KR101438735B1 - 챔버가 구비되는 레이저 용접장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 레이저 용접시 발생하는 스패터의 발생 및 비산을 방지할 수 있는 챔버가 구비되는 레이저 용접장치에 관한 것으로서, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 피용접물이 위치되고, 용접이 이루어지는 공간을 외부와 구획하는 챔버, 상기 챔버 외측에서 발진된 레이저가 상기 챔버 내측의 피용접물에 조사되기 위하여, 상기 챔버의 일측에 레이저가 통과되는 재질로 구비되는 글래스, 상기 챔버 내부에 가스를 공급하는 가스공급부를 포함하여 이루어지는 챔버가 구비되는 레이저 용접장치가 제공된다.

Description

챔버가 구비되는 레이저 용접장치{Laser Welding Device having Chamber}
본 발명은 레이저 용접장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 레이저 용접시 발생하는 스패터의 발생 및 비산을 방지할 수 있는 챔버가 구비되는 레이저 용접장치에 관한 것이다.
최근, 산업분야에서 레이저 가공 장치는 대상물의 절단, 그루빙, 마킹 뿐 아니라 금속의 용접 등 다양한 분야에서 사용되고 있다
도 1은 일반적인 용접용 레이저 장치의 기본 구성도로서, 그 구성은 피용접물(20)의 용접 부위에 레이저(14)를 조사하는 레이저 출력장치(12)가 구비되고, 상기 레이저 출력장치(12)는 레이저(14)의 출력모드를 조절하여 공급하는 레이저 발진기(10)와 연결된다.
즉, 상기 레이저 발진기(10)에서 발진된 레이저(14)가 피용접물(20)의 용접 부위에 조사됨으로써 용접이 이루어지는 것이다.
그런데, 상기와 같이 레이저가 조사되어 용접부위에 고열의 열원이 인가되는 경우 다량의 스패터(spatter)가 발생될 수 있으며, 이 때 발생된 스패터가 피용접물에 침적 되어 용접불량이 발생할 수 있다.
또한, 상기 스패터가 레이저가 조사되는 경로상에서 비산되어 레이저의 조사효율을 떨어뜨릴 수 있는 문제점이 있다.
또한, 상기 스패터가 용접 영역 이외의 장소로 비산되어 이로 인해 제조공정시 청정한 환경이 요구되는 제품에는 적용이 어려운 문제점이 있다.
한국등록특허 10-0913793
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 레이저 용접시 발생하는 스패터 등의 이물질이 발생되는 것을 방지함과 동시에, 발생된 스패터 등의 이물질을 효과적으로 처리하여 용접영역 외부로 비산되거나, 레이저의 조사를 방해하는 것을 방지하는 챔버가 구비되는 레이저 용접장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 피용접물이 위치되고, 용접이 이루어지는 공간을 외부와 구획하는 챔버, 상기 챔버 외측에서 발진된 레이저가 상기 챔버 내측의 피용접물에 조사되기 위하여, 상기 챔버의 일측에 레이저가 통과되는 재질로 구비되는 글래스, 상기 챔버 내부에 가스를 공급하는 가스공급부를 포함하여 이루어지는 챔버가 구비되는 레이저 용접장치가 제공된다.
상기 가스공급부는, 상기 챔버내의 피용접물이 레이저에 의해 용접이 이루어지는 부위에 가스를 분사하는 제1노즐을 포함하여 이루어질 수 있다.
또는, 상기 가스공급부는, 상기 챔버내의 레이저가 조사되는 경로에 비산되는 이물질을 불어 날리는 제2노즐을 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 가스공급부에 의해 분사되는 가스의 분사각도가 조절될 수 있다.
한편, 상기 챔버 내의 비산된 이물질을 챔버내 공기와 함께 흡입하는 흡입부를 더 포함하여 이루어질 수 있다.
그리고, 상기 글래스의 어느 일면에 가스를 분사하는 글래스 노즐을 더 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 글래스 노즐은, 상기 글래스의 챔버 외측을 향하는 면에 적층된 이물질을 불어 날리도록 상기 챔버 외측에서 글래스 노즐을 향해 가스를 분사하는 것일 수 있다.
또는, 상기 글래스 노즐은, 상기 글래스의 챔버 내측을 향하는 면에 적층된 이물질을 불어 날리도록 상기 챔버 내측에서 글래스 노즐을 향해 가스를 분사하는 것일 수 있다.
또는, 상기 글래스 노즐은, 상기 레이저가 관통되는 글래스를 냉각하는 가스를 분사하는 것일 수 있다.
한편, 상기 챔버 내에는, 상기 피용접물을 고정하는 고정지그유닛이 구비되고, 상기 고정지그유닛의 상기 피용접물의 용접이 이루어지는 하측에 대응되는 지점에 상기 피용접물의 용접에 의해 발생된 이물질이 낙하되는 홀이 형성될 수 있다.
이 때, 상기 가스공급부는, 상기 홀을 통해 낙하되는 이물질을 불어 날리는 가스를 분사하는 제3노즐을 포함하여 이루어질 수 있다.
본 발명의 챔버가 구비된 레이저 용접장치에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.
첫째, 용접이 이루어지는 공간을 외부와 구획하는 챔버가 구비됨으로써, 챔버내에서 비산되는 스패터 등의 이물질이 챔버 외부로 비산되는 것이 방지되므로 청정한 환경의 제조공정이 요구될 때에도 적용이 가능한 장점이 있다.
둘째, 레이저 용접부위에 스패터 등의 이물질의 발생을 억제하는 보호가스가 분사되므로 스패터의 발생이 저감되는 효과가 있다.
셋째, 레이저가 조사되는 경로에 비산되는 스패터 등의 이물질이 가스에 의해 블로윙 되므로 레이저의 조사효율이 보다 향상되는 효과가 있다.
넷째, 용접부위에서 발생되는 스패터나 비이드 등의 이물질이 홀을 통해 챔버 하측으로 낙하되므로 이물질이 용접 영역에서 신속하게 배제되는 효과가 있다.
다섯째, 챔버내부에 비산되는 스패터 등의 이물질을 챔버 내부의 공기와 함께 흡입하는 흡입부가 구비되므로 챔버 내부에 비산되는 스패터 등의 이물질을 효율적으로 제거할 수 있다.
여섯째, 챔버내부에 비산되는 스패터 등의 이물질을 상기 흡입부에서 흡입한 후 여과하여 배출할 수 있어 스패터가 챔버 외부로 비산되는 것을 효율적으로 방지할 수 있다.
일곱째, 레이저가 챔버 내부로 관통되는 글래스의 상면에 가스를 분사하여 상기 글래스의 상면에 적층된 먼지 등에 의해 레이저의 조사효율이 저감되는 것을 방지할 수 있다.
여덟째, 레이저가 챔버 내부로 관통되는 글래스의 챔버 내측을 향하는 면에 가스를 분사하여 비산되는 스패터 등의 이물질이 글래스에 적층되는 것을 방지하여 레이저의 조사효율이 저감되는 것을 방지할 수 있다.
아홉째, 레이저가 챔버 내부로 관통되는 글래스에 냉각용 가스를 분사함으로써 상기 글래스가 레이저의 열에 의해 변형이나 변성되는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 종래의 레이저 용접장치를 간략하게 도시한 도면;
도 2는 본 발명의 챔버가 구비된 용접장치의 사시도;
도 3은 도 2의 챔버 하우징과 워크 테이블이 이격된 상태를 도시한 단면도;
도 4는 도 2의 챔버 하우징과 워크 테이블이 맞물려 챔버를 형성한 상태를 도시한 단면도;
도 5는 도 2의 챔버 하우징의 글래스가 위치된 부분을 확대하여 도시한 사시도;
도 6은 도 2의 흡입부를 도시한 사시도;
도 7은 챔버 내부의 가스 분사방향 및 흡입방향을 나타낸 단면도 이다.
이하 본 발명의 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 본 실시예를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략하기로 한다.
본 실시예에 따른 챔버가 구비되는 레이저 용접장치는 도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 프레임(110)과 레이저 발진부(120), 챔버 하우징(130) 및 워크 테이블(140)을 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 프레임(110)은 본 실시예의 챔버가 구비되는 레이저 용접장치의 각종 구성물들이 장착되며, 각 구성물들을 지지하는 구성요소이다.
상기 레이저 발진부(120)는 레이저가 발진되는 구성요소이다. 상기 레이저 발진부(120)에서 발진된 레이저는 후술하는 챔버 하우징(130) 측으로 조사될 수 있다. 또한, 도면에는 도시되지 않았지만, 상기 레이저 발진부(120)의 위치를 이동 및 조정하기 위한 별도의 구동부(미도시)가 구비될 수 있다.
상기 워크 테이블(140)은, 피용접물(20)이 놓여져 위치되는 구성요소로서, 놓여진 피용접물(20)을 흡착고정하는 흡착공(142)이 상면에 형성될 수 있다.
그리고, 상기 워크 테이블(140)의 상면에는 놓여진 피용접물(20)을 고정하는 고정지그유닛(150)이 일부 구성요소가 구비될 수 있다. 상기 고정지그유닛(150)은 소정간격으로 이격된 한 쌍의 돌기(152)를 포함하여 이루어질 수 있다.
상기와 같은 고정지그유닛(150)은 상기 워크 테이블이 상기 챔버 하우징(130)과 결합되면서 상기 피용접물(20)을 고정할 수 있다.
상기 챔버 하우징(130)은 승강부(134)에 의해 상하로 승강되며, 상기 워크 테이블(140)과 맞물려 상기 워크 테이블(140)과 함께 상기 피용접물이 용접되는 공간인 챔버(160)를 형성할 수 있다.
즉, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 챔버 하우징(130)이 상측에 위치될 때는 상기 챔버(160)는 개방된 상태이며, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 챔버 하우징(130)이 하강하여 상기 워크 테이블(140)과 맞물리게 되면 챔버(160)가 패쇄되는 것이다.
상기 레이저 발진부(120)는 상기 챔버 하우징(130)의 외측에 구비되며, 상기 챔버 하우징(130)과 워크 테이블(140)에 의해 형성되는 챔버(160)로 레이저(14)를 조사하도록 구비될 수 있다.
그리고, 상기 챔버(160) 내부에 위치된 피용접물(20)에 레이저가 조사되기 위하여, 상기 챔버(160)의 일측에 글래스(132)가 구비된다.
상기 글래스(132)는 레이저(14)가 투과될 수 있는 석영(quartz)등의 재질로 이루어질 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 레이저의 투과가 가능한 다른 재질로 이루어지는 것도 가능하다.
또한, 상기 고정지그유닛(150)은, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 워크 테이블(140)에 형성된 상기 돌기(152)와, 상기 챔버 하우징(130)에 형성된 프레스(154)를 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 프레스(154)는 상기 챔버 하우징(130)의 상기 피용접물(20)과 접촉하는 부분에, 상기 워크 테이블(140)의 돌기(152)와 대응되는 지점에 구비되어 상기 워크 테이블(140)의 돌기(152)와 함께 피용접물(20)을 고정하며, 내부에 레이저(14)가 통과되는 공간을 형성할 수 있다.
그리고, 상기 챔버 하우징(130)의 내부에는 제1챔버(162)가 형성될 수 있다.
또한, 상기 워크 테이블(140) 내부의 상기 고정지그유닛(150)의 돌기(152) 하측에 제2챔버(164)가 형성되며, 상기 고정지그유닛(150)을 이루는 한 쌍의 돌기(152) 사이에는 상기 제2챔버(164)와 연통되는 홀(144)이 형성될 수 있다. 이 때, 상기 홀(144)은 수직으로 형성될 수 있다.
그리고, 상기 챔버 하우징(130)과 워크 테이블(140)이 맞물렸을 때 상기 제1챔버(162)와 제2챔버(164)가 상기 피용접물(20)의 용접공간인 챔버(160)를 형성한다.
상기 챔버(160)는 상기 피용접물(20)의 용접이 이루어지는 공간을 외부와 구획하도록 형성된다. 따라서, 용접시 발생한 스패터 등의 이물질이 상기 챔버(160) 외부로 비산되는 것이 차단될 수 있다.
본 실시예의 설명에서, 스패터는 용접시 발생하는 이물질을 대표하는 명칭으로 사용될 수 있다.
그리고, 본 실시예에 따른 챔버가 구비되는 레이저 용접장치는 가스 공급부를 더 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 가스 공급부는 상기 챔버(160) 내부에 가스를 공급하여 상기 스패터의 발생을 억제하거나 비산되는 스패터를 불어 날림으로써 용접영역 부근에 존재하는 스패터를 최소화 시키는 구성요소일 수 있다.
상기 가스 공급부는, 챔버(160)내의 피용접물(20)이 조사되는 레이저에 의해 용접이 이루어지는 부분에 가스를 분사하는 제1노즐(172)을 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 제1노즐(172)을 통해 분사되는 가스는 스패터의 생성을 억제하며 용접부위를 보호할 수 있는 보호가스일 수 있다.
따라서, 피용접물(20)에 레이저가 조사되어 용접이 이루어지는 부위에 보호가스가 공급됨으로써 스패터 발생량이 줄어들 수 있다. 이 때, 상기 제1노즐(172)을 통해 분사되는 보호가스는 질소나 아르곤 등 일 수 있으며, 반드시 이에 한정되지 않는다.
한편, 상기 제1노즐(172)에서 보호가스를 분사함에도 불구하고 스패터가 발생하여 챔버(160)내에서 비산될 수도 있다. 이 때 비산된 스패터는 챔버(160)내 레이저(14)가 조사되는 경로로 비산되어 레이저(14)를 산란 및 감쇄시켜 레이저 용접효율을 떨어뜨릴 위험성이 있다.
따라서, 상기 가스 공급부는, 챔버(160) 내의 레이저(14)가 조사되는 경로에 가스를 분사하여 해당 영역에 비산되는 가스를 불어 날리는 제2노즐(174)을 포함하여 이루어질 수 있다. 상기 제2노즐(174)을 통해 레이저가 조사되는 경로에 위치된 스패터가 불어 날려져 레이저(14)의 조사경로내에 레이저를 산란시키거나 감쇄시키는 이물질이 없어지므로 레이저의 효율이 유지될 수 있다. 이 때, 상기 제2노즐(174)에 공급되는 가스는 질소나 아르곤 등의 보호가스일 수 있고, 또는 공기등의 여타 다른 가스일 수 있다.
한편, 용접시 발생하는 비이드나 무거운 스패터 등의 이물질은 고정지그유닛(150)의 돌기(152) 사이에 형성된 홀을 통해 제2챔버(164)로 자연스럽게 낙하할 수 있다.
이 때, 상기 제2챔버(164)에 낙하한 이물질을 불어 날리는 제3노즐(176)이 제2챔버(164)에 구비될 수 있다.
한편, 상기 제1노즐(172)과 제2노즐(174) 및 제3노즐(176)등 상기 가스 공급부에서 분사되는 가스는 먼지 등의 이물질이 포함되지 않은 청정한 가스일 수 있다.
또한, 상기 제1노즐(172)과 제2노즐(174) 및 제3노즐(176)은 그 분사각도 및 분사량이 조절될 수 있다.
이는, 피용접물(20)의 재질이나 두께가 달라지게 되면 상기 레이저의 강도 및 레이저가 포커싱되는 지점의 높이 등이 달라질 수 있으며, 그에 따라 용접이 이루어지는 지점이 달라질 수도 있고 발생되거나 비산되는 스패터의 양이 달라질 수 있기 때문이다.
이를 위해, 상기 제1노즐(172)과 제2노즐(174) 및 제3노즐(176)의 분사각도를 조절하는 분사각도 조절부(171)가 구비될 수 있다. 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 챔버 하우징(130)의 측면의 제1노즐(172)이 가스를 공급받는 관과 결합되는 커넥터(173)에 구비되고, 상기 분사각도 조절부(171)는 상기 커넥터(173)가 회전되도록 구비디며, 상기 커넥터(173)가 회전되는 각도의 범위를 한정시킴으로써 가스의 분사되는 각도를 조절하도록 구비될 수 있다.
본 실시예에서는 상기 분사각도 조절부(171)가 상기 제1노즐(172)에만 구비되는 것을 예로 들어 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 상기 제1노즐(172) 내지 제3노즐(176)중 어느 하나에 구비되거나 모든 노즐마다 구비될 수도 있다.
한편, 상기 글래스(132)는 챔버의 외부에 노출되므로 그 챔버 하우징(130)의 외측을 향하는 면에 먼지등의 외부 이물질이 쌓일 수 있으며, 이렇게 적층된 이물질은 조사되는 레이저를 산란시켜 레이저의 효율을 떨어뜨릴 수 있다.
이를 방지하기 위하여, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 챔버 하우징(130)의 상기 글래스(132)의 외측면의 테두리부에는 상기 글래스(132)의 챔버 외측을 향하는 면을 향해 가스를 분사하여 글래스(132)의 외측면에 쌓인 먼지를 불어 날리는 글래스 노즐(178)이 구비될 수 있다.
상기 글래스 노즐(178)에서 구비되는 가스는 이물질이 여과된 깨끗한 공기일 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.
또한, 상기 글래스(132)의 제1챔버(162) 내측을 향하는 면에도 비산되는 스패터 등의 이물질이 적층될 수 있다.
따라서, 상기 글래스 노즐(178)은 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 제1챔버(162)의 외측과 내측에 상기 글래스(132)의 챔버 외측을 향하는 면과 내측을 향하는 면을 향해 가스를 분사하여 글래스(132)의 외측면과 내측면에 적층된 먼지나 스패터 등의 이물질을 불어 날리도록 구비될 수도 있다.
한편, 상기 글래스(132)는 레이저가 투과되는 구성요소이므로, 비록 상기 레이저(14)의 초점이 글래스(132)에 포커싱되지는 않으나 지속적으로 조사되는 레이저(14)의 에너지에 의해 과열될 수 있는데, 상기 글래스(132)가 과열될 경우 글래스(132)가 열화되어 물성치가 변할수도 있으며 팽창 및 수축에 의한 형상의 변화로 인해 레이저를 이상 굴절시켜 레이저의 초점이 맺히는 지점을 변경시킬 위험성이 있다.
따라서, 상기 글래스(132)의 표면에 레이저 저반사 코팅을 입힐 수 있고, 또는, 상기 글래스 노즐(178)에서 분사되는 가스로서 상기 글래스(132)를 냉각시킬 수 있다. 이 때, 상기 글래스 노즐(178)에서 분사되는 가스는 냉각용 가스로서, 냉각된 공기나 기타 다른 성분의 가스일 수 있다. 물론, 굳이 인위적으로 냉각된 가스가 아니어도 냉각효과를 충분히 발휘할 수 있다면 적용이 가능할 것이다.
한편, 상기 제1챔버(162)와 제2챔버(164)에는, 상기 가스분사수단에 의해 불어 날려진 스패터 등의 이물질을 챔버(160) 내 공기와 함께 흡입하는 흡입부(180)가 더 구비될 수 있다.
상기 가스분사수단에 의해서 불어 날려진 스패터를 상기 흡입부(180)가 챔버내 공기와 함께 흡입함으로써 챔버(160)내의 스패터를 제거하여 스패터에 의한 악영향을 방지할 수 있다.
상기와 같은 흡입부(180)는 제1챔버(162)와 결합되어 제1챔버(162)내의 스패터를 흡입하는 제1챔버흡입구(182)와, 제2챔버(164)와 결합되어 제2챔버(164)내의 스패터를 흡입하는 제2챔버흡입구(184) 및 흡입력을 발생시키는 팬(186)과 흡입된 공기내에 포함된 스패터를 여과하는 필터(188)를 포함하여 이루어질 수 있다. 이 때, 상기 제1챔버흡입구(182)와 제2챔버흡입구(184)는 각각 상기 제1챔버(162)와 제2챔버(164)의 후측에 구비될 수 있다.
상기와 같은 흡입부(180)에 의해 흡입된 공기는 상기 필터(188)에서 여과 후 외부로 배출될 수도 있고, 또는 가스내에 포함된 질소나 아르곤 등의 보호가스를 분리하여 재사용할 수도 있다.
도 7은 챔버 내에서 가스의 분사 및 이동방향을 나타낸 도면이다. 도 7에서 굵은 화살표는 가스의 이동방향을 나타낸다.
전술한 바와 같이, 제1노즐(172)에서 피용접물(20)의 용접부위를 향해 보호가스가 분사되고, 제2노즐(174)에서 챔버(160) 내 레이저가 조사되는 영역에 가스를 분사하며, 제3노즐(176)에서 제2챔버(164)내로 낙하한 이물질을 불어 날리도록 가스가 분사될 수 있다.
또한, 상기 글래스 노즐(178)에서 글래스(132)의 표면을 향하여 가스를 분사할 수 있다.
이 때, 상기 제1노즐(172) 내지 제3노즐(176)에서 분사되는 가스는 상기 제1챔버흡입구(182) 및 제2챔버흡입구(184)가 공기를 흡입하는 방향으로 분사하여 해당 방향으로 스패터를 불어 날림으로써 스패터의 제거 효율을 보다 향상시킬 수 있다.
이상과 같이 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 살펴보았으며, 앞서 설명된 실시예 이외에도 본 발명이 그 취지나 범주에서 벗어남이 없이 다른 특정 형태로 구체화 될 수 있다는 사실은 해당 기술에 통상의 지식을 가진 이들에게는 자명한 것이다. 그러므로, 상술된 실시예는 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 여겨져야 하고, 이에 따라 본 발명은 상술한 설명에 한정되지 않고 첨부된 청구항의 범주 및 그 동등 범위 내에서 변경될 수도 있다.
110: 프레임 120: 레이저 발진부
130: 챔버 하우징 132: 글래스
134: 구동부 140: 워크 테이블
142: 흡착공 144: 홀
150: 고정지그유닛 152; 돌기
154: 프레스 160: 챔버
161: 제1챔버 162: 제2챔버
172: 제1노즐 174: 제2노즐
176: 제3노즐 178: 글래스 노즐
180: 흡입부 182: 제1챔버흡입구
184: 제2챔버흡입구 186: 팬
188: 필터

Claims (11)

  1. 레이저가 투과되는 글래스가 구비되며, 승강부에 의해 상하로 승강되는 챔버하우징;
    상기 챔버 하우징의 하부에 구비되며, 피용접물이 놓여져 위치되도록 이루어지고, 상기 승강되는 챔버하우징과 맞물려 피용접물이 용접되며 외부와 구획된 공간인 챔버를 형성하는 워크테이블; 및
    상기 챔버하우징 및 워크테이블에 형성되어 상기 챔버하우징과 워크테이블이 맞물렸을 때 상기 피용접물의 적어도 일부를 고정하는 고정지그유닛;
    을 포함하며,
    상기 고정지그유닛은,
    상기 워크테이블의 상면에 구비되며 상호 이격된 한 쌍의 돌기; 및
    상기 챔버하우징의 상기 피용접물과 접촉하는 부분에 상기 워크테이블의 돌기와 대응되는 지점에 구비되어 상기 돌기와 함께 피용접물을 고정하며, 내부에 상기 글래스를 투과한 레이저가 통과되는 공간을 형성하는 프레스;
    를 포함하는 챔버가 구비되는 레이저 용접장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 챔버 내부에 가스를 공급하는 가스공급부; 및
    상기 글래스의 챔버 외측을 향하는 면에 적층된 이물질을 불어 날리도록 상기 챔버 외측에서 글래스 노즐을 향해 가스를 분사하는 글래스 노즐을 더 포함하는 챔버가 구비되는 레이저 용접장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 가스공급부는,
    상기 챔버내의 피용접물이 레이저에 의해 용접이 이루어지는 부위에 가스를 분사하는 제1노즐을 포함하여 이루어지는 챔버가 구비되는 레이저 용접장치.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 가스공급부는,
    상기 챔버 내의 레이저가 조사되는 경로에 비산되는 이물질을 불어 날리는 제2노즐을 포함하는 챔버가 구비되는 레이저 용접장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 챔버 내의 비산된 이물질을 흡입하는 흡입부를 더 포함하는 챔버가 구비되는 레이저 용접장치.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 제1항에 있어서,
    상기 글래스 노즐은,
    상기 레이저가 관통되는 글래스를 냉각하는 가스를 분사하는 챔버가 구비되는 레이저 용접장치.
  10. 제3항에 있어서,
    상기 고정지그유닛의 상기 피용접물의 용접이 이루어지는 하측에 대응되는 지점에 상기 피용접물의 용접에 의해 발생된 이물질이 낙하되는 홀이 형성된 챔버가 구비되는 레이저 용접장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 가스공급부는,
    상기 홀을 통해 낙하되는 이물질을 불어 날리는 가스를 분사하는 제3노즐을 포함하여 이루어지는 챔버가 구비되는 레이저 용접장치.
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