KR101447648B1 - Medicinal fluid supply monitoring apparatus for wafer coating using pressure sensor - Google Patents

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Abstract

본 발명은 압력센서를 이용한 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시장치를 개시한다. 본 발명은 PR 약액이 저장된 PR 저장소; 상기 PR 저장소에 공급관으로 연결되어 노즐부를 통해 PR 약액을 웨이퍼에 제공하는 PR 펌프; 상기 PR 펌프와 상기 노즐부 사이에 설치되어 공급되는 PR 약액의 압력을 측정하여 펄스신호로 출력하는 압력센서; 상기 압력센서에 전기적으로 연결되어 상기 펄스신호를 수신하여 제어신호로 변환하는 유량 감시장치; 및 상기 유량 감시장치의 제어신호를 수신하여 상기 PR 펌프의 구동을 제어하는 주제어장치로 구성된 것을 특징으로 한다.The present invention discloses a chemical liquid supply monitoring apparatus for wafer coating using a pressure sensor. The present invention relates to a PR storage in which a PR drug solution is stored; A PR pump connected to the PR reservoir by a supply pipe to supply the PR chemical solution to the wafer through the nozzle unit; A pressure sensor installed between the PR pump and the nozzle unit for measuring the pressure of the supplied PR chemical solution and outputting the pulse as a pulse signal; A flow rate monitoring device electrically connected to the pressure sensor for receiving the pulse signal and converting the pulse signal into a control signal; And a main controller for receiving the control signal of the flow rate monitor and controlling the driving of the PR pump.

PR 약액, 압력센서, 웨이퍼, 유량 감지장치 PR chemical solution, pressure sensor, wafer, flow sensor

Description

압력센서를 이용한 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시장치{MEDICINAL FLUID SUPPLY MONITORING APPARATUS FOR WAFER COATING USING PRESSURE SENSOR}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a device for monitoring a supply of chemical liquid for wafer coating using a pressure sensor,

본 발명은 압력센서를 이용한 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 압력센서를 이용하여 웨이퍼에 약액을 공급할 때 고가의 약액을 최적의 양으로 상기 웨이퍼에 토출되도록 함으로써 생산비용을 절감시킬 수 있도록 한 압력센서를 이용한 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a monitoring device for monitoring a chemical liquid for wafer coating using a pressure sensor, and more particularly, to an apparatus and method for monitoring a chemical liquid supplied to a wafer by using a pressure sensor, The present invention relates to a monitoring device for supplying a chemical liquid for wafer coating,

일반적으로 포토마스크 공정은 웨이퍼의 최상층을 선택적으로 제거하거나 패턴을 형성하는 기술로서, 마스크에 의한 패턴 전사를 위한 준비작업으로 웨이퍼에 PR을 코팅하는 공정을 포함한다. PR 코팅공정은 포토레지스트라는 약액을 회전하는 웨이퍼위에 소량 떨어뜨려 원심력에 의해 확산도포시키는 것으로 수행된다.Generally, a photomask process is a technique of selectively removing the uppermost layer of a wafer or forming a pattern, and includes a step of coating PR on a wafer in preparation for pattern transfer by a mask. The PR coating process is performed by dropping a small amount of chemical solution on a rotating wafer and spreading it by centrifugal force.

약액 도포량은 공정에 따라 차이는 있으나 초당 수 cc 내외인데, 약액이 고가이므로 최소한의 양으로 웨이퍼 전체를 도포해야한다. 만약 약액이 일정량 이상 과다토출되면 원심력에 의해 도포되지 않은 채 버려진다.Although the amount of chemical solution varies depending on the process, it is several cc / sec. Since the chemical solution is expensive, it is necessary to apply the entire wafer in a minimum amount. If the chemical solution is overdosed by a certain amount, it is discarded without being applied by centrifugal force.

종래의 PR 코팅공정에서는 코팅 불량을 방지하기 위해 웨이퍼로 공급되는 약 액의 공급여부만 감시하는 방법을 사용해왔다. 이 방법은 약액의 토출 노즐을 투명재질로 하고 노즐 외부에 광센서를 설치하여 약액의 공급여부를 감시하고 있으나 서크 백(Suck-back)이라는 특수한 공정조건에 의해 약액의 토출여부 판단에 어려운 점이 있다.In the conventional PR coating process, a method of monitoring only the supply of the liquid supplied to the wafer has been used to prevent coating failure. In this method, although the discharge nozzle of the chemical liquid is made of a transparent material and an optical sensor is provided outside the nozzle to monitor the supply of the chemical liquid, it is difficult to judge whether or not the chemical liquid is discharged by a special process condition called a suck back .

즉, 약액은 일정시간이상 공기와 접촉시 응고되는 성질이 있고, 공급후 관로 및 노즐에 대기하고 있는 약액이 노즐 끝단까지 차 있을 경우 이물질이나 주제어장치의 다른 부위와 접촉하여 변질되거나 오염되기 쉬우므로 서크 백 밸브를 이용하여 공급직후 역류시켜 노즐 끝단에서 관로 안쪽으로 소량이 빨려들어가게 한다. 이 때 그 빨려들어가는 양이 항상 일정하지 않기 때문에 광센서를 이용한 감시방법은 에러를 자주 발생한다.That is, the chemical liquid has a property of solidifying upon contact with air for a certain period of time, and if the chemical liquid in the duct and the nozzle after being supplied reaches the nozzle end, it is likely to be deteriorated or contaminated by contact with foreign matter or other parts of the main controller Using backflow valve, back flow immediately after supply, so that small amount is sucked in from the nozzle end to the inside of the channel. In this case, since the amount of sucking is not always constant, the monitoring method using the optical sensor frequently generates errors.

또한 공급량의 계측이 불가능하여 매회 공급시에는 확인할 수 없고, 누적 공급량 또한 시험관을 이용하여 주기적으로 공급량을 확인하는 과정에서 간접적으로 추정할 수 밖에 없다. 따라서, 약액의 토출여부(도포여부)를 감시하는 수단과 약액의 공급량을 계측하는 수단을 필요로 한다.In addition, since it is impossible to measure the supply amount, it can not be confirmed at every time of supply, and cumulative supply amount can not be estimated indirectly in the process of periodically checking the supply amount by using the test tube. Therefore, a means for monitoring whether or not the chemical liquid is discharged (whether or not the chemical liquid is discharged) and a means for measuring the supply amount of the chemical liquid are required.

이와 같은 필요에 의해 종래에는 유량센서가 마련된 약액 공급감시 장치가 개시되었다. 도 1은 종래의 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시장치를 나타내는 구성도이다.According to such necessity, a chemical liquid supply monitoring device having a flow sensor has been disclosed. BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a configuration diagram showing a conventional chemical liquid supply monitoring apparatus for wafer coating; FIG.

도 1과 같이, 종래의 약액 공급감시장치는 약액 저장탱크(미도시)로부터 포토레지스트 약액(이하, PR 약액)이 2개의 공급관로(P1,P2)를 통해 각각 반도체 웨이퍼(W1,W2)로 소정량 공급된다. 또한 공급관로(P1,P2)에는 PR 펌프(M1,M2)가 설치 되고, 각 펌프 후단에는 공급관로(P1,P2) 끝단의 노즐로 이어지는 관로의 중간에 유량센서(S1,S2)가 설치된다. 1, a conventional chemical liquid supply monitoring apparatus is constructed such that a photoresist chemical solution (hereinafter referred to as a PR chemical solution) is supplied from a chemical solution storage tank (not shown) to semiconductor wafers W1 and W2 via two supply pipes P1 and P2, respectively And is supplied in a predetermined amount. The PR pumps M1 and M2 are installed in the supply pipes P1 and P2 and the flow sensors S1 and S2 are installed in the middle of the pipe leading to the nozzles at the ends of the supply pipes P1 and P2 .

이때, 유량센서(S1,S2)의 출력은 약액의 공급여부 감시와 공급량 계측을 위한 유량계측공급감시장치(100)에 제공되도록 구성된다. 또한 유량계측공급감시장치(100)는 약액도표장치의 주제어장치(PLC;200)와 신호라인을 통해 연결된다. 이에 따라 노즐별로 공급개시 신호를 수신하고 명령신호에 대한 응답 및 공급완료/공급에러신호를 전송하도록 구성된다. At this time, the output of the flow rate sensors S1 and S2 is configured to be provided to the flow rate measurement supply monitoring device 100 for monitoring whether the chemical liquid is supplied or not and for measuring the supply amount. Also, the flow meter supply monitoring device 100 is connected to the main controller (PLC) 200 of the liquid medicine chart device through a signal line. Thereby to receive a supply start signal for each nozzle and to send a response to the command signal and a supply completion / supply error signal.

이와 같은 종래의 약액 공급감시장치는 PR 약액이 노즐로 분사될 때 그 유량을 유량센서(S1,S2)로 검출하여 약액의 양이 많거나 적으면 장비에 에러신호를 울리는 동시에 장비의 작동을 중지시키도록 이루어진다. Such conventional chemical liquid supply monitoring apparatus detects the flow rate of the PR chemical liquid by the flow sensors S1 and S2 when the chemical liquid is injected into the nozzles, and when the amount of the chemical liquid is large or small, .

한편, 이와 같은 약액 공급감시장치에 적용되는 유량센서(S1,S2)는 센서 본체 내부에 휠(wheel)이 장착되어 공급되는 PR 약액의 흐름에 따라 상기 휠이 구동되어 펄스신호를 출력함으로써 유량이 산출되도록 구성된다. 그러나, 상기 PR 약액은 그 점도(viscosity)가 높아 상기 휠이 원활하게 구동되기 어렵다. 이에 따라 종래의 휠 구동방식에 따른 유량센서(S1,S2)는 유량측정시 상기 휠이 제대로 돌지 않아 펄스의 헌팅(hunting; 거짓 데이터)이 발생되어 정밀한 약액 공급제어가 이루어지기 어려운 문제점이 있었다. On the other hand, the flow sensors S1 and S2 applied to the chemical liquid supply monitoring apparatus are driven by the wheel of the PR chemical solution supplied with a wheel mounted inside the sensor body, . However, the PR chemical solution has a high viscosity, so that the wheel is hardly driven smoothly. Accordingly, the flow sensors S1 and S2 according to the conventional wheel drive method have a problem in that the wheel does not rotate properly when measuring the flow rate, so that hunting (false data) of the pulse is generated and it is difficult to precisely control the supply of the chemical solution.

상기한 문제점을 해결하기 위하여 본 발명은 압력센서를 이용하여 웨이퍼에 약액을 공급할 때 고가의 약액을 최적의 양으로 상기 웨이퍼에 토출되도록 함으로써 생산비용을 절감시킬 수 있도록 한 압력센서를 이용한 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the above-described problems, the present invention provides a wafer coating method using a pressure sensor that can reduce the production cost by allowing an expensive amount of chemical liquid to be discharged onto the wafer in an optimal amount when supplying a chemical solution to the wafer using a pressure sensor It is an object of the present invention to provide a chemical liquid supply monitoring apparatus.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 PR 약액이 저장된 PR 저장소; 상기 PR 저장소에 공급관으로 연결되어 노즐부를 통해 PR 약액을 웨이퍼에 제공하는 PR 펌프; 상기 PR 펌프와 상기 노즐부 사이에 설치되어 공급되는 PR 약액의 압력을 측정하여 펄스신호로 출력하는 압력센서; 상기 압력센서에 전기적으로 연결되어 상기 펄스신호를 수신하여 제어신호로 변환하는 유량 감시장치; 및 상기 유량 감시장치의 제어신호를 수신하여 상기 PR 펌프의 구동을 제어하는 주제어장치를 포함한 압력센서를 이용한 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시장치를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a PR storage device, A PR pump connected to the PR reservoir by a supply pipe to supply the PR chemical solution to the wafer through the nozzle unit; A pressure sensor installed between the PR pump and the nozzle unit for measuring the pressure of the supplied PR chemical solution and outputting the pulse as a pulse signal; A flow rate monitoring device electrically connected to the pressure sensor for receiving the pulse signal and converting the pulse signal into a control signal; And a main controller for receiving the control signal of the flow monitor and controlling the driving of the PR pump.

상기한 구성에 있어서, 압력센서는 상기 공급관이 연통하는 센서 본체; 상기 센서 본체 내부에 마련되어 일측으로 PR 용액이 공급되어 수용되었다가 타측으로 배출되는 공간부; 상기 공간부에 형성되어 상기 수용된 PR 용액의 압력을 측정하는 압력 트랜스듀서를 포함하여 구성될 수 있다. In the above configuration, the pressure sensor may include a sensor main body in which the supply pipe communicates; A space part provided in the sensor main body to receive and receive the PR solution on one side and to be discharged to the other side; And a pressure transducer formed in the space and measuring the pressure of the received PR solution.

또한, 압력 트랜스듀서는 상기 공간부에 수용된 PR 용액의 압력에 따라 전압 을 출력하고, 상기 전압은 상기 주제어장치에 연결된 디스플레이부로 출력될 수 있다.Further, the pressure transducer outputs a voltage in accordance with the pressure of the PR solution accommodated in the space, and the voltage may be output to a display unit connected to the main controller.

본 발명은 압력센서를 이용하여 약액의 정밀한 유량측정이 가능하다. 따라서 웨이퍼에 약액을 공급할 때 고가의 약액을 최적의 양으로 상기 웨이퍼에 토출되도록 함으로써 생산비용을 절감시킬 수 있는 효과가 있다.The present invention enables a precise flow rate measurement of a chemical liquid using a pressure sensor. Accordingly, when the chemical liquid is supplied to the wafer, it is possible to discharge the expensive chemical liquid to the wafer in an optimal amount, thereby reducing the production cost.

또한 본 발명은 공급되는 약액의 유압으로 인해 발생되는 전압에 따라 펄스생성이 증대되어 펄스의 헌팅을 감소시킴으로써 정밀한 유량 데이터를 얻을 수 있는 효과가 있다.Further, according to the present invention, the pulse generation is increased according to the voltage generated by the hydraulic pressure of the supplied chemical liquid, thereby reducing the hunting of pulses, thereby obtaining accurate flow rate data.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 압력센서를 이용한 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시장치의 구성을 나타내는 개략도이다.2 is a schematic diagram showing the configuration of a chemical liquid supply monitoring apparatus for wafer coating using a pressure sensor according to an embodiment of the present invention.

도 2와 같이 본 발명은, 복수의 PR 저장소(10,20), 버퍼 탱크(40), PR 펌프(60), 필터(70), 압력 센서(80), 서크-백 밸브(90), 및 노즐부(95)를 포함하여 구성된다. 2, the present invention includes a plurality of PR reservoirs 10 and 20, a buffer tank 40, a PR pump 60, a filter 70, a pressure sensor 80, a suc-bag valve 90, And a nozzle unit 95.

상기한 구성에 있어서, PR 저장소(10,20)는 적어도 하나로 구성될 수 있으며 포토 레지스트 약액(이하, PR 약액)이 수용된다.In the above configuration, the PR reservoirs 10 and 20 may be constituted of at least one, and a photoresist chemical solution (hereinafter, referred to as a PR chemical solution) is accommodated.

버퍼 탱크(40)는 PR 저장소(10,20)에 연결되어 공급되는 PR 약액에 포함된 기포를 제거하여 외부로 배출함으로써 PR 약액에 기포가 발생되는 것을 방지한다.The buffer tank 40 is connected to the PR reservoirs 10 and 20 to remove air bubbles contained in the supplied PR chemical liquid and to discharge the air bubbles to the outside, thereby preventing air bubbles from being generated in the PR chemical liquid.

PR 펌프(60)는 버퍼 탱크(40)에 공급관(83)으로 연결되어 버퍼 탱크(40)에서 기포가 제거된 PR 약액을 흡입하여 웨이퍼(W)에 분출되도록 공급관(84)을 통해 송출한다. 이때, 공급관(83)에는 이송되는 PR 약액 내에 함유된 이물질을 제거하도록 필터(70)가 설치되는 것이 바람직하다. The PR pump 60 is connected to the buffer tank 40 through a supply pipe 83 to suck the PR chemical solution from which the bubbles have been removed from the buffer tank 40 and to send the PR chemical solution through the supply pipe 84 to be sprayed onto the wafer W. At this time, it is preferable that a filter 70 is installed in the supply pipe 83 so as to remove foreign matter contained in the PR chemical liquid to be transferred.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 압력센서를 이용한 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시장치의 압력센서를 나타내는 구성도이다.3 is a configuration diagram showing a pressure sensor of a chemical liquid supply monitoring apparatus for wafer coating using a pressure sensor according to an embodiment of the present invention.

도 3과 같이, 본 발명의 압력 센서(80)는 센서 본체(87), 센서 본체(87) 내부에 마련된 공간부(88), 및 압력 트랜스듀서(transducer; 82)를 포함하여 구성된다.3, the pressure sensor 80 of the present invention includes a sensor body 87, a space 88 provided inside the sensor body 87, and a pressure transducer 82.

센서 본체(87)는 상하부가 분리되도록 형성되고 체결수단(예컨데, 볼트)에 의해 고정된 상태로 설치된다. 또한 양측에는 공급관(83,84)이 연결되어 PR 약액이 유입 및 배출되도록 한다.The sensor main body 87 is formed so that the upper and lower portions thereof are separated from each other and fixed by the fastening means (for example, bolts). In addition, the supply pipes 83 and 84 are connected to both sides to allow the PR chemical solution to flow in and out.

공간부(88)는 센서 본체(87)에 형성되며, 공급관(83)에 연통되어 공급되는 PR 약액이 수용될 수 있도록 일정부피를 갖는 공간으로 이루어진다. 또한 공간부(88)는 수용된 PR 약액이 배출되도록 타측의 공급관(84)과 연통된다. The space portion 88 is formed in the sensor main body 87 and has a space having a predetermined volume so that the PR chemical solution communicated with the supply pipe 83 can be received. The space portion 88 communicates with the supply pipe 84 on the other side so that the received PR chemical solution is discharged.

압력 트랜스듀서(82)는 공간부(88)의 상부측에 위치하도록 고정되는데 중간에 소정의 형상으로 돌출된 안착턱(도면부호 미부여)이 형성되고 그 하부에 O- 링(86)이 삽입되어 센서 본체(87)에 설치된다. 또한 압력 트랜스듀서(82)는 유량 감시장치(50)와 신호 케이블(81)을 매개로 연결된다. The pressure transducer 82 is fixed to be positioned on the upper side of the space portion 88. An O-ring 86 is inserted in the lower portion of the pressure transducer 82, And is installed in the sensor main body 87. The pressure transducer 82 is also connected to the flow rate monitoring device 50 via a signal cable 81.

서크 백 밸브(90)는 PR 용액이 분사되는 노즐부(95)와 공급관(84) 사이에 설치된다. 이에 따라 서크 백 밸브(90)를 이용하여 PR 용액을 웨이퍼(W)에 공급한 이후 노즐부(95) 끝단에서 관로 안쪽으로 소량이 빨려들어가게 한다.The circuity back valve 90 is installed between the nozzle portion 95 and the supply pipe 84 from which the PR solution is injected. Accordingly, after the PR solution is supplied to the wafer W by using the suc-bag valve 90, a small amount of the PR solution is sucked into the channel from the end of the nozzle portion 95.

유량 감시장치(50)는 압력센서(80)에 신호 케이블(81)로 연결되어 펄스신호를 수신하여 데이터 수치로 저장한다. 또한 노즐부(95)의 공급개시신호를 수신하고 명령신호에 대한 응답 및 공급에러신호를 주제어장치(30)에 전송한다. 이때, 상기 유량 감시장치는 본 발명의 출원이 기출원한 특허출원 제2000-83867호의 유량 감시장치가 채용될 수 있다. 또한 주제어장치(30)는 유량 감시장치(50)에서 송출된 제어신호를 수신하여 PR 펌프(60)의 구동을 제어한다.The flow rate monitoring device 50 is connected to the pressure sensor 80 through a signal cable 81 to receive a pulse signal and store it as a data value. And also receives a supply start signal of the nozzle unit 95 and transmits a response to the command signal and a supply error signal to the main controller 30. At this time, the flow rate monitoring apparatus may be adopted as the flow rate monitoring apparatus of Patent Application No. 2000-83867 filed by the present invention. Further, the main controller 30 controls the driving of the PR pump 60 by receiving the control signal transmitted from the flow rate monitoring device 50.

이하, 상기한 구성을 갖는 본 발명의 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시장치의 작동상태에 대해 설명한다.Hereinafter, the operation state of the wafer coating chemical liquid supply monitoring apparatus of the present invention having the above-described configuration will be described.

우선 PR 저장소(10,20)로부터 PR 약액이 버퍼 탱크(40)로 공급된다. 이때 버퍼 탱크(40)는 PR 약액에 포함된 기포를 제거하고 PR 펌프(60)의 구동에 의해 공급관(84)을 통해 송출된다. 이때 공급관(84)에는 필터(70)가 장착되어 PR 약액에 포함된 이물질을 제거하는 것이 좋다. First, the PR chemical solution is supplied from the PR reservoirs 10, 20 to the buffer tank 40. At this time, the buffer tank 40 removes bubbles contained in the PR chemical solution and is sent out through the supply pipe 84 by driving the PR pump 60. At this time, a filter 70 is installed in the supply pipe 84 to remove foreign matter contained in the PR chemical solution.

이어 공급관(84)으로 송출되는 PR 용액은 압력 센서(80)의 센서 본체(87)에 마련된 공간부(88)로 유입된다. 공간부(88)에 유입된 PR 용액은 마련된 공간의 크기만큼 채워졌다가 연결된 타측의 공급관(84)을 통해 지속적으로 공급된다. 여기서 상기한 공간부(88)에 마련된 압력 트랜스듀서(82)는 공간부(88)에 채워진 PR 용액의 압력을 측정하게 된다. 즉 공급되는 PR 용액이 많으면 공간부(88)에 채워진 PR 용액의 압력도 상승되는데, 이때 PR 용액의 압력 값을 압력 트랜스듀서(82)가 검출하는 것이다. The PR solution delivered to the supply pipe 84 then flows into the space portion 88 provided in the sensor body 87 of the pressure sensor 80. The PR solution introduced into the space portion 88 is filled up to the size of the space provided and is continuously supplied through the other supply pipe 84 connected thereto. The pressure transducer 82 provided in the space portion 88 measures the pressure of the PR solution filled in the space portion 88. That is, when the amount of the supplied PR solution is large, the pressure of the PR solution filled in the space portion 88 also increases. At this time, the pressure transducer 82 detects the pressure value of the PR solution.

구체적으로, 상기한 압력 트랜스듀서(82)는 공간부(88)에 채워진 PR 용액의 압력에 의해 전압(mV)을 출력하고 이를 펄스로 변환시켜 유량 감시장치(50)의 컨트롤러(미도시)로 송출한다. 이때 상기 펄스는 상기 전압(일반적으로 0~100mV)에 비례하도록 생성된다. 또한 상기 전압은 주제어장치(30)에 연결된 디스플레이부(미도시)로 출력되어 사용자가 이를 확인할 수 있도록 구성할 수 있음은 물론이다.Specifically, the pressure transducer 82 outputs the voltage (mV) by the pressure of the PR solution filled in the space 88 and converts it into a pulse to be supplied to the controller (not shown) of the flow rate monitor 50 . At this time, the pulse is generated so as to be proportional to the voltage (generally 0 to 100 mV). In addition, the voltage may be outputted to a display unit (not shown) connected to the main controller 30 so that the user can check the voltage.

도 4는 종래의 유량센서의 유량에 따른 펄스 데이터 생성분포를 나타낸 그래프이고, 도 5는 본 발명의 압력센서의 유량에 따른 펄스 데이터 생성분포를 나타낸 그래프이다.FIG. 4 is a graph showing a pulse data generation distribution according to a flow rate of a conventional flow sensor, and FIG. 5 is a graph showing a pulse data generation distribution according to a flow rate of the pressure sensor of the present invention.

종래의 유량센서는 내부에 휠(wheel)이 장착된 구성으로 고점도의 PR 약액이 공급되면서 상기 휠을 회전시켜 펄스를 출력하는 방식이다. 따라서 PR 약액이 고착되거나 굳어지는 경우 상기 휠의 원활한 회전을 저해한다. 따라서 이는 펄스의 헌팅(huntig)으로 이어지는 문제점이 있었다. 이와 같은 이유에 의해 도 4에서 보는 바와 같이 유량 데이터는 비교적 큰 폭의 오차범위를 갖는 것을 알수 있다. In the conventional flow sensor, a high viscosity PR chemical solution is supplied in a structure in which a wheel is mounted, and the wheel is rotated to output a pulse. Therefore, when the PR liquid medicine is fixed or hardened, smooth rotation of the wheel is inhibited. Therefore, this leads to hunting of the pulse. For this reason, it can be seen that the flow data has a relatively large error range as shown in FIG.

반면, 본 발명의 압력센서(80)의 압력 트랜스듀서(82)는 PR 용액의 압력에 의해 출력된 전압(mV)에 대응되는 개수의 펄스를 발생시켜 유량 감시장치(50)에 제공한다. 따라서 본 발명에 따르면, 도 5와 같이 유량 데이터의 오차범위(약 ± 0.2cc이하)가 현저하게 줄어든 것을 확인할 수 있다. On the other hand, the pressure transducer 82 of the pressure sensor 80 of the present invention generates the number of pulses corresponding to the voltage (mV) output by the pressure of the PR solution and provides the pulses to the flow monitor 50. Therefore, according to the present invention, it is confirmed that the error range (about ± 0.2 cc or less) of the flow data is remarkably reduced as shown in FIG.

예를 들어, 종래의 휠 방식의 유량센서는 시간이 지남에 따라 고점도의 PR 용액이 고착되거나 응고됨으로써 원활한 휠의 회전을 확보하기 어려워 보통 10P/cc 이내로 출력되었다. 여기서, 단위 P/cc는 단위 부피당(cc)당 펄스수(P)를 나타낸다. 반면, 본 발명의 압력센서(80)는 출력된 전압(mV)에 비례하도록 펄스가 생성되므로 많게는 1000(P/cc) 이상의 펄스를 기대할 수 있다. 따라서 펄스의 헌팅을 감소시켜 정밀한 유량 데이터를 확보할 수 있다. For example, in the conventional wheel type flow sensor, it is difficult to ensure smooth rotation of the wheel due to sticking or solidification of a high viscosity PR solution over time, and the output is usually within 10 P / cc. Here, the unit P / cc represents the number of pulses (P) per unit volume (cc). On the other hand, since the pressure sensor 80 according to the present invention generates pulses proportional to the output voltage (mV), a pulse of 1000 (P / cc) or more can be expected. Therefore, pulse hunting can be reduced, and precise flow data can be secured.

한편, 이와 같은 압력센서(80)에 의해 출력된 펄스신호는 유량 감시장치(50)로 송출된다. 또한 유량 감시장치(50)는 주제어장치(30)와 전기적으로 연결되어 수신된 펄스신호에 대한 데이터를 주제어장치(30)에 송출한다. 이에 주제어장치(30)는 수신된 데이터에 대한 제어신호에 의해 사용자가 PR 펌프(60)를 제어함으로써 공급되는 PR 약액의 유량을 조정할 수 있다. On the other hand, the pulse signal outputted by the pressure sensor 80 is sent out to the flow rate monitoring device 50. The flow rate monitoring device 50 is electrically connected to the main controller 30 and transmits data on the received pulse signal to the main controller 30. Thus, the main controller 30 can adjust the flow rate of the supplied PR chemical solution by controlling the PR pump 60 by a control signal for the received data.

이상에서는 본 발명의 일실시예에 대해서 도시하고 설명하였으나, 이는 상술한 실시예에만 한정되는 것이 아니며, 본 발명에 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상에 요지를 벗어나지 않는 범위에서 얼마든지 다양하게 변경하여 실시할 수 있을 것이다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

도 1은 종래의 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시장치를 나타내는 구성도,BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a configuration diagram showing a conventional chemical liquid supply monitoring apparatus for wafer coating;

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 압력센서를 이용한 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시장치의 구성을 나타내는 개략도,FIG. 2 is a schematic view showing a configuration of a chemical liquid supply monitoring apparatus for wafer coating using a pressure sensor according to an embodiment of the present invention;

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 압력센서를 이용한 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시장치의 압력센서를 나타내는 구성도,3 is a view showing a pressure sensor of a chemical liquid supply monitoring apparatus for wafer coating using a pressure sensor according to an embodiment of the present invention;

도 4는 종래의 유량센서의 유량에 따른 펄스 데이터 생성분포를 나타낸 그래프, 및4 is a graph showing pulse data generation distribution according to the flow rate of a conventional flow sensor, and Fig.

도 5는 본 발명의 압력센서의 유량에 따른 펄스 데이터 생성분포를 나타낸 그래프이다.5 is a graph showing pulse data generation distribution according to the flow rate of the pressure sensor of the present invention.

<도면의 부호에 대한 설명>DESCRIPTION OF REFERENCE NUMERALS

10,20: PR 저장소 30: 주제어장치10, 20: PR storage 30:

40: 버퍼탱크 60: PR 펌프40: Buffer tank 60: PR pump

70: 펌프 80: 압력센서70: Pump 80: Pressure sensor

81: 신호 케이블 82: 압력 트랜스듀서81: Signal cable 82: Pressure transducer

83,84: 공급관 87: 센서 본체 83,84: Supply pipe 87: Sensor body

88: 공간부 90: 서크-백 밸브88: Space section 90: Suck-back valve

Claims (3)

PR 약액이 저장된 PR 저장소;PR storage of PR drug solution; 상기 PR 저장소에 연결되어 공급되는 상기 PR 약액에 포함된 기포를 제거하여 외부로 배출함으로써 상기 PR 약액에 기포가 발생되는 것을 방지하는 버퍼 탱크; A buffer tank for removing air bubbles contained in the PR chemical solution supplied to the PR reservoir and discharging the air bubbles to the outside to prevent air bubbles from being generated in the PR chemical liquid; 상기 버퍼 탱크에 공급관으로 연결되어 상기 버퍼 탱크에서 기포가 제거된 상기 PR 약액을 흡입하여 노즐부를 통해 웨이퍼로 분출하는 PR 펌프;A PR pump connected to the buffer tank through a supply pipe to suck up the PR chemical solution from which air bubbles have been removed from the buffer tank and to eject the solution through the nozzle unit to the wafer; 상기 PR 펌프와 상기 노즐부 사이에 설치되어 공급되는 상기 PR 약액의 압력을 측정하여 펄스신호로 출력하는 압력센서;A pressure sensor installed between the PR pump and the nozzle unit for measuring the pressure of the PR chemical solution and outputting the measured pressure as a pulse signal; 상기 압력센서에 전기적으로 연결되어 상기 펄스신호를 수신하여 제어신호로 변환하는 유량 감시장치; 및A flow rate monitoring device electrically connected to the pressure sensor for receiving the pulse signal and converting the pulse signal into a control signal; And 상기 유량 감시장치의 제어신호를 수신하여 상기 PR 펌프의 구동을 제어하는 주제어장치를 포함하고,And a main controller that receives a control signal of the flow rate monitor and controls driving of the PR pump, 상기 압력센서는, 상기 공급관이 연통하는 센서 본체; 상기 센서 본체 내부에 마련되어 일측으로 상기 PR 용액이 공급되어 수용되었다가 타측으로 배출되는 공간부; 및 상기 공간부에 형성되어 상기 수용된 상기 PR 용액의 압력을 측정하는 압력 트랜스듀서(transducer)를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 압력센서를 이용한 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시장치.The pressure sensor may include: a sensor body communicating with the supply pipe; A space part provided in the sensor main body to receive and receive the PR solution on one side and to be discharged to the other side; And a pressure transducer formed in the space part and measuring a pressure of the received PR solution. The apparatus for monitoring a chemical solution for wafer coating using a pressure sensor according to claim 1, 삭제delete 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 압력 트랜스듀서는 상기 공간부에 수용된 상기 PR 용액의 압력에 따라 전압을 출력하고,Wherein the pressure transducer outputs a voltage according to a pressure of the PR solution contained in the space, 상기 전압은 상기 주제어장치에 연결된 디스플레이부로 출력되는 것을 특징으로 하는 압력센서를 이용한 웨이퍼 코팅용 약액 공급감시장치.Wherein the voltage is output to a display unit connected to the main controller.
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