기에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 고주파 또는 고전압 아크플라즈마 반응기에 플라즈마를 발생시켜 난분해성 또는 불활성 가스를 분해하는데 사용하는 불활성가스 분해용 아크플라즈마 반응기에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an arc plasma reactor for decomposing inert gas, and more particularly, to an arc plasma reactor for decomposing inert gas or decomposing inert gas by generating plasma in a high frequency or high voltage arc plasma reactor .

일반적으로 아크(Arc) 방전을 이용한 플라즈마 기술은, 고온 열분해, 열처리 용융, 플라즈마 용접 및 절단 등에 널리 사용되고 있다. Generally, plasma technology using arc discharge is widely used for high temperature pyrolysis, heat treatment melting, plasma welding and cutting.

이러한 플라즈마 기술은 다양한 형태로 개발되고 있으며, 예컨대, 한국등록특허 제10-1173088호는 "플라즈마 토치"를 개시하며, 구체적으로 고전압 아크 방전시 전극에 이물질이나 먼지가 부착되어 아크 방전 효과가 저하되는 것을 방지하기 위해 장치의 분해 없이도 전극의 이물질 제거가 가능한 플라즈마 토치에 관한 기술을 개시하고 있다.Korean Patent No. 10-1173088 discloses a "plasma torch ". Specifically, when a high-voltage arc discharge occurs, foreign matter or dust adheres to the electrode to reduce the arc discharge effect A plasma torch capable of removing foreign substances from an electrode without disassembling the apparatus is disclosed.

그리고 아크플라즈마 반응기에 플라즈마를 발생시키기 위하여 전력을 공급하는 전원장치가 사용되는데, 이와 관련하여 한국등록특허 제10-1272794호는 "펄스 출력을 갖는 플라즈마용 고전압 전원장치"를 개시하며, 구체적으로 전원장치의 컨버터 출력단 이후에서 펄스를 생성하는 인버터를 구현함에 있어, 인버터의 구조를 복수의 H형 인버터 스택을 병렬로 연결함으로써 전원장치의 용량을 분산하며, 각 H형 인버터 스택의 스위칭 소자 또한 병렬 구조로 구성함으로써 H형 인버터 스택 별 스위치의 도통 손실을 줄이고 스위칭 소자의 내압 및 용량을 최소화할 수 있도록 하고 있다.Korean Patent No. 10-1272794 discloses a "high-voltage power supply for a plasma having a pulse output ", which is related to a power source for supplying a plasma to an arc plasma reactor, In implementing an inverter that generates pulses after the converter output stage of the device, the capacity of the power supply device is distributed by connecting a plurality of H-type inverter stacks in parallel to the structure of the inverter, and the switching elements of each H- So that the conduction loss of the switch for each H-type inverter stack can be reduced and the internal pressure and capacity of the switching element can be minimized.

한편, 아크 방전의 특성상 전극 간의 절연파괴를 유도하여 지속적으로 큰 전류를 흐르게 함으로써 대 전력의 전원장치가 필요하다. 아울러 아크방전을 이용한 플라즈마는 아크 전극의 국부 방전을 이용하기 때문에 아크방전 시 전자의 전극 탈출온도인 10,000°K의 고온으로 급격한 전극마모를 수반한다. 따라서 아크플라즈마를 이용한 용융이나 열분해 장치들은 높은 전력소모와 빈번한 전극교체로 장기가동이 불가하고 비효율성으로 높은 운전비용이 발생한다.On the other hand, due to the characteristics of the arc discharge, a large power source device is required by inducing insulation breakdown between the electrodes and continuously flowing a large current. In addition, since plasma using arc discharge utilizes local discharge of arc electrode, abrupt electrode wear is accompanied by a high temperature of 10,000 ° K, which is the electron exit temperature of the electron during arc discharge. Therefore, melting and pyrolysis devices using arc plasma can not operate for a long time due to high power consumption and frequent electrode replacement, resulting in high operating costs due to inefficiency.

국부마모에 따른 전극 수명을 연장시키기 위하여 물리적으로 고전압 대 전력이 인가되는 전극 또는 주변에 복잡한 기계장치를 부가하여 전극을 회전시켜 전극의 국소마모를 다소 연장시키는 방법들을 사용하고 있으나, 이 또한 높은 전력소모와 상대적으로 피할 수 없는 전극에 인가되는 대단히 큰 전류로 인하여 전극의 마모를 연장시키는 효과는 미미할 수밖에 없다.In order to prolong electrode life due to local abrasion, there have been used methods in which a high-voltage power is physically applied or a complicated mechanical device is added around the electrode to rotate the electrode to slightly extend the local wear of the electrode. However, And the effect of prolonging the wear of the electrode due to the extremely large current applied to the electrode, which is relatively inevitable, is inevitably small.

다른 한편으로, 아크방전에 이용되는 전원장치에서는, 필요로 하는 전력을 제어하기 용이하도록 전력변환장치를 사용하는데, 특히 소요용량대비 전원장치의 크기 축소와 제어 반응속도를 높이기 위하여 고주파 전력변환 기술을 사용한다. 이러한 전력변환장치에는 스위칭소자를 포함한 인덕터 코일 등의 능동소자(Active Elements)들이 사용되는데, 각 변환부마다 손실이 발생하게 되어 동일한 크기의 전력에 있어서도 아크방전과 같은 높은 전류에서 전력손실은 배가된다.On the other hand, in the power source apparatus used for the arc discharge, a power conversion apparatus is used to easily control the required power. Especially, in order to reduce the size of the power source apparatus and increase the control reaction rate, use. Active elements such as an inductor coil including a switching element are used in such a power conversion apparatus. Since losses are generated in each of the conversion units, the power loss at a high current such as an arc discharge is doubled even at the same magnitude of power .

이처럼, 일반적인 고주파 아크플라즈마 발생장치들이 널리 이용되고 있음에도 전극의 급격한 마모문제가 해결되지 못하고 있고, 높은 전류를 출력해야만 하는 대 전력 전원장치의 높은 전기사용량에 따른 공정비용이 증가하는 문제점이 발생한다.Although general high-frequency arc plasma generators are widely used, the problem of abrupt abrasion of the electrode is not solved, and the process cost is increased due to high electricity consumption of the high-power power supply device which must output a high current.

본 발명의 목적은, 고주파 또는 고전압 아크플라즈마 반응기에 플라즈마를 발생시키기 위하여 전력을 공급하는 전원장치의 전력변환부에 이용되는 회로소자를 이용하여 아크플라즈마 전극에 자기장을 발생시키고, 이에 따라 아크플라즈마의 반응구간을 넓히는 동시에 상대적으로 아크플라즈마 전력을 낮추어 전극의 국부마모를 완화시키고 전력손실을 저감시킬 수 있는 불활성가스 분해용 아크플라즈마 반응기를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a plasma processing apparatus capable of generating a magnetic field in an arc plasma electrode using a circuit element used in a power conversion unit of a power supply for supplying power to generate a plasma in a high frequency or high voltage arc plasma reactor, And to provide an arc plasma reactor for decomposing inert gas, which can reduce the local wear of the electrode by reducing the arc plasma power relatively while widening the reaction zone and reduce power loss.

상기 목적은, 반응챔버; 상기 반응챔버 내부에 설치되는 아크접지전극 및 아크고전압전극; 상기 아크고전압전극에 고전압을 연결하는 고전압 연결단자; 상기 반응챔버와 연통되어 불활성가스가 유입되는 가스유입구; 상기 반응챔버와 연통되어 상기 가스유입구를 통해 유입된 불활성가스가 분해 후 배출되는 배출구; 및 상기 반응챔버 주변에 형성되어 전류가 흐르면서 상기 반응챔버 내부에 자기장을 발생시키는 인덕터를 포함하고, 상기 인덕터에 의하여 플라즈마가스 토출방향으로 스월(swirl)이 발생되도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 불활성가스 분해용 아크플라즈마 반응기에 의해 달성된다.The object is achieved by a reaction chamber comprising: a reaction chamber; An arc ground electrode and an arc high voltage electrode provided inside the reaction chamber; A high voltage connection terminal for connecting a high voltage to the arc high voltage electrode; A gas inlet communicating with the reaction chamber to introduce an inert gas; A discharge port communicating with the reaction chamber, through which the inert gas introduced through the gas inlet is decomposed and discharged; And an inductor which is formed around the reaction chamber and generates a magnetic field in the reaction chamber while a current flows, wherein a swirl is generated in the plasma gas discharge direction by the inductor. Arc plasma reactor.

상기 인덕터는, 전력을 공급하는 전원장치의 회로소자를 구성하도록 이루어질 수 있다.The inductor may be configured to constitute a circuit element of a power supply device that supplies power.

상기 전원장치는, 교류 상용전원을 입력받아 직류전압으로 변환시키는 상용전원정류부; 상기 상용전원정류부에서 변환된 직류전압의 크기를 조절하는 컨버터부; 상기 컨버터부에서 조절된 직류전압을 고주파로 변환시키는 인버터부; 및 상기 인버터부를 통하여 출력되는 고주파를 아크방전에 필요한 고전압으로 승압시키는 고전압발생부를 포함하여 이루어지고, 상기 인덕터는 상기 컨버터부를 구성하도록 이루어질 수 있다.The power supply unit includes: a commercial power rectifier for receiving an AC commercial power source and converting the AC commercial power source to a DC voltage; A converter for adjusting a magnitude of the DC voltage converted by the commercial power rectifier; An inverter unit for converting the DC voltage adjusted by the converter unit into high frequency; And a high voltage generating unit for increasing the high frequency output through the inverter unit to a high voltage necessary for arc discharge, and the inductor may be configured to configure the converter unit.

상기 인덕터는, 상기 아크접지전극과 아크고전압전극이 형성된 지점에서 플라즈마가스 토출방향을 향하여 형성될 수 있다.The inductor may be formed toward a plasma gas discharge direction at a point where the arc ground electrode and the arc high voltage electrode are formed.

상기 아크접지전극은 파이프 형태로 이루어지고, 상기 아크고전압전극은 상기 아크접지전극 내부에서 이격되어 배치되고, 상기 아크접지전극에는, 상기 가스유입구를 통해 유입된 가스가 상기 아크접지전극과 아크고전압전극 사이로 토출시키는 가스노즐구멍이 형성될 수 있다.Wherein the arc ground electrode is in the form of a pipe, the arc high voltage electrode is disposed apart from the arc ground electrode, and a gas introduced through the gas inlet is connected to the arc ground electrode and the arc high voltage electrode A gas nozzle hole can be formed.

상기 아크접지전극 및 아크고전압전극의 하측에 결합되어 양자를 이격시키는 절연블럭이 형성되고, 상기 고전압연결단자는 상기 절연블럭에 관통결합되어 상기 아크고전압전극에 연결될 수 있다.The arc high voltage electrode is connected to the arc high voltage electrode. The high voltage connecting terminal is connected to the arc high voltage electrode through the insulating block.

상기 아크접지전극 상측을 감싸고 상기 반응챔버에 고정되는 연결블럭이 형성되고, 상기 인덕터는 상기 연결블럭을 중심으로 하여 형성될 수 있다.A connection block is formed to surround the upper side of the arc ground electrode and fixed to the reaction chamber, and the inductor may be formed around the connection block.

상기 반응챔버의 전부 또는 일부를 감싸도록 이루어지는 단열블럭을 더 포함하여 이루어질 수 있다.And a heat insulating block enclosing all or a part of the reaction chamber.

본 발명에 의하면, 아크플라즈마 반응기에 있어서 아크방전에 필요한 전원장치의 전력변환 회로를 이용하여 아크플라즈마 전극에 자기장을 생성시켜 아크플라즈마 발생에 소요되는 아크전류를 저감시켜 전력소모를 줄일 수 있을 뿐만 아니라, 아크전극에 형성되는 자기장으로 인하여 일반적인 전극 국부에서 발생하는 아크방전이 자기장 스월 현상에 의하여 확장되기 때문에 전극의 국부마모를 피함으로 인하여 전극의 수명을 연장시키며, 아크플라즈마 영역을 자기장에 의하여 균일하게 확장시켜서 아크플라즈마를 이용한 처리공정에 낮은 비용으로 효율적이 처리가 가능하다.According to the present invention, it is possible not only to reduce the power consumption by reducing the arc current required for arc plasma generation by generating a magnetic field in the arc plasma electrode by using the power conversion circuit of the power supply unit necessary for arc discharge in the arc plasma reactor The arc discharge generated in a general electrode due to the magnetic field formed on the arc electrode is expanded by the magnetic field swirl phenomenon, thereby preventing the local wear of the electrode, thereby prolonging the life of the electrode, It is possible to efficiently process the process using the arc plasma at a low cost.

또한 본 발명에 의하면, 아크 플라즈마 전원장치에 의하여 아크플라즈마가 발생되도록 하면서 발생된 플라즈마가스를 자기장 스월을 이용하여 확장되도록 하여, 저비용으로 플라즈마 공정에 활용할 수 있게 된다.In addition, according to the present invention, the arc plasma is generated by the arc plasma power source device, and the generated plasma gas is expanded by using the magnetic field swirl, so that it can be utilized for the plasma process at a low cost.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전 아크 플라즈마 전원장치를 도시한 제어블럭도,
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 회전 아크 플라즈마 전원장치를 도시한 제어블럭도,
도 3은 강압형 컨버터부가 사용되는 회전 아크 플라즈마 전원장치를 도시한 회로도,
도 4는 승압형 컨버터부가 사용되는 회전 아크 플라즈마 전원장치를 도시한 회로도,
도 5는 고전압발생부에 고전압정류기가 포함된 회전 아크 플라즈마 전원장치를 도시한 회로도,
도 6은 본 발명에 따른 아크플라즈마 반응기를 도시한 도면이다.FIG. 1 is a control block diagram illustrating a rotary arc plasma power source apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a control block diagram of a rotary arc plasma power supply apparatus according to another embodiment of the present invention. FIG.
3 is a circuit diagram showing a rotary arc plasma power source device in which a step-down type converter section is used;
4 is a circuit diagram showing a rotary arc plasma power source apparatus using a step-up converter section,
5 is a circuit diagram showing a rotary arc plasma power source apparatus including a high voltage rectifier in a high voltage generating section,
6 is a view showing an arc plasma reactor according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세하게 설명하면 다음과 같다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 이미 공지된 기능 혹은 구성에 대한 설명은, 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description of the present invention, the well-known functions or constructions are not described in order to simplify the gist of the present invention.

우선, 본 발명에 따른 불활성가스 분해용 아크플라즈마 반응기(500)에 대한 설명에 앞서, 아크플라즈마 반응기(500)에 전력을 공급하는 전원장치(1)에 대하여 설명하도록 한다.First, before describing the arc plasma reactor 500 for decomposing an inert gas according to the present invention, the power supply device 1 for supplying power to the arc plasma reactor 500 will be described.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전 아크 플라즈마 전원장치(1)를 도시한 제어블럭도이고, 도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 회전 아크 플라즈마 전원장치(1)를 도시한 제어블럭도이고, 도 3은 강압형 컨버터부(200)가 사용되는 회전 아크 플라즈마 전원장치(1)를 도시한 회로도이고, 도 4는 승압형 컨버터부(200)가 사용되는 회전 아크 플라즈마 전원장치(1)를 도시한 회로도이며, 도 5는 고전압발생부(400)에 고전압정류기가 포함된 회전 아크 플라즈마 전원장치(1)를 도시한 회로도이다.FIG. 1 is a control block diagram showing a rotary arc plasma power source device 1 according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a control block diagram showing a rotary arc plasma power source device 1 according to another embodiment of the present invention. 3 is a circuit diagram showing a rotary arc plasma power source device 1 in which a step-down type converter unit 200 is used, and FIG. 4 is a circuit diagram showing a rotary arc plasma power source device 1, and FIG. 5 is a circuit diagram showing a rotary arc plasma power supply device 1 including a high voltage rectifier in the high voltage generator 400. As shown in FIG.

본 발명에 따른 회전 아크 플라즈마 전원장치(1)는, 상용전원정류부(100), 컨버터부(200), 인버터부(300) 및 고전압발생부(400)를 포함하여 이루어진다.The rotary arc plasma power supply apparatus 1 according to the present invention includes a commercial power rectification unit 100, a converter unit 200, an inverter unit 300 and a high voltage generating unit 400.

상용전원정류부(100)는 교류 상용전원을 입력받아 직류전압으로 변환시키는 부분으로서, 정류기(107), 초기충전회로(103) 및 계전기(Relay, 108)를 포함하여 이루어질 수 있다. 또한 상용전원정류부(100)에는, 입력전원을 ON/OFF 제어하기 위한 메인파워스위치(111) 및 노이즈 제거를 위한 필터(102)가 포함된다. 이러한 형태가 도 1에 도시된다.The commercial power rectifying unit 100 is a part that receives the AC commercial power and converts it into a DC voltage. The rectifier 107, the initial charging circuit 103, and the relay 108 may be included. The commercial power rectification unit 100 also includes a main power switch 111 for turning on / off the input power, and a filter 102 for removing noise. This form is shown in Fig.

상용전원정류부(100)에서는 상용전원입력부(101)를 통하여 단상 또는 삼상 교류전압이 인가되며, 단상으로서 220V, 삼상으로서 220V, 380V 또는 440V의 전압이 인가된다.In the commercial power rectifying unit 100, a single-phase or three-phase AC voltage is applied through the commercial power input unit 101, and a voltage of 220 V as a single phase, 220 V, 380 V, or 440 V as three phases is applied.

정류기(107)는 입력되는 교류전원을 정류하는 일반적인 다이오드가 사용될 수 있다. 정류기(107)는 전파정류기 또는 반파정류기가 사용될 수 있는데, 후단의 전력변환회로 및 직류전원의 리플이 작아야 하는 경우에는 전파정류를 사용하는 것이 유리하며, 출력되는 직류전압은 입력교류전압 실효치의 1.414배의 값이 출력된다.The rectifier 107 may be a general diode that rectifies the input AC power. A full-wave rectifier or half-wave rectifier can be used as the rectifier 107. It is advantageous to use full-wave rectification when the ripple of the power conversion circuit and the DC power supply at the subsequent stage should be small, and the output DC voltage is 1.414 The value of the multiplication is output.

메인파워스위치(111)를 ON하여 전원투입시 직류평활캐패시터(106)(DC Link Capacitor)(제1 캐패시터, 컨버터부(200)의 캐패시터와 구분하기 위하여 컨버터부(200)의 캐패시터는 제2 캐패시터(204)로 칭함)에 급격한 돌입전류를 방지하기 위하여, 초기충전회로(103)에는 저항 R이 형성되며, 초기에 저항 R을 통하여 RC 시정수에 따라 투입된 전원전압이 완만하게 직류평활캐패시터(106)에 충전된다. The main power switch 111 is turned on so that the capacitor of the converter unit 200 is separated from the capacitor of the DC smoothing capacitor 106 (DC link capacitor (first capacitor, converter unit 200) (Hereinafter, referred to as a capacitor 204), a resistor R is formed in the initial charging circuit 103, and a power source voltage initially applied through the resistor R according to the RC time constant is gradually applied to the DC smoothing capacitor 106 .

이후, 계전기(108)는 회로를 구동접속시켜 전원을 공급한다. Thereafter, the relay 108 drives the circuit to supply power.

종래 전원공급장치의 경우 초기충전회로(103)를 사용하지 않아 돌입전류로 인한 부품손상 등이 야기되었으며, 본 발명에서는 초기충전회로(103)를 통하여 이러한 문제점을 해소하고 있다.In the case of the conventional power supply device, the initial charging circuit 103 is not used, which causes damage due to an inrush current. In the present invention, this problem is solved through the initial charging circuit 103.

본 발명에 따른 회전 아크 플라즈마 전원장치(1)에서, 상용전원정류부(100)는 상술한 계전기(108) 대신에 싸이리스터 정류기(104)(Thyristor Rectifier)를 포함하여 이루어질 수 있다. 이러한 형태가 도 2에 도시된다.In the rotary arc plasma power supply apparatus 1 according to the present invention, the commercial power rectifying unit 100 may include a thyristor rectifier 104 instead of the relay 108 described above. This form is shown in Fig.

계전기(Relay)를 사용하는 경우 접점 구동으로 인하여, 소음 접점노이즈 및 동작회수에 따른 수명 감소의 문제점이 유발될 수 있으며, 반도체인 싸이리스터 정류기(104)를 사용함으로써 이러한 문제점을 해소할 수 있다.In the case of using the relay, the problem of lifetime due to the noise of the noise contact and the number of operations may be caused due to the contact driving, and this problem can be solved by using the thyristor rectifier 104 which is a semiconductor.

이처럼 본 발명에서는 도 2에 도시된 바와 같이, 단방향 제어 정류소자인 싸이리스터 정류기(104)를 릴레이(계전기) 대신 사용하여 입력전원을 검출하고 제어하여 돌입전류를 안정적으로 제어하도록 이루어진다.As shown in FIG. 2, the thyristor rectifier 104, which is a unidirectional control rectifier, is used instead of a relay to detect and control the input power source to stably control the rush current.

상용전원정류부(100)에는, 싸이리스터 정류기(104)의 제어를 위하여 싸이리스터 정류기 제어회로(105)가 형성된다.In the commercial power rectification section 100, a thyristor rectifier control circuit 105 is formed for controlling the thyristor rectifier 104.

컨버터부(200)는 상용전원정류부(100)로부터 출력되는 직류전압을 아크플라즈마의 소요 출력전력을 제어하기 위하여 직류전압의 크기를 변화하는 부분이다.The converter unit 200 is a part that changes the magnitude of the direct current voltage to control the required output power of the arc plasma from the direct voltage output from the commercial power rectifier unit 100.

이러한 컨버터부(200)는 컨버터전력변환스위치(201), 컨버터게이트드라이버(202) 및 제2 캐패시터(204)를 포함하여 이루어진다.The converter unit 200 includes a converter power conversion switch 201, a converter gate driver 202, and a second capacitor 204.

컨버터전력변환스위치(201)는 컨버터부(200)의 회로를 ON/OFF 제어하도록 이루어진다. 컨버터전력변환스위치(201)는 반파정류(Half Bridge), 전파정류(Full Bridge) 등의 스위칭회로에 사용되는 Transistor, MOSFET, IGBT 등의 반도체 소자로 이루어질 수 있고, 컨버터게이트드라이버(202)의 게이트 신호(Gate Signal)에 따라 반도체소자가 ON/OFF 동작을 한다. 이러한 ON/OFF 시간의 비를 듀티비(Duty Ratio)라고 하며, 듀티 제어에 따라 출력 값이 변화한다. The converter power conversion switch 201 is configured to turn ON / OFF the circuit of the converter unit 200. [ The converter power conversion switch 201 may be formed of a semiconductor device such as a transistor, a MOSFET, or an IGBT used in a switching circuit such as a Half Bridge or a Full Bridge, and the gate of the converter gate driver 202 The semiconductor device turns ON / OFF according to the signal (Gate signal). The ratio of the ON / OFF time is referred to as a duty ratio, and the output value changes according to the duty control.

한편, 본 발명에 따른 회전 아크 플라즈마 전원장치(1)에서, 컨버터부(200)는 강압형(Buck), 승압형(Boost) 또는 승강압형(boost-Buck)으로 이루어질 수 있다.Meanwhile, in the rotary arc plasma power supply device 1 according to the present invention, the converter unit 200 may be a Buck, a boost type, or a boost-buck type.

도 3에 도시된 바와 같이 컨버터부(200)가 강압형(Buck)의 경우, 입력부 앞에 컨버터전력변환스위치(201)가 위치하고, 컨버터전력변환스위치(201)가 ON/OFF시 입력단(ON), 코일(인덕터(203), OFF) 에너지가 출력단에 걸려서 듀티비로 출력이 결정되고, 전압이득이 1 이하로서 출력이 입력보다 작게 된다.3, when the converter unit 200 is a buck converter, a converter power conversion switch 201 is placed in front of the input unit. When the converter power conversion switch 201 is turned ON / OFF, The energy of the coil (inductor 203, OFF) is caught by the output terminal, the output is determined by the duty ratio, and the voltage gain is 1 or less, so that the output becomes smaller than the input.

도 4에 도시된 바와 같이 승압형(Boost)의 경우, 컨버터전력변환스위치(201)가 인덕터(203) 뒤에 위치하고, 컨버터전력변환스위치(201)가 ON/OFF 시 항상 입력단이 연결되고 OFF시에 입력단과 인덕터(203)에 쌓인 에너지가 합쳐져 출력단으로 전달되므로, 출력이 입력보다 크게 된다.4, when the converter power conversion switch 201 is positioned behind the inductor 203, the input terminal is always connected when the converter power conversion switch 201 is ON / OFF, and when the converter power switching switch 201 is OFF The energy accumulated in the input terminal and the inductor 203 are combined and transmitted to the output terminal, so that the output becomes larger than the input.

컨버터게이트드라이버(202)(Gate Driver)는 컨버터전력변환스위치(201)를 필요한 듀티비에 따라 동작시키기 위한 펄스신호 공급회로로서 절연(Isolation)이 필요하고, 전력변환장치의 용량에 따른 스위칭소자(컨버터전력변환스위치(201))의 특성에 따라 동작시켜야 하는 신호의 전압/전류 크기가 달라져야 하며, 스위칭소자의 동작 이상여부를 판단하는 보호회로기능이 필요하다.The converter gate driver 202 (Gate Driver) is a pulse signal supply circuit for operating the converter power conversion switch 201 according to a duty ratio required, and is required to be isolated from the switching device The magnitude of the voltage / current of the signal to be operated must be changed according to the characteristics of the power converter (the converter power conversion switch 201), and a protection circuit function for determining whether the operation of the switching element is abnormal is required.

컨버터부(200)의 인덕터(203)는 컨버터전력변환스위치(201)의 스위칭 동작에 따라 직류전류를 제어한다. 이러한 인덕터(203)에는 컨버터부(200)의 컨버터전력변환스위치(201)에서 출력하는 듀티비에 따라 직류전류가 흐르게 된다.The inductor 203 of the converter unit 200 controls the direct current according to the switching operation of the converter power conversion switch 201. DC current flows in the inductor 203 according to the duty ratio output from the converter power conversion switch 201 of the converter unit 200. [

본 발명에서는 자기장 코일에 대한 자기장 발생 원리를 이용하여 도 6의 아크플라즈마 반응기(500)에 전력변환 컨버터부(200)의 인덕터(203)가 설치되도록 하여 아크플라즈마 방전시 자기장을 발생시키도록 하고 있다.In the present invention, the inductor 203 of the power conversion converter unit 200 is installed in the arc plasma reactor 500 of FIG. 6 using the magnetic field generating principle for the magnetic field coil to generate a magnetic field during arc plasma discharge .

즉, 본 발명에서는 인덕터(203)에 흐르는 전류를 이용하여 아크플라즈마 반응기(500)에 인덕터(203)를 구성하여 플라즈마 방전시 전극 사이 및 플라즈마 이온들에 자기장을 형성시켜 플라즈마 발생 역역을 확장시키고, 스월(Swirl)을 형성시켜 플라즈마를 회전 확장시키는 역할을 하도록 한다.That is, in the present invention, the inductor 203 is formed in the arc plasma reactor 500 by using the current flowing in the inductor 203, thereby forming a magnetic field between the electrodes and between the electrodes during the plasma discharge to expand the plasma generation region, Thereby forming a swirl so as to expand and rotate the plasma.

인버터부(300)는 컨버터부(200)에서 변환된 직류전압을 교류전압으로 변환하는 부분이다.The inverter unit 300 converts the DC voltage converted by the converter unit 200 into an AC voltage.

이러한 인버터부(300)는 인버터전력변환스위치(301) 및 공진탱크(303)를 포함하여 이루어질 수 있다. 또한, 인버터전력변환스위치(301)의 스위칭 동작을 제어하는 인버터게이트드라이버(302)를 더 포함하여 이루어질 수 있다.The inverter unit 300 may include an inverter power conversion switch 301 and a resonance tank 303. Further, it may further comprise an inverter gate driver 302 for controlling the switching operation of the inverter power conversion switch 301.

인버터전력변환스위치(301)는 인버터부(300)의 회로를 ON/OFF 제어하도록 이루어진다. 그리고 인버터전력변환스위치(301)는 반파정류(Half Bridge), 전파정류(Full Bridge) 등의 스위칭회로에 사용되는 Transistor, MOSFET, IGBT 등의 반도체 소자로 이루어질 수 있고, 인버터게이트드라이버(302)의 게이트 신호(Gate Signal)에 따라 이러한 반도체소자가 ON/OFF 동작을 한다.The inverter power conversion switch 301 is configured to turn ON / OFF the circuit of the inverter unit 300. [ The inverter power conversion switch 301 may be a semiconductor device such as a transistor, a MOSFET, or an IGBT used in a switching circuit such as a half bridge or a full bridge. These semiconductor devices perform ON / OFF operations in accordance with a gate signal.

인버터전력변환스위치(301)는 인버터부(300)에 입력된 직류전력이 교류 구형파로 출력되도록 하며, 듀티비에 따라 펄스폭이 변환되어 출력되도록 한다.The inverter power conversion switch 301 causes the DC power input to the inverter unit 300 to be outputted as an AC square wave, and the pulse width is converted and output according to the duty ratio.

인버터게이트드라이버(302)(Gate Driver)는 인버터부(300)의 인버터전력변환스위치(301)에서 교류의 상부 및 하부 스위치를 교대로 구동시키고, 필요한 구형파 펄스폭에 따라 펄스폭 변조(PWM: Pulse Wide Modulation) 제어동작신호를 생성시킨다. 상부 스위칭 신호는 반듯이 절연(Isolation)시켜 단락(Shot)을 방지하도록 한다.The inverter gate driver 302 alternately drives the upper and lower switches of the alternating current in the inverter power conversion switch 301 of the inverter unit 300 and generates a pulse width modulation pulse width modulation Wide Modulation) control operation signal. The upper switching signal is isolated to prevent short-circuiting.

공진탱크(303)(Resonant Tank)는 공진회로로 이루어지고, 변환된 주파수의 정현파가 출력되도록 이루어진다. 공진탱크(303)는 본 발명에 따른 전원장치(1)의 전력변환 효율을 높이기 위하여, 아크플라즈마 반응기(500)의 부하장치와 임피던스 매칭이 중요하며, 스위칭 손실을 줄이기 위하여 영전압/영전류(ZVS/ZCS) 스위칭을 위하여 사용되는 회로로, 직렬연결(전류공진) 또는 병렬연결(전압공진) 모두 가능하다. 공진회로인 공진탱크(303)를 거치면 변환된 주파수의 정현파가 출력된다.The resonance tank 303 (Resonant Tank) is constituted by a resonance circuit, and a sine wave of the converted frequency is outputted. In order to increase the power conversion efficiency of the power supply device 1 according to the present invention, the resonance tank 303 needs impedance matching with the load device of the arc plasma reactor 500, and the zero voltage / ZVS / ZCS), which can be either a series connection (current resonance) or a parallel connection (voltage resonance). A sinusoidal wave of the converted frequency is output through the resonance tank 303, which is a resonance circuit.

공진탱크(303) 출력단에 형성되는 전류센서를 이용하여 임피던스 매칭에 필요한 주파수를 변환 시킬 수 있다.The frequency required for impedance matching can be changed by using the current sensor formed at the output terminal of the resonance tank 303. [

고전압발생부(400)는 인버터부(300)를 통하여 출력되는 고주파를 아크방전에 필요한 고전압으로 승압시키도록 이루어진다.The high voltage generating unit 400 boosts the high frequency output through the inverter unit 300 to a high voltage necessary for arc discharge.

이를 위하여 고전압발생부(400)는 고전압변압기(401) 및 고전압센싱부(402)를 포함하여 이루어진다.To this end, the high voltage generating unit 400 includes a high voltage transformer 401 and a high voltage sensing unit 402.

고전압변압기(401)는 인버터부(300)에서 출력되는 교류전압을 고전압으로 승압시킨다.The high voltage transformer (401) boosts the AC voltage output from the inverter unit (300) to a high voltage.

고전압센싱부(402)는 고전압 출력 전압과 전류를 검출하도록 이루어진다.The high voltage sensing unit 402 is configured to detect the high voltage output voltage and current.

고전압발생부(400)에는, 직류고전압을 출력하기 위하여 도 5에 도시된 바와 같이, 고전압정류기(404)가 더 포함될 수 있다.
The high voltage generating unit 400 may further include a high voltage rectifier 404 as shown in FIG. 5 to output a DC high voltage.

도 6은 본 발명에 따른 불활성가스 분해용 아크플라즈마 반응기(500)를 도시한 도면이다.FIG. 6 is a view showing an arc plasma reactor 500 for decomposing inert gas according to the present invention.

본 발명에 따른 아크플라즈마 반응기(500)는, 암모니아, SF6와 같은 난분해성 또는 불활성가스를 분해하기 위한 것이다.The arc plasma reactor 500 according to the present invention is for decomposing refractory or inert gases such as ammonia and SF6.

아크플라즈마 반응기(500)는, 아크플라즈마를 발생시키기 위하여, 아크플라즈마 반응챔버(501), 반응챔버(501) 내부에 설치되는 아크접지전극(502), 아크고전압전극(503), 아크고전압전극(503)에 고전압을 연결하기 위한 고전압 연결단자(505)를 포함한다.The arc plasma reactor 500 includes an arc plasma reaction chamber 501, an arc ground electrode 502 installed inside the reaction chamber 501, an arc high voltage electrode 503, an arc high voltage electrode And a high voltage connection terminal 505 for connecting a high voltage to the high voltage connection terminals 503 and 503.

아크접지전극(502)은 파이프 형태로 형성되고, 아크고전압전극(503)은 이러한 아크접지전극(502) 내부에서 이격되어 배치될 수 있다.The arc ground electrode 502 may be formed in the shape of a pipe, and the arc high voltage electrode 503 may be disposed within such an arc ground electrode 502.

이때, 아크접지전극(502)에는, 유입된 가스를 아크접지전극(502)과 아크고전압전극(503) 사이로 토출시키기 위한 가스노즐구멍(507)이 형성될 수 있다.At this time, a gas nozzle hole 507 for discharging the introduced gas between the arc ground electrode 502 and the arc high voltage electrode 503 may be formed in the arc ground electrode 502.

아크접지전극(502)과 아크고전압전극(503)의 고정 및 절연을 위하여, 양자의 하측에 결합되어 양자를 이격시키는 절연블럭(504)이 구비되고, 고전압 연결단자(505)는 절연블럭(504)에 관통결합되어 아크고전압전극(503)에 연결된다.An insulating block 504 coupled to the lower side of the arc ground electrode 502 and the arc high voltage electrode 503 for securing and insulating the arc ground electrode 502 and the arc high voltage electrode 503 is provided and the high voltage connecting terminal 505 is connected to the insulating block 504 And is connected to the arc high voltage electrode 503.

그리고 아크플라즈마 반응기(500)는 아크전극(아크접지전극(502) 및 아크고전압전극(503))과 반응챔버(501)를 체결하기 위한 연결블럭(506)을 포함하며, 연결블럭(506)은 아크접지전극(502) 상측을 감싸며 반응챔버(501)에 고정된다.The arc plasma reactor 500 includes a connection block 506 for connecting the arc electrode (the arc ground electrode 502 and the arc high voltage electrode 503) with the reaction chamber 501, And is fixed to the reaction chamber 501 while covering the upper side of the arc ground electrode 502.

또한 아크플라즈마 반응기(500)는 아크플라즈마 발생을 위한 가스유입구(508, 불활성가스가 유입됨), 아크플라즈마 반응가스를 배출하기 위한 배출구(509), 반응챔버(501)의 단열을 위하여 반응챔버(501)의 전부 또는 일부를 감싸는 단열블럭(510)을 포함하여 이루어질 수 있다. The arc plasma reactor 500 further includes a gas inlet 508 for introducing an arc plasma, an inert gas for introducing an arc plasma, an outlet 509 for discharging the arc plasma reaction gas, a reaction chamber 501 for insulating the reaction chamber 501, And a heat insulating block 510 surrounding all or a part of the heat insulating block 501.

본 발명에 따른 아크플라즈마 반응기(500)에는 인덕터(203)가 함께 형성되며, 인덕터(203)은 반응챔버(501) 주변에 형성되어 전류가 흐르면서 반응챔버(501) 내부에 자기장을 발생시킨다.An inductor 203 is formed together with the arc plasma reactor 500 according to the present invention and the inductor 203 is formed around the reaction chamber 501 to generate a magnetic field in the reaction chamber 501 while current flows.

인덕터(203)는 또한, 아크전극(아크접지전극(502) 및 아크고전압전극(503))과 반응챔버(501)의 연결블럭(506)을 중심으로 형성될 수 있고, 이러한 인덕터(203)는 컨버터부(200)를 구성하는 인덕터(203)일 수 있다.The inductor 203 may also be formed around a connection block 506 between the arc electrode (arc ground electrode 502 and arc high voltage electrode 503) and the reaction chamber 501, And may be an inductor 203 constituting the converter unit 200.

이처럼, 회전 아크 플라즈마 전원장치(1)의 전력변환 회로요소인 컨버터부(200)의 인덕터(203)를 아크플라즈마 반응기(500)에 구성함으로써, 인덕터(203)에 흐르는 전류에 의하여 접선방향으로 자기장이 발생하고, 아크플라즈마 방전시 아크고전압전극(503)과 아크접지전극(502) 사이에 생성되는 전자 및 이온들이 이러한 자기장에 의하여 가속되고 회전함으로 인해서 아크플라즈마는 반응챔버(501) 방향으로 스월(swirl)을 일으키며 확장하게 된다.The inductor 203 of the converter unit 200 as the power conversion circuit element of the rotary arc plasma power supply device 1 is configured in the arc plasma reactor 500 so that the current flowing in the inductor 203 causes the magnetic field Electrons and ions generated between the arc high voltage electrode 503 and the arc ground electrode 502 are accelerated and rotated by the magnetic field when the arc plasma discharge occurs and the arc plasma is swirled toward the reaction chamber 501 swirl.

따라서, 전원장치로부터 공급되는 고전압에 의하여 아크전극(아크접지전극(502) 및 아크고전압전극(503)) 사이에서 발생한 아크가 전극 사이에 머무르지 않고 자기장의 여향으로 발달하기 때문에 전극의 국부마모를 줄일 수 있을 뿐만 아니라, 아크 방전의 소비전력을 현저히 줄이는 것이 가능하다.Therefore, the arc generated between the arc electrode (the arc ground electrode 502 and the arc high voltage electrode 503) due to the high voltage supplied from the power source device does not stay between the electrodes but develops as a magnetic field, It is possible to remarkably reduce the power consumption of the arc discharge.

아크플라즈마 반응챔버(501) 내에 열교환장치를 구성하여 처리공정가스 또는 처리대상물질을 가열할 경우에는 아크 소비전력을 더 줄일 수 있을 뿐만 아니라, 자기장 스월에 의하여 접촉면적 및 반응체류시간을 연장시키는 효과를 얻을 수 있다.In the case of forming the heat exchange device in the arc plasma reaction chamber 501 to heat the process gas or the substance to be treated, the arc power consumption can be further reduced, and the contact area and reaction residence time can be extended by the magnetic field swirl Can be obtained.

앞에서, 본 발명의 특정한 실시예가 설명되고 도시되었지만 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 일이다. 따라서, 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 기술적 사상이나 관점으로부터 개별적으로 이해되어서는 안되며, 변형된 실시예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It is obvious to those who have. Accordingly, it should be understood that such modifications or alterations should not be understood individually from the technical spirit and viewpoint of the present invention, and that modified embodiments fall within the scope of the claims of the present invention.

1 : 회전 아크 플라즈마 전원장치 100 : 상용전원정류부
101 : 상용전원입력부 102 : 필터
103 : 초기충전회로 104 : 싸이리스터 정류기
105 : 싸이리스터정류기제어회로 106 : 직류평활캐패시터
107 : 정류기 108 : 계전기
111 : 메인파워스위치 200 : 컨버터부
201 : 컨버터전력변환스위치 202 : 컨버터게이트드라이버
203 : 인덕터 204 : 제2 캐패시터
300 : 인버터부 301 : 인버터전력변환스위치
302 : 인버터게이트드라이버 303 : 공진탱크
400 : 고전압발생부 401 : 고전압변압기
402 : 고전압센싱부 404 : 고전압정류부
500 : 아크플라즈마 반응기 501 : 반응챔버
502 : 아크접지전극 503 : 아크고전압전극
504 : 절연블럭 505 : 고전압 연결단자
506 : 연결블럭 507 : 가스노즐구멍
508 : 가스유입구 509 : 가스배출구
510 : 단열블럭1: rotating arc plasma power supply device 100: commercial power rectifying part
101: commercial power input unit 102: filter
103: initial charging circuit 104: thyristor rectifier
105: thyristor rectifier control circuit 106: DC smoothing capacitor
107: Rectifier 108: Relay
111: main power switch 200: converter section
201: converter power conversion switch 202: converter gate driver
203: inductor 204: second capacitor
300: inverter unit 301: inverter power conversion switch
302: inverter gate driver 303: resonance tank
400: High voltage generating unit 401: High voltage transformer
402: high voltage sensing part 404: high voltage rectifying part
500: arc plasma reactor 501: reaction chamber
502: arc ground electrode 503: arc high voltage electrode
504: Isolation block 505: High voltage connector
506: connecting block 507: gas nozzle hole
508: Gas inlet 509: Gas outlet
510: Insulation block

Claims (8)

반응챔버;
상기 반응챔버 내부에 설치되는 아크접지전극 및 아크고전압전극;
상기 아크고전압전극에 고전압을 연결하는 고전압 연결단자;
상기 반응챔버와 연통되어 불활성가스가 유입되는 가스유입구;
상기 반응챔버와 연통되어 상기 가스유입구를 통해 유입된 불활성가스가 분해 후 배출되는 배출구; 및
상기 반응챔버 주변에 형성되어 전류가 흐르면서 상기 반응챔버 내부에 자기장을 발생시키는 인덕터를 포함하고,
상기 인덕터에 의하여 플라즈마가스 토출방향으로 스월(swirl)이 발생되도록 이루어지며,
상기 인덕터는, 전력을 공급하는 전원장치의 회로소자를 구성하는 것을 특징으로 하는 불활성가스 분해용 아크플라즈마 반응기.A reaction chamber;
An arc ground electrode and an arc high voltage electrode provided inside the reaction chamber;
A high voltage connection terminal for connecting a high voltage to the arc high voltage electrode;
A gas inlet communicating with the reaction chamber to introduce an inert gas;
A discharge port communicating with the reaction chamber, through which the inert gas introduced through the gas inlet is decomposed and discharged; And
And an inductor which is formed around the reaction chamber and generates a magnetic field in the reaction chamber while a current flows,
A swirl is generated in the plasma gas discharge direction by the inductor,
Wherein the inductor constitutes a circuit element of a power supply device for supplying electric power. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 전원장치는,
교류 상용전원을 입력받아 직류전압으로 변환시키는 상용전원정류부;
상기 상용전원정류부에서 변환된 직류전압의 크기를 조절하는 컨버터부;
상기 컨버터부에서 조절된 직류전압을 고주파로 변환시키는 인버터부; 및
상기 인버터부를 통하여 출력되는 고주파를 아크방전에 필요한 고전압으로 승압시키는 고전압발생부를 포함하여 이루어지고,
상기 인덕터는 상기 컨버터부를 구성하는 것을 특징으로 하는 불활성가스 분해용 아크플라즈마 반응기.The method according to claim 1,
The power supply device includes:
A commercial power rectification part for receiving an AC commercial power source and converting it into a DC voltage;
A converter for adjusting a magnitude of the DC voltage converted by the commercial power rectifier;
An inverter unit for converting the DC voltage adjusted by the converter unit into high frequency; And
And a high voltage generating unit for raising the high frequency output through the inverter unit to a high voltage necessary for arc discharge,
And wherein the inductor constitutes the converter unit. 제1항 또는 제3항에 있어서,
상기 인덕터는, 상기 아크접지전극과 아크고전압전극이 형성된 지점에서 플라즈마가스 토출방향을 향하여 형성되는 것을 특징으로 하는 불활성가스 분해용 아크플라즈마 반응기.The method according to claim 1 or 3,
Wherein the inductor is formed in a plasma gas discharge direction at a point where the arc ground electrode and the arc high voltage electrode are formed. 제1항 또는 제3항에 있어서,
상기 아크접지전극은 파이프 형태로 이루어지고,
상기 아크고전압전극은 상기 아크접지전극 내부에서 이격되어 배치되고,
상기 아크접지전극에는, 상기 가스유입구를 통해 유입된 가스가 상기 아크접지전극과 아크고전압전극 사이로 토출시키는 가스노즐구멍이 형성된 것을 특징으로 하는 불활성가스 분해용 아크플라즈마 반응기.The method according to claim 1 or 3,
Wherein the arc ground electrode is in the form of a pipe,
Wherein the arc high voltage electrode is disposed apart from the inside of the arc ground electrode,
Wherein the arc ground electrode is formed with a gas nozzle hole through which gas introduced through the gas inlet is discharged between the arc ground electrode and the arc high voltage electrode. 제5항에 있어서,
상기 아크접지전극 및 아크고전압전극의 하측에 결합되어 양자를 이격시키는 절연블럭이 형성되고,
상기 고전압연결단자는 상기 절연블럭에 관통결합되어 상기 아크고전압전극에 연결되는 것을 특징으로 하는 불활성가스 분해용 아크플라즈마 반응기. 6. The method of claim 5,
An insulating block coupled to a lower side of the arc ground electrode and the arc high voltage electrode to separate the arc ground electrode and the arc high voltage electrode,
And the high-voltage connection terminal is connected to the arc high-voltage electrode through the insulating block. 제5항에 있어서,
상기 아크접지전극 상측을 감싸고 상기 반응챔버에 고정되는 연결블럭이 형성되고,
상기 인덕터는 상기 연결블럭을 중심으로 하여 형성되는 것을 특징으로 하는 불활성가스 분해용 아크플라즈마 반응기.6. The method of claim 5,
A connection block is formed which surrounds the arc ground electrode and is fixed to the reaction chamber,
Wherein the inductor is formed around the connection block. ≪ RTI ID = 0.0 > 18. < / RTI > 제1항 또는 제3항에 있어서,
상기 반응챔버의 전부 또는 일부를 감싸도록 이루어지는 단열블럭을 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 불활성가스 분해용 아크플라즈마 반응기.The method according to claim 1 or 3,
Further comprising a heat insulating block enclosing all or a part of the reaction chamber.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20100026707A (en) * 2008-09-01 2010-03-10 한국에너지기술연구원 Hollow type plasma torch, combusition apparatus plasma/gas bunner and method of melting using the appratus
KR101107819B1 (en) * 2003-04-30 2012-01-31 에드워즈 리미티드 Apparatus and method for forming a plasma
KR101153801B1 (en) * 2009-12-31 2012-06-13 에이치케이엠엔에스(주) Plasma buner including radial shape fuel pipe

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