KR101440771B1 - 스퍼터 전원 장치 - Google Patents

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Abstract

스퍼터 전원 장치에 관한 것으로, 펄스 신호 구간과 블랙 신호 구간을 반복적으로 스퍼터의 캐소스부에 인가한다. 펄스 신호 구간은 캐소드부에 제1 단차 전압을 발생시키는 제1 펄스 신호 열과, 제1 펄스 신호 열에 인접하고 캐소드부에 제1 단차 전압보다 높은 제2 단차 전압을 발생시키는 제2 펄스 신호 열을 포함하여 구성된다. 블랙 신호 구간은 펄스 신호 구간에 인접하고 펄스 신호 열을 포함하지 않는다.

Description

스퍼터 전원 장치{Electrical Power Supply for Sputter}
본 발명은 스퍼터에 관한 것으로, 상세하게는 스퍼터에 전원을 공급하는 스퍼터 전원 장치에 관한 것이다.
스퍼터(Sputter)는 스퍼터링 방식으로 박막을 제조하는 장치이다. 스퍼터링 공정은 진공 상태에서 아르곤(Ar) 가스를 주입하고, 캐소드(Cathode) 측에 재료 물질인 평판형 또는 원통형 타겟을 두고, 애노드(Anode) 측에 기판을 배치한 후, 캐소드와 애노드 사이에 고전압을 인가한다. 고전압이 인가되면 아르곤이 이온화되어 플라즈마 상태가 되고, 이온화된 아르곤 입자(Ar+)는 전압차에 의해 가속되어 타겟에 부딪힌다. 이때, 타겟 물질이 튀어나와 반대 쪽에 있는 기판에 쌓이는데, 이를 통해 기판에 박막이 형성된다.
스퍼터링 공정에서, 캐소드에는 직류 전원, 교류 전원, 펄스 전원 등을 인가한다. 어떤 유형의 전압을 사용할 지는 박막의 품질, 공정 효율 등을 고려하여 결정한다. 예를들어, 직류 전원을 사용하면, 치밀도가 좋아 막의 품질은 우수하나, 증착률이나 부착력이 떨어져 공정 효율이 그리 좋지 않다. 교류 전원도, 직류 전원과 마찬가지로 치밀도가 좋아 막의 품질은 우수하나, 증착률이나 부착력이 떨어져 공정 효율이 그리 좋지 않다. 한편, 펄스 전원은, 직류 전원이나 교류 전원과 달리, 치밀도가 떨어져 막의 품질은 그리 우수하지 않으나, 증착률이나 부착력이 좋아 공정 효율은 상당히 양호하다.
생산성, 비용 등의 측면에서 보면, 공정 효율이 좋은 펄스 전원을 사용하는 것이 바람직한데, 막의 품질이 그리 좋지 않아 펄스 전원을 사용하는데 어려움이 있다. 펄스 전원을 사용할 때 막의 품질이 떨어지는 이유는 펄스의 상승 구간에서 순간적으로 발생하는 고전압에 기인하는 것으로 분석되고 있다. 따라서, 펄스 전원을 사용하려면, 이러한 순간 고전압을 억제할 필요가 있다.
본 발명은 이러한 펄스 전압의 사용상 문제점을 해결하기 위한 것으로,
첫째, 캐소드에 인가되는 펄스 전압에서 순간 고전압이 발생하는 것을 억제하고,
둘째, 이를 통해 펄스 전원을 이용하는 스퍼터링 공정에서 공정 효율을 높이면서도 고품질의 막을 생성할 수 있는 스퍼터 전원 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 스퍼터 전원 장치는, 소정 패턴을 갖는 펄스 신호 구간과 펄스를 포함하지 않는 블랙 신호 구간으로 구성되는 펄스 전원을 스퍼터의 캐소드부에 반복적으로 인가한다.
펄스 신호 구간은, 캐소드부에 제1 단차 전압을 발생시키는 제1 펄스 신호 열, 제1 펄스 신호 열에 인접하고 캐소드부에 제1 단차 전압보다 높은 제2 단차 전압을 발생시키는 제2 펄스 신호 열을 포함하여 구성된다.
블랙 신호 구간은 펄스 신호 구간에 인접하며 펄스 신호 열을 포함하지 않는다.
이와 같이, 스퍼터 전원 장치는 펄스 신호 구간과 블랙 신호 구간을 하나의 패키지로 구성하여 반복적으로 캐소드부에 인가한다.
본 발명의 스퍼터 전원 장치는, 펄스 신호 구간에서, 제1 단차 전압과 제2 단차 전압의 크기를 제1 펄스 신호 열 또는 제2 펄스 신호 열의 펄스 수, 펄스 폭, 펄스 진폭 중에서 적어도 하나를 변화시켜 조절한다.
본 발명의 스퍼터 전원 장치는, 펄스 신호 구간에서, 제2 펄스 신호 열에 인접하고 캐소드부에 제2 단차 전압보다 높은 제3 단차 전압을 발생시키는 제3 펄스 신호 열을 더 포함할 수 있다. 여기서, 스퍼터 전원 장치는 제3 단차 전압의 크기를 제3 펄스 신호 열의 펄스 수, 펄스 폭, 펄스 진폭 중에서 적어도 하나를 변화시켜 조절한다.
본 발명의 스퍼터 전원 장치는 펄스 신호 구간을 다른 형태로 구성할 수 있다. 즉, 펄스 신호 구간은, 캐소드부에 제1 단차 전압을 발생시키는 제1 펄스 신호 열, 제1 펄스 신호 열에 인접하고 캐소드부에 제1 단차 전압보다 낮은 제2 단차 전압을 발생시키는 제2 펄스 신호 열, 그리고 제2 펄스 신호 열에 인접하고 캐소드부에 제1 단차 전압보다 높은 제3 단차 전압을 발생시키는 제3 펄스 신호 열을 포함하도록 구성할 수 있다.
제1,2,3 단차 전압의 크기는 제1,2,3 펄스 신호 열의 펄스 수, 펄스 폭, 펄스 진폭 중에서 적어도 하나를 변화시켜 조절한다.
이러한 구성을 갖는 본 발명의 스퍼터 전원 장치에 의하면, 캐소드부에 인가되는 펄스 전압으로 인해 캐소드부에 순간 고전압이 발생하는 것을 최소화할 수 있다. 이를 통해, 펄스 전원을 이용하는 스퍼터링 공정에서, 순간 고전압으로 인해 발생하는 박막 결함, 예를들어 스트레스, 균열 등을 억제할 수 있다. 또한, 본 발명의 스퍼터 전원 장치에 의하면, 기판에 형성되는 막의 품질을 높일 수 있어 고효율 공정과 고품질 박막을 동시에 이룰 수 있는 스퍼터를 제공할 수 있다.
도 1은 스퍼터의 구성을 개략적으로 도시하고 있다.
도 2a는 캐소드부와 캐리어 사이의 인가 전압으로서 점점 증가하는 3 단차의 스텝 전압과 이를 위해 캐소드부에 인가하는 변조 펄스형 전압을 예시하고 있다.
도 2b는 캐소드부와 캐리어 사이의 인가 전압으로서 증가/감소/증가하는 3 단차의 변형 스텝 전압과 이를 위해 캐소드부에 인가하는 변조 펄스형 전압을 예시하고 있다.
도 3a는 펄스 진폭을 조절하여 2 단차 스텝 전압을 형성하는 예를 도시하고 있다.
도 3b는 펄스 폭을 조절하여 2 단차 스텝 전압을 형성하는 예를 도시하고 있다.
도 3c는 펄스의 폭과 진폭을 조절하여 2 단차 스텝 전압을 형성하는 예를 도시하고 있다.
도 3d는 펄스 수와 펄스 폭을 조절하여 2 단차 스텝 전압을 형성하는 예를 도시하고 있다.
도 3e는 펄스 수와 펄스 진폭을 조절하여 2 단차 스텝 전압을 형성하는 예를 도시하고 있다.
도 3f는 펄스 수, 펄스 진폭, 펄스 폭을 모두 조절하여 2 단차 스텝 전압을 형성하는 예를 도시하고 있다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.
도 1은 스퍼터의 구성을 개략적으로 도시하고 있다.
도 1에 도시한 바와 같이, 스퍼터(100)는 진공 챔버(110), 캐소드부(120), 전원부(130), 캐리어(140) 등을 포함한다.
진공 챔버(110)는 내부에 일정 크기의 밀폐 공간을 형성하며, 그 내부를 진공으로 유지한다. 진공 챔버(110) 내에는 불활성 가스, 예를들어 아르곤, 크세논 등이 주입된다.
캐소드부(120)는 캐소드 전극을 포함하며, 진공 챔버(110) 내에서 캐리어(140)와 대향하여 위치한다.
전원부(130)는 캐소드부(120)에 펄스 전원을 공급한다. 일반적으로, 캐소드부(130)에는 음극의 고전압이 인가된다.
캐리어(140)는 캐소드부(120)로 향하는 면에 기판(S)를 지지한다. 캐리어(140)는 진공 챔버(110) 내에 고정되거나, 또는 진공 챔버(110)를 이동하는 형태로 구성할 수 있다.
이러한 구성을 갖는 스퍼터(100)에서, 스퍼터링 공정은 먼저 진공 챔버(110) 내부를 진공으로 하고, 그 내부에 아르곤 등의 불활성 가스를 주입한다. 이 후, 캐리어(140)를 접지한 상태로, 캐소드부(120)에 음극의 고전압을 인가한다. 캐소드부(120)와 캐리어(140) 사이에 고전압이 인가되면 아르곤 가스가 이온화되어 플라즈마 상태가 된다. 이온화된 아르곤 이온(Ar+)은 고전압에 의해 가속되어 타겟(T)에 부딪힌다. 이때, 타겟(T)으로부터 물질이 튀어나와 캐리어(140) 쪽으로 이동하여, 캐리어(140) 전면에 지지되는 기판(S)에 붙는다. 이러한 공정을 통해, 기판(S)에는 타켓(T) 물질이 박막 형태로 적층된다.
도 2a는 캐소드부와 캐리어 사이의 인가 전압으로서 점점 증가하는 3 단차의 스텝 전압과 이를 위해 캐소드부에 인가하는 변조 펄스형 전압을 예시하고 있다.
도 2a에 도시한 바와 같이, 전원부(130)는 캐소드부(120)와 캐리어(140) 사이에 3개으로 단차로 구성되는 스텝 전압을 발생시키기 위해 변조 펄스형 전압을 캐소드부(120)에 인가한다.
도 2a에 도시한 바와 같이, 캐소드부(120)와 캐리어(140) 사이에 레벨이 점점 증가하는 3 단차 스텝 전압(Vcc1)이 인가되도록 함으로써, 캐소드부(120)의 전면 공간에 고밀도의 플라즈마가 안정적으로 발생시킬 수 있다. 이 경우, 기판(S)에 쌓이는 박막의 증착률과 치밀도가 높아지며, 그 결과 기판(S)에는 고품질의 막이 형성될 수 있다.
3 단차 스텝 전압(Vcc1)은 제1 단차 전압을 갖는 제1 구간(I11), 제2 단차 전압을 갖는 제2 구간(I12), 그리고 제3 단차 전압을 갖는 제3 구간(I13)을 포함한다. 3 단차 스텝 전압(Vcc1)들 사이에는 펄스 신호 열이 없는 블랙 신호 구간(Z1)이 삽입되며, 그 결과 3 단차 스텝 전압(Vcc1)은 제1,2,3 구간(I11,I12,I13)과 블랙 신호 구간(Z1)을 포함하는 주기를 갖게 된다.
3 단차 스텝 전압(Vcc1)은 각 구간(I11,I12,I13)에서 인가되는 동일한 펄스 폭과 펄스 진폭을 갖는 펄스들의 수를 조절함으로써 생성된다. 이는 각 구간(I11,I12,I13)에서 펄스들의 수가 달라지면 펄스들의 실효값(RMS)으로 나타나는 각 구간(I11,I12,I13)의 단차 전압도 달라지기 때문이다.
도 2a에 도시한 바와 같이, 제1 구간(I11)에서는 제1 주파수(f11)의 제1 펄스 열에 의해 제1 단차 전압(SV11)이 발생한다. 제1 구간(I11)은 낮은 이온화 단계로서 소위 점화 단계이며, 소정의 전이 단계를 거쳐 제1 단차 전압(SV1)으로 안정화된다. 제1 구간(I11)에서는 캐소드부(120)과 캐리어(140) 사이에 낮은 밀도의 플라즈마가 생성된다.
제2 구간(I12)에서는 제1 주파수(f11)보다 높은 제2 주파수(f12)의 제2 펄스 열에 의해 제2 단차 전압(SV12)이 발생한다. 제2 구간(I12)은 중간 이온화 단계로서, 소정의 전이 단계를 거쳐 제2 단차 전압(SV12)으로 안정화된다. 제2 단차 전압(SV12)은 제1 단차 전압(SV11)보다 높은데, 이는 제2 펄스 열의 수가 제1 펄스 열의 수보다 많기 때문이다. 제2 구간(I12)에서는, 캐소드부(120)와 캐리어(140) 사이에 중간 밀도의 플라즈마가 생성된다.
제3 구간(I13)에서는 제2 주파수(f12)보다 높은 제3 주파수(f13)의 제3 펄스 열에 의해 제3 단차 전압(SV13)이 발생한다. 제3 구간(I13)은 높은 이온화 단계로서, 소정의 전이 단계를 거쳐 제3 단차 전압(SV13)으로 안정화된다. 제3 단차 전압(SV13)은 제2 단차 전압(SV12)보다 높은데, 이는 제3 펄스 열의 수가 제2 펄스 열의 수보다 많기 때문이다. 제3 구간(I13)에서는 캐소드부(120)과 캐리어(140) 사이에 높은 밀도의 플라즈마가 생성되는데, 이 구간에서 많은 양의 타겟 물질이 타겟(T)에서 튀어나와 기판(S)에 부착되며, 그 결과 스퍼터링의 실질적 공정은 이 구간(I13)에서 이루어진다.
도 2b는 캐소드부와 캐리어 사이의 인가 전압으로서 증가/감소/증가하는 3 단차의 변형 스텝 전압과 이를 위해 캐소드부에 인가하는 변조 펄스형 전압을 예시하고 있다.
도 2b에 도시한 바와 같이, 캐소드부(120)와 캐리어(140) 사이에 레벨이 증가하다가 감소한 후 다시 증가하는 3개 단차의 변형 스텝 전압(Vcc2)을 인가하는 경우, 캐소드부(120)의 전면 공간에 고밀도의 플라즈마를 보다 안정적으로 발생시킬 수 있다.
3 단차 변형 스텝 전압(Vcc2)은 제1 단차 전압을 갖는 제1 구간(I21), 제2 단차 전압을 갖는 제2 구간(I22), 그리고 제3 단차 전압을 갖는 제3 구간(I23)을 포함하여 구성된다. 3 단차 변형 스텝 전압(Vcc2)들 사이에는 펄스 신호 열이 없는 블랙 신호 구간(Z2)이 삽입되며, 그 결과 3 단차 변형 스텝 전압(Vcc2)은 제1,2,3 구간(I21,I22,I23)과 블랙 신호 구간(Z2)을 포함하는 주기를 갖게 된다.
3 단차 변형 스텝 전압(Vcc2)도 각 구간(I21,I22,I23)에서 동일 진폭과 동일 펄스 폭을 갖는 펄스들의 수를 조절함으로써 생성될 수 있다.
도 2b에 도시한 바와 같이, 제1 구간(I21)에서는 제1 주파수(f21)의 제1 펄스 열에 의해 제1 단차 전압(SV21)이 발생한다. 제1 구간(I21)은 중간 이온화 단계로서 소위 점화 단계이며, 소정의 전이 단계를 거쳐 제1 단차 전압(SV21)으로 안정화된다. 제1 구간(I21)에서는 캐소드부(120)과 캐리어(140) 사이에 중간 밀도의 플라즈마가 생성된다.
제2 구간(I22)에서는 제1 주파수(f21)보다 낮은 제2 주파수(f22)의 제2 펄스 열에 의해 제2 단차 전압(SV22)이 발생한다. 제2 구간(I22)은 낮은 이온화 단계로서, 소정의 전이 단계를 거쳐 제2 단차 전압(SV22)으로 안정화된다. 제2 단차 전압(SV22)은 제1 단차 전압(SV21)보다 낮은데, 이는 제2 펄스 열의 수가 제1 펄스 열의 수보다 적기 때문이다. 제2 구간(I22)에서는, 캐소드부(120)과 캐리어(140) 사이에 낮은 밀도의 플라즈마가 생성된다. 여기서, 제2 구간(I22)의 단차 전압(SV22)를 제1 구간(I21)보다 낮게 생성하는 것은 제3 구간(I23)에서 실질적인 스퍼터링 공정이 이루어질 때 제3 구간(I23)의 전이 단계에서 순간 고전압이 발생하는 것을 극소화하기 위함이다.
제3 구간(I23)에서는 제1 주파수(f21) 및 제2 주파수(f22)보다 높은 제3 주파수(f23)의 제3 펄스 열에 의해 제3 단차 전압(SV23)이 발생한다. 제3 구간(I23)은 높은 이온화 단계로서, 소정의 전이 단계를 거쳐 제3 단차 전압(SV23)으로 안정화된다. 제3 단차 전압(SV23)은 제1 및 제2 단차 전압(SV21,SV22)보다 높은데, 이는 제3 펄스 열의 수가 제1 펄스 열 또는 제2 펄스 열의 수보다 많기 때문이다. 제3 구간(I23)에서는 캐소드부(120)과 캐리어(140) 사이에 높은 밀도의 플라즈마가 생성되며, 이 구간(I23)에서 많은 양의 타겟 물질이 기판(S)에 부착되는 실질적인 스프터링 공정이 이루어진다. 특히, 제2 구간(I22)에서 단차 전압(SV22)이 감소됨으로써, 제3 구간(I23)의 전이 단계에서 순간 고전압이 발생할 가능성이 낮아졌고 그 결과 제3 구간(I23)에서 고품질의 박막을 형성할 가능성이 높아진다.
도 3a 내지 도3f는 스텝 전압을 생성하기 위한 변조 펄스형 전압의 다양한 변형례를 도시하고 있다.
도 3a 내지 도 3f는 2 단차 스텝 전압들을 예시하고 있는데, 이들 2 단차 스텝 전압도 도 2a,2b에서 설명한 플라즈마 안정화의 효과를 달성할 수 있다. 이런 c측면에서, 이하에서는, 캐소드부(120)와 캐리어(140) 사이의 인가 전압으로서 레벨이 증가하는 2 단차 스텝 전압을 전제로 하여, 캐소드 전극에 인가하는 변조 펄스형 전압들을 예시한다.
먼저, 도 3a는 펄스 진폭을 조절하여 2 단차 스텝 전압을 형성하는 예를 도시하고 있다.
도 3a에 도시한 바와 같이, 제1 구간(I31)과 제2 구간(I41)의 펄스의 수와 폭은 동일하지만, 제2 구간(I41)의 각 펄스의 진폭이 제1 구간(I31)의 각 펄스의 진폭보다 크다. 그 결과, 펄스들의 실효값으로 나타나는 제2 구간(I41)의 단차 전압(SV332)이 제1 구간(I31)의 단차 전압(SV31)보다 크게 되어, 결과적으로 2 단차스텝 전압이 캐소드부(120)와 캐리어(140) 사이에 걸리게 된다.
도 3b는 펄스 폭을 조절하여 2 단차 스텝 전압을 형성하는 예를 도시하고 있다.
도 3b에 도시한 바와 같이, 제1 구간(I31)과 제2 구간(I42)의 펄스의 수와 진폭은 동일하지만, 제2 구간(I42)의 각 펄스의 폭이 제1 구간(I31)의 각 펄스의 폭보다 크다. 그 결과, 펄스들의 실효값으로 나타나는 제2 구간(I42)의 단차 전압(SV32)이 제1 구간(I31)의 단차 전압(SV31)보다 크게 되어, 결과적으로 2 단차스텝 전압이 캐소드부(120)와 캐리어(140) 사이에 걸리게 된다.
도 3c는 펄스의 폭과 진폭을 조절하여 2 단차 스텝 전압을 형성하는 예를 도시하고 있다.
도 3c에 도시한 바와 같이, 제1 구간(I31)과 제2 구간(I43)의 펄스 수는 동일하지만, 제2 구간(I43)에서 펄스의 폭과 진폭이 제1 구간(I31)의 각 펄스의 폭과 진폭보다 크다. 그 결과, 펄스들의 실효값으로 나타나는 제2 구간(I43)의 단차 전압(SV32)이 제1 구간(I31)의 단차 전압(SV31)보다 크게 되어, 결과적으로 2 단차 스텝 전압이 캐소드부(120)와 캐리어(140) 사이에 걸리게 된다.
도 3d는 펄스 수와 펄스 폭을 조절하여 2 단차 스텝 전압을 형성하는 예를 도시하고 있다.
도 3d에 도시한 바와 같이, 제1 구간(I31)과 제2 구간(I44)의 펄스 진폭은 동일하지만, 제2 구간(I44)에서 펄스의 수와 폭이 제1 구간(I31)의 펄스의 수와 폭보다 크다. 그 결과, 펄스들의 실효값으로 나타나는 제2 구간(I44)의 단차 전압(SV32)이 제1 구간(I31)의 단차 전압(SV31)보다 크게 되어, 결과적으로 2 단차스텝 전압이 캐소드부(120)와 캐리어(140) 사이에 걸리게 된다.
도 3e는 펄스 수와 펄스 진폭을 조절하여 2 단차 스텝 전압을 형성하는 예를 도시하고 있다.
도 3e에 도시한 바와 같이, 제1 구간(I31)과 제2 구간(I45)의 펄스 폭은 동일하지만, 제2 구간(I45)에서 펄스 수와 펄스 진폭이 제1 구간(I31)의 펄스 수와 펄스 진폭보다 크다. 그 결과, 펄스들의 실효값으로 나타나는 제2 구간(I45)의 단차 전압(SV32)이 제1 구간(I31)의 단차 전압(SV31)보다 크게 되어, 결과적으로 2 단차 스텝 전압이 캐소드부(120)와 캐리어(140) 사이에 걸리게 된다.
도 3f는 펄스 수, 펄스 진폭, 펄스 폭을 모두 조절하여 2 단차 스텝 전압을 형성하는 예를 도시하고 있다.
도 3f에 도시한 바와 같이, 제2 구간(I46)에서 펄스 수, 펄스 진폭, 펄스 폭이 제1 구간(I31)의 펄스 수, 펄스 진폭, 펄스 폭보다 크다. 그 결과, 펄스들의 실효값으로 나타나는 제2 구간(I46)의 단차 전압(SV32)이 제1 구간(I31)의 단차 전압(SV31)보다 크게 되어, 결과적으로 2 단차 스텝 전압이 캐소드부(120)와 캐리어(140) 사이에 걸리게 된다.
이상 본 발명을 여러 실시예에 기초하여 설명하였으나, 이는 본 발명을 예증하기 위한 것이며 본 발명을 한정하려는 것은 아니다. 통상의 기술자라면, 위 실시예에 기초하여 본 발명의 사상을 다양하게 변형하거나 수정할 수 있을 것이다. 그러한 변형이나 수정은 아래의 특허청구범위에 의해 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석될 수 있다.
100 : 스퍼터 110 : 진공 챔버
120 : 캐소드부 130 : 전원부
140 : 캐리어

Claims (6)

  1. 스퍼터의 캐소드부에 전원을 공급하는 전원 장치에 있어서,
    상기 캐소드부에 제1 단차 전압을 발생시키는 제1 펄스 신호 열과, 상기 제1 펄스 신호 열에 인접하고 상기 캐소드부에 상기 제1 단차 전압보다 높은 제2 단차 전압을 발생시키는 제2 펄스 신호 열을 포함하는 펄스 신호 구간; 및
    상기 펄스 신호 구간에 인접하고, 펄스 신호 열을 포함하지 않는 블랙 신호 구간을 생성하며,
    상기 펄스 신호 구간 및 상기 블랙 신호 구간을 반복적으로 상기 캐소드부에 인가하는 것을 특징으로 하는, 스퍼터 전원 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 단차 전압과 상기 제2 단차 전압의 크기는
    상기 제1, 2 펄스 신호 열의 펄스 수, 펄스 폭, 펄스 진폭 중에서 적어도 하나를 변화시켜 조절하는 것을 특징으로 하는, 스퍼터 전원 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 펄스 신호 구간은
    상기 제2 펄스 신호 열에 인접하고, 상기 캐소드부에 상기 제2 단차 전압보다 높은 제3 단차 전압을 발생시키는 제3 펄스 신호 열을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 스퍼터 전원 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 제3 단차 전압의 크기는
    상기 제3 펄스 신호 열의 펄스 수, 펄스 폭, 펄스 진폭 중에서 적어도 하나를 변화시켜 조절하는 것을 특징으로 하는, 스퍼터 전원 장치.
  5. 스퍼터의 캐소드부에 전원을 공급하는 전원 장치에 있어서,
    상기 캐소드부에 제1 단차 전압을 발생시키는 제1 펄스 신호 열, 상기 제1 펄스 신호 열에 인접하고 상기 캐소드부에 상기 제1 단차 전압보다 낮은 제2 단차 전압을 발생시키는 제2 펄스 신호 열, 및 상기 제2 펄스 신호 열에 인접하고 상기 캐소드부에 상기 제1 단차 전압보다 높은 제3 단차 전압을 발생시키는 제3 펄스 신호 열을 포함하는 펄스 신호 구간; 그리고
    상기 펄스 신호 구간에 인접하고, 펄스 신호 열을 포함하지 않는 블랙 신호 구간을 생성하며,
    상기 펄스 신호 구간 및 상기 블랙 신호 구간을 반복적으로 상기 캐소드부에 인가하는 것을 특징으로 하는, 스퍼터 전원 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제1, 2, 3 단차 전압의 크기는
    상기 제1, 2, 3 펄스 신호 열의 펄스 수, 펄스 폭, 펄스 진폭 중에서 적어도 하나를 변화시켜 조절하는 것을 특징으로 하는, 스퍼터 전원 장치.
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