KR101436897B1 - Slit valve - Google Patents
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Abstract
본 발명의 일 실시 예에 따른 슬릿 밸브는, 기판이 출입되는 슬릿을 구비한 공정챔버의 일측에 결합되는 밸브챔버와, 밸브챔버의 내부에서 상하로 구동되어 슬릿을 선택적으로 개폐하는 슬릿개폐유닛과, 슬릿개폐유닛을 밸브챔버에 접지시키는 밸브접지유닛을 포함하며, 밸브접지유닛은, 밸브챔버와 슬릿개폐유닛 중 어느 하나에 마련되는 제1 전도부와, 제1 전도부와 접촉 배치되도록 밸브챔버와 슬릿개폐유닛 중 다른 하나에 마련되며 슬릿개폐유닛이 밸브챔버에 대하여 상대 이동 시에도 제1 전도부와 접촉된 상태를 유지하는 제2 전도부를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a slit valve comprising: a valve chamber coupled to one side of a process chamber having a slit through which a substrate enters and exits; a slit opening and closing unit that is vertically driven in the valve chamber to selectively open and close the slit; And a valve grounding unit for grounding the slit opening / closing unit to the valve chamber, wherein the valve grounding unit comprises: a first conductive portion provided in one of the valve chamber and the slit opening / closing unit; And a second electroconductive portion which is provided on the other of the opening and closing units and maintains the slit opening / closing unit in contact with the first electroconductive portion even when the slit opening / closing unit moves relative to the valve chamber.
Description
본 발명은, 슬릿 밸브 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 공정챔버에서 슬릿 밸브로 인가되는 전류를 효과적으로 접지할 수 있는 슬릿 밸브에 관한 것이다. The present invention relates to a slit valve, and more particularly, to a slit valve capable of effectively grounding a current applied to a slit valve in a process chamber.
평면디스플레이는 개인 휴대단말기를 비롯하여 TV나 컴퓨터의 모니터 등으로 널리 채용된다. 이러한 평면디스플레이는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 등으로 그 종류가 다양하다.Flat displays are widely used in personal computers, monitors for TVs and computers. Such a flat display is variously classified into an LCD (Liquid Crystal Display), a PDP (Plasma Display Panel) and an OLED (Organic Light Emitting Diodes).
이러한 평면디스플레이 중에서 특히 유기전계발광표시장치(OLED, Organic Light Emitting Display)는 유기물의 자체 발광에 의해 컬러 화상을 구현하는 초경박형 표시장치로서, 그 구조가 간단하면서 광효율이 높다는 점에서 차세대의 유망 평면디스플레이로서 주목받고 있다.Of these flat displays, in particular, an organic light emitting display (OLED) is a cemented carbide type display device that implements a color image by self-emission of an organic substance. In view of its simple structure and high optical efficiency, Has attracted attention as a display.
이러한 유기전계발광표시장치(OLED)는 애노드와 캐소드 그리고, 애노드와 캐소드 사이에 개재된 유기막들을 포함하고 있다. 여기서 유기막들은 최소한 발광층을 포함하며, 발광층 이외에도 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층, 전자 주입층을 더 포함할 수 있다.The organic light emitting display OLED includes an anode, a cathode, and organic layers interposed between the anode and the cathode. Here, the organic layers include at least a light emitting layer and may further include a hole injecting layer, a hole transporting layer, an electron transporting layer, and an electron injecting layer in addition to the light emitting layer.
또한, 유기전계발광표시장치(OLED)는 유기물의 자체 발광에 의해 컬러 화상을 구현하는 초경박형 표시장치로서, 그 구조가 간단하면서 광효율이 높다는 점에서 차세대의 유망 평면디스플레이로서 주목받고 있다.In addition, an organic light emitting display (OLED) is a cemented carbide type display device that implements a color image by self-emission of organic materials, and has been attracting attention as a promising next-generation flat display because of its simple structure and high optical efficiency.
이러한 유기전계발광표시장치(OLED) 기판을 제조하기 위해서는 기판 상에 TFT(Thin Film Transistor)를 형성하기 위한 무기물 증착공정과 패터닝 공정이 반복적으로 이루어지고, 이후 발광 Cell을 구성하기 위한 유기물 증착이 이루어진다.In order to manufacture such an organic light emitting display (OLED) substrate, an inorganic material deposition process and a patterning process for forming a TFT (Thin Film Transistor) are repeatedly performed on a substrate, and then an organic material deposition for forming a light emitting cell is performed .
통상적으로 유기전계발광표시장치(OLED) 기판에 증착되는 무기물은 화학 기상 증착공정(CVD, Chemical Vapor Deposition Process)으로 증착한다. 이러한 화학 기상 증착공정이 다양한 박막을 형성하는데 유리하기 때문이다. Typically, an inorganic material deposited on an organic light emitting display (OLED) substrate is deposited by a chemical vapor deposition process (CVD). This is because such a chemical vapor deposition process is advantageous for forming various thin films.
유기전계발광표시장치(OLED) 기판을 제조하기 위한 증착공정 중에 하나인 화학 기상 증착공정(CVD, Chemical Vapor Deposition Process)을 간략히 설명하면, 화학 기상 증착공정은, 외부의 고주파 전원에 의해 플라즈마(Plasma)화 되어 높은 에너지를 갖는 실리콘계 화합물 이온(ion)이 전극을 통해 가스분배판에서 분출되어 기판 상에 증착되는 공정으로서, 이러한 공정은 화학 기상 증착공정을 수행하는 공정챔버 내에서 이루어진다. A chemical vapor deposition process (CVD), which is one of the deposition processes for manufacturing an organic light emitting display (OLED) substrate, will be briefly described. In the chemical vapor deposition process, a plasma ) And a silicon compound ion having a high energy is sputtered from a gas distribution plate through an electrode and deposited on a substrate. This process is performed in a process chamber in which a chemical vapor deposition process is performed.
특히 최근에는 단시간에 많은 기판을 처리할 수 있도록, 일정한 간격으로 배치되는 복수개의 공정챔버를 구비하는 화학 기상 증착 장치가 널리 사용되고 있다.In recent years, chemical vapor deposition apparatuses having a plurality of process chambers arranged at regular intervals are widely used so that many substrates can be processed in a short time.
이러한 화학 기상 증착공정을 위한 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치는, 증착 공정이 수행되는 공정챔버(Processing Chamber)와, 공정챔버의 내부에 마련되는 상부 전극과, 상부 전극에서 이격되어 배치되며 기판이 적재되는 하부 전극과, 상부 전극에 RF Power를 인가하는 고주파 전원부와, 상기 하부 전극을 접지하는 그라운드 스트랩(ground strap)을 포함한다. A chemical vapor deposition apparatus for a flat panel display for a chemical vapor deposition process includes a processing chamber in which a deposition process is performed, an upper electrode provided inside the process chamber, A high frequency power source for applying RF power to the upper electrode, and a ground strap for grounding the lower electrode.
이러한 화학 기상 증착장치는, 기판을 상부 전극과 하부 전극 사이에 위치시킨 후 공정챔버의 내부로 공정 가스를 주입한 상태에서 고주파 전원부가 상부 전극에 RF Power를 인가함으로써, 플라즈마의 발생에 의해 기판을 증착한다.In such a chemical vapor deposition apparatus, RF power is applied to an upper electrode by a RF power unit in a state where a substrate is placed between an upper electrode and a lower electrode, and then a process gas is injected into the process chamber. Lt; / RTI >
이러한 플라즈마의 발생에 필요한 조건 중 한 가지는, 상부 전극과 하부 전극의 전위차이다. 따라서 상부 전극과 하부 전극 사이에 전위차를 발생시키기 위해, 상부 전극에는 RF Power를 인가하고 하부 전극에는 그라운드 스트랩을 연결한다.One of the conditions necessary for the generation of such a plasma is the potential difference between the upper electrode and the lower electrode. Therefore, in order to generate a potential difference between the upper electrode and the lower electrode, RF power is applied to the upper electrode and a ground strap is connected to the lower electrode.
한편, 공정챔버에는 기판이 취출될 수 있는 슬릿(slit)이 형성되어 있고 이러한 슬릿의 개폐를 위해 공정챔버의 일측에 슬릿 밸브가 배치되어 있다. Meanwhile, a slit is formed in the process chamber so that the substrate can be taken out. A slit valve is disposed on one side of the process chamber to open and close the slit.
도 1을 참조하면, 종래의 슬릿 밸브는 공정챔버의 일측에 결합되는 밸브챔버(10)와, 공정챔버의 슬릿과 연통되는 밸브챔버의 개구부를 밸브챔버 내에서 상하 또는 수평으로 구동되면서 밀폐시켜 밸브구동부(20)와, 밸브구동부와 밸브챔버의 내측벽을 통전시키는 스트랩(30)을 포함한다. Referring to FIG. 1, a conventional slit valve includes a
이러한 슬릿 밸브는 슬릿의 개폐를 위해 프로세스 챔버와 연결되어 있기 때문에 공정챔버의 상부 전극에서 인가된 RF 전원이 슬릿 밸브 내부로 전도될 수 있다. Since the slit valve is connected to the process chamber for opening and closing the slit, the RF power applied from the upper electrode of the process chamber can be conducted to the inside of the slit valve.
이러한 경우, 슬릿 밸브에 아킹(arcing)이 발생해 오링(O-ring)을 비롯한 슬릿 밸브 내부 구성품이 손상될 수 있고, 슬릿 밸브 내부의 전위차로 인해 불필요한 기생 플라즈마가 발생할 수 있다. 이에 따라 슬릿 밸브의 기능이 저하되고 기생 플라즈마에 노출된 표면이 오염되어 기판에 심각한 입자 오염 내지는 손상을 야기할 수 있다. In this case, arcing may occur in the slit valve to damage the internal components of the slit valve including the O-ring, and unnecessary parasitic plasma may occur due to the potential difference inside the slit valve. As a result, the function of the slit valve is deteriorated and the surface exposed to the parasitic plasma is contaminated, which may cause serious particle contamination or damage to the substrate.
이와 같은 문제를 해결하기 위해 종래의 슬릿 밸브는, 전위차가 발생하지 않도록 밸브구동부(20)를 밸브챔버(10)의 내측벽과 통전시키는 스트랩(30)을 구비하고 있다. In order to solve such a problem, the conventional slit valve has a
그러나, 종래의 슬릿 밸브의 스트랩(30)은 구리 재질의 가연성을 갖는 박판으로 밸브챔버(10)와 밸브구동부(20) 사이에 마련되어 있는데, 이러한 스트랩(30)은 밸브구동부(20)의 반복적인 구동에 따라 피로가 누적되어 쉽게 끊어지는 문제점이 있다. 결과적으로 종래의 슬릿 밸브는 스트랩(30)의 상태를 주기적으로 점검하고 자주 교체해야 하는 등 유지보수에 있어 효율성이 크게 떨어진다. However, the
따라서, 종래와 같이 밸브구동부(20)가 구동되더라도 파손되지 않고 접지기능을 수행할 수 있는 접지장치를 구비한 슬릿 밸브가 필요한 실정이다.Accordingly, there is a need for a slit valve having a grounding device capable of performing a grounding function without being damaged even when the
따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 종래 슬릿 밸브의 끊어지기 쉬운 스트랩을 대체할 수 있고 슬릿 밸브의 구동 시에도 효과적으로 접지상태를 유지할 수 있는 밸브접지유닛을 구비하는 슬릿 밸브를 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a slit valve having a valve grounding unit that can replace a strap that is easily broken and can maintain a grounded state effectively even when a slit valve is driven.
본 발명의 일 측면에 따르면, 기판이 출입되는 슬릿을 구비한 공정챔버의 일측에 결합되는 밸브챔버; 상기 밸브챔버의 내부에서 상하로 구동되어 상기 슬릿을 선택적으로 개폐하는 슬릿개폐유닛; 및 상기 슬릿개폐유닛을 상기 밸브챔버에 접지시키는 밸브접지유닛을 포함하며, 상기 밸브접지유닛은, 상기 밸브챔버와 상기 슬릿개폐유닛 중 어느 하나에 마련되는 제1 전도부; 및 상기 제1 전도부와 접촉 배치되도록 상기 밸브챔버와 상기 슬릿개폐유닛 중 다른 하나에 마련되며, 상기 슬릿개폐유닛이 상기 밸브챔버에 대하여 상대 이동 시에도 상기 제1 전도부와 접촉된 상태를 유지하는 제2 전도부를 포함하는 슬릿 밸브가 제공될 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a plasma processing apparatus comprising: a valve chamber coupled to one side of a process chamber having a slit through which a substrate enters and exits; A slit opening / closing unit that is vertically driven in the valve chamber to selectively open and close the slit; And a valve grounding unit for grounding the slit opening / closing unit to the valve chamber, wherein the valve grounding unit includes: a first conductive part provided at one of the valve chamber and the slit opening / closing unit; And a slit opening / closing unit provided on the other of the valve chamber and the slit opening / closing unit so as to be brought into contact with the first conducting portion, wherein the slit opening / A slit valve including two conduction parts may be provided.
상기 제1 전도부는, 상기 슬릿개폐유닛과 함께 이동하도록 상기 슬릿개폐유닛에 결합되며, 상기 제2 전도부는, 상기 밸브챔버의 내측벽에 결합될 수 있다.The first electroconductive portion is coupled to the slit opening / closing unit to move together with the slit opening / closing unit, and the second electroconductive portion can be coupled to the inside wall of the valve chamber.
상기 제1 전도부는, 상기 제2 전도부에 접촉되는 접지부; 및 상기 접지부를 지지하며 상기 슬릿개폐유닛에 결합되는 지지블럭을 포함할 수 있다.Wherein the first conductive portion includes: a ground portion contacting the second conductive portion; And a support block that supports the ground portion and is coupled to the slit opening / closing unit.
상기 제2 전도부는, 상기 밸브챔버의 내측벽에 돌출되게 결합되며, 상기 접지부는, 상기 제2 전도부의 표면을 따라 구름접촉되는 접촉롤러를 포함할 수 있다.The second conductive portion may be protrudingly engaged with the inner wall of the valve chamber, and the ground portion may include a contact roller that comes into rolling contact along the surface of the second conductive portion.
상기 접촉롤러는, 양단부에서 중심부로 갈수록 단면적이 작아져 내측으로 오목한 접촉면을 형성하며, 상기 제2 전도부는, 상기 접촉롤러에 접촉 가능하도록 평단면이 아크(arc) 형상으로 마련될 수 있다.The contact roller may have an arc-shaped contact surface with a smaller cross-sectional area from both ends to a central portion, and the second conductive portion may have an arc-shaped flat cross-section so as to be contactable with the contact roller.
상기 슬릿개폐유닛는, 상기 밸브챔버 내에서 상하로 구동되는 밸브블럭; 상기 밸브블럭에 수평 이동가능하게 결합되어 상기 슬릿과 연통되는 상기 밸브챔버의 개구부를 폐쇄하는 밸브 블레이드를 포함하며, 상기 지지블럭은, 상기 밸브블럭에 결합되는 결합플레이트; 및 상기 결합플레이트의 양단부에서 절곡 연장되어 상기 접촉롤러의 양단부를 회전가능하게 지지하는 지지플레이트을 포함할 수 있다.The slit opening / closing unit may include: a valve block vertically driven in the valve chamber; And a valve blade horizontally movably coupled to the valve block to close an opening of the valve chamber communicating with the slit, wherein the support block includes: a coupling plate coupled to the valve block; And a support plate which is bent at both ends of the coupling plate and rotatably supports both end portions of the contact roller.
상기 제1 전도부 및 상기 제2 전도부 중 적어도 어느 하나를 서로 접촉되는 방향으로 가압하는 가압부를 더 포함할 수 있다.And a pressing unit that presses at least one of the first conductive unit and the second conductive unit in a direction in which the first conductive unit and the second conductive unit are in contact with each other.
상기 가압부는, 상기 지지블럭이 상대 이동가능하도록 상기 결합플레이트를 관통하여 상기 밸브블럭에 결합되는 연결핀; 및 상기 결합플레이트와 상기 밸브블럭 사이에 배치되어 상기 지지블럭을 상기 제2 전도부에 대하여 탄성바이어스하는 탄성부재를 포함할 수 있다.Wherein the pressing portion includes: a connecting pin that is coupled to the valve block through the coupling plate such that the supporting block is relatively movable; And an elastic member disposed between the coupling plate and the valve block and elastically biasing the support block against the second conductive portion.
상기 연결핀은, 미리 결정된 직경을 갖는 헤드부; 상기 헤드부와 연결되고, 상기 헤드부 보다 작은 직경을 가지는 몸체부; 및 상기 몸체부에 구비되며, 상기 몸체부의 말단부에서 상기 헤드부 방향으로 미리 결정된 길이만큼 형성되는 나사산부를 포함할 수 있다.The connecting pin includes: a head portion having a predetermined diameter; A body portion connected to the head portion and having a smaller diameter than the head portion; And a threaded portion provided on the body portion and formed in a predetermined length from the distal end of the body portion toward the head portion.
상기 결합플레이트에는, 상기 연결핀이 관통되는 가이드 홀이 형성되며, 상기 밸브블럭에는 상기 나사산부와 나사결합되는 나사홈이 형성될 수 있다.The coupling plate may have a guide hole through which the connection pin passes, and the valve block may be formed with a thread groove that is screwed with the threaded portion.
상기 탄성부재는, 상기 연결핀에 삽입되되, 일단부가 상기 결합플레이트에 지지되고 타단부는 상기 밸브블럭에 지지되는 스프링(spring)을 포함할 수 있다.The elastic member may include a spring inserted into the connection pin, one end of which is supported by the coupling plate and the other end is supported by the valve block.
상기 밸브접지유닛은, 상기 밸브챔버의 코너영역에 각각 하나씩 마련될 수 있다.The valve grounding unit may be provided in each corner area of the valve chamber.
상기 접촉롤러는 전도성 고무재질로 마련되며, 상기 제2 전도부는 구리(Cu)재질로 마련될 수 있다.The contact roller may be made of a conductive rubber material, and the second conductive portion may be made of copper (Cu).
상기 제2 전도부는 상기 밸브챔버의 내측벽이며, 상기 제1 전도부는, 상기 밸브챔버의 내측벽을 따라 구름접촉하는 접촉롤러; 및 상기 슬릿개폐유닛에 결합되고 상기 접촉롤러를 지지하되 상기 접촉롤러를 탄성적으로 가압하는 롤러지지 가압부를 포함할 수 있다.The second conductive portion is an inner wall of the valve chamber, and the first conductive portion includes: a contact roller that comes into rolling contact along the inner wall of the valve chamber; And a roller support pressing portion coupled to the slit opening and closing unit and supporting the contact roller, and elastically pressing the contact roller.
상기 롤러지지 가압부는, 중공형상으로 마련되고 상기 슬릿개폐유닛에 결합되는 하우징; 상기 접촉롤러를 회전가능하게 지지하며 상기 하우징을 관통하여 상기 하우징에 대하여 상대이동 가능하게 연결되는 롤러아암; 및 상기 하우징 내부에 개재되고 상기 롤러아암을 상기 밸브챔버의 내측벽 방향으로 탄성바이어스하는 탄성부재를 포함할 수 있다.Wherein the roller support pressing portion includes: a housing provided in a hollow shape and coupled to the slit opening / closing unit; A roller arm rotatably supporting the contact roller and connected to the housing so as to be movable relative to the housing; And an elastic member interposed inside the housing and elastically biasing the roller arm toward the inner wall of the valve chamber.
상기 롤러아암은 상기 하우징 내에서 상기 탄성부재의 탄성 복원력에 의해 상기 하우징에 대해 상대 이동되는 가압플레이트; 상기 가압플레이트에 연결되고 상기 하우징 외측으로 연장되는 커넥팅로드; 및 상기 커넥팅로드에 연결되고 상기 접촉롤러를 회전가능하게 지지하는 롤러지지부를 포함할 수 있다.Wherein the roller arm is a pressing plate that is relatively moved with respect to the housing by an elastic restoring force of the elastic member in the housing; A connecting rod connected to the pressing plate and extending outside the housing; And a roller support connected to the connecting rod and rotatably supporting the contact roller.
본 발명의 실시예들은, 종래 슬릿 밸브의 끊어지기 쉬운 스트랩을 대체할 수 있고 슬릿 밸브의 구동 시에도 효과적으로 접지상태를 유지하여 슬릿 밸브 내부의 아킹(arcing) 및 기생 플라즈마 발생을 방지할 수 있다. Embodiments of the present invention can replace a strap that is easily broken by a conventional slit valve and effectively maintain a ground state even when the slit valve is driven to prevent arcing and parasitic plasma generation inside the slit valve.
도 1은 종래의 슬릿 밸브의 부분 절개도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 슬릿 밸브가 적용되는 화학 기상 증착 장치의 개략적인 구성도이다.
도 3는 도 2의 개략적인 부분 확대 단면도이다.
도 4은 본 발명의 제1 실시예에 따른 슬릿 밸브의 개략적인 구조도이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 슬릿 밸브의 부분 절개 사시도이다.
도 6은 도 5의 A-A선에 따른 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 슬릿 밸브의 단면도이다.
도 8은 본 발명의 제2 실시예에 따른 밸브접지유닛의 분해 사시도이다.
도 9와 도 10은 도 7의 밸브접지유닛의 가압 상태도이다.
도 11은 본 발명의 제3 실시예에 따른 슬릿 밸브의 단면도이다.1 is a partial cut-away view of a conventional slit valve.
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a chemical vapor deposition apparatus to which a slit valve according to a first embodiment of the present invention is applied.
3 is a schematic partial enlarged cross-sectional view of Fig.
4 is a schematic structural view of a slit valve according to a first embodiment of the present invention.
5 is a partial cutaway perspective view of a slit valve according to a first embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view taken along line AA in Fig.
7 is a cross-sectional view of a slit valve according to a second embodiment of the present invention.
8 is an exploded perspective view of a valve grounding unit according to a second embodiment of the present invention.
9 and 10 are pressurized state diagrams of the valve grounding unit of Fig.
11 is a sectional view of a slit valve according to a third embodiment of the present invention.
본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.In order to fully understand the present invention, operational advantages of the present invention, and objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings and the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Like reference symbols in the drawings denote like elements.
도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 슬릿 밸브가 적용되는 화학 기상 증착 장치의 개략적인 구성도이고, 도 3는 도 2의 개략적인 부분 확대 단면도이다.FIG. 2 is a schematic structural view of a chemical vapor deposition apparatus to which a slit valve according to a first embodiment of the present invention is applied, and FIG. 3 is a schematic enlarged sectional view of FIG.
먼저, 이들 도면을 참조하여 본 실시 예에 따른 슬릿 밸브가 적용되는 화학 기상 증착장치에 관해 간략히 살펴본다. 참고로, 이하에서 언급되는 기판이란 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes)용 유리기판을 말한다. First, a chemical vapor deposition apparatus to which a slit valve according to the present embodiment is applied will be briefly described with reference to these drawings. For reference, the substrate referred to below refers to a glass substrate for an LCD (Liquid Crystal Display), a PDP (Plasma Display Panel), and an OLED (Organic Light Emitting Diodes).
화학 기상 증착장치(1)는 화학 기상 증착공정을 수행하는 복수 개의 프로세스 챔버(11)와 해당 프로세스 챔버(11)로 기판이 진입되기 전에 기판이 프로세스 챔버(11)로 진입될 수 있는 환경을 조성하는 로드락 챔버(12)와 프로세스 챔버(11)와 로드락 챔버(12)를 연결하는 트랜스퍼 챔버(13)로 구성되는 공정챔버를 구비한다. 트랜스퍼 챔버(13)에는 로드락 챔버(12) 내의 기판을 해당 프로세스 챔버(11)로 이송하거나 해당 프로세스 챔버(11) 내의 기판을 로드락 챔버(12)로 이송하는 로봇(미도시)이 마련된다.The chemical
프로세스 챔버(11)는 실질적으로 증착 공정이 수행되는 장소로서, 도시하지는 않았으나, 상부 전극과 상부 전극에서 이격되어 배치되며 기판이 적재되는 하부 전극과, 상부 전극에 RF Power를 인가하는 고주파 전원부와, 하부 전극을 접지하는 그라운드 스트랩(ground strap)을 포함한다. The
이러한 프로세스 챔버(11)는 기판을 상부 전극과 하부 전극 사이에 위치시킨 후 내부로 공정 가스를 주입한 상태에서 고주파 전원부가 상부 전극에 RF Power를 인가함으로써, 플라즈마의 발생에 의해 기판을 증착한다. In this
이러한 각각의 공정챔버(10)는 고진공(high vacuum) 상태가 가능하게 마련되고 기판이 통과할 수 있는 슬릿(S)을 구비한다. 그리고 이웃한 공정챔버(10)들 사이에는 슬릿 밸브(20)가 배치된다. Each of these
슬릿 밸브(20)는 공정챔버(10)의 슬릿(S)을 밀봉하여 서로 이웃한 공정챔버(10)들을 환경적으로 격리시키는 역할을 한다.The
이하에서 이러한 본 실시 예에 따른 슬릿 밸브(20)에 대해 자세히 설명하기로 한다. Hereinafter, the
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 슬릿 밸브의 개략적인 구조도이고, 도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 슬릿 밸브의 부분 절개 사시도이고, 도 6은 도 5의 A-A선에 따른 단면도이다. FIG. 4 is a schematic structural view of a slit valve according to a first embodiment of the present invention, FIG. 5 is a partially cutaway perspective view of a slit valve according to a first embodiment of the present invention, FIG. 6 is a cross- Sectional view.
이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 실시 예에 따른 슬릿 밸브(20)는, 기판이 출입되는 슬릿(S)을 구비한 공정챔버(10)의 일측에 결합되는 밸브챔버(100)와, 밸브챔버(100)의 내부에서 상하로 구동되어 슬릿(S)을 선택적으로 개폐하는 슬릿개폐유닛(200)과, 슬릿개폐유닛(200)를 밸브챔버(100) 내에서 승하강되도록 지지하는 승하강 실린더(201)와, 밸브챔버(100)의 내측벽(110)과 슬릿개폐유닛(200) 사이에 결합되고 슬릿개폐유닛(200)의 상하운동에 대응하여 밸브챔버(100)의 내측벽(110)을 따라 이동가능하게 마련되어 슬릿개폐유닛(200)를 밸브챔버(100)에 접지시키는 밸브접지유닛(300)을 포함한다.As shown in these figures, the
밸브챔버(100)는 자체 진공 공간을 형성하며, 밸브챔버(100)의 개구부(120)가 공정챔버(10)의 슬릿(S)과 연통될 수 있는 높이로 공정챔버(10)의 일측벽에 결합되어 개구부(120)를 개폐시킴에 따라 기판이 공정챔버(10)내로 반입 또는 반출될 수 있도록 마련된다. The
슬릿개폐유닛(200)는, 개구부(120)에 밀착되어 이를 폐쇄하는 밸브블레이드(220)와, 밸브블레이드(220)를 개구부(120)를 향해 수평이동시키는 가압 실린더(230)를 구비하는 밸브블럭(210)을 포함한다. The slit opening and
본 실시 예에 따른, 슬릿 밸브(20)는 이웃한 공정챔버들(도 2 참조) 사이에 배치될 수 있다. 이러한 경우, 밸브블레이드(220)는 한 쌍으로 마련되며, 밸브블럭(210)에 마련된 가압 실린더(230)에 의해 양방향으로 구동되어 개구부(120) 표면에 밀착된다. 이때 밸브블레이드(220)에는 개구부(120)의 기밀을 유지하여 공정챔버의 진공이 깨어지지 않도록 오링(221,O-ring)이 더 마련될 수 있다. 가압 실린더(230)의 구동은 유압 또는 공압에 의해 이루어질 수 있다.According to the present embodiment, the
승하강 실린더(201)는 밸브블럭(210)를 상승 또는 하강 구동시키는 역할을 한다. 진공챔버의 슬릿을 폐쇄시킬 경우 밸브블레이드(220)가 개구부(120)의 중심축에 위치할 때까지 밸브블럭(210)을 상승시키고, 슬릿을 개방시킬 경우 밸브블럭(210)을 하강시킨다. 승하강 실린더(201) 또한 유압 또는 공압에 의해 작동될 수 있다. The ascending /
한편, 슬릿 밸브(20)는 공정챔버(10)의 일측에 결합되어 있기 때문에 증착 공정 시 고주파 전원이 슬릿 밸브(20) 내부로 전도될 수 있고, 이에 따른 아킹(arcing)이나 기생 플라즈마의 발생을 방지하기 위해 슬릿개폐유닛(200)와 밸브챔버(100)의 전위차를 없애기 위한 접지가 필요하다. 이를 위해 종래기술에 따른 슬릿 밸브의 경우, 밸브챔버(100)와 슬릿개폐유닛(200)의 밸브블럭(210)을 박판으로 마련된 스트랩(도 1 참조)으로 접지를 하고 있다. 그러나 이러한 스트랩은 밸브블럭의 반복된 구동에 따른 피로누적으로 끊어지기 쉬워 접지기능을 원활히 수행할 수 없는 문제점이 있다. Since the
이러한 문제점을 개선하기 위해 본 발명에 따른 슬릿 밸브(20)는 밸브블럭(210)의 구동으로 인해 끊어지기 쉬운 스트랩을 대체할 수 있고 효과적으로 접지기능을 수행할 수 있는 밸브접지유닛(300)을 포함한다. In order to solve such a problem, the
본 실시 예에 따른 밸브접지유닛(300)은, 밸브챔버(100)와 슬릿개폐유닛 중 어느 하나에 마련되는 제1 전도부(310)와, 제1 전도부(310)와 접촉 배치되도록 밸브챔버(100)와 슬릿개폐유닛 중 다른 하나에 마련되며 슬릿개폐유닛이 밸브챔버(100)에 대하여 상대 이동 시에도 제1 전도부(310)와 접촉된 상태를 유지하는 제2 전도부(320)를 포함한다. 이러한 밸브접지유닛(300)은 밸브챔버(100)의 각 코너영역에 하나씩 배치될 수 있다. The
본 실시 예에 따른 제1 전도부(310)는, 밸브블레이드(220)의 길이보다 다소 연장되어 있는 밸브블럭(210)의 가장자리 영역에 결합되어 있다. 그리고 제2 전도부(320)는 밸브챔버(100)의 내측벽(110)에 돌출되게 결합되어 있다. The first
도 5를 참조하면, 제1 전도부(310)는, 제2 전도부(320)에 접촉되는 접지부(311)와, 접지부(311)를 지지하며 밸브블럭(210)에 결합되는 지지블럭(312)을 포함하며, 제2 전도부(320)와 접촉상태를 유지하면서 밸브블럭(210)과 함께 이동한다. 5, the first
참고로, 본 실시 예와 달리, 제1 전도부(310)와 제2 전도부(320)는 그 위치를 서로 바꾸어 배치될 수도 있다. 즉, 제1 전도부(310)를 밸브챔버(100)의 내측벽(110)에 결합하고 제2 전도부(320)는 밸브블럭(210)에 결합되게 마련할 수 있다. 이러한 경우, 제1 전도부(310)에 대해 제2 전도부(320)가 상대 이동한다. For reference, unlike the present embodiment, the first
접지부(311)는 제2 전도부(320)와 직접 접촉되어 밸브챔버(100)에 흐르는 전류를 슬릿개폐유닛(200)에 통전시킨다. 이러한 접지부(311)는 제2 전도부(320)의 표면을 따라 구름접촉되는 접촉롤러(311)를 포함한다. 접촉롤러(311)는 접촉롤러의 양측부에서 돌출 형성된 회전축이 후술할 지지블럭(312)의 지지플레이트(312b)에 끼워맞쳐져 지지블럭(312)에 결합될 수 있다. The
본 실시 예에 따른 접촉롤러(311)는, 양단부에서 중심부로 갈수록 단면적이 작아져 내측으로 오목하게 형성된다. 그리고 이러한 접촉롤러(311)와 한 쌍을 이루는 제2 전도부(320)는, 접촉롤러(311)의 오목한 부분에 대응되는 평단면이 아크(arc) 내지는 반구인 기둥형상으로 마련된다. The
접촉롤러(311)의 오목한 부분이 제2 전도부(320)가 형성하는 아크(arc) 내지 반구형상에 끼워맞쳐짐으로써, 접촉롤러와 제2 전도부(320)의 원활한 구름접촉을 유도하며, 더불어 승하강 실린더(201)가 밸브블럭(210)을 유격없이 상하로 구동시킬 수 있게 가이드하는 역할을 한다. The concave portion of the
이러한 접촉롤러(311)는 전기 전도성 고무재질의 롤러로 마련될 수 있고 제2 전도부(320)는 구리재질의 박판으로 마련될 수 있다. 반대로 접촉롤러(311)가 구리재질로 마련되고 제2 전도부(320)가 전기 전도성 고무재질로 마련될 수도 있다. 이는 접촉롤러(311)와 제2 전도부(320) 사이의 전기전도성을 높이고, 구름접촉으로 인한 파티클을 방지하기 위함이다.The
한편, 본 발명의 권리범위는 본 실시 예와 같이, 접지부(311)가 제2 전도부(320)와 구름접촉되는 접촉롤러(311)인 것에 반드시 한정되는 것은 아니며, 제2 전도부(320)의 표면을 따라 슬라이딩되면서 면접촉될 수 있는 다양한 형태의 부재라도 무방하다.The scope of the present invention is not limited to the
지지블럭(312)은 밸브블럭(210)에 결합되는 결합플레이트(312a)와, 결합플레이트(312a)의 양단부에서 절곡 연장되어 접촉롤러(311)의 양단부를 회전가능하게 지지하는 지지플레이트(312b)를 포함한다. The
결합플레이트(312a)는 밸브블럭(210)의 측면에 볼트결합될 수 있고, 지지플레이트(312b)는 제2 전도부(320) 방향으로 미리 결정된 거리만큼 연장되어 끝단부 영역에서 접촉롤러(311)를 회전가능하게 지지한다. The
이와 같이, 본 실시 예에 따른 밸브접지유닛(300)은, 밸브블럭(210)에 결합되어 있는 제1 전도부(310)가 밸브챔버(100)의 내측벽(110)에 결합되어 있는 제2 전도부(320)의 표면을 구름접촉하면서 상하로 이동가능하게 마련되어 있다. 따라서 종래기술과 같이 밸브블럭(210)의 구동으로 인해 스트랩이 끊어질 염려가 없고 효과적으로 밸브블럭(210)과 밸브챔버(100)를 접지시킬 수 있어 밸브챔버(100) 내의 아킹(arcing)이나 기생 플라즈마 발생을 효과적으로 방지할 수 있다. The
도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 슬릿 밸브의 단면도이고, 도 8은 본 발명의 제2 실시예에 따른 밸브접지유닛의 분해 사시도이고, 도 9과 도 10은 도 8의 밸브접지유닛의 가압 상태도이다. 8 is a disassembled perspective view of a valve grounding unit according to a second embodiment of the present invention, and Figs. 9 and 10 are sectional views of the valve grounding unit of Fig. 8, Fig.
도 2 내지 도 6과 동일한 부재번호는 동일한 부재를 나타내며, 동일한 부재에 대한 중복된 설명은 생략하기로 한다. 2 to 6 denote the same members, and redundant description of the same members will be omitted.
본 실시 예는 제1 실시예와 비교할 때 대부분의 구성이 동일하나, 제1 전도부(310)와 제2 전도부(320)의 접촉상태를 효과적으로 유지시키는 가압부(410)를 더 포함한다. 이하에서는 이러한 가압부(410)를 위주로 설명하기로 한다. The present embodiment is substantially the same in construction as the first embodiment, but further includes a
밸브접지유닛(400)의 조립시의 공차 또는 슬릿개폐유닛(200)의 구동에 따른 밸브챔버(100) 내측벽(110)과의 미세한 간격 변화가 생기면 제1 전도부(310)가 제2 전도부(320)에 제대로 접촉되지 못할 염려가 있다.The first
이를 보완하기 위해 본 실시 예에 따른 밸브접지유닛(400)은, 제1 전도부(310) 및 제2 전도부(320) 중 적어도 어느 하나를 서로 접촉되는 방향으로 가압하는 가압부(410)를 더 포함한다. The
도 7 및 도 8을 참조하면, 본 실시 예에서 가압부(410)는, 지지블럭(312)이 상대 이동 가능하도록 결합플레이트(312a)를 관통하여 밸브블럭(210)에 결합되는 연결핀(411)과, 결합플레이트(312a)와 밸브블럭(210) 사이에 배치되어 지지블럭(312)을 제2 전도부(320)에 대하여 탄성바이어스하는 탄성부재(412)를 포함한다. 7 and 8, in this embodiment, the
연결핀(411)은 미리 결정된 직경을 갖는 헤드부(411a)와, 헤드부(411a)와 연결되고 헤드부(411a) 보다 작은 직경을 가지는 몸체부(411b)와, 몸체부(411b)에 구비되며 몸체부(411b)의 말단부에서 헤드부(411a) 방향으로 미리 결정된 길이만큼 형성되는 나사산부(411c)를 포함한다. The connecting
이러한 연결핀(411)은 결합플레이트(312a)의 가이드 홀(H1)을 통해 삽입되고 밸브블럭(210)에 마련된 나사산홈에 나사산부(411c)가 체결되어 밸브블럭(210)에 결합된다. The
연결핀(411)의 몸체부(411b)는 지지블럭(312)의 상대 이동을 안내하며, 연결핀(411)의 헤드부(411a)는 가이드 홀(H1)의 직경 보다 크게 마련되어 지지블럭(312)의 이탈을 저지한다. The
탄성부재(412)는 지지블럭(312)을 제2 전도부(320)에 대하여 접근하는 방향으로 탄성바이어스시킨다. 이러한 탄성부재(412)는, 연결핀(411)의 몸체부(411b)에 삽입되고 일단부가 결합플레이트(312a)에 지지되며, 타단부는 밸브블럭(210)에 지지되는 스프링(spring, 412)을 포함한다. The
이러한 스프링(412)은, 탄성 복원력을 통해 지지블럭(312)을 제2 전도부(320)에 대하여 접근하는 방향으로 가압한다. 결과적으로 지지블럭(312)에 작용하는 탄성 복원력은 접촉롤러(311)에 전달되고 접촉롤러(311)는 제2 전도부(320)를 가압하면서 구름접촉하게 된다.The
도 9 및 도 10을 참조하여, 제1 전도부(310)와 제2 전도부(320) 간의 유격 발생 시 밸브접지유닛의 가압 상태를 간략히 살펴본다. Referring to FIGS. 9 and 10, a pressurized state of the valve grounding unit when a clearance is generated between the first
먼저, 본 실시 예에 따른 밸브접지유닛(400)은 조립 시 제1 전도부(310)와 제2 전도부(320)가 상호간에 가압력이 작용할 수 있는 상태로 조립된다. 즉, 스프링의 탄성 복원력이 지지블럭(312)에 작용하도록 결합플레이트(312a)와 밸브블럭(210) 사이의 스프링(412)은 미리 결정된 길이만큼 압축되어 있다.First, the
이러한 상태에서 자체 진동이나 수평 구동되는 밸브블레이드(220)에 대한 반발력으로 인해 밸브블럭(210)의 중심이 밸브챔버(100)의 내측벽(110)으로부터 소정 간격 더 멀어지게 되면, 제2 전도부(320)의 가압력이 감소하게되고 스프링(412)이 원형 복원되면서 지지블럭(312)을 제2 전도부(320)에 대하여 접근하는 방향으로 밀어낸다. 따라서 밸브블럭(210)이 밸브챔버(100)의 내측벽(110)에 대해 더 멀어지더라도 가압부(410)의 작용에 의해 접촉롤러(311)와 제2 전도부(320)는 항상 접촉상태를 유지할 수 있다. In this state, when the center of the
이와 같이 본 실시 예에 따른 슬릿 밸브는, 제1 전도부(310)와 제2 전도부(320) 상호간에 가압력이 작용하는 상태에서 구름접촉하게 되어 밸브접지유닛(400)의 조립 공차 내지는 슬릿개폐유닛(200)의 구동에 따른 유격 변화에도 접지상태를 유지할 수 있는 이점이 있다. As described above, the slit valve according to the present embodiment comes into rolling contact with the first
도 11은 본 발명의 제3 실시예에 따른 슬릿 밸브의 단면도이다.11 is a sectional view of a slit valve according to a third embodiment of the present invention.
도 1 내지 도 10과 동일한 부재번호는 동일한 부재를 나타내며, 동일한 부재에 대한 중복된 설명은 생략하기로 한다. 1 to 10 denote the same members, and redundant description of the same members will be omitted.
본 실시 예는 제1 및 제2 실시예와 비교할 때에 제1 전도부(310)에 대응되는 본 실시 예의 접촉롤러(510)가 밸브 챔버의 내측벽(110)에 직접 구름접촉되도록 설계된다는 점에 차이가 있을 뿐 다른 구성에 있어서는 전술한 실시 예들의 구성과 동일하다.The present embodiment is different from the first and second embodiments in that the
이 도면을 참조하면, 본 실시 예에 따른 밸브접지유닛(500)은, 전술한 실시 예의 제2 전도부는 밸브챔버(100)의 내측벽(110)이며, 제1 전도부(500a)는, 밸브챔버(100)의 내측벽(110)을 따라 구름접촉하는 접촉롤러(510)와, 슬릿개폐유닛(200)에 결합되고 접촉롤러(510)를 지지하되 접촉롤러(510)를 탄성적으로 가압하는 롤러지지 가압부(520)를 포함한다. Referring to this figure, the valve grounding unit 500 according to the present embodiment is characterized in that the second electroconductive portion of the above-described embodiment is the
이러한 롤러지지 가압부(520)는, 슬릿개폐유닛(200)의 밸브블럭(210)에 결합되고 중공형상으로 마련되는 하우징(521)과, 접촉롤러(510)를 회전가능하게 지지하며 하우징(521)을 관통하여 하우징(521)에 대하여 상대이동 가능하게 연결되는 롤러아암(522)과, 하우징(521) 내부에 개재되고 롤러아암(522)을 밸브챔버(100)의 내측벽(110) 방향으로 탄성바이어스하는 탄성부재(523)를 포함한다.The roller
하우징(521) 내부에 개재되고 일단부는 밸브블럭(210)에 지지되고 타단부는 롤러아암(522)에 지지되어 롤러아암(522)을 밸브챔버(100)의 내측벽(110) 방향으로 탄성바이어스하는 탄성부재(523)를 포함한다. One end of the roller arm 522 is supported by the
본 실시 예에서 접촉롤러(510)는 전기 전도성 고무재질로 마련되어 밸브챔버(100) 내측벽(110)에 구름접촉 시 파티클 발생을 방지하며, 탄성부재(523)로는 스프링(523)이 적용될 수 있다. In this embodiment, the
하우징(521)은 중공형상의 원통으로 일측은 롤러아암(522)이 관통되는 관통홀(H2)이 형성되고 타측은 본체의 직경보다 큰 직경을 가지는 하우징 결합플레이트(521a)를 구비한다. 하우징(521)은 하우징 결합플레이트(521a)의 외주면을 따라 밸브블럭(210)에 볼트체결되어 결합될 수 있다. The
롤러아암(522)은 하우징(521) 내에서 탄성부재(523)의 탄성 복원력에 의해 하우징(521)에 대해 상대 이동되는 가압플레이트(522a)와, 가압플레이트(522a)에 연결되고 관통홀(H2) 통해 하우징(521) 외측으로 연장되는 커넥팅로드(522b)와, 커넥팅로드(522b)에 연결되고 접촉롤러(510)를 회전가능하게 지지하는 롤러지지부(522c)를 포함한다. The roller arm 522 is connected to the
전술한 제2 실시 예와 유사하게, 본 실시 예에 따른 밸브접지유닛(500)의 조립 시 밸브블럭(210)과 밸브챔버(100) 사이의 간격에 맞게 커넥팅로드(522b)의 길이를 결정하여 스프링이 미리 결정된 길이만큼 압축된 상태를 유지하도록 한다. 이러한 압축된 스프링의 탄성 복원력이 접촉롤러(510)를 밸브챔버(100) 내측벽(110) 방향으로 가압하는 가압력으로 작용하게 된다. The length of the connecting rod 522b is determined according to the interval between the
이와 같이, 본 실시 예에 의하면, 밸브접지유닛의 구성을 단순화 할 수 있으며, 밸브블럭과의 조립 및 분해가 간단해 추후 유지 보수가 용이한 장점이 있다.As described above, according to the present embodiment, the configuration of the valve grounding unit can be simplified, and assembly and disassembly with the valve block is simple, and maintenance and repair are easy afterwards.
이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Accordingly, such modifications or variations are intended to fall within the scope of the appended claims.
10 : 공정챔버 20 : 슬릿 밸브
100 : 밸브챔버 200 : 슬릿개폐유닛
210 : 밸브블럭 220 : 밸브블레이드
230 : 가압 실린더 300 : 밸브접지유닛
310 : 제1 전도부 311 : 접촉롤러
312 : 지지블럭 312a : 결합플레이트
312b : 지지플레이트 320 : 제2 전도부
410 : 가압부 411 : 연결핀
411a : 헤드부 411b : 몸체부
411c : 나사산부 412 : 탄성부재
520 : 롤러지지 가압부 521 : 하우징
522 : 롤러아암 522a : 가압플레이트
522b : 커넥팅로드 522c : 롤러지지부10: process chamber 20: slit valve
100: valve chamber 200: slit opening / closing unit
210: valve block 220: valve blade
230: pressure cylinder 300: valve grounding unit
310: first conductive portion 311: contact roller
312:
312b: support plate 320: second conductive portion
410: pressing portion 411: connecting pin
411a:
411c: threaded portion 412: elastic member
520: roller support pressing portion 521: housing
522:
522b: connecting
Claims (16)
상기 밸브챔버의 내부에서 상하로 구동되어 상기 슬릿을 선택적으로 개폐하는 슬릿개폐유닛; 및
상기 슬릿개폐유닛을 상기 밸브챔버에 접지시키는 밸브접지유닛을 포함하며,
상기 슬릿개폐유닛은,
상기 밸브챔버 내에서 상하로 구동되는 밸브블럭; 및
상기 밸브블럭에 수평 이동가능하게 결합되어 상기 슬릿과 연통되는 상기 밸브챔버의 개구부를 폐쇄하는 밸브 블레이드를 포함하며,
상기 밸브접지유닛은,
상기 슬릿개폐유닛에 마련되는 제1 전도부; 및
상기 제1 전도부와 접촉 배치되도록 상기 밸브챔버에 마련되며, 상기 슬릿개폐유닛이 상기 밸브챔버에 대하여 상대 이동 시에도 상기 제1 전도부와 접촉된 상태를 유지하는 제2 전도부를 포함하며,
상기 제1 전도부는,
상기 슬릿개폐유닛이 상하로 이동할 때 상기 제2 전도부의 표면을 따라 구름접촉되는 접촉롤러와, 상기 접촉롤러의 양단부를 회전가능하게 지지하며 상기 밸브블럭에 결합되는 지지블럭을 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 밸브.A valve chamber coupled to one side of a process chamber having a slit through which the substrate enters and exits;
A slit opening / closing unit that is vertically driven in the valve chamber to selectively open and close the slit; And
And a valve grounding unit for grounding the slit opening / closing unit to the valve chamber,
The slit opening /
A valve block vertically driven in the valve chamber; And
And a valve blade horizontally movably coupled to the valve block to close an opening of the valve chamber communicating with the slit,
The valve grounding unit includes:
A first conductive portion provided in the slit opening / closing unit; And
And a second electroconductive portion provided in the valve chamber so as to be in contact with the first electroconductive portion and maintained in contact with the first electroconductive portion even when the slit opening and closing unit is moved relative to the valve chamber,
The first conductive portion includes:
And a support block rotatably supporting both end portions of the contact roller and coupled to the valve block, wherein the contact block includes: Slit valve.
상기 접촉롤러는, 양단부에서 중심부로 갈수록 단면적이 작아져 내측으로 오목한 접촉면을 형성하며,
상기 제2 전도부는,
상기 제2 전도부는, 상기 밸브챔버의 내측벽에 돌출되게 결합되며,
상기 접촉롤러에 접촉 가능하도록 평단면이 아크(arc) 형상으로 마련되는 것을 특징으로 하는 슬릿 밸브. The method according to claim 1,
The contact roller has a smaller cross-sectional area from both ends to the center, forming an inwardly concave contact surface,
The second conductive portion includes:
The second conductive portion is protrudingly coupled to an inner wall of the valve chamber,
And a flat section is provided in an arc shape so as to be able to contact the contact roller.
상기 지지블럭은,
상기 밸브블럭에 결합되는 결합플레이트; 및
상기 결합플레이트의 양단부에서 절곡 연장되어 상기 접촉롤러의 양단부를 회전가능하게 지지하는 지지플레이트을 포함하는 슬릿 밸브.The method according to claim 1,
The support block includes:
A coupling plate coupled to the valve block; And
And a support plate extending and bending at both ends of the coupling plate to rotatably support both end portions of the contact roller.
상기 제1 전도부 및 상기 제2 전도부 중 적어도 어느 하나를 서로 접촉되는 방향으로 가압하는 가압부를 더 포함하는 슬릿 밸브.The method according to claim 6,
Further comprising a pressing portion for pressing at least one of the first conductive portion and the second conductive portion in a direction in which the first conductive portion and the second conductive portion are in contact with each other.
상기 가압부는,
상기 지지블럭이 상대 이동가능하도록 상기 결합플레이트를 관통하여 상기 밸브블럭에 결합되는 연결핀; 및
상기 결합플레이트와 상기 밸브블럭 사이에 배치되어 상기 지지블럭을 상기 제2 전도부에 대하여 탄성바이어스하는 탄성부재를 포함하는 슬릿 밸브.8. The method of claim 7,
The pressing portion
A connection pin penetrating through the coupling plate and coupled to the valve block such that the supporting block is relatively movable; And
And an elastic member disposed between the coupling plate and the valve block and elastically biasing the support block against the second conductive portion.
상기 연결핀은,
미리 결정된 직경을 갖는 헤드부;
상기 헤드부와 연결되고, 상기 헤드부 보다 작은 직경을 가지는 몸체부; 및
상기 몸체부에 구비되며, 상기 몸체부의 말단부에서 상기 헤드부 방향으로 미리 결정된 길이만큼 형성되는 나사산부를 포함하는 슬릿 밸브.9. The method of claim 8,
The connecting pin
A head portion having a predetermined diameter;
A body portion connected to the head portion and having a smaller diameter than the head portion; And
And a threaded portion provided on the body portion and formed by a predetermined length in a direction from the distal end of the body portion toward the head portion.
상기 결합플레이트에는, 상기 연결핀이 관통되는 가이드 홀이 형성되며,
상기 밸브블럭에는 상기 나사산부와 나사결합되는 나사홈이 형성되는 것을 특징으로 하는 슬릿 밸브.10. The method of claim 9,
The coupling plate has a guide hole through which the connection pin passes,
Wherein the valve block is formed with a thread groove to be screwed with the threaded portion.
상기 탄성부재는,
상기 연결핀에 삽입되되, 일단부가 상기 결합플레이트에 지지되고 타단부는 상기 밸브블럭에 지지되는 스프링(spring)을 포함하는 슬릿 밸브.11. The method of claim 10,
The elastic member
And a spring inserted into the connection pin, one end of which is supported by the coupling plate and the other end is supported by the valve block.
상기 밸브접지유닛은,
상기 밸브챔버의 코너영역에 각각 하나씩 마련되는 것을 특징으로 하는 슬릿 밸브.The method of claim 11, wherein
The valve grounding unit includes:
And one in each corner area of the valve chamber.
상기 접촉롤러는 전도성 고무재질로 마련되며, 상기 제2 전도부는 구리(Cu)재질로 마련되는 것을 특징으로 하는 슬릿 밸브.The method according to claim 1,
Wherein the contact roller is made of a conductive rubber material, and the second conductive portion is made of copper (Cu).
상기 제2 전도부는 상기 밸브챔버의 내측벽이며,
상기 지지블럭은 상기 접촉롤러를 탄성적으로 가압하면서 상기 접촉롤러를 지지하는 롤러지지 가압부인 것을 특징으로 하는 슬릿 밸스. The method according to claim 1,
The second conductive portion is an inner wall of the valve chamber,
Wherein the support block is a roller support pressing portion for supporting the contact roller while elastically pressing the contact roller.
상기 롤러지지 가압부는,
중공형상으로 마련되고 상기 밸브블럭에 결합되는 하우징;
상기 접촉롤러를 회전가능하게 지지하며 상기 하우징을 관통하여 상기 하우징에 대하여 상대이동 가능하게 연결되는 롤러아암; 및
상기 하우징 내부에 개재되고 상기 롤러아암을 상기 밸브챔버의 내측벽 방향으로 탄성바이어스하는 탄성부재를 포함하는 슬릿 밸브.15. The method of claim 14,
Wherein the roller-
A housing provided in a hollow shape and coupled to the valve block;
A roller arm rotatably supporting the contact roller and connected to the housing so as to be movable relative to the housing; And
And an elastic member interposed in the housing and biasing the roller arm in an inner wall direction of the valve chamber.
상기 롤러아암은 상기 하우징 내에서 상기 탄성부재의 탄성 복원력에 의해 상기 하우징에 대해 상대 이동되는 가압플레이트;
상기 가압플레이트에 연결되고 상기 하우징 외측으로 연장되는 커넥팅로드; 및
상기 커넥팅로드에 연결되고 상기 접촉롤러를 회전가능하게 지지하는 롤러지지부를 포함하는 슬릿 밸브. 16. The method of claim 15,
Wherein the roller arm is a pressing plate that is relatively moved with respect to the housing by an elastic restoring force of the elastic member in the housing;
A connecting rod connected to the pressing plate and extending outside the housing; And
And a roller support connected to the connecting rod and rotatably supporting the contact roller.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
KR1020120100245A KR101436897B1 (en) | 2012-09-11 | 2012-09-11 | Slit valve |
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Citations (3)
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---|---|---|---|---|
KR20070003541A (en) * | 2005-07-01 | 2007-01-05 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | Chamber isolation valve rf grounding |
KR100920427B1 (en) * | 2006-03-03 | 2009-10-08 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | Apparatus for processing substrate with plasma |
KR101020160B1 (en) * | 2006-03-03 | 2011-03-09 | 엘아이지에이디피 주식회사 | Apparatus for processing substrate with plasma |
-
2012
- 2012-09-11 KR KR1020120100245A patent/KR101436897B1/en not_active IP Right Cessation
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KR20070003541A (en) * | 2005-07-01 | 2007-01-05 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | Chamber isolation valve rf grounding |
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