KR101420779B1 - By way of drum rotation portion of the connector pin electroplating unit - Google Patents
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Abstract
본 발명은 커넥터핀과 같은 피도금체의 원하는 부위만을 선택적으로 도금할 수 있는 부분 전기 도금장치에 관한 것이다.
이를 위한 일 실시예로서, 내부에 도금액 공급관이 구비되고, 상부 외주면에는 베어링이 구비되어 있는 원통형 고정몸체와; 상기 고정몸체에 형성되며, 내부에는 상기 도금액 공급관과 연결되는 도금액 수용부가 구비되고, 외주면에는 도금액 분사공이 형성된 도금액 분사블럭과; 상기 고정몸체를 중심으로 회전되며, 지지부가 구비된 드럼마스크홀더와; 고정몸체의 상단과 연결되어 도금액 수용부에 양극전류를 인가하기 위한 커버부재; 및 상기 드럼마스크홀더와 함께 회전되며, 외주면에는 도금액 노즐공이 형성되고, 외주면 하부에는 위치결정핀이 형성된 드럼마스크;를 포함한다.
이에 따르면 연속적으로 이송되는 피도금체의 원하는 부위를 정확하고 신속하면서 안정적으로 도금을 할 수 있으며, 피도금체의 한쪽면 또는 양쪽면을 순차적으로 도금할 수도 있고, 피도금체의 양쪽면을 서로 다르게 도금할 수도 있어 도금작업을 다양하면서 효율적으로 수행할 수 있도록 한 것이다.The present invention relates to a partial electroplating apparatus capable of selectively plating only a desired portion of an object to be plated, such as a connector pin.
For example, a cylindrical fixing body having a plating liquid supply pipe therein and a bearing on an outer circumferential surface thereof; A plating solution injection block formed on the fixed body and having a plating solution receiving portion connected to the plating solution supply pipe and having a plating solution injection hole formed on an outer circumference thereof; A drum mask holder rotated about the fixed body and having a support part; A cover member connected to the upper end of the fixed body to apply a positive current to the plating liquid accommodating portion; And a drum mask rotated together with the drum mask holder, wherein a plating solution nozzle hole is formed on an outer circumferential surface and a positioning pin is formed on an outer circumferential surface of the drum mask.
According to this, it is possible to precisely and quickly and stably perform plating of a desired portion of the plated object to be continuously transferred, and it is also possible to sequentially coat one surface or both surfaces of the plated body, So that the plating operation can be performed variously and efficiently.
Description
본 발명은 커넥터핀의 필요한 부위를 선택적으로 도금하기 위한 전기 도금장치에 관한 것으로서, 더욱 상세히는 연속적으로 이송되는 피도금체의 필요한 부위만을 정확하면서 신속하고 안정되게 도금할 수 있도록 한 드럼 회전방식을 이용한 커넥터핀의 부분 전기 도금장치에 관한 것이다.
The present invention relates to an electroplating apparatus for selectively plating a necessary portion of a connector pin, and more particularly, to an electroplating apparatus capable of accurately and rapidly and stably plating only a necessary portion of a continuously-transferred plated body And more particularly to a partial electroplating apparatus using a connector pin.
일반적으로 도금은 금속이나 비금속 표면에 이질의 금속을 사용하여 피막을 만들어 주는 기술로서, 처리방법에 따라 전기도금, 화학도금, 용융도금, 진공도금, 침투도금, 이온도금 등으로 나눌 수 있으며, 도금의 목적에 따라 장식도금, 방식도금, 장식/방식용 도금, 공업용도금 등으로 구분된다.In general, plating is a technique for forming a film by using a metal having a different metal on a surface of a metal or a non-metal, and can be divided into electroplating, chemical plating, hot dip coating, vacuum plating, Decorative plating, decorative plating, decoration plating, and industrial plating according to the purpose of the present invention.
여기서 전기도금은 전기분해의 원리를 이용하여 표면에 금속이온을 환원 석출시켜 얇은 피막을 입히는 표면처리 방법으로 도금시키려는 금속의 염류를 주성분으로 하는 수용액인 전해용액인 도금용액속에 도금할 물체를 음극과 연결하고 다른 금속에 양극을 직류로 연결하여 통전시켜 용해액내의 용해된 금속이 제품 표면에 금속 피막으로 입혀지는 방식이다.Electroplating is a surface treatment method in which metal ions are reduced and deposited on the surface using the principle of electrolysis, and the surface to be plated is coated with a plating solution, which is an electrolytic solution, And the anode is connected to the other metal by a direct current, and the molten metal in the solution is coated with the metal film on the surface of the product.
한편, 전기 및 전자 접속용으로 사용되는 커넥터 등에 설치되는 접속단자인 핀 또는 리드의 경우 1차적으로 니켈(Ni) 도금을 하여 금속층을 형성한 후 전기 전도율을 높이기 위하여 그 니켈 도금층에 2차로 금(Au)을 도금을 하게 된다.On the other hand, in the case of a pin or a lead which is a connection terminal to be used for a connector used for electrical and electronic connection, nickel (Ni) plating is firstly performed to form a metal layer, and then, Au) is plated.
이렇게 도금된 핀 또는 리드(이하 "피도금체" 이라 통칭함)에 합성수지가 압출 성형되어 규정된 형태의 커넥터가 제조되며, 이 커넥터는 PCB기판 등에 표면 실장 기술(SMT:Surface Mount Technology)을 적용하여 납땜 등으로 고정된다.A synthetic connector is manufactured by extruding a synthetic resin into a plated pin or lead (hereinafter, referred to as a "plated body"), and this connector is mounted on a PCB or the like using surface mount technology (SMT) And fixed by soldering or the like.
이때 피도금체에 전체적으로 금도금이 이루어진 경우 솔더링(soldering) 작업시 솔더가 이 접속 단자 전체에 번지게 되어 커넥터의 불량을 발생시키는 문제점으로 작용한다.At this time, if the plated body is entirely plated with gold, the solder is spread over the entirety of the connection terminals during the soldering operation, thereby causing defective connector.
또한 피도금체에 전체적으로 금도금을 하게 되면 고가의 금 사용량이 증가하여 생산비용이 증가하고 접속단자의 단가를 낮추기 힘든 문제점이 있었다.In addition, if the plated body is plated with gold as a whole, the amount of expensive gold used increases, which increases the production cost and makes it difficult to lower the unit cost of the connection terminal.
이에 따라 피도금체의 필요한 부위만을 선택적으로 도금할 수 있는 방법이 필요하게 되며, 그러한 부분 도금 방법으로는 부분침적 방식, 마스킹 방식, 브러쉬 방식, 제트분사 방식 등의 방법이 있다.Accordingly, there is a need for a method capable of selectively plating only a necessary portion of a plated body. Partial deposition methods, masking methods, brush methods, and jet injection methods are available for such partial plating methods.
여기서 상기 부분침적 방식은 피도금체를 도금액에 부분적으로 침지하여 원하는 부위만을 도금하는 방식으로 가장 간단한 방식이며, 정밀한 도금이 어려워 도금 영역 선택에 제한이 따른다.Here, the partial deposition method is the simplest method in which only a desired portion is plated by partially immersing a plated body in a plating solution, and it is difficult to precisely deposit the plating portion, thereby limiting the selection of a plating region.
그리고 마스킹 방식은 피도금체의 도금이 필요없는 부위에 대해 마스킹 테이프와 같은 것을 부착하여 도금을 하는 방법으로 이는 마스킹 테이프와 같은 별도의 장치를 구비함에 따라 비용의 소모가 많고, 탈착하는 번거로움이 있으며, 마스킹 테이프 안쪽으로 도금액이 스며들어 정밀한 도금이 어렵고 굽힘 가공 등으로 인한 3차원 형태의 제품들에 적용하기 힘든 단점이 있다.In the masking method, plating is performed by attaching a masking tape or the like to a portion which is not required to be plated of the plated body, which is expensive due to the provision of a separate device such as a masking tape, And the plating solution penetrates into the inside of the masking tape, so that it is difficult to apply to the three-dimensional products due to the difficulty of precise plating and the bending process.
또한 브러쉬 방식은 브러쉬에 도금액을 묻힌 후 피도금재의 원하는 부위에 브러쉬를 접촉시켜 도금하는 방법으로 이는 고속 도금에 적용하기 어려우며, 작업성 또한 용이하지 못하고, 브러쉬와 피도금체의 접촉에 따라 피도금체가 변형될 수 있는 단점을 가지고 있다.In addition, the brush method is a method in which a plating liquid is applied to a brush and then a brush is brought into contact with a desired portion of the plated material, which is difficult to apply to high-speed plating, and workability is not easy, and depending on the contact between the brush and the plated body, The body can be deformed.
그리고 제트분사 방식은 노즐을 통해 도금액을 고속으로 분사시켜 도금이 필요한 부위에만 도금액을 노출시키는 방법으로 마스킹이나 이에 상응하는 차폐물과 더불어 사용하기도 하며, 부분도금 효과를 상승시키기 위해 펄스 전원으로부터 교대로 전류를 피도금체에 통전함으로써 도금을 하기도 한다. In addition, the jet spraying method is a method of exposing a plating solution to only a portion where plating is required by spraying a plating solution at a high speed through a nozzle, and is used in combination with masking or a corresponding shielding. In order to increase the partial plating effect, Plating may be performed by energizing the plated body.
그러나 제트분사 방식은 제트분사를 위한 장치 및 펄스 전원장치 등의 각종 설비를 필요로 하여 설비 비용이 높아진다는 단점이 있으며, 제트분사의 제어를 위한 센서장치 등의 부대 장치 비용이 많이 소모되는 단점이 있다.However, the jet injection method requires a variety of equipment such as a device for jet injection and a pulse power supply device, which increases the cost of the device, and a disadvantage that the cost of an additional device such as a sensor device for controlling the jet injection is increased have.
한편 이러한 부분 도금장치로서, 국내 공개특허 2003-0021514호 "리드프레임 도금장치"를 통해 이미 제안된 바 있으며, 상기 리드프레임 도금장치의 구성을 보면, 외부케이스와; 상기 외부케이스의 상부에 설치되며 리드프레임의 도금될 위치에 대응되게 패턴공들이 형성된 마스크와; 도금액을 공급하는 공급관이 구비된 내부 케이스와; 상기 마스크의 패턴공들에 대응되고 내부케이스와 연통되는 플레이트와; 마스크측으로 돌출되며 도전성을 가진 노즐이 구비된 노즐유닛과; 마스크 상부면에 위치되는 리드프레임을 마스크쪽으로 가압하는 프레스부;로 구성된 것임을 알 수 있다.On the other hand, this partial plating apparatus has already been proposed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 2003-0021514, "Lead frame plating apparatus ", and the configuration of the lead frame plating apparatus includes an outer case; A mask provided on an upper portion of the outer case and having pattern holes corresponding to a position to be plated of the lead frame; An inner case having a supply pipe for supplying a plating solution; A plate corresponding to the pattern holes of the mask and communicating with the inner case; A nozzle unit protruding toward the mask side and having a conductive nozzle; And a press section for pressing the lead frame positioned on the upper surface of the mask toward the mask.
그러나 상기와 같은 부분 도금장치는 마스크상에 올려져 프레스부에 가압되면서 이동되는 피도금체인 리드프레임이 미세하게 유동됨에 따라 리드프레임의 원하는 부위를 정확히 도금하기 어려운 문제점이 있었으며, 아울러 마스크와 리드프레임 사이에 도금액이 스며들면서 리드프레임의 도금품질이 저하되는 문제점이 있었다.
However, the above-mentioned partial plating apparatus has a problem in that it is difficult to precisely coat a desired portion of the lead frame as the lead frame, which is the plated lead, is moved while being pressed on the mask by being pressed on the mask, There is a problem that the plating quality of the lead frame deteriorates.
따라서 본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로, 도금하고자 하는 피도금체의 유동을 방지하고, 도금부위를 정확하게 안내하여 도금품질을 향상시키며, 피도금체를 효과적이면서 안정적으로 반송시킬 수 있으며, 피도금체의 한면 또는 양면 또는 양면의 서로 다른 부위를 용이하게 도금할 수 있어 도금작업의 효율성을 향상시킬 수 있도록 한 드럼 회전방식을 이용한 커넥터핀의 부분 전기 도금장치와 관련된다.
Accordingly, the present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a plating apparatus capable of preventing the flow of a plated body to be plated, guiding the plated part accurately, improving plating quality, And it relates to a partial electroplating apparatus for a connector pin using a drum rotation method in which plating can easily be performed on one side or both sides or both sides of a plated body.
본 발명의 바람직한 일 실시예에 의하면, 가이드로울러에 의해 안내를 받으면서 이송로울러에 의해 연속적으로 반송되며, 음극전류가 인가되고, 하부에 핀공이 구비된 스트립형상의 피도금체를 부분적으로 도금하기 위한 전기 도금장치에 있어서,According to a preferred embodiment of the present invention, there is provided a method for partially plating a strip-shaped plated body, which is continuously conveyed by a feed roller while being guided by a guide roller, and to which a cathode current is applied, In the electroplating apparatus,
베이스 상면에 고정되며, 내부에는 도금액 공급관이 구비되고, 상부 외주면에는 베어링이 구비되어 있는 원통형 고정몸체와; A cylindrical fixed body fixed to the upper surface of the base, having a plating liquid supply pipe provided therein and having a bearing on its upper peripheral surface;
상기 고정몸체의 중앙부에 링형상으로 형성되며, 내부에는 상기 도금액 공급관과 연결되는 도금액 수용부가 구비되고, 외주면에는 상기 도금액 수용부에서 외부로 관통되는 도금액 분사공이 원주방향을 따라 일정한 간격으로 형성된 도금액 분사블럭과;A plurality of plating liquid injecting holes formed on the outer circumferential surface of the plating liquid injecting hole and extending outwardly from the plating liquid receiving portion are formed at regular intervals along the circumferential direction, A block;
상기 고정몸체의 상부에 설치된 베어링에 고정되어 고정몸체를 중심으로 회전되며, 지지부가 구비된 드럼마스크홀더와;A drum mask holder fixed to a bearing provided on an upper portion of the fixed body and rotated about a fixed body and having a support portion;
상기 드럼마스크홀더의 상면에 위치되면서 고정몸체의 상단과 연결되어 도금액 수용부에 양극전류를 인가하기 위한 커버부재; 및 A cover member disposed on an upper surface of the drum mask holder and connected to an upper end of the fixing body to apply a positive current to the plating solution accommodating portion; And
상기 도금액 분사블럭을 감싸는 형태로 지지부에 올려져 고정되어 드럼마스크홀더와 함께 회전되며, 외주면에는 상기 도금액 분사공과 일치되도록 도금액 노즐공이 형성되고, 외주면 하부에는 피도금체의 핀공이 끼워질 수 있도록 위치결정핀이 형성된 드럼마스크;로 구성된 것과 관련된다.A plating solution nozzle hole is formed on an outer circumferential surface of the plating solution nozzle so as to coincide with the plating solution injection hole, and a pin hole of the plating member is inserted in a lower portion of the outer circumference of the plating solution nozzle hole, And a drum mask having a crystal pin formed therein.
바람직하게는 상기 드럼마스크의 외주면 하부 끝단에 피도금체를 지지해줄 수 있도록 안착면이 구비된 가이드부를 형성하여 된 것과 관련된다.Preferably, a guide portion having a seating surface is formed on the lower end of the outer peripheral surface of the drum mask so as to support the plating body.
더욱 바람직하게는 상기 피도금체가 접면되는 드럼마스크에 밀착부재를 설치하여 된 것과 관련된다.More preferably, the contact member is provided in a drum mask on which the plated body is contacted.
더욱 바람직하게는 상기 드럼마스크의 도금액 분사공 상측과 하측에 끼움홈을 형성하고, 밀착부재를 상기 끼움홈에 설치하되 상기 밀착부재는 도금액 분사공의 표면과 단차를 이루면서 서로 동일한 높이가 되도록 돌출시켜 형성한 것과 관련된다.More preferably, a fitting groove is formed in the upper and lower sides of the plating liquid spray hole of the drum mask, and a contact member is provided in the fitting groove, the contact member being protruded so as to have the same height as that of the surface of the plating liquid spray hole .
더욱 바람직하게는 상기 밀착부재는 실리콘인 것과 관련된다.More preferably, the adhesion member is associated with silicon.
더욱 바람직하게는 상기 드럼마스크에 내주면의 일부구간 또는 전체구간에 선택적으로 결합되어 도금액 분사공을 차단시킬 수 있도록 차단판을 구성하여 된 것과 관련된다.
More preferably, the drum mask is selectively coupled to a part or whole of the inner circumferential surface to constitute a blocking plate so as to block the plating liquid injection hole.
본 발명은 전기 도금장치를 이용하여 연속적으로 이송되는 피도금체의 원하는 부위를 정확하면서 신속하게 도금처리할 수 있어 도금작업의 효율성을 향상시킴과 동시에 불필요한 도금액의 낭비를 줄일 수 있으며, 도금의 품질을 향상시킬 수 있고, 필요에 따라 피도금체의 한쪽면 또는 양쪽면을 순차적으로 도금할 수도 있으며, 도금장치의 구성을 달리하여 피도금체의 양쪽면을 서로 다르게 도금할 수도 있어 도금작업의 효율성을 향상시킬 수 있도록 한 것이다.
The present invention can accurately and rapidly perform a plating process on a desired portion of a plated object continuously transferred using an electroplating apparatus, thereby improving efficiency of a plating operation and reducing unnecessary waste of a plating liquid, And it is also possible to sequentially coat one surface or both surfaces of the plated body to be plated according to need, and it is possible to coat the both surfaces of the plated body differently from each other with different configurations of the plating apparatus, And the like.
도 1 은 본 발명의 일 실시예에 의해 전기 도금장치의 설치상태를 예시한 사시도를 나타낸다.
도 2 는 본 발명의 일 실시예에 의해 전기 도금장치의 구성을 예시한 분리 사시도를 나타낸다.
도 3 은 본 발명의 일 실시예에 의해 전기 도금장치의 구성을 예시한 요부 단면도를 나타낸다.
도 4 는 본 발명의 다른 실시예에 의해 전기 도금장치의 구성을 예시한 요부 확대 단면도를 나타낸다.
도 5 는 본 발명의 또 다른 실시예에 의해 전기 도금장치의 구성을 예시한요부 확대 단면도를 나타낸다.
도 6 은 본 발명의 일 실시예에 의해 피도금체의 이송과정 예시한 개략 구성도를 나타낸다.
도 7a 와 7b 는 본 발명의 또 다른 실시예에 따라 피도금체의 이송과정을 통해 피도금체의 양면에 형성되는 도금층을 예시한 요부 단면도를 나타낸다.
도 8a 와 8b 는 본 발명의 또 다른 실시예에 따라 피도금체의 이송과정을 통해 피도금체의 양면에 형성되는 도금층을 예시한 요부 단면도를 나타낸다.1 is a perspective view illustrating an installation state of an electroplating apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is an exploded perspective view illustrating the configuration of an electroplating apparatus according to an embodiment of the present invention.
Fig. 3 shows a cross-sectional view of a principal portion illustrating the configuration of an electroplating apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is an enlarged cross-sectional view showing a main portion illustrating a configuration of an electroplating apparatus according to another embodiment of the present invention.
5 is an enlarged cross-sectional view showing a main portion illustrating a configuration of an electroplating apparatus according to still another embodiment of the present invention.
6 is a schematic diagram illustrating a process of transferring a plated body according to an embodiment of the present invention.
7A and 7B are cross-sectional views illustrating a plating layer formed on both surfaces of a plated body through a transfer process of a plated body according to another embodiment of the present invention.
8A and 8B are cross-sectional views illustrating a plating layer formed on both surfaces of a plated body through a transfer process of a plated body according to another embodiment of the present invention.
이하 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 토대로 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
이는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세하게 설명하기 위한 것이며, 이로 인해 본 발명의 기술적인 사상 및 범주가 한정되는 것을 의미하지는 않는다.It will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and detail may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.
또한, 도면에 도시된 구성요소의 크기나 형상 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시될 수 있으며, 본 발명의 구성 및 작용을 고려하여 특별히 정의된 용어들은 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있고, 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 한다.In addition, the sizes and shapes of the components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of explanation, and the terms defined specifically in consideration of the configuration and operation of the present invention may vary depending on the intention or custom of the user, operator And the definitions of these terms should be based on the contents throughout this specification.
우선, 도 1 은 본 발명에 일 실시예에 따라 전기 도금장치의 설치상태를 예시한 사시도이고, 도 2 는 본 발명의 일 실시예에 따라 전기 도금장치의 구성을 보인 요부 분리 사시도이며, 도 3 은 본 발명의 일 실시예에 따라 전기 도금장치의 구성을 예시한 요부 단면도로서, 이러한 도면을 통해 본 발명의 일 실시예에 따른 전기 도금장치를 살펴보면 다음과 같다.1 is a perspective view illustrating an installation state of an electroplating apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing a configuration of an electroplating apparatus according to an embodiment of the present invention, Sectional view illustrating a configuration of an electroplating apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to these drawings, an electroplating apparatus according to an embodiment of the present invention will be described as follows.
고정몸체(100)는 고정체로서 원통형으로 구성되어 베이스(120) 상면에 세워져 고정되며, 내부의 중심부에는 수직 상방으로 도금액 공급관(110)이 형성되어 도면에 도시는 되지 않았지만 베이스(120) 하부의 가압 순환 펌프 및 배관 등으로 구성된 도금액 탱크로부터 도금액이 연속적으로 공급되는 것이다.The
그리고 사용된 도금액을 회수하는 장치 및 상기 장치에 의해 회수된 도금액을 다시 도금액 탱크로 이동시키기 위한 수단도 함께 구비됨에 따라 도금액이 연속적으로 순환될 수 있게 구성된 것이다.
The apparatus also includes a device for recovering the used plating solution and a means for moving the plating solution recovered by the apparatus back to the plating solution tank so that the plating solution can be circulated continuously.
고정몸체(100)와 함께 고정체인 도금액 분사블럭(200)은 상기 고정몸체(100)의 중앙부에 고정몸체(100)의 직경보다 큰 직경을 가지는 원반형상으로 형성된 것인데, 상기 도금액 분사블럭(200)의 내부에는 고정몸체(100)의 도금액 공급관(110)과 연결되어 도금액 공급관(110)으로부터 공급된 도금액이 수용될 수 있도록 일정한 공간을 가지는 도금액 수용부(210)가 형성되어 있다.The plating
도금액 분사블럭(200)의 외주면에는 그 외주면을 따라 균일한 간격으로 다수개의 도금액 분사공(220)이 동일선상에 하나의 라인을 이루며 형성되므로 일정한 압력을 가지는 도금액이 고정몸체(100)의 도금액 공급관(110)을 거쳐 도금액 수용부(210)로 이동된 후 도금액 분사공(220)을 통해 외부로 분사되도록 구성된 것이다.A plurality of plating
도금액 분사공(220)의 직경은 피도금체(600)의 크기 및 도금이 필요한 부위의 면적 등에 달라질 수 있지만 그 직경을 0.15㎜~1.25㎜의 범위 안에서 형성하는 것이 바람직하며, 도금액 분사공(220)의 직경이 0.15㎜ 미만인 경우에는 도금액 분사공(220) 내부의 유로 저항이 커지게 되면서 그만큼 압력의 설정치를 높여주어야 하므로 제작이나 기술의 곤란성 및 비용의 증가라는 단점이 있고, 도금액 분사공(220)의 직경이 1.25㎜ 이상인 경우에는 분사되는 도금액의 직진성이 떨어지게 되면서 정확한 분사가 어려워 도금의 정밀도가 떨어지는 단점이 있다.The diameter of the plating
도금액 분사공(220)의 직경과 함께 도금액 분사공(220)의 개수는 도금액 분사블럭(200)의 크기 및 구조에 따라 달라질 수 있지만 100개~200개가 바람직하며, 100개 미만인 경우 도금액의 분사량이 적어 분사 효율성 및 도금 효율성이 떨어지며, 200개 이상인 경우 제작상 측면에서 용이하지 못한 문제점이 있다.The number of the plating
도금액 분사공(220)의 간격은 도금액 분사블럭(200)의 크기 및 구조에 따라 달라지겠지만 간격을 0.15㎜~3.5㎜로 형성하는 것이 바람직하며, 도금액 분사공(220)의 간격이 0.5㎜ 미만인 경우 제작상 어려움이 있고, 도금액 분사공(220)의 간격이 3.5㎜ 이상인 경우 도금액의 분사의 정밀도가 떨어지는 단점이 있다.The gap between the plating
도금액 분사공(220)은 피도금체(600)에 도금 대상부위에 따라 동일선상의 한 라인 또는 서로 이격된 동일선상의 두 라인 또는 그 이상의 이격된 복수 라인으로 구성할 수도 있는데, 동일선상의 두 라인인 경우를 예로 들면 하나의 피도금체(600) 한쪽에는 연결핀의 기능을 위한 도금을 하게 되며, 다른 한쪽에는 표면 실장 기술(SMT)을 위한 도금을 동시에 수행할 수도 있는 것이다.The plating
회전체인 드럼마스크홀더(300)는 고정체인 고정몸체(100)와 도금액 분사블럭(200)과는 달리 고정몸체(100)를 중심으로 회전될 수 있도록 구성되는 것인데, 이를 위해 고정몸체(100)의 상부에는 베어링(130)이 설치되며, 그 베어링(130)에 상기 드럼마스크홀더(300)가 억지끼움방식으로 고정된 것이다.Unlike the
드럼마스크홀더(300)의 하부에는 원판형태의 지지부(310)가 형성되어 있으며, 상기 지지부(310) 또한 드럼마스크홀더(300)와 함께 고정몸체(100)를 중심으로 회전된다.A disk-
고정체인 커버부재(400)는 드럼마스크홀더(300)의 상면에 위치된 상태에서 고정몸체(100)의 상단에 체결됨에 따라 드럼마스크홀더(300)의 회전과 관계없이 고정몸체(100)와 함께 고정된 상태를 유지하게 되고, 상기 커버부재(400)의 상면 한쪽에는 전류공급장치(도면중 미도시)와 연결되어 양극전류가 커버부재(400)로 인가될 수 있도록 구성된 것이며, 커버부재(400)로 인가된 양극전류는 같은 도전체인 고정몸체(100)를 거쳐 도전체인 도금액 분사블럭(200)에 인가됨에 따라 도금액 분사블럭(200)의 도금액 수용부(210)에 수용되는 도금액이 양극전류를 가지게 되는 것이다.The fixing
회전체인 드럼마스크(500)는 도금액 분사블럭(200)을 감싸도록 하부만 개방된 원통형으로 구성되며, 상면은 드럼마스크홀더(300)에 관통되어 끼워져 지지부(310) 상면과 고정볼트(311)로 고정됨에 따라 드럼마스크홀더(300)와 함께 드럼마스크(500)가 고정몸체(100)를 중심으로 회전될 수 있는 것이다.The upper surface of the
이는 드럼마스크(500)의 변형 및 손상 등에 의해 교체할 필요성이 있는 경우나 피도금체(600)의 도금부위에 따라 일정한 간격을 가지는 다수개 도금액 노즐공(510)이 드럼마스크(500)의 외측둘레를 따라 동일선상으로 하나의 라인 또는 두개 또는 그 이상의 개수를 가지는 라인으로 구성될 수도 있으므로 필요에 따라 라인의 개수가 다르게 구성된 드럼마스크(500)를 선택하여 교체할 필요가 있는 것이다.This is because it is necessary to replace the
따라서 드럼마스크(500)와 드럼마스크홀더(300)가 일체로 구성될 경우 드럼마스크(500)를 교체하기 위해서는 고정몸체(100)와 베어링(130)에 의해 고정되어 있는 드럼마스크홀더(300)까지 함께 교체해야 하므로 교체작업이 복잡하고 용이하지 못한 문제점이 발생한다.Therefore, in order to replace the
그러므로 드럼마스크홀더(300)와 드럼마스크(500)를 별도로 구성하고 드럼마스크(500)에 체결공(540)을 형성하여 고정볼트(311)에 의해 고정될 수 있도록 구성함에 따라 드럼마스크(500)의 교체를 용이하게 할 수 있도록 한 것이다.Therefore, the
드럼마스크(500)의 외주면에는 도금액 분사블럭(200)에 형성된 도금액 분사공(220)과 일직선 상태가 되도록 도금액 노즐공(510)이 형성됨에 따라 도금액 분사블럭(200)의 도금액 분사공(220)에서 분사된 도금액이 드럼마스크(500)의 도금액 노즐공(510)을 거쳐 드럼마스크(500)의 외측으로 분사될 수 있도록 한 것이다.A plating
한편, 전류공급장치와 연결되어 음극전류가 인가되는 도금체(600)는 다수개의 동일한 단위체가 일정한 간격으로 서로 연결되어 스트립형상을 이루고 있으며, 도금체(600)의 하단에는 일정한 간격을 유지하며 핀공(610)이 연속적으로 형성된 것이다.A plurality of the same unit bodies are connected to each other at regular intervals to form a strip shape. The
드럼마스크(500)의 외주면 하부에는 위치결정핀(522)을 형성하므로서 드럼마스크(500)의 외주면에 접면되는 피도금체(600)의 핀공(610)이 상기 위치결정핀(522)에 끼워짐에 따라 피도금체(600)의 이송에 의해 드럼마스크(500)가 함께 회전될 수 있도록 한 것이다.The
이때 위치결정핀(522)은 박리액 노즐공(510)의 간격과 동일하게 구성할 수도 있지만 상기 박리액 노즐공(510)의 간격보다 큰 간격으로 배열해도 무방한 것이다.At this time, the positioning pins 522 may be the same as the spacing of the peeling liquid nozzle holes 510, but may be arranged at intervals larger than the spacing of the peeling liquid nozzle holes 510.
따라서 상기 위치결정핀(522)은 피도금체(600)의 위치를 잡아주는 역할과 함께 드럼마스크(500)를 회전시켜주는 역할을 동시에 수행하게 되는 것이다.Accordingly, the
상기 드럼마스크(500)의 외주면 하부 끝단에는 안착면(521)이 구비된 가이드부(520)가 형성됨에 따라 위치결정핀(522)의 핀공(610)에 끼워지는 피도금체(600)의 저면이 상기 안착면(521)에 안착되면서 피도금체(600)가 가이드부(520)에 지지되는 상태로 이동되므로 피도금체(600)의 안정적인 이동 및 피도금체(600)의 유동을 방지함에 따라 도금의 정확도를 더욱 높일 수 있는 것이다.A
한편, 도 4 는 본 발명의 다른 실시예에 따른 전기 도금장치의 요부 확대 단면도로서, 피도금체(600)가 드럼마스크(500)의 외주면에 접면되어 드럼마스크(500)를 회전시키면서 이송될 때 드럼마스크(500)에 밀착부재(700)를 설치하므로서 피도금체(600)와 드럼마스크(500)의 밀착력을 높여 도금의 정확도를 더욱 배가시킬 수 있도록 한 것이다.4 is an enlarged cross-sectional view of a main part of an electroplating apparatus according to another embodiment of the present invention. When the object to be plated 600 is conveyed while rotating the
이는 피도금체(600)가 드럼마스크(500)의 외주면에 접면될 때 밀착력이 약할 경우 도금액이 불필요한 부위까지 스며들어 도금액의 낭비는 물론 합선의 원인으로 작용하게 됨에 따라 피도금체(600)와 드럼마스크(500)의 외주면 간의 밀착력을 견고히 할 필요가 있기 때문이다.When the plating
밀착부재(700)의 일예로는 드럼마스크(500)의 도금액 노즐공(510)을 차단하지 않는 범위에서 드럼마스크(500)의 도금액 노즐공(510) 상측과 하측에 드럼마스크(500)의 외주면을 따라 환형으로 일정한 깊이의 끼움홈(530)을 형성하거나, 두개 라인의 도금액 노즐공(510)이 형성된 경우에는 도금액 노즐공(510)의 사이 및 각 라인의 도금액 노즐공(510) 상하에 각각 드럼마스크(500)의 외주면을 따라 환형으로 끼움홈(530)을 형성한 후 상기 끼움홈(530)에 환형의 밀착부재(700)를 각각 설치한 것이다.The
그 설치방법의 예로는 밀착부재(700)를 끼움홈(530)에 억지끼움식이나 접착제를 사용하여 고정시킬 수도 있지만 바람직하게는 인서트사출방식을 이용하여 사출성형할 수도 있는 것이다.As an example of the installation method, the tightening
끼움홈(530)에 설치되는 밀착부재(700)는 도금액 노즐공(510)의 표면보다 미세하게 돌출시켜 도금액 노즐공(510)의 표면과 단차를 이루도록 구성한 것이다.The
또한 각각의 끼움홈(530)에 끼워지는 밀착부재(700)간의 돌출되는 높이가 서로 동일해야만 밀착부재(700)에 피도금체(600)가 밀착되어 도금액의 번짐을 방지하면서 피도금체(600)의 원하는 부위를 정확히 도금할 수 있는 것이다.And the protruding heights of the
밀착부재(700)를 다수개로 구성하지 않고, 한 몸체로 구성하여 드럼마스크(500)의 외주면에 환형으로 설치하되, 밀착부재(700)에는 드럼마스크(500)의 도금액 노즐공(510)과 일치하는 통공(도면중 미도시)을 형성하고, 상기 통공은 도금액 노즐공(510) 보다 크게 형성하는 것이 바람직하다.The
밀착부재(700)의 재질은 피도금체(600)와 밀착력을 가질 수 있는 재질로 구성하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 실리콘 재질로 구성하는 것이 효과적이다.The material of the
한편, 도 5 는 본 발명의 다른 실시예에 따른 전기 도금장치의 요부 확대 단면도로서, 드럼마스크(500)의 내주면에 착탈이 가능한 차단판(800)을 일부의 구간 또는 전체구간에 선택적으로 설치할 수 있도록 구성함에 따라 도금액 분사블럭(200)의 도금액 분사공(220)로부터 분사되는 도금액이 차단판(800)에 의해 드럼마스크(500)의 도금액 노즐공(510)을 통과하지 못하게 되어 피도금체(600)의 선택된 구간 또는 전체 구간의 도금을 차단할 수 있도록 한 것이다.5 is an enlarged cross-sectional view of a main part of an electroplating apparatus according to another embodiment of the present invention. A blocking
드럼마스크(500)의 내주면에 차단판(800)을 착탈이 가능하게 구성함에 있어서 그 착탈수단으로는 돌기(810)에 의한 결합방식을 사용하거나, 드럼마스크(500) 내주면에 접착물질 도포한 후 필요에 따라 차단판(800)을 착탈시킬 수도 있으며, 나사와 같은 체결수단을 이용하여 드럼마스크(500) 내주면에 차단판(800)을 착탈시킬 수도 있는 것이다.When the blocking
차단판(800)의 높이는 조절이 가능하도록 구성함에 따라 드럼마스크(500)에 복수의 라인으로 도금액 노즐공(510)이 형성되어 있을 경우 복수의 라인 중 어느 하나의 라인을 선택적으로 차단할 수도 있는 것이다.The height of the blocking
한편, 피도금체(600)는 스트립형태를 가지며, 이송로울러(920)에 의해 연속적으로 이송됨에 따라 그 이송과정에서 드럼마스크(500)의 외주면을 통과하게 되고, 이때 드럼마스크(500)의 도금액 노즐공(510)에서 분사되는 도금액에 의해 피도금체(600)의 원하는 부위가 도금되는 것이다.The plated
이와 같이 구성된 본 발명의 일 실시예에 따라 피도금체(600)의 일부분이 금으로 도금되는 과정을 도 6 을 참조하여 살펴보면 다음과 같다.Referring to FIG. 6, a process of plating a part of the object to be plated 600 with gold according to an embodiment of the present invention will be described below.
스트립형태의 피도금체(600)는 이송로울러(920) 및 가이드로울러(910)의 안내를 받으면서 전기 도금장치의 드럼마스크(500) 외주면을 접면된 상태로 이송되는 것이다.The strip-shaped plated
이때, 피도금체(600)의 핀공(610)이 드럼마스크(500)의 외주면에 형성된 위치결정핀(522)에 각각 끼워져 있어 피도금체(600)의 이송에 따라 드럼마스크(500)가 고정몸체(100)를 중심으로 회전되는 것이다.In this case, the pin holes 610 of the plated
한편, 상기 피도금체(600)는 음극전류가 흐르고, 양극전류가 인가되는 커버부재(400)와 연결된 도금액 분사블럭(200)에는 양극전류가 흐르게 되면서 도금액 분사블럭(200)의 도금액 수용부(210)를 거쳐 도금액 분사공(220)을 통해 드럼마스크(500)의 도금액 노즐공(510)으로 분사되는 금도금액에 양극전류가 흐르게 되어 산화반응과 환원반응으로 인해 피도금체(600)의 필요한 부위가 금으로 도금이 되는 것이다.The anode current flows through the plating liquid injection block 200 connected to the
피도금체(600)의 이송과정에 있어서, 하나의 전기 도금장치를 사용할 경우 피도금체(600)의 한쪽 면만 도금할 수 있는 것이며, 양쪽면 모두 도금할 필요가 있는 경우에는 전기 도금장치를 2개로 구성하고 피도금체(600)가 가이드로울러(910)의 도움을 받아 2개의 도금장치를 거치도록 하여 피도금체(600)의 양쪽면을 모두 도금할 수 있는 것이다.When one electroplating apparatus is used in the process of transferring the plated
피도금체(600)의 어느 한면에 한 부위만 도금할 경우 도금액 분사블럭(200)에 도금액 분사공(220)을 하나의 라인으로 구성하고, 드럼마스크(500) 또한 상기 도금액 분사공(220)과 일직선을 이루도록 하나의 라인으로 도금액 노즐공(510)을 형성하므로서, 도금액이 피도금체(600)의 한 부위에 도금될 수 있는 것이다. The plating
피도금체(600)의 어느 한면에 서로 이격되는 양 부위를 도금할 경우에는 도금액 분사블럭(200)에 도금액 분사공(220)을 두개의 라인으로 구성하고, 드럼마스크(500) 또한 상기 도금액 분사공(220)과 일직선을 이루도록 두개의 라인으로 도금액 노즐공(510)을 형성하므로서, 도금액이 피도금체(600)의 양쪽 부위를 동시에 도금할 수 있는 것이다.The plating
전기 도금장치가 2개로 세팅된 상태에서 피도금체(600)의 한쪽 면만을 도금해야 하는 경우에는 전기 도금장치중 하나는 그대로 이용하고 나머지 전기 도금장치의 드럼마스크(500)에는 상기에서 언급한 차단판(800)을 설치하게 되면 전기 도금장치의 세팅을 변경하지 않고 피도금체(600)의 원하는 부위만을 간단히 도금할 수도 있는 것이다.When only one surface of the object to be plated 600 needs to be plated in a state where the electroplating apparatus is set to two, one of the electroplating apparatuses is used as it is and the
피도금체(600)의 양면을 서로 다르게 도금하고자 할 경우에는 피도금체(600)가 하나의 전기 도금장치를 거쳐 한쪽 면이 도금된 후 가이드로울러(910)에 의해 방향전환이 된 다음 다른 전기 도금장치를 거치게 되면 반대 면이 도금되는 것이므로 도 7a 와 도 7b 의 실시예와 같이 서로 일치하는 도금액 분사공(220)과 도금액 노즐공(510)을 전기 도금장치마다 다르게 형성하게 되면 피도금체(600)의 양면에 서로 다른 도금층이 형성될 수 있는 것이다.In the case where both sides of the plated
피도금체(600)의 한쪽 면에는 한 개의 도금층을 형성하고, 반대 면에는 두 개의 도금층을 형성하고자 할 경우 도 8a 와 도 8b 의 실시예와 같이 하나의 전기 도금장치에는 도금액 분사공(220)과 및 도금액 노즐공(510)이 동일선상에 위치하는 하나의 라인을 구성하고, 다른 전기 도금장치에는 도금액 분사공(220)과 및 도금액 노즐공(510)이 동일 선상에 위치하는 두개의 라인으로 구성하므로서, 피도금체(600)의 양쪽면에 서로 다른 개수의 도금층을 만들 수도 있는 것이다.When one plated layer is formed on one surface of the plated
이와 같이 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시 예에 관한 설명을 하였으나, 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 안되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
Although the present invention has been described in connection with certain exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. Therefore, the scope of the present invention should not be limited by the described embodiments, but should be defined by the appended claims and equivalents thereof.
100 : 고정몸체 110 : 도금액 공급관
120 : 베이스 130 : 베어링
200 : 도금액 분사블럭 210 : 도금액 수용부
220 : 도금액 분사공 300 : 드럼마스크홀더
310 : 지지부 311 : 고정볼트
400 : 커버부재 500 : 드럼마스크
510 : 도금액 노즐공 520 : 가이드부
521 : 안착면 522 : 위치결정핀
530 : 끼움홈 540 : 체결공
600 : 피도금체 610 : 핀공
700 : 밀착부재 800 : 차단판
910 : 가이드로울러 920 : 이송로울러100: fixed body 110: plating liquid supply pipe
120: base 130: bearing
200: plating liquid ejection block 210: plating liquid receiving portion
220: plating solution spray hole 300: drum mask holder
310: Support part 311: Fixing bolt
400: cover member 500: drum mask
510: plating solution nozzle hole 520: guide part
521: seat surface 522: positioning pin
530: fitting groove 540: fastening hole
600: Plated body 610: Finned hole
700: tight contact member 800: shield plate
910: Guide roller 920: Feed roller
Claims (6)
베이스 상면에 고정되며, 내부에는 도금액 공급관이 구비되고, 상측에는 베어링이 설치된 원통형 고정몸체;
상기 고정몸체의 중앙부에 원반형상으로 형성되며, 내부에는 상기 도금액 공급관과 연결되는 도금액 수용부가 구비되고, 외주면에는 상기 도금액 수용부에서 외부로 관통되는 도금액 분사공이 원주방향을 따라 일정한 간격으로 형성된 도금액 분사블럭;
상기 고정몸체의 상부에 설치된 베어링에 내주면이 고정되어 고정몸체를 중심으로 회전되는 드럼마스크홀더;
상기 드럼마스크홀더의 상면에 위치되면서 고정몸체의 상단과 연결되어 도금액 수용부에 양극전류를 인가하기 위한 커버부재; 및
상기 도금액 분사블럭을 감싸는 형태로 드럼마스크홀더의 하부에 형성되며, 외주면에는 상기 도금액 분사공과 일치되도록 도금액 노즐공이 형성되고, 외주면 하부에는 피도금체의 핀공이 끼워질 수 있도록 위치결정핀이 형성된 드럼마스크;를 포함하며,
상기 드럼마스크의 외주면 하부 끝단에는 피도금체를 지지할 수 있도록 안착면이 구비된 가이드부가 형성되는 것을 특징으로 하는 드럼 회전방식을 이용한 커넥터핀의 부분 전기 도금장치.
An electroplating apparatus for partially plating a strip-shaped object to be plated which is continuously conveyed by a conveying roller and to which a negative current is applied and which has a pin hole at the bottom,
A cylindrical fixing body fixed to the upper surface of the base, having a plating liquid supply pipe inside and a bearing mounted on the upper side;
The plating liquid injecting hole is formed on the outer circumferential surface of the plating liquid injecting hole. The plating liquid injecting hole is formed on the outer circumferential surface of the plating liquid injecting hole. block;
A drum mask holder in which an inner circumferential surface is fixed to a bearing provided on an upper portion of the fixed body and is rotated about a fixed body;
A cover member disposed on an upper surface of the drum mask holder and connected to an upper end of the fixing body to apply a positive current to the plating solution accommodating portion; And
A plating solution nozzle hole is formed on an outer circumferential surface of the drum mask holder so as to surround the plating solution injection block and a plating solution nozzle hole is formed on an outer circumferential surface of the drum mask holder so that a positioning pin is formed on an outer peripheral surface of the drum, And a mask,
Wherein a guide portion having a seating surface is formed at a lower end of an outer circumferential surface of the drum mask to support a plated body.
상기 드럼마스크홀더의 하부에 지지부를 구성하여 상기 드럼마스크홀더에 끼워지는 드럼마스크의 상면이 상기 지지부와 고정볼트로서 착탈가능하게 결합 되도록 한 것을 특징으로 하는 드럼 회전방식을 이용한 커넥터핀의 부분 전기 도금장치.
The method according to claim 1,
Wherein the upper surface of the drum mask, which is formed in a lower portion of the drum mask holder and is fitted to the drum mask holder, is detachably coupled to the support portion and the fixing bolt. Device.
상기 피도금체가 접면되는 드럼마스크에 외주면에 밀착부재가 설치되도록 구성한 것을 특징으로 하는 드럼 회전방식을 이용한 커넥터핀의 부분 전기 도금장치.
The method according to claim 1,
Wherein a contact member is provided on an outer circumferential surface of the drum mask in which the member to be plated is contacted.
상기 드럼마스크의 도금액 분사공 상측과 하측에 끼움홈을 형성하고, 밀착부재를 상기 끼움홈에 설치하되 밀착부재를 도금액 분사공의 표면과 단차를 이루면서 서로 동일한 높이가 되도록 돌출시켜 형성한 것을 특징으로 하는 드럼 회전방식을 이용한 커넥터핀의 부분 전기 도금장치.
5. The method of claim 4,
And a contact member is formed in the fitting groove so that the contact member protrudes from the surface of the plating liquid spray hole so as to have the same height as the surface of the plating solution spray hole. A part electroplating device of a connector pin using a drum rotation method.
상기 드럼마스크에 내주면의 일부구간 또는 전체구간에 선택적으로 결합되어 도금액 분사공을 차단시킬 수 있도록 차단판을 구성하여 된 것을 특징으로 하는 드럼 회전방식을 이용한 커넥터핀의 부분 전기 도금장치.
The method according to claim 1,
Wherein the shield plate is selectively coupled to a part of the inner circumferential surface or the entire section of the drum mask to block the plating liquid spray hole.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120131773A KR101420779B1 (en) | 2012-11-20 | 2012-11-20 | By way of drum rotation portion of the connector pin electroplating unit |
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---|---|---|---|
KR1020120131773A KR101420779B1 (en) | 2012-11-20 | 2012-11-20 | By way of drum rotation portion of the connector pin electroplating unit |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140064437A KR20140064437A (en) | 2014-05-28 |
KR101420779B1 true KR101420779B1 (en) | 2014-07-18 |
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---|---|---|---|
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